WO2004086144A1

WO2004086144A1 - 感光性樹脂組成物

Info

Publication number: WO2004086144A1
Application number: PCT/JP2004/003621
Authority: WO
Inventors: Shuichi Takahashi; Shunji Kawato; Takuya Noguchi
Original assignee: Az Electronic Materials (Japan) K.K.
Priority date: 2003-03-25
Filing date: 2004-03-18
Publication date: 2004-10-07
Also published as: TW200424776A; CN1774671A; JP2004287326A; KR20050114694A; TWI326802B; JP3842750B2; CN100570482C; KR101017234B1

Description

感光性樹脂組成物技術分野

本発明は、感光性樹脂組成物、さらに詳細には半導体デバイス、フラットパネルディスプレー（F P明D ) 等の製造、特に、半導体デバイス及び F P Dなどの層間絶縁膜または平坦化膜などの形成に好適な感光性樹脂組成物及びこの感光性樹脂組成物を用書いた F P Dあるいは半導体デバイス並びに前記感光性樹脂組成物を用いる耐熱性薄膜の形成方法に関する。背景技術

L S Iなどの半導体集積回路や、 F P Dの表示面の製造、サーマルへッドなどの回路基板の製造等を初めとする幅広い分野において、微細素子の形成あるいは微細加工を行うために、従来からフォトリソグラフィ一技術が利用されている。フォトリソグラフィ一技術においては、レジストパターンを形成するためにポジ型またはネガ型感光性樹脂組成物が用いられている。近年、これら感光性樹脂組成物の新たな用途として、半導体集積回路や F P Dなどの層間絶縁膜または平坦化膜の形成技術が注目されている。特に F P D表示面の高精細化に対する市場の要望は強いものがあり、この高精細化を達成するためには透明性が高く、絶縁性に優れる平坦化膜は必須材料と言われている。このような用途に用いる感光性樹脂組成物に関しては多くの研究がなされており、特許が出願され公開されている（例えば、特開平 7— 2 4 8 6 2 9号公報及び特開平 8— 2 6 2 7 0 9号公報）。しかし、これらに記載の組成物は耐熱性を高くするために架橋剤を必要とすることから、経時安定性が悪く、微細加工に使用されている一般的なポジ型レジストと比べて、組成物の保存環境に特別な注意が必要となる。さらに、 F P D表示面の作製工程におけるフォトリソグラフィーでは、現像液を繰り返し使用するリサイクル現像液を用いる。このリサイクル現像液中で、薄膜トランジスタ（T F T) 作製用ポジ型レジストと前記架橋剤を含む感光性樹脂組成物が混合された場合、ポジ型レジストと該組成物中に含まれる架橋剤が反応することで、現像液に不溶な析出物が多量に発生するという問題がある。発明者らは、これまでにアル力リ可溶性樹脂及びキノンジアジド基を有する-感光剤、下記一般式（ I ) で表されるフエノール性化合物及びェポキシ基を有する硬化剤を含有する感光性榭脂組成物について検討を行つてきた（特願 2 0 0 1— 3 8 9 6 0 1号、特願 2 0 0 2— 5 1 4 8 7号） _t

(式中、 Rい R ₂、 R ₃、 R , R ₅、 R_fi及び R ₇は、各々独立に、 H C 一 C ,,のァルキル基または

を表し、 m及び nは各々独立に 0〜 2の整数であり、 a、 b、 c、 d e、 f 、 g及び hは、 a + b≤ 5、 c + d≤ 5、 e + f ≤ 5、 g + h≤ 5を満たす 0〜 5の整数であり、 iは 0〜 2の整数である。）

しかし、層間絶縁膜、平坦化膜などにおける透明性、耐溶剤性などに関する要求、また感光性樹脂組成物の経時安定性の要求は、さらに高まつており、さらなる改善を求められているのが現状である。

上記のような状況に鑑み、本発明は、アルカリ可溶性樹脂、感光剤、上記一般式（ I ) で表されるフエノール性化合物及びエポキシ基を有する硬化剤を含有する感光性樹脂組成物において、高温べーキング後においても膜表面の平坦性を保持し、低誘電率で且つ良好な光透過率を有する薄膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供することを目的とするものである。

また、本発明は、上記感光性樹脂組成物において、経時安定性の改善された感光性樹脂組成物を提供することを目的とするものである。

さらに、本発明は、上記感光性樹脂組成物において、耐溶剤性に優れ- 低誘電率で且つ良好な光透過率を有する薄膜を形成することができる感光性樹脂組成物を提供することを目的とするものである。

また、本発明は、上記感光性樹脂組成物により形成された層間絶縁膜あるいは平坦化膜などを有する F P Dあるいは半導体素子を提供するものである。

また、本発明は上記感光性樹脂組成物を用いてパターニング後、全面露光を行い、次いでボストベータをすることにより耐熱性薄膜を形成する方法を提供するものである。発明の開示

本発明者らは、鋭意研究、検討を行った結果、アルカリ可溶性樹脂及びキノンジアジド基を含む感光剤を含有する感光性樹脂組成物において. アル力リ可溶性樹脂としてシァノ基を有さないァゾ系重合開始剤あるいはシァノ基を有さないァゾ系重合開始剤とシァノ基を有するァゾ系重合開始剤を用いて合成された樹脂を用い、さらに特定のフエノール性化合物及ぴエポキシ基を有する硬化剤を含有せしめることにより、上記目的を達成できる、すなわち経時安定性がよく、また、例えば 2 2 0 °C、 1 時間の高温の加熱処理後においても膜表面の平坦性を保持し、しかも良好な光透過率、高耐溶剤性を示す感光性樹脂組成物を得ることができることを見いだし、本発明に至ったものである。

すなわち、本発明は、下記の〔 1〕〜〔9〕の感光性樹脂組成物に関するものである。

〔 1〕アル力リ可溶性樹脂及びキノンジアジド基を有する感光剤を含有する感光性樹脂組成物であって、アルカリ可溶性樹脂が、重合開始剤として、シァノ基を有さないァゾ系重合開始剤を用いて合成されたァクリル系樹脂であり、且つ上記一般式（ I ) で表されるフエノール性化合物及びエポキシ基を有する硬化剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。

〔2〕上記〔 1〕に記載の感光性樹脂組成物において、前記アクリル系樹脂が、重合開始剤として、シァノ基を有さないァゾ系重合開始剤とシァノ基を有するァゾ系重合開始剤とを用いて合成されたァクリル系樹脂であることを特徴とする感光性樹脂組成物。

〔 3〕上記〔2〕に記載の感光性樹脂組成物において、シァノ基を有さないァゾ系重合開始剤とシァノ基を有するァゾ系重合開始剤のモル比が 2 0 : 8 0〜 8 0 : 2 0であることを特徴とする感光性樹脂組成物。〔4〕上記〔 1〕〜〔3〕のいずれかに記載の感光性樹脂組成物において、アクリル系樹脂がアルキル（メタ）ァクリレート由来の構成単位と (メタ）アタリル酸由来の構成単位を含んでいることを特徴とする感光性樹脂組成物。

〔5〕上記〔 1〕〜〔4〕のいずれかに記載の感光性樹脂組成物において、アクリル系樹脂が（メタ）アクリル酸由来の構成単位を 5〜 3 0モル％含んでいることを特徴とする感光性樹脂組成物。

〔6〕上記〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の感光性樹脂組成物において、キノンジアジド基を有する感光剤が上記一般式（ I ) で表わされる化合物とナフトキノンジアジド化合物との反応生成物であることを特徴とする感光性榭脂組成物。

〔7〕上記〔 1〕〜〔6〕のいずれかに記載の感光性樹脂組成物において、一般式（ I ) で表されるフエノール性化合物が、下記式 (II) で表わされる化合物であることを特徴とする感光性樹脂組成物。

〔8〕上記〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載の感光性樹脂組成物において、アクリル系樹脂のポリスチレン換算平均分子量が 5， 0 0 0〜 3 0, 00 0であることを特徴とする感光性樹脂組成物。

〔9〕上記〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の感光性樹脂組成物において、硬化促進剤が更に含有されていることを特徴とする感光性樹脂組成物。 '

また、本発明は、以下の〔1 0〕記載のフラットパネルディスプレー. 〔 1 1〕記載の半導体デバイス、〔 1 2〕記載の耐熱性薄膜の形成方法にも関するものである。

〔 1 0〕上記〔 1〕〜〔 9〕のいずれかに記載の感光性樹脂組成物により形成された平坦化膜あるいは層間絶縁膜を有するフラットパネルディスプレー。

〔1 1〕上記〔 1〕〜〔9〕のいずれかに記載の感光性樹脂組成物により形成された平坦化膜あるいは層間絶縁膜を有する半導体デバイス。

〔1 2〕上記〔1〕〜〔 9〕のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を用いてパターンニング後、全面露光を行い、次いでポストベークを行うことを特徴とする耐熱性薄膜の形成方法。

以下、本発明をさらに詳細に説明する。

本発明の感光性樹脂組成物は、アル力リ可溶性榭脂とキノンジアジド基を有する感光剤を含有し、アルカリ可溶性樹脂が、重合開始剤として- シァノ基を有さないァゾ系重合開始剤あるいはシァノ基を有さないァゾ系重合開始剤とシァノ基を有するァゾ系重合開始剤とを用いて合成されたアクリル系樹脂であり、さらに上記一般式 ( I ) で示されるフエノール性化合物及びエポキシ基を有する硬化剤を含有することが必要である _c 本発明の感光性樹脂組成物において用いられるアル力リ可溶性のァクリル系樹脂を合成する際に用いられる、シァノ基を有さないァゾ系重合開始剤としては、例えば、 1， 1，一ァゾビス（ 1ーァセトキシ一 1一フエニルェタン）、 1 , 1 ' —ァゾビス ( 1 —プロピオノキシ一 1 ーフェニルェタン）、 1， 1 ' —ァゾビス（ 1一イソブチロキシ一 1一フエニノレエタン）、 1 , 1 ' ーァゾビス（ 1 —ピバロキシー 1 —フエニノレエタン）、 1 , 1 ' ーァゾビス（ 1 ーァセトキシー 1一フエニルプロパン）. 1 , 1 ' ーァゾビス [ 1 —ァセトキシ一 1一 ( p _メチルフエニル）ェタン]、 1 , 1 ' —ァゾビス [ 1 ーァセトキシー 1 一（ p—クロ口フエニル）ェタン]、 1 , 1 ' ーァゾビス（ 1ーァセトキシ— 1一フエ二ノレブタン）、ジメチル 2， 2 ' ーァゾビス（ 2—メチルプロピオネート）、 1 , 1 ' —ァゾビス（ 1一クロロー 1 _フエニルェタン）、 1 , 1，一ァゾビス（ 1 _クロロー 1 一プロパン）、 1 , 1 ' ーァゾビス [ 1ークロロ一 1— (p—メチルフエニル）ェタン]、 1 , 1 ' ーァゾビス [ 1 一クロロー 1一（p—クロ口フエ二ノレ）ェタン]、 1 , 1 ' ーァゾビス

( 1 一クロ口一 1一フエ-ノレブタン）、 2 , 2 ' —ァゾビス（2—ァセトキシ一 3 , 3—ジメチルブタン）、 2 ' 2，一ァゾビス（ 2—ァセトキシ一 4ーメチルペンタン）、 2 , 2 ' —ァゾビス（ 2—プロピオノキシ一 3 , 3—ジメチルブタン）、 2， 2 ' ーァゾビス（ 2—プロピオノキシ _ 4—メチルペンタン）、 2 , 2 ' ーァゾビス（ 2—イソブトキシ一 3 , 3—ジメチルプタン）、 2 , 2 ' ーァゾビス（ 2—イソブトキシ — 4—メチルペンタン）、 2 , 2 ' —ァゾビス（ 2—ピバロキシー 3， 3—ジメチルブタン）、 2 , 2 ' ーァゾビス（ 2—ピバロキシー 4ーメチルペンタン）、 2， 2 ' ーァゾビス（ 2—べンゾイノレオキシ一 3， 3 —ジメチノレブタン）、 2 , 2 ' ーァゾビス（ 2—ベンゾイノレオキシー 4 —メチルペンタン）、 2 , 2 ' —ァゾビス（ 2—ァセトキシプロパン）、 2 , 2 ' —ァゾビス（ 2—ァセトキシブタン）、 2 , 2 ' —ァゾビス

( 2—ァセトキシー 3—メチルブタン）、 2 , 2 ' ーァゾビス（ 2—プ口ピオノキシプロパン）、 2 , 2，ーァゾビス（ 2—プロピオノキシブタン）、 2 , 2 ' —ァゾビス（ 2—プロピオノキシ一 3—メチルプロパン）、 2 , 2 ' —ァゾビス（ 2—イソブチロキシプロパン）、 2 , 2 ' — ァゾビス（ 2—イソプチロキシブタン）、 2 , 2 ' —ァゾビス（ 2—ィソブチ口キシー 3—メチルブタン）、 2， 2，ーァゾビス（ 2—ピバロキシプロパン）、 2 , 2 ' —ァゾビス（ 2—ピバロキシブタン）、 2， 2 ' —ァゾビス（ 2—ピバロキシ一 3—メチノレブタン）、 2 , 2，ーァゾビス（ 2， 4 , 4ートリメチルぺンタン、 2， 2，ーァゾビス（ 2— メチルプロパン）、 1 , 1 ' —ァゾビス（ 1—メトキシシクロへキサン）. 2, 2 ' ーァゾビス（ 2—メチルー Ν—フエニルプロピオンアミジン）ジハイドロクロライド、 2 , 2 ' —ァゾビス [ Ν— （ 4一ハイドロキシフエニル）一 2—メチルプロピオンアミジン] ジハイド口クロライド、 2 , 2，ーァゾビス [2—メチルー Ν— （ 2—プロぺニル）プロピオンアミジン] ジハイド口クロライド、 2， 2，ーァゾビス [Ν— （ 2—ノヽイド口キシェチル) 一 2—メチルプロピオンァミジン] ジハイドロク Π ライド、 2 , 2 ' ―ァゾビス [ 2— ( 5—メチル _ 2—イミダゾリン一 2—ィル) プロパン] ジハイド口クロライド、 2 , 2 ' ーァゾビス [ 2 ― (4 , 5， 6 , 7—テトラハイド口 _ 1 Η— 1 , 3一ジァゼピン一 2 —ィル) プロパン] ジハイド口クロライド、 2 , 2 ' ーァゾビス [ 2 -

(5—ハイド口キシ一 3 , 4 , 5， 6—テトラハイド口ピリミジン一 2 —ィル) プロパン] ジハイドロクロライド、 2 ' 2， —ァゾビス [Ν—

( 2—プロピル）一 2—メチルプロピオンアミド]、 2， 2 ' 一ァゾビス [ 2― ( 2—イミダゾリン一 2—ィル）プロパン]、 2 , 2 ' ーァゾビス { 2—メチノレ一 Ν - [ビス (ハイドロキシメチノレ) 一 2—ハイド口キシェチル] プロピオンアミド}、 2 ' 2 ' —ァゾビス { 2—メチルー Ν― [ 1 , 1 一ビス (ハイド口キシメチル) ェチル] プロピオンアミド}、 2 , 2 ' ーァゾビス [2—メチルー Ν— （ 2—ハイドロキシメチノレ）プロピオンアミド]、 2 , 2 ' ーァゾビス { 2—メチノレプロピオンアミド} ジハイドレートなどを挙げることができ、好ましい重合開始剤は、 1， 1 ' ーァゾビス（ 1ーァセトキシ一 1—フエニルェタン）、 1 : 1 ，ーァゾビス（ 1 —プロピオノキシ一 1 一フエニルェタン）、 1， 1 ' ーァゾビス（ 1 —イソブチロキシ一 1 —フエニルェタン）、 1， 1 ' —ァゾビス（ 1—ピバロキシー 1 _フエニルェタン）、 1 , 1 ' — ァゾビス ( 1ーァセトキシ一 1 一フエニルプロパン）、 1 , 1 ' —ァゾビス [ 1 ーァセトキシ一 1一（ p—メチルフエニル）ェタン]、 1 , 1 ' —ァゾビス [ 1ーァセトキシ一 1— ( p—クロ口フエニル) エタン]、 1 , 1 ' ーァゾビス（ 1ーァセトキシー 1—フエニルブタン）、ジメチル 2， 2， —ァゾビス（ 2—メチルプロピオネート）である。また、シァノ基を有するァゾ系重合開始剤としては、 1 , 1 ' ーァゾビス (シクロへキサン一 1 —カルボ二トリル）、 2、 2 ' ーァゾビス ( 2—メチルプチロニトリル）、 2、 2，ーァゾビスイソプチロニトリル、 2、 2， —ァゾビス ( 2 , 4ージメチルバレロニトリル）、 2、 2，ーァゾビス ( 2 ' 4—ジメチルー 4ーメトキシバレロニトリル）、ジメチル 2， 2 ' ーァゾビス ( 2—メチルプロピオネート）を挙げることができ、好ましい重合開始剤は、 2、 2 ' ーァゾビスィゾプチロニトリノレ、ジメチル 2， 2 ' —ァゾビス ( 2—メチルプロピオネート ) である。またシァノ基を有さないァゾ系重合開始剤とシァノ基を有する了ゾ系重合開始剤のモル比は、 1 0 0 : 0〜 2 0 : 8 0である。シァノ基を有するァゾ系重合開始剤のモル比が 8 0モル％を超えると、得られた膜の光透過率が所望の透過率を呈さなくなる上、経時安定性にも問題が出てくる。重合開始剤として、シァノ基を有さないァゾ系重合開始剤とシァノ基を有するァゾ系重合開始剤を併用する際のシァノ基を有さないァゾ系重合開始剤とシァノ基を有するァゾ系重合開始剤のモル比は、好ましくは 2 0 ： 8 0〜 8 0 ： 2 0、より好ましくは、 3 0 : 7 0〜 7 0 ： 3 0である。

本発明の感光性樹脂組成物において用いられるアル力リ可溶性のァクリル系樹脂を製造する際における重合開始剤以外の条件は、従来知られた条件の何れが用いられてもよい。また、重合法も従来知られた方法であれば何れのものでもよいが、溶液重合法が好ましい方法である。溶液重合の際用いられる重合溶媒としては、メタノール、ェタノール等のァルコーノレ類；テトラヒドロフラン等のエーテノレ類；エチレングリコーノレモノメチノレエーテノレ、エチレングリコーノレジメチノレエーテノレ、エチレングリコールモノメチノレエチノレエーテ /レ、エチレングリコールモノェチノレエーテル等のグリコ一ルェ一テル類；エチレングリコールモノメチルェ一テルアセテート、エチレングリコーノレモノェチルエーテルァセテ一ト等のェチレングリコールァノレキノレエーテノレアセテート類；ジェチレングリコーノレモノメチノレエ一テノレ、ジェチレングリコ一/レジェチノレエーテノレ、ジェチレングリコールジメチノレエーテノレ、ジエチレングリコールェチルメチノレエーテノレ、ジェチレングリコーノレモノェチノレエーテノレ、ジェチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール類；プロピレングリコーノレモノメチノレエーテノレアセテート、プロピレングリコ一ノレモノエチノレエーテノレアセテ一ト等のプロピレングリコーノレモノアルキル' エーテルアセテート類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メチノレエチノレケトン、シクロへキサノン、 4ーヒド口キシ一 4ーメチル-一 2—ペンタノン等のケトン類； 2—ヒドロキシプロピオン酸ェチル、 2 ーヒドロキシ一 2—メチルプロピオン酸メチル、 2—ヒドロキシー 2— メチルプロピオン酸ェチル、エトキシ酢酸ェチル、ヒドロキシ酢酸ェチル、 2—ヒドロキシー 2—メチルブタン酸メチル、 3—メトキシプロピオン酸メチル、 3—メトキシプロピオン酸ェチル、 3—エトキシプロピオン酸メチル、 3—エトキシプロピオン酸ェチル、酢酸ェチル、酢酸ブチル等のエステル類が挙げられる。これらの中では、エチレングリコーノレジメチノレエーテノレ等のグリコーノレエーテノレ類；エチレングリコーノレモノエチノレエーテノレアセテート等のエチレングリコ一/レモノアノレキノレエ一テルアセテート類；プロピレングリコールモノメチルエーテルァセテ一ト等のプロピレングリコールモノアルキノレエーテルアセテート類； 2 - ヒドロキシプロピオン酸ェチル、 3—メトキシプロピオン酸メチル、 3 —ェトキシプロピオン酸ェチル等のエステル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル等のジエチレングリコール類が、各単量体の溶解性及び重合反応時にゲルが発生しない点から溶媒として好適なものである。溶液重合においては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、その他の重合性単量体を適宜の濃度で溶媒に溶解し、この溶液に重合開始剤を添加し、適宜の温度で重合が行われる。

本発明の感光性樹脂組成物において用いられるアル力リ可溶性のァクリル系榭脂としては、 ( a ) アルカリ可溶性のポリアクリル酸エステル、 ( b ) アル力リ可溶性のポリメタクリル酸エステル、及び ( c ) 少なくとも一種のァクリル酸エステルと少なくとも一種のメタクリル酸エステルとを構成単位として含むアル力リ可溶性のポリ（アタリル酸エステル · メタクリル酸エステル）を挙げることができる。これらのァクリノレ系樹脂は単独でまたは二種以上併用することができる。また、これらァクリル系樹脂は、樹脂をアルカリ可溶性とするため有機酸単量体を共重合成分として含むものが好ましいものの、樹脂にアル力リ可溶性を付与する共重合成分が有機酸単量体に限られるものではない。

これらァルカリ可溶性のポリアタリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリ (アタリル酸エステル ' メタクリル酸エステル) を構成する単量体成分としては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル. 有機酸単量体及びその他の共重合性単量体が挙げられる。これら重合体を構成する単量体成分としては、下記例示のアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、有機酸単量体が好ましいものである。

アタリル酸エステル：

メチルアタリレート、ェチルァクリレート、 n—プロピルァクリレート、 n—ブチノレアクリレート、 n 一へキシノレァクリレート、イソプロピルァクリレート、ィソブチルァクリレート、 t 一プチルァクリレート、シクロへキシノレァクリレート、ベンジノレアクリレート、 2 —クロノレエチノレアタリレート、メチノレ一ひ一クロノレアタリレート、フエ二ノレ一 α—ブ口モアクリレートなど

メタタリル酸エステル：

メチルメタクリレート、ェチルメタタリレート、 η—プロピルメタクリレート、 η—ブチノレメタクリレート、 η—へキシノレメタタリレート、イソプロピノレメタクリレート、ィソブチルメタク 'リレート、 t—ブチルメタタリレート、シクロへキシノレメタクリレート、ベンジノレメタクリレート、フエ二ノレメタクリレート、 1 _フエニノレエチルメタタリレート、 2 —フェニルェチノレメタクリレート、フノレフリノレメタクリレート、ジフェニノレメチノレメタクリレート、ペンタク口ノレフエニノレメタクリレート、ナフチルメタクリレート、イソポロニノレメタクリレート、ヒドロキシェチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートなど

有機酸単量体：

アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸などのジカルボン酸及びこれらジカルボン酸の無水物、 2—アタリロイルハイドロジェンフタレート、 2—ァクリロイ/レオキシプロピル/ヽィドロジニンフタレートなど

なお、その他の共重合性単量体としては、マレイン酸ジエステル、フマル酸ジエステル、スチレン及びスチレン誘導体、アクリロニトリル、 (メタ）アクリルアミド、酢酸ビニル、塩化ビュル、塩化ビニリデンなどが挙げられる。これらその他の共重合性単量体は、必要に応じて用いればよく、その量もアクリル系樹脂が本発明の目的を達成しうる範囲内の量で用いられる。本発明においてアクリル系樹脂として好ましいものは、アルキル（メタ）アタリレート由来の構成単位と（メタ）アクリル酸由来の構成単位を含む共重合体であり、より好ましくは（メタ）アクリル酸を 5 〜 3 0 モル％含むものである。

また、本発明の感光性樹脂組成物において用いられる、キノンジアジド基を有する感光剤は、キノンジアジド基を有する感光剤であれば何れのものでも良いが、ナフトキノンジアジドスルホン酸ク口リドやべンゾキノンジアジドスルホン酸クロリドのようなキノンジアジドスルホン酸ハライドと、この酸ハライドと縮合反応可能な官能基を有する低分子化合物または高分子化合物とを反応させることによって得られるものが好ましい。ここで酸ハライドと縮合可能な官能基としては水酸基、ァミノ基等が挙げられ、特に水酸基が好適である。水酸基を含む低分子化合物としては、上記一般式（ I ) で示されるフヱノ一ル性化合物を挙げることができる。これらキノンジアジド基を有する感光剤は、本発明においては、感光性樹脂組成物中の樹脂成分 1 0 0重量部に対し、通常 1 〜 3 0重量部の量で用いられる。

また、本発明の感光性樹脂組成物には、上記一般式（ I ) で示されるフエノール性化合物が含有される。上記一般式 ( I ) で表されるフニノール性水酸基を有する低分子化合物は、本発明の感光性樹脂組成物では通常溶解抑止剤として溶解速度を調整するために、または、感光性樹脂組成物の残膜率向上あるいは感度の調整のために好適に使用される。上記一般式（ I ) で表されるフエノール性水酸基を有する低分子化合物としては、 o —クレゾーノレ、 m—クレゾ一ノレ、 p —クレゾーノレ、 2 , 4ーキシレノーノレ、 2 , 5—キシレノーノレ、 2 ， 6—キシレノール、ビスフエノール A、 B 、 C 、 E 、 F及び G、 4 ， 4 '， 4 " —メチリジントリスフエノール、 2 , 6—ビス [ ( 2—ヒドロキシ一 5—メチノレフエニル）メチル] 一 4ーメチルフエノ一ル、 4, 4 ' 一 [ 1— [4一 [ 1 一（4—ヒドロキシフエ-ル）一 1ーメチルェチノレ] フエニル] ェチリデン] ビスフエノール、 4, 4 ' 一 [ 1一 [4一 [ 2 - (4ーヒドロキシフエニル）一 2—プロピル] フエニル] ェチリデン] ビスフエノール. 4， 4，， 4 " ーェチリジントリスフエノール、 4一 [ビス（4ーヒドロキシフエニル）メチル] — 2 _エトキシフエノール、 4， 4 ' ―

[( 2—ヒドロキシフエニル) メチレン] ビス [ 2 ' 3—ジメチルフエノール]、 4 , 4 ' - [( 3—ヒドロキシフエニル) メチレン] ビス [ 2： 6—ジメチノレフエノーノレ]、 4 , 4 ' 一 [(4—ヒドロキシフエニル）メチレン] ビス [ 2 , 6—ジメチルフエノール]、 2 , 2 ' ― [( 2—ヒドロキシフエニル) メチレン] ビス [3 , 5—ジメチノレフエノーノレ]、 2 : 2 ' ― [ ( 4—ヒドロキシフエニル) メチレン] ビス [ 3 ' 5—ジメチルフエノール]、 4 , 4 ' 一 [( 3， 4ージヒドロキシフエ二ノレ）メチレン] ビス [ 2 , 3， 6— トリメチルフエノ一ル]、 4一 [ビス（ 3—シクロへキシノレ一 4ーヒドロキシ一 6—メチルフエ二ル) メチル] 一 1 , 2—ベンゼンジォーノレ、 4 , 6—ビス [( 3 , 5—ジメチノレー 4—ヒドロキシフエニル）メチノレ] 一 1 , 2 , 3—ベンゼントリォーノレ、 4 , 4， - [ ( 2—ヒドロキシフエ二ノレ) メチレン] ビス [ 3—メチルフェノール]、 4， 4 ' , 4 " 一 ( 3—メチルー 1 _プロパニルー 3—イリジン）トリスフエノーノレ、 4， 4，， 4"， 4 "'一 ( 1， 4—フエ二レンジメチリジン）テトラキスフエノール、 2 , 4 , 6— トリス「（ 3， 5 - ジメチノレー 4—ヒドロキシフエニル) メチノレ] 一 1 , 3—ベンゼンジォ一ノレ、 2 , 4 , 6— トリス [( 3 , 5—ジメチノレ一 2—ヒドロキシフエニル）メチノレ] — 1 , 3—ベンゼンジォーノレ、 4, 4 ' - [ 1 - [4一

[ 1 - [4—ヒドロキシ一 3 , 5—ビス [(ヒドロキシ一 3—メチルフェニル) メチル] フェニル] — 1—メチルェチル] フェニル] ェチリデン] ビス [2, 6—ビス（ヒドロキシ一 3 _メチルフエニル）メチル] フエノールなどを挙げることができる。また好ましい化合物として 4 , 4 ', 4" —メチリジントリスフエノール、 2 , 6—ビス [( 2—ヒドロキシ一 5—メチノレフエニル）メチノレ] 一 4ーメチノレフエノーノレ、 4 , 4 ' 一 [ 1 - [4一 [1— (4—ヒドロキシフヱニル）一 1—メチノレエチル] フエニル] ェチリデン] ビスフエノール、 4, 4，一 [ 1一 [4 - [2— （4ーヒドロキシフエ二ノレ） _ 2—プロピル] フエニル] ェチリデン] ビスフエノール、 4 , 4 ' , 4 " ーェチリジントリスフエノールなどを挙げることができる。

これらフエノール性水酸基を有する低分子化合物の中でも、特に上記式 (II) で表される化合物または下記式 (III) で表される化合物が好ましい。

これらのフエノール性水酸基を有する低分子化合物は、アル力リ可溶性樹脂 1 0 0重量部に対して、 1〜 2 0重量部の量で用いられる。

本発明の感光性樹脂組成物には、エポキシ基を有する硬化剤が含有される。このエポキシ基を有する硬化剤としては、ビスフエノール型ェポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族系ェポキシ樹脂、グリシジルエーテル系エポキシ樹脂、グリシジルァミン系ェポキシ榭脂、複素環式エポキシ樹脂などを挙げることができる。また上記高分子系エポキシ樹脂ばかりでなく、本発明に使用する硬化剤としては. 低分子系のェポキシ化合物であるビスフエノール Aあるいはビスフエノール Fのグリシジルエーテル等を使用することもできる。エポキシ基を有する硬化剤は、アルカリ可溶性樹脂 1 0 0重量部に対し、 2〜 6 0重量部が好ましく、 1 0〜4 0重量部がより好ましい。

また、本発明の感光性樹脂組成物には、さらにエポキシ基と（メタ）アタリル酸の架橋反応を促進する硬化促進剤を含有させることが好ましい。この硬化促進剤としては、例えば、 S I — 6 0 L、 S I— 8 0 L、 S I— 1 0 0 L、 S I - 1 1 0 L (以上、三新化学工業（株）製）などの芳香族スルホニゥム塩、 U— CAT S A 1 0 2 , U— CAT S A 1 0 6、 U— CAT S A 5 0 6、 U— CAT SA 6 0 3、 U— CA T 5 0 0 2 (以上、サンァプロ (株) 製）などのジァザビシクロウンデセン塩、 U— CAT 5 0 0 3、 U— CAT 1 8 X (以上、サンァプロ (株) 製）が挙げられる。さらに、ィミダゾール系としてはキュアゾール 1 B 2 P Z (四国化成工業（株）製）が挙げられる。これら硬化促進剤を本発明の感光性樹脂組成物に含有させることによって、より耐溶剤性に優れた硬化膜を形成することができるとともに、経時安定性にも優れた感光性樹脂組成物を得ることができる。この硬化膜の耐溶剤性の改善は、硬化促進剤を用いる場合には、硬化剤の量を減少させた場合においても可能となる。また、硬化膜の耐溶剤性の改善は、アルカリ可溶性樹脂が、重合開始剤としてシァノ基を有さないァゾ系重合開始剤を単独で用いた場合に比べ、シァノ基を有さないァゾ系重合開始剤とシァノ基を有するァゾ系重合開始剤とを併用して合成されたァクリル系樹脂である場合により好ましい結果が得られる。硬化促進剤は、エポキシ基を有する硬化剤 1 0 0重量部に対し、 0. 1〜 1 5重量部が好ましく . ：!〜 1 0重量部がより好ましい。

本発明のアルカリ可溶性樹脂、感光剤、フエノール性水酸基を有する化合物、エポキシ基を有する硬化剤を溶解させる溶剤としては、ェチレングリコーノレモノメチノレエーテノレ、 ■■エチレングリコ一ノレモノェチノレエ一テル等のェチレングリコールモノアルキノレエーテノレ類、ェチレングリコ一ノレモノメチノレエーテノレアセテート、エチレングリコーノレモノェチノレエ一テルアセテート等のエチレングリコーノレモノァノレキノレエーテノレァセテート類、プロピレングリコーノレモノメチノレエーテノレ、プロピレングリコ一ノレモノェチノレエーテノレ等のプロピレンダリコーノレモノアルキノレエーテノレ類、プロピレングリコーノレモノメチノレエーテノレアセテート、プロピレングリコールモノェチルエーテルァセテ一ト等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、乳酸メチル、乳酸ェチル等の乳酸エステル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メチルェチルケトン、 2—ヘプタノン、シクロへキサノン等のケトン類、 N , N—ジメチルァセトアミド、 N—メチルピロリドン等のアミド類、一ブチロラクトン等のラクトン類等をあげることができる。これらの溶剤は、単独でまたは 2種以上を混合して使用することができる。

本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じ接着助剤及び界面活性剤等を配合することができる。接着助剤の例としては、アルキルイミダゾリン、酪酸、アルキル酸、ポリヒドロキシスチレン、ポリビエルメチルエーテル、 tーブチルノボラック、エポキシシラン、エポキシポリマー、シラン等が、界面活性剤の例としては、非イオン系界面活性剤、例えばポリダリコール類とその誘導体、すなわちポリプロピレングリコールまたはポリオキシエチレンラウリルエーテル、フッ素含有界面活性剤、例えばフロラード（商品名、住友 3 M社製）、メガファック（商品名、大日本インキ化学工業（株）製）、スルフロン（商品名、旭硝子（株）製）または有機シロキサン界面活性剤、例えば K P 3 4 1 (商品名、信越化学工業（株）製）がある。本発明の感光性樹脂組成物は、各成分を所定量溶剤に溶解して調製される。このとき、各成分は予めそれぞれ個別に溶剤に溶解し、使用直前に各成分を所定の割合で混合して調製されてもよい。通常感光性樹脂組成物の溶液は、 0 . 2 μ mのフィルタ一等を用いて濾過された後、使用に供される。

本発明の感光性樹脂組成物は、次のような方法によって高絶縁性、高透明性、髙耐熱性薄膜とされる。そして、この薄膜は、平坦膜あるいは層間絶縁膜などとして好適に利用することができる。すなわち、まず、本発明の感光性樹脂組成物の溶液を、必要に応じ回路パターンあるいは半導体素子などが形成された基板上に塗布し、プリベータを行って、感光性樹脂組成物の塗膜を形成する。次いで、所定のマスクを介してバターン露光を行った後、アル力リ現像液を用いて現像処理し、必要に応じリンス処理を行い、感光性樹脂組成物の薄膜ポジパターンを形成する。このようにして形成された薄膜ポジパターンは、全面露光された後、ポストベータされ、半導体素子や液晶表示装置、プラズマディスプレイなどの F P Dの平坦化膜あるいは層間絶縁膜などとして利用される。これによって、耐熱温度の高い薄膜を形成することができる。このとき全面露光により感光剤が分解して酸が形成されてエポキシ基を有する硬化剤の硬化が促進され、高耐熱性の被膜が形成されると考えられる。

上記薄膜の形成において、感光性樹脂組成物溶液の塗布方法としては. スピンコート法、ロールコート法、ランドコート法、スプレー法、流延塗布法、浸漬塗布法など任意の方法を用いればよい。また、露光に用いられる放射線としては、例えば g線、 i線などの紫外線、 K r Fエキシマレーザーあるいは A r Fエキシマレーザー光などの遠紫外線、 X線、電子線などが挙げられる。さらに、現像法としては、パドル現像法、浸漬現像法、摇動浸漬現像法など従来フォトレジストの現像法で用いられている方法に依ればよい。また現像剤としては、水酸化ナトリウム、水酸化力リウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウムなどの無機アル力リ、アンモニア、ェチルァミン、プロピルァミン、ジェチルァミン、ジェチルァミノエタノール、トリェチルァミンなどの有機ァミン、テトラメチルアンモニゥムヒドロキシドなどの第四級アミンなどが挙げられる。発明を実施するための最良の態様

以下に本発明をその実施例をもつて更に具体的に説明するが、本発明の態様はこれらの実施例に限定されるものではない。

合成例 1

撹拌機、冷却管、温度計、窒素導入管を具備した 2 0 0 0 m 1 4つ口フラスコに、プロピレングリコーノレモノメチルエーテノレアセテート 7 0

0 g、メタクリル酸メチル 1 7 1 g、メタクリル酸 2—ヒドロキシプロピル 9 0 g、メタクリル酸 3 9 g、ジメチル 2 , 2，一ァゾビス（ 2 ーメチルプ口ピオネート ) [分子量 : 2 3 0 . 2 6 ] 6 . 3 g 、 2 , 2 ' —ァゾビスィソブチロニトリル [分子量 : 1 6 4 . 2 1 ] 4 . 5 g を投入撹拌し、窒素を吹き込みながら昇温し、 8 5 °Cで 8時間重合し、重量平均分子量 1 1 , 0 0 0のアクリル共重合物 1を得た。

合成例 2

撹拌機、冷却管、温度計、窒素導入管を具備した 2 0 0 O m 1 4つ口フラスコに、プロピレングリコーノレモノメチノレエーテノレアセテート 7 0 O g、メタクリル酸メチル 1 7 1 g、メタクリル酸 2—ヒドロキシプロピノレ 9 0 g、メタクリル酸 3 9 g、ジメチル 2 , 2 ' ーァゾビス（2 一メチルプロピオネート） 1 2 . 6 gを投入撹拌し、窒素を吹き込みながら昇温し、 8 5 °Cで 8時間重合し、重量平均分子量 1 1 ， 0 0 0のァクリル共重合物 2を得た。合成例 3

撹拌機、冷却管、温度計、窒素導入管を具備した 2 0 0 0 m 1 4つ口フラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルァセテ一ト 7 0 0 g、メタタリル酸メチル 1 7 1 g、メタタリル酸 2—ヒドロキシプロピル 9 0 g、メタクリル酸 3 9 g、 2, 2 ' —ァゾビスイソプチロニトリル 9 gを投入撹拌し、窒素を吹き込みながら昇温し、 8 5 °Cで 8時間重合し、重量平均分子量 1 1 , 0 0 0のアクリル共重合物 3を得た。実施例 1

合成例 1で得られたァクリル共重合物 1 を 1 0 0重量部と、上記式 (II) で表される化合物と 1 , 2—ナフトキノンジアジドー 5—スルフォニルクロライドのエステル化物 2 5重量部、式 (II) で表されるフエノール性化合物 5重量部、テクモア VG 3 1 0 1 L (三井化学 (株) 製） 2 0重量部、 U— C AT S A 1 0 2 (サンァプロ (株）製) 0. 4重量部をプロピレンダリコールモノメチルエーテルァセテ一ト Z乳酸ェチル ( 7 5 / 2 5 ) に溶解し、回転塗布の際にレジスト膜上にできる放射線状のしわ、いわゆるストリエーシヨンを防止するため、さらにフッ素系界面活性剤、メガファック R— 0 8 (大日本ィンキ化学工業 (株）製) 3 0 0 p p mを添加し、攪拌した後、 0. 2 μ παのフィルタ一で濾過して、本発明の感光性樹脂組成物 1を調製した。

<薄膜パターンの形成 >

この組成物を 4ィンチシリコンウェハー上に回転塗布し、 1 0 0° (：、 9 0秒間ホットプレートにてベータ後、 3. 0 m厚のレジスト膜を得た。このレジスト膜にキャノン（株）製 g + h + i線マスクァライナー (P LA— 5 0 1 F) にてラインとスペース幅が 1 ： 1 となった種々の線幅及びコンタクトホールのテストパターンを最適露光量で露光し、 0. 4重量％水酸化テトラメチルアンモニゥム水溶液で 2 3°C、 6 0秒間現像することで、ラインとスペース幅が 1 ： 1のパターン及ぴコンタクトホールを形成した。また、パターンが形成された 4インチシリコンゥェハーを P LA— 5 0 1 Fにて全面露光した後、オーブン中で 2 2 0 ° (：、 6 0分間加熱することでボストベーク処理を行った。

ぐ透過率の評価 >

7 0 mm X 7 0 mmの石英ガラス基板を用いた以外は上記と同様の操作を行うことで、薄膜パターンを有するガラス基板を得た。そして紫外一可視光分光光度計 CAR Y 4 E (バリアン社製）を用いて、この薄膜パターンを有するガラス基板の 4 0 0 n mの透過率を測定した。結果を表 1に示す。

ぐ耐溶剤性の評価 >

透過率の評価と同様の操作を行うことで得たガラス基板を、 R e m o v e r 1 0 0 (クライアント社製）中に 8 0 °C、 1分間浸漬した後、純水リンスを行い、 2 0 0°C、 1 5分間の再べーク処理を行った。溶剤浸漬前の透過率と再べーク処理後の透過率差が 3 %未満のものについては ◎、透過率差が 5 %未満のものについては〇、透過率差が 5 %以上のものについては Xとして評価した。結果を表 1に示す。

<経時安定性の評価 >

組成物 1を 5°C、 1 0 日間静置したレジストをサンプル A、 2 3°C、 1 0 日間静置したレジストをサンプル Bとした。サンプル Aおよびサンプル Bのそれぞれにっき、 4ィンチシリコンウェハー上に回転塗布し、 1 0 0°C、 9 0秒間ホットプレートにてベータ後、 3. Ο μ πι厚のレジスト膜を得た。このレジスト膜に、キャノン（株）製 g +h + i線マスクァライナー（P LA— 5 0 1 F) にてラインとスペース幅が 1 ： 1 となった種々の線幅及ぴコンタクトホールのテストパターンを最適露光量で露光し、 0. 4重量％水酸化テトラメチルアンモニゥム水溶液で 2 3 °C , 6 0秒間現像することで、ラインとスペース幅が 1 ： 1のパターン及びコンタクトホールを形成した。現像後のレジスト膜厚を塗布後のレジスト膜厚で除した値を百分率表示した値を残膜率として定義し、この残膜率の値で経時安定性を評価した。評価は、サンプル Aとサンプル Bの残膜率の差が 3 %未満のものについては◎、 3 %〜 5 %未満のものについては〇、 5 %以上のものについては Xとして行った。結果を表 1 に示す。

<熱収縮性の評価 >

2 2 0 °C、 6 0分間のポストベータ処理の前後で膜厚測定を行い、ポストベーク処理前の膜厚と処理後の膜厚差が 4 0 0 0 A未満のものについては〇、膜厚差が 4 0 0 0 A以上のものについては Xとした。結果を表 1に示す。

実施例 2

アタリル共重合物 1に替えて合成例 2で得られたァクリル共重合物 2 を用いることを除き実施例 1 と同様に行い、表 1の結果を得た。

実施例 3

アタリル共重合物 1に替えて合成例 2で得られたァクリル共重合物 2 を用い、テクモア V G 3 1 0 1 L (三井化学（株）製）を 1 0重量部とし、 U— C A T S A 1 0 2 (サンァプロ（株）製）は用いないことを除き実施例 1 と同様に行い、表 1の結果を得た。

比較例 1 '

合成例 1で得られたァクリル共重合物 1に替えて合成例 3で得られたァクリル共重合物 3を用いることを除き実施例 1 と同様に行い、表 1の結果を得た。透過率 (％) 耐溶剤性経時安定性熱収縮性実施例 1 9 4 . 5 ◎ ◎ 〇実施例 2 9 6 . 7 ◎ ◎ 〇実施例 3 9 6 . 8 〇 ◎ 〇比較例 1 8 3 . 5 ◎ X 〇以上の結果から、アクリル系樹脂の合成において、重合開始剤としてシァノ基を有さないァゾ系重合開始剤を用いることにより、透過率の極めてよい膜を形成することができる感光性榭脂組成物が得られることが分る。また、重合開始剤として、シァノ基を有さないァゾ系重合開始剤とシァノ基を有するァゾ系重合開始剤を併用することにより、透過率、耐溶剤性、経時安定性、耐熱性などの各種特性がバランス良く優れている感光性樹脂組成物を得ることができることが分る。さらに、硬化促進剤を用いることにより感光性樹脂組成物の経時安定性は維持しつつ、耐溶剤性を改善できることが分る。

また、本発明の感光性樹脂組成物によって形成された膜は、高温べ一キング後における膜の平坦性の保持性も良好であると共に、低誘電率を示し、 T F Tなどの層間絶縁膜、平坦化膜などで要求される絶縁性の条件を満たすものであつた。

以上のことより、本発明の感光性樹脂組成物は、透明性が良好であるだけでなく、各種特性も優れていることから、レジスト材料としての使用の他、特に F P D、半導体素子などの層間絶縁膜、平坦化膜等の素材として適している。発明の効果

以上述べたように、本発明の感光性樹脂組成物は、ポストベータ後の良好な透明性を有するとともに、経時安定性に優れ、形成された膜の耐熱性、耐溶剤性、絶縁性、高温べ一キング後における膜表面の平坦性の保持性も優れているため、特に F P D、半導体素子などの平坦化膜、層間絶縁膜等として好適に使用することができる。

Claims

請求の範囲

1. アル力リ可溶性樹脂及びキノンジアジド基を有する感光剤を含有する感光性樹脂組成物であって、アルカリ可溶性樹脂が、重合開始剤として、シァノ基を有さないァゾ系重合開始剤を用いて合成されたァクリル系樹脂であり、且つ下記一般式（ I ) で表されるフエノール性化合物及びエポキシ基を有する硬化剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。

(式中、 Rい R₂、 R₃、 R₄、 R ₅、 R₆及び R ₇は、各々独立に、 H C！ - C のアルキル基または

を表し、 a及び ηは各々独立に 0〜 2の整数であり、 a、 b、 c、 d、 e、 f 、 g及び hは、 a + b≤ 5、 c + d≤ 5 , e + f ≤ 5 g + h≤ 5を満たす 0〜 5の整数であり、 i は 0〜 2の整数である。）

2. 請求の範囲第 1項に記載の感光性樹脂組成物において、前記アタリル系樹脂が、重合開始剤として、シァノ基を有さないァゾ系重合開始剤とシァノ基を有するァゾ系重合開始剤とを用いて合成されだァクリル系樹脂であることを特徴とする感光性樹脂組成物。

3 . 請求の範囲第 2項に記載の感光性樹脂組成物において、シァノ基を有さないァゾ系重合開始剤とシァノ基を有するァゾ系重合開始剤のモル比が 2 0 ： 8 0〜8 0 ： 2 0であることを特徴とする感光性榭脂組成物 _c

4 . 請求の範囲第 1〜 3項のいずれかに記載の感光性樹脂組成物において、アクリル系樹脂がアルキル（メタ）アタリレート由来の構成単位と (メタ）アタリル酸由来の構成単位を含んでいることを特徴とする感光性樹脂組成物。

5 . 請求の範囲第 1項に記載の感光性樹脂組成物において、アクリル系樹脂が（メタ）ァクリル酸由来の構成単位を 5〜 3 0モル％含んでいることを特徴とする感光性樹脂組成物。

6 . 請求の範囲第 1項に記載の感光性樹脂組成物において、キノンジァジド基を有する感光剤が請求の範囲第 1項記載の一般式（ I ) で表わされる化合物とナフトキノンジアジド化合物との反応生成物であることを特徴とする感光性樹脂組成物。

7 . 請求の範囲第 1項に記載の感光性樹脂組成物において、一般式 ( I ) で表されるフエノール性化合物が、下記式（II) で表わされる化合物であることを特徴とする感光性樹脂組成物。

8 . 請求の範囲第 1項に記載の感光性樹脂組成物において、アクリル系樹脂のボリスチレン換算平均分子量が 5 , 0 0 0〜 3 0 , 0 0 0であることを特徴とする感光性樹脂組成物。

9 . 請求の範囲第 1項に記載の感光性樹脂組成物において、硬化促進剤が更に含有されていることを特徴とする感光性樹脂組成物。

1 0 . 請求の範囲第 1項に記載の感光性樹脂組成物により形成された平坦化膜あるいは層間絶縁膜を有するフラットパネルディスプレー。

1 1 . 請求の範囲第 1項に記載の感光性樹脂組成物により形成された平坦化膜あるいは層間絶縁膜を有する半導体デバイス。

1 2 . 請求の範囲第 1項に記載の感光性樹脂組成物を用いてパターン二ング後、全面露光を行い、次いでポストベータを行うことを特徵とする耐熱性薄膜の形成方法。