WO2003060968A1 - Nacelle pour traitement thermique et equipement de traitement thermique vertical - Google Patents

Description

明 細 書 熱処理用ボート及び縦型熱処理装置 · 技 術 分 野

本発明は、 熱処理用ボート及び縦型熱処理装置に関する。 背 景 技 術

半導体装置の製造工程には、 被処理体例えば半導体ウェハに例えば酸化、 拡散、

C VD、 ァニール等の各種の熱処理を施す工程がある。 これらの工程を実行する ための熱処理装置の一つとして、 多数のウェハを一度に熱処理することが可能な 縦型熱処理装置が用いられている。 この縦型熱処理装置においては、 多数のゥェ )、を搭載するための熱処理用ボートが用いられている。

この熱処理用ボ一トとして、 ウェハの周縁部を環状の支持板で支持するように したリングボートが提案されている （例えば、 特閧平 9一 2 3 7 7 8 1号公報等 参照） 。 この場合、 ウェハの大口径化 （例えば直径 3 0 0 mm) に伴って増大す る傾向にある自重応力によるスリップ （結晶欠陥） が低減される。 更に、 ウェハ 中央部よりも昇降温速度の速いウェハ周縁部の熱容量が増大するので、 処理の面 内均一性の向上が図られ得る。

ところで、 このような熱処理用ポートにおいて、 前記支持板の表面に微小な凸 凹ないし突起があると、 ウェハの裏面が傷付いたり、 ウェハにおいて自重応力に よるスリップが発生し易くなる。 一方、 このような問題を解消するために、 前記 支持板の表面が鏡面状に研磨されると、 当該支持板の表面にウェハが張り付き易 くなつてしまう。 従って、 前記支持板の表面が研磨された後で、 例えばサンドブ ラスト法等により、 当該支持板の表面が少しだけ荒らされていることが好ましい。 しかしながら、 前述した熱処理用ボートの場合、 高温例えば 1 0 5 0 °C；〜 1 2 0 0 °Cの熱処理時に、 支持板の表面にウェハが張り付く現象が発生してしまう。 そして、 当該張り付き現象と支持板表面の極小な凸凹ないし突起により、 ウェハ に部分的な自重応力によるスリツプが発生するととがあった。 発 明 の 要 旨

本発明は、 前記事情を考慮してなされたもので、 高温の熱処理時における被処 理体のスリップの発生を抑制することができる熱処理用ボート及び縦型熱処理装 置を提供することを目的とする。

本発明は、 複数の支柱と、 前記支柱の各々において、 高さ方向に所定の間隔で 形成された複数の爪部と、 前記爪部を介して前記複数の支柱間に多段に取り付け られた、 被処理体を搭載可能な被処理体搭載面を有する複数の支持板と、 前記被 処理体搭載面に設けられた溝及び貫通孔と、 を備えたことを特徴とする熱処理用 ボートである。

本発明によれば、 被処理体搭載面に設けられた溝及び貫通孔のために、 支持板 の被処理体搭載面と被処理体との間に空気層が形成されて、 被処理体の張り付き が抑制され得る。 これにより、 高温の熱処理時であっても、 被処理体の張り付き に起因するスリップの発生が抑制され得る。

好ましくは、 前記被処理体搭載面には、 被処理体の張り付きを抑制するための 微細な凹凸が設けられている。 この場合、 被処理体の貼り付き抑制効果が増大さ れる。

一般には、 被処理体は略円形であるので、 支持板も略円形であると共に、 前記 複数の支柱は、 前記支持板に垂直に、 前記支持板の後方、 左方及び右方に配置さ れていることが好ましい。 この場合、 被処理体の搭載及び取り出しが容易である。 また、 好ましくは、 前記支持板には、 前記支持板の左方の支柱の爪部に係止さ れて当該支持板の滑落を防止する左係止部と、 前記支持板の右方の支柱の爪部に 係止されて当該支持板の滑落を防止する右係止部と、 が設けられている。 この場 合、 振動等による支持板の滑落が防止され得る。

例えば、 前記左係止部及び前記右係止部は、 爪部の側壁部に当接するストッパ 部材である。

あるいは、 好ましくは、 前記支持板には、 前記支持板の左方の支柱の爪部の上 部に係合する左係合孔と、 前記支持板の右方の支柱の爪部の上部に係合する右係 合孔と、 前記支持板の後方の支柱の爪部の上部に係合する後方係合孔と、 が設け られている。 この場合も、 振動等による支持板の滑落が防止され得る。 また、 好ましくは、 前記支柱の上端部及び下端部には、 ダミ一プレートが取り 付けられている。 具体的には、 好ましくは、 前記支柱の上端部及び下端部には、 それそれ複数のダミープレートが、 前記爪部を介して前記複数の支柱間に多段に 取り付けられている。

一般には、 被処理体は略円形であるので、 ダミープレートも略円形であると共 に、 前記複数の支柱は、 前記ダミープレートに垂直に、 前記ダミープレートの後 方、 左方及び右方に配置されていることが好ましい。

そして、 好ましくは、 前記ダミープレートには、 前記ダミ一プレートの左方の 支柱の爪部に係止されて当該ダミープレートの滑落を防止するダミープレート左 係止部と、 前記ダミープレートの右方の支柱の爪部に係止されて当該ダミープレ —トの滑落を防止するダミープレート右係止部と、 が設けられている。 この場合、 振動等によるダミープレートの滑落が防止され得る。

例えば、 前記ダミ一プレート左係止部及び前記ダミープレート右係止部は、 爪 部の側壁部に当接するストツパ部材である。

あるいは、 好ましくは、 前記ダミ一プレートには、 前記ダミープレートの左方 の支柱の爪部の上部に係合するダミ一プレート左係合孔と、 前記ダミープレート の右方の支柱の爪部の上部に係合するダミ一プレート右係合孔と、 前記ダミープ レートの後方の支柱の爪部の上部に係合するダミープレート後方係合孔と、 が設 けられている。 この場合も、 振動等によるダミープレートの滑落が防止され得る。 また、 本発明は、 上記の特徴を有する熱処理用ボートと、 当該熱処理用ボート を収容可能な熱処理炉と、 を備えたことを特徴とする縦型熱処理装置である。 図面の簡単な説明

図 1は、 本発明の一実施の形態を示す縦型熱処理装置の断面図である。

図 2は、 熱処理用ボートのボート本体を示す図で、 （a ) は平面図、 （b ) は ( a ) の A— A線縦断面図である。

図 3は、 熱処理用ボートの支持板部分を示す横断面図である。

図 4は、 図 3の B— B線拡大断面図である。

図 5は、 熱処理用ボ一トのダミ一プレート部分を示す横断面図である。 図 6は、 係合孔による支持板の滑落防止機能を説明するための図 4と同様の図 である。

図 7は、 ダミープレート係合孔によるダミープレートの滑落防止機能を説明す るための図 6と同様の図である。 発明を実施するための最良の形態

以下に、 本発明の実施の形態を添付図面に基づいて詳述する。 図 1は本発明の 一実施の形態を示す縦型熱処理装置の断面図、 図 2 ( a ) ( b ) は熱処理用ボー トのボート本体を示す図、 図 3は熱処理用ボートの支持板部分を示す横断面図、 図 4は図 3の B— B線拡大断面図、 図 5は熱処理用ボートのダミープレート部分 を示す横断面図である。

図 1に示すように、 縦型熱処理装置 1は、 被処理体例えば半導体ウェハ Wを収 容して所定の処理、 例えば C VD処理、 を施すための熱処理炉を構成する石英製 の反応管 2 (処理容器） を備えている。

反応管 2は、 本実施の形態では内管 2 aと外管 2 bとの二重管構造とされてい るが、 外管 2 bだけの単管構造であってもよい。 また、 反応管 2の下部には、 反 応管 2内に処理ガスやパージ用の不活性ガスを導入するガス導入管部 （ガス導入 ポート） 3と反応管 2内を排気する排気管部 （排気ポート） 4とを有する環状の マ二ホールド 5が、 気密に接続されている。

前記ガス導入管部 3には、 ガス供給系の配管が接続されている。 前記排気管部 4には、 反応管 2内を減圧制御可能な真空ポンプや圧力制御弁等を有する排気系 の配管が接続されている （図示省略） 。 前記マ二ホールド 5は、 図示しないべ一 スプレートに取付られている。 また、 前記反応管 2の周囲には、 反応管 2内を所 定の温度例えば 3 0 0〜 1 2 0 0 °Cに加熱制御可能なように、 円筒状のヒータ 8 が設けられている。

前記反応管 2の下端のマ二ホールド 5は、 熱処理炉の炉口 6を形成している。 熱処理炉の下方には、 炉ロ 6を開閉する蓋体 7が、 昇降機構 8により昇降可能に 設けられている。 前記蓋体 7は、 マ二ホールド 5の開口端に当接して炉ロ 6を密 閉するようになっている。 この蓋体 7上には、 大口径 （例えば直径 3 0 0 mm) の多数枚 （例えば 7 5〜 1 0 0枚程度） のウェハ Wを水平状態で上下方向に間隔をおいて多段に支持する 熱処理用ボート 9が、 炉ロ断熱手段である保温筒 1 0を介して載置されている。 前記ボート 9は、 昇降機構 8による蓋体 7の上昇により反応管 2内にロード （搬 入） され、 蓋体 7の下降により反応管 2内からアンロード （排出） されるように なっている。

一方、 前記熱処理用ボート 9は、 図 2〜図 4に示すように、 高さ方向に所定の 間隔で形成された爪部 1 1を有する複数 （例えば 3本） の支柱 1 2と、 前記爪部 1 1を介して多段に取付けられたウェハ Wを搭載する支持板 1 3と、 を備えてい る。 より具体的には、 前記熱処理用ボ一ト 9は、 底板 1 4と天板 1 5と底板 1 4 及び天板 1 5の間に延びる前記複数の支柱 1 2とからなるボート本体 1 6を備え る。 ボート本体 1 6の支柱 1 2に、 爪部 1 1を介して、 支持板 1 3が多段に支持 されている。 これら複数の支持板 1 3が存在する領域内での熱処理条件を均一に するために、 前記支柱 1 2の上端側及び下端側には、 前記爪部 1 1を介して、 複 数 （例えば 3〜4枚） の図 5に示すようなダミープレート 1 7が支持されている。 前記支柱 1 2は、 支持板 1 3やウェハ Wを囲むように周方向に所定の間隔で配置 されている。 支柱 1 2と底板 1 4と天板 1 5とは、 例えば溶接等により、 一体的 に接合されている。

ボート本体 1 6、 支持板 1 3及びダミープレート 1 7は、 中高温例えば 1 0 0 0 °C以下の熱処理温度で使用される場合には石英製であってもよい。 しかし、 比 較的高温例えば 1 0 5 0 °C〜 1 2 0 0 °C程度の熱処理温度で使用される場合には 炭化珪素 （S i C ) 製であることが好ましい。 この場合、 純度の低い炭化珪素材 料によってウェハ Wが汚染されることを防止するために、 ボート本体 1 6、 支持 板 1 3及びダミープレート 1 7には、 加工後、 例えば C V D処理により保護膜が 形成されていることが好ましい。 また、 支持板 1 3及びダミ一プレート 1 7は、 略同じ外形に形成される。

天板 1 5及び底板 1 4は、 それそれ環状に形成されている。 高温の熱処理で使 用される場合、 天板 1 5には熱応力を逃がすためのスリツト 1 8が設けられてい ることが好ましい。 また、 本実施の形態では、 図 2 ( a ) に示すように、 天板 1 5及び底板 1 4の周縁部の一部に、 棒状の温度検出器との干渉を避けるための切 欠部 1 9が設けられている。

ボート本体 1 6においては、 前方からの支持板 1 3及びダミープレート 1 7の 着脱 （取付及び取外） やウェハ Wの出し入れを可能とするために、 前方領域には 支柱 1 2は配置されないで、 左右及び後方領域の少なくとも 3ケ所に支柱 1 2が 配置されている。 後方領域の支柱 1 2を左右に 2本設けて、 支柱 1 2を 4本用い てもよい。

支持板 1 3及びダミープレート 1 7をより安定に支持するために、 左右の支柱 1 2は、 図 3に示すように、 ボート本体 1 6の左右方向の中心線 L aよりも若干 前方に配置されている。 そして、 これら支柱 1 2の内側には、 水平な爪部 1 1が 所定ピッチ間隔で形成されている。 これらの爪部 1 1は、 例えばボート本体 1 6 の開口側から回転式研削刃を挿入し、 支柱 1 2の内側を研削して溝部 2 0をカェ することにより形成され得る。 この場合、 爪部 1 1の熱容量を抑えてウェハ Wの 面内温度の均一化を図るために、 爪部 1 1は薄く且つ小さく形成されていること が好ましい。

また、 縦型熱処理装置 1の高さの関係で設定された熱処理用ボート 9のボート 本体 1 6内の限られたスペースに所定枚数のウェハ Wの搭載領域を確保するため に、 ダミープレート 1 7を支持する爪部 1 1のピッチ間隔 P aは、 支持板 1 3を 支持する爪部 1 1のピッチ間隔 P aよりも狭く形成されている。

左右の支柱 1 2の溝部 2 0の奥部 （背面） は、 ボート本体 1 6の前後方向の中 心線 L aと平行に形成されている。 一方、 後方の支柱 1 2の溝部 2 0の奥部 （背 面） は、 ボート本体 1 6の左右方向の中心線 L aと平行に形成されている。 そし て、 支持板 1 3及びダミープレート 1 7の外周には、 図 3に示すように、 左右の 支柱 1 2の溝部 2 0の奥部 （背面） に平行な切欠部 2 1と、 後方の支柱 1 2の溝 部 2 0の奥部 （背面） に平行な切欠部 2 2と、 が形成されている。 これにより、 ボート本体 1 6に対して、 支持板 1 3及びダミープレート 1 7が確実且つ容易に 取付けられ得る。

前記支持板 1 3は、 ウェハ Wの周縁部を載置するように、 円形のウェハ Wより も外径が若干大きい環状に形成されている。 ここで、 ウェハ Wの裏面を傷付けた り、 ウェハ Wに自重応力によるスリップが発生したりしないようにするために、 支持板 1 3のウェハ搭載面 （被処理体搭載面） 2 3は鏡面状に研磨され、 その後、 ウェハ Wの張り付きを抑制するために、 例えばサンドプラスト法等の粗面加工に より、 支持板 1 3のウェハ搭載面 2 3に微細な凹凸 （図示省略） が設けられてい る。 あるいは、 鏡面状への研磨加工とその後の粗面加工との両方を行う代わりに、 予め所望の表面粗さを狙って研磨加工する方法も有効である。

そして、 高温例えば 1 0 5 0 °C〜1 2 0 0 °Cの熱処理時においても支持板 1 3 のウェハ搭載面 2 3にウェハ Wが張り付く現象を抑制するために、 前記支持板 1 3のウェハ搭載面 2 3に、 溝 2 4及び貫通孔 2 5が設けられている。 本実施の形 態では、 図 3及び図 4に示すように、 支持板 1 3のウェハ搭載面 2 3に、 環状の 同心円状の複数例えば 2本の溝 2 4が形成されると共に、 支持板 1 3を上下方向 に貫通する貫通孔 2 5が、 各溝 2 4内でその周方向に所定の間隔で複数設けられ ている。 なお、 前記溝 2 4は複数であることが好ましいが、 1つであってもよい。 また、 前記溝 2 4は、 周方向に連続していることが好ましいが、 周方向に断続的 に形成されていてもよい。 更に、 前記溝 2 4は、 環状であることが好ましいが、 放射状に形成されていてもよい。 その他、 溝 2 4は、 メッシュ状にも形成され得 る。 すなわち、 溝 2 4の配置形状は限定されない。

また、 図 4に示すように、 支持板 1 3の周縁部には、 ウェハ Wの滑落を防止す るための立上り壁 2 6がウェハ Wと略同じ高さまで設けられていることが好まし い。 なお、 支持板 1 3のウェハ搭載面 2 3は、 微細な凹凸 （粗面加工）、 溝 2 4 及び貫通孔 2 5 (ウェハ移載時にウェハとウェハ搭載面との間に溜まる空気を逃 す） によってウェハ Wが滑りにくくなつているため、 前記立上り壁 2 6は必ずし も設けられていなくてもよい。

また、 支持板 1 3には、 左右の支柱 1 2の爪部 1 1に係止されて支持板 1 3の 滑落を防止するための左係止部及び右係止部として、 ストツバ部材 2 7が設けら れている。 ストヅパ部材 2 7は、 支持板 1 3の裏面の左右縁部にそれそれ下向き に突設されている。 ストツパ部材 2 7が左右の爪部 1 1の後方側の側面にそれそ れ当接して係止されることにより、 支持板 1 3の前方への移動が阻止されるよう になっている。 なお、 支持板 1 3の後方及び左右方向への移動は、 支柱 1 2によ つて阻止される。

前記ストッパ部材 2 7の熱容量を抑えてウェハ Wの面内温度の均一化を図るた めに、 ストヅパ部材 2 7は薄く且つ小さく形成されていることが好ましい。 また、 同様の理由により、 支持板 1 3の裏面は、 前記ストッパ部材 2 7を除いて極力平 坦に形成されている。

前記ダミープレート 1 7には、 図 5に示すように、 前記支持板 1 3と同様に、 左右の支柱 1 2の爪部 1 1に係止されてダミープレート 1 7の滑落を防止するた めのダミ一プレート左係止部及びダミープレート右係止部として、 ストッパ部材 2 8が設けられている。 また、 ダミープレート 1 7が高温の熱処理に使用される 場合には、 熱応力を逃がすためのスリット 2 9が、 ダミープレート 1 7の中心か ら前方に向う半径方向に設けられていることが好ましい。

以上の構成からなる熱処理用ボート 9若しくはこの熱処理用ボート 9を使用し た縦型熱処理装置 1によれば、 熱処理用ボート 9が、 高さ方向に所定の間隔で形 成された爪部 1 1を有する複数の支柱 1 2に、 ウェハ Wを搭載する支持板 1 3を 前記爪部 1 1を介して多段に取付けてなり、 前記支持板 1 3のウェハ搭載面 2 3 に溝 2 4及び貫通孔 2 5を設けてなるため、 支持板 1 3のウェハ搭載面 2 3とゥ ェハ Wとの間に空気層が形成されて、 当該空気層によってウェハ Wの張り付きが 抑制される。 これにより、 高温の熱処理時であっても、 ウェハ Wの張り付きが防 止されると共に、 ウェハ搭載面 2 3の極小な凸凹ないし突起に起因するウェハ W の部分的な自重応力によるスリップの発生が抑制され得る。

また、 前記支持板 1 3には左右の支柱 1 2の爪部 1 1に係止されて支持板 1 3 の滑落を防止するためのストヅパ部材 2 7が設けられているため、 振動等による 支持板 1 3の滑落を防止することができ、 すなわち、 耐震性及び耐久性が向上さ れる。 また、 前記支柱 1 2の上端側及び下端側にはダミープレート 1 7が前記爪 部 1 1を介して取付けられ、 前記ダミープレート 1 7には左右の支柱 1 2の爪部 1 1に係止されてダミープレート 1 7の滑落を防止するためのストツパ部材 2 8 が設けられているため、 振動等によるダミープレート 1 7の滑落を防止すること ができ、 すなわち、 耐震性及び耐久性が向上される。

ダミープレート 1 7は、 S i C製の場合、 型成形が可能である。 この場合、 ィ ンゴヅトをスライスして製作されるダミーウェハと異なり、 ストヅパ部材 2 8を 容易に一体形成することができる。 更に、 前記熱処理用ボート 9においては、 ボ ート本体 1 6と支持板 1 3が別体に形成されているため、 製造、 洗浄及び支持板 1 3の交換等が容易である。

以上、 本発明の実施の形態を図面により詳述してきたが、 本発明は前記実施の 形態に限定されるものではなく、 本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の設計 変更等が可能である。 例えば、 支持板 1 3は、 移載機構によるウェハ Wの移載を 容易にするために、 前方が開口された馬蹄形状に形成されていてもよい。 また、 前記ボート本体 1 6、 支持板 1 3及びダミープレート 1 7の材質としては、 炭化 珪素が好ましいが、 ポリシリコン （S i ) であってもよい。 被処理体としては、 半導体ウェハ以外に、 例えば L VD基板等であってもよい。

また、 支持板 1 3及びダミープレート 1 7の滑落防止機能については、 前記の スト、ソパ部材 2 7、 2 8の代わりに、 図 6及び図 7に示すような係合孔が利用さ れてもよい。

図 6の場合、 支持板 1 3の裏面に、 支持板 1 3の左方の支柱の爪部の上部に係 合する左係合孔 1 2 7と、 支持板 1 3の右方の支柱の爪部の上部に係合する右係 合孔 1 2 7 ' と、 支持板 1 3の後方の支柱の爪部の上部に係合する後方係合孔 1 2 7 " と、 が設けられており、 支持板 1 3の滑落防止が図られている。

ダミープレート 1 7についても、 滑落防止のために同様の構成が採用され得る。 すなわち、 図 7に示すように、 ダミープレート 1 7の裏面に、 ダミ一プレート 1 7の左方の支柱の爪部の上部に係合するダミープレート左係合孔 1 2 8と、 ダミ 一プレート 1 7の右方の支柱の爪部の上部に係合するダミープレート右係合孔 1 2 8， と、 ダミープレート 1 7の後方の支柱の爪部の上部に係合するダミープレ —ト後方係合孔 1 2 8 " と、 が設けられて、 ダミープレート 1 7の滑落防止が図 られ得る。

Claims

請求 の 範 囲

1 . 複数の支柱と、

前記支柱の各々において、 高さ方向に所定の間隔で形成された複数の爪部と、 前記爪部を介して前記複数の支柱間に多段に取り付けられた、 被処理体を搭載 可能な被処理体搭載面を有する複数の支持板と、

前記被処理体搭載面に設けられた溝及び貫通孔と、

を備えたことを特徴とする熱処理用ボート。

2 . 前記被処理体搭載面には、 被処理体の張り付きを抑制するための微細な 凹凸が設けられている

ことを特徴とする熱処理用ボート。

3 . 前記支持板は略円形であり、

前記複数の支柱は、 前記支持板に垂直に、 前記支持板の後方、 左方及び右方に 配置されている

ことを特徴とする請求項 1または 2に記載の熱処理用ボート。

4 . 前記支持板には、

前記支持板の左方の支柱の爪部に係止されて当該支持板の滑落を防止する左係 止部と、

前記支持板の右方の支柱の爪部に係止されて当該支持板の滑落を防止する右係 止部と、

が設けられている

ことを特徴とする請求項 3に記載の熱処理用ボート。

5 . 前記左係止部及び前記右係止部は、 爪部の側壁部に当接するストツバ部 材である

ことを特徴とする請求項 4に記載の熱処理用ボート。

6 . 前記支持板には、

前記支持板の左方の支柱の爪部の上部に係合する左係合孔と、

前記支持板の右方の支柱の爪部の上部に係合する右係合孔と、

前記支持板の後方の支柱の爪部の上部に係合する後方係合孔と、

が設けられている

ことを特徴とする請求項 3に記載の熱処理用ボート。

7 . 前記支柱の上端部及び下端部には、 ダミープレートが取り付けられてい る

ことを特徴とする請求項 1乃至 6のいずれかに記載の熱処理用ボート。

8 . 前記支柱の上端部及び下端部には、 それそれ複数のダミープレートが、 前記爪部を介して前記複数の支柱間に多段に取り付けられている

ことを特徴とする請求項 1乃至 6のいずれかに記載の熱処理用ボート。

9 . 前記ダミープレートは、 略円形であり、

前記複数の支柱は、 前記ダミープレートに垂直に、 前記ダミープレートの後方、 左方及び右方に配置されている

ことを特徴とする請求項 8に記載の熱処理用ボート。

1 0 . 前記ダミープレートには、

前記ダミープレートの左方の支柱の爪部に係止されて当該ダミ一プレートの滑 落を防止するダミープレート左係止部と、

前記ダミープレートの右方の支柱の爪部に係止されて当該ダミ一プレートの滑 落を防止するダミープレート右係止部と、 ·

が設けられている

ことを特徴とする請求項 9に記載の熱処理用ボート。

1 1 . 前記ダミープレート左係止部及び前記ダミープレート右係止部は、 爪 部の側壁部に当接するストヅパ部材である

ことを特徴とする請求項 1 0に記載の熱処理用ボート。

1 2 . 前記ダミープレートには、

前記ダミープレートの左方の支柱の爪部の上部に係合するダミープレート左係 合孔と、

前記ダミープレートの右方の支柱の爪部の上部に係合するダミープレート右係 合孔と、

前記ダミープレートの後方の支柱の爪部の上部に係合するダミープレート後方 係合孔と、

が設けられている

ことを特徴とする請求項 9に記載の熱処理用ボート。

1 3 . 請求項 1乃至 1 2のいずれかに記載の熱処理用ポートと、

前記熱処理用ボートを収容可能な熱処理炉と、

を備えたことを特徴とする縦型熱処理装置。