WO1998059101A1 - Element auxiliaire de broderie, procede de broderie et produit de broderie mettant en application cet element - Google Patents

Description

明細書 刺繍補助用部材とそれを利用した刺繍方法及び刺繍製品 産業上の利用分野

二の発明は基布と重ねられ、 刺繍糸にて基布とともに縫製された後に除去され る刺繍補助用部材とそれを利用した刺繍方法及び刺繍製品に関する。

関連技術

基布と重ねられ、 刺繍糸にて基布とともに縫製された後に除去される刺繍補助 用部材としては、 以下の 2つの用途のものが知られている。

( 1 ) 中空立体刺繍を形成するための" スぺーサ"

( 2 ) 刺繍縫い:こ際して基布を支持するための" 支持部材"

まず、 （ 1 ) の" スぺーサ" としての用途に関連する技術を説明すると、 例え ば、 特開平 5— 1 9 5 4 1 1号公報にはスぺ一サを利用して一般的な刺繍機を用 いて中空立体刺繍製品を製造する方法が開示されている。 この公報に開示された 製造方法の基本は、 基布の上面に、 溶解除去可能で所定厚さを有するシート状の 、 いわゆるスぺーサを敷いておいて、 その上から縫製して刺繍を施す。 そして、 刺繍終了後に基布に縫われた刺繍糸と基布上面との間のスぺーサを溶解除去する ことによって、 結果として刺繍糸が立体的に残り、 いわゆる中空立体刺繍製品が できあがる。 前記スぺ一サを溶解除去する方法としては、 （A ) 水に溶解させる 、 ( B ) 加熱して溶解させる、 （C ) 有機溶剤に溶解させる、 という三通りの方 法がある。

前記 （A ) の方法においては、 水溶性のスべ一サ素材であるウエハース板、 水 溶性ビニロン繊維の不織布 （ビニロンフェルト） 等を常温水あるいは温水で溶解 させると溶けたスぺーザが糊状となってしまい、 溶解後の除去処理が困難である 。 また、 前記 （B ) の方法においても、 例えば特公昭 5 9— 7 8 2 4号公報， 特 公昭 6 0— 4 2 3 1 1号公報に記載されているように、 加熱溶解した熱溶解性素 材が刺繍糸に吸収されるのを防ぐため吸収材料をあてがいながら溶解させなけれ ばならず、 溶解除去処理が極めて面倒である。

これに対して、 前記 （C ) の方法:こおいては、 ジアセテート織物， ジァセテー トフェルト （不繊布） . 発泡スチロール板等のスぺ一サをアセトンや 1— 2ジク ロロエタン等の有機溶剤によって溶解させる。 かかるアセトンまたは 1 一 2ジク ロロェ夕ンを用いた溶解後のスぺーザの除去処理は、 前記 （A ) または （B ) の 方法に比べて容易である。

しかし、 前記ァセトン及び 1 一 2ジクロロェ夕ンは引火しやすく取り扱いに危 険を伴うため、 これらの有機溶剤を用いた溶解処理は防爆設備なしでは実施でき ない。 従って、 これらの有機溶剤による溶解除去法を採用できるのは、 大がかり な防爆プラン卜を設備できる限られた特定の業者のみであり、 一般の刺繍業者は 実施することができない。

次に （2 ) の刺繍縫いに際して基布を支持するための" 支持部材" としての用 途に関連する技術を説明すると、 例えば特開平 5— 1 8 6 9 5 7号公報には基布 の支持部材としてドライクリーニング用溶剤に可溶の合成樹脂シー卜を利用する 技術が開示されている。 具体的な方法としては、 基布に支持部材を裏打ちしてこ れを基布と一緒に刺繍し、 ドライクリーニング用溶剤で支持部材を除去する。 こ こで、 ドライクリーニング溶剤としては例えばトリクロロェタン、 トリクロロェ チレン、 テトラクロロエチレン、 石油系溶剤 （ミネラルスピリッ ト、 ミネラル夕 一ベン） 等が挙げられており、 またこれらの溶剤に可溶な合成樹脂としてェチレ ン '酢酸ビニル共重合体、 ボリ酢酸ビニル、 ポリエチレン、 ポリプロピレン或い はこれらを含む混合物が挙げられている。

しかしながら、 同公報の技術を実施しょうとすると、 溶剤を加熱する必要が有る 。 事実、 開示された実施形態においても溶剤をその種類に応じて 6 0〜 9 0。 の 温度に加熱している。

つまり、 同公報の技術の実施にあたっては溶剤の加熱手段が必要となり、 溶剤 の温度を最適な温度に保っための温度制御手段が必要となる。 また、 溶剤蒸発に よる爆発防止のため、 耐圧防爆装置が必要となる。 このため、 同公報の支持部材 を利用した刺繍方法はコス卜高となる。

また、 上記ドライクリーニング用溶剤として挙げられたもののうち、 トリクロ 口エタン及びトリクロロエチレンは環境や人体への悪影響のために日本国内では 既に製造中止となっており、 世界的にも同様な趨勢にある。 さらに、 石油系溶剤 は引火性のため上記 （ 1 ) に関連して説明したように防爆設備を必要とする。 残る溶剤としてはテトラクロ口エチレンが有るが、 この溶剤には上記で挙げら れた材料でできた支持部材はたとえ加熱を伴ったとしても実際上溶解しない。 従って、 実際上実施できる技術としては、 防爆設備及び加熱手段の利用下で石 油系溶剤により支持部材を溶解除去することしかなかった。

以上のように、 （ 1 ) ( 2 ) のいずれの用途の刺繍補助用部材にあっても、 溶 解除去に際してはコスト増加を伴う設備が必要となる問題が有つた。

発明の開示

本発明の一つの目的はコスト増加を伴うことなく容易に溶解除去できる刺繍補 助部材の提供にある。

本発明のもう一つの目的は中空立体刺繍を形成するためのスぺ一サとして利用 され、 しかも容易に溶解除去できる刺繍補助部材及び該刺繍補助部材を利用した 刺繍製品の製造方法の提供にある。

本発明のもう一つの目的は刺繍縫いに際して基布を支持するための支持部材と して利用され、 しかも容易に溶解除去できる刺繍補助部材及び該刺繍補助部材を 利用した刺繍製品の製造方法の提供にある。

本発明のさらにもう一つの目的は中空立体刺繍を形成するためのスぺーサとし て利用される刺繍補助部材及び刺繍縫いに際して基布を支持するための支持部材 として利用される刺繍補助部材を利用して容易に中空立体刺繍製品を製造するた めの方法の提供にある。

本発明の加えてもう一つの目的はユニークな外観を有する中空立体刺繍製品の 提供にある。

請求項 1の発明は基布と重ねられ、 刺繍糸にて基布とともに縫製された後に除 去される刺繍補助用部材であって、 テトラクロ口エチレンに溶解可能な材料で形 成されている刺繍補助用部材である。

なお、 「テトラクロロエチレン」 はパークロロエチレン， パークレンとも呼ば れる有機溶剤であり、 日本語名は 「s h i enka- e c h i r e n」 が広く普及している。 ここで、 テトラクロロエチレンは不燃性の化合物であり引火性がないため、 溶 解除去作業に爆発の危険を伴うことがない。 従って、 刺繍補助部材の溶解除去作 業に際しては、 防爆設備を設ける必要がない。

また、 刺繍補助部材は有機溶剤であるテトラクロロエチレンに常温 （雰囲気温 度） を含むいかなる温度でも瞬時に溶解するので、 溶剤の加熱手段が不要となり 、 除去作業に要するコストが低減する。

請求項 2は刺繍補助用部材が刺繍糸により中空立体刺繍を形成するために利用 され、 所定の厚さを有するスぺーサを含む構成に関する。

スぺーサは、 刺繍糸にて基布とともに縫製された後に除去されるので、 基布上 面とスぺ一ザの上に縫製された刺繍糸との間にスぺ一ザの厚み分だけ空間が生じ 、 結果として刺繍糸が立体的に残って、 中空立体刺繍製品が得られる。 請求項 2 の効果は請求項 1 と同様である。

請求項 3は請求項 2においてスぺーサは発泡スチロールにより形成されている 構成に関するもので、 発泡スチロールを利用することで重量の増大あるいは溶解 速度の減少を伴うこと、 大きなスペース高さを得ることができる。

請求項 4は請求項 2においてスぺ一サは該スぺ一ザの前記基布と反対側の表面 上に形成された保護層を有する構成に関するもので、 保護層を設けたことによつ て、 スぺ一ザの表面が切れて刺繍糸がスぺーサ内に陥没する事態が防止される。 この結果、 スぺーサの上から縫製される全てのステッチの長さと高さが一定とな り、 スぺ一サを溶解除去した後の各ステッチの中空部が同じ高さに揃うこととな つて、 綺麗な中空立体刺繍製品が得られる。

請求項 5は請求項 4において前記保護層はテトラクロ口エチレンに溶解する材 料で形成されている構成であり、 この構成により、 保護層をスぺ一ザと同時に同 一工程で溶解除去できるので、 請求項 4で述べた特徴を有する中空立体刺繍製品 を簡単に製造できる。

請求項 6は請求項 5において保護層は弾性を有する構成であり、 刺繍糸の糸締 め力が強い場合でも刺繍糸が保護層に若干食い込むことができて、 糸切れを未然 に防止できる。

請求項 7及び 8は請求項 6の保護層の材料に関するもので、 請求項 7では保護 層はボリアクリル酸エステル、 ポリメ夕クリル酸エステル、 ボリイソプレン、 ポ リブタジエンからなるグループから選択される重合化合物からなっており、 請求 項 8ではポリアクリル酸エステル、 ポリメタクリル酸エステル、 ボリイソプレン 及びポリブタジエンからなるグループから選択される重合化合物からなっている 。 このような材料の選択により適当な弾性を有しかつテトラクロロエチレンに溶 解する保護層を形成できる。

請求項 9〜 1 2はこのような保護層の詳細に関するものであり、 請求項 9〜 1 1では保護層はテトラクロ口エチレンに溶解可能な材料を揮発性溶剤に溶かした 溶液からその揮発性溶剤を揮発させて形成されており、 請求項 1 2ではテトラク ロロエチレンに溶解可能なシート状材料を前記スぺーザに貼り付けることで形成 されている。

特に請求項 9のように保護層をテトラクロ口エチレンに溶解可能な材料を揮発 性溶剤に溶かした溶液からその揮発性溶剤を揮発させて形成し、 しかも請求項 1 0さらには請求項 1 0に従属する請求項 1 1のように溶液をスぺーサ上にスプレ —により適用してその後揮発成分を蒸発させることで形成することで、 スぺ一サ の表面に均一な厚さの保護膜が容易かつ確実に形成される。 この結果、 縫製時に スぺーザの表面が切れて刺繍糸がスぺーサ内に陥没する事態が、 より確実に防止 される。

請求項 1 3は刺繍補助用部材が前記基布を刺繍作業中において支持する支持シ 一とである構成であり、 この支持シートは基布が例えば薄物、 ニッ ト等のように 支持部材により支持した状態でないと刺繍作業を行うことができない場合に利用 されるものである。 支持シートは、 刺繍糸にて基布とともに縫製された後に除去 されるので、 結果として基布と刺繍糸だけの刺繍製品が得られる。 この目的のた め、 支持シートはできるだけ薄いものであるのが好ましい。 請求項 1 3の効果は 請求項 1と同様である。

請求項 1 4は請求項 1 3の支持シー卜の材料に関するもので、 支持シートをポ リスチレンとボリブタジエン、 もしくはポリスチレンと酸化剤、 例えば金属酸化 物との混合フィルムから形成することで、 薄い厚さのものであっても弾性と靱性 を有する支持シートを形成できる。

請求項 1 5及び 1 6は請求項 1 3の支持シートを置き縫いに利用する場合の態 様に構成に関するものであり、 請求項 1 5では前記支持シートは前記基布をその 上面にフリー状態で載置するためのものであり、 また請求項 1 6では前記支持シ 一卜はその周縁部を刺繍枠に保持される。

請求項 1 7は請求項 1 3において、 前記支持シ一トには少なくとも前記基布が 載置される頜域において凹凸が形成されている構成に関するものであり、 このよ うに凹凸を形成することにより基布の位置ずれが防止できて、 確実に所定の位置 に刺繍を形成することができる。

請求項 1 8は凹凸の具体的な形成手段に関するものであり、 前記支持シートを エンボス加工することにより凹凸を容易に形成できる。

請求項 1 9は請求項 2のスぺ一サを利用して立体刺繍製品を製造するための方 法であって、

a ) 前記基布上に前記スぺーサを載置する段階と、

b ) 前記スぺーサを通じて前記基布を前記刺繍糸により縫製する段階と、 c ) 前記スぺーサをテトラクロロエチレンで溶解する段階と、

からなる。

この方法の作用効果は請求項 1 もしくは 2と同様である。

請求項 2 0は請求項 1 9において、 前記段階 a ) に先立って、

d ) 前記スぺーサ上にテトラクロ口エチレンで溶解する保護層を前記基材と反 対側において形成する段階をさらに有している方法であり、 その作用効果は請求 項 3と同様である。

請求項 2 1は保護層の具体的な形成方法に関するものであり、 段階 d ) でテト ラクロ口エチレンに溶解可能な材料を揮発性溶剤に溶かした溶液からその揮発性 溶剤を揮発させることで保護層を容易に形成できる。

請求項 2 2は請求項 1 9において前記基布には予め刺繍もしくはプリン卜によ り所望の模様が付されており、 前記段階 b ) において前記刺繍糸は前記スぺ一サ を通じて前記模様に重ねて縫製されるものであり、 前記段階 c ) でできた立体刺 繍製品において前記模様が前記刺繍糸により形成された立体刺繍部を通じて少な くともその一部が目視可能である方法である。

このような方法により刺繍製品に立体刺繍部を通じて基布に予め刺繍もしくは プリン卜により付された模様を目視することができ、 刺繍製品にユニークな外観 を与えることができる。

請求項 2 3及び 2 4は請求項 2 2の立体刺繍の具体的な方法に関するもので、 請求項 2 3では前記段階 b ) において前記刺繍糸は網掛け状に刺繍され、 請求項 2 4では前記刺繍糸は半透明の材料から形成されている。 これらにより、 網目も しくは刺繍糸自体を通じて基布側の模様を目視できる。

請求項 2 5は請求項 1 3の支持シートを利用して刺繍製品を製造するための方 法であって、

a ) 前記支持シートをフラッ 卜な状態に保持する段階と、

b ) 前記支持シート上に前記基布を載置する段階と、

c ) 前記基布を前記支持シ一卜とともに前記刺繍糸により縫製する段階と、 d ) 前記支持シートをテ卜ラクロ口エチレンで溶解する段階と、

からなる。

この方法の作用効果は請求項 1 もしくは 1 3と同様である。

請求項 2 6は支持シ一トを置き縫いに利用する場合の態様に構成に関するもの であり、 請求項 2 5において前記段階 a ) は前記支持シートの周縁部を刺繍枠に より保持する段階からなっている構成に関するものである。

請求項 2 7は請求項 2 5において前記支持シー卜には少なくとも前記基布が載 置される領域において凹凸が形成されている構成に関するもので、 その作用効果 は請求項 1 7と同様である。

請求項 2 8は請求項 2のスぺーサ及び請求項 1 3の支持シートを利用して立体 刺繍製品を製造するための方法であって、

a ) 前記支持シートをフラッ 卜な状態に保持する段階と、

b ) 前記支持シート上に前記基布を載置する段階と、

c ) 前記基布上に前記スぺーサを載置する段階と、

d ) 前記基布を前記支持シート及び前記スぺーサとともに前記刺繍糸により縫 製する段階と、

e ) 前記支持シ一卜及び前記スぺーサをテトラクロロエチレンで溶解する段階 と、

からなる。 この方法によれば、 基布と重ねられ、 刺繍糸にて基布とともに縫製された後に 除去される刺繍補助用部材であるが役割がそれぞれ異なる支持シート及びスぺ一 サを同一工程で溶解除去して立体刺繍製品を製造できるので、 製造工程が簡単と なる利点を有する。

請求項 2 9は請求項 2 8において支持シートを置き縫いに利用する場合の方法 に関するものであり、 前記段階 a ) は前記支持シートの周縁部を刺繍枠により保 持する段階からなっている。

請求項 3 0は請求項 2 8において前記支持シートには少なくとも前記基布が載 置される領域において凹凸が形成されている構成であり、 その作用効果は請求項 1 8と同様である。

請求項 3 1は請求項 2 8において前記スぺ一サはその上面に設けられた保護層 を有しており、 前記段階 d ) は前記保護層をもともに縫製する段階を有しており 、 また前記段階 e ) は前記保護層をもテトラクロロエチレンで溶解する段階を有 している構成であり、 保護層を設けることで請求項 5に関連して述べたと同様な 効果を得ることができかつ支持シート及びスぺ一サに加えてに保護層をも同一ェ 程で溶解除去できるので製造工程がさらに簡略化される。

請求項 3 2は請求項 2 2の方法を用いて製造される立体刺繍製品であって、 前 記基布と、 該基布に刺繍もしくはプリントにより付された前記模様と、 該模様の 上側に重ねて刺繍された立体刺繍部とからなり、 前記模様が前記立体刺繍部を通 じて少なくともその一部が目視可能な刺繍製品であり、 その作用効果は請求項 2 2と同様である。

請求項 3 3 、 3 4は請求項 3 2の立体刺繍部の具体的な態様に関するものであ り、 請求項 3 3では前記立体刺繍部は前記刺繍糸を網掛け状に刺繍したものとさ れ、 請求項 3 4では前記刺繍糸は半透明の材料から形成されている。 これらの作 用効果は請求項 2 3及び 2 4とそれぞれ同様である。

本発明のさらなる特徴、 ァスぺク 卜及び利点は図面に関連して以下の説明を読 むことでより十分に明白となるであろう。

図面の簡単な説明

図 1は本発明の第 1実施形態の刺繍補助部材を利用して製造した刺繍製品の斜 視図である。

図 2は図 1の中空立体刺繍製品の製造の一段階を示す斜視図である。

図 3は図 1の段階を実施した状態を示す斜視図である。

図 4は図 3の次の段階を示す斜視図である。

図 5は図 4の V— V線に沿う断面図である。

図 6は図 1の VI— VI線に沿う断面図である。

図 7は第 1の実施形態の変形例による中空立体刺繍製品の製造方法を示す斜視 図である。

図 8は図 7の段階を実施した状態を示す斜視図である。

図 9は本発明の第 2実施形態の刺繍補助部材を利用して製造した刺繍製品の斜 視図である。

図 1 0は図 9の刺繍製品の一部の拡大斜視図である。

図 1 1は図 9の刺繍製品を製造する方法の一段階を示す斜視図である。

図 1 2は図 1 1の次の段階を示す斜視図である。

図 1 3は図 1 2の段階を実施した状態を示す斜視図である。

図 1 4は図 1 3の次の段階を示す斜視図である。

図 1 5は図 1 4の段階を実施した状態を示す斜視図である。

図 1 6は図 1 5の段階からさらに網掛け刺繍を施した状態を示す斜視図である 発明の実施の形態

次に、 本発明を具現化した実施形態を図面を参照して説明する。

まず、 本発明の第 1実施形態を図 1乃至図 6を参照して説明する。 なお、 この 実施形態は上記関連技術で述べた （ 1 ) 中空立体刺繍を形成するためのスぺーサ として利用される刺繍補助部材に関連する実施形態である。

図 1に示されるように、 中空立体刺繍製品 2は、 テトラクロロエチレンに溶解 しない素材であるフェル卜からなる基布 4に対して、 中空立体刺繍及び平刺繍が 施されたものである。 基布 4の中央部には大文字のアルファベッ ト 「B」 ， 「C 」 . 「D」 の各形状が刺繍された大文字刺繍部 6があり、 その周囲を楕円形に取 り囲んで輪郭刺繍部 8が刺繍されている。 そして、 この輪郭刺繍部 8の内側に沿 つて、 小文字のアルファベッ ト 「a」 ， 「 b」 ， Γ (：」 ， 「d」 の各形状が刺繍 された小文字刺繍部 1 0が位置している。

大文字刺繍部 6は中空立体刺繍であり、 輪郭刺繍部 8及び小文字刺繍部 1 0は 平刺繍となっている。

次に、 かかる中空立体刺繍製品 2の製造工程について、 図 2乃至図 6を参照し て説明する。

まず、 図 2の下方に示されるように、 フェルト （基布） 4に対して輪郭刺繍部 8及びこの輪郭刺繍部 8の内側に沿った小文字刺繍部 1 0 (小文字のアルファべ ッ 卜 「 a」 ， 「b」 ， 「じ」 ， 「 d」 の各形状の刺繍） の平刺繍を、 テトラクロ 口エチレンに溶解しない素材からなる刺繍糸によって施す。

次に、 テトラクロロエチレンに常温 （雰囲気温度） で瞬時に溶解する素材であ る発泡スチロールからなる所定厚さの板状のスぺ一サ 1 2を、 図 2に示されるよ うに平刺繍済みのフェルト 4上に重畳する。 これによつて、 図 3に示されるよう に、 輪郭刺繍部 8及び小文字刺繍部 1 0が、 スぺーサ 1 2の下に隠された状態と なる。

ここで、 スぺーサ 1 2の上面には予め保護膜 1 4を形成しておく。 本実施形態 においては、 アクリル酸， アクリル酸メチル及びブタジエンの共重合体を保護膜 1 4の素材として用いており、 これらの素材もテトラクロロエチレンに常温 （雰 囲気温度） で瞬時に溶解するものである。 このアクリル酸， アクリル酸メチル及 びブタジエンの共重合体を揮発性の有機溶剤に溶解させて液状にしたものを、 ス プレー缶に充填して、 スぺーサ 1 2の上面に直接吹き付ける。 その後、 有機溶剤 が揮発することによって、 スぺ一サ 1 2の上面に保護膜 1 4が形成される。 本実施形態においては、 図 2に示されるように、 このスプレー吹き付け作業を スぺーサ 1 2をフェルト 4の上に重畳する前に行っているが、 まずスぺ一サ 1 2 をフェルト 4上に重畳した後にスプレー吹き付け作業を行っても良い。

また、' 本実施形態においては、 スぺ一サ 1 2の素材である発泡スチロールとし て、 日本国東京都の積水化成品工業 （株） の商品名 "エスレンシート" を使用し ている。

さらに、 上記共重合体における各モノマー成分 （アクリル酸エステル， イソプ レン， ブタジエン） の割合は、 吹き付け後有機溶剤が揮発した後において、 適当 な弾力性が保持されるように選定する。 この弾力性が小さい （つまり硬化しすぎ る） と、 縫製時に刺繍糸により切れることとなって保護膜の役目を果たさない。 また、 弾力性が大きすぎる （つまり柔らかすぎる） と、 縫製時に保護膜が縫い針 にまとわり付いてしまい、 縫製に支障を来すこととなる。

さて、 図 3に示されるように重ねられたフェルト 4及びスぺ一サ 1 2に対して 、 図 4に示されるように大文字のアルファベッ ト 「B」 ， 「C」 ， 「D」 の各形 状からなる大文字刺繍部 6の刺繍を、 テトラクロ口エチレンに溶解しない素材か らなる刺繍糸によって施す。

これによつて、 図 4の V— V線断面を示す図 5に示されるように、 大文字刺繍 部 6については、 スぺ一サ 1 2及び保護膜 1 4の上にステッチが形成される。 こ こで、 適当な弾力性を有する保護膜 1 4がスぺーサ 1 2上に設けられていること によって、 大文字刺繍部 6の刺繍時に刺繍糸によってスぺーサ 1 2の表面が切れ て刺繍糸がスぺーサ 1 2内に陥没する事態が確実に防止される。 この結果、 図 5 に示されるように、 スぺーサ 1 2の上から縫製される全てのステッチの長さと高 さが一定となる。

このようにして作製した刺繍体を、 テトラクロ口エチレン液を満たした液槽に 漬けて撹拌する等の操作によって、 スぺ一サ 1 2及び保護膜 1 4を十分に溶解除 去する。 その後、 刺繍体をテトラクロロエチレン液から引き上げて乾燥させる。 すなわち、 スぺーサ 1 2及び保護膜 1 4は刺繍後に除去されるものであり、 これ らが刺繍補助部材に相当する。 なお、 スぺ一サ 1 2及び保護膜 1 4材料を溶解し たテ卜ラクロ口エチレン液は蒸留により回収することで再び溶解に供することが できる。

以上の製造工程によって、 図 1に示される中空立体刺繍製品 2が完成する。 ここ で、 図 1の V I— V I線断面を示す図 6に示されるように、 大文字刺繍部 6について は、 ステッチが立った状態となり、 中空立体的になる。

そして、 スぺーサ 1 2及び保護膜 1 4の除去前にスぺ一サ 1 2の上から縫製さ れる全てのステッチの長さと高さが一定となっていたため、 図 6に示されるよう に、 大文字刺繍部 6の各ステッチの中空部が同じ高さに揃って綺麗な中空立体刺 繍製品が得られる。

なお、 スぺ一サ 1 2の厚さを適宜に選択することによって、 立体刺繍部 6の高 さ （膨らみ具合） を適宜に変更することができる。

以上の製造工程において、 テトラクロロエチレンは不燃性の化合物であり引火 性がないため、 溶解除去作業に爆発の危険を伴うことがない。 従って、 テトラク ロロエチレンによるスぺーサ 1 2の溶解除去作業に際しては、 防爆設備を設ける 必要がない。 また、 スぺーサ 1 2は有機溶剤であるテトラクロロエチレンに常温 (雰囲気温度） で瞬時に溶解する素材である発泡スチロールからなるため、 容易 に溶解除去される。

さらに、 テトラクロロエチレンはクリーニング店においてドライクリーニング 剤として広く使用されているものと同一物質であるため、 テトラクロロエチレン による溶解除去作業を、 刺繍が完了したものをクリ一二ング店にドライクリ一二 ングの依頼をすることで代替することもできる。

従って、 テトラクロ口エチレンを用いた溶解除去設備を持たない一般の刺繍業 者や一般人であっても、 容易に中空立体刺繍製品を製造することができる。 本実施形態においては、 スぺーサ 1 2の素材として発泡スチロール、 保護膜 1 4の素材としてァクリル酸， ァクリル酸メチル及びブタジエンの共重合体を用い た例について説明したが、 各素材としては、 これら以外にも種々の物質を用いる ことができる。

保護膜の素材としては、 テトラクロロエチレンに常温 （雰囲気温度） で溶解し 弾力性を有するものであれば良い。 例えば、 ボリアクリル酸エステル （アクリル 酸とアクリル酸メチルの共重合体等も含む） 、 ボリメタクリル酸エステル （メタ クリル酸とメ夕クリル酸メチルの共重合体等も含む） 、 ポリイソプレン、 ポリブ 夕ジェン、 もしくはこれらのモノマ一のうち二種， 三種または四種の化合物の共 重合体からなる高分子化合物等を用いることができる。

また、 本実施形態では、 保護膜 1 4の形成方法として保護膜の素材を揮発性の 有機溶剤に溶解させた液体をスプレー缶に充填して、 スぺ一サ 1 2の表面に直接 吹き付ける方法を採っているが、 これ以外にもスプレー缶に充填した液体を剥離 紙の表面に吹き付け、 溶剤が揮発して保護膜の素材が固化した後に保護膜側をス ぺーサ 1 2の表面に貼り付けて剥離紙を剥がす方法によっても良い。

さらに、 スプレー缶を用いて吹き付ける代わりに、 前記の液体を刷毛でスぺー サ 1 2の表面に塗り付ける方法によることもできる。

また、 以上は液体から溶剤を揮発させて保護膜 1 4を形成する例を説明したが 、 図 7及び図 8に示すように、 先に説明したと同様なテトラクロロエチレンに可 溶な素材の高分子化合物を直接シ一ト状に成形した保護膜 1 4 Aを利用してもよ い。 このようなシ一卜状の保護膜 1 4 Aは例えば押出—延伸加工により成形でき る。 このように成形された保護膜 1 4 Aはスぺ一サ 1 2に重ねられて、 図 2〜図 に関連して説明したと同様なプロセスで縫製とテトラクロ口エチレンによる溶 解除去が行われる。

なお、 このような保護膜 1 4 Aは例えば下面 （スぺーサ 1 2側の面） にェンボ ス加工により凹凸を形成することで縫製時におけるスぺ一サ 1 2に対する位置ず れを防止するようにしても良い。 また、 例えばテトラクロロエチレンに可溶な接 着剤を利用し、 或いは熱ラミネートによりスぺ一サ 1 2に接着しても良い。

また、 本実施形態では、 アルファベッ ト文字を刺繍するモノグラム刺繍の例に ついて説明したが、 刺繍模様としてはこれに限られず、 どのような模様柄につい ても同様に中空立体刺繍にすることができる。

さらに、 本実施形態においては、 平刺繍との違いを明確にするために平刺繍と 中空立体刺繍のコンビネーション柄からなる中空立体刺繍製品を例示したが、 コ ンビネーション柄にする必然性は全くない。

中空立体刺繍製品の製造方法のその他の工程や、 中空立体刺繍製品のその他の 部分の構造， 材料， 形状， 数， 接続関係等についても、 本実施形態に限定される ものではない。

次に本発明の第 2実施形態を図 9〜図 1 6を参照して説明する。 本実施形態はテ トラクロ口エチレンに可溶な刺繍補助部材として、 上記第 1実施形態と同様な （ 1 ) 中空立体刺繍を形成するための" スぺ一サ" として利用される刺繍補助部材 に加えて、 （2 ) の刺繍縫いに際して基布を支持するための" 支持部材" として 利用される刺繍補助部材をも利用して縫製する場合の実施形態に関するものであ る。 図 9に示されるように、 刺繍製品 1 5は、 テトラクロロエチレンに溶解しない 素材で、 特に薄物、 ニッ ト等、 刺繍枠で支持した状態での縫製が困難な素材から 成る基布 1 6に対して中空立体刺繍及び平刺繍が施されたものである。

基布 1 6の中央部には三角、 丸及び四角の各形状が刺繍された図形刺繍部 1 7 があり、 その周囲を楕円形に取り囲んで輪郭刺繍部 1 8が刺繍されている。 そし て、 この輪郭刺繍部 1 8の内側に沿って、 小文字のアルファベット 「a」 ， 「 b 」 ， 「 c」 ， 「 d」 の各形状が刺繍された小文字刺繍部 1 9が位置している。 そ して輪郭刺繍部 1 8のほぼ内側の領域全体にわたり網掛け刺繍部 2 0が上記図形 刺繍部 1 7及び小文字刺繍部 1 9の上に重ねて刺繍されている。

図形刺繍部 1 7、 輪郭刺繍部 1 8及び小文字刺繍部 1 9は平刺繍であり、 網掛 け刺繍部 2 0は図 9の図形刺繍部 1 7のうちの四角の形状の部分を含む領域の拡 大図である図 1 0に示すように、 刺繍糸 2 0 a〜 2 0 aによるステッチ列が互い に格子状に交差して網目を形成するように縫製され、 しかもそれぞれが立体状を なす中空立体刺繍となっている。

次に、 かかる中空立体刺繍製品 1 5の製造工程について、 図 1 1乃至図 1 6を 参照して説明する。

図 1 1に示した支持シート 2 1は上記第 1実施形態のスぺ一サ 1 2及び保護膜 1 4 ( 1 4 A ) と同様に常温でテトラクロロエチレンに可溶な材料から形成され ているが、 その厚さはこれらの厚さと比べて薄い。 すなわち、 支持シート 2 1は スぺ一サ 1 2や保護膜 1 4のように中空部を形成するためのものではなく、 単に 刺繍作業中に基布 1 6を支持する目的のものであるため、 その厚さはできるだけ 薄くしかも柔軟性と靱性を兼ね備えたものが好ましい。 このような支持シート 2 1に適した材料としてはポリスチレンとポリブタジエンの混合フィルムが有る。 ここで、 ポリスチレンとボリブタジエンとの混合比率は 9 0 ： 1 0で、 特にポリ ブタジエンの割合は 1 0を越えないことが好ましい。 またポリスチレンとポリブ 夕ジェンの混合フィルムに代えてポリスチレンと酸化剤 （例えば金属酸化物） と の混合フィルムを利用することもでき、 この場合のボリスチレンと酸化剤との混 合比率は 9 5 ： 5で、 特に酸化剤の割合は 5を越えないことが好ましい。

また、 支持シー卜 2 1の表面 2 1 aにはほぼ全面にわたってエンボス加工によ り細かい凹凸が形成されている。

2 2は内枠 2 2 Aと外枠 2 2 Bとからなる刺繍枠であり、 支持シ一ト 2 1は図 1 2に示すように凹凸を有する表面 2 1 aを上側にして適宜緊張状態で刺繍枠 2 2に挟み込まれた状態に保持される。 このような支持シート 2 1の刺繍枠 2 2へ の保持は図 1 1に示すように支持シート 2 1を上記表面 2 1 aを上向きにして外 枠 2 2 Bの上に載せ、 次いで内枠 2 2 Aを支持シー卜 2 1の周縁部を間に挟み込 んだ状態で外枠 2 2 Bの内側に嵌め込むことによって行われる。

次に図 1 2及び 1 3に示すように基布 1 6を上記で刺繍枠 2 2により保持され た支持シート 2 1上に載置する。 ここで基布 1 6は先に述べたように薄物、 ニッ 卜等であり、 刺繍枠 2 2に直接保持させた場合には中央部が弛んで湾曲状となつ て、 刺繍作業が困難となり、 或いは編み目が延びてしまって刺繍を正しく行えな くなる不都合が有る。 このため本実施形態では基布 1 6を支持シー卜 2 1上にフ リー状態で載置し、 この状態で縫製する、 いわゆる置き縫いを行うようになって いる。

このように支持シート 2 1上に支持された基布 1 6に上記した平刺繍部である 図形刺繍部 1 7、 輪郭刺繍部 1 8及び小文字刺繍部 1 9を縫製する。 この状態が 図 1 4の下側に示してある。

次に、 同図 1 4及び図 1 5に示すように基布 1 6上に基布 1 6とほぼ同サイズ のスぺ一サ 2 3と保護膜 2 4を重ねる。 ここでスぺ一サ 2 3及び保護膜 2 4は先 の第 1実施形態に関連して説明したスぺ一サ 1 2及び保護膜 1 4 (特にシート状 の保護膜 1 4 A ) とそれぞれ同じ材料でできたものであり、 テ卜ラクロロェチレ ンに可溶である。

そして、 図 1 6に示すように保護膜 2 4上からスぺーサ 2 3及び基布 1 6さら には支持シ一ト 2 1を通じてテ卜ラクロロェチレンに溶けない刺繍糸を用いて、 網掛け刺繍部 2 0を縫製する。 この網掛け刺繍部 2 0は保護膜 2 4に対して輪郭 刺繍部 1 8のほぼ内側の頜域に相当する領域で刺繍される。 結果として基布 1 6 の上面の図形刺繍部 1 7 (もしくは小文字刺繍部 1 9 ) の上方にスぺ一サ 2 3及 び保護膜 2 4を隔てて網掛け刺繍部 2 0が形成された状態が得られる。

このようにして作成した刺繍体を刺繍枠 2 2から外し、 先の第 1実施形態と同 様、 テトラクロロエチレン液を満たした液槽に漬けて撹拌する。 これによつて基 布 1 6の上側のスぺーサ 2 3及び保護膜 2 4さらには基布 1 6の下側の支持シー ト 2 1が溶解除去され、 図 9に示したような刺繍製品が得られる。

本第 2実施形態の特徴は以下のようである。

( a ) 基布 1 6を置き縫いするための刺繍補助部材として常温 （雰囲気温度） で テトラクロ口エチレンに可溶な支持シート 2 1を利用している。

( b ) 網掛け刺繍部 2 0が中空立体刺繍として施されており、 かつ基布 1 6に施 された平刺繍部すなわち図形刺繍部 1 7及び小文字刺繍部 1 9の上方に重ねて刺 繍されている。

( c ) 支持シート 2 1とスぺ一サ 2 3及び保護膜 2 4が単一の工程で同時に溶解 除去されている。

特徴 （a ) に関連して、 支持シート 2 1はテトラクロロエチレンに可溶である ので、 スぺ一サ 2 3及び保護膜 2 4と同様、 テトラクロロエチレンによる溶解除 去作業を、 刺繍が完了したものをクリ一二ング店にドライクリーニングの依頼を することで代替することもできる。

従って、 テトラクロ口エチレンを用いた溶解除去設備を持たない一般の刺繍業 者や一般人であっても、 溶解除去作業を実施できる。

また、 支持シート 2 1の上面 2 1 aにはエンボス加工により凹凸が形成されて いるので、 置き縫いに際する基布 1 6の支持シ一卜 1 6に対する位置ずれを防止 でき、 図形刺繍部 1 7、 輪郭刺繍部 1 8及び小文字刺繍部 1 9、 さらには網掛け 刺繍部 2 0を所定の位置に確実に形成できる。

なお、 支持シート 2 1は置き縫いに限らず、 基布 1 6とともに刺繍枠 2 2に保 持させて刺繍を行う場合でも同様に利用でき、 さらには単に平面的な刺繍部のみ を有する刺繍製品を製造する場合にも利用できる。 すなわち図 1 3の下側に示し た、 スぺーサ 2 3及び保護膜 2 4を重ねる前の状態で支持シー卜 2 1を刺繍枠 2 2から外して支持シート 2 1を溶解除去すれば平面的な刺繍部 （本実施形態では 図形刺繍部 1 7、 輪郭刺繍部 1 8及び小文字刺繍部 1 9 ) のみを有する刺繍製品 が得られる。

特徴 （b ) に関連して、 立体刺繍の網掛け刺繍部 2 0となっているので図形刺 繍部 1 7及び小文字刺繍部 1 9が網掛け刺繍部 2 0の網目を通して目視できるこ ととなり、 刺繍製品にユニークな外観を与えることができる。

なお、 網掛け刺繍部 2 0は図示した楕円形のみならず星形等所望のパターンで 施すことができる。 また、 このような網掛け刺繍部 2 0は半透明の刺繍糸を用い た刺繍部としても良く、 要は立体刺繍部を通じて平面刺繍部の少なくとも一部が 目視可能なものであれば良い。

特徴 （c ) は除去作業が単一の工程で済むので、 刺繍製品の製造作業の簡略化 、 製造時間の短縮化を図ることができる。 また、 本実施形態のように支持シート 2 1を用いて平面刺繍部 （図形刺繍部 1 7、 輪郭刺繍部 1 8及び小文字刺繍部 1 9 ) と立体刺繍部 （網掛け刺繍部 2 0 ) とを形成する場合、 或いは上記のように 支持シート 2 1を用いて平面刺繍部のみを形成する場合も、 先の第 1実施形態の ように支持シー卜 2 1を用いずに平面刺繍部である輪郭刺繍部 8及び小文字刺繍 部 1 0と立体刺繍部である大文字刺繍部 6の両方を形成する場合と同じ工程で溶 解作業を行うことができる。

なお、 第 2実施形態は立体刺繍部とし網掛け刺繍部 2 0だけを形成するものと したが、 第 1実施形態の大文字刺繍部 6のような通常の刺繍縫いの立体刺繍部を 異なる場所に同時に形成しても良い。 また、 基布側の平面刺繍部に代えて例えば プリントにより形成された所定の模様としても良い。

また、 保護膜として予めシート状に形成された保護膜 2 4を利用したが、 第 1 実施形態で説明したように他の方法で形成された保護膜を利用することも勿論可 能である。

さらに、 基布 1 6は単に支持シート 2 1上に載せるだけでなく、 例えばテトラ クロ口エチレンに溶解可能な接着剤を用いて支持シート上に接着させてもよい。 以上は本発明をその好ましい実施形態に関連して説明したが、 添付の請求の範 囲に記載された本発明の精神から逸脱することなく容易に変更及び変形を行うこ とができることを理解されたい。

Claims

請求の範囲

I . 基布と重ねられ、 刺繍糸にて基布とともに縫製された後に除去される刺繍 補助用部材であって、 テトラクロ口エチレンに溶解可能な材料で形成されている 刺繍補助用部材。

2 . 当該刺繍補助用部材は、 前記刺繍糸により立体刺繍を形成するために利用 され、 所定の厚さを有するスぺーサを含む刺繍補助用部材。

3 . 前記スぺ一サは発泡スチロールから形成されている請求項 2の刺繍補助用 部材。

4 . 前記スぺ一サは該スぺ一ザの前記基布と反対側の表面上に形成された保護 層を有する請求項 2の刺繍補助用部材。

5 . 前記保護層はテトラクロ口エチレンに溶解する材料で形成されている請求 項 4の刺繍補助用部材。

6 . 前記保護層は弾性を有する請求項 5の刺繍補助用部材。

7 . 前記保護層はポリアクリル酸エステル、 ポリメタクリル酸エステル、 ポリ イソブレン及びポリブ夕ジェンからなるグループから選択される重合化合物から なっている請求項 6の刺繍用補助部材。

8 . 前記保護層はアクリル酸、 メタクリル酸、 イソプレン及びブタジエンから なるグループから選択される少なくとも 2つのモノマーの共重合化合物からなつ ている請求項 6の刺繍用補助部材。

9 . 前記保護層はテトラクロ口エチレンに溶解可能な材料を揮発性溶剤に溶か した溶液からその揮発性溶剤を揮発させて形成されている請求項 6の刺繍補助用 部材。

1 0 . 前記保護層は前記スぺ一サ上に前記溶液を適用した後に揮発成分を蒸発 させることで形成されている請求項 9の刺繍補助用部材。

I I . 前記溶液は前記スぺ一サ上にスプレーにより適用される請求項 1 0の刺 繍補助用部材。

1 2 . 前記保護層はテトラクロ口エチレンに溶解可能なシー卜状材料を前記ス ぺ一ザに貼り付けることで形成されている請求項 6の刺繍補助用部材。

1 3 . 当該刺繍補助用部材は前記基布を刺繍作業中において支持する支持シー トである請求項 1の刺繍補助用部材。

1 4 . 前記支持シ一卜はポリスチレンとポリブタジエンの混合フィルムからな る請求項 1 3の刺繍補助用部材。

1 5 . 前記支持シートは前記基布をその上面にフリー状態で載置するためのも のである請求項 1 3の刺繍保持用部材。

1 6 . 前記支持シートはその周縁部を刺繍枠に保持されるものである請求項 1 3の刺繍補助用部材。

1 7 . 前記支持シートには少なくとも前記基布が載置される領域において凹凸 が形成されている請求項 1 3の刺繍補助用部材。

1 8 . 前記凹凸は前記第 2のシ一トをエンボス加工することにより形成されて いる請求項 1 7の刺繍補助用シート。

1 9 . 請求項 2のスぺーサを利用して立体刺繍製品を製造するための方法であ つて、

a ) 前記基布上に前記スぺ一サを載置する段階と、

b ) 前記スぺーサを通じて前記基布を前記刺繍糸により縫製する段階と、 c ) 前記スぺ一サをテトラクロロエチレンで溶解する段階と、

からなる製造方法。

2 0 . 前記段階 a ) に先立って、

d ) 前記スぺーサ上にテトラクロ口エチレンで溶解する保護層を前記基材と反 対側において形成する段階をさらに有している請求項 1 9の方法。

2 1 . 前記段階 d ) はテトラクロロエチレンに溶解可能な材料を揮発性溶剤に 溶かした溶液からその揮発性溶剤を揮発させて形成されている請求項 2 0の方法

2 2 . 前記基布には予め刺繍もしくはプリントにより所望の模様が付されてお り、 前記段階 b ) において前記刺繍糸は前記スぺーサを通じて前記模様に重ねて 縫製されるものであり、 前記段階 c ) でできた立体刺繍製品において前記模様が 前記刺繍糸により形成された立体刺繍部を通じて少なくともその一部が目視可能 である請求項 1 9の方法。

2 3 . 前記段階 b ) において前記刺繍糸は網掛け状に刺繍される請求項 2 2の 方法。

2 4 . 前記刺繍糸は半透明の材料から形成されている請求項 2 2の方法。

2 5 . 請求項 1 3の支持シートを利用して刺繍製品を製造するための方法であ つて、

a ) 前記支持シー卜をフラッ 卜な状態に保持する段階と、

b ) 前記支持シート上に前記基布を載置する段階と、

c ) 前記基布を前記支持シ一卜とともに前記刺繍糸により縫製する段階と、 d ) 前記支持シートをテトラクロ口エチレンで溶解する段階と、

からなる製造方法。

2 6 . 前記段階 a ) は前記支持シートの周縁部を刺繍枠により保持する段階か らなっている請求項 2 5の製造方法。

2 7 . 前記支持シー卜には少なくとも前記基布が載置される領域において凹凸 が形成されている請求項 2 5の製造方法。

2 8 . 請求項 2のスぺ一サ及び請求項 1 3の支持シートを利用して立体刺繍製 品を製造するための方法であって、

a ) 前記支持シートをフラッ 卜な状態に保持する段階と、

b ) 前記支持シート上に前記基布を載置する段階と、

c ) 前記基布上に前記スぺーサを載置する段階と、

d ) 前記基布を前記支持シート及び前記スぺーサとともに前記刺繍糸により縫 製する段階と、

e ) 前記支持シート及び前記スぺ一サをテトラクロロエチレンで溶解する段階 と、

からなる製造方法。

2 9 . 前記段階 a ) は前記支持シートの周縁部を刺繍枠により保持する段階か らなっている請求項 2 8の方法。

3 0 . 前記支持シ一卜には少なく とも前記基布が載置される領域において凹凸 が形成されている請求項 2 8の製造方法。

3 1 . 前記スぺ一サはその上面に設けられた保護層を有しており、 前記段階 d ) は前記保護層をもともに縫製する段階を有しており、 また前記段階 e ) は前記 保護層をもテトラクロ口エチレンで溶解する段階を有している請求項 2 8の製造 方法。

3 2 . 請求項 2 2の方法を用いて製造される立体刺繍製品であって、 前記基布 と、 該基布に刺繍もしくはプリントにより付された前記模様と、 該模様の上側に 重ねて刺繍された立体刺繍部とからなり、 前記模様が前記立体刺繍部を通じて少 なくともその一部が目視可能な刺繍製品。

3 3 . 前記立体刺繍部は前記刺繍糸を網掛け状に刺繍したものである請求項 3 2の刺繍製品。

3 4 . 前記刺繍糸は半透明である請求項 3 2の刺繍製品。