WO1994014892A1 - Photosensitive resin composition for color filter - Google Patents

Photosensitive resin composition for color filter Download PDF

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WO1994014892A1
WO1994014892A1 PCT/JP1993/001872 JP9301872W WO9414892A1 WO 1994014892 A1 WO1994014892 A1 WO 1994014892A1 JP 9301872 W JP9301872 W JP 9301872W WO 9414892 A1 WO9414892 A1 WO 9414892A1
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WO
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group
resin composition
photosensitive resin
color filter
hydrogen atom
Prior art date
Application number
PCT/JP1993/001872
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English (en)
French (fr)
Inventor
Yoshiki Hishiro
Naoki Takeyama
Shigeki Yamamoto
Original Assignee
Sumitomo Chemical Company, Limited
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
    • G03F7/0236Condensation products of carbonyl compounds and phenolic compounds, e.g. novolak resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G8/00Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
    • C08G8/04Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes
    • C08G8/08Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes of formaldehyde, e.g. of formaldehyde formed in situ
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L61/00Compositions of condensation polymers of aldehydes or ketones; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L61/04Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
    • C08L61/06Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes with phenols
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders

Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive resin composition for a color filter, and more particularly to a positive type and a negative type photosensitive resin composition for a color filter.
  • Color filters In particular, color filters for solid-state imaging devices such as charge-coupled devices (CCDs) or liquid-crystal display devices (LCDs) are used for three primary color elements (red) on a transparent or opaque substrate. , Green, blue) or three complementary color elements (yellow, magenta, cyan).
  • CCDs charge-coupled devices
  • LCDs liquid-crystal display devices
  • 41755753 and 175754 disclose photosensitive resin compositions for color filters
  • A As a soluble resin, a novolak resin obtained by polycondensing a phenol component containing 50% by mole or more of bisphenol A with an aldehyde component, (B) a dye which dissolves in the solvent of (C) or (D) and is soluble in the solvent of (A) resin; and (D) a solvent which is soluble in the solvent of (C) or (D);
  • the positive photosensitive resin for the color filter When a resin composition is used, high-temperature and long-time heating is required after the pattern is formed, so that there are problems such as a change in the pattern shape and discoloration of the color filter.
  • the present invention provides a photosensitive resin composition for a color filter which is excellent in various properties such as resolution, heat resistance and transparency (light transmittance).
  • the present invention provides a compound represented by the general formula (I):
  • R 1 to R 5 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted straight-chain or branched alkyl or alkenyl group, or an acetyl group. Represents R 6
  • R 7 are those wherein the —C— group is 0-position or
  • R 8 to R] 3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted linear or branched alkyl or alkenyl group, or an acetyl group.
  • R and 5 are groups in which one C—— group is in the 0-position or —H group.
  • R, 6 ⁇ R 2 1 are each independently hydrogen atom, C b gain down atoms, Al kill or alkenyl group or Asechiru group also rather branched Fushimi straight chain may be substituted Express.
  • R 2 2
  • R 2 3 is, - C - group versus the position 0 to ten H group also
  • a photosensitive resin composition for a color filter characterized by containing a pigment.
  • the novolak resin containing at least one type of repeating unit selected from the groups represented by the general formulas (I), (II) and (II) is represented by the general formula (: IV )
  • Z> to Z 9 each represents a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted straight-chain or branched alkyl or alkenyl group, an acetyl group or a 1 OH group.
  • Z 1, Z 2, Z 3 and Z 5 is a mono-OH group and has at least one hydrogen atom at the 0-position or the p-position with respect to the —OH group.
  • Z 2 to Z 6 is a —OH group, which has at least one hydrogen atom at the o-position or the p-position with respect to the —H group.
  • a carbonyl compound containing the compound represented by the formula (1) and a carbonyl compound in the presence of an acid catalyst is the general formula (V)
  • a alkyl or 'alkenyl group represents a group or a 10 H group, provided that one of 21 1 to ,, 5 is a - ⁇ ⁇ 1 group, and at least in the 0-position or the p-position with respect to the -OH group.
  • Z and s to Z 27 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a linear or branched alkyl or alkenyl group which may be substituted, an acetyl group or a —OH group;
  • one of Z 19 , Z 25 and Z 26 and Z 27 is a 1H group, and at least 0 or p-position with respect to the - ⁇ H group.
  • An acid catalyst comprising a phenolic compound and a carbonyl compound containing a compound represented by the formula (1) having two hydrogen atoms, and Z 20 to Z 24 are not necessarily an OH group.
  • R to R 23 and Z linear also rather is rather to preferred as a branched alkyl group represented by ⁇ Z that even 1 to 5 of carbon atoms, RR 5, RRRR 2, and Z
  • R, R 23 and Z 27 are preferably hydrogen atoms or linear or branched carbons 1-5. (E.g., methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl or n-butyl), and more preferably a hydrogen atom or a methyl or ethyl group. , Each is provided.
  • Preferred compounds represented by the general formulas (IV) to (V [) include, for example, '
  • the compounds represented by the general formulas (IV) to (VI) are used alone or as a mixture.
  • the compound represented by the general formula (IV) can be prepared by using ⁇ - or p-isopronenylphenol or a linear dimer thereof in US Pat. No. 3,288,884.
  • Compounds represented by general formulas (V) to (VI) are disclosed in JP-A-54-164989 or JP-A-49-101366 by the method described in In the manner described in Each can be manufactured.
  • Examples of the phenol compound other than the compound represented by (VI) include a compound represented by the general formula (VI I
  • E, ⁇ E 6 are each a hydrogen atom, halo gain down atom, replacement by the rather nor be linear have branched alkyl or alkenyl group, ten H group or lower Arukiruka Rubo two Represents a group.
  • at least one of E 1 to E 6 is a —0H group, and has at least two hydrogen atoms at the 0-position or the p-position with respect to the —0H group.
  • E 7 to E 16 are each a hydrogen atom, a halogen atom It represents an optionally substituted straight-chain or branched-chain alkyl or alkenyl group, 10H group or lower alkyl group.
  • E 7 to E] 5 is a 10H group, and at least two hydrogen atoms are located at the o-position or the p-position with respect to the —0H group.
  • A represents an oxygen atom, a sulfur atom, or an optionally substituted alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. Or a naphthalene compound or the like.
  • Examples of the compound represented by the general formula (VII) include phenol, m-cresole, P-cresole, 0—taresole, 0—ethylenole M-Ethyl phenol, m-Ethyl phenol, 2-Isopropyl phenol, 3-Isopropyl phenol Knol, 4—Isopropyl phenol, 0—Se-buty phenol, p—Se-butyl phenol, 0—tert-butyl M-tert-butynophenol, m-tert-butynophenol, p-tert-butynophenol, 2,5—xylene, 3,5-xylene Knol, 3, 4 — Xylenol, 2, 3, 5 — Trimethyl phenol, 5 — methyl 2 — tert — Butyl phenol, m — Preparative key sheet full et Bruno one Le, Lee Seo A Mi Honoré off et Bruno - ⁇ ,
  • Examples of the compound represented by the general formula (VIII) include 22-bis (4-hydroxyphenyl) -propane and the like.
  • naphthalene compound examples include 2-naphthol, 1, 3 — dihydroxinaph uren, 1, 7 — dihydroxinafu urene or 1, 5 — dihydroxinafu urene, It is possible.
  • phenol compounds may be used alone or as a mixture of two or more.
  • the molar ratio of the compound represented by the general formula (IV), (V) or (VI) to the above-mentioned phenol compound is usually from 100: 0 to 20:80.
  • carbonyl compounds include acetone, methylethylketone, methylolebutinoleketone, methylenolisobutene or methyloneketone.
  • Ketones such as chiral isopropyl ketone, or home aldehyde, paraformaldehyde, glioxal, and acetoaldehyde , Propyl aldehyde, benzyl aldehyde, phenylacetaldehyde, phenyl lip aldehyde, / 3 — phenyl propyl aldehyde Hyd 0—Hydroxybenzaldehyde, m—Hydroxybenzaldehyde, p—Hydroxybenzaldehyde, Guru 0, 0 — Methyl benzene z or aldehyde or p — Methyl benzene's alde Aliphatic or aromatic A Le des arsenide de such
  • aldehydes are preferred from the viewpoint of reaction rate, and formaldehyde is particularly preferred from the viewpoint of industrial availability.
  • the hydrocarbon compounds can be used alone or as a mixture of two or more.
  • the amount of the carbonyl compound to be used is usually 0.2 to 3 times, preferably 0.5 to 2 times the amount of the phenol compound.
  • the catalyst include organic acids (for example, formic acid, acetic acid, oxalic acid, trichloroacetic acid or P-toluenesulfonic acid, etc.), and inorganic acids (for example, hydrochloric acid, sulfuric acid, peroxide, etc.).
  • Examples include chloric acid or phosphoric acid) or divalent metal salts (eg, zinc acetate or magnesium acetate, etc.). Among them, oxalic acid or acetic acid is preferred. These may be used alone or as a mixture of two or more.
  • the amount of the catalyst used is preferably from 0.1 to 50% by weight, more preferably from 0.5 to 30% by weight, based on the phenol compound.
  • the addition condensation is carried out in bulk or in solution.
  • the solvent include tonolene, xylene, ethyl acetate, solvent acetate, n—propinoleone, n—butinoleone, i I-butynoleanol, n-hexylanol, dipropyl ether, dibutyl ether, diglyme, n-heptane, n-octane or methinolesobutyl ketone, etc. Are mentioned.
  • the addition condensation temperature is usually 6 () ⁇ !
  • the temperature is 20 ° C., and when using a solvent, it is preferably under a reflux condition of 80 to 110 ° C.
  • the reaction time varies depending on the molecular weight of the produced novolak resin, but is usually about 2 to 30 hours.
  • the weight-average molecular weight in terms of the preferred formed polystyrene resin is from 100,000 to 100,000.
  • alkali soluble resin used in the photosensitive resin composition for a color filter of the present invention include, in addition to the above-mentioned novolak resin, the novolak resin and an alky resin. Soluble vinyl weight And a mixture with the union.
  • soluble vinyl polymers examples include copolymers of styrene and P-hydroxycystylene (such as MARUKA I'NCUR-CST manufactured by Maruzen Petroleum), and styrene monoanhydride.
  • Maleic acid copolymers such as SMA-2625 or SMA-17532 made by Atoke are described in Japanese Patent Publication No. 3-39528. Copolymerization of acrylic monomers and p-bininole phenols (Maruzen Oil Co., Ltd.
  • MARUKALYNCUR-CMM vinyl alcohol and P-vinyl alcohol Copolymerization (such as IWARUKALYNCUR-CHM manufactured by Maruzen Oil Co., Ltd.), methyl methacrylate (or methyl acrylate), mono-anhydride copolymer, A partial ester of these copolymers and an alkyl having 1 to 10 carbon atoms or an alcohol having a cycloalkyl group, or the following formula:
  • Q, and Q 2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group
  • Q 3 represents an alkyl, aryl, or alkyl group. It represents a hydroxyl group or a hydroxyl group
  • X, ⁇ X 5 is one also rather small, represent each a hydrogen atom conditionally earthenware pots have the Ru hydroxyl der, halo gain down atom, an alkyl group or a hydroxyl group.
  • Hydrogenated vinyl phenol copolymer having a structure represented by the following formula, a resin obtained by hydrogenation of polyvinyl phenol (Mar UKALYN CUR-PH S- C, or polyvinyl alcohol (such as MARUKALYN CUR-M, manufactured by Maruzen Shishoku), etc.
  • the combination of these soluble and soluble vinyl ffi is as follows:
  • the alkali-soluble vinyl polymer may be selected from those having a molecular weight of about 50,000 to 100,000, if necessary.
  • Solvents used in the photosensitive resin composition for color filters include, for example, methylcellosolve, ethylcellosolve, methylcellulose solvent acetate, ethylcellesolate, etc.
  • solvents may be used alone or as a combination of two or more dyes.
  • CI Solvent Co.our described in the Color Index may be used. it can.
  • the pigment for example, I. Pigment Color and the like described in Color Index can be used.
  • the positive-type photosensitive resin composition for a color filter preferably contains a crosslinking agent in addition to the soluble resin, the solvent, and the dye or pigment. May contain a photoacid generator.
  • the negative-type photosensitive resin composition for a color filter preferably contains a crosslinking agent and a photoacid generator in addition to the above-mentioned soluble resin, solvent, and dye or pigment.
  • crosslinking agent for example, the following formula
  • R represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, and ⁇ represents an integer of 1 to 4.
  • E, 9 is - ⁇ ( ⁇ 2 2) the (E 2 3) or substituted or unsubstituted Yoia Li Lumpur group, E 17, E 1 S, E 2 u, E 2 1 a hydrogen atom or one independently each E 2 2 and E 23 (CH 2) a s oR, represent each. R and s have the same meaning as above. Or a compound represented by
  • Examples of the aryl group represented by E and s include phenyl, 11-naphthyl and 2-naphthyl groups, and examples of the substituent include lower groups. Examples thereof include an alkyl or alkoxy group, a nitro group, and a halogen atom.
  • Preferable examples of the lower alkyl group represented by R include a methylene group and an ethyl group.
  • Preferred compounds represented by the general formula (IX) include, for example, C) N
  • a methylol compound is produced by reacting a melamin or benzoguanamine derivative with formaldehyde under basic conditions. can do.
  • the methyl monoether body can be produced by reacting the above-mentioned methylol body with alcohols.
  • the compounds represented by formulas (i) and (ii) are prepared by reacting P-cresol or 4-tert-butyl phenol with formaldehyde under basic conditions. can do.
  • the compounds represented by the formulas (iii ") to Vi) are described in JP-A No. 12933339.
  • the photoacid generator used alone or as a mixture of two or more types is not particularly limited as long as it can generate an acid by ⁇ light such as ultraviolet rays. 62-16-16445, JP-A-633-153042, JP-A 5 3-1 3 3 4 2 8, Bull. Chem. So Japan, 42, 292 4 (19669), U.S. Patent No.
  • Examples of the xenodiazide compound include 0 — naphthoquinonone diazidite 5 — sunolefonic acid ester or sulfonamide, or 0 — naphthone O-Naphthoquinone Azide 4—Sulfonate ester or Sulfonamide etc.
  • esters or amides are described in, for example, the general formula (I) described in JP-A-2-84650 and JP-A-3-49437. It can be produced by a known method using a knock compound or the like.
  • Alkali-soluble resins (the above-mentioned novolak resins and alcohol-soluble vinyl polymers) and cross-linking agents are usually added at a rate of about 2 to 50% by weight and about 2 to 30% by weight, respectively, in the solvent. Allow to dissolve.
  • the amounts of the quinone diazide compound, the photoacid generator and the dye (or pigment) used are usually about 2 to 30, about 2 to 30, and about 2 to 50% by weight, respectively, of the solvent. Add in proportions.
  • additives commonly used in the art such as a smoothing agent for imparting uniform coating properties, may be added to the photosensitive resin composition.
  • Exposure of the positive photosensitive resin composition is reduced by utilizing the fact that the difference in solubility in the developer is caused by exposure, and the exposed portion is removed, and the unexposed portion is exposed in the positive color. It will remain as an event.
  • the quinone diazide compound is decomposed by exposure to light and becomes soluble in an alkaline developer, while in the unexposed area, the quinone diazide compound is not soluble in an alkaline developer of a novolak resin. It acts to suppress dissolution.
  • the unexposed area is entirely exposed, the remaining quinone diazide compound is decomposed, and when a photoacid generator is contained, it generates an acid to generate a positive acid. It has the function of curing the mold color filter.
  • the exposed portion since the negative photosensitive resin composition does not contain a quinone diazide compound, the exposed portion has a negative color opposite to that of the positive photosensitive resin composition. It remains as a filter.
  • ultraviolet rays such as mercury lamps, far ultraviolet rays, electron beams or X-rays are used.
  • Novolak resin obtained in Reference Example 1.0 1.0 part, 0—Naphthoquinone diazide 5—Snolefonic acid ester (0.6 part, average of two hydroxyl groups are esterified, hexame Toxic Methyl Mouth-0.3 parts of melamine melamine, 3 parts of dimethylformamide, 4 parts of ethyl lactate and a mixture of Taoka Chemical 01 eoso 1 Fast Blue R and 0.75 parts The mixture was filtered under pressure using Membrane Filtration to obtain a cyan positive color photosensitive resin composition.
  • This composition was spin-coated with silicone ethanol and developed by exposure after exposure to obtain a cyan-colored poji-type pattern having a resolution of 0.8 / m. . After exposure of this positive pattern
  • the color filter thus obtained does not discolor even after being heated at 200 ° C. for 40 minutes, and has excellent transparency (light transmittance) at 400 ° C. I was.
  • a cyan color poly-type photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the novolak resin obtained in Reference Example 2 was used instead of the novolak resin obtained in Reference Example 1. Obtained.
  • This composition was spin-coated on a silicon wafer and developed by exposure and alkali development to obtain a cyan-colored posi-type pattern having a resolution of 0.8 m.
  • This positive pattern was cured by heating at 150 ° C for 10 minutes after the entire surface exposure.
  • the color filter thus obtained does not discolor even when heated at 200 ° C for 40 minutes, and has excellent transparency (light transmittance) at 40 O nm. Had been.
  • a cyan negative photosensitive resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.2 part of the photoacid generator represented by the following formula was added.
  • a cyan color filter was prepared in the same manner as in Example 4 except that Marukalyncur-CM (molecular weight: about 530) manufactured by Maruzenshishatsu Co., Ltd. was used instead of Marukalyncur-CST-70. And the same results were obtained for the resolution, heat resistance and transmittance.
  • Marukalyncur-CM molecular weight: about 530
  • Maruzenshishatsu Co., Ltd. was used instead of Marukalyncur-CST-70.
  • Naphthoquinone diazide-5 Use 0.2 parts of the photoacid generator used in Example 3 in place of the sulfonate (quinone diazide compound :)
  • a cyan-color negative type was prepared in the same manner as in Example 4 except that dimethylformamide Z-ethyl acetate mouth acetate (ratio 11) was used instead of the mixture of dimethylformamide and ethyl lactate.
  • a photosensitive resin composition was obtained.
  • This composition was developed with silicon nitro, spincoat, and exposure light to obtain a blue positive pattern having a resolution of 5 am. After the entire surface of this positive pattern was exposed, it was cured by heating at 150 ° C. for 10 minutes. The color filter obtained in this manner did not change color even after heating at 200 ° C for 40 minutes, and its transparency at 400 nm (light transmittance) Was excellent.
  • a blue positive photosensitive resin composition was obtained in the same manner as in Example 8, except that the novolak resin obtained in Reference Example 2 was used instead of the novolak resin obtained in Reference Example 1. .
  • This composition was spin-coated on a silicon wafer and developed by exposure to light to obtain a blue positive pattern having a resolution of 5 Um. After the entire surface of this positive pattern was exposed, it was cured by heating at 150 ° C. for 10 minutes. The color filter obtained in this way does not discolor even when heated at 200 ° C for 40 minutes, and has excellent transparency (light transmission) at 40 O nm. hand was.
  • a blue negative photosensitive resin composition was obtained in the same manner as in Example 8, except that 0.2 part of the photoacid generator represented by the following formula was added.
  • This composition is spin-coated on a silicon wafer, heated at 120 ° C. for 2 minutes after exposure, and then alkali-developed to obtain a blue color having a resolution of 5 m. I got a finalist. The color thus obtained does not discolor even when heated at 200 ° C for 40 minutes, and has excellent transparency (light transmittance) at 400 im. I was
  • Example 1 0.47 parts of the novolak resin obtained in Reference Example 1, Maruka ncur-CST—70 (Mr. weight: approx. 230 000) manufactured by Maruzen Shishoku Co., Ltd. 0.7 parts, used in Example 1.
  • 0 Naphthoquinone diazide — 5 — Sulfonate ester 0.6 parts, hexamethoxymethyl mouth — 0.3 parts of fluorinated melamine, ethyl acetate mouth
  • a mixture of 10 parts of the mixture and 6 parts of the pigment dispersion used in Example 8 was subjected to pressure filtration using a membrane filter to obtain a blue positive photosensitive resin composition.
  • This is spin-coated on a silicon wafer, and after exposure, the exposed area is removed with an alkaline developer to form a positive coloring pattern having a resolution of 5 / m. Obtained.
  • the whole was exposed to light and then heated at 150 ° C for 10 minutes to obtain a blue color filter.
  • the color fin was heated at 200 ° C. for 4 hours, the color did not change, and the transmittance at 400 nm hardly changed.
  • a blue color filter was obtained in the same manner as in Example 11 except that Marukalyncur-CMM (molecular weight: about 5300) manufactured by Maruzen Oil Co., Ltd. was used instead of arukalyncur-CST-70. The same results were obtained for resolution, heat resistance and transmittance.
  • Marukalyncur-CMM molecular weight: about 5300 manufactured by Maruzen Oil Co., Ltd. was used instead of arukalyncur-CST-70.
  • Example 14 Except that Marukalyncur-PHS-C (molecular weight: about 500,000) manufactured by Maruzen Oil Co., Ltd. is used instead of Marukalyncur-CST-70 In Example 14, a blue color filter was obtained in the same manner as in Example 11, and the same results were obtained for the resolution, heat resistance, and transmittance.
  • Marukalyncur-PHS-C molecular weight: about 500,000 manufactured by Maruzen Oil Co., Ltd.
  • the photosensitive resin composition of the present invention By using the photosensitive resin composition of the present invention, it is possible to obtain a color fin having excellent resolution, heat resistance and transparency.

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Description

明 細
カ ラ ー フ ィ ル タ ー用感光性樹脂組成物 技術分野
本発明はカ ラ 一 フ ィ ルタ ー用感光性樹脂組成物に関 し、 よ り 詳 し く はカ ラ ー フ ィ ル 夕 一用 ポジ型及びネ ガ型感光 性樹脂組成物に関する
背景技術
カ ラ ー フ ィ ル 夕 一、 特に電荷結合素子 ( C C D ) も し く は液晶表示素子 ( L C D ) 等の固体影像素子用カ ラ ー フ ィ ルタ ーは透明又は不透明基体上に三原色要素 (赤、 綠、 青) 又は三補色要素 ( イ エ ロ —、 マ ゼ ン タ 、 シ ア ン ) のパ タ ー ンを形成する ものであ る。 カ ラ 一 フ ィ ル 夕 一用 感光性樹脂組成物 と して例えば特開平 4 一 1 7 5 7 5 3 号、 及び同 じ く 1 7 5 7 5 4 号公報には、 各々 、 ( A ) ア ル 力 リ 可溶性樹脂 と して、 5 0 モ ル%以上 ビス フ エ ノ ー ル A を含むフ ェ 'ノ 一ル成分 とアルデ ヒ ド成分を重縮合 させてな る ノ ボラ ッ ク樹脂、 ( B ) 光変性溶解抑制剤、 ( C ) 、 ( D ) の溶剤に可溶で ( A ) 樹脂 と相溶する染 料、 ( D ) 溶剤を含有 してな る、 及び上記 ( A ) 、
( B ) 、 ( D ) と 、 ( C ' ) 微粒子顔料 とを含有 してな ' る 、 カ ラ ー フ ィ ノレ 夕 一用感光性樹脂組成物が記載さ れて い る
しか しなが ら、 該カ ラ ー フ ィ ル タ ー用ポジ型感光性樹 脂組成物を用いる と、 パ タ ー ン形成後に高温 · 長時問の 加熱を要する ため、 パタ ー ン形状の変化及びカ ラ ー フ ィ ルタ ーの変色等の問題があ る。
発明の開示
本発明は解像度、 耐熱性及び透明度 (光透過性 ) 等の 諸性能に優れたカ ラ ー フ ィ ル タ ー用感光性樹脂組成物を 提供する。
本発明は、 一般式 ( I )
Figure imgf000004_0001
〔式中、 R , 〜 R 5 は各々 独立 して水素原子、 ハロ ゲ ン 原子、 置換さ れていて も よい直鎖 も し く は分岐状のア ル キル又はアルケニル基或.いはァセチル基を表わす。 R 6
R e
I
及び R 7 は、 — C — 基が一 〇 H基に対 し 0 位又は
I
R 7
p 位に配位 している と い う 条件付きで各々 水素原子、 置 換さ れていて も よいアルキル基、 ベ ン ジル基又はフ ェ ニ ル基を表わす。 〕 、 一般式 ( I I )
Figure imgf000005_0001
〔式中、 R 8 〜 R 】 3は各々 独立 して水素原子、 ハロ ゲ ン 原子、 置換さ れていて も よい直鎖 も し く は分岐状のア ル キル又はア ルケニル基或いはァセチル基を表わす。 R , ,
K
およ び R , 5は、 一 C —— 基が— 〇 H基に対 し 0 位又
I は p 位に配位 している とい う 条件付きで各々 水素原子、 置換さ れていて も よいア ルキル基、 ベ ン ジル基又はフ ェ 二ル基を表わす。 〕 及び一般式 ( I Iに)
I)
Figure imgf000005_0002
〔式中、 R , 6〜 R 2 1は各々 独立 して水素原子、 ハ ロ ゲ ン 原子、 置換さ れていて も よい直鎖 も し く は分岐伏のアル キル又はアルケニル基或いはァセチル基を表わす。 R 2 2
R 2 2
I .
お よ び R 2 3は、 —— C —— 基が一 〇 H基に対 し 0 位又
K 2 3
は P 位に配位 している と い う 条件付きで各 々 水素原子、 置換さ れていて も よいアルキル基、 ベ ン ジル基又は フ ェ 二ル基を表わす。 〕 で示さ れる群の中か ら選ばれる少な く と も 1 種の繰返 し単位を含み、 且つ分子量が約 1 0 0 0 〜 5 0 0 0 0 の ノ ボラ ッ ク樹脂、 溶剤並びに、 染料又 は顔料を含むこ とを特徴 とする カ ラ ー フ ィ ルタ ー用感光 性樹脂組成物であ る。
発明を実施するための最良の形態
上記一般式 ( I ) 、 ( Π ) 及び ( I I Πで示される群の 中か ら選ばれる少な く と も 1 種の繰返 し単位を含むノ ボ ラ ッ ク樹脂は、 一般式 (: I V)
Figure imgf000006_0001
(式中、 Z > 〜 Z 9 は各 々 水素原子、 ハ ロ ゲ ン原子、 置 換されていて も よい直鎖 も し く は分岐状のアルキル又は ァ ルケニル基、 ァセチル基或いは一 O H基を表わす。 但 し、 Z , 、 Z 、 Z 及び Z 5 の中 1 つは一 O H基であ り 、 該— 0 H基に対 して 0 位又は p位に少な く と も 1 つ の水素原子を有 し、 且つ、 Z 2 〜 Z 6 の中 1 つは— 0 H 基であ り 、 該ー 〇 H基に対 して o位又は p位に少な く と も 1 つの水素原子を有する。 ) で示さ れる 化合物を含有 する フ ェ ノ ール化合物 と カ ルボニル化合物 とを酸触媒の 存在下に付加縮合 させる こ と に よ り 得 られる。 そ して、 一般式 ( V )
Figure imgf000007_0001
(式中、 Z ,。〜 Z 】 8は各 々 水素原子、 ハ ロ ゲ ン原子、 置 換さ れていて も よ い直鎖 も し く は分岐状のア ルキル又'は アルケニル基、 ァセチル基或いは一 0 H基を表わす。 但 し、 2 1 1〜∑ , 5の中 1 っはー 〇 ^1基でぁ り 、 該ー O H基 に対 して 0 位又は p位に少な く と も 2つの水素原子を有 し、 且つ、 Z 1 ()、 Z 16、 ∑ 1 7及び 2 ,8はー 0:^基でぁ る こ と はない。 ) で示さ れる 化合物を含有する フ ノ ー ル 化合物 と カ ルボニル化合物 とを酸触媒の存在下に付加縮 合 さ せる と、 上記一般式 ( II) で示さ れる繰返 し単位を 含むノ ボラ ッ ク樹脂が得 られる。 又、 下記一般式 (VI)
Figure imgf000008_0001
(式中、 Z , s〜 Z 27は各々 水素原子、 ハロ ゲ ン原子、 置 換されていて も よ い直鎖 も し く は分岐状のア ルキル又は アルケニル基、 ァセチル基或いは — 0 H基を表わす。 但 し、 Z 19、 Z 2 5 . Z 26及び Z 27の中 1 つは一 〇 H基であ り 、 該ー 〇 H基に対 して 0 位又は p位に少な く と も 2つ の水素原子を有 し、 且つ、 Z 20〜 Z 24は一 O H基であ る こ とはない。 ) で示される 化合物を含有する フ エ ノ ール 化合物 と カ ルボニル化合物 とを酸触媒の存在下に付加縮 合 させる と、 上記一般式 ( III)で示さ れる橾返 し単位を 含むノ ボラ ッ ク樹脂が得られる。
R 〜R 23及び Z , 〜 Z で表わさ れる直鎖 も し く は 分岐状のアルキル基 と して好ま し く は炭素数 1 〜 5 の も のが、 R R 5 、 R R R R 2 ,及び Z
Z 27で表わさ れる直鎖 も し く は分岐状のアルケニル基 と して好ま し く は炭素数 2〜 5 の ものが、 各 々 挙げ られる こ れ らの置換基 と しては、 例えばハロ ゲ ン原子、 一 〇 H 基、 — S H基、 フ エ ニル基又は低級ア ルキルチオ基等が 挙げ られる。 R , 〜 R 23及び 〜 Z 27と して、 好ま し く は水素原子或いは直鎖 も し く は分岐状の炭素 ¾ 1 〜 5 のアルキル基 (例えば メ チル、 ェチル、 n — プロ ピル、 i — プロ ピル も し く は n — ブチル基等) 力〈、 よ り 好ま し く は水素原子或いは メ チル も し く はェチル基が、 各 々 举 げ られる。 一般式 ( IV) 〜 ( V【) で示さ れる好ま しい化 合物 と しては、 例えば '
Figure imgf000009_0001
等が挙げ られる。 一般式 ( IV) 〜 ( VI ) で示さ れる 化合 物は単独で、 或いは混合 して用い られる。 一般式 ( IV) で示さ れる 化合物は ΙΏ — も し く は p — イ ソ プロべニルフ ノ ール又はこ れ らの線状二量体を用いて、 米国特許第 3 2 8 8 8 6 4 号明細書に記載の方法で、 一般式 ( V ) 〜 (VI) で示さ れる 化合物は特開昭 5 4 一 6 4 5 8 9 号 又は特開昭 4 9 一 1 0 1 3 6 6 号公報に記載の方法で、 各々 製造する こ とができ る。
力 ルボニル化合物 と付加縮合 さ せる、 一般式 UV) 〜
(VI) で示される 化合物以外の フ ノ - ル化合物 と して は、 例えば一般式 ( V I Π
Figure imgf000010_0001
〔式中、 E , 〜 E 6 は各々 水素原子、 ハロ ゲ ン原子、 置 換さ れていて も よい直鎖も し く は分岐状のアルキル又は アルケニル基、 一 〇 H基或いは低級アルキルカ ルボ二ル 基を表わす。 但 し、 E , 〜 E 6 の中少な く と も 1 つは— 0 H基であ り 、 該ー 0 H基に対 して 0 位又は p位に少な く と も 2つの水素原子を有する。 〕 で示さ れる化合物、 一般式 (VIII)
Figure imgf000010_0002
〔式中、 E 7 〜 E 16は各々 水素原子、 ハロ ゲ ン原子 換さ れていて も よい直鎖 も し く は分岐伏のァ ルキル又は ア ル ケ ニ ル基、 一 0 H基或い は低級 ァ ル キ ル 力 ル ボ二 ル 基を表わす。 但 し、 E 7 〜 E 】 5の中少な く と も 1 つは 一 0 H基であ り 、 該— 0 H基に対 して o 位又は p 位に少な く と も 2 つの水素原子を有する。 A は酸素原子、 硫黄原 子、 置換さ れていて も よい炭素数 1 〜 6 の 了 ル キ レ ン 基 を表わす。 〕 で示される 化合物或い は ナ フ タ レ ン化合物 等が挙げ られる。
一般式 ( V I I ) で示さ れる 化合物 と しては、 例えばフ ェ ノ ー ル、 m — ク レ ゾ一 ル 、 P — ク レ ゾ 一 ノレ、 0 — タ レ ゾ一 ノレ、 0 — ェ チ ノレ フ エ ノ 一 儿 、 m — ェ チ ル フ エ ノ ー ル p — ェ チ ル フ エ ノ ー ル、 2 — イ ソ プ ロ ピ ル フ エ ノ ー ル、 3 — イ ソ プ ロ ピル フ エ ノ ー ル、 4 — イ ソ プ ロ ピ ル フ エ ノ ー ル、 0 — s e 一 ブ'チ ノレ フ ェ ノ ー ノレ、 p — s e 一 ブチ ル フ エ ノ ー ル、 0 — t e r t— フ"チ ル フ エ ノ ー ノレ、 m — t e r t— ブチ ノレ フ エ ノ 一 ノレ、 p — t e r t— ブチ ノレ フ エ ノ 一ル、 2 , 5 — キ シ レ ノ ー ル、 3 , 5 - キ シ レ ノ ー ル 、 3 , 4 — キ シ レ ノ ー ル 、 2 , 3 , 5 — 卜 リ メ チ ノレ フ エ ノ ー ノレ、 5 — メ チ ノレ ー 2 — t e r t— ブチ ル フ エ ノ 一 ル、 m — メ ト キ シ フ エ ノ 一 ル 、 イ ソ ア ミ ノレ フ エ ノ — 儿 、 レ ゾ ル シ ン 、 2 — メ 千 ノレ レ ゾ ル シ ン又はノヽ ィ ド 口 キ ノ ン等が挙げ られる。
一般式 ( V I I I ) で示される 化合物 と しては、 例えば 2 2 — ビ ス ( 4 — ヒ ド ロ キ シ フ ェニル) — プロパ ン等力く举 げ られる。
ナ フ タ レ ン化合物 と し て は 、 例えば 2 — ナ フ ト ール、 1 , 3 — ジ ヒ ド ロ キ シ ナ フ 夕 レ ン 、 1 , 7 — ジ ヒ ド ロ キ シ ナ フ 夕 レ ン 又は 1 , 5 — ジ ヒ ド ロ キ シ ナ フ 夕 レ ン 等力、 举げ られ る。
こ れ ら の フ ヱ ノ ー ル化合物は単独で、 或い は 2 種以上 混合 して用 い ら れ る 。 一般式 ( I V ) 、 ( V ) 又は ( V I ) で示 さ れ る 化合物 と 上記 フ エ ノ 一 ル化合物 と の仕込みモ ル比は通常 1 0 0 : 0 〜 2 0 : 8 0 であ る。
カ ルボニ ル化合物 と して は、 ア セ ト ン 、 メ チ ル ェチ ル ケ ト ン 、 メ チ ノレ ブ チ ノレ ケ ト ン 、 メ チ ノレ イ ソ ブ千 ノレ ケ 卜 ン も し く は メ チ ル イ ソ プロ ピルケ ト ン等のケ ト ン類或し、 は ホ ル 厶 ア ルデ ヒ ド、 パ ラ ホ ル ム ァ ルデ ヒ ド、 グ リ ォ キサ ー ル 、 ァ セ ト ア ルデ ヒ ド、 プロ ピル.ァ ノレデ ヒ ド、 ベ ン ズ ア ルデ ヒ ド、 フ エ ニルァ セ ト ァ ノレデ ヒ ド、 ひ 一 フ エ 二ル プ口 ピルア ルデ ヒ ド、 /3 — フ ヱ ニ ルプ ロ ピルァ ルデ ヒ ド 0 — ヒ ド ロ キ ンべ ン ズァ ノレデ ヒ ド、 m — ヒ ド ロ キ シベ ン ズア ルデ ヒ ド、 p — ヒ ド ロ キ シベ ン ズァ ル デ ヒ ド、 グル 夕 ノレァ ルデ ヒ ド 、 0 — メ チ ノレベ ン ズァ ノレデ ヒ ド も し く は p — メ チ ルベ ン ズ'ア ルデ ヒ ド等の脂肪族又は芳香族ア ル デ ヒ ド類が挙げ ら れ る 。 こ れ ら の中、 反応速度の観点か ら ア ルデ ヒ ド類が好 ま し く 、 工業的 に 入手 し易 い と い う 観点か ら ホ ルム ァ ル デ ヒ ドが特に好 ま し い。 力 ル ボ二 ル 化合物は単独で、 又は 2 種以上混合 して使用す る こ と が で き る 。 力 ル ボニル 化合物の使用量は フ ェ ノ 一 ル化合物 に対 して通常 0. 2 〜 3 倍モ ル、 好 ま し く は 0 . 5 〜 2 倍モ ノレであ る 。 触媒 と しては、 有機酸 (例えば蟻酸、 酢酸、 蓚酸、 卜 リ ク ロ ル酢酸 も し く は P — ト ル エ ン ス ル ホ ン酸等) 、 無 機酸 (例えば塩酸、 硫酸、 過塩素酸 も し く は燐酸等) 或 いは二価金属塩 (例えば酢酸亜鉛 も し く は酢酸マ グネ シ ゥ ム等) 等が举げ られる。 中で も蓚酸 も し く は酢酸が好 ま しい。 こ れ らは単独で、 又は 2 種以上混合 して用い ら れる。 触媒の使用量は、 フ エ ノ ー ル化合物に対 して好ま し く は 0. 1 〜 5 0 重量%、 よ り 好ま し く は 0 . 5 〜 3 0 重 量%であ る。
付加縮合はバル ク で、 或いは溶剂中で行われる。 溶剂 と し て は、 ト ノレ エ ン 、 キ シ レ ン 、 ェ チ ル セ 口 ソ ル ブァ セ テ ー ト 、 n — プロ ピ ノレ ア ノレ コ ー ノレ、 n — ブチノレ ァ ノレ コ 一 儿、 i 一 ブチノレアノレ コ ール、 n —へキ シルァノレ コ 一ノレ、 ジプロ ピルエーテル、 ジブチルエーテル、 ジ グラ イ ム、 n —ヘプタ ン、 n — オ ク タ ン も し く は メ チノレイ ソ ブチル ケ 卜 ン等が挙げ られる。
付加縮合温度は通常 6 () 〜 ! 2 0 °Cであ り 、 溶剂を用 いる場合、 好ま し 'く は 8 0 〜 1 1 0 °Cの還流条件下であ る。 乂、 反応時間は生成 ノ ボラ ッ ク樹脂の分子量に よ つ て異な るが、 通常約 2 〜 3 0 時間である。
好ま しい生成ノ ボラ ッ ク樹脂ポ リ ス チ レ ン換算重量平 均分子量は 1 0 0 0 〜 1 0 0 0 0 である。
本発明のカ ラ ー フ ィ ルタ ー用感光性樹脂組成物に用 い られる ァ ルカ リ 可溶性樹脂 と しては、 前記ノ ボラ ッ ク樹 脂以外に、 該ノ ボラ ッ ク樹脂 とアル力 リ 可溶性 ビ二ル重 合体 との混合物が挙げ られる。
了 ル力 リ 可溶性 ビニル重合体 と しては、 例えばスチ レ ン と P — ヒ ドロキ シスチ レ ン との共重合体 (丸善石油製 の MARUKAい' NCUR- CST等 ) 、 ス チ レ ン 一無水マ レ イ ン酸共 重合体 ('ア ト ケ ミ 社製の S M A — 2 6 2 5 も し く は S M A - 1 7 3 5 2 等) 、 特公平 3 — 3 9 5 2 8 号公報に記 載のァ ク リ ル系モ ノ マー と p — ビニノレ フ エ ノ 一ノレ との共 重合休 (丸善石油製の MARUKALYNCUR- CMM等) 、 ビニルァ ルコ ール と P — ビニ儿 フ ヱ ノ ール との共重合休 (丸善石 油製の IWARUKALYNCUR-CHM等) 、 メ チル メ タ ク リ レ ー 卜 ( も し く は メ チ ルア タ リ レ 一 卜 ) 一無水マ レ イ ン酸共重 合体、 こ れ らの共重合体 と炭素数 〗 〜 1 0 のアルキル又 は シ ク ロ ア ルキル基を有する アルコ ール との部分エステ ル体又は下式
Figure imgf000014_0001
(式中、 Q , 及び Q 2 は各々 独立 して水素原子又はア ル キル基を表わ し、 Q 3 はアルキル、 ァ リ ール、 アル コ キ シ、 ヒ ド ロ キ シア ルキノレ も し く はア ルキ ノレ 力 ル ボ二ノレォ キ シ基を表わす。 X , 〜 X 5 は少な く と も 1 つは水酸基 であ る と い う 条件付きで各 々 水素原子、 ハロ ゲ ン原子、 アルキル基又は水酸基を表わす。 )
で示さ れる構造を含む共 ffi合休≠の ビニル フ ヱ ノ ー ル共 重合体、 ポ リ ビニル フ エ ノ ー ルを水素添加 した樹脂 (丸 善石油製の MAR UKA LYN C UR - PH S - C等、 或いはポ リ ビ二ル フ エ ノ 一ル (丸善石汕製の MA R UKA LYN C U R - M等) 等が挙げ ら れる。 こ れ らのァ ル力 リ 可溶性 ビニル ffi合体は— 迚で、 又は 2 種以上組合わせて用い られる。 又、 アルカ リ 可溶 性 ビニル重合体は必要に応 じて分子量 5 0 0 〜 1 0 0 0 0 程度の ものを選択する こ とができ る。
カ ラ 一 フ ィ ルタ ー用感光性樹脂組成物に用い られる溶 剤 と しては、 例えば メ チルセ ロ ソ ルブ、 ェチルセ ロ ソ ル ブ、 メ チ ルセ 口 ソ ルブア セ テー ト 、 ェチ ノレセ ロ ソ ルブァ セ テー ト 、 ジエチ レ ン グ リ コ ー ル ジ メ チ ルェ一 テ儿 、 ェ チ レ ン ダ リ コ ー ルモ ノ イ ソ プ ロ ピルエー テ ル、 プ ロ ピ レ ン グ リ コ ー ルモ ノ メ チ ルエー テル、 N, N — ジ メ チ ルァ セ 卜 ア ミ ド、 N — メ チ ノレ ピ ロ リ ド ン 、 ァ 一 ブチ ロ ラ ク 卜 ン、 メ チ ル イ ソ ブチ ルケ ト ン、 メ チ ルェチ ノレケ ト ン 、 シ ク ロ ペ ン 夕 ノ ン 、 シ ク ロ へキサ ノ ン 、 キ シ レ ン 、 2 — へ プ夕 ノ ン、 酢酸ェチル、 酢酸 n — ブチル、 酢酷プロ ピ レ ン グ リ コ ー ルモ ノ メ チ ルエー テル 、 酢酸プ ロ ピ レ ン グ リ コ ー ルモ ノ ェチ ルエー テル 、 乳酸 メ チ ル、 乳酸ェチ ル、 ピル ビ ン酸ェチ ル、 ジ メ チ ル ス ル ホキ シ ド、 ジォキサ ン も し く は ジチ メ ノレホル厶ア ミ ド等が挙げ られる。 こ れ ら の溶剂は単独で、 或いは 2 種以上組合わせて用い られる 染料 と しては例えば、 カ ラ 一 イ ンデ ッ ク スに記載の C. I. Solvent Co 1 ou r等を使用する こ とができ る。 顔料 と しては例えば、 カ ラ ー イ ンデ ッ ク スに記載の I . Pigment Co lour等を使用する こ とができ る。
ポジ型のカ ラ ー フ ィ ルタ ー用感光性樹脂組成物は、 前 記了 ル力 リ 可溶性樹脂、 溶剤、 及び染料又は顔料以外に 架橋剂を含有する こ とが好ま し く 、 さ ら には光酸発生剂 を含冇 していて も よい。
ネ ガ型のカ ラ 一 フ ィ ル タ ー用感光性樹脂組成物は、 前 記アル力 リ 可溶性樹脂、 溶剤及び、 染料又は顔料以外に 架橋剂及び光酸発生剤を含有する こ とが好ま しい。
架橋剤 と しては、 例えば下式
- ( C H 2 ) s O R
(式中、 R は水素原子又は低級ァ ルキル基を表わ し、 έ は 1 〜 4 の'整数を表わす。 ) で示さ れる基を有する 化合 物及び メ ラ ミ ンが挙げ られる。
上式で示される基を有する 化合物 と しては、 例えば下 式 '
Figure imgf000017_0001
〔式中、 Ε , 9は — Ν ( Ε 2 2 ) ( Ε 2 3 ) 又は置換さ れてい て も よぃァ リ ール基を、 E 17、 E 1 S、 E 2 u , E 2 1、 E 2 2 及び E 23は各々 独立 して水素原子又は一 ( C H 2 ) s O R を、 各 々 表わす。 R 及 び s は上記 と 同 じ意味 を有す る。 〕 で示さ れる 化合物、 或いは
Figure imgf000017_0002
C¾?cHa jA( :H20CH3
0< 、c=o
Figure imgf000018_0001
等が挙げ られる。 こ れ らの屮、 一般式 ( IX) で示さ れる 化合物が好ま しい。
E , sで表わさ れる ァ リ ール基 と しては、 例えばフ エ 二 ル、 1 一 ナ フ チル も し く は 2 — ナ フ チル基等が举げ られ 置換基 と しては例えば低級アルキル も し く はァル コ キ シ 基、 ニ ト ロ基又はハロ ゲ ン原子等が挙げ られる。 Rで表 わさ れる低級アルキル基 と して好ま し く は、 例えば メ チ ノレ も し く はェチル基等が挙げられる。
好ま しい一般式 ( IX) で示さ れる 化合物 と しては、 例 えば C ) N
Figure imgf000018_0002
Figure imgf000018_0003
Figure imgf000019_0001
Figure imgf000019_0002
等が举げ られる
一般式 ( I X ) で示される化合物の中、 メ チ ロ ー ル体は メ ラ ミ ン又はべ ン ゾグァナ ミ ン誘導体を、 塩基性条件で ホル厶アルデ ヒ ド と反応させる こ と に よ り 製造する こ と ができ る。 又、 メ チ 口 一 ルェ ー テル体は上記 メ チ ロ ール 体をアルコ ール類と反応させる こ と に よ り 製造する こ と ができ る。 式 ( i ) 及び ( i i ) で示さ れる 化合物は P — ク レ ゾ一ル も し く は 4 一 t e r t - ブチル フ ノ ールを塩基 性条件でホルムアルデ ヒ ド と反応させる こ と に よ り 製造 する こ とができ る。 式 ( i i i ")〜 、 V i ) で示さ れる 化合物 は特開平 1 一 2 9 3 3 3 9 号公報に記載さ れている。
架橋剂は単独で、 或いは 2 種以上混合 して用い られる 光酸発生剤 と しては紫外線等の ^光に よ り酸を発生す る ものであれば特に制限さ れないが、 例えば、 特開昭 6 2 - 1 6 4 0 4 5 、 特開昭 6 3 — 1 5 3 5 4 2 、 特開昭 5 3 - 1 3 3 4 2 8 、 Bul l . Chem. So Japan, 4 2 , 2 9 2 4 ( 1 9 6 9 ) 、 米国特許第 3 9 8 7 0 3 7 号明 細書 も し く は F. C. Schaef er et. aし J. Org. Chem. , 2 9 1 5 2 7 ( 1 9 6 4 .) に記載の化合物、 或いは 英国特許第 1 3 8 8 4 9 2 号明細書に記載の 2 - フ 二 ル ー 4 , 6 — ビス ( ト リ ク ロ ル メ チ ノレ) 一 s — ト リ ア ジ ン 、 2 — ( p — ァ セ チ ノレ フ エ 二 ル ク ー 4 , 6 — ビス ( ト リ ク ロ ノレ メ チ ノレ) 一 s — ト リ ア ジ ン 、 2 — ( p — ク ロ ル フ エ ニ ル ) 一 4 , 6 — ビ ス ( 卜 リ ク ロ ル メ チ ノレ ) 一 s — ト リ 了 ジ ン 、 2 — ( p — ト リ ノレ) 一 4 , 6 — ビ ス ( ト リ ク ロ ノレ ズ チ ノレ) 一 s — 卜 リ ア ジ ン 、 2 — ( p — メ ト キ シ フ エ ニ ル) 一 4 , 6 — ビ ス ( ト リ ク ロ ノレ メ チ ル) 一 s — ト リ ァ ジ ン 、 2 — ( 2 ' , 4 ' ー ジ ク ロ ノレ フ エ ニ ル ) 一 4 , 6 — ビス ( ト リ ク ロ ル メ チ ノレ) 一 s — ト リ ア ジ ン 、 2 , 4 , 6 — 卜 リ ス ( 卜 リ ク ロ ル メ チ ル) 一 s — 卜 リ ア ジ ン 、 2 — メ チ ル 一 4 , 6 — ビ ス ( ト リ ク ロ ル メ チ ノレ ) 一 s — 卜 リ ア ジ ン 、 2 — ( ひ , ひ , /3 — ト リ ク ロ ル ェ チ ル) 一 4 , 6 — ビス ( ト リ ク ロ ノレ メ チ ノレ ) 一 s — ト リ 了 ジ ン 、 2 — n — ノ ニ ノレ ー 4 , 6 — ビス ( 卜 リ ク ロ ノレ メ チ ル) 一 s — 卜 リ ア ジ ン 、 2 — メ チ ノレ ー 4 , 6 — ビ ス ( 卜 リ ブ ロ 厶 メ チ ル) 一 s — 卜 リ ア ジ ン 、 2 , 4 , 6 — ト リ ス ( 卜 リ ブ ロ 厶 メ チ ル ) 一 s — 卜 リ ア ジ ン 、 2 , 4 , 6 — 卜 リ ス ( ジ ブ ロ ム メ チ ル) 一 s — ト リ ア ジ ン 、 2 — ァ ミ ノ ー 4 — メ チ ノレ 一 6 — ト リ ブ ロ ム メ チ ノレ 一 s — ト リ 了 ジ ン 、 2 — メ ト キ シ 一 4 — メ チ ル 一 6 — ト リ ク ロ ノレ メ チ ル 一 s — 卜 リ ァ ジ ン 、 2 — ス チ リ ル 一 4 , 6 — ビ ス ( 卜 リ ク 口 ル メ チ ル) 一 s — ト リ ア ジ ン 、 2 — ( p — メ チ 几 ス チ リ ル) 一 4 , 6 — ビ ス ( ト リ ク ロ ノレ メ チ ル ) 一 s — ト リ ア ジ ン 、 2 — ( p — メ ト キ シ ス チ リ ノレ) 一 4 , 6 — ビス ( ト リ ク ロ ノレ メ チ ノし ) 一 s — 卜 リ ア ジ ン 、 2 — ( p — メ ト キ シ ス チ リ ノレ) 一 4 一 ア ミ ノ ー 6 — 卜 リ ク ロ ノレ メ チ ノし ' 一 s — 卜 リ ア ジ ン 、 2 — ( 4 — メ 卜 キ シ ー ナ フ ト ー 1 一 ィ ル ) ― 4 , 6 — ビ ス 一 卜 リ ク ロ ノレ メ チ ノレ ー s — ト リ ア ジ ン 、 2 一 ( 4 一 エ ト キ シ 一 ナ フ ト ー 1 — ィ ル ) 一 4 , G — ビ ス — ト リ ク ロ ル メ チ ノし■ 一 s — 卜 リ ア ジ ン 、 2 一 〔 ト ( 2 一 エ ト キ ン ェ チ ル) ナ フ ト ー 1 一 ィ ル 〕 一 4 , 6 — ビ ス ( ト リ ク ロ ル メ チ ノレ) 一 s — 卜 リ ア ジ ン 、 2 - ( 4 , 7 ー ジ メ 卜 キ シ 一 ナ フ 卜 一 1 ー ィ ノレ) 一 4 , 6 — ビス ( 卜 リ ク ロ ノレ メ チ ル) 一 s — 卜 リ ア ジ ン 、 も し く は 2 - ( ァ セ ナ フ ト ー 5 — ィ ノレ) 一 4 , 6 — ビス ( 卜 リ ク ロ ル メ チ ル) — s — ト リ ア ジ ン 等の有機ハ ロ ゲ ン 化 物、 特願平 3 一 1 4 2 3 4 4 号 に記載の
Figure imgf000021_0001
Figure imgf000021_0002
Figure imgf000022_0001
Figure imgf000022_0002
Figure imgf000022_0003
Figure imgf000022_0004
CF,S cT 、H
等の 卜 リ フ ルォロ メ タ ン ス ル ホ ン酸エ ス テ ル類も し く は 特願平 3 — 1 2 3 1 6 号記載の
Figure imgf000023_0001
Figure imgf000023_0002
Figure imgf000023_0003
Figure imgf000023_0004
等のァ リ ー ル ス ルホニルァ セ ト フ エ ノ ン類等が '·'·げ ら れ 。
キソ ン ジア ジ ド化合物 と して は、 例え ば 0 — ナ フ ト キ ノノ ンン ジジ ア ジ ト 一 5 — ス ノレ ホ ン酸エス テ ル又はス ル ホ ン ァ ミ ド、 或いは 0 — ナ フ ト キ ノ ン ジ ア ジ ド ー 4 — ス ル ホ ン 酸エス テ ル又は ス ル ホ ン ァ ミ ド等の o — ナ フ ト キ ノ ン ジ
Ύ ジ ド化合物が挙げ られ .る。 こ れ ら のエス テル又 はア ミ ドは、 例えば特開平 2 - 8 4 6 5 0 及び特開平 3 - 4 9 4 3 7 号公報に一般式 ( I ) で記載さ れて い る フ ヱ ノ ー ル化合物等を用いて公知の方法に よ り 製造する こ とがで き る。
ァ ル カ リ 可溶性樹脂 (上記ノ ボラ ッ ク樹脂及びアル 力 リ 可溶性 ビニル重合体) 並びに架橋剤は通常、 溶剂中に 各々 2 〜 5 0 重量%並びに 2 〜 3 0 重量%程度の割合で 溶解させる。 キ ノ ン ジア ジ ド化合物、 光酸発生剤及び染 料 (又は顔料) の使用量は通常、 溶剤に対 して各々 、 2 〜 3 0 、 2 〜 3 0 及び 2 〜 5 0 重量%程度の割合で添加 する。
又、 上記感光性樹脂組成物には '、 例えば均一な塗布性 を付与する ための平滑剤等の当該技術分野で慣用 さ れて いる各種の添加剂を加える こ と もでき る。
ポジ型感光性樹脂組成物は露光に よ り ァ ル力 リ 現像液 に対する溶解度に差が生 じ る こ とを利用 して、 露光部が 除去さ れ、 未露光部がポジ型カ ラ ー フ ィ ル夕 一 と して残 存する ものであ る。 即ち、 上記キ ノ ン ジア ジ ド化合物は 露光に よ り 分解 してアルカ リ 現像液に可溶 とな るが、 一 方、 未露光部では ノ ボラ ッ ク樹脂のア ルカ リ 現像液に対 する溶解を抑制する よ う に作用する。 そ して、 未露光部 を全而露光 した際、 残存 したキノ ン ジア ジ ド化合物は分 解さ れ、 一方、 光酸発生剤が含ま れている場合に、 こ れ は酸を発生 してポジ型カ ラ 一 フ ィ ル タ ーを硬化させる作 用を有する。
一方、 ネ ガ型感光性樹脂組成物にはキ ノ ン ジア ジ ド化 合物が含ま れていないので、 ポジ型感光性樹脂組成物の 場合 と は逆に露光部がネ ガ型カ ラ 一 フ ィ ルタ ー と して残 存する ものである。
露光には、 例えば水銀ラ ン プ等の紫外線、 遠紫外線、 電子線 も し く は X線等が用い られる。
実施例 次に実施例に よ り 本発明を さ らに詳 し く 説明するが、 本発明は こ れ らの実施例に よ っ て何 ら限定さ れる も ので はない。 例中、 部は重量部を示す。
カ ラ ー フ ィ ル タ ーを製造する際、 シ リ コ ン ウ ェハ一 に 感光性樹脂組成物をス ピ ン コ ー ト し、 加熱に よ り 溶剂を 蒸発させた後、 マス ク を通 して露光を行っ た。 次いで、 現像後 (ポジ型カ ラ 一 フ ィ ル夕 一の場合には、 さ らに全 面露光 して) カ ラ 一 フ ィ ルタ ーを得た。 露光は E3立製作 所製 i 線露光ス テ ツ パ - HITACHI LD- 5 0 1 0 - i ( NA = 0. 4 0 ) に よ り 行っ た。 又、 ア ル カ リ 現像液は住友化 学工業 (株) 製 S0PDを用いた。
参考例 1
下式で表わされる化合物 ( 1 ) ( p — 〇 S Tサ イ タ リ ッ ク ダイマ一、 三井東圧製) 5 3. 6 g ( 0. 2 mol)、 5 % シ ユ ウ酸 6. 0 8 g ( 0. 0 0 3 mo 1 )及び 3 7 %ホルマ リ ン 1 3. 0 g ( 0. 1 6 mo 1:)の混合物を加熱、 攪袢 して ノ ボラ ッ ク樹脂 (ポ リ スチ レ ン換算重量平均分子量 3 3 0 0 ) を得た。
Figure imgf000025_0001
参考例 2
m— イ ソ プロぺニル フ エ ノ ー ル 1 08. 5 g及び三 フ ッ 化ホウ素ジェチルエーテル錯体 ( B F 3 含有量 4 7 % ) 4. 4 m 1を ト ルエ ン ( 5 4 0 ml) 中で反応さ せて得 られた 下式で示さ れる 2つの化合物の混合物を fflいてホルムァ ルデ ヒ ド ノ ボラ ッ ク樹脂 ( ポ リ ス チ レ ン換算重量平均分 子量 3 0 0 0 ) を得た。
Figure imgf000026_0001
Figure imgf000026_0002
実施例 1 '
参考例 1 で得た ノ ボラ ッ ク樹脂 1. 0部、 下式
Figure imgf000027_0001
で示さ れる 化合物を用 いて製造 した 0 — ナ フ 卜 キ ノ ン ジ ア ジ ド ー 5 — ス ノレ ホ ン酸ェステル (平均 2 個の水酸基が エステル化されている 0. 6 部、 へキサ メ ト キ シ メ チ 口 — ル化 メ ラ ミ ン 0. 3 部、 ジ メ チ ル ホ ルムア ミ ド 3 部、 乳 酸ェチル 4 部及び田岡化学製 01 eoso 1 Fast Blue Rし 0.75部の混合物を メ ン ブ ラ ン フ ィ ル 夕 一を用いて加圧濾 過 して シア ン色ポジ型感光性樹脂組成物を得た。
こ の組成物を シ リ コ ン ゥ エ ノヽ 一 に ス ピ ン コ ー ト 、 露光 了 ル カ リ 現像 して 0. 8 / m の解像度を有する シア ン色ポ ジ型パタ ー ンを得た。 こ のポジ型パ夕 一 ンを全面露光後
1 5 0 °Cで 1 0 分加熱 して硬化さ せた。 こ の よ う に して 得 られたカ ラ ー フ ィ ル タ ーは 2 0 0 °Cで 4 0 分加熱 して も変色せず、 4 0 0 こ おける透明度 (光透過性) が優 れて いた。
実施例 2
参考例 1 で得た ノ ボラ ッ ク樹脂に代えて参考例 2 で得 た ノ ポラ ッ ク樹脂を用いる以外は、 実施例 1 と 同様に し て シア ン色ポ ジ型感光性樹脂組成物を得た。 こ の組成物を シ リ コ ン ウ ェハ— に ス ピ ン コ ー ト 、 露光 ア ルカ リ 現像 して 0 . 8 m の解像度を有する シ ア ン 色ポ ジ型パタ ー ンを得た。 こ のポジ型パ タ ー ンを全面露光後 1 5 0 °Cで 1 0 分加熱 して硬化させた。 こ のよ う に して 得 ら れた カ ラ 一 フ ィ ル タ 一 は 2 0 0 °Cで 4 0 分加熱 して も変色せず、 4 0 O n mにおける透明度 (光透過性) が優 れていた。
実施例 3
' ジ メ チ ル ホ ル ムア ミ ド及び乳酸ェチ ルの混合物に代え て ジ メ チ ル ホ ルム ア ミ ド Zェチ ルセ 口 ソ 儿'ブァ セ テ 一 卜 (比率 1 Z 1 ) を用い、 しか も o — ナフ ト キ ノ ン ジア ジ ド一 5 — ス ルホ ン酸エス テルを加えず、 且つ下式
Figure imgf000028_0001
で示さ れる光酸発生剤 0 . 2 部を加える以外は、 実施例 1 と同様に して シア ン色ネ ガ型感光性樹脂組成物を得た。
こ の組成物を シ リ コ ン ウ ェハ ー に ス ピ ン コ ー ト し、 露 光後 1 2 0 °Cで 2 分加熱 し、 次いでァ ル力 リ 現像 して ϋ . 8 a m の解像度を有する シア ン色カ ラ 一 フ ィ ル タ ーを得 た。 こ の よ う に して得 ら れた カ ラ 一 フ ィ ル タ 一 は 2 0 0 °Cで 4 0 分加熱 して も変色せず、 4 0 0 n mにおける透明 度 (光透過性) が優れていた。 比較例 1
m — ク レ ゾ 一 ル/ ρ — ク レ ゾ 一 ノレノホ ル ム ァ ル デ ヒ ド (反応モ ル比 = 5 Ζ 5 Ζ 7. 5 ) 混合物か ら得 られた ノ ボ ラ ッ ク樹脂 ( ポ リ ス チ レ ン換算重量平均分子量 4 3 0 5 0 ) を用いる以外は、 実施例 1 と同様に して得た シ ア ン 色ポジ型感光性樹脂組成物を実施例 2 と同様に操作 して シア ン色カ ラ 一 フ ィ ル夕 一を得た。 こ のよ う に して得 ら れたカ ラ 一 フ ィ ノレ夕 一を 2 0 0 °Cで 4 0 分加熱 した と こ • ろ、 4 0 0 nmにおける光透過性 (透過率) 力 1 5 96低下0 した。
実施例 4
参考例 1 で得た ノ ボラ ッ ク樹脂 0. 4 7 部、 丸善石油 (株) 製 Marukalyncur- CST— 7 0 (分子量約 2 3 0 0 ) 0. 7 部、 実施例 1 で用いた 0 — ナ フ ト キ ノ ン ジア ジ ド— 5 — スルホ ン酸エステル 0. 6 部、 へキサ メ ト キ シ メ チ 口 — ノレ化 メ ラ ミ ン 0. 3 部、 ジ メ チ ル ホ ル ム ア ミ ド 3 部、 乳 酸ェチル 4 部及び田岡化学 (株) 製染料 Oleosol Fast Blue RL 0. 7 5 部の混合物を メ ンブラ ン フ ィ ノレ 夕 一を用 いて加圧濾過 して シ 了 ン色ポ ジ型感光性樹脂組成物を得 た。
こ れを シ リ コ ン ウェハーにス ピ ン コ 一 卜 し、 次いで露 光後、 現像液で露光部を除去 して 0. 8 u m の解像度を有 する ポジ型着色パタ ー ン を得た。 こ れを全面露光 し、 次 いで 1 5 0 °Cで 1 0 分加熱 して シ ア ン色カ ラ ー フ ィ ル 夕 —を得た。 こ のカ ラ 一 フ ィ ル 夕 一を 2 0 0 °Cで 4 時間加 熱 して も変色せず、 又 4 0 0 nmにおける透過率 も殆 ど変 化 しなかつ た。
実施例 5
Marukalyncur-CST- 7 0 に代えて丸善石汕 (株) 製 Marukal yncur-CM (分子量約 5 3 0 0 ) を fflいる以外は 実施例 4 と同様に して シア ン色カ ラ ー フ ィ ルタ ーを得、 解像度、 耐熱性及び透過率について も同 じ結果であ つ た 実施例 6
Marukalyncur-CST- 7 0 に代えて丸善石汕 (株) 製 arukalyncur-PHS-C (分子量約 5 0 0 0 ) を川いる以外 は、 実施例 4 と同様に して シア ン色カ ラ 一 フ ィ ルタ ーを 得、 解像度、 耐熱性及び透過率について も同 じ結果であ つ 7こ o
実施例 7
o — ナ フ ト キ ノ ン ジア ジ ド一 5 — スルホ ン酸エステル (キ ノ ン ジア ジ ド化合物:) に代えて実施例 3 で用いた光 酸発生剤 0. 2 部を用い、 £iつ、 ジ メ チルホルムア ミ ド及 び乳酸ェチルの混合物に代えて ジ メ チルホルムァ ミ ド Z ェチルセ 口 ソ ルブアセテー ト (比率 1 1 ) 用いる以外 は、 実施例 4 と同様に して シア ン色ネ ガ型感光性樹脂組 成物を得た。
こ れを シ リ コ ン ウェハ一にス ピ ン コ ー ト し、 次いで露 光後、 1 2 0 °Cで 2 分加熱 し、 その後、 現像液で未露光 部を除去 して 0. 8 m の解像度を有する ネ ガ型 シア ン色 カ ラ 一 フ ィ ル タ ー を得た。 こ の カ ラ ー フ イ ノレ タ ー ^ · 2 0 0 °Cで 4 時間加熱 して も変色せず、 又 4 0 0 ii mにおける 透過率 も殆 ど変化 しなかつ た。
比較例 2
参考例 1 で得た ノ ボラ ッ ク樹脂に代えて m — ク レ ゾ一 ル / p — ク レ ゾ―ル /ホル厶ァルデ ヒ ド (反応モル比 = 5 X 5 / 7. 5 ) 混合物か ら得 られた ノ ボラ ッ ク樹脂 (ポ リ スチ レ ン換算重量平均分子量 4 3 0 0 ) を fflいる以外 は、 実施例 4 と同様に して シア ン色ポジ型カ ラ ー フ ィ ル 夕 一を得た。 (解像度は 0 . 8 〃 m )。 こ のカ ラ ー フ ィ ル夕 —を 2 0 0 °Cで 4 時間加熱 した と こ ろ、 4 0 0 n mにおけ る透過率が 1 0 %低下 した。
実施例 8
参考例 1 で得た ノ ボラ ッ ク樹脂 1 . 0 部、 下式
Figure imgf000031_0001
で示さ れる 化合物を用いて製造 した 0 — ナ フ ト キ ノ ン ジ ァ ジ ド一 5 — スルホ ン酸エステル (平均 2 個の水酸基が エステル化されている) 0 . 6 部、 へキサ メ ト キ シ メ チ 口 —ル化メ ラ ミ ン 0. 3 部、 ェチルセ 口 ソ ルブァセ一テ ト 1 0 部及び下記顔料分散液 6 部の混合物を メ ンブラ ン フ ィ ルタ ーを用いて加圧濾過 して青色ポジ型感光性樹脂組成 物を得た。
こ の組成物を シ リ コ ン ウ エノ、一 に ス ピ ン コ ー ト 、 露光 アル力 リ 現像 して 5 a m の解像度を有する青色ポジ型パ タ ー ンを得た。 こ のポジ型パタ ー ンを全面露光後、 1 5 0 °Cで 1 0 分加熱 して硬化させた。 こ のよ う に して得 ら れたカ ラ ー フ ィ ゾレ夕 一は 2 0 0 °Cで 4 0 分加熱 して も変 色せず、 4 0 0 nmにおける透明度 (光透過性) が優れて いた。
顔料分散液の調製
C. I. Pigment Blue 15 及び 【. Pigment Violet 2 3 の混合物 (組成比 = 9 5 5 ) 2 0 部、 ソ ル ビ夕 ン 系分散剤 5 部及びェチルセ 口 ソ ルプアセ テ 一 ト 7 5 部を 予備混練 り 後、 ビーズ ミ ル法によ り青色分散液を調製 し た。
実施例 9
参考例 1 で得た ノ ボラ ッ ク樹脂に代えて参考例 2 で得 た ノ ボラ ッ ク樹脂を用いた以外は、 実施例 8 と同様に し て青色ポジ型感光性樹脂組成物を得た。
こ の組成物を シ リ コ ン ウ ェハー に ス ピ ン コ ー 卜 、 露光 アル力 リ 現像 して 5 U m の解像度を有する青色ポジ型パ タ ー ンを得た。 こ のポジ型パタ ー ン を全面露光後、 1 5 0 てで 1 0 分加熱 して硬化させた。 こ の よ う に して得 ら れたカ ラ ー フ ィ ルタ 一は 2 0 0 °Cで 4 0 分加熱 して も変 色せず、 4 0 O nmにおける透明度 (光透過性) が優れて いた。
実施例 1 0
o — ナ フ ト キ ノ ン ジア ジ 5 — ス ル ホ ン酸エステル を加えず、 且つ下式
Figure imgf000033_0001
で示さ れる光酸発生剤 0. 2 部を加える以外は、 実施例 8 と同様に して青色ネ ガ型感光性樹脂組成物を得た。
こ の組成物をシ リ コ ン ゥ ェハー に ス ピ ン コ ー ト し、 露 光後 1 2 0 °Cで 2 分加熱 し、 次いでアルカ リ 現像 して 5 m の解像度を有する青色カ ラ 一 フ イ ノレ タ ー を得た。 こ のよ う に して得 られたカ ラ — フ ィ ノレ 夕 一 は 2 0 0 °Cで 4 0 分加熱 して も変色せず、 4 0 0 ii mにおける透明度 (光 透過性) が優れていた。
比較例 3 .
m — ク レ ゾ一 ノレ / p — ク レ ゾ一 ル /ホ ル ム ア ルデ ヒ ド (反応モ ル比 = 5 Z 5 Z 7. 5 ) 混合物か ら得 られた ノ ボ ラ ッ ク樹脂 ( ポ リ ス チ レ ン換算重量平均分子量 4 3 0 0 ) を用いる以外は、 実施例 8 と同様に して得た青色ポ ジ型感光性樹脂組成物を実施例 2 と同様に操作 して青色 カ ラ 一 フ イ ノレタ ーを得た。 こ のよ う に して得 られたカ ラ 一 フ ィ ル タ ーを 2 0 0 °Cで 4 0 分加熱 した と こ ろ、 4 0 0 nmにおける光透過性 (透過率) が 1 5 %低下 した。 実施例 1 1
参考例 1 で得た ノ ボラ ッ ク樹脂 0. 4 7 部、 丸善石汕 (株) 製 Maruka ncur- CST— 7 0 (分子量約 2 3 0 0 ) 0. 7 部、 実施例 1 で用いた 0 — ナ フ ト キ ノ ン ジア ジ ド— 5 — ス ルホ ン酸エス テル 0. 6 部、 へキサ メ ト キ シ メ チ 口 —ル化メ ラ ミ ン 0. 3 部、 ェチルセ 口 ソ ルブァセテー 卜 1 0 部、 及び実施例 8 で用いた顔料分散液 6 部の混合物を メ ンブラ ン フ ィ ルタ ーを用いて加圧濾過 して青色ポジ型 感光性樹脂組成物を得た。
こ れをシ リ コ ン ウェハ一にス ピ ン コ ー ト し、 次いで露 光後、 アルカ リ 現像液で露光部を除去 して 5 / m の解像 度を存する ポジ型着色パタ ー ンを得た。 こ れを全面露光 し、 次いで 1 5 0 °Cで 1 0 分加熱 して青色カ ラ 一 フ ィ ル 夕 一を得た。 こ のカ ラ ー フ イ ノレタ ーを 2 0 0 °Cで 4 時間 加熱 して も変色せず、 又 4 0 0 nmにおける透過率 も殆 ど 変化 しなかっ た。
実施例 1 2
arukalyncur-CST- 7 0 に代えて丸善石油 (株) 製 Marukalyncur-CMM (分子量約 5 3 0 0 ) を用いる以外は 実施例 1 1 と同様に して青色カ ラ ー フ ィ ルタ 一を得、 解 像度、 耐熱性及び透過率について も同 じ結果であ っ た。 実施例 1 3
Marukalyncur-CST- 7 0 に代えて丸善石油 (株) 製 Marukalyncur-PHS-C (分子量約 5 0 0 0 ) を用いる以外 は、 実施例 1 1 と同様に して青色カ ラ ー フ ィ ルタ ーを得 解像度、 耐熱性及び透過率について も同 じ結果であ っ た 実施例 1 4
0 — ナ フ ト キ ノ ン ジア ジ ド ー 5 — ス ル ホ ン酸エス テ ル (キ ノ ン ジア ジ ド化合物) に代えて実施例 1 0 で用 いた 光酸発生剤 0 . 2 部を用いる以外は、 実施例 1 1 と同様に して青色ネ ガ型感光性樹脂組成物を得た。
こ れを シ リ コ ン ウェハーにス ピ ン コ 一 卜 し、 次いで露 光後、 1 2 0 °Cで 2 分加熱 し、 そ の ¾、 現像液で未露光 部を除去 して 5 m の解像度を有する ネ ガ型青色カ ラ 一 フ ィ ル 夕 一を得た。 こ の カ ラ 一 フ ィ ノレ 夕 一を 2 0 0 °Cで 4 時間加熱 して も変色せず、 又 4 0 0 π πιにおける透過率 も殆 ど変化 しなかっ た。
比較例 4
参考例 1 で得た ノ ボラ ッ ク樹脂に代えて m — ク レ ゾ一 ル / p — ク レ ゾー ル Zホ ルム ア ルデ ヒ ド (反応モ ル比 5 / 5 / 7.' 5 ) .混合物か ら得 られた ノ ボラ ッ ク樹脂 (ポ リ ス チ レ ン換算重量平均分子量 4 3 0 0 ) を用 いる以外 は、 実施例 1 1 と同様に して青色ポジ型カ ラ ー フ ィ ル夕 —を得た。 (解像度は 5 〃 m )。 こ の力'ラ ー フ ィ ル夕 一を 2 0 0 °Cで 4 時間加熱 した と こ ろ、 4 0 0 n mにおけ る透 過率が 1 5 %低下 した。
産業上の利用可能性
本発明の感光性樹脂組成物を用いる こ と に よ り 解像度 . 耐熱性及び透明度に優れたカ ラ 一 フ ィ ノレ 夕 一が得 ら.れる ,

Claims

1 . 般式 ( I )
二青
Figure imgf000036_0001
〔式中、 R , 〜 R 5 は各々 独立 して水素原子、 ハロ ゲ ン 原子、 置換されていて も よい直鎖 も し く は分岐状のアル キル又はアルケニル基或いはァセチル基を表わす。 R 6
R 7
I
及び R 7 は、 一 C —— 基が— 0 H基に対 し 0 位又は
R 6
P 位に配位 している とい う 条件付きで各々 水素原子、 置 換されていて も よ いアルキル基、 ベ ン ジル基又はフ ェ ニ ル基を表わす。 〕 、 一般式 ( I I )
Figure imgf000036_0002
〔式中、 R 8 〜 R , 3は各々 独立 して水素原子、 ハ ロ ゲ ン 原子、 置換されていて も よい直鎖 も し く は分岐状のア ル キル又はアルケニル基或いはァセチル基を表わす。 R 1 4
1
I
およ び R , 5は、 一 C —— 基が— 〇 Η基に対 し 0 位又
I
I 5
は Ρ 位に配位 してい とい う 条件付きで各々 水素原子、 置換さ れていて も よい ルキル基、 ベ ン ジル基又は フ ェ 二ル基を表わす。 〕 及び一般式 ( I I Π
Figure imgf000037_0001
〔式中、 R 1 6〜 R 2 1は各々 独立 して水素原子、 ハロ ゲ ン 原子、 置換さ れていて も よい直鎖 も し く は分岐状のア ル キル又はアルケニル基或いはァセチル基を表わす。 R 2 2
2 2
I
およ び R 2 3は、 一 C —— 基が— 0 H基に対 し 0 位又
2 3
は P 位に配位 している と い う 条件付きで各々 水素原子、 置換されていて も よいアルキル基、 ベ ン ジル基又は フ エ 二ル基を表わす。 〕 で示さ れる群の中か ら選ばれる少な く と も 1 種の繰返 し単位を含み、 且つ分子量が約 1 0 0 0 〜 5 0 0 0 0 の ノ ボラ ッ ク樹脂、 溶剤並びに、 染料又 は顔料を含むこ どを特徴 とする カ ラ ー フ ィ ル タ ー用感光 性樹脂組成物。
2 . さ らに、 アルカ リ 可溶性 ビニル重合体を含有する 請求項 1 に記載のカ ラ ー フ ィ ルタ ー用感光性樹脂組成物
3 . アルカ リ 可溶性 ビニル重合体がポ リ ビニル フ エ ノ —ル、 ポ リ ビニルフ ヱ ノ ールを水素添加 した樹脂又は ビ ニルフ ノ ール共重合体であ る請求項 2 に記載のカ ラ 一 フ ィ ルタ 一用感光性樹脂組成物。
4 . キ ノ ン ジア ジ ド化合物を含有する請求項 1 〜 3 の いずれかに記載のカ ラ ー フ ィ ルタ ー用感光性樹脂組成物,
5 . 架橋剤を含有する請求項 1 〜 4 のいずれかに記載 のカ ラ ー フ ィ ル夕 一用感光性樹脂組成物。
6. さ らに、 光酸発生剤を含有する請求項 1 〜 5 のい ずれかに記載のカ ラ ー フ ィ ルタ ー用感光性樹脂組成物。
7. キ ノ ン ジア ジ ド化合物力 o — ナ フ ト キ ノ ン ジア ジ ド化合物である請求項 4 〜 6 のいずれかに記載のカ ラ ー フ ィ ルタ ー用感光性樹脂組成物。
8 . 架橋剤が、 下式
- ( C H 2 ) s O R
(式中、 s は 1 〜 4 の整数を表わ し、 R は水素原子又は 低級アルキル基を表わす。 ) で示される基を有する 化合 物であ る請求項 5 〜 7 のいずれかに記載の力 ラ ー フ ィ ル タ 一用感光性樹脂組成物。
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