TWI827386B - 發光裝置 - Google Patents

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TWI827386B
TWI827386B TW111146215A TW111146215A TWI827386B TW I827386 B TWI827386 B TW I827386B TW 111146215 A TW111146215 A TW 111146215A TW 111146215 A TW111146215 A TW 111146215A TW I827386 B TWI827386 B TW I827386B
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Abstract

本發明提供一種可攜性好的發光裝置。還提供一種一覽性強的發光裝置。本發明的一個方式是一種在第一方向上交替配置有帶狀的高撓性區域和帶狀的低撓性區域的發光裝置，其中，該高撓性區域包括具有撓性的發光面板，並且，該低撓性區域以重疊的方式包括其撓性低於發光面板的支撐面板和發光面板。發光面板包括外部連接電極，與該外部連接電極重疊的低撓性區域A的第一方向長度長於最靠近區域A的低撓性區域B的第一方向長度。

Description

發光裝置
本發明係關於一種發光裝置、顯示裝置、電子裝置、照明設備或其製造方法。尤其係關於一種利用電致發光(Electroluminescence，以下也稱為EL)現象的發光裝置、顯示裝置、電子裝置、照明設備或其製造方法。
近年來，發光裝置或顯示裝置被期待應用於各種用途，並被要求多樣化。
例如，用於移動設備等的發光裝置或顯示裝置需要為薄型、輕量且不易損壞等。
利用EL現象的發光元件(也表示為“EL元件”)具有容易實現薄型輕量化；能夠高速地回應輸入信號；以及能夠使用直流低電壓電源而驅動等的特徵，並且正在研究將其應用於發光裝置或顯示裝置。
例如，專利文獻1公開了在薄膜基板上具備用作切換元件的電晶體以及有機EL元件的具有撓性的主 動矩陣型發光裝置。
[專利文獻1] 日本專利申請公開第2003-174153號公報
例如，當為了提高可攜性而使顯示裝置小型化導致顯示區域變小時，一次能顯示的信息量減少，導致一覽性的降低。
本發明的一個方式的目的之一是提供一種可攜性好的發光裝置、顯示裝置、電子裝置或照明設備。另外，本發明的一個方式的目的之一是提供一種一覽性強的發光裝置、顯示裝置或電子裝置。另外，本發明的一個方式的目的之一是提供一種可攜性好且一覽性強的發光裝置、顯示裝置或電子裝置。
本發明的一個方式的目的之一是提供一種新穎的發光裝置、顯示裝置、電子裝置或照明設備。另外，本發明的一個方式的目的之一是提供一種輕量的發光裝置、顯示裝置、電子裝置或照明設備。另外，本發明的一個方式的目的之一是提供一種可靠性高的發光裝置、顯示裝置、電子裝置或照明設備。另外，本發明的一個方式的目的之一是提供一種不易損壞的發光裝置、顯示裝置、電子裝置或照明設備。另外，本發明的一個方式的目的之一是提供一種厚度薄的發光裝置、顯示裝置、電子裝置或照 明設備。另外，本發明的一個方式的目的之一是提供一種具有撓性的發光裝置、顯示裝置、電子裝置或照明設備。另外，本發明的一個方式的目的之一是提供一種具有無縫拼接的較大的發光區域的發光裝置或照明設備，或者提供一種具有無縫拼接的較大的顯示區域的顯示裝置或電子裝置。另外，本發明的一個方式的目的之一是提供一種耗電量低的發光裝置、顯示裝置、電子裝置或照明設備。
注意，本發明的一個方式並不需要實現所有上述目的。
在本發明的一個方式的發光裝置中，交替配置有帶狀的高撓性區域和帶狀的低撓性區域。藉由彎曲高撓性區域，能夠折疊該發光裝置。本發明的一個方式的發光裝置在折疊狀態下具有較好的可攜性，在展開狀態下因為具有無縫拼接的較大的發光區域而具有較強的一覽性。藉由應用本發明的一個方式，能夠提高裝置的可攜性而沒有減少發光區域或顯示區域的面積。
明確而言，本發明的一個方式是一種發光裝置，包括：具有撓性的發光面板；以及支撐該發光面板且相互隔開的多個支撐面板，其中，該支撐面板的撓性低於該發光面板。
本發明的一個方式是一種在第一方向上交替配置有帶狀的高撓性區域和帶狀的低撓性區域的發光裝置，其中，該高撓性區域包括具有撓性的發光面板，並且，該低撓性區域以重疊的方式包括其撓性低於發光面板 的支撐面板和發光面板。
較佳的是，採用上述結構的發光裝置包括其撓性高於支撐面板的保護層，並且高撓性區域以及低撓性區域以重疊的方式包括發光面板和保護層。
本發明的一個方式是一種在第一方向上交替配置有帶狀的高撓性區域和帶狀的低撓性區域的發光裝置，其中，該高撓性區域包括具有撓性的發光面板，並且，該低撓性區域包括其撓性低於發光面板的支撐面板以及由支撐面板保持的發光面板。
較佳的是，採用上述結構的發光裝置包括一對保護層，其中該保護層的撓性高於支撐面板，並且在低撓性區域中一對保護層由支撐面板保持，發光面板位於一對保護層之間。
本發明的一個方式是一種在第一方向上交替配置有帶狀的高撓性區域和帶狀的低撓性區域的發光裝置，其中，該高撓性區域包括具有撓性的發光面板，該低撓性區域包括一對支撐面板以及該一對支撐面板之間的發光面板，並且，該支撐面板的撓性低於發光面板。
較佳的是，採用上述結構的發光裝置包括一對保護層，其中該保護層的撓性高於支撐面板，並且在低撓性區域中，一對保護層位於一對支撐面板之間，發光面板位於一對保護層之間。
另外，在具有上述各結構的發光裝置中，當連續的兩個高撓性區域中的一方向內彎曲而另一方向外彎 曲時，將一方的高撓性區域內的發光面板的曲率半徑作為半徑的圓形以及將另一方的高撓性區域內的發光面板的曲率半徑作為半徑的圓形較佳為在向平行於支撐該發光裝置的平面的方向移動時重疊。
注意，在本說明書中，當以發光面板的發光面位於內側的方式彎曲時記載為“向內彎曲”，當以發光面板的發光面位於外側的方式彎曲時記載為“向外彎曲”。另外，發光面板或發光裝置中的發光面是指提取來自發光元件的光的面。
此外，在採用上述結構的發光裝置中，較佳的是，當在多個高撓性區域中，向內彎曲和向外彎曲交替反復進行時，將最靠近該發光裝置的支撐平面的發光面板的面與最遠離該支撐平面的發光面板的面之間的最短距離L表示為L<2(D+T)。在此，D表示多個高撓性區域內的發光面板的曲率半徑的總和，並且T表示發光面板的厚度。
另外，在具有上述各結構的發光裝置中，較佳的是，發光面板包括外部連接電極，與該外部連接電極重疊的低撓性區域A的第一方向長度長於最靠近區域A的低撓性區域B的第一方向長度。
此外，在上述各發光裝置中，較佳的是，在區域A、區域B以及最遠離區域A的低撓性區域C當中，區域A的第一方向長度是最長的，而區域C的第一方向長度是第二長的。
在上述各發光裝置中，較佳的是，在多個低撓性區域當中，區域A的第一方向長度是最長的。
另外，使用具有上述各結構的發光裝置的電子裝置以及照明設備也是本發明的一個方式。另外，具有上述各結構的發光裝置自身有時用作電子裝置或照明設備。
此外，本說明書中的發光裝置包括使用發光元件的顯示裝置。另外，發光元件安裝有連接器諸如各向異性導電薄膜或TCP(Tape Carrier Package：帶載封裝)的模組、在TCP端部設置有印刷線路板的模組或者藉由COG(Chip On Glass：晶粒玻璃接合)方式在發光元件上直接安裝有IC(積體電路)的模組也都包括在發光裝置中。再者，本說明書中的發光裝置還包括用於照明設備等的發光裝置。
根據本發明的一個方式，能夠提供一種可攜性好的發光裝置、顯示裝置、電子裝置或照明設備。根據本發明的一個方式，能夠提供一種一覽性強的發光裝置、顯示裝置或電子裝置。根據本發明的一個方式，能夠提供一種可攜性好且一覽性強的發光裝置、顯示裝置或電子裝置。
根據本發明的一個方式，能夠提供一種新穎的發光裝置、顯示裝置、電子裝置或照明設備。另外，根據本發明的一個方式，能夠提供一種輕量的發光裝置、顯示裝置、電子裝置或照明設備。另外，根據本發明的一個 方式，能夠提供一種可靠性高的發光裝置、顯示裝置、電子裝置或照明設備。另外，根據本發明的一個方式，能夠提供一種不易損壞的發光裝置、顯示裝置、電子裝置或照明設備。另外，根據本發明的一個方式，能夠提供一種厚度薄的發光裝置、顯示裝置、電子裝置或照明設備。另外，根據本發明的一個方式，能夠提供一種具有撓性的發光裝置、顯示裝置、電子裝置或照明設備。另外，根據本發明的一個方式，能夠提供一種具有無縫拼接的較大的發光區域的發光裝置或照明設備，或者能夠提供一種具有無縫拼接的較大的顯示區域的顯示裝置或電子裝置。另外，根據本發明的一個方式，能夠提供一種耗電量低的發光裝置、顯示裝置、電子裝置或照明設備。
11:發光面板
11a:發光區域
11b:非發光區域
13:保護層
13a:保護層
13b:保護層
15:支撐面板
15a:支撐面板
15b:支撐面板
101:元件層
103:基板
104:光提取部
105:黏合層
106:驅動電路部
108:FPC
108a:FPC
108b:FPC
156:導電層
157:導電層
201:基板
202:基板
203:黏合層
205:絕緣層
207:絕緣層
208:導電層
209:絕緣層
209a:絕緣層
209b:絕緣層
211:絕緣層
212:導電層
213:密封層
215:連接器
215a:連接器
215b:連接器
217:絕緣層
230:發光元件
231:下部電極
233:EL層
235:上部電極
240:電晶體
255:絕緣層
257:遮光層
259:著色層
261:絕緣層
270:導電層
271:p型半導體層
272:導電層
273:i型半導體層
274:導電層
275:n型半導體層
276:絕緣層
278:絕緣層
280:導電層
281:導電層
283:導電層
291:絕緣層
292:導電粒子
293:絕緣層
294:導電層
295:絕緣層
296:導電層
301:形成用基板
303:剝離層
305:形成用基板
307:剝離層
310a:導電層
310b:導電層
401:基板
403:基板
405:空間
在圖式中：
[圖1A]至[圖1C]是說明發光裝置的圖；
[圖2]是說明發光裝置的圖；
[圖3A]至[圖3F]是說明發光裝置的圖；
[圖4A]至[圖4D]是說明發光裝置的圖；
[圖5A]至[圖5D]是說明發光裝置的圖；
[圖6A]和[圖6B]是說明發光裝置的圖；
[圖7A]和[圖7B]是說明發光面板的圖；
[圖8A]和[圖8B]是說明發光面板的圖；
[圖9A]和[圖9B]是說明發光面板的圖；
[圖10A]和[圖10B]是說明發光面板的圖；
[圖11A]至[圖11C]是說明發光面板的製造方法的圖；
[圖12A]至[圖12C]是說明發光面板的製造方法的圖；
[圖13]是說明發光面板的圖；
[圖14A]至[圖14C]是說明發光裝置的圖；
[圖15]是說明發光裝置的圖；
[圖16A]至[圖16F]是說明發光裝置的圖；
[圖17A]和[圖17B]是說明發光裝置的圖；
[圖18A]和[圖18B]是說明發光面板的圖；
[圖19A]至[圖19D]是說明發光裝置的圖；
[圖20A]至[圖20C]是說明發光裝置的圖；
[圖21A]至[圖21C]是說明發光裝置的圖；
[圖22]是說明發光裝置的圖。
參照圖式對實施方式進行詳細的說明。注意，本發明不侷限於下面說明，所屬技術領域的普通技術人員可以很容易地理解一個事實就是其方式及詳細內容在不脫離本發明的精神及其範圍的情況下可以被變換為各種各樣的形式。因此，本發明不應該被解釋為僅限定在下面所示的實施方式所記載的內容中。
另外，在下面說明的發明的結構中，在不同 圖式之間共同使用同一元件符號來表示同一部分或具有同一功能的部分，而省略其重複說明。此外，當表示具有相同功能的部分時有時使用相同的陰影線，而不特別附加元件符號。
另外，為了便於理解，有時在圖式等中示出的各結構的位置、大小及範圍等並不表示其實際的位置、大小及範圍等。因此，所公開的發明不一定侷限於圖式等所公開的位置、大小、範圍等。
實施方式1
在本實施方式中，說明本發明的一個方式的發光裝置。
在本發明的一個方式的發光裝置中，交替配置有帶狀的高撓性區域和帶狀的低撓性區域。藉由彎曲高撓性區域，能夠折疊該發光裝置。本發明的一個方式的發光裝置在折疊狀態下具有較好的可攜性，在展開狀態下因為具有無縫拼接的較大的發光區域而具有較強的一覽性。
在本發明的一個方式的發光裝置中，高撓性區域可以藉由向內彎曲或向外彎曲。
當不使用本發明的一個方式的發光裝置時，藉由以發光面板的發光面位於內側的方式彎曲，能夠抑制發光面受傷或弄髒。
當使用本發明的一個方式的發光裝置時，既可以藉由展開使用整個無縫拼接的較大的發光區域，又可 以藉由以發光面板的發光面位於外側的方式彎曲使用該發光區域的一部分。藉由將被折疊的使用者看不到的發光區域作為非發光區域，能夠抑制發光裝置的耗電量。
下面，以包括兩個帶狀的高撓性區域以及三個帶狀的低撓性區域且能夠折疊成三折的發光裝置為例進行說明。
圖1A示出展開狀態的發光裝置。圖1B示出從展開狀態變成折疊狀態或從折疊狀態變成展開狀態的途中狀態的發光裝置。圖1C示出折疊狀態的發光裝置。圖2是示出發光裝置的各構成要素的透視圖。圖3A是發光裝置的發光面一側的平面圖，圖3B是與發光裝置的發光面相對的面一側的平面圖。圖3C、圖3D和圖3F是從箭頭方向觀看圖3A所示的發光裝置時的側視圖的一個例子。圖3E是圖3A中的鎖鏈線A-B間的剖面圖。圖4A、圖4C和圖4D是從箭頭方向觀看圖1C所示的發光裝置時的側視圖的一個例子。
另外，圖14A至圖14C分別示出圖1A至圖1C的變形例子。圖14A示出展開狀態的發光裝置。圖14B示出從展開狀態變成折疊狀態或從折疊狀態變成展開狀態的途中狀態的發光裝置。圖14C示出折疊狀態的發光裝置。圖15是示出發光裝置的各構成要素的透視圖。圖16A是發光裝置的發光面一側的平面圖，圖16B是與發光裝置的發光面相對的面一側的平面圖。圖16C和圖16D是從箭頭方向觀看圖16A所示的發光裝置時的側視圖的一 個例子。圖16E是圖16A中的鎖鏈線A-B間的剖面圖。圖16F是圖16C等所示的發光裝置的變形例子。
圖1A至圖1C以及圖14A至圖14C所示的發光裝置包括具有撓性的發光面板11。該發光裝置還包括多個支撐面板15a以及多個支撐面板15b。各支撐面板15a、15b的撓性低於發光面板11。多個支撐面板15a相互隔開。多個支撐面板15b相互隔開。
如圖3A所示，在發光裝置中，交替配置有高撓性區域E1和低撓性區域E2。將高撓性區域以及低撓性區域分別形成為帶狀(條紋狀)。本實施方式示出多個高撓性區域以及多個低撓性區域相互平行的例子，但是各區域也可以不平行地配置。
發光裝置中的高撓性區域E1至少包括具有撓性的發光面板即可。使用有機EL元件的發光面板是尤其較佳的，因為該發光面板除了高撓性以及高耐衝擊性之外還能夠實現薄型輕量化，所以是較佳的。關於發光面板的結構的例子，將在實施方式2及實施方式3中進行詳細的說明。
發光裝置中的低撓性區域E2以重疊的方式至少包括具有撓性的發光面板以及其撓性低於該發光面板的支撐面板，即可。
如圖16A所示，在發光裝置中，在一個方向上交替配置有高撓性區域和低撓性區域。
在圖16A中，將高撓性區域以及低撓性區域 排列的方向上的低撓性區域的長度表示為長度W1至長度W3。
另外，低撓性區域較佳為包括發光面板所具有的外部連接電極。在此，外部連接電極例如相當於圖7B所示的導電層157等。
在圖16A中，具有長度W1的低撓性區域包括外部連接電極。在發光裝置中，與外部連接電極重疊的低撓性區域A的長度W1長於最靠近該區域A的低撓性區域B的長度W3。
在此，當折疊發光裝置時，若發光面板11的端部(還可以稱為彎曲的部分或彎曲的狀態下的端部等)位於支撐面板15a、15b的端部的外側，則有時發光面板11受傷或者發光面板11所包含的元件受到損壞。
另一方面，在圖1C所示的折疊狀態的發光裝置中，發光面板11的端部與位於該發光面板11上下的支撐面板15a、15b的端部一致。由此，能夠抑制發光面板11受傷或者發光面板11所包含的元件受到損壞等。
再者，在圖14C所示的折疊狀態的發光裝置中，發光面板11的端部位於支撐面板15a、15b的端部的內側。由此，能夠進一步抑制發光面板11受傷或者發光面板11所包含的元件受到損壞等。
因此，在發光裝置中，與外部連接電極重疊的低撓性區域A的長度W1較佳為長於最靠近該區域A的低撓性區域B的長度W3。尤其較佳的是，在區域A的長 度W1、區域B的長度W3以及最遠離區域A的低撓性區域C的長度W2當中，長度W1是最長的，長度W2是第二長的。
支撐面板設置在發光面板的發光面一側和與該發光面相對的面一側中的至少一方即可。
如圖3C或圖16C所示的支撐面板15a、15b那樣，當在發光面板的發光面一側及與該發光面相對的面一側的兩者設置有支撐面板時，可以由一對支撐面板夾住發光面板，因此提高低撓性區域的機械強度並使發光裝置不易損壞，所以是較佳的。
另外，也可以使用圖3D或圖16D所示的支撐面板15代替支撐面板15a、15b，並且由該支撐面板15保持發光面板11。
此外，雖然圖1A、圖2及圖3C等示出在低撓性區域E2中露出有保護層或發光面板的側面的例子，但本發明的一個方式不侷限於此。如圖3F所示，也可以在低撓性區域E2中將保護層或發光面板的側面由支撐面板15(或者一對支撐面板15a、15b的一者或兩者)覆蓋。圖21A至圖21C示出保護層或發光面板的側面由支撐面板15b覆蓋的發光裝置的具體結構。圖21A示出展開狀態的該發光裝置。另外，圖21B示出從展開狀態變成折疊狀態或從折疊狀態變成展開狀態的途中狀態的該發光裝置。此外，圖21C示出折疊狀態的該發光裝置。圖22是示出該發光裝置的各構成要素的透視圖。
當僅在發光面板的發光面一側或者與該發光面相對的面一側設置有支撐面板時，能夠使發光裝置更薄或更輕，所以是較佳的。例如，如圖16F所示，可以為僅使用多個支撐面板15b而不使用多個支撐面板15a的發光裝置。
高撓性區域E1及低撓性區域E2較佳為以重疊的方式包括發光面板和其撓性高於支撐面板的保護層。由此，發光裝置的高撓性區域E1具有撓性及高機械強度，從而進一步能夠使發光裝置不易損壞。因此，藉由採用該結構，除了低撓性區域之外，在高撓性區域中也可以使發光裝置不容易因為起因於外力等的變形而損壞。
例如，關於發光面板、支撐面板及保護層的各厚度，較佳的是，支撐面板具有最大的厚度，而發光面板具有最小的厚度。或者，例如，關於發光面板、支撐面板及保護層的各撓性，較佳的是，支撐面板具有最低的撓性，而發光面板具有最高的撓性。藉由採用上述結構，高撓性區域和低撓性區域的撓性的差異變大。藉由採用確實可以在高撓性區域折疊的結構，能夠抑制在低撓性區域發生彎曲，從而能夠提高發光裝置的可靠性。並且，能夠抑制發光裝置在非意圖的地方彎曲。
當在發光面板的發光面一側及與該發光面相對的面一側的兩者設置保護層時，可以由一對保護層夾住發光面板，因此提高發光裝置的機械強度並使發光裝置不易損壞，所以是較佳的。
例如，如圖3C或圖16C所示，在低撓性區域E2中，一對保護層13a、13b較佳為位於一對支撐面板15a與支撐面板15b之間，發光面板(未圖示)較佳為位於一對保護層13a與保護層13b之間。
或者，如圖3D或圖16D所示，在低撓性區域E2中，一對保護層13a、13b較佳為由支撐面板15保持，發光面板(未圖示)較佳為位於一對保護層13a與保護層13b之間。
當僅在發光面板的發光面一側或與該發光面相對的面一側設置有保護層時，能夠使發光裝置更薄或更輕，所以是較佳的。例如，可以為僅使用保護層13b而不使用保護層13a的發光裝置。
另外，當發光面板的發光面一側的保護層13a為遮光膜時，能夠抑制外部光照射到發光面板的非發光區域。由此，能夠抑制包括在非發光區域的驅動電路所具有的電晶體等的光劣化，所以是較佳的。
如圖2、圖3E、圖15或圖16E所示，設置於發光面板11的發光面一側的保護層13a的開口部與發光面板的發光區域11a重疊。以重疊的方式設置有框狀地圍繞發光區域11a的非發光區域11b和保護層13a。設置在與發光面板11的發光面相對的面一側的保護層13b重疊於發光區域11a以及非發光區域11b。藉由將保護層13b設置在與發光面相對的面一側上的更廣的範圍中，尤其較佳為設置在整個該面上，能夠進一步保護發光面板，從而 能夠提高發光裝置的可靠性。
在本發明的一個方式的發光裝置中，較佳的是，當在多個高撓性區域中，向內彎曲和向外彎曲交替反復進行時，將最靠近該發光裝置的支撐平面的發光面板的面與最遠離該支撐平面的發光面板的面之間的最短距離L表示為L<2(D+T)。在此，D表示多個高撓性區域內的發光面板的曲率半徑的總和，並且T表示發光面板的厚度。由此，能夠實現發光裝置的薄型化。
在圖4A所示的發光裝置中，使一個高撓性區域向內彎曲，使一個高撓性區域向外彎曲。在圖4A中，發光面板位於保護層13a與保護層13b之間的邊界。圖4B是用來詳細地說明圖4A中的直徑D1、直徑D2的圖。直徑D1是指將向內彎曲的高撓性區域中的發光面板的曲率半徑作為半徑的圓形的直徑。直徑D2是指將向外彎曲的高撓性區域中的發光面板的曲率半徑作為半徑的圓形的直徑。將發光面板11的厚度表示為厚度T。直徑D1和直徑D2的總和相當於多個高撓性區域內的發光面板的曲率半徑的總和D的2倍，所以可以將L<2(D+T)換稱為L<D1+D2+2T。在此，在圖4A中，最靠近該發光裝置的支撐平面的發光面板的面與最遠離該支撐平面的發光面板的面之間的最短距離L1為D1+D2+3T。
藉由減少支撐面板15a、15b的厚度或保護層13a、13b的厚度，或者藉由減小位於向內彎曲的高撓性區域與向外彎曲的高撓性區域之間的低撓性區域的寬度 等，如圖4C所示的最靠近該發光裝置的支撐平面的發光面板的面與最遠離該支撐平面的發光面板的面之間的最短距離L2那樣，可以滿足L2<D1+D2+3T，甚至滿足L2<D1+D2+2T，換言之，L2<2(D+T)。
在此，在發光裝置中的藉由折疊而重疊的低撓性區域中，位於外側的一對區域較佳為平行於支撐發光裝置的平面，並且，位於內側的其他的區域較佳為不平行於該平面。
在本發明的一個方式的發光裝置中，當連續的兩個高撓性區域中的一方向內彎曲而另一方向外彎曲時，將一方的高撓性區域內的發光面板的曲率半徑作為半徑的圓形與將另一方的高撓性區域內的發光面板的曲率半徑作為半徑的圓形較佳為在向平行於該發光裝置的支撐平面的方向移動時相互重疊。由此，能夠實現發光裝置的薄型化。
如圖4D所示那樣，直徑為D1的圓形和直徑為D2的圓形在向平行於支撐該發光裝置的平面的方向移動(在此，相當於向紙面左右方向移動)時重疊。向內彎曲的高撓性區域中的發光面板的曲率半徑和向外彎曲的高撓性區域中的發光面板的曲率半徑相當於該兩個圓形的半徑，所以可以說已經實現了圖4D所示的發光裝置的薄型化。
在圖4D中，最靠近該發光裝置的支撐平面的發光面板的面與最遠離該支撐平面的發光面板的面之間的 最短距離L3可以滿足L3<D1+D2+3T，甚至滿足L3<D1+D2+2T，換言之，L3<2(D+T)。另外，在圖4D中，保護層13a及保護層13b一起表示為保護層13。
保護層或支撐面板可以使用塑膠、金屬、合金、橡膠等形成。藉由使用塑膠或橡膠等，能夠得到輕量且不易損壞的保護層或支撐面板，所以是較佳的。例如，保護層使用矽橡膠，支撐面板使用不鏽鋼或鋁即可。
另外，保護層或支撐面板較佳為使用韌性高的材料。由此，能夠實現耐衝擊性高且不易損壞的發光裝置。例如，藉由使用有機樹脂、厚度薄的金屬材料或合金材料，能夠實現輕量且不易損壞的發光裝置。另外，出於相同的理由，較佳為將韌性高的材料用於構成發光面板的基板。
若位於發光面一側的保護層及支撐面板不與發光面板的發光區域重疊，該保護層及支撐面板則不需要具有透光性。當位於發光面一側的保護層及支撐面板與發光區域的至少一部分重疊時，該保護層及支撐面板較佳為使用使來自發光面板的發光透過的材料。不限制位於與發光面相對的面一側的保護層或支撐面板的透光性的有無。
當將保護層、支撐面板和發光面板中的任兩個黏合在一起時，可以使用各種黏合劑，例如可以使用兩液混合型樹脂等在常溫下固化的樹脂、光硬化性樹脂、熱固性樹脂等樹脂。另外，也可以使用薄膜狀的黏合劑。此外，可以使用穿過保護層、支撐面板和發光面板中的任兩 個以上的螺絲、夾住保護層、支撐面板和發光面板中的任兩個以上的夾子等來固定發光裝置的各構成要素。
本發明的一個方式的發光裝置可以將一個發光面板(一個發光區域)以被彎曲的部分為界分成兩個以上的區域而使用。例如，也可以將藉由折疊而隱藏的區域作為非發光區域，而只將露出的區域作為發光區域。由此，能夠減少使用者不使用的區域所消耗的電力。
本發明的一個方式的發光裝置可以包括用來判斷每個高撓性區域是否彎曲的感測器。該感測器例如可以使用開關、MEMS壓力感測器或壓力感測器等構成。
雖然上面以具有兩個高撓性區域的發光裝置為例進行說明，但是本發明不侷限於此。例如，如圖5A所示，至少具有一個高撓性區域E1即可，因此，如圖5B或圖17A所示那樣的具有三個高撓性區域E1且能夠折疊成四折的發光裝置以及如圖5C或圖17B所示那樣的具有四個高撓性區域E1且能夠折疊成五折的發光裝置也是本發明的一個方式的發光裝置。
例如，在圖17A所示的發光裝置中，在長度W1至長度W4當中，長度W1是最長的，長度W2是第二長的，長度W3及長度W4是最短的。長度W3及長度W4的值也可以不同。
另外，在圖17B所示的發光裝置中，在長度W1至長度W5當中，長度W1是最長的，長度W2是第二長的，長度W3、長度W4及長度W5是最短的。長度 W3、長度W4及長度W5的每個值也可以不同。
圖6A和圖6B分別示出將圖5C所示的發光裝置折疊成五折時的一個例子。
在圖6A中，將最靠近該發光裝置的支撐平面的發光面板的面與最遠離該支撐平面的發光面板的面之間的最短距離L4表示為L4=2D+5T。在此，D表示多個高撓性區域內的發光面板的曲率半徑的總和，並且T表示發光面板的厚度。注意，2D=D1+D2+D3+D4。
藉由減少支撐面板15a、15b的厚度或保護層13a、13b的厚度，或者藉由減小位於向內彎曲的高撓性區域與向外彎曲的高撓性區域之間的低撓性區域的寬度等，圖6B所示的最靠近該發光裝置的支撐平面的發光面板的面與最遠離該支撐平面的發光面板的面之間的最短距離L5可以滿足L5<D1+D2+D3+D4+5T，甚至滿足L5<D1+D2+D3+D4+2T，換言之，L5<2D+2T。在此，D表示多個高撓性區域內的發光面板的曲率半徑的總和，並且T表示發光面板的厚度。
另外，圖6B所示的直徑為D1的圓形和直徑為D2的圓形在向平行於支撐該發光裝置的平面的方向移動(在此，相當於向紙面左右方向移動)時重疊。此外，直徑為D3的圓形和直徑為D4的圓形也在向平行於支撐該發光裝置的平面的方向移動時相互重疊。當連續的兩個高撓性區域中的一方向內彎曲而另一方向外彎曲時，直徑為D1的圓形的半徑和直徑為D2的圓形的半徑分別相當 於向內彎曲的高撓性區域中的發光面板的曲率半徑和向外彎曲的高撓性區域中的發光面板的曲率半徑，所以可以說已經實現了圖6B所示的發光裝置的薄型化。另外，這在直徑為D3的圓形的半徑和直徑為D4圓形的半徑也同樣如此。
另外，如圖6B所示，與位於發光裝置的最外側的一對低撓性區域相比，將其他的低撓性區域的寬度設定為更小，由此能夠使發光裝置更薄。
此外，當折疊發光裝置時，高撓性區域不一定必須交替進行向內彎曲和向外彎曲，例如，如圖5D所示，也可以使各個高撓性區域向內彎曲。在這種狀態下，當攜帶發光裝置時等，能夠抑制發光裝置的發光面受傷或弄髒。
在本實施方式的發光裝置中，能夠折疊一個發光面板一次以上。此時，曲率半徑例如可以為1mm以上且150mm以下。
本實施方式可以與其他實施方式適當地組合。
實施方式2
在本實施方式中，參照圖7A至圖12C說明發光面板。當使本實施方式所例示的發光面板彎曲時，將發光面板的曲率半徑的最小值可以設定為1mm以上且150mm以下、1mm以上且100mm以下、1mm以上且50mm以下、 1mm以上且10mm以下或者2mm以上且5mm以下。在本實施方式的發光面板中，即便以小曲率半徑(例如為2mm以上且5mm以下)彎折元件也不會損壞，因此該發光裝置的可靠性高。藉由以小曲率半徑使發光面板彎曲，能夠使本發明的一個方式的發光裝置薄型化。不限制使本實施方式的發光面板彎曲的方向。另外，彎曲部分的數量可以為一個或兩個以上。
〈具體例子1〉
圖7A示出實施方式1所例示的發光面板11的平面圖，圖7B示出沿圖7A中的鎖鏈線A1-A2的剖面圖的一個例子。
圖7B所示的發光面板包括元件層101、黏合層105以及基板103。其中，元件層101包括基板201、黏合層203、絕緣層205、多個電晶體、導電層157、絕緣層207、絕緣層209、多個發光元件、絕緣層211、密封層213、絕緣層261、著色層259、遮光層257以及絕緣層255。
導電層157藉由連接器215與FPC108電連接。
發光元件230包括下部電極231、EL層233以及上部電極235。下部電極231與電晶體240的源極電極或汲極電極電連接。下部電極231的端部由絕緣層211覆蓋。發光元件230採用頂部發射結構。上部電極235具 有透光性且使EL層233發射的光透過。
在與發光元件230重疊的位置設置有著色層259，在與絕緣層211重疊的位置設置有遮光層257。著色層259以及遮光層257由絕緣層261覆蓋。在發光元件230與絕緣層261之間填充有密封層213。
發光面板在光提取部104以及驅動電路部106中包括多個電晶體如電晶體240等。將電晶體240設置於絕緣層205上。使用黏合層203將絕緣層205與基板201貼合在一起。另外，使用黏合層105將絕緣層255與基板103貼合在一起。當作為絕緣層205以及絕緣層255使用透水性低的膜時，由於能夠抑制水等雜質侵入發光元件230以及電晶體240中，從而可以提高發光面板的可靠性，所以是較佳的。作為黏合層203，可以使用與黏合層105同樣的材料。
具體例子1示出一種發光面板，該發光面板可以藉由在耐熱性高的形成用基板上形成絕緣層205、電晶體240以及發光元件230，剝離該形成用基板，然後使用黏合層203將絕緣層205、電晶體240以及發光元件230轉置到基板201上來製造。另外，具體例子1還示出一種發光面板，該發光面板可以藉由在耐熱性高的形成用基板上形成絕緣層255、著色層259以及遮光層257，剝離該形成用基板，然後使用黏合層105將絕緣層255、著色層259以及遮光層257轉置到基板103上來製造。
當作為基板使用耐熱性低的材料(樹脂等) 時，在製程中難以對基板施加高溫度，因此對在該基板上製造電晶體或絕緣膜的條件有限制。另外，當作為發光裝置的基板使用透水性高的材料(樹脂等)時，較佳為對基板施加高溫度來在基板與發光元件之間形成透水性低的膜。在本實施方式的製造方法中，由於可以在耐熱性高的形成用基板上形成電晶體等，因此可以施加高溫度來形成可靠性高的電晶體以及透水性充分低的絕緣膜。並且，藉由將該電晶體及該絕緣膜轉置到耐熱性低的基板，能夠製造可靠性高的發光面板。由此，在本發明的一個方式中，能夠實現輕量或薄型且可靠性高的發光裝置。詳細製造方法將在後面說明。
基板103以及基板201都較佳為使用韌性高的材料。由此，能夠實現耐衝擊性高的不易損壞的發光面板。例如，藉由作為基板103使用有機樹脂，並且作為基板201使用厚度薄的金屬材料或合金材料，與作為基板使用玻璃的情況相比，能夠實現輕量且不易損壞的發光面板。
由於金屬材料以及合金材料的導熱性高，並且容易將熱傳導到基板整體，因此能夠抑制發光面板的局部的溫度上升，所以是較佳的。使用金屬材料或合金材料的基板的厚度較佳為10μm以上且200μm以下，更較佳為20μm以上且50μm以下。
另外，當作為基板201使用熱發射率高的材料時，能夠抑制發光面板的表面溫度上升，從而能夠抑制 發光面板損壞並抑制其可靠性下降。例如，基板201也可以採用金屬基板與熱發射率高的層(例如，可以使用金屬氧化物或陶瓷材料)的疊層結構。
〈具體例子2〉
圖8A示出發光面板中的光提取部104的其他例子。圖8A所示的發光面板為能夠進行觸摸操作的發光面板。另外，在下面所示的各具體例子中，關於與具體例子1相同的結構，省略其說明。
圖8A所示的發光面板包括元件層101、黏合層105以及基板103。其中，元件層101包括基板201、黏合層203、絕緣層205、多個電晶體、絕緣層207、絕緣層209、多個發光元件、絕緣層211、絕緣層217、密封層213、絕緣層261、著色層259、遮光層257、多個受光元件、導電層281、導電層283、絕緣層291、絕緣層293、絕緣層295以及絕緣層255。
在具體例子2中，在絕緣層211上配置有絕緣層217。藉由設置絕緣層217，可以調整基板103與基板201之間的距離。
圖8A示出在絕緣層255與密封層213之間設置有受光元件的例子。由於可以以重疊於發光面板的非發光區域(例如，設置有電晶體或佈線的區域等沒有設置發光元件的區域)的方式配置受光元件，因此可以在發光面板中設置觸摸感測器而沒有使像素(發光元件)的孔徑比 下降。
例如，可以將pn型或pin型光電二極體用於發光面板所具有的受光元件。在本實施方式中，作為受光元件，使用包括p型半導體層271、i型半導體層273以及n型半導體層275的pin型光電二極體。
另外，在i型的半導體層273中，所包含的賦予p型或n型的雜質濃度分別為1×1020cm-3以下，並且光傳導率為暗導電率的100倍以上。在i型半導體層273的範疇內還包括包含元素週期表中的第13族或第15族的雜質元素的半導體層。即，由於當有意不添加用來控制價電子的雜質元素時，i型半導體具有較弱的n型導電性，因此在i型半導體層273的範疇內還包括在成膜時或成膜後有意或無意地添加有賦予p型的雜質元素的半導體層。
遮光層257設置得比受光元件更靠近基板201一側且與受光元件重疊。可以利用位於受光元件與密封層213之間的遮光層257來抑制發光元件230所發射的光照射到受光元件。
導電層281以及導電層283分別與受光元件電連接。導電層281較佳為使用使入射到受光元件的光透過的導電層。導電層283較佳為使用阻擋入射到受光元件的光的導電層。
當將光學觸摸感測器設置於基板103與密封層213之間時，不容易受發光元件230的發光的影響，並且可以提高S/N比例，所以是較佳的。
〈具體例子3〉
圖8B示出發光面板中的光提取部104的其他例子。圖8B所示的發光面板為能夠進行觸摸操作的發光面板。
圖8B所示的發光面板包括元件層101、黏合層105以及基板103。其中，元件層101包括基板201、黏合層203、絕緣層205、多個電晶體、絕緣層207、絕緣層209a、絕緣層209b、多個發光元件、絕緣層211、絕緣層217、密封層213、著色層259、遮光層257、多個受光元件、導電層280、導電層281以及絕緣層255。
圖8B示出在絕緣層205與密封層213之間配置有受光元件的例子。藉由將受光元件設置於絕緣層205與密封層213之間，可以藉由利用與構成電晶體240的導電層以及半導體層相同的材料、相同的製程製造與受光元件電連接的導電層以及構成受光元件的光電轉換層。因此，可以製造能夠進行觸摸操作的發光面板，而無需大幅度增加製程。
〈具體例子4〉
圖9A示出發光面板的其他例子。圖9A所示的發光面板為能夠進行觸摸操作的發光面板。
圖9A所示的發光面板包括元件層101、黏合層105以及基板103。其中，元件層101包括基板201、黏合層203、絕緣層205、多個電晶體、導電層156、導 電層157、絕緣層207、絕緣層209、多個發光元件、絕緣層211、絕緣層217、密封層213、著色層259、遮光層257、絕緣層255、導電層272、導電層274、絕緣層276、絕緣層278、導電層294以及導電層296。
圖9A示出在絕緣層255與密封層213之間設置有靜電容量式觸摸感測器的例子。靜電容量式觸摸感測器包括導電層272以及導電層274。
導電層156以及導電層157藉由連接器215與FPC108電連接。導電層294以及導電層296藉由導電粒子292與導電層274電連接。因此，可以藉由FPC108驅動靜電容量式觸摸感測器。
〈具體例子5〉
圖9B示出發光面板的其他例子。圖9B所示的發光面板為能夠進行觸摸操作的發光面板。
圖9B所示的發光面板包括元件層101、黏合層105以及基板103。其中，元件層101包括基板201、黏合層203、絕緣層205、多個電晶體、導電層156、導電層157、絕緣層207、絕緣層209、多個發光元件、絕緣層211、絕緣層217、密封層213、著色層259、遮光層257、絕緣層255、導電層270、導電層272、導電層274、絕緣層276以及絕緣層278。
圖9B示出在絕緣層255與密封層213之間設置有靜電容量式觸摸感測器的例子。靜電容量式觸摸感測 器包括導電層272以及導電層274。
導電層156以及導電層157藉由連接器215a與FPC108a電連接。導電層270藉由連接器215b與FPC108b電連接。因此，可以藉由FPC108a驅動發光元件230以及電晶體240，可以藉由FPC108b驅動靜電容量式觸摸感測器。
〈具體例子6〉
圖10A示出發光面板中的光提取部104的其他例子。
圖10A所示的發光面板包括元件層101、基板103以及黏合層105。其中，元件層101包括基板202、絕緣層205、多個電晶體、絕緣層207、導電層208、絕緣層209a、絕緣層209b、多個發光元件、絕緣層211、密封層213以及著色層259。
發光元件230包括下部電極231、EL層233以及上部電極235。下部電極231藉由導電層208與電晶體240的源極電極或汲極電極電連接。下部電極231的端部由絕緣層211覆蓋。發光元件230採用底部發射結構。下部電極231具有透光性且使EL層233所發射的光透過。
在與發光元件230重疊的位置設置有著色層259，發光元件230所發射的光穿過著色層259被提取到基板103一側。在發光元件230與基板202之間填充有密封層213。基板202可以使用與上述基板201同樣的材料 來製造。
〈具體例子7〉
圖10B示出發光面板的其他例子。
圖10B所示的發光面板包括元件層101、黏合層105以及基板103。其中，元件層101包括基板202、絕緣層205、導電層310a、導電層310b、多個發光元件、絕緣層211、導電層212以及密封層213。
導電層310a以及導電層310b是發光面板的外部連接電極，可以與FPC等電連接。
發光元件230包括下部電極231、EL層233以及上部電極235。下部電極231的端部由絕緣層211覆蓋。發光元件230採用底部發射結構。下部電極231具有透光性且使EL層233所發射的光透過。導電層212與下部電極231電連接。
在基板103中，作為光提取結構也可以具有半球透鏡、微透鏡陣列、具有凹凸結構的薄膜或光擴散薄膜等。例如，藉由使用具有與該基板、該透鏡或該薄膜相同程度的折射率的黏合劑等將上述透鏡或上述薄膜黏合在樹脂基板上，可以形成具有光提取結構的基板103。
雖然導電層212不一定必須設置，但因為導電層212可以抑制起因於下部電極231的電阻的電壓下降，所以較佳為設置。另外，出於同樣的目的，也可以在絕緣層211、EL層233或上部電極235上等設置與上部電 極235電連接的導電層。
導電層212可以藉由使用選自銅、鈦、鉭、鎢、鉬、鉻、釹、鈧、鎳和鋁中的材料或以這些材料為主要成分的合金材料等，以單層或疊層形成。可以將導電層212的厚度例如設定為0.1μm以上且3μm以下，較佳為0.1μm以上且0.5μm以下。
當作為與上部電極235電連接的導電層的材料使用漿料(銀漿等)時，構成該導電層的金屬成為粒狀而凝集。因此，該導電層的表面成為粗糙且間隙多的結構，例如即便在絕緣層211上形成該導電層EL層233也難以完全覆蓋該導電層，從而上部電極與該導電層容易電連接，所以是較佳的。
〈材料的一個例子〉
接下來，說明可用於發光面板的材料等。注意，省略本實施方式中的前面已說明的結構。
元件層101至少具有發光元件。作為發光元件，可以使用能夠進行自發光的元件，並且在其範疇內包括由電流或電壓控制亮度的元件。例如，可以使用發光二極體(LED)、有機EL元件以及無機EL元件等。
元件層101還可以具有用來驅動發光元件的電晶體以及觸摸感測器等。
對發光面板所具有的電晶體的結構沒有特別的限制。例如，可以採用交錯型電晶體或反交錯型電晶 體。此外，還可以採用頂閘極型或底閘極型的電晶體結構。對用於電晶體的半導體材料沒有特別的限制，例如可以舉出矽、鍺等。或者，也可以使用包含銦、鎵和鋅中的至少一個的氧化物半導體諸如In-Ga-Zn類金屬氧化物等。
對用於電晶體的半導體材料的結晶性也沒有特別的限制，可以使用非晶半導體或結晶半導體(微晶半導體、多晶半導體、單晶半導體或其一部分具有結晶區域的半導體)。當使用結晶半導體時，可以抑制電晶體的特性劣化，所以是較佳的。
發光面板所具有的發光元件包括一對電極(下部電極231及上部電極235)以及設置於該一對電極之間的EL層233。將該一對電極的一個電極用作陽極，而將另一個電極用作陰極。
發光元件可以採用頂部發射結構、底部發射結構或雙面發射結構。作為位於提取光一側的電極使用使可見光透過的導電膜。另外，作為位於不提取光一側的電極較佳為使用反射可見光的導電膜。
作為使可見光透過的導電膜，例如可以使用氧化銦、銦錫氧化物(ITO：Indium Tin Oxide)、銦鋅氧化物、氧化鋅、添加有鎵的氧化鋅等形成。另外，也可以藉由將金、銀、鉑、鎂、鎳、鎢、鉻、鉬、鐵、鈷、銅、鈀或鈦等金屬材料、包含這些金屬材料的合金或這些金屬材料的氮化物(例如，氮化鈦)等形成得薄到其具有透光性 來使用。此外，可以將上述材料的疊層膜用作導電膜。例如，當使用銀和鎂的合金與ITO的疊層膜等時，可以提高導電性，所以是較佳的。另外，也可以使用石墨烯等。
作為反射可見光的導電膜，例如可以使用鋁、金、鉑、銀、鎳、鎢、鉻、鉬、鐵、鈷、銅或鈀等金屬材料或包含這些金屬材料的合金。另外，也可以在上述金屬材料或合金中添加有鑭、釹或鍺等。此外，反射可見光的導電膜可以使用鋁和鈦的合金、鋁和鎳的合金、鋁和釹的合金等包含鋁的合金(鋁合金)以及銀和銅的合金、銀和鈀和銅的合金、銀和鎂的合金等包含銀的合金來形成。包含銀和銅的合金具有高耐熱性，所以是較佳的。並且，藉由以與鋁合金膜接觸的方式層疊金屬膜或金屬氧化物膜，可以抑制鋁合金膜的氧化。作為該金屬膜、金屬氧化物膜的材料，可以舉出鈦、氧化鈦等。另外，也可以層疊上述使可見光透過的導電膜與由金屬材料構成的膜。例如，可以使用銀與ITO的疊層膜、銀和鎂的合金與ITO的疊層膜等。
各電極可以藉由利用蒸鍍法或濺射法形成。除此之外，也可以藉由利用噴墨法等噴出法、網版印刷法等印刷法、或者鍍法形成。
當對下部電極231與上部電極235之間施加高於發光元件的臨界電壓的電壓時，電洞從陽極一側注入到EL層233中，而電子從陰極一側注入到EL層233中。被注入的電子和電洞在EL層233中再結合，由此， 包含在EL層233中的發光物質發光。
EL層233至少包括發光層。作為發光層以外的層，EL層233還可以包括包含電洞注入性高的物質、電洞傳輸性高的物質、電洞阻擋材料、電子傳輸性高的物質、電子注入性高的物質或雙極性的物質(電子傳輸性及電洞傳輸性高的物質)等的層。
作為EL層233可以使用低分子化合物或高分子化合物，還可以包含無機化合物。構成EL層233的各層可以藉由利用蒸鍍法(包括真空蒸鍍法)、轉印法、印刷法、噴墨法、塗佈法等方法形成。
在元件層101中，發光元件較佳為設置於一對透水性低的絕緣膜之間。由此，能夠抑制水等雜質侵入發光元件中，從而能夠抑制發光裝置的可靠性下降。
作為透水性低的絕緣膜，可以舉出氮化矽膜、氮氧化矽膜等含有氮與矽的膜以及氮化鋁膜等含有氮與鋁的膜等。另外，也可以使用氧化矽膜、氧氮化矽膜以及氧化鋁膜等。
例如，將透水性低的絕緣膜的水蒸氣透過量設定為1×10-5[g/m2．day]以下，較佳為1×10-6[g/m2．day]以下，更佳為1×10-7[g/m2．day]以下，進一步較佳為1×10-8[g/m2．day]以下。
基板103具有透光性，並且至少使元件層101所具有的發光元件所發射的光透過。基板103也可以具有撓性。另外，基板103的折射率高於大氣。
由於有機樹脂的重量輕於玻璃，因此藉由作為基板103使用有機樹脂，與作為基板103使用玻璃的情況相比，能夠使發光裝置的重量更輕，所以是較佳的。
作為具有撓性以及對可見光具有透過性的材料，例如可以舉出如下材料：其厚度允許其具有撓性的玻璃、聚酯樹脂諸如聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)或聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等、聚丙烯腈樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯樹脂、聚碳酸酯(PC)樹脂、聚醚碸(PES)樹脂、聚醯胺樹脂、環烯烴樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚醯胺-醯亞胺樹脂或聚氯乙烯樹脂等。尤其較佳為使用熱膨脹係數低的材料，例如較佳為使用聚醯胺-醯亞胺樹脂、聚醯亞胺樹脂以及PET等。另外，也可以使用將有機樹脂浸滲於玻璃纖維中的基板或將無機填料混合到有機樹脂中來降低熱膨脹係數的基板。
基板103可以是疊層結構，其中層疊使用上述材料的層與保護發光裝置的表面免受損傷等的硬塗層(例如，氮化矽層等)或能夠分散壓力的層(例如，芳族聚醯胺樹脂層等)等。另外，為了抑制由於水等導致的發光元件的使用壽命的下降等，也可以具有上述透水性低的絕緣膜。
黏合層105具有透光性，並且至少使元件層101所具有的發光元件所發射的光透過。另外，黏合層105的折射率高於大氣。
作為黏合層105，可以使用兩液混合型樹脂等 在常溫下固化的樹脂、光硬化性樹脂、熱固性樹脂等樹脂。例如，可以舉出環氧樹脂、丙烯酸樹脂、矽酮樹脂、酚醛樹脂等。尤其較佳為使用環氧樹脂等透濕性低的材料。
另外，在上述樹脂中也可以包含乾燥劑。例如，可以使用鹼土金屬的氧化物(氧化鈣或氧化鋇等)等藉由化學吸附來吸附水分的物質。或者，也可以使用沸石或矽膠等藉由物理吸附來吸附水分的物質。當在樹脂中包含乾燥劑時，能夠抑制水等雜質侵入發光元件中，從而提高發光裝置的可靠性，所以是較佳的。
此外，因為藉由在上述樹脂中混合折射率高的填料(氧化鈦等)可以提高發光元件的光提取效率，所以是較佳的。
另外，黏合層105也可以具有散射光的散射構件。例如，作為黏合層105也可以使用上述樹脂和折射率不同於該樹脂的粒子的混合物。將該粒子用作光的散射構件。
樹脂與上述粒子之間的折射率差較佳為有0.1以上，更佳為有0.3以上。明確而言，作為樹脂可以使用環氧樹脂、丙烯酸樹脂、醯亞胺樹脂以及矽酮樹脂等。另外，作為粒子，可以使用氧化鈦、氧化鋇以及沸石等。
由於氧化鈦的粒子以及氧化鋇的粒子具有很強的散射光的性質，所以是較佳的。另外，當使用沸石時，能夠吸附樹脂等所具有的水，因此能夠提高發光元件 的可靠性。
絕緣層205以及絕緣層255可以使用無機絕緣材料。尤其當使用上述透水性低的絕緣膜時，可以實現可靠性高的發光面板，所以是較佳的。
絕緣層207具有抑制雜質擴散到構成電晶體的半導體中的效果。作為絕緣層207，可以使用氧化矽膜、氧氮化矽膜、氮化矽膜、氮氧化矽膜、氧化鋁膜等無機絕緣膜。
為了減小起因於電晶體等的表面凹凸，作為絕緣層209、絕緣層209a以及絕緣層209b較佳為選擇具有平坦化功能的絕緣膜。例如，可以使用聚醯亞胺、丙烯酸樹脂、苯並環丁烯類樹脂等有機材料。另外，除了上述有機材料之外，還可以使用低介電常數材料(low-k材料)等。此外，也可以採用使用由這些材料形成的絕緣膜和無機絕緣膜的疊層結構。
以覆蓋下部電極231的端部的方式設置有絕緣層211。為了提高形成於絕緣層211的上層的EL層233以及上部電極235的覆蓋性，較佳為將絕緣層211形成為其側壁具有連續曲率的傾斜面。
作為絕緣層211的材料，可以使用樹脂或無機絕緣材料。作為樹脂，例如，可以使用聚醯亞胺樹脂、聚醯胺樹脂、丙烯酸樹脂、矽氧烷樹脂、環氧樹脂或酚醛樹脂等。尤其較佳為使用負型光敏樹脂或正型光敏樹脂，這樣可以使絕緣層211的製造變得容易。
雖然對絕緣層211的形成方法沒有特別的限制，但可以利用光微影法、濺射法、蒸鍍法、液滴噴射法(噴墨法等)、印刷法(網版印刷、平板印刷等)等。
絕緣層217可以使用無機絕緣材料或有機絕緣材料等形成。例如，作為有機絕緣材料可以使用負型光敏樹脂材料或正型光敏樹脂材料、非光敏樹脂材料等。另外，也可以形成導電層代替絕緣層217。例如，該導電層可以使用金屬材料形成。作為金屬材料，可以使用鈦、鋁等。藉由使用導電層代替絕緣層217而使該導電層與上部電極235電連接，能夠抑制起因於上部電極235的電阻的電位下降。另外，絕緣層217的形狀可以為正錐形或反錐形。
絕緣層276、絕緣層278、絕緣層291、絕緣層293以及絕緣層295都可以使用無機絕緣材料或有機絕緣材料形成。尤其作為絕緣層278以及絕緣層295，為了減少起因於感測器元件的表面凹凸，較佳為使用具有平坦化功能的絕緣層。
作為密封層213，可以使用兩液混合型樹脂等在常溫下固化的樹脂、光硬化性樹脂、熱固性樹脂等樹脂。例如，可以使用PVC(聚氯乙烯)樹脂、丙烯酸樹脂、聚醯亞胺樹脂、環氧樹脂、矽酮樹脂、PVB(聚乙烯醇縮丁醛)樹脂或EVA(乙烯-醋酸乙烯酯)樹脂等。在密封層213中可以包含乾燥劑。另外，在發光元件230的光穿過密封層213被提取到發光面板的外部的情況下，較佳為在 密封層213中包含折射率高的填料或散射構件。作為乾燥劑、折射率高的填料以及散射構件的材料，可以舉出與可用於黏合層105的材料同樣的材料。
導電層156、導電層157、導電層294以及導電層296都可以使用與構成電晶體或發光元件的導電層相同的材料、相同的製程形成。另外，導電層280可以使用與構成電晶體的導電層相同的材料、相同的製程形成。
例如，上述導電層都可以藉由使用鉬、鈦、鉻、鉭、鎢、鋁、銅、釹、鈧等金屬材料或含有上述元素的合金材料，以單層或疊層形成。另外，上述導電層都可以使用導電金屬氧化物形成。作為導電金屬氧化物，可以使用氧化銦(In2O3等)、氧化錫(SnO2等)、氧化鋅(ZnO)、ITO、銦鋅氧化物(In2O3-ZnO等)或者在這些金屬氧化物材料中含有氧化矽的材料。
另外，導電層208、導電層212、導電層310a以及導電層310b也都可以使用上述金屬材料、合金材料或導電金屬氧化物等形成。
導電層272和導電層274以及導電層281和導電層283為具有透光性的導電層。例如，可以使用氧化銦、ITO、銦鋅氧化物、氧化鋅、添加有鎵的氧化鋅等。另外，導電層270可以使用與導電層272相同的材料、相同的製程形成。
作為導電粒子292使用由金屬材料覆蓋其表面的有機樹脂或二氧化矽等的粒子。當作為金屬材料使用 鎳或金時，可以降低接觸電阻，所以是較佳的。另外，較佳為使用由兩種以上的金屬材料以層狀覆蓋的粒子諸如由鎳以及金覆蓋的粒子。
作為連接器215，可以使用對熱固性樹脂混合金屬粒子的膏狀或片狀且藉由熱壓接合呈現各向異性的導電材料。作為金屬粒子，較佳為使用層疊有兩種以上的金屬的粒子，例如鍍有金的鎳粒子等。
著色層259是使特定波長區域的光透過的有色層。例如，可以使用使紅色波長區域的光透過的紅色(R)濾色片、使綠色波長區域的光透過的綠色(G)濾色片、使藍色波長區域的光透過的藍色(B)濾色片等。各著色層藉由使用各種材料並利用印刷法、噴墨法、使用光微影法技術的蝕刻方法等在所需的位置形成。
另外，在相鄰的著色層259之間設置有遮光層257。遮光層257遮擋從相鄰的發光元件射出的光，從而抑制相鄰的像素之間的混色。在此，藉由以與遮光層257重疊的方式設置著色層259的端部，可以抑制漏光。遮光層257可以使用遮擋發光元件的發光的材料，可以使用金屬材料以及包含顏料或染料的樹脂材料等形成。另外，如圖7B所示，藉由將遮光層257設置於驅動電路部106等光提取部104之外的區域中，可以抑制起因於波導光等的非意圖的漏光，所以是較佳的。
此外，藉由設置覆蓋著色層259以及遮光層257的絕緣層261，可以抑制包含在著色層259以及遮光 層257中的顏料等雜質擴散到發光元件等中，所以是較佳的。作為絕緣層261，使用具有透光性的材料，可以使用無機絕緣材料或有機絕緣材料。絕緣層261也可以使用上述透水性低的絕緣膜。注意，若不需要絕緣層261，則也可以不設置。
〈製造方法的例子〉
接下來，參照圖11A至圖12C例示出發光面板的製造方法。在此，以具有具體例子1(圖7B)的結構的發光面板為例進行說明。
首先，在形成用基板301上形成剝離層303，並在該剝離層303上形成絕緣層205。接著，在絕緣層205上形成多個電晶體、導電層157、絕緣層207、絕緣層209、多個發光元件以及絕緣層211。注意，以使導電層157露出的方式在絕緣層211、絕緣層209以及絕緣層207中形成開口(圖11A)。
另外，在形成用基板305上形成剝離層307，並在該剝離層307上形成絕緣層255。接著，在絕緣層255上形成遮光層257、著色層259以及絕緣層261(圖11B)。
作為形成用基板301以及形成用基板305，可以使用玻璃基板、石英基板、藍寶石基板、陶瓷基板以及金屬基板等。
另外，作為玻璃基板，例如可以使用鋁矽酸 鹽玻璃、鋁硼矽酸鹽玻璃或鋇硼矽酸鹽玻璃等玻璃材料。在後面進行的熱處理溫度高的情況下，較佳為使用應變點為730℃以上的玻璃基板。此外，藉由使玻璃基板含有較多氧化鋇(BaO)，可以得到實用性更高的耐熱玻璃。除此之外，還可以使用晶化玻璃等。
在作為形成用基板使用玻璃基板的情況下，當在形成用基板與剝離層之間形成氧化矽膜、氧氮化矽膜、氮化矽膜、氮氧化矽膜等絕緣膜時，可以防止來自玻璃基板的污染，所以是較佳的。
剝離層303以及剝離層307都是由如下材料形成的單層或疊層的層：選自鎢、鉬、鈦、鉭、鈮、鎳、鈷、鋯、鋅、釕、銠、鈀、鋨、銥、矽中的元素；包含該元素的合金材料；或者包含該元素的化合物材料。包含矽的層的結晶結構可以為非晶、微晶或多晶。
剝離層可以藉由利用濺射法、電漿CVD法、塗佈法、印刷法等形成。另外，塗佈法包括旋塗法、液滴噴射法、分配器法。
當剝離層採用單層結構時，較佳為形成鎢層、鉬層或者包含鎢和鉬的混合物的層。另外，也可以形成包含鎢的氧化物或氧氮化物的層、包含鉬的氧化物或氧氮化物的層、或者包含鎢和鉬的混合物的氧化物或氧氮化物的層。此外，鎢和鉬的混合物例如相當於鎢和鉬的合金。
另外，當剝離層具有包含鎢的層和包含鎢的 氧化物的層的疊層結構時，可以藉由形成包含鎢的層且在其上層形成由氧化物形成的絕緣膜，在鎢層與絕緣膜之間的介面形成包含鎢的氧化物的層。此外，也可以對包含鎢的層的表面進行熱氧化處理、氧電漿處理、一氧化二氮(N2O)電漿處理、使用臭氧水等氧化性高的溶液的處理等形成包含鎢的氧化物的層。另外，電漿處理或加熱處理可以在單獨使用氧、氮、一氧化二氮的氛圍下或者在上述氣體和其他氣體的混合氣體氛圍下進行。藉由進行上述電漿處理或加熱處理來改變剝離層的表面狀態，由此可以控制剝離層和在後面形成的絕緣層之間的黏合性。
各絕緣層可以藉由利用濺射法、電漿CVD法、塗佈法、印刷法等形成，例如可以藉由利用電漿CVD法在250℃以上且400℃以下的溫度下進行成膜，形成緻密且透水性極低的膜。
接著，將用作密封層213的材料塗佈於形成用基板305的設置有著色層259等的面或者形成用基板301的設置有發光元件230等的面，隔著密封層213以使上述面互相面對的方式將形成用基板301與形成用基板305貼合在一起(圖11C)。
然後，剝離形成用基板301，並使用黏合層203將露出的絕緣層205與基板201貼合在一起。另外，剝離形成用基板305，並使用黏合層105將露出的絕緣層255與基板103黏合在一起。在圖12A中，雖然基板103不與導電層157重疊，但也可以使基板103與導電層157 重疊。
另外，剝離製程可以適當地採用各種方式。例如，當在與被剝離層接觸的一側形成作為剝離層的包含金屬氧化膜的層時，可以藉由使該金屬氧化膜結晶化而使其脆化，將被剝離層從形成用基板剝離。此外，當在耐熱性高的形成用基板與被剝離層之間形成作為剝離層的包含氫的非晶矽膜時，可以藉由雷射照射或蝕刻去除該非晶矽膜，而將被剝離層從形成用基板剝離。另外，當在與被剝離層接觸的一側形成作為剝離層的包含金屬氧化膜的層時，藉由使該金屬氧化膜結晶化而使其脆化，並且在藉由使用溶液或NF3、BrF3、ClF3等氟化氣體的蝕刻去除該剝離層的一部分之後，可以在脆化的金屬氧化膜處進行剝離。再者，也可以採用作為剝離層使用包含氮、氧或氫等的膜(例如，包含氫的非晶矽膜、含氫的合金膜、含氧的合金膜等)，並且對剝離層照射雷射使包含在剝離層中的氮、氧或氫作為氣體釋放出以促進被剝離層與基板之間的剝離的方法。此外，可以採用機械性地去除形成有被剝離層的形成用基板的方法、或者藉由使用溶液或NF3、BrF3、ClF3等氟化氣體的蝕刻去除形成有被剝離層的形成用基板的方法等。此時，也可以不設置剝離層。
另外，可以藉由組合多個上述剝離方法以更容易進行剝離製程。即，也可以藉由進行雷射照射、利用氣體或溶液等對剝離層進行蝕刻、或者利用鋒利的刀子或手術刀等機械性地去除，以使剝離層和被剝離層處於容易 剝離的狀態，然後利用物理力(藉由機械等)進行剝離。
此外，也可以藉由使液體浸透到剝離層與被剝離層之間的介面來將被剝離層從形成用基板剝離。另外，當進行剝離時，也可以邊澆水等液體邊進行剝離。
作為其他剝離方法，當使用鎢形成剝離層時，較佳為邊使用氨水和過氧化氫水的混合溶液對剝離層進行蝕刻邊進行剝離。
另外，當能夠在形成用基板與被剝離層的介面進行剝離時，也可以不設置剝離層。例如，作為形成用基板使用玻璃，以接觸於玻璃的方式形成聚醯亞胺、聚酯、聚烯烴、聚醯胺、聚碳酸酯以及丙烯酸樹脂等有機樹脂，並在該有機樹脂上形成絕緣膜以及電晶體等。此時，可以藉由加熱有機樹脂，在形成用基板與有機樹脂的介面進行剝離。或者，也可以藉由在形成用基板與有機樹脂之間設置金屬層，並且藉由使電流流過該金屬層加熱該金屬層，在金屬層與有機樹脂的介面進行剝離。可以將從形成用基板剝離的有機樹脂用作發光面板的基板。另外，也可以藉由使用黏合劑將有機樹脂與其他基板貼合在一起。
最後，藉由在絕緣層255以及密封層213中形成開口，使導電層157露出(圖12B)。另外，在基板103與導電層157重疊的情況下，為了使導電層157露出，也在基板103以及黏合層105中形成開口(圖12C)。對開口的方法沒有特別的限制，例如可以使用雷射燒蝕法、蝕刻法以及離子束濺射法等。另外，也可以使 用鋒利的刀具等在導電層157上的膜切開切口，然後利用物理力將膜的一部分剝下來。
藉由上述步驟，可以製造發光面板。
如上所述，本實施方式的發光面板包括基板103和基板201或基板202的兩個基板。並且，即便是包括觸摸感測器的結構也可以由該兩個基板構成。藉由將基板數量抑制到最低，容易使光提取效率以及顯示的清晰度得到提高。
本實施方式可以與其他實施方式適當地組合。
實施方式3
在本實施方式中，參照圖13說明發光面板。
圖13所示的發光面板包括基板401、電晶體240、發光元件230、絕緣層207、絕緣層209、絕緣層211、絕緣層217、空間405、絕緣層261、遮光層257、著色層259、受光元件(具有p型半導體層271、i型半導體層273以及n型半導體層275)、導電層281、導電層283、絕緣層291、絕緣層293、絕緣層295以及基板403。
在該發光面板中，在基板401與基板403之間設置有以圍繞發光元件230以及受光元件的方式配置為框狀的黏合層(未圖示)。發光元件230由該黏合層、基板401以及基板403密封。
在本實施方式的發光面板中，基板403具有透光性。元件基板230所發射的光穿過著色層259以及基板403等被提取到大氣中。
本實施方式的發光面板為能夠進行觸摸操作的發光面板。明確而言，可以利用受光元件來檢測被檢測物是否接近或接觸基板403的表面。
在光學觸摸感測器中，即便在被檢測物所接觸的表面有傷等也不會對檢測精度造成影響，因此其耐久性高，所以是較佳的。另外，光學觸摸感測器還具有可以藉由非接觸進行感測；即便應用於顯示裝置像素的清晰度也不會下降；以及可以應用於大型的發光面板或顯示裝置等的優點。
藉由將光學觸摸感測器設置於基板403與空間405之間，不容易受發光元件230的發光的影響，並且可以提高S/N比例，所以是較佳的。
遮光層257配置得比受光元件更靠近基板401一側且與受光元件重疊。藉由設置該遮光層257，可以抑制發光元件230所發射的光照射到受光元件。
對用於基板401以及基板403的材料沒有特別的限制。提取發光元件的光的一側的基板使用使該光透過的材料。例如，可以使用玻璃、石英、陶瓷、藍寶石以及有機樹脂等。作為不提取發光的一側的基板，也可以不具有透光性，所以除了上面例舉的基板之外還可以使用利用金屬材料或合金材料的金屬基板等。另外，基板401以 及基板403也可以使用上述實施方式所例示的基板材料。
不限制發光面板的密封方法，例如可以採用固體密封或中空密封。例如，作為密封材料可以使用玻璃粉等玻璃材料或者兩液混合型樹脂等在常溫下固化的樹脂、光硬化性樹脂、熱固性樹脂等樹脂。空間405既可以填充有氮或氬等惰性氣體，又可以填充有與密封層213同樣的樹脂等。另外，也可以在樹脂內包含上述乾燥劑、折射率高的填料或者散射構件。
本實施方式可以與其他實施方式適當地組合。
實施例
在本實施例中，製造本發明的一個方式的發光裝置。本實施例的發光裝置可以說為能夠折疊成三折的屏風式(tri-fold Folding Screen Type)顯示裝置。
圖18A和圖18B示出在本實施例中製造的發光裝置所具有的發光面板。本實施例所製造的發光裝置的結構與實施方式2所說明的具體例子1(圖7B)的結構的不同之處在於：在本實施例所製造的發光裝置中，基板103和基板201的大小不同；以及在不同顏色的像素之間配置有絕緣層217。關於其他結構，可以參照具體例子1等的說明。關於絕緣層217，可以參照具體例子2等的說明。
使用實施方式2所示的製造方法來製造發光 面板。
首先，在作為形成用基板301的玻璃基板上形成剝離層303，並在該剝離層303上形成被剝離層。另外，在作為形成用基板305的玻璃基板上形成剝離層307，並在該剝離層307上形成被剝離層。接著，將形成用基板301與形成用基板305以使形成有各被剝離層的面互相面對的方式貼合在一起。並且，將兩個形成用基板從各被剝離層剝離，將撓性基板貼合到各被剝離層。下面，示出各層的材料。
作為剝離層303及剝離層307，採用鎢膜與該鎢膜上的氧化鎢膜的疊層結構。
在構成剝離層的疊層結構中，雖然剛進行成膜後的剝離性較低，但是藉由加熱處理與無機絕緣膜起反應，剝離層與無機絕緣膜的介面的狀態發生變化而呈現脆性。並且，藉由形成剝離的起點，能夠進行物理剝離。
作為剝離層303上的被剝離層，製造絕緣層205、電晶體以及作為發光元件230的有機EL元件。作為剝離層307上的被剝離層，製造絕緣層255以及濾色片(相當於著色層259)等。
作為絕緣層205及絕緣層255都使用包括氧氮化矽膜以及氮化矽膜等的疊層結構。
作為電晶體，應用使用CAAC-OS(C Axis Aligned Crystalline Oxide Semiconductor：c軸配向結晶氧化物半導體)的電晶體。CAAC-OS不是非晶，所以缺陷 能階密度低，從而能夠提高電晶體的可靠性。另外，CAAC-OS不具有晶界，所以不容易因為具有撓性的裝置的彎曲所引起的應力而在CAAC-OS膜中產生裂縫。
CAAC-OS是在大致垂直於膜面的方向上c軸配向的氧化物半導體。還確認到氧化物半導體除了非晶結構及單晶結構之外還具有多種結晶結構諸如奈米尺寸的微晶集合體的nano-crystal(nc：奈米晶)結構等。CAAC的結晶性低於單晶結構而高於非晶結構或nc結構。
在本實施例中，應用使用In-Ga-Zn類氧化物的通道蝕刻型電晶體。該電晶體可以在玻璃基板上以低於500℃的製程製造。
當採用在塑膠基板等有機樹脂上直接製造電晶體等元件時，需要將元件的製程的溫度設定為低於有機樹脂的耐熱溫度。在本實施例中，形成用基板為玻璃基板，並且，作為無機膜的剝離層的耐熱性高，所以可以在與在玻璃基板上形成電晶體時相同的溫度下製造電晶體，從而可以容易確保電晶體的性能及可靠性。
作為發光元件230，使用包括具有呈現藍色光的發光層的螢光發光單元和具有呈現綠色光的發光層及呈現紅色光的發光層的磷光發光單元的串聯型有機EL元件。發光元件230採用頂部發射結構。作為發光元件230的下部電極231，在鋁膜上層疊鈦膜，在該鈦膜上層疊用作光學調整層的ITO膜。光學調整層的厚度根據各像素的顏色而改變。藉由組合濾色片和微腔結構，能夠從本實施 例所製造的發光面板提取顏色純度高的光。作為基板103及基板201使用具有撓性的厚度為20μm的有機樹脂薄膜。
在所製造的發光面板中，將發光部(像素部)的尺寸為對角線5.9英尺，像素數為720×1280×3(RGB)，像素間距為0.102mm×0.102mm，解析度為249ppi，孔徑比為45.2%。內置有掃描驅動器，並藉由使用COF(Chip On Film：薄膜覆晶封裝)外置源極驅動器。
圖19A至圖19D是示出本實施例所製造的發光裝置上的顯示的影像。圖19A示出展開狀態的發光裝置，圖19B和圖19C示出從展開狀態變成折疊狀態的途中狀態的發光裝置，圖19D示出折疊狀態的發光裝置。將彎曲部分的曲率半徑設定為4mm。在本實施例的發光裝置中，在顯示影像的狀態下折疊也在顯示或驅動時沒有發生問題。本實施例的發光裝置具有藉由感測器判斷展開狀態還是折疊狀態來根據其狀態顯示不同的影像的功能。由此，還具有停止折疊狀態下看不到的發光面板的區域的驅動而實現低功耗化的功能。
在此，如果由一對保護層和/或一對支撐面板完全固定發光面板，在使發光裝置彎曲時，則發光面板被拉伸而有可能導致發光面板的損壞。另外，在展開發光裝置時，壓力施加到發光面板所收縮的方向上而有可能導致發光面板損壞。在本實施例所製造的發光裝置中，沒有由 一對保護層和/或一對支撐面板完全固定發光面板。因此，當折疊或展開發光裝置時，發光面板滑動而使發光面板相對於一對保護層和/或一對支撐面板的位置變化。由此，能夠抑制因施加壓力而使發光面板受到損壞。
圖20A至圖20C示出本發明的一個方式的發光裝置。在此，示出發光面板11沒有由一對支撐面板15a(1)及支撐面板15b(1)固定的情況。發光面板11由一對支撐面板15a(2)及支撐面板15b(2)固定、由一對支撐面板15a(3)及支撐面板15b(3)固定、或者由該兩個一對面板固定。本發明的一個方式的發光裝置具有多個一對支撐面板，但由至少一對支撐面板固定發光面板即可。
圖20A所示的展開狀態的發光裝置中的發光面板11的鎖鏈線M1-N1上的顯示相當於圖20B所示的從展開狀態變成折疊狀態的途中狀態的發光裝置中的發光面板11的鎖鏈線M2-N2上的顯示。再者，該顯示相當於圖20C所示的折疊狀態的發光裝置中的發光面板11的鎖鏈線M3-N3上的顯示。如此，在本發明的一個方式的發光裝置中，發光面板沒有由一對保護層和/或一對支撐面板完全固定，因此，在折疊或展開發光裝置時，發光面板滑動。由此，發光面板相對於一對保護層和/或一對支撐面板的位置發生變化。因此，能夠抑制因為施加壓力而使發光面板受到損壞。
11:發光面板
13a:保護層
15a:支撐面板
15b:支撐面板

Claims (17)

  1. 一種發光裝置，包含發光面板，該發光面板設有發光區域、以及框狀地圍繞該發光區域的非發光區域，可將該發光面板的發光面向內側折彎，該發光裝置包含：
    第1保護層，保護該發光面板，並設置於該發光面板的下方；
    第1支撐體以及第2支撐體，支撐該發光面板，並設置於該發光面板的下方；
    第2保護層，保護該發光面板，並設置於該發光面板的上方；以及
    第3支撐體以及第4支撐體，支撐該發光面板，並設置於該發光面板的上方；
    其中，
    該發光面板具有：
    第1部分，與該第1支撐體有重疊；
    第2部分，與該第2支撐體有重疊；以及
    折彎部分，位於該第1部分與該第2部分之間，且在折彎狀態下具有曲率半徑；
    該第1支撐體隔著該第1部分與該第3支撐體有重疊；
    該第2支撐體隔著該第2部分與該第4支撐體有重疊；
    該第1保護層分別與該折彎部分、該第1部分、以及該第2部分有重疊；
    該第2保護層隔著該折彎部分的該非發光區域對應的 區域與該第1保護層有重疊，且不與該發光區域有重疊。
  2. 一種發光裝置，包含發光面板，該發光面板設有發光區域、以及框狀地圍繞該發光區域的非發光區域，可將該發光面板的發光面向內側折彎，該發光裝置包含：
    保護層，保護該發光面板，並設置於該發光面板的上方；以及
    第1支撐體以及第2支撐體，支撐該發光面板，並設置於該發光面板的下方；
    其中，
    該發光面板具有：
    第1部分，與該第1支撐體有重疊；
    第2部分，與該第2支撐體有重疊；以及
    折彎部分，位於該第1部分與該第2部分之間，且在折彎狀態下具有曲率半徑；
    該保護層與該折彎部分的該非發光區域對應的區域有重疊，且不與該發光區域有重疊；
    該發光面板包含驅動電路；
    該保護層與該驅動電路重疊。
  3. 一種發光裝置，包含發光面板，該發光面板設有發光區域、以及框狀地圍繞該發光區域的非發光區域，可將該發光面板的發光面向內側折彎，該發光裝置包含：
    保護層，保護該發光面板，並設置於該發光面板的上 方；以及
    第1支撐體以及第2支撐體，支撐該發光面板，並設置於該發光面板的下方；
    其中，
    該發光面板具有：
    第1部分，與該第1支撐體有重疊；
    第2部分，與該第2支撐體有重疊；以及
    折彎部分，位於該第1部分與該第2部分之間，且在折彎狀態下具有曲率半徑；
    該保護層與該折彎部分的該非發光區域對應的區域有重疊，且不與該發光區域有重疊；
    該保護層的開口部與該發光面板的發光區域有重疊；
    該第1支撐體與該第2支撐體分別與該發光面板的該發光區域以及非發光區域有重疊。
  4. 一種發光裝置，包含發光面板，該發光面板設有發光區域、以及框狀地圍繞該發光區域的非發光區域，可將該發光面板的發光面向內側折彎，該發光裝置包含：
    第1保護層，保護該發光面板，並設置於該發光面板的下方；
    第2保護層，保護該發光面板，並設置於該發光面板的上方；以及
    第1支撐體以及第2支撐體，支撐該發光面板，並設置於該發光面板的下方；
    其中，
    該發光面板具有：
    第1部分，與該第1支撐體有重疊；
    第2部分，與該第2支撐體有重疊；以及
    折彎部分，位於該第1部分與該第2部分之間，且在折彎狀態下具有曲率半徑；
    該第1保護層分別與該折彎部分、該第1部分、以及該第2部分有重疊；
    該第2保護層隔著該折彎部分的該非發光區域對應的區域與該第1保護層有重疊，且不與該發光區域有重疊；
    該發光面板包含外部連接電極；
    該外部連接電極至少設於該第1部分或該第2部分的其中之一。
  5. 如請求項1或4之發光裝置，
    其中，該第1保護層相較於該第1支撐體以及該第2支撐體具有較高的撓性。
  6. 如請求項1或4之發光裝置，
    其中，該第1保護層包含金屬。
  7. 如請求項2或3之發光裝置，
    其中，該保護層包含橡膠。
  8. 如請求項4之發光裝置，
    其中，該第1保護層包含金屬。
  9. 一種發光裝置，
    其中，如請求項2或3之該保護層，或請求項1或4之該 第2保護層，上述任何一者相較於該第1支撐體以及該第2支撐體具有較高的撓性。
  10. 如請求項1至4其中任何一項之發光裝置，
    其中，該發光面板包含電晶體，該電晶體在通道形成區域內含有多晶半導體。
  11. 如請求項1至4其中任何一項之發光裝置，
    其中，該發光面板包含發光元件，該發光元件包含低分子化合物。
  12. 如請求項1至4其中任何一項之發光裝置，
    其中，具有以下機能：
    當該發光裝置在折彎狀態下，不讓該發光面板發光。
  13. 如請求項1至4其中任何一項之發光裝置，
    其中，該區率半徑的最小值為1mm以上10mm以下。
  14. 如請求項1至4其中任何一項之發光裝置，
    其中，該第1支撐體以及該第2支撐體包含金屬。
  15. 一種發光面板，位於可將發光面向內側折彎的發光裝置之內，由第1支撐體、第2支撐體、第3支撐體、第4支撐體所支撐，由第1保護層以及第2保護層所保護，設置於該第1支撐體、第2支撐體、該第1保護層的 上方，設置於該第3支撐體、第4支撐體、該第2保護層的下方，且具有發光區域、以及框狀地圍繞該發光區域的非發光區域，該發光面板具有：
    第1部分，與該第1支撐體有重疊；
    第2部分，與該第2支撐體有重疊；以及
    折彎部分，位於該第1部分與該第2部分之間，且在折彎狀態下具有曲率半徑；
    其中，
    該第1部分具有位於該第1支撐體與該第3支撐體之間的區域；
    該第2部分具有位於該第2支撐體與該第4支撐體之間的區域；
    該折彎部分、該第1部分、以及該第2部分，分別與該第1保護層有重疊；
    該折彎部分的該非發光區域對應的區域，具有位於該第1保護層與該第2保護層之間的區域；
    該折彎部分的該發光區域對應的區域，不與該第2保護層有重疊。
  16. 如請求項15之發光面板，包含：
    電晶體，該電晶體在通道形成區域內含有多晶半導體。
  17. 如請求項15之發光面板，包含：
    發光元件，該發光元件包含低分子化合物。
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