TWI756761B - 紫外光固化裝置 - Google Patents

紫外光固化裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI756761B
TWI756761B TW109125844A TW109125844A TWI756761B TW I756761 B TWI756761 B TW I756761B TW 109125844 A TW109125844 A TW 109125844A TW 109125844 A TW109125844 A TW 109125844A TW I756761 B TWI756761 B TW I756761B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
gas
ultraviolet light
module
panel
casing
Prior art date
Application number
TW109125844A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202138922A (zh
Inventor
謝宏興
楚恒 王
Original Assignee
香港商正揚科技有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 香港商正揚科技有限公司 filed Critical 香港商正揚科技有限公司
Priority to US17/166,185 priority Critical patent/US11696964B2/en
Publication of TW202138922A publication Critical patent/TW202138922A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI756761B publication Critical patent/TWI756761B/zh

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41FPRINTING MACHINES OR PRESSES
    • B41F23/00Devices for treating the surfaces of sheets, webs, or other articles in connection with printing
    • B41F23/04Devices for treating the surfaces of sheets, webs, or other articles in connection with printing by heat drying, by cooling, by applying powders
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/04Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/04Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases
    • B05D3/0466Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases the gas being a non-reacting gas
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/06Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/06Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
    • B05D3/061Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using U.V.
    • B05D3/065After-treatment
    • B05D3/067Curing or cross-linking the coating

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

一種紫外光固化裝置,其包含噴氣模組、流量調節模組、紫外光固化模組及第一氣體通道。噴氣模組包含上面板、下面板及邊框;上面板設置於邊框之上側,下面板設置於邊框之下側並包含一個或以上的氣體出口;上面板、下面板及邊框之間形成氣體容室。第一氣體通道與噴氣模組連接。流量調節模組與第一氣體通道連接,並調節由第一氣體通道進入氣體容室之氣體之流量。紫外光固化模組包含紫外光源,紫外光固化模組設置於噴氣模組上,並與噴氣模組連接。

Description

紫外光固化裝置
本揭露係有關於一種固化裝置,特別是一種紫外光固化裝置。
近年來,紫外光發光二極體(UV-LED)已經商業化;由於紫外光發光二極體有較低的功耗,故己能用於替代了許多紫外光固化裝置的紫外光汞燈。雖然採用紫外光發光二極體的紫外光固化裝置能達到較低的功耗,但仍然需要克服氧氣抑制的問題,導致紫外光固化質量受到明顯影響。然而,現有的紫外光固化裝置並無法提供有效的解決方案。
由於目標物一直在移動,故空氣可以沿著目標物的移動路徑進入紫外光固化裝置與目標物之間的空間;因此,在紫外光固化程序中無法創建密閉環境。除非整個工作空間均處於真空環境下,否則不可能創造真空環境。 另外,形成真空環境將會大幅提升成本,並不符合成本效益。
另一種選擇是通過注入氣體來抑制氧氣(例如,氮氣、氦氣、氬氣及二氧化碳等)。 同樣的,在整個工作空間中插入氣體將會大幅提升成本,也不符合成本效益。
本揭露之一實施例提出一種紫外光固化裝置,其包含噴氣模組、流量調節模組、紫外光固化模組及第一氣體通道。噴氣模組包含上面板、下面板及邊框;上面板設置於邊框之上側,下面板設置於邊框之下側並包含氣體出口;上面板、下面板及邊框之間形成氣體容室。第一氣體通道與噴氣模組連接,並將氣體注入氣體容室。流量調節模組調節氣體之流量。紫外光固化模組包含紫外光源,紫外光固化模組設置於噴氣模組上,並與噴氣模組連接。其中,紫外光源發出之紫外光通過上面板及下面板向第一方向照射,而氣體由氣體出口向第一方向噴出。
本揭露之另一實施例提出一種紫外光固化裝置,其包含噴氣模組、紫外光固化模組及流量調節模組。噴氣模組包含面板及邊框,面板設置於邊框之側,並包含氣體出口。紫外光固化模組包含紫外光源及第一氣體通道,紫外光固化模組設置於邊框之上側,使紫外光固化模組、面板及邊框之間形成氣體容室。第一氣體通道與氣體容室連接,並將氣體注入氣體容室。流量調節模組調節由氣體之流量。其中,紫外光源發出之紫外光通過面板向第一方向照射,而氣體由氣體出口向第一方向噴出。
以下將參照相關圖式,說明依本揭露之紫外光固化裝置之實施例,為了清楚與方便圖式說明之故,圖式中的各部件在尺寸與比例上可能會被誇大或縮小地呈現。在以下描述及/或申請專利範圍中,當提及元件「連接」或「耦合」至另一元件時,其可直接連接或耦合至該另一元件或可存在介入元件;而當提及元件「直接連接」或「直接耦合」至另一元件時,不存在介入元件,用於描述元件或層之間之關係之其他字詞應以相同方式解釋。為使便於理解,下述實施例中之相同元件係以相同之符號標示來說明。
請參閱第1圖及第2圖,其係為本揭露之第一實施例之紫外光固化裝置之前視圖及側視圖。如圖所示,紫外光固化裝置1包含噴氣模組11、流量調節模組12及紫外光固化模組13。
紫外光固化模組13包含殼體131、複數個紫外光源132及冷卻劑通道133。該些紫外光源132設置於殼體131之底部,並可呈直線排列。在本實施例中,該些紫外光源132可為紫外光發光二極體陣列;在另一實施例中,該些紫外光源132也可為紫外光汞燈或其它類似的光源。上述各元件的數量可依實際需求調整;在另一實施例中,紫外光固化模組33也可只有一紫外光源332或具有數個冷卻劑通道133。冷卻劑通道133設置於紫外光固化模組13內部;冷卻劑T由冷卻劑通道133的入口流入,再由冷卻劑通道133的出口流出,以冷卻紫外光固化模組13。該些紫外光源132及其它元件會產生大量的熱能,而透過冷卻劑通道133則可有效地冷卻該些紫外光源132及其它元件,使紫外光固化模組13能正常運作。在本實施例中,冷卻劑T可為液體冷卻劑;在另一實施例中,冷卻劑T也可為氣體冷卻劑。
在本實施例中,噴氣模組11為中空且扁平的容器,其包含上面板111、下面板112及邊框113;在另一實施例中,噴氣模組11也可為具有不同的形狀的容器。在本實施例中,上面板111及下面板112可為玻璃製成,如石英玻璃;在另一實施例中,上面板111及下面板112也可由其它適當的透明材料或紫外光穿透(UV pass)材料製成。上面板111設置於邊框113之上側,而下面板112設置於邊框113之下側,使上面板111、下面板112及邊框113之間形成氣體容室C。在本實施例中,上面板111及下面板112可為平面鏡;在另一實施例中,上面板111及下面板112也可為凹面鏡、凸面鏡及其它各種球面鏡或非球面鏡。
紫外光固化裝置1更包含包含複數個第一氣體通道A1 in;該些第一氣體通道A1 in設置於上面板111上,以與氣體容室C連接。下面板112則包含複數個氣體出口A out;該些氣體出口A out平均分佈於下面板112。紫外光固化模組13則設置於噴氣模組11上,且紫外光固化模組13的該些紫外光源132與上面板111接觸。在另一實施例中,紫外光固化裝置1也可只有一個第一氣體通道A1 in及一個氣體出口A out,各元件的數量均可依實際需求調整。
流量調節模組12與氣體儲存槽(未繪於圖中)及該些第一氣體通道A1 in連接。氣體儲存槽將氣體N輸入至該些第一氣體通道A1 in,流量調節模組12則調節進入氣體容室C之氣體N之流量。在本實施例中,氣體N可為氮氣;在另一實施例中,氣體N也可為二氧化碳或其它非活性氣體;在又一實施例中,氣體N也可為惰性氣體,例如氦氣、氬氣等。
紫外光固化裝置1還可包含工作台14,工作台14設置於噴氣模組1下。使用者可將目標物K設置於工作台14上,以進行紫外光固化程序。其中,工作台14可具有傳送帶或其它類似的機構,以移動目標物K。在本實施例中,目標物K可為帶有墨水(或清漆)的紙張。
請參閱第3A圖及第3B圖,其係為本揭露之第一實施例之紫外光固化裝置之噴氣模組之下面板之結構圖(第3A圖及第3B圖未按比例繪製)。如第3A圖所示,下面板112的該些氣體出口A out可為孔洞。如第3B圖所示,下面板112的該些氣體出口A out也可為溝槽。在另一實施例中,下面板112的結構也可依實際需求變化。
請參閱第4圖,其係為本揭露之第一實施例之紫外光固化裝置之運作狀態之示意圖。如圖所示,當紫外光固化裝置1啟動時,工作台14可沿箭頭F的方向移動目標物K。然後,氣體N由噴氣模組11的下面板112的該些氣體出口A out向第一方向D1噴出至目標物K的表面,以排除目標物K的表面的空氣;同時,紫外光固化模組13的該些紫外光源132發出之紫外光U通過上面板111及下面板112向第一方向D1照射。
上述的機制使該些紫外光源132發出之紫外光U照射至目標物K的表面的瞬間,該些氣體出口A out噴出之氣體N已排除目標物K之表面之空氣,使目標物K表面的墨水在固化的過程中不會受到空氣中氧氣的影響,故紫外光固化質量能夠大幅提升。使用者能適當的透過流量調節模組12調整氣體N的流量,使紫外光固化裝置1能達到最佳的紫外光固化質量。
另外,如前述上面板111及下面板112也可為凹面鏡、凸面鏡及其它各種球面鏡或非球面鏡。因此,上面板111及下面板112也可以提供聚光、散光或其它功能以適當地調整該些紫外光源132發出之紫外光U,以符合各種不同應用的需求。
由上述可知,紫外光固化裝置1以特殊的結構設計整合噴氣模組11及紫外光固化模組13,故可以有效地在紫外光固化程序中有效地抑制氧氣,使紫外光固化質量能夠大幅提升。
另外,紫外光固化裝置1的噴氣模組11為中空且扁平的容器,其能夠以高效率的方式運用氣體N。因此,紫外光固化裝置1不需真空環境也可以用少量的氣體N有效地在紫外光固化程序中有效地抑制氧氣,故能有效地降低成本,且符合成本效益。
此外,紫外光固化裝置1不但可應用於印刷業,更可應用於其它不同的行業,且能在符合成本效益的前提下有效地提升紫外光固化質量,應用上更為廣泛。
上述僅為舉例,紫外光固化裝置1之各元件及其協同關係均可依實際需求變化,本揭露並不以此為限。
值得一提的是,現有的紫外光固化裝置並無法提供有效的解決方案以克服氧氣抑制的問題,導致紫外光固化質量受到明顯影響。相反的,根據本揭露之實施例,紫外光固化裝置以特殊的結構設計整合噴氣模組及紫外光固化模組,故可以有效地在紫外光固化程序中抑制氧氣,使紫外光固化質量能夠大幅提升。
另外,根據本揭露之實施例,紫外光固化裝置以特殊的結構設計整合噴氣模組及紫外光固化模組,並透過噴氣模組將惰性氣體或非活性氣體直接噴發至目標物的表面以排除目標物之表面之空氣,故不需要創造真空環境,使紫外光固化裝置能有效地降低成本,且符合成本效益。
此外,根據本揭露之實施例,紫外光固化裝置以特殊的結構設計整合噴氣模組及紫外光固化模組,並透過噴氣模組提供抑制氧氣用的惰性氣體或非活性氣體,故能大幅地降低惰性氣體或非活性氣體的消耗量,使紫外光固化裝置能有效地降低成本,且符合成本效益。
再者,根據本揭露之實施例,紫外光固化裝置可應用於許多不同的行業,且能在符合成本效益的前提下有效地提升紫外光固化質量,應用上更為廣泛。由上述可知,本揭露確實可以達到無法預期的功效。
請參閱第5圖及第6圖,其係為本揭露之第二實施例之紫外光固化裝置之前視圖及側視圖。如圖所示,紫外光固化裝置2包含噴氣模組21、流量調節模組22及紫外光固化模組23。
紫外光固化模組23包含殼體231、複數個紫外光源232、冷卻劑通道233、複數個第一氣體通道A1 in及複數個第二氣體通道A2 in。上述各元件的數量可依實際需求調整;在另一實施例中,紫外光固化模組23也可僅有一紫外光源232、一第一氣體通道A1 in及一個第二氣體通道A2 in,或具有多個冷卻劑通道233。該些紫外光源232設置於殼體231之底部,並可呈直線排列。冷卻劑通道233設置於紫外光固化模組23內部;冷卻劑T由冷卻劑通道233的入口流入,再由冷卻劑通道233的出口流出,以冷卻紫外光固化模組23。各個第一氣體通道A1 in由殼體231之頂面延伸至殼體231之底面,使各個第一氣體通道A1 in之入口由殼體231之頂面露出,且各個第一氣體通道A1 in之出口由殼體231之底面露出。各個第二氣體通道A2 in由殼體231之一側經過殼體231的內部延伸至殼體231之另一側,並與一個或多個第一氣體通道A1 in連接,使由該些第二氣體通道A2 in輸入之氣體N能由該些第一氣體通道A1 in之出口排出。
在本實施例中,噴氣模組21為中空且扁平的容器,其包含上面板211、下面板212及邊框213;在另一實施例中,噴氣模組21也可為具有不同的形狀的容器。上面板211設置於邊框213之上側並包含開口O p,而下面板212設置於邊框213之下側。下面板212則包含複數個氣體出口A out;該些氣體出口A out平均分佈於下面板212。在另一實施例中,紫外光固化裝置2也可只有一個氣體出口A out,氣體出口A out的數量均可依實際需求調整。紫外光固化模組23則設置於噴氣模組21上,並與開口O p連接,使紫外光固化模組23、上面板211、下面板212及邊框213之間形成氣體容室C,使該些第一氣體通道A1 in之出口與氣體容室C連接。其中,紫外光固化模組23之底面可與開口O p連接,使該些第一氣體通道A1 in之出口及該些紫外光源232位於開口O p內。在本實施例中,上面板211及下面板212可為平面鏡;在另一實施例中,上面板211及下面板212也可為凹面鏡、凸面鏡及其它各種球面鏡或非球面鏡。
流量調節模組22與氣體儲存槽(未繪於圖中)及該些第一氣體通道A1 in及該些第二氣體通道A2 in連接。氣體儲存槽將氣體N輸入至該些氣體通道A1 in,流量調節模組22則調節進入氣體容室C之氣體N之流量。
紫外光固化裝置2還可包含工作台24,工作台24設置於噴氣模組2下。使用者可將目標物K設置於工作台24上,以進行紫外光固化程序。其中,工作台24可具有傳送帶或其它類似的機構,以移動目標物K。在本實施例中,目標物K可為帶有墨水(或清漆)的紙張。
請參閱第7圖,其係為本揭露之第二實施例之紫外光固化裝置之運作狀態之示意圖。如圖所示,當紫外光固化裝置2啟動時,工作台24可沿箭頭F的方向移動目標物K。然後,氣體N由噴氣模組21的下面板212的該些氣體出口A out向第一方向D1噴出至目標物K的表面,以排除目標物K的表面的空氣;同時,紫外光固化模組23的該些紫外光源232發出之紫外光通過上面板211及下面板212向第一方向D1照射。
同樣的,上述的機制使該些紫外光源232發出之紫外光U照射至目標物K的表面的瞬間,該些氣體出口A out噴出之氣體N已排除目標物K之表面之空氣,使目標物K表面的墨水在固化的過程中不會受到空氣中氧氣的影響,故紫外光固化質量能夠大幅提升。
同樣的,如前述上面板211及下面板212也可為凹面鏡、凸面鏡及其它各種球面鏡或非球面鏡。因此,上面板211及下面板212也可以提供聚光、散光或其它功能,以適當地調整該些紫外光源232發出之紫外光U,以符合各種不同應用的需求。
由上述可知,紫外光固化裝置1以另一種結構設計整合噴氣模組21及紫外光固化模組23,其同樣可以有效地在紫外光固化程序中有效地抑制氧氣,使紫外光固化質量能夠大幅提升。
上述僅為舉例,紫外光固化裝置2之各元件及其協同關係均可依實際需求變化,本揭露並不以此為限。
請參閱第8圖及第9圖,其係為本揭露之第三實施例之紫外光固化裝置之前視圖及側視圖。如圖所示,紫外光固化裝置3包含噴氣模組31、流量調節模組32及紫外光固化模組33。
紫外光固化模組33包含殼體331、複數個紫外光源332、第一冷卻劑通道333-1、複數個第二冷卻劑通道333-2、複數個第一氣體通道A1 in及複數個第二氣體通道A2 in。上述各元件的數量可依實際需求調整;在另一實施例中,紫外光固化模組33也可僅有一紫外光源332、一第二冷卻劑通道333-2、一第一氣體通道A1 in及一個第二氣體通道A2 in,或具有多個第一冷卻劑通道333-1。
該些紫外光源332設置於殼體331之底部,並可呈直線排列;在本實施例中,該些紫外光源332可為紫外光發光二極體陣列。
第一冷卻劑通道333-1設置於紫外光固化模組33內部。第一冷卻劑通道333-1之入口及出口設置於殼體331之頂面;其中,第一冷卻劑通道333-1之一端由殼體331之頂面延伸至殼體331之內部,而第一冷卻劑通道333-1之另一端則露出殼體331之頂面。該些第二冷卻劑通道333-2設置於紫外光固化模組33內部;其中,該些第二冷卻劑通道333-2由殼體331之二側(相鄰的二側或相對的二側)延伸至殼體331的內部以連接至第一冷卻劑通道333-1,以做為冷卻劑T的入口或出口。透過將冷卻劑T注入至第一冷卻劑通道333-1及該些第二冷卻劑通道333-2能有效地冷卻紫外光固化模組33。該些紫外光源332及其它元件會產生大量的熱能,而透過冷卻劑通道333則可有效地冷卻該些紫外光源32及其它元件,使紫外光固化模組33能正常運作。
各個第一氣體通道A1 in由殼體331之頂面延伸至殼體331之底面,使各個第一氣體通道A1 in之入口由殼體331之頂面露出,且各個第一氣體通道A1 in之出口由殼體331之底面露出。該些第二氣體通道A2 in由殼體231之二側(相鄰的二側或相對的二側)延伸至殼體231的內部,並與一個或多個第一氣體通道A1 in連接,使由該些第二氣體通道A2 in輸入之氣體N能由該些第一氣體通道A1 in之出口排出。
噴氣模組31包含面板310及邊框313。面板310設置於邊框313之下側,且面板310包含複數個氣體出口A out;該些氣體出口A out平均分佈於面板310。在另一實施例中,紫外光固化裝置3也可只有一個氣體出口A out,氣體出口A out的數量均可依實際需求調整。紫外光固化模組33則設置邊框313之上側,使紫外光固化模組23、面板310及邊框313之間形成氣體容室C。該些第一氣體通道A1 in之出口與氣體容室C連接,且紫外光源332位於氣體容室C中。同樣的,面板310可為玻璃製成,如石英玻璃或其它適當的透明材料或紫外光穿透(UV pass)材料製成。在本實施例中,面板310可為平面鏡;在另一實施例中,面板310也可為凹面鏡、凸面鏡及其它各種球面鏡或非球面鏡。
流量調節模組32與氣體儲存槽(未繪於圖中)及該些第一氣體通道A1 in及該些第二氣體通道A2 in連接。氣體儲存槽將氣體N輸入至該些氣體通道A1 in,流量調節模組32則調節進入氣體容室C之氣體N之流量。
當紫外光固化裝置3啟動時。然後,氣體N由噴氣模組31的面板310的該些氣體出口A out向第一方向D1噴出至目標物K的表面,以排除目標物K的表面的空氣;同時,紫外光固化模組33的該些紫外光源332發出之紫外光U通過上面板311及面板310向第一方向D1照射。
上述的機制使該些紫外光源332發出之紫外光U照射至目標物K的表面的瞬間,該些氣體出口A out噴出之氣體N已排除目標物K之表面之空氣,使目標物K表面的墨水在固化的過程中不會受到空氣中氧氣的影響,故紫外光固化質量能夠大幅提升。
同樣的,面板310也可為凹面鏡、凸面鏡及其它各種球面鏡或非球面鏡。因此,面板310也可以提供聚光、散光或其它功能,以適當地調整該些紫外光源332發出之紫外光U,以符合各種不同應用的需求。
由上述可知,紫外光固化裝置3採用更緊湊的結構設計,使其可以成為一個微型裝置,使紫外光固化裝置3能夠應用於許多小的工作空間,且能有效提升紫外光固化質量。
上述僅為舉例,紫外光固化裝置3之各元件及其協同關係均可依實際需求變化,本揭露並不以此為限。
本揭露各實施例之紫外光固化裝置可應用於各種不同的行業﹔例如,印刷業(墨水及清漆 (光油))、光通訊業(粘著劑)、電子業(粘著劑、印刷電路板的防焊膜)及家具業(清漆)等,應用上更為廣泛。
綜上所述,根據本揭露之實施例,紫外光固化裝置以特殊的結構設計整合噴氣模組及紫外光固化模組,故可以有效地在紫外光固化程序中抑制氧氣,使紫外光固化質量大幅提升。
又,根據本揭露之實施例,紫外光固化裝置以特殊的結構設計整合噴氣模組及紫外光固化模組,並透過噴氣模組將惰性氣體或非活性氣體直接噴發至目標物的表面以排除目標物之表面之空氣,故不需要創造真空環境,使紫外光固化裝置能有效地降低成本,且符合成本效益。
此外,根據本揭露之實施例,紫外光固化裝置以特殊的結構設計整合噴氣模組及紫外光固化模組,並透過噴氣模組提供抑制氧氣用的惰性氣體或非活性氣體,故能大幅地降低惰性氣體或非活性氣體的消耗量,使紫外光固化裝置能有效地降低成本,且符合成本效益。
另外,根據本揭露之實施例,紫外光固化裝置透過特殊的結構設計將紫外光源及輸入惰性氣體或非活性氣體用的第一氣體通道整合於同一模組,使紫外光固化裝置的體積能夠大幅縮小,故能應用於一些微小的工作空間。
再者,根據本揭露之實施例,紫外光固化裝置可應用於許多不同的行業,且能在符合成本效益的前提下有效地提升紫外光固化質量,應用上更為廣泛。
可見本揭露在突破先前之技術下,確實已達到所欲增進之功效,且也非熟悉該項技藝者所易於思及,其所具之進步性、實用性,顯已符合專利之申請要件,爰依法提出專利申請,懇請  貴局核准本件發明專利申請案,以勵創作,至感德便。
以上所述僅為舉例性,而非為限制性者。其它任何未脫離本揭露之精神與範疇,而對其進行之等效修改或變更,均應該包含於後附之申請專利範圍中。
1: 紫外光固化裝置 11: 噴氣模組 111: 上面板 112: 下面板 113: 邊框 12: 流量調節模組 13: 紫外光固化模組 131: 殼體 132: 紫外光源 133: 冷卻劑通道 14: 工作台 2: 紫外光固化裝置 21: 噴氣模組 211: 上面板 212: 下面板 213: 邊框 22: 流量調節模組 23: 紫外光固化模組 231: 殼體 232: 紫外光源 233: 冷卻劑通道 24: 工作台 3: 紫外光固化裝置 31: 噴氣模組 310: 面板 313: 邊框 32: 流量調節模組 33: 紫外光固化模組 331: 殼體 332: 紫外光源 333-1: 第一冷卻劑通道 333-2: 第二冷卻劑通道 C: 氣體容室 A1 in: 第一氣體通道 A2 in: 第二氣體通道 A out: 氣體出口 N: 氣體 T: 冷卻劑 K: 目標物 U: 紫外光 O p: 開口 D1: 第一方向
第1圖 係為本揭露之第一實施例之紫外光固化裝置之前視圖。
第2圖 係為本揭露之第一實施例之紫外光固化裝置之側視圖。
請參閱第3A圖及第3B圖 係為本揭露之第一實施例之紫外光固化裝置之噴氣模組之下面板之結構圖。
第4圖 係為本揭露之第一實施例之紫外光固化裝置之運作狀態之示意圖。
第5圖 係為本揭露之第二實施例之紫外光固化裝置之前視圖。
第6圖 係為本揭露之第二實施例之紫外光固化裝置之側視圖。
第7圖 係為本揭露之第二實施例之紫外光固化裝置之運作狀態之示意圖。
第8圖 係為本揭露之第三實施例之紫外光固化裝置之前視圖。
第9圖 係為本揭露之第三實施例之紫外光固化裝置之側視圖。
1: 紫外光固化裝置 11: 噴氣模組 111: 上面板 112: 下面板 113: 邊框 12: 流量調節模組 13: 紫外光固化模組 131: 殼體 132: 紫外光源 133: 冷卻劑通道 14: 工作台 C: 氣體容室 A1 in: 第一氣體通道 A out: 氣體出口 N: 氣體 T: 冷卻劑 K: 目標物

Claims (10)

  1. 一種紫外光固化裝置,係包含: 一噴氣模組,係包含一上面板、一下面板及一邊框,該上面板設置於該邊框之上側,該下面板設置於該邊框之下側並包含一氣體出口,該上面板、該下面板及該邊框之間形成一氣體容室; 一第一氣體通道,係與該噴氣模組連接,並將一氣體注入該氣體容室; 一流量調節模組,係與該第一氣體通道連接,並調節由該氣體之流量;以及 一紫外光固化模組,係包含一紫外光源,該紫外光固化模組設置於該噴氣模組上; 其中,該紫外光源發出之紫外光通過該上面板及該下面板向一第一方向照射,而該氣體由該氣體出口向該第一方向噴出。
  2. 如請求項1所述之紫外光固化裝置,其中該紫外光源與該上面板接觸,該紫外光固化模組更包含用以冷卻該紫外光源之一冷卻劑通道,而該第一氣體通道設置於該上面板上,以與該氣體容室連接。
  3. 如請求項1所述之紫外光固化裝置,其中該上面板包含一開口,該紫外光固化模組與該開口連接,使該紫外光固化模組、該上面板、該下面板及該邊框之間形成該氣體容室,且該紫外光源位於該氣體容室中。
  4. 如請求項1所述之紫外光固化裝置,更包含一第二氣體通道,而該紫外光固化模組更包含一殼體,該第一氣體通道由該殼體之頂面延伸至該殼體之底面,使該第一氣體通道之入口由該殼體之頂面露出,且該第一氣體通道之出口由該殼體之底面露出並連接至該氣體容室,該第二氣體通道由該殼體之一側經過該殼體的內部延伸至該殼體之另一側,並與該第一氣體通道連接。
  5. 如請求項1所述之紫外光固化裝置,其中該上面板及該下面板為平面鏡、凹面鏡、凸面鏡、球面鏡或非球面鏡。
  6. 一種紫外光固化裝置,係包含: 一噴氣模組,係包含一面板及一邊框,該面板設置於該邊框之下側,並包含一氣體出口; 一紫外光固化模組,係包含一紫外光源及一第一氣體通道,該紫外光固化模組設置於該邊框之上側,使該紫外光固化模組、該面板及該邊框之間形成一氣體容室,該第一氣體通道與該氣體容室連接,並將一氣體注入該氣體容室;以及 一流量調節模組,係與該第一氣體通道連接,並調節由該氣體之流量; 其中,該紫外光源發出之紫外光通過該面板向一第一方向照射,而該氣體由該氣體出口向該第一方向噴出。
  7. 如請求項6所述之紫外光固化裝置,更包含一第二氣體通道,該紫外光固化模組更包含一殼體,該第一氣體通道由該殼體之頂面延伸至該殼體之底面,使該第一氣體通道之入口由該殼體之頂面露出,且該第一氣體通道之出口由該殼體之底面露出並連接至該氣體容室,該第二氣體通道由該殼體之一側延伸至該殼體的內部,並與該第一氣體通道連接。
  8. 如請求項7所述之紫外光固化裝置,其中該紫外光固化模組更包含用以冷卻該紫外光源之一第一冷卻劑通道,該第一冷卻劑通道延伸至該殼體之內部,且該第一冷卻劑通道之入口及出口設置於該殼體之頂面。
  9. 如請求項8所述之紫外光固化裝置,其中該紫外光固化模組更包含一第二冷卻劑通道,該第二冷卻劑通道由該殼體之一側延伸至該殼體的內部以連接至該第一冷卻劑通道。
  10. 如請求項6所述之紫外光固化裝置,其中該面板為平面鏡、凹面鏡、凸面鏡、球面鏡或非球面鏡。
TW109125844A 2020-04-06 2020-07-30 紫外光固化裝置 TWI756761B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US17/166,185 US11696964B2 (en) 2020-04-06 2021-02-03 Ultraviolet device

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US202063005530P 2020-04-06 2020-04-06
US63/005,530 2020-04-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202138922A TW202138922A (zh) 2021-10-16
TWI756761B true TWI756761B (zh) 2022-03-01

Family

ID=77994967

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109125844A TWI756761B (zh) 2020-04-06 2020-07-30 紫外光固化裝置

Country Status (3)

Country Link
CN (1) CN113492576B (zh)
TW (1) TWI756761B (zh)
WO (1) WO2021203216A1 (zh)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101208770A (zh) * 2005-06-22 2008-06-25 艾克塞利斯技术公司 用于处理介电材料的设备和方法
TWI521562B (zh) * 2013-11-14 2016-02-11 台灣積體電路製造股份有限公司 紫外光固化裝置與應用其之紫外光固化方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR920007954B1 (ko) * 1985-07-15 1992-09-19 시티즌 도께이 가부시기가이샤 자외선 조사(照射) 접착장치
TW260806B (zh) * 1993-11-26 1995-10-21 Ushio Electric Inc
JP4218192B2 (ja) * 1999-08-05 2009-02-04 株式会社日立ハイテクノロジーズ 基板処理装置及び処理方法
JP2001113163A (ja) * 1999-10-20 2001-04-24 Hoya Schott Kk 紫外光照射装置及び方法
JP2003224117A (ja) * 2002-01-31 2003-08-08 Advanced Lcd Technologies Development Center Co Ltd 絶縁膜の製造装置
CN1638932A (zh) * 2002-02-28 2005-07-13 亨凯尔公司 使用可光固化树脂生产助听器壳的光固化设备和方法
US7964858B2 (en) * 2008-10-21 2011-06-21 Applied Materials, Inc. Ultraviolet reflector with coolant gas holes and method
CN201432469Y (zh) * 2009-04-27 2010-03-31 刘洪生 一种紫外线干燥箱
JP2011005726A (ja) * 2009-06-25 2011-01-13 Ushio Inc 光照射装置
CN102518971A (zh) * 2011-12-30 2012-06-27 深圳市润天智数字设备股份有限公司 一种紫外线发光二极管光源
CN206416675U (zh) * 2016-06-14 2017-08-18 广州巍泰机电有限公司 光固化防阻聚的印刷装置
CN108081597A (zh) * 2016-11-22 2018-05-29 湖南华曙高科技有限责任公司 消除氧气对光固化影响的方法、系统、装置及光固化设备
CN106585085B (zh) * 2016-12-28 2019-12-20 谢宽睿 一种防氧阻聚uv光固机及其uv光固化工艺流程
CN109203666A (zh) * 2017-07-03 2019-01-15 深圳市益华节能环保科技有限公司 Uvled固化模组
CN108528026A (zh) * 2018-03-09 2018-09-14 卢振华 一种供电可编程、氮气阻氧的紫外led固化装置
CN210010146U (zh) * 2019-05-16 2020-02-04 福建成和光电科技有限公司 一种uv胶紫外线固化装置
CN110813671B (zh) * 2019-10-31 2024-07-09 中山市优绿智得数码科技有限公司 一种新型eb固化氮气保护装置
CN110694872A (zh) * 2019-11-14 2020-01-17 中山易必固新材料科技有限公司 一种用于板材紫外固化的气体保护装置以及充气系统

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101208770A (zh) * 2005-06-22 2008-06-25 艾克塞利斯技术公司 用于处理介电材料的设备和方法
TWI521562B (zh) * 2013-11-14 2016-02-11 台灣積體電路製造股份有限公司 紫外光固化裝置與應用其之紫外光固化方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2021203216A1 (zh) 2021-10-14
CN113492576B (zh) 2022-11-29
TW202138922A (zh) 2021-10-16
CN113492576A (zh) 2021-10-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109723982B (zh) 光照射装置
US7527695B2 (en) Apparatus and method for cleaning substrate
TWI756761B (zh) 紫外光固化裝置
CN1496827A (zh) 喷墨头、过滤器组件以及喷墨头的制造方法
CN112384369B (zh) 光照射装置以及印刷装置
JP2013111489A (ja) 光照射装置
WO2018113152A1 (zh) 一种油墨固化装置及喷墨打印机的字车机构
JP6550964B2 (ja) 光処理装置およびその製造方法
WO2020067158A1 (ja) 光照射装置および印刷装置
US11696964B2 (en) Ultraviolet device
JP5720768B2 (ja) 印刷装置
WO2016042974A1 (ja) 光照射装置
TWI595818B (zh) In addition to the slag treatment device
KR20130053373A (ko) 조사 장치 및, 조사 방법
JP2012187583A (ja) インクジェット印刷装置
CN111359994B (zh) 清洗装置
WO2012117766A1 (ja) Led光照射装置および印刷装置
KR100539403B1 (ko) 광 조사기의 순환 공냉 시스템
JP5822035B2 (ja) インクジェット印刷装置
WO2022137595A1 (ja) 活性エネルギ照射装置
JP2013103427A (ja) 照射装置、及び照射方法
WO2021187242A1 (ja) 光照射装置
WO2022153575A1 (ja) 活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システム
JP5857654B2 (ja) 照射装置
JP6245020B2 (ja) 液体吐出装置