WO2022153575A1 - 活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システム - Google Patents

活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システム Download PDF

Info

Publication number
WO2022153575A1
WO2022153575A1 PCT/JP2021/020025 JP2021020025W WO2022153575A1 WO 2022153575 A1 WO2022153575 A1 WO 2022153575A1 JP 2021020025 W JP2021020025 W JP 2021020025W WO 2022153575 A1 WO2022153575 A1 WO 2022153575A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
active energy
energy irradiation
inert gas
housing
irradiation device
Prior art date
Application number
PCT/JP2021/020025
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
恭一 村山
圭太 梅野
Original Assignee
浜松ホトニクス株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 浜松ホトニクス株式会社 filed Critical 浜松ホトニクス株式会社
Priority to EP21919468.5A priority Critical patent/EP4249111A1/en
Priority to IL303867A priority patent/IL303867A/en
Priority to US18/269,318 priority patent/US20240050919A1/en
Publication of WO2022153575A1 publication Critical patent/WO2022153575A1/ja

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J11/00—Devices or arrangements  of selective printing mechanisms, e.g. ink-jet printers or thermal printers, for supporting or handling copy material in sheet or web form
    • B41J11/0015—Devices or arrangements  of selective printing mechanisms, e.g. ink-jet printers or thermal printers, for supporting or handling copy material in sheet or web form for treating before, during or after printing or for uniform coating or laminating the copy material before or after printing
    • B41J11/002—Curing or drying the ink on the copy materials, e.g. by heating or irradiating
    • B41J11/0021—Curing or drying the ink on the copy materials, e.g. by heating or irradiating using irradiation
    • B41J11/00214—Curing or drying the ink on the copy materials, e.g. by heating or irradiating using irradiation using UV radiation
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N5/00—Radiation therapy
    • A61N5/10—X-ray therapy; Gamma-ray therapy; Particle-irradiation therapy
    • A61N5/1042—X-ray therapy; Gamma-ray therapy; Particle-irradiation therapy with spatial modulation of the radiation beam within the treatment head
    • A61N5/1045—X-ray therapy; Gamma-ray therapy; Particle-irradiation therapy with spatial modulation of the radiation beam within the treatment head using a multi-leaf collimator, e.g. for intensity modulated radiation therapy or IMRT
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/08—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation
    • B05C9/12—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation the auxiliary operation being performed after the application
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J11/00—Devices or arrangements  of selective printing mechanisms, e.g. ink-jet printers or thermal printers, for supporting or handling copy material in sheet or web form
    • B41J11/0015—Devices or arrangements  of selective printing mechanisms, e.g. ink-jet printers or thermal printers, for supporting or handling copy material in sheet or web form for treating before, during or after printing or for uniform coating or laminating the copy material before or after printing
    • B41J11/002—Curing or drying the ink on the copy materials, e.g. by heating or irradiating
    • B41J11/0021—Curing or drying the ink on the copy materials, e.g. by heating or irradiating using irradiation
    • B41J11/00218—Constructional details of the irradiation means, e.g. radiation source attached to reciprocating print head assembly or shutter means provided on the radiation source
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01—Ink jet

Definitions

  • the present disclosure relates to an active energy irradiation device and an active energy irradiation system.
  • An active energy irradiation device including an active energy irradiation unit that irradiates an object to be irradiated with an active energy ray and an inert gas supply unit that supplies an inert gas to a region between the object to be irradiated and the active energy irradiation unit. It is known (see, for example, Patent Document 1).
  • the region between the irradiated object and the active energy irradiation unit is used in order to suppress the action generated in the irradiated object by the irradiation of the active energy beam from being inhibited by oxygen in the air. Is supplied with an inert gas.
  • the inert gas is not uniformly ejected to the object (object to be irradiated).
  • a porous portion is provided at the end of the space into which the active gas is introduced (the end facing the object).
  • the pressure of the inert gas increases in the space section, there is a structural restriction such as the need to improve the pressure resistance and airtightness of the space section. There is a risk of receiving.
  • An object of the present disclosure is to provide an active energy irradiation device and an active energy irradiation system that are not subject to structural restrictions and can uniformly eject an inert gas to an object to be irradiated.
  • the active energy irradiation device includes an active energy irradiation unit having an exit surface for emitting active energy rays and an inert gas supply unit having an outlet for ejecting an inert gas.
  • the active gas supply unit includes a housing provided with a spout, a connection portion provided in the housing and capable of connecting a pipe for supplying the inert gas into the housing, and a throttle provided in the connection portion. Includes parts and.
  • a connection portion is provided in a housing provided with a spout, and a throttle portion is provided in the connection portion.
  • the exit surface extends in both the first direction and the second direction perpendicular to the first direction, and is perpendicular to both the first direction and the second direction.
  • the active energy ray is emitted to one side of the three directions, and the ejection port is located on one side of the second direction with respect to the exit surface, and the inert gas may be ejected to one side of the third direction. ..
  • the active gas is supplied to the region between the object to be irradiated and the active energy irradiation unit. Therefore, it is possible to effectively suppress the mixing of oxygen in the region between the irradiated object and the active energy irradiation portion.
  • the spout may have a long shape with the first direction as the longitudinal direction.
  • the inert gas can be uniformly ejected to the irradiated object transported from one side in the second direction to the other side in the second direction with respect to the emission surface of the active energy irradiation unit.
  • the throttle portion may include a porous filter.
  • the flow rate of the inert gas supplied into the housing can be made uniform with a simple structure.
  • the porous filter may be formed of a metal sintered body.
  • the flow rate of the inert gas supplied into the housing can be made uniform with a simple structure.
  • the diaphragm portion may be provided at the connection portion so as to be located inside the housing.
  • the diaphragm portion may be provided at the connection portion so as to be located outside the housing. In either case, the flow rate of the inert gas supplied into the housing can be made uniform.
  • the throttle portion may have a resistance such that the pressure of the inert gas in the pipe connected to the connection portion is 0.1 MPa or more. As a result, the flow rate of the inert gas supplied into the housing can be effectively made uniform.
  • the diaphragm portion may be detachably attached to the connection portion. As a result, the diaphragm portion can be easily replaced and maintained.
  • the active energy irradiation unit may emit ultraviolet rays or electron beams as active energy rays.
  • the active energy irradiation device can be used as a device for irradiating the irradiated object with ultraviolet rays or electron beams.
  • the active energy irradiation system is for supplying an inert gas into each of a plurality of active energy irradiation devices, each of which is the above-mentioned active energy irradiation device, and a housing of the plurality of active energy irradiation devices.
  • a first pipe and a plurality of second pipes branched from the first pipe and connected to each connection portion of the plurality of active energy irradiation devices are provided, and the plurality of active energy irradiation devices are arranged in at least one row. They are lined up.
  • the flow rate of the inert gas ejected from each of the plurality of inert gas supply units can be made uniform in the direction in which the plurality of active energy irradiation devices are lined up.
  • an active energy irradiation device and an active energy irradiation system that are less susceptible to structural restrictions and can uniformly eject an inert gas to an object to be irradiated.
  • FIG. 1 is a perspective view of the active energy irradiation system of one embodiment.
  • FIG. 2 is a perspective view of the active energy irradiation device shown in FIG.
  • FIG. 3 is a perspective view of the active energy irradiation device shown in FIG. 2 as viewed from below.
  • FIG. 4 is an exploded perspective view of the active energy irradiation device shown in FIG.
  • FIG. 5 is a perspective view showing the internal configuration of the housing in the active energy irradiation device shown in FIG.
  • FIG. 6 is a front view showing the flow of air in the active energy irradiation device shown in FIG.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view of the active energy irradiation device along the line AA shown in FIG. FIG.
  • FIG. 8 is an end view of the active energy irradiation device along the line BB shown in FIG.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view of the inert gas supply portion of the active energy irradiation device shown in FIG.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view of a part of the active energy irradiation device shown in FIG.
  • FIG. 11 is a front view of the active energy irradiation system of Comparative Example and Example.
  • FIG. 12 is a front view of the active energy irradiation system of Comparative Example and Example.
  • the active energy irradiation system 100 is, for example, a system mounted on a UV (ultraviolet) printer, in which an inert gas is applied to a plurality of active energy irradiation devices 1 and each active energy irradiation device 1.
  • a first pipe P for supplying and a plurality of second pipes (pipes) Pa branched from the first pipe P and connected to each active energy irradiation device 1 are provided.
  • the plurality of active energy irradiation devices 1 have the same configuration as each other.
  • the active energy irradiation device 1 is, for example, a high-power air-cooled LED light source for printing applications.
  • the active energy irradiation device 1 irradiates the irradiated object with ultraviolet rays (active energy rays) to dry the ink of the irradiated object and the like.
  • ultraviolet rays active energy rays
  • Examples of the object to be irradiated include a printed matter to which a photocurable ink is attached.
  • the first pipe P and the plurality of second pipes Pa are illustrated by alternate long and short dash lines.
  • the active energy irradiation device 1 exhibits a rectangular cuboid outer shape.
  • the plurality of active energy irradiation devices 1 are arranged in at least one row. Specifically, the plurality of active energy irradiation devices 1 are arranged in a row so as to abut each other in a predetermined direction.
  • a plurality of active energy irradiation devices 1 arranged in a predetermined direction are fixed and held on a fixing plate 11.
  • the active energy irradiation system 100 includes a unit composed of a plurality of active energy irradiation devices 1 fixed to the fixed plate 11. As shown in FIGS.
  • the active energy irradiation device 1 includes a housing 2, an active energy irradiation unit 3, a heat sink 4, an intake unit 5, an exhaust unit 6, a duct 7, and an inert unit. It includes a gas supply unit 8 and an inert gas suction unit 9.
  • the predetermined direction in which the plurality of active energy irradiation devices 1 are lined up is defined as the "X direction” (first direction), and the direction in which the active energy irradiation device 1 emits ultraviolet rays and is perpendicular to the X direction is defined as “X direction”.
  • the Z direction is defined as the "third direction perpendicular to both the first and second directions", and the direction orthogonal to the X and Z directions is defined as the "Y direction” (the second direction perpendicular to the first direction).
  • the side on which the active energy irradiation device 1 emits ultraviolet rays is referred to as the "lower side” (one side in the Z direction), and the opposite side is referred to as the "upper side”.
  • One side in the Y direction is referred to as the "front side”
  • the other side in the Y direction is referred to as the "rear side”.
  • the housing 2 has a long rectangular shape in the Z direction.
  • the housing 2 is made of metal.
  • the housing 2 accommodates and supports the active energy irradiation unit 3, the heat sink 4, and the duct 7.
  • the housing 2 is configured by assembling the front case 21 and the rear case 22 to each other.
  • the upper wall 2a of the housing 2 is provided with a grip portion 23 for gripping the housing 2.
  • a driver board 12 having a thickness direction in the Y direction is arranged on the rear side inside the housing 2.
  • the driver board 12 is a drive electric circuit board for driving the active energy irradiation device 1.
  • a heat sink 13 for a driver board that cools a transistor or the like of the driver board 12 is arranged on the driver board 12.
  • the driver board heat sink 13 is thermally connected to a transistor or the like of the driver board 12.
  • the active energy irradiation unit 3 includes a rectangular plate-shaped substrate 31 constituting a predetermined circuit, and an LED element 32 which is a light emitting element arranged side by side at a predetermined pitch in the X direction and the Y direction on the substrate 31.
  • the LED element 32 emits ultraviolet rays downward.
  • the active energy irradiation unit 3 is arranged at the lower end portion inside the housing 2 with the thickness direction of the substrate 31 in the Z direction.
  • the plurality of substrates 31 are arranged in the X direction. As a result, several to several hundred LED elements 32 are arranged in the X direction and the Y direction inside the housing 2.
  • Ultraviolet rays emitted from each LED element 32 of the active energy irradiation unit 3 irradiate an object to be irradiated moving in the Y direction through a light irradiation window 24 made of a glass plate provided on the lower wall 2b of the housing 2. Will be done.
  • the plurality of substrates 31 may be arranged in the X direction and the Y direction.
  • the heat sink 4 is a heat radiating member thermally connected to the LED element 32 of the active energy irradiation unit 3.
  • the heat sink 4 is an air-cooled heat sink that dissipates heat by exchanging heat with air.
  • the air constitutes a heat medium (refrigerant) for cooling the LED element 32.
  • the heat sink 4 has a base plate 41, heat radiation fins 42, a heat pipe 43, and a partition plate (partition member) 44.
  • the base plate 41 has a rectangular plate shape.
  • An active energy irradiation unit 3 is provided on the lower surface of the base plate 41.
  • the lower surface of the base plate 41 comes into contact with the substrate 31 of the active energy irradiation unit 3.
  • the heat radiation fin 42 has a flat plate shape with the Y direction as the thickness direction.
  • the heat radiation fins 42 are erected on the upper surface (surface) of the base plate 41.
  • the heat radiating fins 42 are arranged so as to be laminated with a gap in the Y direction.
  • the heat pipe 43 is provided so as to be embedded in a plurality of heat radiation fins 42.
  • the heat pipe 43 is thermally connected to the plurality of heat radiation fins 42.
  • the partition plate 44 is provided so as to intersect the plurality of heat radiation fins 42.
  • the partition plate 44 has a flat plate shape with the X direction as the thickness direction.
  • the partition plate 44 partitions a plurality of heat radiation fins 42 in the X direction.
  • a pair of partition plates 44 are provided on a plurality of heat radiation fins 42 so as to be separated from each other in the X direction.
  • the pair of partition plates 44 divides the plurality of heat radiation fins 42 into a pair of outer portions 42x located on the outer side in the X direction and an inner portion 42y located between the pair of outer portions.
  • the end of the partition plate 44 on the base plate 41 side is separated from the base plate 41. That is, the partition plate 44 has a plurality of heat radiation fins 42 such that air passes in the X direction on the lower side (base plate 41 side) rather than on the upper side (opposite side to the base plate 41 side) among the plurality of heat radiation fins 42. Partition.
  • the partition plate 44 is brazed and fixed to a plurality of heat radiation fins 42.
  • the heat sink 4 is attached to the housing 2 via the bracket 25 and the support frame 26 (see FIG. 7).
  • the intake unit 5 introduces air from the outside of the housing 2 to the inside of the housing 2.
  • the intake unit 5 introduces air into the buffer space BF, which will be described later, inside the housing 2.
  • the intake portion 5 is provided in a portion of the housing 2 near the center upper side of the front wall portion 2c.
  • the intake unit 5 has an intake filter (filter unit) 51, a filter holding unit 52, and an intake port 53.
  • the intake filter 51 collects foreign matter (dust, etc.) contained in the air introduced into the housing 2.
  • the intake filter 51 is made of, for example, urethane or the like.
  • the intake filter 51 has a rectangular plate-like outer shape.
  • the intake filter 51 extends to a portion closer to the upper center of the wall portion 2c when viewed from the front side.
  • the filter holding unit 52 accommodates and holds the intake filter 51.
  • the filter holding portion 52 has a rectangular plate-shaped outer plate 52x whose thickness direction is the Y direction.
  • the front surface of the outer plate 52x is located on the same plane as the front surface of the wall portion 2c of the housing 2.
  • the filter holding portion 52 is detachably attached to the duct 7 and the support frame 27 provided in the duct 7.
  • the intake port 53 is a through hole that opens along the Y direction (the direction that intersects the direction from the heat sink 4 to the exhaust portion 6) and leads to the inside of the housing 2.
  • the intake ports 53 are arranged side by side in close proximity to each other in the regions at both ends of the outer plate 52x in the X direction.
  • the intake port 53 is an elongated through hole having the Z direction as the longitudinal direction. The air sucked from the intake port 53 is introduced into the buffer space BF inside the housing 2 via the intake filter 51 (see FIG. 8).
  • the exhaust unit 6 exhausts air from the inside of the housing 2 to the outside of the housing 2.
  • the exhaust portion 6 is provided at the upper end portion of the housing 2.
  • the exhaust unit 6 has a fan 61.
  • As the fan 61 for example, an axial flow fan is used.
  • the fan 61 pumps the air sucked from the lower side along the Z direction to the upper side along the Z direction.
  • the fan 61 is fixed to the upper end portion inside the housing 2.
  • An exhaust filter 62 made of, for example, urethane or the like is attached to the upper wall 2a of the housing 2 on the discharge side of the fan 61.
  • the exhaust filter 62 is shown only in FIG. 2 for convenience, and the display in other figures is omitted.
  • an external pipe (not shown) for exhausting to the outside is connected to the discharge side of the fan 61 in the exhaust unit 6.
  • the duct 7 is provided between the heat sink 4 and the exhaust portion 6 inside the housing 2.
  • the duct 7 circulates the air that has passed through the heat sink 4 to the exhaust unit 6.
  • the duct 7 circulates the inert gas that has passed through the heat sink 4 to the exhaust unit 6.
  • the duct 7 has a rectangular tube shape.
  • the duct 7 has a straight portion 71 having a constant cross-sectional area and extending in the Z direction, and an enlarged portion 72 provided on the downstream side of the straight portion 71 and extending in the Z direction so that the cross-sectional area increases toward the downstream side.
  • a buffer space BF (see FIG. 8), which is a space in which air is introduced from the outside by the intake unit 5, is provided on one side and the other side of the duct 7 in the X direction inside the housing 2.
  • the buffer space BF is a space defined by the inner surface of the housing 2 and the outer surface of the straight portion 71 and the enlarged portion 72 of the duct 7.
  • the lower end of the duct 7 is inserted and fixed in a groove 47 formed in the heat radiation fin 42 of the heat sink 4.
  • the upper end of the duct 7 is fixed to the suction side of the fan 61.
  • the duct 7 is attached to the housing 2 via the support frame 27.
  • the inert gas supply unit 8 supplies the inert gas to the outside of the housing 2.
  • the inert gas include nitrogen.
  • the inert gas supply unit 8 forms a region in which the inert gas is dominant (a region having a low oxygen concentration) in a region including an ultraviolet irradiation region from the plurality of LED elements 32. do.
  • the inert gas supply unit 8 is attached to the lower end portion of the front wall portion 2c of the housing 2.
  • the inert gas supply unit 8 includes a purge housing (housing) 81, a socket (connection part) 82, and a throttle unit 88.
  • the purge housing (housing) 81 is provided with a spout 83.
  • the purge housing 81 has, for example, a rectangular box shape.
  • a second pipe Pa is connected to the socket 82. That is, the socket 82 is a connection portion to which the second pipe Pa for supplying the inert gas into the purge housing 81 can be connected.
  • the inert gas is introduced from the second pipe Pa through the socket 82 and the throttle portion 88 into the purge housing 81, and the inert gas is ejected from the ejection port 83.
  • the inert gas suction unit 9 sucks the inert gas outside the housing 2 and causes it to flow into the housing 2.
  • the inert gas suction unit 9 is a structure attached to the housing 2.
  • the inert gas suction portion 9 is detachably attached to the rear side of the lower wall 2b of the housing 2 by a fastener such as a screw.
  • the inert gas suction unit 9 includes a rectangular box-shaped suction unit housing 91, a suction port 92 provided on the lower surface of the suction unit housing 91, and a recovery flow path 93 provided inside the suction unit housing 91. And (see FIG. 7). In the inert gas suction unit 9, the inert gas is sucked into the suction unit housing 91 through the suction port 92, and the inert gas is circulated to the inside of the housing 2 through the recovery flow path 93.
  • the air introduced into the buffer space BF flows downward along the Z direction and then passes through the heat sink 13 for the driver substrate.
  • the air that has passed through the heat sink 13 for the driver board joins the flow of the inner portion 42y of the heat sink 4 through the space on the lower rear side inside the housing 2, and is between the plurality of heat radiation fins 42 of the inner portion 42y. It flows upward along the Z direction and flows into the duct 7.
  • the air that has flowed into the inside of the duct 7 flows upward along the Z direction and is discharged to the outside of the housing 2 via the fan 61.
  • the inert gas ejected from the inert gas supply unit 8 is sucked by the inert gas suction unit 9 and flows into the inside of the housing 2.
  • the inert gas that has flowed into the inside of the housing 2 joins the flow of the inner portion 42y of the heat sink 4 through the space on the lower rear side inside the housing 2, and the heat radiating fins 42 of the inner portion 42y It flows upward with air along the Z direction and flows into the duct 7.
  • the inert gas that has flowed into the inside of the duct 7 flows upward together with the air along the Z direction, and is discharged to the outside of the housing 2 together with the air through the fan 61.
  • inert gas supply unit 8 The configuration of the inert gas supply unit 8 will be described in more detail with reference to FIGS. 9 and 10.
  • the inert gas supply unit 8 is an inert gas (in FIGS. 9 and 10) on the irradiated object S being conveyed from the front side to the rear side by a conveyor (not shown).
  • the inert gas is supplied to the region R between the irradiated object S and the active energy irradiation unit 3.
  • the reason for supplying the inert gas to the region R is to suppress the action generated in the irradiated object S by the irradiation of the ultraviolet rays emitted from the active energy irradiation unit 3 by oxygen in the air.
  • the irradiated object S is a printed matter to which a photocurable ink is attached.
  • the ink is ejected onto the object to be irradiated S from an ink head (not shown) on the upstream side (front side) of the active energy irradiation device 1, and is cured by irradiation with ultraviolet rays emitted from the active energy irradiation unit 3. Be made to.
  • the inert gas supply unit 8 is inert to the region R between the irradiated object S and the active energy irradiation unit 3. Supply gas.
  • the inert gas supply unit 8 has a rectifying plate 84 in the purge housing 81.
  • a socket 82 and a throttle portion 88 are provided on the purge upper surface 81a of the purge housing 81.
  • the socket 82 has a flow path 82a for the inert gas.
  • the throttle portion 88 has a flow path 88a for the inert gas.
  • the throttle portion 88 is provided in the socket 82 so that the flow path 82a and the flow path 88a communicate with each other.
  • the throttle portion 88 is provided in the socket 82 so as to be located in the purge housing 81.
  • the diaphragm portion 88 is detachably attached to the socket 82.
  • the upper end portion of the throttle portion 88 is attached to the lower end portion of the socket 82 by a fastening structure such as a screw.
  • the drawing portion 88 includes a porous filter 89.
  • the porous filter 89 is arranged in the flow path 88a so that a gap is not formed between the inner surface of the flow path 88a and the outer surface of the porous filter 89.
  • the porous filter 89 is formed of a metal sintered body.
  • the throttle portion 88 has a resistance that the pressure of the inert gas in the second pipe Pa becomes 0.1 MPa or more.
  • a straightening vane 84 is fixed to the purge front surface 81b of the purge housing 81.
  • the straightening vane 84 includes a first vertical plane 85, a slope 86, and a second vertical plane 87.
  • the purge bottom surface 81c of the purge housing 81 forms a part of the spout 83. That is, the spout 83 is provided on the purge bottom surface 81c of the purge housing 81.
  • the purge back surface 81d of the purge housing 81 is in contact with the front surface of the wall portion 2c of the housing 2.
  • the straightening vane 84 cooperates with the purge housing 81 to form a flow path through which the inert gas passes.
  • the inert gas supply unit 8 includes a first flow path portion 8a and a second flow path portion 8b.
  • the inert gas received from the socket 82 and the throttle portion 88 passes through the first flow path portion 8a, then passes through the second flow path portion 8b, and is finally ejected from the ejection port 83.
  • the first flow path portion 8a receives the inert gas from the socket 82 and the throttle portion 88 and provides the inert gas to the second flow path portion 8b.
  • the first flow path portion 8a is a region surrounded by the purge upper surface 81a, the first vertical surface 85, the slope 86, and the purge back surface 81d.
  • the first flow path portion 8a includes a portion where the flow path area decreases along the direction in which the inert gas flows.
  • the first flow path portion 8a includes a portion between the first vertical surface 85 and the purge back surface 81d, and a portion between the slope 86 and the purge back surface 81d.
  • the distance between the first vertical surface 85 and the purge back surface 81d is constant.
  • the flow path area is constant.
  • the slope 86 is inclined with respect to the Z direction.
  • the lower side 86a of the slope 86 is located on the rear side in the Y direction with respect to the upper side 86b of the slope 86.
  • the flow path area gradually decreases as it approaches the second flow path portion 8b.
  • the socket 82 is provided on the purge upper surface 81a so that the axis L of the socket 82 and the throttle portion 88 is located substantially in the center between the purge front surface 81b and the purge back surface 81d. That is, the axis L of the socket 82 and the throttle portion 88 intersects the slope 86. In other words, the axis L of the socket 82 and the throttle portion 88 is located between the lower side 86a and the upper side 86b of the slope 86 in the Y direction. As a result, the flow of the inert gas received from the socket 82 and the throttle 88 collides with the slope 86. Then, the inert gas flows toward the rear side in the Y direction along the slope 86 and reaches the second flow path portion 8b.
  • the second flow path portion 8b receives the inert gas from the first flow path portion 8a and provides the inert gas to the ejection port 83. In other words, the second flow path portion 8b guides the inert gas toward the irradiated object S side along the Z direction.
  • the second flow path portion 8b is a region surrounded by the second vertical surface 87 and the purge back surface 81d.
  • the region between the upper side of the second vertical plane 87 (ie, the lower side 86a of the slope 86) and the purge back surface 81d receives the compressed inert gas.
  • the distance between the second vertical surface 87 and the purge back surface 81d is constant. That is, the flow path area of the second flow path portion 8b is constant.
  • the flow path area of the second flow path portion 8b is smaller than the flow path area of the portion of the first flow path portion 8a between the first vertical surface 85 and the purge back surface 81d.
  • the flow path area of the second flow path portion 8b is the same as the flow path area of the portion of the first flow path portion 8a between the lower side 86a of the slope 86 and the purge back surface 81d.
  • the end of the second flow path portion 8b corresponds to the spout 83.
  • the spout 83 is formed between the lower end 87a of the second vertical surface 87 and the lower end 81e of the purge back surface 81d.
  • the rear end 81f of the purge bottom surface 81c may be a part of what constitutes the spout 83.
  • the inert gas ejected from the ejection port 83 onto the irradiated object S changes the flow direction after colliding with the irradiated object S.
  • a part of the inert gas flows toward the rear side and is supplied to the region R (see FIG. 10) between the irradiated object S and the active energy irradiation unit 3.
  • Another part of the inert gas flows toward the front side and suppresses the inflow of air into the region R (see FIG. 10) between the irradiated object S and the active energy irradiation unit 3.
  • the flow path area of the first flow path portion 8a is larger than the flow path areas of the socket 82 and the second flow path portion 8b, respectively.
  • the rectifying plate 84 arranged so as to intersect the axis L of the socket 82 and the throttle portion 88 in the flow path portion 8a obstructs the flow of the inert gas received from the socket 82.
  • the flow of the inert gas received from the socket 82 spreads in the X direction, and as a result, the distribution of the flow rate of the inert gas ejected from the ejection port 83 is made uniform in the X direction. Therefore, the inert gas can be efficiently supplied to the region R (see FIG.
  • the straightening vane 84 has a slope 86 as a surface that obstructs the flow of the inert gas. That is, the straightening vane 84 realizes a flow path configuration in which the flow path area is gradually reduced. As a result, the operating noise of the inert gas supply unit 8 can be reduced.
  • the housing 2 the active energy irradiation unit 3, the inert gas supply unit 8 and the inert gas suction unit 9 will be described in more detail with reference to FIGS. 3 and 10.
  • the active energy irradiation unit 3 has an emission surface 30 that emits ultraviolet rays on the lower side.
  • the exit surface 30 is the lower surface (outer surface) of the light irradiation window 24.
  • the exit surface 30 extends in both the X direction and the Y direction.
  • the exit surface 30 is a surface perpendicular to the Z direction and has a rectangular shape with the X direction as the longitudinal direction.
  • the inert gas supply unit 8 has an outlet 83 for ejecting the inert gas on the lower side.
  • the spout 83 has a long shape with the X direction as the longitudinal direction.
  • the ejection port 83 has a slit shape extending in the X direction.
  • the width of the spout 83 in the X direction is about 100 mm
  • the width of the spout 83 in the Y direction is about 5 mm.
  • the spout 83 is located on the front side with respect to the exit surface 30.
  • the inert gas supply unit 8 includes an ejection portion 80 provided with an ejection port 83.
  • the ejection portion 80 is a portion of the inert gas supply portion 8 that projects downward with respect to the exit surface 30 (a portion below the alternate long and short dash line shown in FIGS. 3 and 10).
  • the outer shape of the ejection portion 80 has a rectangular plate shape with the X direction as the longitudinal direction and the Z direction as the thickness direction.
  • the inert gas supply unit 8 is attached to the housing 2 (specifically, the front wall portion 2c) so that the ejection portion 80 is located below the exit surface 30 in the Z direction.
  • the inert gas suction unit 9 includes a projecting portion 90 projecting downward with respect to the exit surface 30.
  • the protruding portion 90 is located on the rear side with respect to the exit surface 30.
  • the entire inert gas suction unit 9 is the protruding portion 90.
  • the inert gas suction unit 9 has a housing 2 (specifically, lower) so that the protruding portion 90 (that is, the entire inert gas suction unit 9) is located below the exit surface 30 in the Z direction. It is attached to the wall 2b).
  • the inert gas suction unit 9 includes a suction unit housing 91 provided with a plurality of suction ports 92.
  • the outer shape of the suction unit housing 91 has a rectangular plate shape with the X direction as the longitudinal direction and the Z direction as the thickness direction.
  • the lower surface (outer surface) of the lower wall 2b is exposed between the exit surface 30 and the ejection portion 80, and between the emission surface 30 and the projecting portion 90. ..
  • the distance between the exit surface 30 and the protruding portion 90 in the Y direction is smaller than the distance between the exit surface 30 and the ejection portion 80 in the Y direction.
  • the lower surface of the lower wall 2b and the surface of the protruding portion 90 are surfaces that absorb ultraviolet rays.
  • the lower surface of the lower wall 2b and the surface of the protruding portion 90 may be a black painted surface, a black treated surface, or a surface of a black material. You may.
  • the width of the protruding portion 90 in the Y direction is larger than the width of the protruding portion 90 in the Z direction.
  • the width of the protruding portion 90 in the Y direction is 9 times or more the width of the protruding portion 90 in the Z direction.
  • the width of the protruding portion 90 in the Y direction is preferably 8 times or more, more preferably 10 times or more the width of the protruding portion 90 in the Z direction.
  • the width of the ejected portion 80 in the Z direction is larger than the width of the protruding portion 90 in the Z direction.
  • the width of the active energy irradiation unit 3 in the X direction, the width of the inert gas supply unit 8 in the X direction, and the width of the inert gas suction unit 9 in the X direction are each equal to or less than the width of the housing 2 in the X direction. ..
  • the width of the ejection port 83 in the X direction and the width of the protruding portion 90 in the X direction are each equivalent to the width of the exit surface 30 in the X direction.
  • “equivalent” means that they are substantially equal, and for example, the width of the ejection port 83 in the X direction and the width of the protruding portion 90 in the X direction are 95 of the width of the exit surface 30 in the X direction.
  • the width of the ejection port 83 in the X direction and the width of the protruding portion 90 in the X direction may be smaller than the width of the exit surface 30 in the X direction.
  • the width of the ejection port 83 in the X direction and the width of the protruding portion 90 in the X direction are each preferably 90% or more, more preferably 100% or more of the width of the exit surface 30 in the X direction. Even more preferably, it is 110% or more.
  • the socket 82 is provided in the purge housing 81 provided with the ejection port 83, and the throttle portion 88 is provided in the socket 82.
  • the inert gas flowing into the purge housing 81 from the second pipe Pa via the socket 82 is throttled. Since the gas passes through the part 88, the flow rate of the inert gas supplied into the purge housing 81 is made uniform, and as a result, the flow rate of the inert gas ejected from the ejection port 83 is also made uniform.
  • the inert gas can be uniformly ejected to the irradiated object S without being subject to structural restrictions.
  • the emission surface 30 of the active energy irradiation unit 3 extends in both the X direction and the Y direction, emits active energy rays downward, and ejects the ejection port 83 of the inert gas supply unit 8. Is located on the front side with respect to the exit surface 30, and ejects the inert gas to the lower side.
  • the inert gas ejected from the ejection port 83 of the inert gas supply unit 8 is generated. It is supplied to the region R between the irradiated object S and the active energy irradiation unit 3. Therefore, it is possible to effectively suppress the mixing of oxygen into the region R between the irradiated object S and the active energy irradiation unit 3.
  • the ejection port 83 has a long shape with the X direction as the longitudinal direction. As a result, the inert gas can be uniformly ejected to the irradiated object S transported from the front side to the rear side with respect to the emission surface 30 of the active energy irradiation unit 3.
  • the throttle portion 88 includes the porous filter 89.
  • the flow rate of the inert gas supplied into the purge housing 81 can be made uniform with a simple structure.
  • the porous filter 89 is formed of a metal sintered body.
  • the flow rate of the inert gas supplied into the purge housing 81 can be made uniform with a simple structure.
  • the throttle portion 88 is provided in the socket 82 so as to be located in the purge housing 81.
  • the flow rate of the inert gas supplied into the purge housing 81 can be made uniform.
  • the throttle portion 88 has a resistance that the pressure of the inert gas in the second pipe Pa becomes 0.1 MPa or more. As a result, the flow rate of the inert gas supplied into the purge housing 81 can be effectively made uniform.
  • the diaphragm portion 88 is detachably attached to the socket 82. As a result, the diaphragm portion 88 can be easily replaced and maintained.
  • the active energy irradiation unit 3 emits ultraviolet rays as active energy rays.
  • the active energy irradiation device 1 can be used as a device for irradiating the irradiated object S with ultraviolet rays.
  • the flow rate of the inert gas ejected from the inert gas supply unit 8 of each active energy irradiation device 1 is made uniform in the direction in which the plurality of active energy irradiation devices 1 are lined up (that is, the X direction). can do.
  • FIG. 11A is a front view of the active energy irradiation system 200A of the comparative example
  • FIG. 11B is a front view of the active energy irradiation system 100A of the embodiment.
  • the plurality of inert gas supply units 8A, 8B, 8C, 8D and 8E are on the upstream side of the first pipe P. They are arranged in this order.
  • the second pipe P1 is connected to the socket 82 of the inert gas supply unit 8A.
  • the second pipe P2 is connected to the socket 82 of the inert gas supply unit 8B.
  • the second pipe P3 is connected to the socket 82 of the inert gas supply unit 8C.
  • the second pipe P4 is connected to the socket 82 of the inert gas supply unit 8D.
  • the second pipe P5 is connected to the socket 82 of the inert gas supply unit 8E.
  • Each of the second pipes P1, P2, P3, P4 and P5 corresponds to the second pipe Pa shown in FIGS. 1 and 9.
  • the plurality of second pipes P1, P2, P3, P4, and P5 are branched from the first pipe P in this order from the upstream side of the first pipe P.
  • the throttle portion 88 is not provided in the socket 82 in each of the inert gas supply units 8A, 8B, 8C, 8D, and 8E. ..
  • the throttle portion 88 is provided in the socket 82 in each of the inert gas supply portions 8A, 8B, 8C, 8D, 8E. ..
  • the plurality of active energy irradiation devices 1 have the same configuration as each other.
  • the pipe that branches on the downstream side of the first pipe P among the plurality of second pipes P1, P2, P3, P4, P5 Since the pressure of the inert gas becomes high, the device arranged on the downstream side of the first pipe P among the plurality of inert gas supply units 8A, 8B, 8C, 8D, 8E is not ejected from the ejection port 83. The flow rate of active gas increases.
  • FIG. 11B in the active energy irradiation system 100A of the embodiment, on the downstream side of the first pipe P among the plurality of second pipes P1, P2, P3, P4, P5.
  • FIG. 12A is a front view of the active energy irradiation system 200B of the comparative example
  • FIG. 12B is a front view of the active energy irradiation system 100B of the embodiment.
  • the plurality of inert gas supply units 8A, 8B, 8C, 8D and 8E are arranged in this order. ..
  • the second pipe P1 is connected to the socket 82 of the inert gas supply unit 8A.
  • the second pipe P2 is connected to the socket 82 of the inert gas supply unit 8B.
  • the second pipe P3 is connected to the socket 82 of the inert gas supply unit 8C.
  • the second pipe P4 is connected to the socket 82 of the inert gas supply unit 8D.
  • the second pipe P5 is connected to the socket 82 of the inert gas supply unit 8E.
  • Each of the second pipes P1, P2, P3, P4 and P5 corresponds to the second pipe Pa shown in FIGS. 1 and 9. It is assumed that the inert gas is supplied to each of the second pipes P1, P2, P3, P4 and P5 at the same flow rate.
  • the positions where the throttle portions 88 are provided are different from each other in the inert gas supply portions 8A, 8B, 8C, 8D, and 8E.
  • the throttle portion 88 is provided in the socket 82.
  • the throttle portion 88 is provided in the middle of the second pipe Pa.
  • the distances from the socket 82 to the throttle portion 88 are different from each other.
  • the distances from the socket 82 to the throttle portion 88 are equal to each other, but in the inert gas supply unit 8E, the second pipe Pa is bent between the socket 82 and the throttle portion 88. ..
  • the throttle portion 88 is provided in the socket 82 in each of the inert gas supply portions 8A, 8B, 8C, 8D, 8E. ..
  • the plurality of active energy irradiation devices 1 have the same configuration as each other.
  • the distance from the socket 82 to the throttle 88 among the plurality of inert gas supply units 8A, 8B, 8C, 8D, 8E is The larger the size, the smaller the flow rate of the inert gas ejected from the ejection port 83.
  • the inert gas supply units 8C and 8E in which the distances from the socket 82 to the throttle unit 88 are equal to each other the inert gas supply unit 8E in which the second pipe Pa is bent between the socket 82 and the throttle unit 88 sprays more. The flow rate of the inert gas ejected from the outlet 83 is reduced.
  • each of the active energy irradiation systems 100B of the embodiment is affected by the action of the throttle portion 88 described above regardless of whether the second pipe Pa is bent or not.
  • the flow rate of the inert gas ejected from the ejection port 83 of the inert gas supply units 8A, 8B, 8C, 8D, 8E becomes uniform.
  • the socket 82 and the throttle portion 88 are not limited to the purge upper surface 81a, and may be provided at any position of the purge housing 81.
  • the spout 83 is not limited to the purge bottom surface 81c, and may be provided at any position of the purge housing 81.
  • the throttle portion 88 may be provided in the socket 82 so as to be located outside the purge housing 81. Also in this case, the flow rate of the inert gas supplied into the purge housing 81 can be made uniform.
  • the porous filter 89 is not limited to the one formed of the metal sintered body, and may be formed of ceramic, resin, or the like.
  • the drawing portion 88 is not limited to the one including the porous filter 89, and may be a drawing (aperture) formed of a microhole component, a metal, a resin, or the like.
  • the active energy irradiation unit 3 is not limited to ultraviolet rays, and may emit other active energy rays such as an electron beam. That is, in the above description, “ultraviolet rays” can be read as “electron rays” or “active energy rays”.
  • Active energy irradiation device 3 ... Active energy irradiation unit, 30 ... Exit surface, 8 ... Inert gas supply unit, 81 ... Purge housing (housing), 82 ... Socket (connection part), 83 ... Spout, 88 ... squeezing part, 89 ... porous filter, 100 ... active energy irradiation system, P ... first pipe, Pa ... second pipe (pipe).

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
  • Ink Jet (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

活性エネルギ照射装置は、活性エネルギ線を出射する出射面を有する活性エネルギ照射部と、不活性ガスを噴出する噴出口を有する不活性ガス供給部と、を備える。不活性ガス供給部は、噴出口が設けられた筐体と、筐体に設けられ、筐体内に不活性ガスを供給するための配管の接続が可能な接続部と、接続部に設けられた絞り部と、を含む。

Description

活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システム
　本開示は、活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システムに関する。
　活性エネルギ線を被照射物に照射する活性エネルギ照射部と、被照射物と活性エネルギ照射部との間の領域に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部と、を備える活性エネルギ照射装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。このような活性エネルギ照射装置では、活性エネルギ線の照射によって被照射物において生じる作用が空気中の酸素によって阻害されるのを抑制するために、被照射物と活性エネルギ照射部との間の領域に不活性ガスが供給される。
国際公開第２０１７／１７０９４９号
　特許文献１に記載の光照射装置（活性エネルギ照射装置）の供給部（不活性ガス供給部）では、対象物（被照射物）に対して不活性ガスが均一に噴出されるように、不活性ガスが導入される空間部の端部（対象物と向かい合う端部）に多孔質部が設けられている。しかし、特許文献１に記載の光照射装置の供給部では、空間部内おいて不活性ガスの圧力が高まるため、空間部の耐圧性及び気密性を向上させる必要性が生じる等、構造上の制約を受けるおそれがある。
　本開示は、構造上の制約を受け難く、且つ被照射物に対して不活性ガスを均一に噴出することが可能な活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システムを提供することを目的とする。
　本開示の一側面に係る活性エネルギ照射装置は、活性エネルギ線を出射する出射面を有する活性エネルギ照射部と、不活性ガスを噴出する噴出口を有する不活性ガス供給部と、を備え、不活性ガス供給部は、噴出口が設けられた筐体と、筐体に設けられ、筐体内に不活性ガスを供給するための配管の接続が可能な接続部と、接続部に設けられた絞り部と、を含む。
　この活性エネルギ照射装置では、噴出口が設けられた筐体に接続部が設けられており、接続部に絞り部が設けられている。これにより、例えば、接続部に接続された配管において不活性ガスの圧力が変動したとしても、配管から接続部を介して筐体内に流入する不活性ガスが絞り部を通過することになるため、筐体内に供給される不活性ガスの流量が均一化され、その結果、噴出口から噴出される不活性ガスの流量も均一化される。また、筐体内においては不活性ガスの圧力が低下するため、筐体の耐圧性及び気密性を向上させる必要性もなくなる。よって、この活性エネルギ照射装置によれば、構造上の制約を受け難く、且つ被照射物に対して不活性ガスを均一に噴出することが可能となる。
　本開示の一側面に係る活性エネルギ照射装置では、出射面は、第１方向及び第１方向に垂直な第２方向の両方向に拡がっており、第１方向及び第２方向の両方向に垂直な第３方向の一方側に活性エネルギ線を出射し、噴出口は、出射面に対して第２方向の一方側に位置しており、第３方向の一方側に不活性ガスを噴出してもよい。これにより、活性エネルギ照射部の出射面に対して被照射物が第２方向の一方側から第２方向の他方側に搬送された際に、不活性ガス供給部の噴出口から噴出された不活性ガスが、被照射物と活性エネルギ照射部との間の領域に供給される。したがって、被照射物と活性エネルギ照射部との間の領域に酸素が混入するのを効果的に抑制することができる。
　本開示の一側面に係る活性エネルギ照射装置では、噴出口は、第１方向を長手方向とする長尺状を呈していてもよい。これにより、活性エネルギ照射部の出射面に対して第２方向の一方側から第２方向の他方側に搬送される被照射物に対して、不活性ガスを均一に噴出することができる。
　本開示の一側面に係る活性エネルギ照射装置では、絞り部は、多孔質フィルタを含んでもよい。この場合、単純な構造で、筐体内に供給される不活性ガスの流量を均一化することができる。
　本開示の一側面に係る活性エネルギ照射装置では、多孔質フィルタは、金属焼結体によって形成されていてもよい。この場合、単純な構造で、筐体内に供給される不活性ガスの流量を均一化することができる。
　本開示の一側面に係る活性エネルギ照射装置では、絞り部は、筐体内に位置するように接続部に設けられていてもよい。或いは、本開示の一側面に係る活性エネルギ照射装置では、絞り部は、筐体外に位置するように接続部に設けられていてもよい。いずれの場合にも、筐体内に供給される不活性ガスの流量を均一化することができる。
　本開示の一側面に係る活性エネルギ照射装置では、絞り部は、接続部に接続される配管内における不活性ガスの圧力が０．１ＭＰａ以上となる抵抗を有してもよい。これにより、筐体内に供給される不活性ガスの流量を効果的に均一化することができる。
　本開示の一側面に係る活性エネルギ照射装置では、絞り部は、接続部に着脱可能に取り付けられていてもよい。これにより、絞り部の交換及びメンテナンスを容易に行うことができる。
　本開示の一側面に係る活性エネルギ照射装置では、活性エネルギ照射部は、活性エネルギ線として紫外線又は電子線を出射してもよい。これにより、活性エネルギ照射装置を、被照射物に紫外線又は電子線を照射する装置として用いることができる。
　本開示の一側面に係る活性エネルギ照射システムは、それぞれが上記活性エネルギ照射装置である複数の活性エネルギ照射装置と、複数の活性エネルギ照射装置のそれぞれの筐体内に不活性ガスを供給するための第１配管と、第１配管から分岐しており、複数の活性エネルギ照射装置のそれぞれの接続部に接続された複数の第２配管と、を備え、複数の活性エネルギ照射装置は、少なくとも一列に並べられている。
　この活性エネルギ照射システムによれば、複数の活性エネルギ照射装置が並ぶ方向において、複数の不活性ガス供給部のそれぞれから噴出される不活性ガスの流量を均一化することができる。
　本開示によれば、構造上の制約を受け難く、且つ被照射物に対して不活性ガスを均一に噴出することが可能な活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システムを提供することができる。
図１は、一実施形態の活性エネルギ照射システムの斜視図である。 図２は、図１に示される活性エネルギ照射装置の斜視図である。 図３は、図２に示される活性エネルギ照射装置を下側から見た斜視図である。 図４は、図２に示される活性エネルギ照射装置の分解斜視図である。 図５は、図２に示される活性エネルギ照射装置における筐体の内部の構成を示す斜視図である。 図６は、図２に示される活性エネルギ照射装置におけるエアの流れを示す正面図である。 図７は、図６に示されるＡ－Ａ線に沿っての活性エネルギ照射装置の断面図である。 図８は、図７に示されるＢ－Ｂ線に沿っての活性エネルギ照射装置の端面図である。 図９は、図１に示される活性エネルギ照射装置の不活性ガス供給部の断面図である。 図１０は、図１に示される活性エネルギ照射装置の一部の断面図である。 図１１は、比較例及び実施例の活性エネルギ照射システムの正面図である。 図１２は、比較例及び実施例の活性エネルギ照射システムの正面図である。
　以下、本開示の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
　図１に示されるように、活性エネルギ照射システム１００は、例えばＵＶ（ultraviolet）プリンタに搭載されるシステムであって、複数の活性エネルギ照射装置１と、各活性エネルギ照射装置１に不活性ガスを供給するための第１配管Ｐと、第１配管Ｐから分岐しており、各活性エネルギ照射装置１に接続された複数の第２配管（配管）Ｐａと、を備える。複数の活性エネルギ照射装置１は、互いに同一の構成を有している。活性エネルギ照射装置１は、例えば印刷用途向けの高出力の空冷ＬＥＤ光源である。活性エネルギ照射装置１は、紫外線（活性エネルギ線）を被照射物に照射し、被照射物のインク乾燥等を行う。被照射物としては、例えば光硬化型インクが付着している印刷物が挙げられる。なお、図１では、第１配管Ｐ及び複数の第２配管Ｐａが二点鎖線で図示されている。
　活性エネルギ照射装置１は、直方体状の外形を呈する。複数の活性エネルギ照射装置１は、少なくとも一列に並べられている。具体的には、複数の活性エネルギ照射装置１は、所定方向において互いに当接するように一列に並べられている。所定方向に並べられた複数の活性エネルギ照射装置１は、固定プレート１１に固定されて保持されている。図示される例では、活性エネルギ照射システム１００は、固定プレート１１に固定された複数の活性エネルギ照射装置１からなるユニットを備えている。図２、図３、図４及び図５に示されるように、活性エネルギ照射装置１は、筐体２、活性エネルギ照射部３、ヒートシンク４、吸気部５、排気部６、ダクト７、不活性ガス供給部８及び不活性ガス吸引部９を備えている。
　なお、説明の便宜上、複数の活性エネルギ照射装置１が並ぶ所定方向を「Ｘ方向」（第１方向）とし、活性エネルギ照射装置１による紫外線の出射方向であってＸ方向に垂直な方向を「Ｚ方向」（第１方向及び第２方向の両方向に垂直な第３方向）とし、Ｘ方向及びＺ方向に直交する方向を「Ｙ方向」（第１方向に垂直な第２方向）とする。活性エネルギ照射装置１が紫外線を出射する側を「下側」（Ｚ方向の一方側）とし、その反対側を「上側」とする。Ｙ方向の一方側を「前側」とし、Ｙ方向の他方側を「後側」とする。
　筐体２は、Ｚ方向に長尺状の矩形状を呈する。筐体２は、金属で形成されている。筐体２は、活性エネルギ照射部３、ヒートシンク４およびダクト７を収容するとともに支持する。筐体２は、前ケース２１及び後ケース２２が互いに組み付けられて構成されている。筐体２の上壁２ａには、筐体２を掴むための把持部２３が設けられている。筐体２の内部における後側には、Ｙ方向を厚さ方向とするドライバ基板１２が配置されている。ドライバ基板１２は、活性エネルギ照射装置１を駆動するための駆動用の電気回路基板である。ドライバ基板１２上には、ドライバ基板１２のトランジスタ等を冷却するドライバ基板用ヒートシンク１３が配置されている。ドライバ基板用ヒートシンク１３は、ドライバ基板１２のトランジスタ等に熱的に接続されている。
　活性エネルギ照射部３は、所定回路を構成する矩形板状の基板３１と、基板３１上においてＸ方向及びＹ方向に所定ピッチで並設された発光素子であるＬＥＤ素子３２と、を含む。ＬＥＤ素子３２は、紫外線を下方へ向けて出射する。活性エネルギ照射部３は、筐体２の内部における下端部に、基板３１の厚さ方向をＺ方向にして配置されている。複数の基板３１は、Ｘ方向に並べられている。これにより、筐体２の内部には、数個～数百個のＬＥＤ素子３２がＸ方向及びＹ方向に並べられる。活性エネルギ照射部３の各ＬＥＤ素子３２から出射された紫外線は、筐体２の下壁２ｂに設けられたガラス板からなる光照射窓２４を介して、Ｙ方向に移動する被照射物に照射される。なお、複数の基板３１は、Ｘ方向及びＹ方向に並べられていてもよい。
　ヒートシンク４は、活性エネルギ照射部３のＬＥＤ素子３２と熱的に接続された放熱部材である。ヒートシンク４は、エアとの熱交換により放熱する空冷式のヒートシンクである。エアは、ＬＥＤ素子３２の冷却用の熱媒体（冷媒）を構成する。ヒートシンク４は、ベースプレート４１、放熱フィン４２、ヒートパイプ４３及び仕切り板（仕切り部材）４４を有する。
　ベースプレート４１は、矩形板状を呈する。ベースプレート４１の下面には、活性エネルギ照射部３が設けられている。ベースプレート４１の下面は、活性エネルギ照射部３の基板３１と当接する。放熱フィン４２は、Ｙ方向を厚さ方向とする平板状を呈する。放熱フィン４２は、ベースプレート４１の上面（表面）上に立設されている。放熱フィン４２は、Ｙ方向において隙間をあけて積層するように並べられている。
　ヒートパイプ４３は、複数の放熱フィン４２に埋め込まれるように設けられている。ヒートパイプ４３は、複数の放熱フィン４２と熱的に接続されている。仕切り板４４は、複数の放熱フィン４２と交差するように設けられている。仕切り板４４は、Ｘ方向を厚さ方向とする平板状を呈する。仕切り板４４は、Ｘ方向において複数の放熱フィン４２を仕切る。仕切り板４４は、複数の放熱フィン４２にＸ方向に互いに離れて一対設けられている。一対の仕切り板４４は、複数の放熱フィン４２を、Ｘ方向における外側に位置する一対の外側部分４２ｘと、一対の外側部分の間に位置する内側部分４２ｙと、に仕切る。
　仕切り板４４におけるベースプレート４１側の端は、ベースプレート４１から離れている。つまり、仕切り板４４は、複数の放熱フィン４２の間において下側（ベースプレート４１側）が上側（ベースプレート４１側とは反対側）よりもエアがＸ方向に通過するように、複数の放熱フィン４２を仕切る。仕切り板４４は、複数の放熱フィン４２にロウ付けされて固定されている。ヒートシンク４は、ブラケット２５及び支持フレーム２６（図７参照）を介して筐体２に取り付けられている。
　吸気部５は、筐体２の外部から筐体２の内部へエアを導入する。吸気部５は、筐体２の内部の後述するバッファ空間ＢＦにエアを導入する。吸気部５は、筐体２における前側の壁部２ｃの中央上方寄りの部分に設けられている。吸気部５は、吸気フィルタ（フィルタ部）５１、フィルタ保持部５２及び吸気口５３を有する。
　図４、図５、図６及び図７に示されるように、吸気フィルタ５１は、筐体２の内部へ導入されるエアに含まれる異物（塵等）を捕集する。吸気フィルタ５１は、例えばウレタン等で形成されている。吸気フィルタ５１は、矩形板状の外形を呈する。吸気フィルタ５１は、前側から見て、壁部２ｃの中央上方寄りの部分に拡がっている。フィルタ保持部５２は、吸気フィルタ５１を収容して保持する。フィルタ保持部５２は、Ｙ方向を厚さ方向とする矩形板状の外板５２ｘを有する。外板５２ｘの前面は、筐体２の壁部２ｃの前面と同一平面上に位置する。フィルタ保持部５２は、ダクト７及びダクト７に設けられた支持フレーム２７に着脱可能に取り付けられている。
　吸気口５３は、Ｙ方向（ヒートシンク４から排気部６に向かう方向と交差する方向）に沿って開口し且つ筐体２の内部に通じる貫通孔である。吸気口５３は、外板５２ｘにおけるＸ方向の両端部の領域に、互いに近接して並設されている。吸気口５３は、Ｚ方向を長手方向とする長孔形状の貫通孔である。吸気口５３から吸い込まれたエアは、吸気フィルタ５１を介して、筐体２の内部のバッファ空間ＢＦへ導入される（図８参照）。
　排気部６は、筐体２の内部から筐体２の外部へエアを排出する。排気部６は、筐体２の上端部に設けられている。排気部６は、ファン６１を有する。ファン６１としては、例えば軸流ファンが用いられている。ファン６１は、下側からＺ方向に沿って吸い込んだエアを、上側へＺ方向に沿って圧送する。ファン６１は、筐体２の内部における上端部に固定されている。ファン６１の吐出側であって筐体２の上壁２ａには、例えばウレタン等で形成された排気フィルタ６２が取り付けられている。なお、排気フィルタ６２については、便宜上、図２のみにおいて示し、他の図での表示を省略する。排気部６におけるファン６１の吐出側には、例えば室外への排気用の外部配管（不図示）が接続される。
　ダクト７は、筐体２の内部におけるヒートシンク４と排気部６との間に設けられている。ダクト７は、ヒートシンク４を通過したエアを排気部６へ流通させる。ダクト７は、ヒートシンク４を通過した不活性ガスを排気部６へ流通させる。ダクト７は、矩形管形状を呈する。ダクト７は、断面積一定でＺ方向に延びる直線部７１と、直線部７１の下流側に設けられ断面積が下流に行くに従って大きくなるようにＺ方向に延びる拡大部７２と、を有する。
　筐体２の内部におけるダクト７のＸ方向の一方側及び他方側には、吸気部５により外部からエアが導入される空間であるバッファ空間ＢＦ（図８参照）が設けられている。バッファ空間ＢＦは、筐体２の内面とダクト７の直線部７１及び拡大部７２の外面とにより画成された空間である。ダクト７の下端部は、ヒートシンク４の放熱フィン４２に形成された溝４７に差し込まれて固定されている。ダクト７の上端部は、ファン６１の吸込側に固定されている。ダクト７は、支持フレーム２７を介して筐体２に取り付けられている。
　図２、図３、図４及び図５に示されるように、不活性ガス供給部８は、筐体２の外部に不活性ガスを供給する。不活性ガスとしては、例えば窒素が挙げられる。不活性ガス供給部８は、不活性ガスを供給することにより、複数のＬＥＤ素子３２からの紫外線の照射領域を含む領域に、不活性ガスが支配的な領域（酸素濃度が低い領域）を形成する。不活性ガス供給部８は、筐体２の前側の壁部２ｃにおける下端部に取り付けられている。不活性ガス供給部８は、パージ筐体（筐体）８１と、ソケット（接続部）８２と、絞り部８８と、を有する。パージ筐体（筐体）８１には、噴出口８３が設けられている。パージ筐体８１は、例えば、矩形箱状を呈している。ソケット８２には、第２配管Ｐａが接続されている。つまり、ソケット８２は、パージ筐体８１内に不活性ガスを供給するための第２配管Ｐａの接続が可能な接続部である。不活性ガス供給部８では、不活性ガスが第２配管Ｐａからソケット８２及び絞り部８８を介してパージ筐体８１に導入され、当該不活性ガスが噴出口８３から噴出される。
　不活性ガス吸引部９は、筐体２の外部の不活性ガスを吸引して筐体２の内部に流入させる。不活性ガス吸引部９は、筐体２に取り付けられた構造体である。不活性ガス吸引部９は、筐体２の下壁２ｂにおける後側に、ネジ等の締結具により着脱可能に取り付けられている。不活性ガス吸引部９は、矩形箱状の吸引部筐体９１と、吸引部筐体９１の下面に設けられた吸引口９２と、吸引部筐体９１の内部に設けられた回収流路９３と、を有する（図７参照）。不活性ガス吸引部９では、吸引口９２を介して吸引部筐体９１の内部に不活性ガスが吸引され、当該不活性ガスが回収流路９３により筐体２の内部へ流通される。
　図６、図７及び図８に示されるように、活性エネルギ照射装置１では、外部のエアが吸気部５により筐体２の内部のバッファ空間ＢＦに導入される。バッファ空間ＢＦに導入されたエアは、Ｚ方向に沿って下方へ流れた後、ヒートシンク４を通過してダクト７内に流入する。このとき、ヒートシンク４では、エアは、一対の外側部分４２ｘそれぞれの複数の放熱フィン４２の間をＺ方向に沿って下方へ流れた後、仕切り板４４とベースプレート４１との間を通って上方に折り返すように流れ、内側部分４２ｙにて合流する。そして、エアは、内側部分４２ｙの複数の放熱フィン４２の間をＺ方向に沿って上方に流れ、ダクト７内へ流入する。
　また、バッファ空間ＢＦに導入されたエアは、Ｚ方向に沿って下方へ流れた後、ドライバ基板用ヒートシンク１３を通過する。ドライバ基板用ヒートシンク１３を通過したエアは、筐体２の内部における下方後側の空間を介して、ヒートシンク４の内側部分４２ｙの流れに合流し、内側部分４２ｙの複数の放熱フィン４２の間をＺ方向に沿って上方に流れ、ダクト７内へ流入する。ダクト７の内部に流入したエアは、Ｚ方向に沿って上方へ流れ、ファン６１を介して筐体２の外部へ排出される。
　図７に示されるように、活性エネルギ照射装置１では、不活性ガス供給部８から噴出された不活性ガスは、不活性ガス吸引部９により吸引されて筐体２の内部に流入する。筐体２の内部に流入した不活性ガスは、筐体２の内部における下方後側の空間を介して、ヒートシンク４の内側部分４２ｙの流れに合流し、内側部分４２ｙの複数の放熱フィン４２の間をＺ方向に沿ってエアとともに上方に流れ、ダクト７内へ流入する。ダクト７の内部に流入した不活性ガスは、Ｚ方向に沿ってエアとともに上方に流れ、ファン６１を介してエアとともに筐体２の外部へ排出される。
　不活性ガス供給部８の構成について、図９及び図１０を参照して、より詳細に説明する。
　図９及び図１０に示されるように、不活性ガス供給部８は、コンベア（不図示）によって前側から後側に搬送されている被照射物Ｓ上に不活性ガス（図９及び図１０に示される一点鎖線）を噴出することで、被照射物Ｓと活性エネルギ照射部３との間の領域Ｒに不活性ガスを供給する。領域Ｒに不活性ガスを供給するのは、活性エネルギ照射部３から出射された紫外線の照射によって被照射物Ｓにおいて生じる作用が空気中の酸素によって阻害されるのを抑制するためである。
　一例として、被照射物Ｓは、光硬化型インクが付着している印刷物である。当該インクは、活性エネルギ照射装置１の上流側（前側）においてインクヘッド（不図示）から被照射物Ｓ上に噴射されたものであり、活性エネルギ照射部３から出射された紫外線の照射によって硬化させられる。このとき、当該インクの硬化が空気中の酸素によって阻害されるのを抑制するために、不活性ガス供給部８は、被照射物Ｓと活性エネルギ照射部３との間の領域Ｒに不活性ガスを供給する。
　図９に示されるように、不活性ガス供給部８は、パージ筐体８１内に整流板８４を有している。パージ筐体８１のパージ上面８１ａには、ソケット８２及び絞り部８８が設けられている。ソケット８２は、不活性ガスの流路８２ａを有している。絞り部８８は、不活性ガスの流路８８ａを有している。絞り部８８は、流路８２ａと流路８８ａとが連通するように、ソケット８２に設けられている。絞り部８８は、パージ筐体８１内に位置するようにソケット８２に設けられている。絞り部８８は、ソケット８２に着脱可能に取り付けられている。一例として、絞り部８８の上端部が、ネジ等の締結構造によってソケット８２の下端部に取り付けられている。絞り部８８は、多孔質フィルタ８９を含んでいる。多孔質フィルタ８９は、流路８８ａの内側面と多孔質フィルタ８９の外側面との間に隙間が形成されないように、流路８８ａ内に配置されている。多孔質フィルタ８９は、金属焼結体によって形成されている。絞り部８８は、第２配管Ｐａ内における不活性ガスの圧力が０．１ＭＰａ以上となる抵抗を有している。
　パージ筐体８１のパージ前面８１ｂには、整流板８４が固定されている。整流板８４は、第１垂直面８５、斜面８６及び第２垂直面８７を含んでいる。パージ筐体８１のパージ底面８１ｃは、噴出口８３の一部を形成している。つまり、噴出口８３は、パージ筐体８１のパージ底面８１ｃに設けられている。パージ筐体８１のパージ背面８１ｄは、筐体２の壁部２ｃの前面に接触している。整流板８４は、パージ筐体８１と協働して、不活性ガスが通る流路を形成している。
　不活性ガス供給部８は、第１流路部８ａ及び第２流路部８ｂを含んでいる。ソケット８２及び絞り部８８から受け入れられた不活性ガスは、第１流路部８ａを通過した後に、第２流路部８ｂを通過し、最終的に噴出口８３から噴出される。
　第１流路部８ａは、ソケット８２及び絞り部８８から不活性ガスを受け入れて第２流路部８ｂに不活性ガスを提供する。第１流路部８ａは、パージ上面８１ａ、第１垂直面８５、斜面８６及びパージ背面８１ｄに囲まれた領域である。第１流路部８ａは、不活性ガスが流れる方向に沿って流路面積が減少する部分を含んでいる。具体的には、第１流路部８ａは、第１垂直面８５とパージ背面８１ｄとの間の部分、及び斜面８６とパージ背面８１ｄとの間の部分を含んでいる。第１垂直面８５とパージ背面８１ｄとの間隔は一定である。したがって、流路面積は一定である。一方、斜面８６は、Ｚ方向に対して傾いている。換言すると、斜面８６の下辺８６ａは、斜面８６の上辺８６ｂよりもＹ方向における後側に位置している。これにより、流路面積は、第２流路部８ｂに近付くに従って次第に減少する。
　ソケット８２は、ソケット８２及び絞り部８８の軸線Ｌがパージ前面８１ｂとパージ背面８１ｄとの間の略中央に位置するように、パージ上面８１ａに設けられている。つまり、ソケット８２及び絞り部８８の軸線Ｌは、斜面８６と交差している。換言すると、ソケット８２及び絞り部８８の軸線Ｌは、Ｙ方向において斜面８６の下辺８６ａと上辺８６ｂとの間に位置している。これにより、ソケット８２及び絞り部８８から受け入れられた不活性ガスの流れは、斜面８６に衝突する。そして、不活性ガスは、斜面８６に沿ってＹ方向における後側に向かって流れ、第２流路部８ｂに至る。
　第２流路部８ｂは、第１流路部８ａから不活性ガスを受け入れて、噴出口８３に不活性ガスを提供する。換言すると、第２流路部８ｂは、Ｚ方向に沿って不活性ガスを被照射物Ｓ側に導く。第２流路部８ｂは、第２垂直面８７及びパージ背面８１ｄに囲まれた領域である。第２垂直面８７の上辺（つまり、斜面８６の下辺８６ａ）とパージ背面８１ｄとの間の領域は、圧縮された不活性ガスを受け入れる。第２垂直面８７とパージ背面８１ｄとの間隔は一定である。つまり、第２流路部８ｂの流路面積は一定である。第２流路部８ｂの流路面積は、第１流路部８ａのうちの第１垂直面８５とパージ背面８１ｄとの間の部分の流路面積よりも小さい。第２流路部８ｂの流路面積は、第１流路部８ａのうちの斜面８６の下辺８６ａとパージ背面８１ｄとの間の部分の流路面積と同じである。
　第２流路部８ｂの末端は、噴出口８３に相当する。噴出口８３は、第２垂直面８７の下端８７ａとパージ背面８１ｄの下端８１ｅとの間に形成されている。パージ底面８１ｃの後端８１ｆが、噴出口８３を構成するものの一部であってもよい。噴出口８３から被照射物Ｓ上に噴出された不活性ガスは、被照射物Ｓに衝突した後に、流れ方向を変える。一部の不活性ガスは、後側に向かって流れ、被照射物Ｓと活性エネルギ照射部３との間の領域Ｒ（図１０参照）に供給される。別の一部の不活性ガスは、前側に向かって流れ、被照射物Ｓと活性エネルギ照射部３との間の領域Ｒ（図１０参照）に空気が流入するのを抑制する。
　以上のように構成された不活性ガス供給部８では、第１流路部８ａの流路面積が、ソケット８２及び第２流路部８ｂのそれぞれの流路面積よりも大きくなっており、第１流路部８ａにおいてソケット８２及び絞り部８８の軸線Ｌと交差するように配置された整流板８４が、ソケット８２から受け入れた不活性ガスの流れを妨げる。これにより、ソケット８２から受け入れられた不活性ガスの流れがＸ方向に広がり、その結果、噴出口８３から噴出される不活性ガスの流量の分布がＸ方向において均一化される。したがって、被照射物Ｓと活性エネルギ照射部３との間の領域Ｒ（図１０参照）に不活性ガスを効率良く供給することができる。更に、整流板８４が、不活性ガスの流れを妨げる面として斜面８６を有している。つまり、整流板８４が、流路面積が徐々に減少する流路構成を実現している。これにより、不活性ガス供給部８の動作音を小さくすることができる。
　筐体２、活性エネルギ照射部３、不活性ガス供給部８及び不活性ガス吸引部９について、図３及び図１０を参照して、より詳細に説明する。
　図３及び図１０に示されるように、活性エネルギ照射部３は、下側に紫外線を出射する出射面３０を有している。活性エネルギ照射装置１では、出射面３０は、光照射窓２４における下側の表面（外側の表面）である。出射面３０は、Ｘ方向及びＹ方向の両方向に拡がっている。活性エネルギ照射装置１では、出射面３０は、Ｚ方向に垂直な面であり、Ｘ方向を長手方向とする長方形状を呈している。
　不活性ガス供給部８は、下側に不活性ガスを噴出する噴出口８３を有している。噴出口８３は、Ｘ方向を長手方向とする長尺状を呈している。活性エネルギ照射装置１では、噴出口８３は、Ｘ方向に延在するスリット状を呈している。一例として、Ｘ方向における噴出口８３の幅は１００ｍｍ程度であり、Ｙ方向における噴出口８３の幅は５ｍｍ程度である。噴出口８３は、出射面３０に対して前側に位置している。不活性ガス供給部８は、噴出口８３が設けられた噴出部分８０を含んでいる。噴出部分８０は、不活性ガス供給部８のうち、出射面３０に対して下側に突出している部分（図３及び図１０に示される二点鎖線よりも下側の部分）である。活性エネルギ照射装置１では、噴出部分８０の外形は、Ｘ方向を長手方向とし且つＺ方向を厚さ方向とする長方形板状を呈している。不活性ガス供給部８は、Ｚ方向において噴出部分８０が出射面３０よりも下側に位置するように、筐体２（具体的には、前側の壁部２ｃ）に取り付けられている。
　なお、「噴出口８３が下側に不活性ガスを噴出する」とは、噴出口８３から噴出される不活性ガスの噴出の向きが下向きの成分を有していることを意味する。つまり、噴出口８３は、真下に不活性ガスを噴出するものは勿論、例えば、真下から後側に傾斜した向きに不活性ガスを噴出するものであってもよい。
　不活性ガス吸引部９は、出射面３０に対して下側に突出している突出部分９０を含んでいる。突出部分９０は、出射面３０に対して後側に位置している。活性エネルギ照射装置１では、不活性ガス吸引部９の全体が突出部分９０である。不活性ガス吸引部９は、Ｚ方向において突出部分９０（すなわち、不活性ガス吸引部９の全体）が出射面３０よりも下側に位置するように、筐体２（具体的には、下壁２ｂ）に取り付けられている。不活性ガス吸引部９は、複数の吸引口９２が設けられた吸引部筐体９１を含んでいる。活性エネルギ照射装置１では、吸引部筐体９１の外形は、Ｘ方向を長手方向とし且つＺ方向を厚さ方向とする長方形板状を呈している。
　活性エネルギ照射装置１では、下壁２ｂの下側の表面（外側の表面）が、出射面３０と噴出部分８０との間、及び、出射面３０と突出部分９０との間において露出している。Ｙ方向における出射面３０と突出部分９０との間隔は、Ｙ方向における出射面３０と噴出部分８０との間隔よりも小さい。下壁２ｂの下側の表面及び突出部分９０の表面は、紫外線を吸収する表面となっている。一例として、下壁２ｂの下側の表面及び突出部分９０の表面は、黒色の塗装面であってもよいし、黒色の処理面であってもよいし、或いは、黒色の材料の表面であってもよい。
　Ｙ方向における突出部分９０の幅は、Ｚ方向における突出部分９０の幅よりも大きい。Ｙ方向における突出部分９０の幅は、Ｚ方向における突出部分９０の幅の９倍以上である。Ｙ方向における突出部分９０の幅は、Ｚ方向における突出部分９０の幅の８倍以上であることが好ましく、１０倍以上であることがより好ましい。Ｚ方向における噴出部分８０の幅は、Ｚ方向における突出部分９０の幅よりも大きい。
　Ｘ方向における活性エネルギ照射部３の幅、Ｘ方向における不活性ガス供給部８の幅、及びＸ方向における不活性ガス吸引部９の幅のそれぞれは、Ｘ方向における筐体２の幅以下である。Ｘ方向における噴出口８３の幅、及びＸ方向における突出部分９０の幅のそれぞれは、Ｘ方向における出射面３０の幅と同等である。ここで、同等とは、実質的に等しいことを意味し、例えば、Ｘ方向における噴出口８３の幅、及びＸ方向における突出部分９０の幅のそれぞれが、Ｘ方向における出射面３０の幅の９５％以上であり、Ｘ方向における出射面３０の幅の１０５％以下であることを意味する。なお、Ｘ方向における噴出口８３の幅、及びＸ方向における突出部分９０の幅のそれぞれは、Ｘ方向における出射面３０の幅よりも小さくてもよい。Ｘ方向における噴出口８３の幅、及びＸ方向における突出部分９０の幅のそれぞれは、Ｘ方向における出射面３０の幅の９０％以上であることが好ましく、１００％以上であることがより好ましく、１１０％以上であることが更により好ましい。
　以上説明したように、活性エネルギ照射装置１では、噴出口８３が設けられたパージ筐体８１にソケット８２が設けられており、ソケット８２に絞り部８８が設けられている。これにより、例えば、ソケット８２に接続された第２配管Ｐａにおいて不活性ガスの圧力が変動したとしても、第２配管Ｐａからソケット８２を介してパージ筐体８１内に流入する不活性ガスが絞り部８８を通過することになるため、パージ筐体８１内に供給される不活性ガスの流量が均一化され、その結果、噴出口８３から噴出される不活性ガスの流量も均一化される。また、パージ筐体８１内においては不活性ガスの圧力が低下するため、パージ筐体８１の耐圧性及び気密性を向上させる必要性もなくなる。よって、活性エネルギ照射装置１によれば、構造上の制約を受け難く、且つ被照射物Ｓに対して不活性ガスを均一に噴出することが可能となる。
　活性エネルギ照射装置１では、活性エネルギ照射部３の出射面３０が、Ｘ方向及びＹ方向の両方向に拡がっており、下側に活性エネルギ線を出射し、不活性ガス供給部８の噴出口８３が、出射面３０に対して前側に位置しており、下側に不活性ガスを噴出する。これにより、活性エネルギ照射部３の出射面３０に対して被照射物Ｓが前側から後側に搬送された際に、不活性ガス供給部８の噴出口８３から噴出された不活性ガスが、被照射物Ｓと活性エネルギ照射部３との間の領域Ｒに供給される。したがって、被照射物Ｓと活性エネルギ照射部３との間の領域Ｒに酸素が混入するのを効果的に抑制することができる。
　活性エネルギ照射装置１では、噴出口８３が、Ｘ方向を長手方向とする長尺状を呈していている。これにより、活性エネルギ照射部３の出射面３０に対して前側から後側に搬送される被照射物Ｓに対して、不活性ガスを均一に噴出することができる。
　活性エネルギ照射装置１では、絞り部８８が、多孔質フィルタ８９を含んでいる。この場合、単純な構造で、パージ筐体８１内に供給される不活性ガスの流量を均一化することができる。
　活性エネルギ照射装置１では、多孔質フィルタ８９が、金属焼結体によって形成されている。この場合、単純な構造で、パージ筐体８１内に供給される不活性ガスの流量を均一化することができる。
　活性エネルギ照射装置１では、絞り部８８が、パージ筐体８１内に位置するようにソケット８２に設けられている。これにより、パージ筐体８１内に供給される不活性ガスの流量を均一化することができる。
　活性エネルギ照射装置１では、絞り部８８が、第２配管Ｐａ内における不活性ガスの圧力が０．１ＭＰａ以上となる抵抗を有している。これにより、パージ筐体８１内に供給される不活性ガスの流量を効果的に均一化することができる。
　活性エネルギ照射装置１では、絞り部８８が、ソケット８２に着脱可能に取り付けられている。これにより、絞り部８８の交換及びメンテナンスを容易に行うことができる。
　活性エネルギ照射装置１では、活性エネルギ照射部３が、活性エネルギ線として紫外線を出射する。これにより、活性エネルギ照射装置１を、被照射物Ｓに紫外線を照射する装置として用いることができる。
　活性エネルギ照射システム１００では、複数の活性エネルギ照射装置１が並ぶ方向（すなわち、Ｘ方向）において、各活性エネルギ照射装置１の不活性ガス供給部８から噴出される不活性ガスの流量を均一化することができる。
　図１１の（ａ）は、比較例の活性エネルギ照射システム２００Ａの正面図であり、図１１の（ｂ）は、実施例の活性エネルギ照射システム１００Ａの正面図である。図１１の（ａ）及び（ｂ）に示されるように、各活性エネルギ照射システム２００Ａ，１００Ａでは、複数の不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅが第１配管Ｐの上流側からこの順序で並べられている。不活性ガス供給部８Ａのソケット８２には、第２配管Ｐ１が接続されている。不活性ガス供給部８Ｂのソケット８２には、第２配管Ｐ２が接続されている。不活性ガス供給部８Ｃのソケット８２には、第２配管Ｐ３が接続されている。不活性ガス供給部８Ｄのソケット８２には、第２配管Ｐ４が接続されている。不活性ガス供給部８Ｅのソケット８２には、第２配管Ｐ５が接続されている。各第２配管Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５は、図１及び図９に示される第２配管Ｐａに相当する。複数の第２配管Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５は、第１配管Ｐの上流側からこの順序で、第１配管Ｐから分岐している。
　図１１の（ａ）に示されるように、比較例の活性エネルギ照射システム２００Ａでは、各不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅにおいて、ソケット８２に絞り部８８が設けられていない。図１１の（ｂ）に示されるように、実施例の活性エネルギ照射システム１００Ａでは、各不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅにおいて、ソケット８２に絞り部８８が設けられている。実施例の活性エネルギ照射システム１００Ａでは、複数の活性エネルギ照射装置１が互いに同一の構成を有している。
　図１１の（ａ）に示されるように、比較例の活性エネルギ照射システム２００Ａでは、複数の第２配管Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５のうち第１配管Ｐの下流側において分岐する配管ほど不活性ガスの圧力が高くなるため、複数の不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅのうち第１配管Ｐの下流側に配置された装置ほど、噴出口８３から噴出される不活性ガスの流量が多くなる。これに対し、図１１の（ｂ）に示されるように、実施例の活性エネルギ照射システム１００Ａでは、複数の第２配管Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５のうち第１配管Ｐの下流側において分岐する配管ほど不活性ガスの圧力が高くなるものの、上述した絞り部８８の作用によって、各不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅの噴出口８３から噴出される不活性ガスの流量が均一になる。
　図１２の（ａ）は、比較例の活性エネルギ照射システム２００Ｂの正面図であり、図１２の（ｂ）は、実施例の活性エネルギ照射システム１００Ｂの正面図である。図１２の（ａ）及び（ｂ）に示されるように、各活性エネルギ照射システム２００Ｂ，１００Ｂでは、複数の不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅがこの順序で並べられている。不活性ガス供給部８Ａのソケット８２には、第２配管Ｐ１が接続されている。不活性ガス供給部８Ｂのソケット８２には、第２配管Ｐ２が接続されている。不活性ガス供給部８Ｃのソケット８２には、第２配管Ｐ３が接続されている。不活性ガス供給部８Ｄのソケット８２には、第２配管Ｐ４が接続されている。不活性ガス供給部８Ｅのソケット８２には、第２配管Ｐ５が接続されている。各第２配管Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５は、図１及び図９に示される第２配管Ｐａに相当する。各第２配管Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５には、同等の流量で不活性ガスが供給されるものとする。
　図１２の（ａ）に示されるように、比較例の活性エネルギ照射システム２００Ｂでは、各不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅにおいて、絞り部８８が設けられる位置が互いに異なっている。具体的には、不活性ガス供給部８Ａでは、ソケット８２に絞り部８８が設けられている。不活性ガス供給部８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅでは、第２配管Ｐａの途中に絞り部８８が設けられている。不活性ガス供給部８Ｂ，８Ｃ，８Ｄでは、ソケット８２から絞り部８８までの距離が互いに異なっている。不活性ガス供給部８Ｃ，８Ｅでは、ソケット８２から絞り部８８までの距離は互いに等しいが、不活性ガス供給部８Ｅでは、ソケット８２と絞り部８８との間で第２配管Ｐａが曲がっている。図１２の（ｂ）に示されるように、実施例の活性エネルギ照射システム１００Ｂでは、各不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅにおいて、ソケット８２に絞り部８８が設けられている。実施例の活性エネルギ照射システム１００Ｂでは、複数の活性エネルギ照射装置１が互いに同一の構成を有している。
　図１２の（ａ）に示されるように、比較例の活性エネルギ照射システム２００Ｂでは、複数の不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅのうちソケット８２から絞り部８８までの距離が大きいものほど、噴出口８３から噴出される不活性ガスの流量が少なくなる。ソケット８２から絞り部８８までの距離が互いに等しい不活性ガス供給部８Ｃ，８Ｅでは、ソケット８２と絞り部８８との間で第２配管Ｐａが曲がっている不活性ガス供給部８Ｅのほうが、噴出口８３から噴出される不活性ガスの流量が少なくなる。これに対し、図１２の（ｂ）に示されるように、実施例の活性エネルギ照射システム１００Ｂでは、第２配管Ｐａが曲がっているか否かにかかわらず、上述した絞り部８８の作用によって、各不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅの噴出口８３から噴出される不活性ガスの流量が均一になる。
　本開示は、上述した実施形態に限定されない。例えば、ソケット８２及び絞り部８８は、パージ上面８１ａに限定されず、パージ筐体８１のいずれの位置に設けられていてもよい。噴出口８３は、パージ底面８１ｃに限定されず、パージ筐体８１のいずれの位置に設けられていてもよい。絞り部８８は、パージ筐体８１外に位置するようにソケット８２に設けられていてもよい。この場合にも、パージ筐体８１内に供給される不活性ガスの流量を均一化することができる。
　絞り部８８において、多孔質フィルタ８９は、金属焼結体によって形成されたものに限定されず、セラミック、樹脂等によって形成されたものであってもよい。絞り部８８は、多孔質フィルタ８９を含むものに限定されず、微小穴部品、金属又は樹脂等によって形成された絞り（アパーチャ）等であってもよい。
　活性エネルギ照射部３は、紫外線に限定されず、電子線等の他の活性エネルギ線を出射するものであってもよい。つまり、以上の記載において、「紫外線」を「電子線」又は「活性エネルギ線」と読み替えることができる。
　上述した実施形態及び変形例における各構成には、上述した材料及び形状に限定されず、様々な材料及び形状を適用することができる。上述した実施形態又は変形例における各構成は、他の実施形態又は変形例における各構成に任意に適用することができる。
　１…活性エネルギ照射装置、３…活性エネルギ照射部、３０…出射面、８…不活性ガス供給部、８１…パージ筐体（筐体）、８２…ソケット（接続部）、８３…噴出口、８８…絞り部、８９…多孔質フィルタ、１００…活性エネルギ照射システム、Ｐ…第１配管、Ｐａ…第２配管（配管）。

Claims (11)

  1. 　活性エネルギ線を出射する出射面を有する活性エネルギ照射部と、
    　不活性ガスを噴出する噴出口を有する不活性ガス供給部と、を備え、
    　前記不活性ガス供給部は、
    　前記噴出口が設けられた筐体と、
    　前記筐体に設けられ、前記筐体内に前記不活性ガスを供給するための配管の接続が可能な接続部と、
    　前記接続部に設けられた絞り部と、を含む、活性エネルギ照射装置。
  2. 　前記出射面は、第１方向及び前記第１方向に垂直な第２方向の両方向に拡がっており、前記第１方向及び前記第２方向の両方向に垂直な第３方向の一方側に活性エネルギ線を出射し、
    　前記噴出口は、前記出射面に対して前記第２方向の一方側に位置しており、前記第３方向の前記一方側に不活性ガスを噴出する、請求項１に記載の活性エネルギ照射装置。
  3. 　前記噴出口は、前記第１方向を長手方向とする長尺状を呈している、請求項２に記載の活性エネルギ照射装置。
  4. 　前記絞り部は、多孔質フィルタを含む、請求項１～３のいずれか一項に記載の活性エネルギ照射装置。
  5. 　前記多孔質フィルタは、金属焼結体によって形成されている、請求項４に記載の活性エネルギ照射装置。
  6. 　前記絞り部は、前記筐体内に位置するように前記接続部に設けられている、請求項１～５のいずれか一項に記載の活性エネルギ照射装置。
  7. 　前記絞り部は、前記筐体外に位置するように前記接続部に設けられている、請求項１～５のいずれか一項に記載の活性エネルギ照射装置。
  8. 　前記絞り部は、前記接続部に接続される前記配管内における前記不活性ガスの圧力が０．１ＭＰａ以上となる抵抗を有する、請求項１～７のいずれか一項に記載の活性エネルギ照射装置。
  9. 　前記絞り部は、前記接続部に着脱可能に取り付けられている、請求項１～８のいずれか一項に記載の活性エネルギ照射装置。
  10. 　前記活性エネルギ照射部は、前記活性エネルギ線として紫外線又は電子線を出射する、請求項１～９のいずれか一項に記載の活性エネルギ照射装置。
  11. 　それぞれが請求項１～１０のいずれか一項に記載の活性エネルギ照射装置である複数の活性エネルギ照射装置と、
    　前記複数の活性エネルギ照射装置のそれぞれの前記筐体内に前記不活性ガスを供給するための第１配管と、
    　前記第１配管から分岐しており、前記複数の活性エネルギ照射装置のそれぞれの前記接続部に接続された複数の第２配管と、を備え、
    　前記複数の活性エネルギ照射装置は、少なくとも一列に並べられている、活性エネルギ照射システム。
PCT/JP2021/020025 2021-01-13 2021-05-26 活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システム WO2022153575A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP21919468.5A EP4249111A1 (en) 2021-01-13 2021-05-26 Active energy irradiation device and active energy irradiation system
IL303867A IL303867A (en) 2021-01-13 2021-05-26 Active energy radiation device, and active energy radiation system
US18/269,318 US20240050919A1 (en) 2021-01-13 2021-05-26 Active energy irradiation device and active energy irradiation system

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021-003348 2021-01-13
JP2021003348A JP2022108391A (ja) 2021-01-13 2021-01-13 活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システム

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2022153575A1 true WO2022153575A1 (ja) 2022-07-21

Family

ID=82447074

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2021/020025 WO2022153575A1 (ja) 2021-01-13 2021-05-26 活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システム

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20240050919A1 (ja)
EP (1) EP4249111A1 (ja)
JP (1) JP2022108391A (ja)
IL (1) IL303867A (ja)
WO (1) WO2022153575A1 (ja)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000009900A (ja) * 1998-06-26 2000-01-14 Toyo Ink Mfg Co Ltd 電子線照射装置および電子線照射方法
JP2001113163A (ja) * 1999-10-20 2001-04-24 Hoya Schott Kk 紫外光照射装置及び方法
JP2002524239A (ja) * 1998-09-09 2002-08-06 フュージョン・ユーヴィー・システムズ・インコーポレイテッド 不活性雰囲気チャンバを用いた紫外線硬化装置
WO2003081657A1 (fr) * 2002-03-27 2003-10-02 Tokyo Electron Limited Dispositif de traitement, electrode, plaque electrode et procede de traitement
JP2011235210A (ja) * 2010-05-06 2011-11-24 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Ｕｖオゾン洗浄装置
WO2017170949A1 (ja) 2016-03-30 2017-10-05 京セラ株式会社 光照射装置および印刷装置
WO2020022424A1 (ja) * 2018-07-27 2020-01-30 京セラ株式会社 光照射装置および印刷装置
JP2021035759A (ja) * 2019-08-26 2021-03-04 浜松ホトニクス株式会社 活性エネルギ照射ユニット及び活性エネルギ照射装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000009900A (ja) * 1998-06-26 2000-01-14 Toyo Ink Mfg Co Ltd 電子線照射装置および電子線照射方法
JP2002524239A (ja) * 1998-09-09 2002-08-06 フュージョン・ユーヴィー・システムズ・インコーポレイテッド 不活性雰囲気チャンバを用いた紫外線硬化装置
JP2001113163A (ja) * 1999-10-20 2001-04-24 Hoya Schott Kk 紫外光照射装置及び方法
WO2003081657A1 (fr) * 2002-03-27 2003-10-02 Tokyo Electron Limited Dispositif de traitement, electrode, plaque electrode et procede de traitement
JP2011235210A (ja) * 2010-05-06 2011-11-24 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Ｕｖオゾン洗浄装置
WO2017170949A1 (ja) 2016-03-30 2017-10-05 京セラ株式会社 光照射装置および印刷装置
WO2020022424A1 (ja) * 2018-07-27 2020-01-30 京セラ株式会社 光照射装置および印刷装置
JP2021035759A (ja) * 2019-08-26 2021-03-04 浜松ホトニクス株式会社 活性エネルギ照射ユニット及び活性エネルギ照射装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP4249111A1 (en) 2023-09-27
IL303867A (en) 2023-08-01
US20240050919A1 (en) 2024-02-15
JP2022108391A (ja) 2022-07-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106979461B (zh) 光照射装置
CN109723982B (zh) 光照射装置
US11298959B2 (en) Active energy radiation unit and active energy radiation device
US20200298600A1 (en) Light irradiation device
JP2018134815A (ja) 光照射装置および印刷装置
WO2022153575A1 (ja) 活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システム
WO2022137595A1 (ja) 活性エネルギ照射装置
WO2016042974A1 (ja) 光照射装置
JP6666512B1 (ja) 光照射装置および印刷装置
WO2022137594A1 (ja) 活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システム
JP7207853B2 (ja) 光照射装置および印刷装置
JP6997652B2 (ja) 光源装置
WO2022137597A1 (ja) 活性エネルギ照射装置
WO2022137596A1 (ja) ヒートシンク、活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システム
CN115052752B (zh) 光照射装置以及印刷装置
WO2020158738A1 (ja) 光照射装置および印刷装置
US11806687B2 (en) Active energy radiation unit and active energy radiation device
JP6859814B2 (ja) 光照射装置
CN115884879A (zh) 光照射装置
CN117136337A (zh) 光照射装置
CN116724198A (zh) 光照射装置
JP2020004661A (ja) 光照射装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 21919468

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2021919468

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 18269318

Country of ref document: US

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2021919468

Country of ref document: EP

Effective date: 20230622

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE