JP2011235210A - Uvオゾン洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】UV照射室(10)内に2つのUVユニット(20A、20B)を備えており、これらUVユニットは所定の間隔を有するように対向して設けられている。この間隔内には、洗浄対象物(30)が基板搬送部(40)により把持された状態で搬送される。オゾン発生の源となるエアーと不活性ガスの混合ガスは第1および第2のガス供給部(50A、50B)から、UV照射室(10)内に搬送された基板(30)の表面に向けて供給される。ガス排出部(60)は、装置(100)の底部に設けられており、UV照射室(10)内で発生したオゾン含有ガスは、装置上部に設けられた排気ユニット(70A、70B)の作用により、ガス排気経路部(80A、80B)を通ってガス排出部(60)から外部へと排出される。
【選択図】図1
Description
10 UV照射室
25a、25b UVランプ
20A、20B UVユニット
30 洗浄対象物
40 基板搬送部
50A、50B ガス供給部
60 ガス排出部
70A、70B 排気ユニット
80A、80B ガス排気経路部
90A、90B 回転軸
Claims (6)
- UV照射室内に所定の間隔を有するように対向して設けられた第1および第2の2つのUVユニットと、
前記第1および第2のUVユニット間の所定の間隔内に被洗浄物である基板を搬送する基板搬送部と、
前記第1のUVユニットの基板対向面とは反対側からエアーと不活性ガスの混合ガスを前記UV照射室内に搬送された基板に向けて供給する第1のガス供給部と、
前記第2のUVユニットの基板対向面とは反対側からエアーと不活性ガスの混合ガスを前記UV照射室内に搬送された基板に向けて供給する第2のガス供給部と、
前記UV照射室内に搬送された基板の一方端側に設けられたガス排出部と、
前記UV照射室内で発生したオゾン含有ガスを前記基板の他方端側から排気して前記ガス排出部へと導くガス排気経路部とを備えている、UVオゾン洗浄装置。 - 前記第1および第2のUVユニット内には、前記UV照射室内に搬送された基板の面上で均一にUV光が照射されるようにUVランプが配置されている請求項1に記載のUVオゾン洗浄装置。
- 前記基板搬送部は、前記UV照射室内で基板を揺動可能である請求項1に記載のUVオゾン洗浄装置。
- 前記第1および第2のUVユニットは何れも垂直に設けられており、前記ガス排出部は装置の下部に設けられている請求項1に記載のUVオゾン洗浄装置。
- 前記UVオゾン洗浄装置は、前記第1のUVユニット側と前記第2のUVユニット側に切り離すことで前記UV照射室内を開放可能である請求項4に記載のUVオゾン洗浄装置。
- 前記UVオゾン洗浄装置のUV照射室下部近傍に回転軸が設けられており、該回転軸を中心として前記UV照射室内の開放が可能である請求項5に記載のUVオゾン洗浄装置。
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