JP2011224965A - テンプレートの表面処理方法及び装置並びにパターン形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本実施形態によれば、テンプレートの表面処理方法は、凹凸を有するパターン面を備えたテンプレートの表面を水酸化するか又は前記表面に水を吸着させて、前記表面にOH基を分布させる工程と、前記OH基が分布したテンプレート表面にカップリング剤を結合させる工程と、を備える。これらの処理は、アミンが所定濃度以下に管理された環境で行われる。
【選択図】図3
Description
(第3の実施形態)図7に本発明の第3の実施形態に係るテンプレートの表面処理装置の概略構成を示す。表面処理装置300は、第1チャンバ310、第2チャンバ320、テンプレートを搬送経路330に沿って搬送する搬送アーム331、処理前のテンプレートをセットするローダ部340、処理後のテンプレートを保管する保管部380、保管部380に保管されているテンプレートを搬出するアンローダ部350を備える。
101 テンプレート
110 第1チャンバ
112 第1気体供給部
113 光照射部
120 第2チャンバ
122 加熱部
123 第2気体供給部
131 搬送アーム
160 ヘパフィルタ
170 ケミカルフィルタ
Claims (20)
- アミンが所定濃度以下に管理された環境で、凹凸を有するパターン面を備えたテンプレートの表面を処理する表面処理方法であって、
前記テンプレートの表面を水酸化するか又は前記表面に水を吸着させて、前記表面にOH基を分布させる工程と、
前記OH基が分布したテンプレート表面にカップリング剤を結合させる工程と、
を備える表面処理方法。 - 前記表面にOH基を分布させる工程と、前記テンプレート表面にカップリング剤を結合させる工程との間に、前記テンプレート表面の水分の一部を除去する工程をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のテンプレートの表面処理方法。
- 前記テンプレート表面を100℃以上200℃以下で加熱して、前記テンプレートの表面の水分の一部を除去することを特徴とする請求項2に記載のテンプレートの表面処理方法。
- 前記カップリング剤を結合させる工程で、カップリング反応中に反応副生成物の除去を行うことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のテンプレートの表面処理方法。
- 前記カップリング剤は気体で供給され、カップリング反応中に反応雰囲気を循環させて反応副生成物の除去を行うことを特徴とする請求項4に記載のテンプレートの表面処理方法。
- 前記テンプレートの表面にOH基を分布させる前に、前記表面から無機物パーティクル及び有機物を除去する工程をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のテンプレートの表面処理方法。
- プラズマアッシングにより前記表面から有機物を除去することを特徴とする請求項6に記載のテンプレートの表面処理方法。
- テンプレート表面に洗浄液を供給して無機物パーティクルを除去し、
テンプレート表面の前記洗浄液をアルコールに置換し、
テンプレート表面の前記アルコールをシンナーに置換し、
テンプレート表面の前記シンナーを前記カップリング剤に置換して、テンプレート表面に前記カップリング剤を結合させ、
前記カップリング剤の結合後に、テンプレート表面を乾燥させることを特徴とする請求項6又は7に記載のテンプレートの表面処理方法。 - テンプレート表面に前記カップリング剤を結合させた後に、前記テンプレートを、アミンが所定濃度以下、パーティクル数が所定値以下で管理され、不活性ガス雰囲気となっている保管部で保管する工程をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載のテンプレートの表面処理方法。
- 前記カップリング剤は、シリコンを含有し、端部にアルコキシ基(RO−)又はNHx(x=1、2)基を有する炭化水素又はフロロカーボンであることを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載のテンプレートの表面処理方法。
- 被処理基板上にインプリント材料を塗布する工程と、
請求項1乃至10のいずれかに記載のテンプレートの表面処理方法により表面処理されたテンプレートのパターン面を前記インプリント材料に接触させる工程と、
前記テンプレートを前記インプリント材料に接触させた状態で前記インプリント材料を硬化する工程と、
前記インプリント材料から前記テンプレートを離型する工程と、
を備えるパターン形成方法。 - 凹凸を有するパターン面を備えたテンプレートの表面に光を照射する光照射部及びH2O/O2/N2の混合ガスを供給する第1供給部が設けられた第1チャンバと、
前記テンプレートを加熱する加熱部及び前記テンプレートの表面にカップリング剤を供給する第2供給部が設けられた第2チャンバと、
アミンを除去し、自装置内の気体のアミン濃度を所定値以下に保つフィルタと、
を備えるテンプレートの表面処理装置。 - 前記第2供給部は窒素とシランカップリング剤の混合ガスを供給することを特徴とする請求項12に記載のテンプレートの表面処理装置。
- 前記テンプレートの表面から無機物パーティクルを吸着除去する除去部が設けられた第3チャンバをさらに備えることを特徴とする請求項12又は13に記載のテンプレートの表面処理装置。
- 前記除去部は、加圧ロールによって粘着シートを前記テンプレートの表面に圧接及び剥離して、前記無機物パーティクルを吸着除去することを特徴とする請求項14に記載のテンプレートの表面処理装置。
- 凹凸を有するパターン面を備えたテンプレートの表面から有機物を除去する除去部が設けられた第1チャンバと、
前記テンプレートの表面に、洗浄液、アルコール、シンナー、カップリング剤を順に供給する薬液供給部が設けられた第2チャンバと、
アミンを除去し、自装置内の気体のアミン濃度を所定値以下に保つフィルタと、
を備えるテンプレートの表面処理装置。 - 前記第2チャンバには、前記テンプレートの乾燥を行うことができる乾燥処理部が設けられていることを特徴とする請求項16に記載のテンプレートの表面処理装置。
- 前記薬液供給部は、前記テンプレートの表面にカップリング剤を供給した後にシンナーを供給し、
前記乾燥処理部は、スピンドライ処理により、表面がシンナーで濡れた前記テンプレートを乾燥させることを特徴とする請求項17に記載のテンプレートの表面処理装置。 - 前記除去部はプラズマアッシングを行うことを特徴とする請求項16乃至18のいずれかに記載のテンプレートの表面処理装置。
- 前記第2チャンバから搬出された前記テンプレートを保管する保管部をさらに備え、
前記保管部は、アミンが所定濃度以下、パーティクル数が所定値以下で管理され、不活性ガス雰囲気となっていることを特徴とする請求項16乃至19のいずれかに記載のテンプレートの表面処理装置。
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