JP2016195247A - インプリント用のテンプレート製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】実施形態に係るインプリント用のテンプレート製造装置1は、主面を有する基体11と、主面上に設けられ、主面と反対側の端面を有し、凹凸パターンがその端面に形成された凸部12とにより構成されたテンプレートWを、凸部12を下方に向けて支持する支持部3と、支持部3上のテンプレートWの下方に設けられ、撥液材を気化させる気化部5と、支持部3上のテンプレートWの下方に設けられ、気化した撥液材が支持部3上のテンプレートWの凸部12の側面に付着することを許し、凹凸パターンに付着することを防止する防着板7とを備える。
【選択図】図1
Description
第1の実施形態について図1乃至図6を参照して説明する。第1の実施形態に係るインプリント用のテンプレート製造装置は、テンプレート上に撥液材を蒸着させてテンプレートの一部をコートする蒸着コーティング装置の一例である。
第2の実施形態について図7を参照して説明する。なお、第2の実施形態では、第1の実施形態との相違点(防着板)について説明し、その他の説明は省略する。
第3の実施形態について図8を参照して説明する。なお、第3の実施形態では、第1の実施形態との相違点(防着板)について説明し、その他の説明は省略する。
第4の実施形態について図9を参照して説明する。なお、第4の実施形態では、第1の実施形態との相違点(防着板)について説明し、その他の説明は省略する。
前述の各実施形態においては、撥液層13を凸部12の側面の全面及びその側面につながる主面11aの一部に形成しているが、これに限るものではない。例えば、凸部12上の凹凸パターン12aを避けて少なくとも凸部12の側面に撥液層13を形成すれば良く、凸部12の側面に加え、凸部12の端面の一部あるいは主面11aにおける凸部12以外の全面に撥液層13を形成することも可能である。さらに、凸部12の側面に加え、凸部12の端面の一部及び主面11aにおける凸部12以外の全面に撥液層13を形成することも可能である。加えて、凸部12の側面における被転写物22と接触する部分に撥液層13を形成すれば良く、凸部12の側面の一部に撥液層13を形成することも可能である。
2a 処理室
3 支持部
4 移動機構
5 気化部
7 防着板
7A 防着板
7B 防着板
7C 防着板
8 制御部
11 基体
11a 主面
12 凸部
12a 凹凸パターン
13 撥液層
22 被転写物
W テンプレート
Claims (9)
- 主面を有する基体と、前記主面上に設けられ、前記主面と反対側の端面を有し、液状の被転写物に押し付ける凹凸パターンが前記端面に形成された凸部とにより構成されたテンプレートを、前記凸部を下方に向けて支持する支持部と、
前記支持部により支持された前記テンプレートの下方に設けられ、前記液状の被転写物を弾く撥液材を気化させる気化部と、
前記支持部により支持された前記テンプレートの下方に設けられ、気化した前記撥液材が、前記支持部により支持された前記テンプレートの前記凸部の側面に付着することを許し、前記凹凸パターンに付着することを防止する防着板と、
を備えることを特徴とするインプリント用のテンプレート製造装置。 - 前記支持部により支持された前記テンプレート及び前記防着板を高さ方向に相対移動させる移動機構をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のインプリント用のテンプレート製造装置。
- 前記支持部により支持された前記テンプレートの前記凸部及び前記防着板の前記高さ方向の離間距離を、気化した前記撥液材が前記凹凸パターンを避けて少なくとも前記凸部の側面に付着する距離とするように前記移動機構を制御する制御部をさらに備えることを特徴とする請求項2に記載のインプリント用のテンプレート製造装置。
- 前記支持部により支持された前記テンプレートの前記凸部及び前記防着板の前記高さ方向の離間距離を、気化した前記撥液材が前記凸部の側面に加え前記凹凸パターンを避けて前記端面上にも付着する距離とするように前記移動機構を制御する制御部をさらに備えることを特徴とする請求項2に記載のインプリント用のテンプレート製造装置。
- 前記防着板における前記凹凸パターンに対向する面積は、前記凸部の端面における前記凹凸パターンが形成された領域の面積以上であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載のインプリント用のテンプレート製造装置。
- 前記防着板は、前記支持部により支持された前記テンプレートの前記凸部と前記防着板との間の空間に気体を吹き出す吹出口を有することを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のインプリント用のテンプレート製造装置。
- 前記防着板は、前記支持部により支持された前記テンプレート側に高さを有する周縁壁を具備することを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載のインプリント用のテンプレート製造装置。
- 前記防着板の側面は、傾斜していることを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載のインプリント用のテンプレート製造装置。
- 前記支持部、前記気化部及び前記防着板を収容する処理室をさらに備え、
前記処理室は、前記テンプレートが前記支持部により支持されたときに、前記テンプレートにおける前記主面と反対側の面に対向するように設けられた給気口を有することを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれか一項に記載のインプリント用のテンプレート製造装置。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020181878A (ja) * | 2019-04-24 | 2020-11-05 | キヤノン株式会社 | インプリント用モールド及びその製造方法、及びインプリント方法 |
JP2022184937A (ja) * | 2017-10-17 | 2022-12-13 | マジック リープ, インコーポレイテッド | ポリマー製品を成型する方法および装置 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6529843B2 (ja) * | 2015-07-14 | 2019-06-12 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | インプリント用のテンプレート製造装置及びテンプレート製造方法 |
US10921706B2 (en) * | 2018-06-07 | 2021-02-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Systems and methods for modifying mesa sidewalls |
US10990004B2 (en) | 2018-07-18 | 2021-04-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Photodissociation frame window, systems including a photodissociation frame window, and methods of using a photodissociation frame window |
CN114850003B (zh) * | 2021-02-03 | 2023-06-27 | 芝浦机械电子装置株式会社 | 加热处理装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008248319A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Fujifilm Corp | 真空成膜装置 |
JP2011224965A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-11-10 | Toshiba Corp | テンプレートの表面処理方法及び装置並びにパターン形成方法 |
JP2013084686A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-09 | Tokyo Electron Ltd | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 |
JP2014160754A (ja) * | 2013-02-20 | 2014-09-04 | Dainippon Printing Co Ltd | インプリントモールド、インプリント方法及び半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5537517A (en) | 1978-09-08 | 1980-03-15 | Hitachi Ltd | Driving circuit of compressor motor |
JP2008072030A (ja) * | 2006-09-15 | 2008-03-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ処理装置、プラズマ処理装置の異常検出方法、及びプラズマ処理方法 |
JP5377053B2 (ja) * | 2009-04-17 | 2013-12-25 | 株式会社東芝 | テンプレート及びその製造方法、並びにパターン形成方法 |
JP2010262957A (ja) * | 2009-04-30 | 2010-11-18 | Toshiba Corp | パターン形成方法、パターン形成装置、半導体装置の製造方法 |
FI123645B (fi) * | 2010-04-20 | 2013-08-30 | Beneq Oy | Aerosoliavusteinen kaasukasvatusjärjestelmä |
KR20140035454A (ko) * | 2011-05-31 | 2014-03-21 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 | 불연속 형상을 갖는 미세구조화 공구의 제조 방법, 및 그로부터 제조된 용품 |
JP2012253343A (ja) * | 2011-06-02 | 2012-12-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
-
2016
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2017
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008248319A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Fujifilm Corp | 真空成膜装置 |
JP2011224965A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-11-10 | Toshiba Corp | テンプレートの表面処理方法及び装置並びにパターン形成方法 |
JP2013084686A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-09 | Tokyo Electron Ltd | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 |
JP2014160754A (ja) * | 2013-02-20 | 2014-09-04 | Dainippon Printing Co Ltd | インプリントモールド、インプリント方法及び半導体装置の製造方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022184937A (ja) * | 2017-10-17 | 2022-12-13 | マジック リープ, インコーポレイテッド | ポリマー製品を成型する方法および装置 |
JP7353449B2 (ja) | 2017-10-17 | 2023-09-29 | マジック リープ, インコーポレイテッド | ポリマー製品を成型する方法および装置 |
US11787138B2 (en) | 2017-10-17 | 2023-10-17 | Magic Leap, Inc. | Methods and apparatuses for casting polymer products |
US12030269B2 (en) | 2017-10-17 | 2024-07-09 | Magic Leap, Inc. | Methods and apparatuses for casting polymer products |
JP2020181878A (ja) * | 2019-04-24 | 2020-11-05 | キヤノン株式会社 | インプリント用モールド及びその製造方法、及びインプリント方法 |
JP7292949B2 (ja) | 2019-04-24 | 2023-06-19 | キヤノン株式会社 | インプリント用モールド及びその製造方法、及びインプリント方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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