JP2016195247A5 - - Google Patents
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- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 3
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000003796 beauty Effects 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral Effects 0.000 description 1
- 229910052904 quartz Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Description
図１に戻り、処理槽２は、処理室２ａ、気化室２ｂ及び供給室２ｃにより構成されている。これらの処理室２ａ、気化室２ｂ及び供給室２ｃは箱形状に形成されている。この処理室２ａの上面には給気口２１ａが設けられており、処理室２ａの側面には排気口２２ａが設けられている。また、気化室２ｂの側面には給気口２１ｂが設けられており、気化室２ｂの底面には排気口２２ｂが設けられている。同様に、供給室２ｃの上面には給気口２１ｃが設けられており、供給室２ｃの底面には排気口２２ｃが設けられている。これにより、処理室２ａ、気化室２ｂ及び供給室２ｃ内では、フィルタ（例えばＵＬＰＡフィルタやＨＥＰＡフィルタ）を通過した空気が各給気口２１ａ、２１ｂ及び２１ｃから各排気口２２ａ、２２ｂ、２２ｃへと流れており、処理室２ａ内は層流によって清浄に保たれている。なお、これらの給気、排気を蒸着コーティング工程中に停止させ、撥液材の蒸気の流れを阻害しないようにすることができる。
なお、支持プレート４ｂを省略する場合には、テンプレートＷを保持する支持部３及び移動機構４も、１以上のアームなどの部材に設けることが可能である。
さらに、支持プレート４ｂの開口４ｂ１の側面（内周面）も傾斜させるようにすることで、開口４ｂ１の側面に沿って撥液材（蒸気）の流れが形成され、基体１１の主面１１ａの所望の領域に撥液材（蒸気）を付着させることができる。なお、開口４ｂ１の側面は、水平方向であって開口４ｂ１の内側に向かう方向に沿って徐々に高くなるように傾斜している。
また、被処理物２１として半導体基板を例示したが、これに限るものではなく、レプリカテンプレートとして使用される石英基板であっても良い。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW105110349A TWI670751B (zh) | 2015-03-31 | 2016-03-31 | 壓印用的模板製造裝置 |
| KR1020177030676A KR102022074B1 (ko) | 2015-03-31 | 2016-03-31 | 임프린트용의 템플릿 제조 장치 |
| PCT/JP2016/060820 WO2016159310A1 (ja) | 2015-03-31 | 2016-03-31 | インプリント用のテンプレート製造装置 |
| CN201680019820.2A CN107735237B (zh) | 2015-03-31 | 2016-03-31 | 压印用的模板制造装置 |
| US15/715,966 US20180016673A1 (en) | 2015-03-31 | 2017-09-26 | Imprint template manufacturing apparatus |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015074109 | 2015-03-31 | ||
| JP2015074109 | 2015-03-31 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016195247A JP2016195247A (ja) | 2016-11-17 |
| JP2016195247A5 true JP2016195247A5 (ja) | 2018-06-07 |
| JP6532419B2 JP6532419B2 (ja) | 2019-06-19 |
Family
ID=57323979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016062077A Active JP6532419B2 (ja) | 2015-03-31 | 2016-03-25 | インプリント用のテンプレート製造装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20180016673A1 (ja) |
| JP (1) | JP6532419B2 (ja) |
| KR (1) | KR102022074B1 (ja) |
| CN (1) | CN107735237B (ja) |
| TW (1) | TWI670751B (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6529843B2 (ja) * | 2015-07-14 | 2019-06-12 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | インプリント用のテンプレート製造装置及びテンプレート製造方法 |
| KR20230058550A (ko) * | 2017-10-17 | 2023-05-03 | 매직 립, 인코포레이티드 | 중합체 생성물들을 주조하기 위한 방법들 및 장치들 |
| US10921706B2 (en) * | 2018-06-07 | 2021-02-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Systems and methods for modifying mesa sidewalls |
| US10990004B2 (en) | 2018-07-18 | 2021-04-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Photodissociation frame window, systems including a photodissociation frame window, and methods of using a photodissociation frame window |
| JP7292949B2 (ja) * | 2019-04-24 | 2023-06-19 | キヤノン株式会社 | インプリント用モールド及びその製造方法、及びインプリント方法 |
| CN114850003B (zh) * | 2021-02-03 | 2023-06-27 | 芝浦机械电子装置株式会社 | 加热处理装置 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5537517A (en) | 1978-09-08 | 1980-03-15 | Hitachi Ltd | Driving circuit of compressor motor |
| JP2008072030A (ja) * | 2006-09-15 | 2008-03-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ処理装置、プラズマ処理装置の異常検出方法、及びプラズマ処理方法 |
| JP4874851B2 (ja) * | 2007-03-30 | 2012-02-15 | 富士フイルム株式会社 | 真空成膜装置 |
| JP5377053B2 (ja) * | 2009-04-17 | 2013-12-25 | 株式会社東芝 | テンプレート及びその製造方法、並びにパターン形成方法 |
| JP2010262957A (ja) * | 2009-04-30 | 2010-11-18 | Toshiba Corp | パターン形成方法、パターン形成装置、半導体装置の製造方法 |
| JP5693941B2 (ja) * | 2010-03-31 | 2015-04-01 | 株式会社東芝 | テンプレートの表面処理方法及び装置並びにパターン形成方法 |
| FI123645B (fi) * | 2010-04-20 | 2013-08-30 | Beneq Oy | Aerosoliavusteinen kaasukasvatusjärjestelmä |
| JP5964953B2 (ja) * | 2011-05-31 | 2016-08-03 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 非連続的なトポグラフィーを有する微細構造化ツールを作成するための方法、及びこれにより製造される物品 |
| JP2012253343A (ja) * | 2011-06-02 | 2012-12-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| JP5630415B2 (ja) * | 2011-10-06 | 2014-11-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 |
| JP6303268B2 (ja) * | 2013-02-20 | 2018-04-04 | 大日本印刷株式会社 | インプリントモールド、インプリント方法及び半導体装置の製造方法 |
-
2016
- 2016-03-25 JP JP2016062077A patent/JP6532419B2/ja active Active
- 2016-03-31 KR KR1020177030676A patent/KR102022074B1/ko active IP Right Grant
- 2016-03-31 CN CN201680019820.2A patent/CN107735237B/zh active Active
- 2016-03-31 TW TW105110349A patent/TWI670751B/zh active
-
2017
- 2017-09-26 US US15/715,966 patent/US20180016673A1/en not_active Abandoned
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