CN105116570A - 玻璃基板烘烤装置 - Google Patents

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方仲贤
熊燕军
徐涛
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    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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Abstract

本发明提供一种玻璃基板烘烤装置，用于对基板进行烘烤，所述烘烤装置包括本体、供气组件、与供气组件相对设置的排气组件以及第一保温层，所述本体设有腔体、顶盖及与顶盖连接的周侧板，所述周侧板上设有入口与入口相对的出口，所述供气组件与排气组件设于所述周侧板并与腔体贯通，所述第一保温层覆盖所述周侧板外侧、顶盖外侧及/或所述腔体的内壁上。

Description

玻璃基板烘烤装置
技术领域
本发明涉及液晶面板制造领域，尤其涉及一种玻璃基板烘烤装置。
背景技术
在液晶显示制造工艺中，包括在玻璃基板上沉积薄膜以及对玻璃基板进行曝光显影等工序，其中，为了辅助曝光及显影工序，需要对沉积有薄膜的玻璃基板进行加热烘烤，用于将残存在光阻膜内的溶剂挥发出来，已利于后段曝光及显影工序的顺利进行。
现有技术中，常采用烘烤机对玻璃基板进行加热，使光阻层内的溶剂挥发。但是，在基板受热过程中，光阻层上的调和剂或者光化剂在烘烤机腔内会产生大量的溶剂挥发烟雾，这些烟雾在烘烤机的腔体内壁产生沉积，容易导致玻璃基板的平整度差，从而影响产品良率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种玻璃基板烘烤装置，可以减小烘烤腔内烟雾。
本发明提供一种玻璃基板烘烤装置，用于对基板进行烘烤，所述烘烤装置包括本体、供气组件、与供气组件相对设置的排气组件以及第一保温层，所述本体设有腔体、顶盖及与顶盖连接的周侧板，所述周侧板上设有入口与入口相对的出口，所述供气组件与排气组件设于所述周侧板并与腔体贯通，所述第一保温层覆盖所述周侧板外侧、顶盖外侧及/或所述腔体的内壁上。
进一步的，所述玻璃基板烘烤装置还包括第二保温层，当所述第一保温层覆盖所述周侧板外侧及顶盖外侧时，所述第二保温层紧贴腔体内壁设置并覆盖内壁。
进一步的，所述第一保温层与第二保温层由保温材料制成。
进一步的，所述腔体内靠近顶盖的位置设有隔板。
进一步的，所述供热组件包括供气泵及供气管道，所述供气管道一端穿过所述周侧壁与腔体贯通，另一端连接所述供气泵。
进一步的，所述排气组件包括排气管道及冷却装置，所述排气管道一端穿过所述周侧壁与腔体贯通，另一端连接所述冷却装置。
进一步的，所述供气管道与排气管道位于所述周侧板靠近顶盖的位置，并且所述供气管道与排气管道对称设置。
进一步的，所述玻璃基板烘烤装置还包括传送组件，所述传送组件包括支撑件及驱动件，所述驱动件驱动所述支撑件移动并支撑基板于腔体内。
进一步的，所述基板为阵列基板或者彩膜基板。
进一步的，所述玻璃基板烘烤装置还包括控制模块，用于启动及调试所述烘烤装置。
本发明的所述玻璃基板烘烤装置通过在所述周侧板外侧、顶盖外侧及/或所述腔体的内壁上设置保温层，来提高所述腔体内的温度及高温时间，使污染颗粒高温升华形成升华物，然后随着气体镜排气组件流出，此装置效果不受基板尺寸的影响，而且提高了去除污染物的效率节省制程成本。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有技术的玻璃基板烘烤装置本体示意图。
图2是图1所述的玻璃基板烘烤装置截面示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1与图2，本发明佳实施方式提供一种玻璃基板烘烤装置，用于对基板进行烘烤。所述烘烤装置包括本体10、供气组件15、与供气组件15相对设置的排气组件20以及第一保温层30。所述本体10设有腔体11、顶盖12及与顶盖12连接的周侧板13。所述周侧板13上设有入口14与入口相对的出口(图未示)。所述供气组件15与排气组件20设于所述周侧板13并与腔体11贯通。所述第一保温层30覆盖所述周侧板13外侧、顶盖12外侧及/或所述腔体11的内壁111上。本实施例中，所述第一保温层30覆盖所述周侧板13外侧及顶盖12外侧。
本实施例中，所述本体10为矩形箱体，所述周侧板13呈矩形框状，所述入口14设于所述周侧板13上，用于基板40通过进入腔体11内。所述第一保温层30由高效保温材料制成，可以是板体、毛毡或者海绵状。本实施例中第一保温层是板体，其盖设于所述周侧板13外侧及顶盖12外侧，用于对腔体11进行保温，进而辅助供气组件15与排气组件20实现去除基板上的调和剂或光化剂在腔体11内形的污染物(颗粒)。所述基板40为阵列基板或者彩膜基板。
进一步的，所述供热组件15包括供气泵及供气管道151，所述供气管道151一端穿过所述周侧壁13与腔体贯通，另一端连接所述供气泵。所述供气泵提供高温气体通过供气管道151进入所述腔体11内，提高腔体的温度并实现墙体内空气的流通。所述排气组件20包括排气管道21及冷却装置(图未示)。所述排气管道21一端穿过所述周侧壁13与腔体11贯通，另一端连接所述冷却装置。所述排气管道21用于排除所述腔体11内的气，并将气体通过冷却装置进行冷却。
进一步的，所述供气管道151与排气管道21位于所述周侧板13靠近顶盖12的位置，并且所述供气管道151与排气管道21对称设置，所述供气管道151与排气管道21在靠近顶盖12位置形成稳定的流动气场，对腔体11内的颗粒的升华物进行排除。
进一步的，所述腔体11内靠近顶盖12的位置设有隔板。所述隔板平行于所述顶盖12设置，用于保护顶盖12不被污染。当隔板上附着一定数量的颗粒等污染物，可以讲隔板拆下清洗。
进一步的，所述玻璃基板烘烤装置还包括传送组件35，所述传送组件包括支撑件及驱动件，所述驱动件驱动所述支撑件移动并支撑基板于腔体内。比如，滑轨机构带动板状的支撑件移动，将基板放于支撑件上，将基板从入口外侧运送至腔体内烘烤后再运出腔体。
进一步的，所述玻璃基板烘烤装置还包括控制模块，用于启动及调试所述烘烤装置。
进一步的，所述玻璃基板烘烤装置还包括第二保温层，当所述第一保温层覆盖所述周侧板13外侧及顶盖12外侧时，所述第二保温层紧贴腔体11内壁设置并覆盖内壁。所述第二保温层由保温材料制成。
本发明的所述玻璃基板烘烤装置通过在所述周侧板13外侧、顶盖12外侧及/或所述腔体11的内壁111上设置保温层，来提高所述腔体内的温度使污染颗粒高温升华形成升华物，然后随着气体镜排气组件流出，此装置效果不受基板尺寸的影响，而且提高了去除污染物的效率节省制程成本。
以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于发明所涵盖的范围。

Claims (10)

1.一种玻璃基板烘烤装置，用于对基板进行烘烤，其特征在于，所述烘烤装置包括本体、供气组件、与供气组件相对设置的排气组件以及第一保温层，所述本体设有腔体、顶盖及与顶盖连接的周侧板，所述周侧板上设有入口与入口相对的出口，所述供气组件与排气组件设于所述周侧板并与腔体贯通，所述第一保温层覆盖所述周侧板外侧、顶盖外侧及/或所述腔体的内壁上。
2.如权利要求1所述的玻璃基板烘烤装置，其特征在于，所述玻璃基板烘烤装置还包括第二保温层，当所述第一保温层覆盖所述周侧板外侧及顶盖外侧时，所述第二保温层紧贴腔体内壁设置并覆盖内壁。
3.如权利要求2所述的玻璃基板烘烤装置，其特征在于，所述第一保温层与第二保温层由保温材料制成。
4.如权利要求1-3任一项所述的玻璃基板烘烤装置，其特征在于，所述腔体内靠近顶盖的位置设有隔板。
5.如权利要求4所述的玻璃基板烘烤装置，其特征在于，所述供热组件包括供气泵及供气管道，所述供气管道一端穿过所述周侧壁与腔体贯通，另一端连接所述供气泵。
6.如权利要求5所述的玻璃基板烘烤装置，其特征在于，所述排气组件包括排气管道及冷却装置，所述排气管道一端穿过所述周侧壁与腔体贯通，另一端连接所述冷却装置。
7.如权利要求1所述的玻璃基板烘烤装置，其特征在于，所述供气管道与排气管道位于所述周侧板靠近顶盖的位置，并且所述供气管道与排气管道对称设置。
8.如权利要求1所述的玻璃基板烘烤装置，其特征在于，所述玻璃基板烘烤装置还包括传送组件，所述传送组件包括支撑件及驱动件，所述驱动件驱动所述支撑件移动并支撑基板于腔体内。
9.如权利要求1所述的玻璃基板烘烤装置，其特征在于，所述基板为阵列基板或者彩膜基板。
10.如权利要求1所述的玻璃基板烘烤装置，其特征在于，所述玻璃基板烘烤装置还包括控制模块，用于启动及调试所述烘烤装置。
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