JP5964953B2 - 非連続的なトポグラフィーを有する微細構造化ツールを作成するための方法、及びこれにより製造される物品 - Google Patents

Description

微細構造化複合体フィルムは、製造に時間及び費用がかかり得る、寸法を正確にするための金属成形ツールを使用して製造される。フィルムの表面に補完的なパターンを複製するためのパターン付きツールを使用する多くの方法は既知である。しかしながら、多くの場合において、複製方法から生じるパターンは、ツールにより制限され得る（例えば、いくつかのパターン構成は、従来的な複製方法によって複製することができない）。多くの場合において、英数字、安全マーク、光調節機構、又はカスタマイズされた装飾パターンを有するフィルムを製造する必要性がある。

好ましくは、微細複製ツールの恒久的な物理的修正を必要とせずに、様々な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を生成するための、比較的迅速であり、比較的低費用の、方法が必要とされている。

一態様において、本明細書において記載される方法は、成形ツールの第１微細構造化表面上で放射線硬化性樹脂をコーティングし、放射線硬化性樹脂をパターン照射に暴露し、その後、照射されていない放射線硬化性樹脂を成形ツールから除去し、成形ツールに修正された微細構造化表面をもたらすことにより、成形ツールを作製する工程を含む。パターン照射の前に、第１成形ツールの第１微細構造化表面上にコーティングされた放射線硬化性樹脂に対して、第２微細構造化表面（これは典型的には剥離剤でコーティングされている）を有する、第２成形ツールを接触させ、パターン照射を実行し、その後第２成形ツール及び放射線硬化性樹脂を修正された第１成形ツールの少なくとも１つの非照射区域から除去することにより、第１成形ツールの第１微細構造化表面に、第２微細構造化表面の少なくとも１つの区域を導入する方法がまた、本明細書において開示される。いくつかの実施形態において、放射線硬化性材料は、修正された第１成形ツールの一部として成形プロセスに耐えるように、照射後に、放射線硬化性材料が十分に耐久性があるように選択され、一方でまた修正された第１成形ツールをその未修正の状態に戻すために除去可能である（例えば、物理的又は化学的処理によって）。修正された第１成形ツールは任意により、当業者にとって既知である方法を使用して、より恒久的な修正を行うように処理され得る（例えば、修正された微細構造化表面の金属層を堆積することにより）。修正された第１成形ツールは、差別的にパターン硬化した微細構造化物品を作成するための、本明細書において開示される方法の少なくともいくつかの実施形態における成形ツールとして使用され得る。

いくつかの実施形態において、本開示は、成形ツールを作製する方法を記載し、方法は、第１の複数のキャビティを含む第１微細構造化表面を有する第１成形ツールを提供する工程と、第２の複数のキャビティを含む第２微細構造化表面を有する第２成形ツールを提供する工程と、第１又は第２の複数のキャビティの少なくとも一方に、放射線硬化性樹脂を充填する工程と、第１及び第２の複数のキャビティ面が、その間にあり、第１及び第２の複数のキャビティと接触している、放射線硬化性樹脂の層と互いに接するように、放射線硬化性樹脂に対して第１及び第２成形ツールを接触させる工程と、少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応する一部硬化した樹脂層をもたらすために、第１成形ツール、又は第２成形ツールの少なくとも一方を通じ、放射線硬化性樹脂の層をパターン照射に暴露する工程であって、少なくとも１つの第１区域がパターン照射によって照射され、少なくとも１つの第２区域がパターン照射によって照射されず、第１成形ツール又は第２成形ツールの少なくとも一方がパターン照射に対して透過性である、工程と、第２成形ツールを一部硬化した樹脂から分離する工程と、第１微細構造特徴のマトリックス、及び第２微細構造特徴の少なくとも１つの非連続的な区域のパターンを含む、微細構造化表面を有する成形ツールをもたらすために、第１成形ツールから一部硬化した樹脂の照射されていない区域を分離する工程とを含む。

別の態様において、本開示は第２微細構造特徴のマトリックス内に第１微細構造特徴を含む第１主要表面を有する物品を記載し、第１微細構造特徴は非連続的であり、第１及び第２微細構造特徴は共同して、少なくとも第１主要表面に対して垂直に観察したときに、可視のパターンを形成し、第１及び第２微細構造特徴は、円錐、回折格子、レンズ形、球体セグメント、角錐、円筒、フレネル、及びプリズムからなる群から独立して選択される。

別の態様において、本開示は、少なくとも第１主要表面に対して垂直に観察した際に可視のパターンで配置された第１微細構造特徴及び第２微細構造特徴を含む第１主要表面を有する物品を記載し、第１及び第２微細構造特徴は互いに異なり、円錐、回折格子、レンズ形、球体セグメント、角錐、円筒、フレネル、及びプリズムからなる群から選択される。

ポリマーに関して、「硬化された」とは、フリーラジカル重合、カチオン重合、及びアニオン重合を含む様々な方法によって、固形材料を生成するために適切なエネルギー源を適用することにより、液状の、流動性の、又は形成可能なモノマー又はオリゴマー前駆体を架橋することによって作製されるポリマーを指す。

「硬化されたオリゴマー樹脂」とは、他のモノマー材料と混合され得る、少なくとも２つの反復するモノマーユニットを有する、プレポリマー材料を含む一定の硬化性組成物を硬化することによって作製されたポリマー材料を指す。

「相異するようにパターン硬化された」とは、パターン照射に暴露した際の放射線硬化性材料におけるパターンを指し、放射線硬化性材料における可視のパターンを形成するために異なるレベルの硬化が生じることを指す。

「不透明」とは、所要の照射を実質的に吸収又は反射するマスクを指す（すなわち、所要の照射の少なくとも９０％が吸収又は反射され、典型的には所与の照射の少なくとも９５％が吸収又は反射される）。

「部分的に硬化された」とは、放射線硬化性樹脂の一部が実質的に流れない度合いまで硬化されることを指す。

「パターン」とは、空間的に変化する外観を指す。用語「パターン」は、均一又は周期的なパターン、変動パターン、又は不規則パターンの少なくとも１つである。

「パターン照射」とは、マスクの透過性区域を通じた照射、ビーム光線の誘導、電子ビームの誘導、又はデジタル画像の投影の少なくとも１つを指す。

「安全マーク」とは、背景の視覚的外観によって囲まれる、本開示において記載される物品上又は物品内の要素を指す。多くの実施形態において、安全マークは連続的な背景の外観によって囲まれる「島」特徴である。安全マークは、観察者が安全マークに対する視点を変えると、観察者に対する外観を変え得る。

「可視の」とは、正常視力（すなわち、２０／２０）の裸眼に対して明らかであり、特定可能である（すなわち、その特定の機構を確認できる）ことを指す。「裸眼」とは、顕微鏡又は拡大鏡を使用しないことを意味する。

成形ツール、パターン照射技術、及び放射線硬化性材料の多くの組み合わせが、本明細書において記載される方法に含まれる。これらの方法を使用して、広範な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品が、成形ツールの高価な修正を必要とせずに生成され得る。

本明細書において記載される方法の代表的用途には、製品安全マーク、ロゴ、商標、装飾的外観、及び光管理特性（例えば、透過光、反射光、又は再帰反射光）を有する物品の製造を含む。

成形ツールを作製するための本開示の代表的な方法における工程。 成形ツールを作製するための本開示の代表的な方法における工程。 成形ツールを作製するための本開示の代表的な方法における工程。 成形ツールを作製するための本開示の代表的な方法における工程。 本開示の代表的な成形ツールの代表的な実施形態。 本開示の物品の代表的な実施形態。 成形ツールを作製するための本開示の代表的な方法における工程。 成形ツールを作製するための本開示の代表的な方法における工程。 本開示の代表的な成形ツールの代表的な実施形態。 周辺照明条件における、本開示の物品の代表的な実施形態のデジタル写真画像。 周囲照明条件、及び再帰反射照明条件下それぞれにおける、本開示の物品の代表的な実施形態のデジタル画像写真。 周囲照明条件、及び再帰反射照明条件下それぞれにおける、本開示の物品の代表的な実施形態のデジタル画像写真。 周囲照明条件、及び再帰反射照明条件下それぞれにおける、本開示の物品の代表的な実施形態のデジタル画像写真。 周囲照明条件、及び再帰反射照明条件下それぞれにおける、本開示の物品の代表的な実施形態のデジタル画像写真。 本開示の代表的な物品のデジタル写真画像。 それぞれ１００倍及び２００倍の倍率における図１１Ａの代表的な物品の部分のデジタル写真画像。 それぞれ１００倍及び２００倍の倍率における図１１Ａの代表的な物品の部分のデジタル写真画像。 図１１Ａ〜１１Ｃに図示される代表的な物品のより大きな溝を通じた赤いレーザーポインターの光線を方向づけることによって生成される回折パターンのデジタル写真画像。 図１１Ａ〜１１Ｃに示される代表的な物品のより大きな溝及びより小さな溝の組み合わせを通じて赤いレーザーポインターの光線を方向づけることによって生成される回折パターンのデジタル画像写真。 本開示の代表的な物品のデジタル写真画像。 ４００倍の倍率における図１３Ａの代表的な物品の部分のデジタル写真画像。 ４００倍の倍率における図１３Ａの代表的な物品の部分のデジタル写真画像。 本開示の代表的な物品のデジタル写真画像。 周囲照明条件、及び再帰反射照明条件下それぞれにおける、本開示の物品の代表的な実施形態のデジタル画像写真。 周囲照明条件、及び再帰反射照明条件下それぞれにおける、本開示の物品の代表的な実施形態のデジタル画像写真。

様々な図面における同様の参照番号は同様の要素を示す。しかしながら、特定の図中のある要素を示す数字の使用は、同じ数字によって示される別の図中のその要素を限定しようとするものではないことは理解されるであろう。要素によっては、同じ又は同等のものが複数個存在するものがあり、その場合、１つ以上の代表的な要素のみが参照符合によって示されている場合があるが、こうした参照符合はすべてのこのような同じ要素に適用されるものであることは理解されるであろう。特に指定されない限り、本文献における全ての図面及び図は、一定の縮尺ではなく、本発明の異なる代表的な実施形態を例示する目的で選択される。詳細には、異なる要素の寸法はあくまで例示的な意味で示されるものであり、特にそのように断られないかぎり、図面から異なる要素の寸法間にいっさいの関係が推測されるべきではない。「上部」、「下部」、「上側」、「下側」、「下」、「上」、「前」、「後」、「外側」、「内側」、「上方」、「下方」、並びに「第１」及び「第２」などの用語が本開示に使用され得るが、特に断らないかぎり、これらの用語はあくまで相対的な意味においてのみ使用される点は理解されるはずである。特に、いくつかの実施形態では、ある構成要素は、互換性のある及び／又は同一の複数体（例えば、対）で存在してもよい。これらの構成要素について、「第１の」及び「第２の」という表記は、本明細書に記載されるように、使用の順序に適用してもよい（これを使用することは、どの構成要素が最初に使用されると選択されるかに無関係である）。

様々な向きで多数の複雑な不規則な特徴を有する微細構造を有する成形ツールを生成する能力は、従来的な機械加工技術では達成不可能である。これらの所望の結果のいずれかを達成するための機械加工技術は存在しないと、各結果のために特殊なツールを製造することが必要となる。

本開示は、散在する微細構造を備えるパターン付き物品を生成するための方法を記載する。いくつかの実施形態において、パターン付き物品は、少なくとも１つの異なるトポグラフィーの微細構造によって囲まれた１つのトポグラフィーを含む、微細構造のパターンを有することによって特徴付けられる。いくつかの実施形態において、パターン付き物品は、少なくとも１つの異なる向きにおいて同じトポグラフィーの微細構造によって囲まれる、１つのトポグラフィーを含む微細構造のパターンを有する。

いくつかの実施形態において、パターン付き成形ツールは、放射線硬化性樹脂で、微細構造の配列を備える成形ツールをコーティングし、第２微細構造を備える剥離フィルムの微細構造化面を樹脂に積層する工程と、剥離フィルムと密接接触するようにマスクを配置する工程と、樹脂を硬化させるためにマスク及び構造化剥離フィルムに放射線を通す工程と、マスク及び構造化剥離ライナーを取り除く工程と、好適な溶媒によって非硬化樹脂をツールから取り除く工程と、パターンを有する成形ツールに剥離コーティングを適用する工程とによって生成される。パターン付きツールは、例えば、キャスト及び硬化微細複製によって物品を製造するために使用されてもよく、又はキャスト及び硬化、並びに圧縮成形、押出エンボス過酷又は射出成形を含む別の製造プロセスのために好適な金属ニッケルツールを製造するために、ニッケル電鋳法によって複製されてもよい。

微細構造を備える表面を有する物品の文脈において、本明細書で使用される用語「微細構造」とは、物品の所定の所望の使用目的又は機能を表す、又は特徴付ける表面の構成を指す。不連続部（例えば、表面の突起及び凹部）は、直線の上の表面プロファイルが成す面積の合計が、直線の下の領域のものの合計と等しくなるように、微細構造を通じて引かれた平均的プロファイル、又は中央線から、プロファイルが偏倚しており、この直線は、物品の垂直表面（微細構造を備える）に対して本質的に並行である。上記偏倚の高さは表面の代表的な特徴的長さ（例えば、１ｃｍ〜３０ｃｍ）を通じ、±０．００５μｍ〜±７５０μｍとなる。上記平均的プロファイル、又は中央線は、平坦、凹状、凸状、非球面、又はこれらの組み合わせであり得る。偏倚が低い水準であり（例えば、±０．００５μｍ〜±０．１μｍであり、又は好ましくは±０．００５μｍ±０．０５μｍである）、偏倚の頻度が低く又は最小の割合である（すなわち、表面は、いずれの顕著な断絶部も含まない）物品においては、微細構造を備える表面は本質的に「平坦」又は「完全に平滑な」表面であり、このような物品は例えば、精密光学素子、又は精密光学干渉を備える素子（例えば、光学レンズ）として有用である。上記偏倚が低い水準であり、頻度が高い物品において、例えば、防反射性微細構造を有する物品の場合におけるように、有用な不連続性を有する。上記偏倚が高い水準であり（例えば、±０．１μｍ〜±７５０μｍである）、同じ又は異なる、不規則的又は規則的な様式で、離間するか連続的である、複数の有用な不連続部を含む微細構造に起因する物品は、例えば、再帰反射性コーナーキューブシート、線形フレネルレンズ、及びビデオディスクなどの物品である。微細構造を備える表面は、低い及び高い水準の有用な断絶部を含む場合がある。微細構造を備える表面は、その量又は種類が、上記物品の所望の有用性と干渉する又はこれに悪影響を与えないかぎり、外部の又は非実用的な不連続部を含むことがある。いくつかの実施形態において、微細構造要素は、円錐、回折格子、レンズ形、球体セグメント、角錐、円筒、フレネル、又はプリズムの少なくとも１つを含む。硬化された際の収縮が、干渉する外部の不連続部を生じない、特定のオリゴマー組成物（例えば、２％〜６％しか収縮しない組成物）を選択することが必要又は望ましい場合がある。不連続部のプロファイル及び寸法、及び離間は、１０００倍〜１００，０００倍、の電子顕微鏡、又は１０倍〜１０００倍の光学顕微鏡によって識別可能なものである。

図１は、第１微細構造化ツール１７０、及び第２微細構造化ツール１８０の代表的な実施形態を例示する。第１微細構造化ツール１７０は、対向する第１主要表面１７１、及び第２主要表面１７２を有する本体部分１７６を含む。第１主要表面１７１は、微細構造化層１７５を含み、これは第１の複数のキャビティ１７７、及び第１の複数の頂部１７８を含む。第２微細構造化ツール１８０は、第２主要表面１８２と反対の第１主要表面１８１を含む本体部分１８６を含み、第１主要表面１８１は、第２の複数のキャビティ１８７及び第２の複数の頂部１８８を有する微細構造化層１８５を含む。

図２は、放射線硬化性樹脂１３０と接触する第１微細構造化ツール１７０の第１主要表面１７１を例示する。図３は、第１の複数のキャビティ１７７、及び第２の複数のキャビティ１８８がその間にありかつ第１の複数のキャビティ１７７及び第２の複数のキャビティ１８８と接触している放射線硬化性樹脂１３０の層を挟んで互いに向かい合うように、第１成形ツール１７０及び第２成形ツール１８０を放射線硬化性樹脂１３０に対して接触させることを例示する。

図４Ａは、図３と同じ微細構造仮層の相対的構造を有する、第１微細構造化ツール４９０と第２微細構造化ツール４８０との間に挟まれる、放射線硬化性樹脂４３０のパターン照射を例示する。図４Ａに示される構成において、放射線４４０は、放射線透過区域４５１のマスク４５０を通過し、一方で放射線不透過区域４５２は放射線不透過区域４５２に入射する放射線４４０の少なくとも９０％を遮蔽する。

本明細書において記載される方法の代表的な実施形態において、第１又は第２成形ツールの少なくとも一方が、パターン照射に対して透過性である。透過性成形ツールを通じた放射線硬化性樹脂の照射は、例えば、米国特許番号第５，４３５，８１６号（Ｓｐｕｒｇｅｏｎ ｅｔ ａｌ．）、及び同第５，４２５，８４８号（Ｈａｉｓｍａ ｅｔ ａｌ．）に記載される。図４Ａに例示される代表的な実施形態において、第２微細構造化ツール４８０は、放射線４４０に対して透過性であるように選択される。

放射線４４０は、マスク４５０の放射線透過性区域４５１を透過し、その後放射線透過性微細構造化ツール４８０を通じて第１区域４３１の放射線硬化性樹脂４３０少なくとも部分的に硬化し、一方で第２区域４３２の放射線硬化性樹脂４３０は、マスク４５０の放射線不透過性区域４５２に入射する放射線４４０の１０％超を透過しない。放射線硬化性樹脂４３０のパターン照射の後、第２微細構造化ツール４８０は、微細構造化ツール４９０上の少なくとも一部硬化した放射線硬化性樹脂から分離され、典型的には好適な溶媒（例えば、エタノールであるが、放射線硬化性樹脂の性質によって他の溶媒が有用であることもある）で洗浄することにより第２区域（すなわち、「非照射」区域）の放射線硬化性樹脂は取り除かれる。

図４Ｂは、本記載の方法により作製される代表的な成形ツール４００を例示し、これは複数のキャビティ４３７に挟まれた複数のキャビティ４２７を含む、微細構造化層４９１を有する。成形ツール４００は任意により、微細構造化層４９１の表面からの物品の複製を促進するために、剥離コーティングにより照射され得る。

上記から、成形ツール４００は第１成形ツール４９０の修正版であることが認識され、成形ツール４００を形成するための第１成形ツール４９０の修正は、成形ツール４９０の機械加工を全く必要とせず、成形ツール４００の対応する広範な選択を生み出すために、第２成形ツール４８０の広範な選択により実行され得ることが認識される。本方法の更なる利益は、放射線硬化性樹脂が、成形ツール４００の複製を可能にする放射線硬化の後に、十分な耐久性を有する一方で、第１成形ツール４９０をその元の非修正状態に復元するために好適な条件下で除去可能であるように選択され、よって単一の成形ツール４９０からの、成形ツール４００の広範な選択が行われる（順次）ことを可能にする。

いくつかの代表的な実施形態において、第１構造化ツール１７０の第１主要表面１７１、及び第２構造化ツール１８０の第１主要表面１８１は、第１の複数の頂部１７８が第２の複数のキャビティ１８７内でネスト状にあるために十分に補完的である。図５は、放射線硬化性樹脂１３０に接触する第１構造化ツール１７０の第１主要表面１７１を例示し、図６は、第１及び第２の複数のキャビティ１７７と１８８の間にある放射線硬化性樹脂１３０の層を挟んで互いに向かい合うように、放射線硬化性樹脂１３０に対して接触する第１成形ツール１７０及び第２成形ツール１８０を例示する。第１の複数の頂部１７８は、第２の複数のキャビティ１８７内でネスト状であり、図７は、図６に示される放射線硬化性樹脂１３０のパターン照射に続く、第２成形ツール１８０の除去、及び照射されていない放射線硬化性樹脂の除去により生じる代表的な成形ツール７００を例示し、これによりひいては、硬化した樹脂７３５内に画定される複数のキャビティ７３７（照射区域７３１内の）に挟まれる複数のキャビティ７２７（非照射区域７３２内の）を含む、代表的な成形ツール７００内の微細構造化層７９１を有する。

照射を必要とする、本明細書において記載される方法の代表的な実施形態において、照射の種類の例としては、電子ビーム、紫外線光、及び可視光が挙げられる。電離放射線としても知られる、電子ビーム照射は、約０．１Ｍｒａｄ〜１０Ｍｒａｄの範囲（より典型的には約１Ｍｒａｄ〜１０Ｍｒａｄの範囲）の照射量において使用され得る。紫外線照射とは、約２００〜４００ｎｍの範囲内（典型的には約２５０〜４００ｎｍの範囲内）の波長を有する非粒子状放射線を指す。典型的には、紫外線照射は、５０〜１５００ミリジュール／ｃｍ^２における紫外線光によりもたらされる場合がある。可視光照射とは、約４００ｎｍ〜約７００ｎｍの範囲内の波長を有する非粒子状放射線を指す。

少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を有する対応するパターンの一部硬化した樹脂をもたらす、任意の好適なパターン照射が使用され得、少なくとも１つの第１区域はパターン照射によって照射され、少なくとも１つの第２区域はパターン照射によって照射されない。「非照射」とは、少なくとも１つの第１区域が暴露される照射レベルの１０％以下（いくつかの実施形態において、５％、２％、又は更に１％以下、更に０）の、微量の照射を含み得る。

放射線硬化性樹脂のパターン照射の例としては、マスクの透明区域を通じた照射、光線の誘導、電子ビームの誘導、又はデジタル画像の投影の少なくとも１つが挙げられる。これらのパターン照射技術の組み合わせが使用されてもよい。樹脂の所望のレベルの硬化を得るために、電力レベル、照射時間、及び放射線硬化性樹脂からの距離の好適な調節が行われ得る。

マスクの透過性区域を通じた照射の実施形態としては、少なくとも１つの透過性区域及び少なくとも１つの不透明区域を有するマスクの使用が挙げられる。マスク内の区域の透明性及び不透明性は、照射源に関連して選択される。例えば、いくつかの実施形態において、照射源が可視光であるとき、好適なマスクは可視光線に対して透過性であり、上部に印刷された（例えば、レーザーをプリンターにより）、少なくとも１つの不透明区域（可視光線に対して）を有する、フィルムを含み得る。他のいくつかの実施形態において、照射源が紫外線光であるとき、好適なマスクは可視光線に対して透過性であり、上部に印刷された、少なくとも１つの不透明区域（紫外線光に対して）を有する、フィルムを含み得る。他のいくつかの実施形態において、例えば、電子ビーム照射が使用されるとき、好適なマスクは内部に開放（すなわち、透明）区域を有するアルミニウムシートを含んでもよい。

いくつかの実施形態において、放射線硬化性樹脂は、可視光によって少なくとも一部が硬化可能であり、好適な照射源は、少なくとも可視光を供給し、これはレーザー光源ではない。可視光源の好適な例は、当該技術分野において既知である（例えば、蛍光ランプ）。

いくつかの実施形態において、放射線硬化性樹脂は、紫外線によって少なくとも一部が硬化可能であり、好適な照射源は少なくとも紫外線を供給し、これはレーザー光源ではない。紫外線を供給する好適な照射源は当該技術分野において既知であり、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）ランプ（例えば、Ｃｌｅａｒｓｔｏｎｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｍｉｎｎｅａｐｏｌｉｓ，ＭＮから商標名「ＭＯＤＥＬ ＬＮ １２０−３９５Ｂ−１２０」で、入手可能であるものを含む）の配列が挙げられ、いくつかの実施形態において、照射条件は、平方ｃｍ当たり約１７０ミリワットのエネルギー出力レベルを備える３９５ｎｍ紫外線光を有する照射が挙げられる。

いくつかの実施形態において、照射源は、ビーム光線を供給するレーザーであり得る。パターン照射を生成するために、放射線硬化性樹脂（例えば、ミラーで、若しくは成形ツールを移動することにより、又はその両方）に対して、ビーム光線が誘導され得る。放射線硬化性樹脂を照射するために使用されるレーザーは、可視及び／又は紫外線出力波長において動作する任意の好適なレーザーであってもよい。好適なレーザーの例には、ガスレーザー、エキシマレーザー、固定レーザー、及び化学レーザーが挙げられる。代表的なガスレーザーとしては、アルゴン−イオンレーザー（例えば、４５８ｎｍ、４８８ｎｍ、又は５１４．５ｎｍ）、一酸化炭素レーザー（例えば、最大５００ｋＷの電力を生成することができるもの）、及びより深い紫外線波長を生成するガスレーザーである金属イオンレーザー（例えば、ヘリウム−銀（ＨｅＡｇ）２２４ｎｍレーザー、及びネオン−銅（ＮｅＣｕ）２４８ｎｍレーザー）が挙げられる。

化学レーザーとしては、少なくとも一方が励起された電子状態である、２種の化学種（原子）による、短寿命二量体又はヘテロ二量体分子を有する、励起された二量体（すなわち、「エキシマ」）を伴う、化学反応によって駆動される、エキシマレーザーが挙げられる。これらは、典型的には紫外線を生じる。一般的に使用されるエキシマ分子としては、希ガス化合物（ＫｒＣｌ（２２２ｎｍ）、ＫｒＦ（２４８ｎｍ）、ＸｅＣｌ（３０８ｎｍ）、及びＸｅＦ（３５１ｎｍ））が挙げられる。

固体レーザー材料は通常、結晶性固体ホストを必要とされるエネルギー状態をもたらすイオンでドーピングすることによって製造される。例としては、ルビーレーザー（例えば、ルビー又はクロムドープしたサファイアから作製される）が挙げられる。別の一般的なタイプは、Ｎｄ：ＹＡＧとして知られるネオジミウムドープイットリウムアルミニウムガーネット（ＹＡＧ）から作られる。Ｎｄ：ＹＡＧレーザーは、１０６４ｎｍでの赤外スペクトルにおいて高出力を生み出すことができる。Ｎｄ：ＹＡＧレーザーはまた、可視の（緑色）コヒレントなソースが望ましい場合、一般的に周波数が二倍になり５３２ｎｍを生じる。

このレーザーは、パルスモード及び／又は持続波モードで用いられ得る。例えば、レーザーは少なくとも部分的に持続波モードで及び／又は少なくとも部分的にパルスモードで動作し得る。

レーザービームは典型的には、任意により、所望の照射パターンを達成するために方向付けられるか又は走査され、調節される。レーザービームは、１つ以上のミラー（例えば、ミラーの回転、及び／又はミラーの走査）、及び／又はレンズの組み合わせを介して方向付けられる。あるいは又はそれに加えて、基材がレーザービームに対して移動され得る。

いくつかの実施形態において、照射源は電子ビームである。好適なマスク（例えば、アルミニウムマスク）が、パターン照射を生成するために、電子ビームと組み合わせて使用されてもよい。好適な電子ビーム（「ｅビーム」）システムの例は、Ｅｎｅｒｇｙ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ Ｉｎｃ．，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＭＡ，から、商標「ＭＯＤＥＬ ＣＢ−３００ ＥＬＥＣＴＲＯＮ ＢＥＡＭ ＳＹＳＴＥＭ」で入手可能である。あるいは、電子ビームリソグラフィが、パターン照射において電子ビームを誘導するために使用されてもよい。好適な動作条件が、使用される放射線硬化性樹脂によって選択され得る。いくつかの実施形態において、電子ビームシステムは、放射線硬化性樹脂に硬化をもたらすために、２〜５Ｍｒａｄの照射量を供給するために、２００ｋＶ電圧で操作され得る。

いくつかの実施形態において、本明細書において記載される方法としては、デジタル画像の投影を使用した照射が挙げられる。デジタル画像として照射を投影するための、任意の好適な投影技術が使用され得る。デジタル画像の投影は、急速原型製造法技術（例えば、米国特許番号第７，０７９，９１５号（Ｈｕａｎｇ ｅｔ ａｌ．））において使用されている、パターン照射を生じるための、放射線硬化性樹脂の選択されるゾーンを走査するために、デジタルマイクロミラー装置又は液晶ディスプレイと共に平坦な光源を使用して、達成され得る。

紫外線照射によって硬化可能な組成物としては一般的に少なくとも１つの光開始剤を含む。光開始剤は、約０．１重量％〜１０重量％の範囲の濃度で使用され得る。より典型的に、光開始剤は、０．２重量％〜３重量％の範囲の濃度で使用される。

一般的に、光開始剤は、少なくとも一部可溶性であり（例えば、樹脂の加工温度において）、重合化の後に実質的に無色である。光開始剤は有色であってもよく（例えば、黄色）、ただし光開始剤は紫外線光源に暴露した後に、実質的に無色となる。

好適な光開始剤としては、モノアシルホスフィンオキシド及びビスアシルホスフィンオキシドが挙げられる。入手可能なモノ又はビスアシルホスフィンオキシド光開始剤としては、ＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｃｌｉｆｔｏｎ，ＮＪから、商標「ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ」で入手可能な２，４，６−トリメイチルベンゾイルジフェニルホスフィン（trimethylbenzoydiphenylphosphine）オキサイド、またＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから商標名「ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ−Ｌ」で入手可能な、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネート、及びＣｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｔａｒｒｙｔｏｗｎ，ＮＹ，から、商標名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９」で入手可能なビス−（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキシドが挙げられる。Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから商標名「ＤＡＲＯＣＵＲ １１７３」で入手可能な２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、加えて、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから商標名「ＤＡＲＯＣＵＲ ４２６５」、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ６５１」、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８００」、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９」、「ＲＧＡＣＵＲＥ １７００」、及び「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７」から入手可能な他の光開始剤が挙げられる。

フリーラジカルスカベンジャー、又は抗酸化剤が、典型的には約０．０１重量％〜０．５重量％の範囲で使用され得る。好適な抗酸化剤としては、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから、商標名「ＩＲＧＡＮＯＸ １０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １０３５」、及び「ＩＲＧＡＦＯＳ １６８」で入手可能なものなどの、ヒンダードフェノール樹脂が挙げられる。

本開示の物品を形成する放射線硬化性樹脂は、１つ以上の工程で硬化され得る。例えば、照射源（例えば、紫外線光、可視光、ｅビーム）は、放射線硬化性樹脂の性質によって選択され得る。

代表的な放射線硬化性ポリマー材料には、化学線（例えば、電子ビーム、紫外線、又は可視光線）への曝露により、フリーラジカル重合メカニズムによって架橋されることが可能な反応性樹脂系が挙げられる。放射線開始のカチオン重合性樹脂を使用してもよい。要素アレイを形成するために好適な反応性樹脂は、光開始剤と、アクリレート基を有する少なくとも１つの化合物との混合物であってもよい。好ましくは、樹脂混合物は、照射時に架橋ポリマー網状組織の形成を確実にするために、一官能性、二官能性、又は多官能性化合物を含有する。

本明細書で使用可能な、フリーラジカル機構によって重合可能な樹脂の代表的実施例としては、エポキシ類、ポリエステル類、ポリエーテル類、及びウレタン類、エチレン系不飽和化合物類、少なくとも１つのペンダントアクリレート基を有するアミノプラスト誘導体類、少なくとも１つのペンダントアクリレート基を有するイソシアネート誘導体類、アクリレート化エポキシ類以外のエポキシ樹脂類、並びにこれらの混合物及び組み合わせから誘導されるアクリル系樹脂が挙げられる。本明細書では、用語「アクリレート」とは、アクリレート及びメタクリレートの両方を包含するために使用される。

本記載における有用な放射線硬化性樹脂の他の代表的な例としては、複数のフリーラジカルにより重合可能なエチレン性不飽和基を有する少なくとも１つのモノマー又はオリゴマーを有する重合可能なチオール−エネ組成物、並びに複数のチオール基、及び開始剤を有する少なくとも１つの化合物（例えば、米国特許番号第５，８７６，８０５（Ｏｓｔｌｉｅ）に記載されるものであり、その開示は本明細書において参照として組み込まれる）を含み得る。

本開示の成形ツールは、ロール、連続的ベルト、フィルム、金属プレート、及びガラスプレートを含み得る。本開示の物品の連続的な製造において、成形ツールは典型的にはロール又は連続的なベルトである。成形ツールは、所望の要素（例えば、コーナーキューブ要素）を形成するために好適な形状及び寸法を有する、複数のキャビティ開口部を上部に有する、微細構造化成形表面を有する。キャビティ、及びこれによって生じる要素は、例えば、１つのコーナーキューブであってもよく、例えば、１つのコーナーキューブをそれぞれ有する三面角錐（例えば、米国特許番号第４，５８８，２５８号（Ｈｏｏｐｍａｎ）に開示される）が２つの矩形の面及び２つの三角形の面を備える矩形の基部を有し、これによって各要素が２つのコーナーキューブ（例えば、米国特許番号第４，９３８，５６３（Ｎｅｌｓｏｎ ｅｔ ａｌ．）に開示される）をそれぞれ有するか、又は少なくとも１つのコーナーキューブを有する他の所望の形状を有してもよい（米国特許番号第４，８９５，４２８号（Ｎｅｌｓｏｎ ｅｔ ａｌ．）に開示される）。任意の角錐要素を本開示に従い使用してもよいことを当業者は理解されよう。成形型の窪みの形状、したがって、得られた物品構造もまた、例えば、湾曲側面のプリズム、切頭ピラミッド、小型レンズ、微小針、締結具、茎部、微小流量チャネル、及び様々な他の幾何形状であってもよい。表面のピッチは、１つの窪み又は構造から次の隣接する窪み又は構造までの反復距離を指す。

本明細書において記載される本方法のいくつかの実施形態において、照射は、米国特許番号第５，４３５，８１６号（Ｓｐｕｒｇｅｏｎ ｅｔ ａｌ．）に開示されるような透過性成形ツールを通じた照射によって行われ得る。

いくつかの実施形態において、放射線硬化性樹脂の第１微細構造化成形ツールへの接着を促進する薬剤を提供することが望ましい場合がある。第１微細構造化成形ツールが金属微細構造化表面を有する実施形態において、接着促進剤はシラン連結材を含み得る。好適なシラン連結剤としては、例えば、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、トリス（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、及びγ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン（例えば、Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．から、Ａ−１７４、Ａ−１５１、Ａ−１７２、Ａ−１８６、Ａ−１８７、及びＡ−１８９としてそれぞれ入手可能）、アリルトリエトキシシラン、ジアリルジクロロシラン、ジビニルジエトキシシラン、及びｍ，ｐ−スチリルエチルトリメトキシシラン（例えば、Ｕｎｉｔｅｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ，Ｂｒｉｓｔｏｌ，ＰＡから、Ａ０５６４、Ｄ４０５０、Ｄ６２０５、及びＳ１５８８としてそれぞれ市販されている）、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、及び同様の化合物、並びにこれらの組み合わせが挙げられる。第１微細構造化ツールの微細構造表面に対する放射線硬化性樹脂の接着強化を促進する他の薬剤がまた使用されてもよい。

本明細書において記載される方法のいくつかの実施形態において、本記載の成形ツールによるフィルム物品の調整中に、相異するパターン硬化が含まれることがある。本明細書において記載される方法、及び本出願と同時に出願された、米国特許出願番号第６１／４９１６１６号（代理人整理番号第６７０１１ＵＳ００２号）表題「ＭＥＴＨＯＤＳ ＦＯＲ ＭＡＫＩＮＧ ＤＩＦＦＥＲＥＮＴＩＡＬＬＹ ＰＡＴＴＥＲＮ ＣＵＲＥＤ ＭＩＣＲＯＳＴＲＵＣＴＵＲＥＤ ＡＲＴＩＣＬＥＳ」（その開示は本明細書において参照として組み込まれる）により相異するパターン硬化が達成され得る。

いくつかの実施形態において、本説明の物品は、第２微細構造特徴のマトリックス内の第１微細構造特徴を含む第１主要表面を含み、第１主要表面は、ランド層上に指示され、ランド層及び第１主要表面はモノリシックな構造を含む。いくつかの他の実施形態において、本記載の物品は第２微細構造特徴のマトリックス内の第１微細構造特徴を含む第１主要表面を含み、第１主要表面はオーバーレイフィルム上に支持され、０μｍ超、１５０μｍまでの範囲の厚さを有するランド層を含んでも含まなくてもよい。

いくつかの実施形態において、本記載の物品はオーバーレイフィルムを含む。オーバーレイフィルムは、アイオノマーエチレンコポリマー、塑性ビニルハロゲン化物ポリマー、酸官能性エチレンコポリマー、脂肪族ポリウレタン、芳香族ポリウレタン、他の放射線透過性エラストマー、及びこれらの組み合わせを含む、これらの目的のために使用されるいずれかの従来的なフィルムであり得る。いくつかの実施形態において、オーバーレイフィルムは、光透過性支持層であり得る。

明るい透過性支持層は典型的には、生じる再帰反射性複合体に、容易な曲げ、湾曲、偏向、快適性、又は伸張性を付与するために、低弾性ポリマーを含む。一般的に、光透過性支持層は、１３×１０^８パスカルの弾性率、及び約５０℃未満のガラス転移温度を有する、ポリマーフィルムを含む。ポリマーは好ましくは、光透過性支持層が、結果的に複合再帰反射性シートが形成される際にこれが暴露される条件下において、その物理的一体性を保持するようなものである。ポリマーは望ましくは、５０℃を超えるビカー軟化温度を有する。ポリマーの線形成形収縮は望ましくは１％未満であるが、コーナーキューブ要素及びオーバーレイフィルムのポリマー材料のある種の組み合わせは、オーバーレイフィルムのより高い程度の収縮に耐える。好ましいポリマー材料は、再帰反射性シートが長期にわたり屋外用途に使用され得るように、紫外線（「ＵＶ」）光線による分解に抵抗する。光透過性支持層は、実質的に透過性である。樹脂組成物が適用される際に透過性になる、又は製造プロセス中においてのみ透過性になる（例えば、コーナーキューブ要素の配列を形成するために使用される硬化条件に反応して）マット仕上げを有するフィルムが、本明細書において有用である。

明るい透過性支持層は、所望により単一層、又は多層構成要素のいずれかであり得る。多層の場合、コーナーキューブ要素の配列が固定される層は、生じる複合再帰反射性シートに所望の特性を付与するために必要な、選択される特性を有するコーナーキューブ要素の配列と接触しない他の層に関して有用である、本明細書において記載される特性を有する。光透過性支持層のいずれかの表面は、米国特許番号第５，７６３，０４９号（Ｆｒｅｙ ｅｔ ａｌ．）に一般的に記載されるような、一定の印刷又は形成された（例えば、スタンピング又はエンボス加工された）記号及び／又はしるしを含むことがある。

本明細書において使用される光透過性支持層において利用され得る代表的なポリマーは、フッ素化ポリマー、アイオノマーエチレンコポリマー、低密度ポリエチレン、塑性ビニルハロゲンポリマー、及びポリエチレンコポリマーを含む。

代表的なフッ素化ポリマーとしては、ポリ（クロロトリフルオロエチレン）（例えば、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮから、商標名「ＫＥＬ−Ｆ８００」として入手可能なものなど）、ポリ（テトラフルオロエチレン−コ−ヘキサフルオロプロピレン）（例えば、Ｎｏｒｔｏｎ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ，Ｂｒａｍｐｔｏｎ，ＭＡから、商標名「ＥＸＡＣ ＦＥＰ」）、ポリ（テトラフルオロエチレン−コ−ペルフルオロ（アルキル）ビニルエーテル）（例えば、Ｎｏｒｔｏｎ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅから、商標名「ＥＸＡＣ ＰＥＡ」で入手可能なものなど）、及びポリ（フッ化ビニリデン−コ−ヘキサフルオロプロピレン）（例えば、Ｐｅｎｎｗａｌｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｐｈｉｌａｄｅｌｐｈｉａ，ＰＡから、商標名「ＫＹＮＡＲ ＦＬＥＸ−２８００」で入手可能なものなど）が挙げられる。

代表的なアイオノマーエチレンコポリマーとしては、ナトリウム又は亜鉛イオンを有するポリ（エチレン−コ−メタクリル酸）（例えば、Ｅ．Ｉ．ｄｕＰｏｎｔ Ｎｅｍｏｕｒｓ，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥ、商標名「ＳＵＲＬＹＮ−８９２０」及び「ＳＵＲＬＹＮ−９９１０」で入手可能であるものなど）が挙げられる。

代表的な低密度ポリエチレンは、低密度ポリエチレン、線形低密度ポリエチレン、及び超低密度ポリエチレンを含む。

代表的な塑性ビニルハロゲンポリマーは、塑性ポリ（塩化ビニル（vinychloride））を含む。

酸官能性ポリマーを含む代表的なポリエチレンコポリマーとしては、（例えば、ポリ（エチレン−コ−アクリル酸）（ＥＡＡ）、ポリ（エチレン−コ−メタクリル酸）（ＥＭＡ）、ポリ（エチレン−コ−マレイン酸）、及びポリ（エチレン−コ−フマル酸））、アクリル官能性ポリマー（例えば、ポリ（エチレン−コ−アルキルアクリレート））（ここでアルキル基はメチル、エチル、プロピル、ブチルなど、又はＣＨ３（ＣＨ２）ｎ（式中ｎ＝０〜１２））、並びにポリ（エチレン−コ−ビニルアセテート）が挙げられる。

いくつかの実施形態において、光透過性支持層は、以下のモノマー（ｉ）〜（ｉｉｉ）に由来する脂肪族及び芳香族ポリウレタンを含み得る。
（ｉ）ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネートなどのジイソシアネート、及びこれらのジイソシアネートの組み合わせ；
（ｉｉ）ポリペンチレンアジペートグリコール、ポリテトラメチレンエチルグリコール、ポリカプロラクトンジオール、ポリ−１，２−ブチレンオキシドグリコールなどのポリジオール、及びこれらのポリジオールの組み合わせなどのポリジオール；並びに
（ｉｉｉ）ブタンジオール及びヘキサンジールなどの鎖延長剤。代表的なウレタンポリマーとしては、Ｍｏｒｔｏｎ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｉｎｃ．，Ｓｅａｂｒｏｏｋ，ＮＨから、商標名「ＰＮ−０４」、及び「３４２９」で入手可能なもの、Ｂ．Ｆ．Ｇｏｏｄｒｉｃｈ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｃｌｅｖｅｌａｎｄ，ＯＨから、商標名「Ｘ−４１０７」で入手可能なウレタンポリマーが挙げられる。

本明細書において使用される光透過性支持層において利用され得る代表的なポリマーがまた、互いに組み合わせて使用され得る。光透過性支持層の好ましいポリマーとしては、カルボン基、又はカルボン酸のエステルを含むユニットを含むエチレンコポリマー（例えば、ポリ（エチレン−コ−アクリル酸）（ＥＡＡ）、ポリ（エチレン−コ−メタクリル酸）（ＥＭＡ）、ポリ（エチレン−コ−ビニルアセテート））、アイオノマーエチレンコポリマー、塑性ポリ（塩化ビニル）、及び脂肪族ウレタンが挙げられる。これらのポリマーは、例えば、以下の理由の少なくとも１つにより好ましい場合がある：好適な機械的特性、複合コーナーキューブ層への良好な接着、透明性、環境的安定性。

オーバーレイフィルムの柔軟性により、オーバーレイフィルムは、キャスティング、及び固化又は硬化中に、オーバーレイ要素に構造的及び機械的耐久性をもたらす、好適なキャリア層（図示されない）で支持されてもよい。キャリア層は、生じる物品が成形ツールから取り除かれた後にオーバーレイ要素から剥がされるか、生じる物品の更なる処理のためにそのままにされてもよい。このようなキャリア層の使用は、低弾性オーバーレイフィルムに関して特に好ましい。キャリア層は、ポリエステルフィルム、セルロースアセテートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、印刷紙、クラフト紙、セキュリティ用紙、包装紙、アルミ箔、及び銅箔を含む、このような目的に使用されるいずれかの従来的なフィルム、紙又はホイルであり得る。放射線硬化性樹脂が照射される必要があるが、キャリア層が放射線に対して透過性でない場合、成形型は、放射線に対して透過性であるように選択され、放射線は、成形型を通じて放射線硬化性樹脂を通過するように向けられる。

いくつかの実施形態において、本明細書において記載される物品は補強材料を含む。補強材料は、織布材料、不織布材料、フィラメント、織り糸、又はワイヤの少なくとも１を含み得る。強化材料は、従来的な技術を使用して、物品の放射線硬化の前に樹脂に組み込まれる場合がある。

いくつかの実施形態において、本開示の物品は、少なくとも第１主要表面に対して垂直に観察した際に可視のパターンで配置された第１微細構造特徴及び第２微細構造特徴を含む第１主要表面を有し、第１及び第２微細構造特徴は互いに異なり、円錐、回折格子、レンズ形、球体セグメント、角錐、円筒、フレネル、プリズム、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。いくつかの実施形態において、第１微細構造特徴は、第１ピッチを有し、第１ピッチは１０００μｍ以下である（いくつかの実施形態においては、５００、１００、５０、２０、１０、５、２、１、０．５、０．２、又は更に０．１μｍ以下である）。いくつかの実施形態において、第２微細構造特徴は、第２ピッチを有し、第２ピッチは１０００μｍ以下である（いくつかの実施形態においては、５００、１００、５０、２０、１０、５、２、１、０．５、０．２、又は更に０．１μｍ以下である）。いくつかの実施形態において、第２ピッチは第１ピッチの５０％以下（いくつかの実施形態においては、２０％、１０％、５％、２％以下、又は更に１％以下）である。

いくつかの実施形態において、物品は、着色剤又は顔料のうちの少なくとも１つを含む。いくつかの実施形態において、物品は、不透明の充填剤を含む。代表的着色剤及び顔料には、二酸化チタン、フタロシニアンブルー、赤色酸化鉄、様々な粘土、炭酸カルシウム、雲母、シリカ、及びタルクが挙げられる。代表的な充填剤には、ガラスビーズ又はガラス繊維、カーボンブラック、凝集粒子及び鉱物強化材が挙げられる。着色剤、顔料、及び／又は充填剤は、例えば、従来の技術を使用してそれらをポリマー材料中に添加することにより、本明細書に説明される物品中に組み込むことができる。

いくつかの実施形態において、物品は金属化層を含む。硬化された放射線硬化性樹脂にわたり、金属化層を提供する方法は本明細書において既知であり、米国特許番号第４，８０１，１９３号（Ｍａｒｔｉｎ）に記載される金属化再帰反射シートを作製するための方法を含む。

第２光学要素の少なくとも１つの非連続的な区域を有する、第１光学要素のマトリックスの様々なパターンのいずれかが提示され得る。例えば、いくつかの実施形態において、円、楕円、正方形、矩形、三角形、英数字などの、様々な形状のいずれかであり得る。別の態様において、例えば、第１光学要素のマトリックス内の第２光学要素の複数の連続的な区域が存在する。いくつかの実施形態において、マトリックスの少なくとも一部、及び少なくとも１つの非連続的な区域（及び存在する場合、他の非連続的な区域）は、全体的に少なくとも第１（第２、第３、又はそれ以上）の画像又はしるし（世界（米国を含む）の国、領土などのいずれかにおいて規定される登録商標又は登録した著作権を含む、商標又は著作権を有するものであり得る）を呈する。第２光学要素の少なくとも１つの非連続的な区域（任意の追加的な非連続的な区域）を有する第１光学要素のマトリックスのパターンは典型的には、物品内の光学素子を形成するために使用されるツールの構成、及び／又は物品を作製するための方法で使用されるパターン照射によって形成される。

本明細書において記載される方法の代表的用途には、製品安全マーク、ロゴ、商標、装飾的外観、及び光管理特性（例えば、透過光、反射光、又は再帰反射光）を有する物品の製造を含む。

実施形態
項目１．成形ツールを作製する方法であって、前記方法は、
第１の複数のキャビティを含む、第１微細構造化表面を有する第１成形ツールを提供する工程と、
第２の複数のキャビティを含む第２微細構造化表面を有する第２成形ツールを提供する工程と、
第１又は第２の複数のキャビティの少なくとも一方に放射線硬化性樹脂を充填する工程と、
第１及び第２の複数のキャビティが、その間にありかつ第１及び第２の複数のキャビティと接触する放射線硬化性樹脂の層を挟んで互いに向かい合うように、第１及び第２の成形ツールを、放射線硬化性樹脂に対して接触させる工程と、
少なくとも１つの第１区域、及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応する一部硬化した樹脂層を提供するために、第１成形ツール及び第２成形ツールの少なくとも一方を通じて、放射線硬化性樹脂の層をパターン照射に暴露する工程であって、少なくとも１つの第１区域はパターン照射によって照射され、少なくとも１つの第２区域はパターン照射によって照射されず、第１成形ツール又は第２成形ツールの少なくとも一方が、パターン照射に対して透過性である、工程と、
第２成形ツールを一部硬化した樹脂から分離する工程と、
第１微細構造特徴のマトリックス、及び第２微細構造特徴の少なくとも１つの不連続区域のパターンを含む、微細構造表面を有する成形ツールをもたらすために、第１成形ツールから、一部硬化した樹脂の非照射区域を分離する工程とを含む、方法。

項目２．第１成形ツールは、ロール、ベルト、フィルム、金属プレート、又はガラスプレートのいずれか１つである、項目１に記載の方法。

項目３．パターン照射が、マスクの透過性区域を通じた照射、ビーム光線の誘導、電子ビームの誘導、又はデジタル画像の投影の少なくとも１つを含む、項目１又は２に記載の方法。

項目４．第１微細硬化表面は、第１トポグラフィーを有し、第２微細構造化表面は第２トポグラフィーを有し、第１及び第２トポグラフィーは互いに対して同一ではない、項目１に記載の方法。

項目５．第１及び第２トポグラフィーはそれぞれ配向軸を有し、樹脂層をパターン照射に暴露する間、配向軸は互いに対して整列していない、項目４に記載の方法。

項目６．第１微細硬化表面は、第１トポグラフィーを有し、第２微細構造化表面は第２トポグラフィーを有し、第１及び第２トポグラフィーは互いに対して同一である、項目１に記載の方法。

項目７．第１及び第２トポグラフィーはそれぞれ配向軸を有し、樹脂層をパターン照射に暴露する間、配向軸は互いに対して整列していない、項目６に記載の方法。

項目８．第２微細構造化表面が剥離剤を含む、項目１〜７のいずれか一項目に記載の方法。

項目９．修正された成形ツールの修正された微細構造化表面に剥離コーティングを適用する工程を更に含む、項目１〜８のいずれか一項目に記載の方法。

項目１０．第１微細構造特徴のマトリックス、及び第２微細構造特徴の少なくとも１つの非連続区域のパターンに対して補完的な、微細構造化表面を有する、微細構造化物品を複製する工程を更に含む、項目１〜９のいずれか一項目に記載の方法。

項目１１．修正された成形ツールから金属ツールを複製する工程を更に含む、項目１〜９のいずれか一項目に記載の方法。

項目１２．第２微細構造特徴のマトリックス内の第１微細構造特徴を含む第１主要表面を有する物品であって、第１微細構造特徴は非連続であり、第１及び第２微細構造特徴は共同して、少なくとも第１主要表面に対して垂直に観察したときに、可視のパターンを形成し、第１及び第２微細構造特徴は独立して、円錐、回折格子、レンズ形、球体セグメント、角錐、円筒、フレネル、及びプリズムからなる群から独立して選択される、物品。

項目１３．第１及び第２微細構造特徴は独立して、０．１μｍ〜１０００μｍのピッチを有する、項目１２に記載の物品。

項目１４．第１ピッチは、第２ピッチの９０％以下である、項目１３に記載の物品。

項目１５．第１ピッチは第２ピッチの５０％以下である、項目１３に記載の物品。

項目１６．パターンは、英数字、第１の商標のしるし、又は第１の著作権のしるしの少なくとも１つを含む、項目１２〜１５のいずれか一項目の物品。

項目１７．第１及び第２微細構造特徴が、熱硬化性材料又は熱可塑性材料の少なくとも１つを独立して含む、項目１２〜１６のいずれか一項目の物品。

項目１８．パターンが微細構造特徴を有さない区域を含む、項目１２〜１７のいずれか一項に記載の物品。

項目１９．少なくとも第１主要表面と垂直に観察した際に可視のパターンで配置された第１微細構造特徴及び第２微細構造特徴を含む第１主要表面を有する物品であって、第１及び第２微細構造特徴は互いに異なり、円錐、回折格子、レンズ形、球体セグメント、角錐、円筒、フレネル、及びプリズムからなる群から選択される、物品。

項目２０．第１及び第２微細構造特徴は独立して、０．１μｍ〜１０００μｍのピッチを有する、項目１９に記載の物品。

項目２１．第１ピッチは、第２ピッチの９０％以下である、項目２０に記載の物品。

項目２２．第１ピッチは、第２ピッチの５０％以下である、項目２０に記載の物品。

項目２３．パターンは、英数字、第１の商標のしるし、又は第１の著作権のしるしの少なくとも１つを含む、項目１９〜２２のいずれか一項目の物品。

項目２４．第１及び第２微細構造特徴が、熱硬化性材料又は熱可塑性材料の少なくとも１つを独立して含む、項目１９〜２３のいずれか一項目の物品。

項目２５．パターンが微細構造特徴を有さない区域を含む、項目１９〜２４のいずれか一項目に記載の物品。

本発明の利点及び実施形態は、以下の実施例により更に例示されるが、これらの実施例に列挙したその特定の材料及び量、並びに他の条件及び詳細は、本発明を過度に限定すると解釈されるべきではない。すべての部及びパーセンテージは、特に記載されていない限り、重量に基づく。

組成物１の作製
第１の放射線硬化性組成物（組成物１）は、２５重量％のＢＡＥＤ−１、１２％のＤＥＡＥＭＡ、３８重量％のＴＭＰＴＡ、２５重量％のＨＤＤＡ、０．５／１００部（ｐｐｈ）ＴＰＯ、０．２ｐｐｈのＩ１０３５、及び０．５ｐｐｈのＴ４０５をガラスジャー内で混合することによって調整された。約１００グラムの組成物が調整された。

組成物２の作製
第２の放射線硬化性組成物（組成物２）は、７４．５重量％のＡＵＡ、２４．５重量％のＨＤＤＡ、１．０重量％のＤ１１７３、及び０．５ｐｐｈ ＴＰＯをガラスジャー内で混合することによって調整された。約１００グラムの組成物が調整された。

組成物３の作製
第３放射線硬化性組成物（組成物３）が、５８．４重量％のＢＡＥＤ−２、２０．３重量％のＩＢＯＡ、２０．３重量％のＡｕＵＡ、及び１重量％のＩ８１９によって調整され得る。約１００グラムの組成物が調整された。

（実施例１）
パターン付きツールは、以下の手順を使用して、図１〜４Ｂに一般的に示されるように調整された。約１０グラムの組成物３は、加熱された微細構造化ツールの上方微細構造面上に注がれ、その後ドクターブレードとして２５０ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを使用して均一に拡散された。ツールは２５ｃｍ×３０ｃｍであり、厚さ７６０μｍのニッケルプレートであった。ツールは、４３μｍの深さ、及び８６μｍのピッチを有する、コーナーキューブキャビティからなる微細構造化表面を有した。ツールは、６６℃に設定された磁気ホットプレート上に配置された。ドクターブレードを使用して組成物３でツールのキャビティを充填した後、ホログラフィーフィルム（Ｓｐｅｃｔｒａｔｅｋ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｉｎｃ．，Ｌｏｓ Ａｎｇｅｌｅｓ，ＣＡから、商標名「ＰＥＢＢＬＥＳ−０．００２ＩＮＣＨＥＳ（−０．０５１ｍｍ），ＰＲＩＮＴ ＴＲＥＡＴＥＤ ＰＯＬＹＥＳＴＥＲ，ＴＲＡＮＳＰＡＲＥＮＴ」で入手可能）は、樹脂厚さを最小化するために、インクローラーを使用して樹脂に積層された。マスクは、ホログラフィーフィルムの上部に配置され、９０°で交差する溝を有する、溝付きフィルムの２枚のシート（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから、商標名「ＢＲＩＧＨＴＮＥＳＳ ＥＮＨＡＮＣＥＭＥＮＴ ＦＩＬＭ（ＢＥＦ）ＩＩ ９０／５０」で得られる）がマスクの上に配置され、この際溝は光をコリメートするためにマスクに面している。微細構造化ツール、樹脂、ホログラフィーフィルム、マスク、及び溝付フィルムのシートの緊密な接触を確実にするため、６，４ｍｍシートの窓ガラスが溝付きフィルムの上に配置された。放射線は、ツールから約３ｃｍ上に位置付けられた蛍光光線のバンク（Ｐｈｉｌｉｐｓ Ｌｉｇｈｔｉｎｇ，Ｓｏｍｅｒｓｅｔ，ＮＪから、商標「ＴＬ ２０Ｗ／０３」で得られる）を使用して、ガラス、溝付フィルム、マスク、及びホログラフィーフィルムを６０秒間にわたり透過した。ガラス、溝付フィルム、マスク、及びホログラフィーフィルムは、コーティングされたツールから取り除かれ、非硬化樹脂がエタノールを使用してツールから洗い落とされて、パターン付きツールを生じた。乾燥後、パターン付きロールが、追加的な硬化をもたらすために、窒素雰囲気下で６００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）に設定された、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｖ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｒｏｃｋｖｉｌｌｅ，ＭＤから入手可能）で照射された。ランプは、ガラスプレートの上５ｃｍに位置付けられた。コンベアベルトは１５．２メートル／分で動作した。パターン付きツールはその後、パターン付きツールの微細構造化面上に剥離コーティングをもたらすために、以下の手順を使用して、テトラメチルシランでプラズマ処理された。

剥離コーティングは、プラズマ蒸着によってシリコン含有フィルムを堆積することによって塗布された。蒸着は、２６インチ（６６ｃｍ）のより低い電力の電極、及び中央ガスポンピングによる、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）のために構成された（Ｐｌａｓｍａｔｈｅｒｍ，Ｋｒｅｓｓｏｎ，ＮＪから、商標名「ＰＬＡＳＭＡＴＨＥＲＭ ＭＯＤＥＬ ３０３２」で入手可能）市販の反応性イオンエッチャーシステムで実行された。チャンバは、乾燥機械ポンプ（Ｅｄｗａｒｄｓ Ｖａｃｕｕｍ，Ｌｔｄ．から、商標名「ＥＤＷＡＲＤＳ ＭＯＤＥＬ ｉＱＤＰ８０」で入手可能）により補助される、ルーツ送風機（Ｅｄｗａｒｄｓ Ｖａｃｕｕｍ，Ｌｔｄ．，Ｔｅｗｋｓｂｕｒｙ，ＭＡから、商標名「ＥＤＷＡＲＤＳ ＭＯＤＥＬ ＥＨ１２００」で入手可能）によってポンピングされた。無線周波電力は、インピーダンス適合ネットワークを通じた、５ｋＷ、１３．５６ＭＨｚソリッドステート発生器（「ＲＦＰＰ ＭＯＤＥＬ ＲＦ５０Ｓ０」）によって供給される。システムは、５ｍＴｏｒｒ（０．６７Ｐａ）の公称基本圧力を有する。ガスの流量は、流量コントローラー（ＭＫＳ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，Ａｎｄｏｖｅｒ，ＭＡから得られる）によって調節された。ポリマーツールのサンプルは、バッチプラズマ装置の駆動された電極上に配置された。一連の処理工程でプラズマ処理を行った。この特徴は最初に５００ｃｍ^３／分の流量、及び２００ワットのプラズマ電力で、６０秒にわたって酸素ガスを流すことによって酸素プラズマで処理された。酸素プラズマ処理の後、シリコン含有フィルムはその後、１５０標準ｃｍ^３／分の流量、２００ワットのプラズマ電力で、１２０秒にわたって、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）ガスを流すことによって蒸着された。プラズマ蒸着が完了した後、チャンバが雰囲気へと通気され、剥離コーティングを有するパターン付きツールが除去されて、その後以下の手順においてツールとして使用された。

図８は、生じるパターン付きツール８００（Ｍ_１は約２６ｍｍであった）のデジタル写真画像である。

（実施例２）
プリズム再帰反射性物品は、以下の手順を使用して調整された。約１０グラムの組成物１は、実施例１のパターン付きツールの上方微細構造化表面上に注がれ、その後ドクターブレードとして２５０μｍのポリエステルテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを使用して均一に広げられた。パターン付きツールは、６６℃に設定されたホットプレート上に配置された。ドクターブレードを使用して、パターン付きツールのキャビティに組成物１を充填し、コーティングされたツールを生じた後、オーバーレイフィルム（光透過性支持層）はその後、インクローラーを使用してコーティングしたツールに積層された。オーバーレイフィルムは、７５μｍのＰＡＵでコーティングされた透明な５０μｍ ＰＥＴフィルムであった。オーバーレイフィルムのポリウレタンコーティングされた面が、コーティングされたツールと接触した。コーティングされたツール及びオーバーレイフィルムからなるアセンブリはその後、コンベアベルト上に配置されて、コーティングされた組成物を硬化させるために、６００ワット／２．５ｃｍに設定されたＦｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）の下を通される。コンベアベルトは１５．２メートル／分で動作した。オーバーレイフィルム及び硬化したコーティング組成物の複合体がその後、パターン付きツールから除去され、プリズム状物品の硬化を完了するために、微細構造が６００ワット／２．５ｃｍに設定された紫外線ランプに面するようにして、６００ワット／２．５ｃｍに設定されたＦｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）の下に再び通された。図９Ａ及び９Ｂは、それぞれ、周囲条件及び再帰反射照明条件における、生じたプリズム状物品のデジタル写真画像である（Ｍ_２及びＭ_３はそれぞれ、約２６ｍｍである）。

（実施例３）
金属化したプリズム状物品は、以下の手順にしたがって調整された。実施例２のプリズム状物品は、１００オングストロームのチタンで蒸気コーティングされ、その後１５００オングストロームのアルミニウムで蒸気コーティングされた。図１０Ａ及び１０Ｂは、それぞれ、周囲条件及び再帰反射照明条件における、実施例３における生じたプリズム状物品のデジタル写真画像である（Ｍ_４及びＭ_５はそれぞれ、約２６ｍｍである）。

（実施例４）
パターン付きツールは、以下の手順を使用して、図１〜４Ｂに一般的に示されるように調整された。約３０グラムの組成物３は、加熱された金属性微細構造化ツールの上方微細構造面上に注がれ、その後ドクターブレードとして２５０μｍのＰＥＴフィルムを使用して均一に拡散された。金属性微細構造化ツールは２５ｃｍ×３０ｃｍであり、厚さ７６０μｍのニッケル電鋳プレートであった。金属構造化ツールは、１７５μｍの深さ、及び３５０μｍのピッチを有する９０°のプリズム溝からなる微細構造化表面を有した。金属微細構造化ツールは、６６℃に設定された磁気ホットプレート上に位置した。ドクターブレードを使用して、組成物３で金属微細構造化ツールのキャビティを充填した後、プラズマテトラメチルシラン剥離処理溝付フィルムツール（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから、商標名「ＴＨＩＮ ＢＲＩＧＨＴＮＥＳＳ ＥＮＨＡＮＣＩＮＧ ＦＩＬＭ ＩＩ（９０／２４）」で入手可能）は、樹脂厚さを最小化するためにインクローラーを使用して樹脂に積層された。溝付フィルムツールの溝は、金属性微細構造化ツールのプリズム状の溝に対して約４５°に向けられた。図１１Ａの画像のネガであるパターンを有するマスクが溝付フィルムツールの上に配置され、金属性微細構造化ツール、樹脂、溝付フィルムツール、及びマスクの緊密な接触を確実にするために、６．４ｍｍシートの窓ガラスがマスク上に配置された。放射線は、樹脂から約３ｃｍのところに位置付けられた、蛍光光線（「ＴＬ ２０Ｗ／０３」）のバンクを使用して、ガラス、マスク、及び溝付フィルムを、６０秒間にわたって透過した。ガラス、溝付フィルム、マスク、及びホログラフィーフィルムは、コーティングされた金属性微細構造化ツールから取り除かれ、非硬化樹脂がエタノールを使用してツールから洗い落とされて、パターン付きツールを生じた。乾燥後、窒素雰囲気下において、コーティングされた組成物を照射するために、コーティングされた金属性微細構造化ツールは、６００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）に設定したＦｕｓｉｏｎ「Ｖ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）で照射された。ランプは、コーティングされた金属性微細構造化ツール上５ｃｍのところに位置付けられた。コンベアベルトは１５．２メートル／分で動作した。コーティングされた金属性微細構造化ツールは、実施例１に記載される手順を使用して、ツールに化学的剥離コーティングをもたらすために、酸素及びテトラメチルシランでプラズマ処理された。

（実施例５）
パターン付きフィルムは、以下の手順を使用して生成された。約３０グラムの組成物２は、実施例４のパターン付きツールの上方微細構造化表面上に注がれ、その後ドクターブレードとして２５０μｍのポリエステルテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを使用して均一に広げられた。パターン付きツールは、６６℃に設定されたホットプレート上に配置された。ドクターブレードを使用して、パターン付きツールのキャビティを組成物２で充填し、コーティングされたツールを生じる。オーバーレイフィルム（光透過性支持層）はその後、インクローラーを使用して、コーティングされたツールに積層された。オーバーレイフィルムが透明であるとき、透明な１０ミルのポリカーボネートフィルムが、インクローラーを使用してコーティングされたツールの上面に積層された。コーティングされたツール及びオーバーレイフィルムからなるアセンブリはその後、コンベアベルト上に配置されて、コーティングされた組成物を硬化させるために、６００ワット／２．５ｃｍに設定されたＦｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）の下を通され、パターン付きフィルムを形成する。コンベアベルトは９．１メートル／分で動作した。パターン付きフィルムはその後、パターン付きツールから除去され、プリズム状物品の硬化を完了するために、微細構造が６００ワット／２．５ｃｍに設定された紫外線ランプに面するようにして、６００ワット／２．５ｃｍに設定されたＦｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）の下に再び通された。それぞれ図１１Ａは、生じたパターン付きフィルムのデジタル写真画像であり、図１１Ｂ及び図１１Ｃは、１００倍及び２００倍の倍率における生じたパターン付きフィルムの画像である（Ｍ_６は約２６ｍｍ、Ｍ_７及びＭ_８はそれぞれ３５０μｍであり、図１１Ｂ及び図１１Ｃにおけるより細い溝は２４μｍのピッチを有した）。

複合フィルムのプリズム側を通じ、赤いレーザーポインターからのレーザー光線を方向づけることにより、回折パターンが生成され、撮影された。図１２Ａは、より大きな溝を透過するレーザー光線のレーザー回折パターンを示し、図１２Ｂは、より大きな溝及びより小さな溝の両方を通過するレーザー光線の組み合わせた回折パターンを示す。

（実施例６）
複合マイクロレンズ配列フィルムは、米国特許番号第５，６９１，８４６号（本明細書において参照として組み込まれる）に従い、５０μｍ ＰＥＴフィルム（ＤＵＰＯＮＴ−ＴＥＩＪＩＮ，Ｃｈｅｓｔｅｒ，ＶＡから、商標名「ＤＵＰＯＮＴ−ＴＥＩＪＩＮ ＃６１８」で入手可能）と、マイクロレンズを生成する４９℃の回転ツール（レンズ直径＝４０μｍ、曲率半径＝１８．７μｍ）との間で、組成物２をコーティングすることにより調整された。ゴムニップロールの空隙は、ツールのキャビティにわたる樹脂の量を最小化するように設定される。樹脂は、６００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）に設定された、２つのＦｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）を使用して、ＰＥＴを通じて硬化された。ＰＥＴフィルムは、２４．４メートル／分の速度で硬化ステーションを通じて送達された。剥離コーティングは、実施例１に記載されるプラズマ蒸着手順を使用して、マイクロレンズ配列のレンズ表面に適用された。プラズマ蒸着処理が完了した後、チャンバは大気へと通気され、剥離コーティングを有する複合マイクロレンズ配列フィルム除去され、その後本開示の成形ツールの調整において「第２成形ツール」として使用された。

本開示の成形ツールは、以下の手順を使用し、図１〜図４Ｂに一般的に示されるように調整された。約１０グラムの組成物３は、第１成形ツールの上方微細構造面上に注がれ、その後ドクターブレードとして２５０μｍのＰＥＴフィルムを使用して均一に拡散された。第１成形ツールは２５ｃｍ×３０ｃｍであり、厚さ７６０μｍのニッケルプレートであった。第１成形ツールは、４３μｍの高さ、８６μｍのピッチを有するコーナーキューブを有する微細構造化表面を有する。第１成形ツールは、６６℃に設定された磁気ホットプレート上に位置した。ドクターブレードを使用して組成物３で第１成形ツールのキャビティを充填した後、樹脂厚さを最小化するために、剥離コーティングを有する複合マイクロレンズ配列フィルム（すなわち、上記により「第２成形ツール」）が、インクローラーを使用して樹脂に積層された。図１２Ａのパターンのネガ画像を有するマスクが、複合マイクロレンズ配列フィルムの上に配置され、溝が９０°で交差する溝付フィルムの２枚のシート（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから、商標名「ＢＲＩＧＨＴＮＥＳＳ ＥＮＨＡＮＣＥＭＥＮＴ ＦＩＬＭ（ＢＥＦ）ＩＩ ９０／５０」で入手可能）がマスク上に配置され、この時溝は光をコリメートするためにマスクに面する。微細構造化ツール、樹脂、マイクロレンズ配列フィルム、マスク、及び溝付フィルムのシートの緊密な接触を確実にするため、６，４ｍｍシートの窓ガラスが溝付きフィルムの上に配置された。放射線は、ツールから約３ｃｍ上に位置付けられた蛍光光線のバンク（Ｐｈｉｌｉｐｓ Ｌｉｇｈｔｉｎｇ，Ｓｏｍｅｒｓｅｔ，ＮＪから、商標「ＴＬ ２０Ｗ／０３」で得られる）を使用して、ガラス、溝付フィルム、マスク、及び複合マイクロレンズ配列フィルムを６０秒間にわたり透過した。ガラス、溝付フィルム、マスク、及び複合マイクロレンズ配列フィルムは、コーティングされたツールから取り除かれ、非硬化樹脂がエタノールを使用してコーティングされたツールから洗い落とされて、パターン付きツールを生じた。このパターン付きツールから、逆のトポグラフィーのニッケル電鋳複製が、成形ツールとして調整された。図１３Ａは、周囲証明条件下における、生じた成形ツールのデジタル写真画像である（Ｍ_９は約３８ｍｍ）。図１３Ｂ及び図１３Ｃは、生じた成形ツールの区域の拡大（４００倍）デジタル写真画像であり、コーナーキューブ１２３２（図１３Ｂ）に近接するマイクロレンズ１２３１を備える領域、及びマイクロレンズを備えるがコーナーキューブを備えない領域（図１３Ｃ）を示す。

（実施例７）
再帰反射性物品は、以下の手順を使用して調整された。約１０グラムの組成物２は、実施例６のパターン付き微細構造化ツールの上方微細構造化表面上に注がれ、その後ドクターブレードとして２５０μｍのＰＥＴを使用して均一に広げられた。ツールは、６０℃に設定された磁気ホットプレート上に配置された。ドクターブレードを使用して、ツールのキャビティに組成物２を充填した後、透明２００μｍポリカーボネート（ＰＣ）（ＳＡＢＩＣ Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ Ｐｌａｓｔｉｃｓ，Ｐｉｔｔｓｆｉｅｌｄ，ＭＡから、商標名「ＬＥＸＡＮ」で入手可能）フィルムが、インクローラーを使用してコーティングされたツールの上面に積層された。その後、ＰＣフィルムの上にマスキングフィルムが配置された。マスキングフィルムは、暗い背景上の明るい三日月形の画像を有する、１００μｍ ＰＥＴフォトリソグラフ印刷されたフィルムであり、これは、領域１４３３及び三日月形１４３４を有する図１４に示される画像のネガであった。０．６ｃｍ厚さの透明なガラスプレートがその後、マスクの上に配置された。

コーティングされたツール、ＰＣオーバーレイフィルム、マスキングフィルム、及びガラスプレートからなるアセンブリはその後、コンベアに配置されて、コーティングされた組成物を硬化させるために、紫外線（ＵＶ）ランプの下を通された。第１硬化工程において、６００ワット／２．５ｃｍ（１００％の電力設定）に設定された、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）が、コーティングされた組成物を照射するために使用された。ランプは、ガラスプレートの上５ｃｍに位置付けられた。コンベアベルトは１０．７メートル／分で動作した。ＵＶ暴露後、ガラスプレート及びマスキングフィルムは、コーティングされたツールから除去された。コーティングされたツール及びＰＣオーバーレイフィルムからなるアセンブリはその後、コンベアベルト上に配置されて、コーティングされた組成物を硬化させるために、６００ワット／２．５ｃｍに設定されたＦｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）（１００％電力設定）の下を通された。図１４は、再帰反射性条件下において、生じた成形ツールのデジタル写真画像である（Ｍ_１０は約３８ｍｍ、及びＭ_１１は約２６ｍｍ）。より暗い区域１４３１はマイクロレンズを含み（かつ区域は殆ど又は全く再帰反射性を有さない）、より明るい区域１４３２、１４３３及び１４３４は、再帰反射性コーナーキューブを含む。三日月形１４３４は、周囲の領域１４３３よりも多くの放射線を受け、図１３において三日月１４３４は、周囲の領域１４３３よりも明るく見える。

（実施例８）
再帰反射性物品は、実施例７の手順を使用して調製されるが、ただしマスキングフィルムは含まれない。図１５Ａは、周囲証明条件下における、生じた成形ツール１４００のデジタル写真画像であり（Ｍ_１２は約３８ｍｍ）、図１５Ｂは、再帰反射証明条件下における生じた成形ツール１４００のデジタル写真画像である。図１５Ｂにおいて、より暗い区域１５３１はマイクロレンズを含み（かつ区域は殆ど又は全く再帰反射性を有さない）、より明るい区域１５３２、及び１５３３は、再帰反射性コーナーキューブを含む。

本開示の範囲及び趣旨から外れることなく、本発明の予測可能な修正及び変更が当業者には自明であろう。本発明は、説明を目的として本出願に記載される各実施形態に限定されるべきものではない。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［２５］に記載する。
[１]
成形ツールを作製する方法であって、前記方法は、
第１の複数のキャビティを含む第１微細構造化表面を有する第１成形ツールを提供する工程と、
第２の複数のキャビティを含む第２微細構造化表面を有する第２成形ツールを提供する工程と、
前記第１又は前記第２の複数のキャビティの少なくとも一方を放射線硬化性樹脂で充填する工程と、
前記第１及び前記第２の複数のキャビティが、前記第１及び前記第２の複数のキャビティの間にあり且つ前記第１及び前記第２の複数のキャビティと接触する前記放射線硬化性樹脂の層を挟んで、互いに向かい合うように、前記第１及び前記第２の成形ツールを、前記放射線硬化性樹脂に対して接触させる工程と、
少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応する一部硬化した樹脂層を提供するために、前記第１成形ツール及び前記第２成形ツールの少なくとも一方を通じて、前記放射線硬化性樹脂の前記層をパターン照射に暴露する工程であって、前記少なくとも１つの第１区域は前記パターン照射によって照射され、前記少なくとも１つの第２区域は前記パターン照射によって照射されず、前記第１成形ツール又は前記第２成形ツールの少なくとも一方が、前記パターン照射に対して透過性である、工程と、
前記第２成形ツールを前記一部硬化した樹脂から分離する工程と、
第１微細構造特徴のマトリックス及び第２微細構造特徴の少なくとも１つの不連続区域のパターンを含む、微細構造表面を有する成形ツールをもたらすために、前記第１成形ツールから、前記一部硬化した樹脂の非照射区域を分離する工程とを含む、方法。
[２]
前記第１成形ツールは、ロール、ベルト、フィルム、金属プレート、又はガラスプレートのいずれか１つである、項目１に記載の方法。
[３]
前記パターン照射が、マスクの透過性区域を通じた照射、ビーム光線の誘導、電子ビームの誘導、又はデジタル画像の投影の少なくとも１つを含む、項目１又は２に記載の方法。
[４]
前記第１微細硬化表面は、第１トポグラフィーを有し、前記第２微細構造化表面は第２トポグラフィーを有し、前記第１及び第２トポグラフィーは互いに対して同一ではない、項目１に記載の方法。
[５]
前記第１及び前記第２トポグラフィーは、それぞれ配向軸を有し、前記樹脂層を前記パターン照射に暴露する間、前記配向軸は互いに対して整列していない、項目４に記載の方法。
[６]
前記第１微細硬化表面は、第１トポグラフィーを有し、前記第２微細構造化表面は第２トポグラフィーを有し、前記第１及び前記第２トポグラフィーは互いに対して同一である、項目１に記載の方法。
[７]
前記第１及び前記第２トポグラフィーはそれぞれ配向軸を有し、前記樹脂層を前記パターン照射に暴露する間、前記配向軸は互いに対して整列していない、項目６に記載の方法。
[８]
前記第２微細構造化表面が、剥離剤を含む、項目１〜７のいずれか一項に記載の方法。
[９]
修正された前記成形ツールの修正された前記微細構造化表面に剥離コーティングを適用する工程を更に含む、項目１〜８のいずれか一項に記載の方法。
[１０]
前記第１微細構造特徴の前記マトリックス及び前記第２微細構造特徴の少なくとも１つの非連続区域の前記パターンに対して補完的な微細構造化表面を有する、微細構造化物品を複製する工程を更に含む、項目１〜９のいずれか一項に記載の方法。
[１１]
前記修正された成形ツールから金属ツールを複製する工程を更に含む、項目１〜９のいずれか一項に記載の方法。
[１２]
第２微細構造特徴のマトリックス内の第１微細構造特徴を含む第１主要表面を有する物品であって、前記第１微細構造特徴は非連続であり、前記第１及び前記第２微細構造特徴は共同して、少なくとも前記第１主要表面に対して垂直に観察したときに、可視のパターンを形成し、前記第１及び前記第２微細構造特徴は独立して、円錐、回折格子、レンズ形、球体セグメント、角錐、円筒、フレネル、及びプリズムからなる群から独立して選択される、物品。
[１３]
前記第１及び前記第２微細構造特徴は、独立して０．１マイクロメートル〜１０００マイクロメートルのピッチを有する、項目１２に記載の物品。
[１４]
前記第１ピッチは、前記第２ピッチの９０％以下である、項目１３に記載の物品。
[１５]
前記第１ピッチは、前記第２ピッチの５０％以下である、項目１３に記載の物品。
[１６]
前記パターンは、英数字、第１の商標のしるし、又は第１の著作権のしるしの少なくとも１つを含む、項目１２〜１５のいずれか一項目の物品。
[１７]
前記第１及び前記第２微細構造特徴が、熱硬化性材料又は熱可塑性材料のうちの少なくとも１つを独立して含む、項目１２〜１６のいずれか一項に記載の物品。
[１８]
前記パターンが、微細構造特徴を有さない区域を含む、項目１２〜１７のいずれか一項に記載の物品。
[１９]
少なくとも第１主要表面に対して垂直に観察した際に可視のパターンで配置された、第１微細構造特徴及び第２微細構造特徴を含む前記第１主要表面を有する物品であって、前記第１及び前記第２微細構造特徴は互いに異なり、円錐、回折格子、レンズ形、球体セグメント、角錐、円筒、フレネル、及びプリズムからなる群から選択される、物品。
[２０]
前記第１及び前記第２微細構造特徴は、独立して０．１マイクロメートル〜１０００マイクロメートルのピッチを有する、項目１９に記載の物品。
[２１]
前記第１ピッチは、前記第２ピッチの９０％以下である、項目２０に記載の物品。
[２２]
前記第１ピッチは、前記第２ピッチの５０％以下である、項目２０に記載の物品。
[２３]
前記パターンは、英数字、第１の商標のしるし、又は第１の著作権のしるしのうちの少なくとも１つを含む、項目１９〜２２のいずれか一項に記載の物品。
[２４]
前記第１及び前記第２微細構造特徴が、熱硬化性材料又は熱可塑性材料のうちの少なくとも１つを独立して含む、項目１９〜２３のいずれか一項に記載の物品。
[２５]
前記パターンが、微細構造特徴を有さない区域を含む、項目１９〜２４のいずれか一項に記載の物品。

Claims (3)

1. 成形ツールを作製する方法であって、前記方法は、
   第１の複数のキャビティを含む第１微細構造化表面を有する第１成形ツールを提供する工程と、
   第２の複数のキャビティを含む第２微細構造化表面を有する第２成形ツールを提供する工程と、
   前記第１又は前記第２の複数のキャビティの少なくとも一方を放射線硬化性樹脂で充填する工程と、
   前記第１及び前記第２の複数のキャビティが、前記第１及び前記第２の複数のキャビティの間にあり且つ前記第１及び前記第２の複数のキャビティと接触する前記放射線硬化性樹脂の層を挟んで、互いに向かい合うように、前記第１及び前記第２の成形ツールを、前記放射線硬化性樹脂に対して接触させる工程と、
   少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応する一部硬化した樹脂層を提供するために、前記第１成形ツール及び前記第２成形ツールの少なくとも一方を通じて、前記放射線硬化性樹脂の前記層をパターン照射に暴露する工程であって、前記少なくとも１つの第１区域は前記パターン照射によって照射され、前記少なくとも１つの第２区域は前記パターン照射によって照射されず、前記第１成形ツール又は前記第２成形ツールの少なくとも一方が、前記パターン照射に対して透過性である、工程と、
   前記第２成形ツールを前記一部硬化した樹脂から分離する工程と、
   第１微細構造特徴のマトリックス及び第２微細構造特徴の少なくとも１つの不連続区域のパターンを含む、微細構造表面を有する成形ツールをもたらすために、前記第１成形ツールから、前記一部硬化した樹脂の非照射区域を分離する工程とを含み、
   前記パターン照射が、マスクの透過性区域を通じた照射、ビーム光線の誘導、電子ビームの誘導、又はデジタル画像の投影の少なくとも１つを含む、
   方法。
2. 第２微細構造特徴のマトリックス内の第１微細構造特徴を含む第１主要表面を有する物品であって、前記第１微細構造特徴は非連続であり、前記第１及び前記第２微細構造特徴は共同して、少なくとも前記第１主要表面に対して垂直に観察したときに、可視のパターンを形成し、前記第１及び前記第２微細構造特徴は独立して、円錐、回折格子、レンズ形、球体セグメント、角錐、円筒、フレネル、及びプリズムからなる群から独立して選択され、
   前記第１及び前記第２微細構造特徴は、独立して０．１マイクロメートル〜１０００マイクロメートルのピッチを有し、前記第１ピッチは、前記第２ピッチの９０％以下であり、並びに、前記第１及び前記第２微細構造特徴が、熱硬化性材料又は熱可塑性材料のうちの少なくとも１つを含む、
   物品。
3. 少なくとも第１主要表面に対して垂直に観察した際に可視のパターンで配置された、第１微細構造特徴及び第２微細構造特徴を含む前記第１主要表面を有する物品であって、前記第１及び前記第２微細構造特徴は互いに異なり、円錐、回折格子、レンズ形、球体セグメント、角錐、円筒、フレネル、及びプリズムからなる群から選択され、
   前記第１及び前記第２微細構造特徴は、独立して０．１マイクロメートル〜１０００マイクロメートルのピッチを有し、前記第１ピッチは、前記第２ピッチの９０％以下であり、並びに、前記第１及び前記第２微細構造特徴が、熱硬化性材料又は熱可塑性材料のうちの少なくとも１つを含む、
   物品。

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