JP5973561B2 - 相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製する方法 - Google Patents

Description

フィルムの表面に補完的なパターンを複製するためのパターン付きツールを使用する方法は既知である。しかしながら、多くの場合において、複製方法から生じるパターンは、ツールにより制限され得る（例えば、いくつかのパターン構成は、従来的な複製方法によって複製することができない）。

好ましくは、微細複製ツールの恒久的な物理的修正を必要とせずに、様々な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を生成するための、比較的迅速であり、比較的低費用の、方法が必要とされている。

一般的に本開示は、成形ツール、放射線硬化性樹脂、パターン照射源の様々な組み合わせを使用して（例えば、被覆された発光ダイオード、被覆された紫外線ランプ、被覆されたｅビーム、レーザー、及び投影された画像）、様々な異なる特性を有する相異するようにパターン硬化された区域（光学的、機械的、又は接着剤特性において異なる、少なくとも２つの区域を有する）を有する微細構造化物品を生成するための方法を記載する。放射線硬化性樹脂を微細構造化成形ツールに適用し、これと共に様々なパターン照射及び非パターン照射技術で放射線硬化性樹脂を照射することにより、各異なるパターンのために、異なる成形ツールを提供することを必要とせずに、広範な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品が生成され得る。

第１態様において、本開示は物品の作成方法を開示し、この方法は、複数のキャビティを含む微細構造化表面を有する成形ツールを提供する工程と、複数のキャビティに第１の放射線硬化性樹脂を少なくとも部分的に充填する工程と、少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応するパターンを有する一部硬化した樹脂を提供するために、第１の放射線硬化性樹脂を第１のパターン照射に暴露する工程であって、少なくとも１つの第１区域が第１のパターン照射によって照射され、少なくとも１つの第２区域が第１のパターン照射によって照射されない工程と、微細構造化表面及び内部に相異するように硬化されたパターンを有する物品をもたらすために、少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域の両方を第２照射に暴露する工程と、微細構造化表面及び内部の相異するように硬化されたパターンを有する物品を成形ツールから分離する工程とを含む。

第２態様において、本開示は、物品の作製方法を記載し、前記方法は、複数のキャビティを含む第１微細構造化表面を有する第１成形ツールを提供する工程と、複数のキャビティに、オーバーレイ要素の主要表面上に配置された放射線硬化性樹脂を充填する工程と、少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応するパターンを有する一部硬化した樹脂に接着したオーバーレイ要素を含む、一部効果した複合体を提供するために、放射線硬化性樹脂を第１のパターン照射に暴露する工程であって、少なくとも１つの第１区域は第１パターン照射によって照射され、少なくとも１つの第２区域が第１パターン照射によって照射されない工程と、少なくとも１つの第２区域の硬化性樹脂の少なくとも一部が成形ツールに残るように、一部効果した複合体を成形ツールから分離する工程と、少なくとも１つの第２区域に微細構造を有さない表面を備える、分離された一部効果した複合体を提供する工程と、第１微細構造化表面、及び内部に相異するように硬化されたパターンを有する複合体物品、内部に相異するように硬化されたパターンをもたらすために、成形ツールから分離された一部効果した複合体を第２照射に暴露する工程とを含む。

第２態様の方法のいくつかの実施形態において、本方法は更に、第２の複数のキャビティを含む第２微細構造化表面を有する第２成形ツールを提供する工程と、第１微細構造化表面及内部の相異するように硬化されたパターンを有する複合体物品のオーバーレイ要素の第２主要表面上に配置された第２放射線硬化性樹脂で、第２の複数のキャビティを少なくとも部分的に充填する工程と、第１主要表面において第１微細構造化表面及び内部の相異するように硬化されたパターンを、第２主要表面において第２微細構造化表面を有する、物品をもたらすために、第２放射線硬化性樹脂を第３照射に暴露する工程と、第２成形ツールから物品を分離する工程とを更に含む。

第３の態様において、本開示は、複数のキャビティを含む微細構造化表面を有する成形ツールを提供する工程と、複数のキャビティにオーバーレイ要素の主要表面上に配置された放射線硬化性樹脂を少なくとも部分的に充填する工程と、少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む対応するパターンを有する一部硬化した樹脂に接着したオーバーレイ要素を含む、一部効果した複合体をもたらすために、放射線硬化性樹脂をパターン照射に暴露する工程であって、少なくとも１つの第１区域がパターン照射によって照射され、少なくとも１つの第２照射がパターン照射によって照射されない工程と、成形ツールから一部硬化した複合体を分離する工程と、微細構造化表面を有する複合体物品をもたらすために、少なくとも１つの第２区域から放射線硬化性樹脂を取り除く工程とを含む方法を開示する。

これらの方法は、成形ツールの修正を必要とせずに、所与の成形ツールから、相異するようにパターン硬化された微細構造化物品の広範な配列をもたらすために有用である。

「被覆照射」とは、非パターン照射を指す。

ポリマーに関して、「硬化された」とは、フリーラジカル重合、カチオン重合、及びアニオン重合を含む様々な方法によって、固形材料を生成するために適切なエネルギー源を適用することにより、液状の、流動性の、又は形成可能なモノマー又はオリゴマー前駆体を架橋することによって作製されるポリマーを指す。

「硬化されたオリゴマー樹脂」とは、他のモノマー材料と混合され得る、少なくとも２つの反復するモノマーユニットを有する、プレポリマー材料を含む硬化性組成物を硬化することによって作製されたポリマー材料を指す。

「相異するようにパターン硬化された」とは、パターン照射に暴露した際の放射線硬化性材料におけるパターンを指し、放射線硬化性材料における可視のパターンを形成するために異なるレベルの硬化が生じることを指す。

微細構造を備える表面を有する物品の文脈において、本明細書で使用される「微細構造」とは、物品の所定の所望の使用目的又は機能を表す、又は特徴付ける表面の構成を指す。不連続部（例えば、表面の突起及び凹部）は、直線の上の表面プロファイルが成す面積の合計が、直線の下の領域のものの合計と等しくなるように、微細構造を通じて引かれた平均的プロファイル、又は中央線から、プロファイルが偏倚しており、この直線は、物品の公称表面（微細構造を備える）に対して本質的に並行である。偏倚の高さは表面の代表的な特徴的長さ（例えば、１ｃｍ〜３０ｃｍ）を通じ、±０．００５μｍ〜±７５０μｍである。平均的プロファイル、又は中央線は、平坦、凹状、凸状、非球面、又はこれらの組み合わせであり得る。偏倚が低い水準であり（例えば、±０．００５μｍ〜±０．１μｍであり、又は好ましくは±０．００５μｍ〜±０．０５μｍである）、偏倚の頻度が低く又は最小の割合である（すなわち、表面は、いずれの顕著な断絶部も含まない）物品においては、微細構造を備える表面は本質的に「平坦」又は「完全に平滑な」表面であり、このような物品は例えば、精密光学素子、又は精密光学干渉を備える素子（例えば、光学レンズ）として有用である。偏倚が低い水準であり、頻度が高い物品において、防反射性微細構造を有する物品の場合におけるように、有用な不連続性を有する。偏倚が高い水準であり（例えば、±０．１μｍ〜±７５０μｍである）、同じ又は異なる、不規則的又は規則的な様式で、離間するか連続的である、複数の有用な不連続部を含む微細構造に起因する物品は、（例えば、再帰反射性コーナーキューブシート、線形フレネルレンズ、及びビデオディスクなどの）物品である。微細構造を備える表面は、低い及び高い水準の有用な断絶部を含む場合がある。微細構造を備える表面は、その量又は種類が、物品の所望の有用性と干渉する又はこれに悪影響を与えないかぎり、外部の又は非実用的な不連続部を含むことがある。いくつかの実施形態において、微細構造要素は、円錐、回折格子、レンズ、球体の区分、角錐、円筒、フレネル、又はプリズムの少なくとも１つを含む。硬化された際の収縮が、干渉する外部の不連続部を生じない、特定のオリゴマー組成物（例えば、２％〜６％しか収縮しない組成物）を選択することが必要又は望ましい場合がある。不連続部のプロファイル及び寸法、及び離間は、１０００倍〜１００，０００倍、の電子顕微鏡、又は１０倍〜１０００倍の光学顕微鏡によって識別可能なものである。

「非照射」とは、所与の照射に関連し、照射区域が暴露される照射のレベルの、０％、又は約１％以下（いくつかの実施形態において、約２％以下、又は約５％以下、又は約１０％以下）で所与の放射線に暴露されることを指す。いくつかの実施形態において、照射区域が暴露される照射のレベルは、ジュール／ｃｍ^２の単位のエネルギー密度として数量化され得る。

「不透明」とは、所要の照射を実質的に吸収又は反射するマスクを指す（すなわち、所要の照射の少なくとも９０％が吸収又は反射され、典型的には所与の照射の少なくとも９５％が吸収又は反射される）。

「オーバーレイ要素」とは、本明細書において記載される相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のいくつかの実施形態の一部となる層を指す。オーバーレイ要素を含む、本明細書において記載される方法において、オーバーレイ要素は、典型的には放射線硬化性材料と接触する。典型的にはオーバーレイ要素はフィルム（すなわち、「オーバーレイフィルム」）であるが、いくつかの実施形態においてオーバーレイ要素は、フィルム以外であり得る（例えば、ガラスシート、金属シート、木材ボード、又は石スラブ）。

「部分的に硬化された」とは、放射線硬化性樹脂の一部が実質的に流れない度合いまで硬化されることを指す。

「パターン」とは、空間的に変化する外観を指す。用語「パターン」は、均一又は周期的なパターン、変動パターン、又は不規則パターンの少なくとも１つである。

「パターン照射」は、マスクの透明区域を通じて照射することと、光線を誘導することと、電子ビームを誘導することと、又は放射線硬化性樹脂においてパターンを有する一部硬化した樹脂を生成するためにデジタル画像を投射することの少なくとも１つを指す。

「安全マーク」とは、背景の視覚的外観によって囲まれる、本明細書において記載される物品上又は物品内の要素を指す。多くの実施形態において、安全マークは連続的な背景の外観によって囲まれる「島」機構である。安全マークは、観察者が安全マークに対する視点を変えると、観察者に対する外観を変え得る。

「可視の」とは、約４００ｎｍ〜約７００ｎｍの範囲の波長内の光を使用して、正常視力（すなわち、２０／２０）の裸眼に対して明らかであり、特定可能である（すなわち、その特定の特徴を確認できる）ことを指す。「裸眼」とは、顕微鏡又は拡大鏡を使用しないことを意味する。

「紫外線光」は、波長が約４００ｎｍ未満である電磁放射線を指し、用語「可視光線」は、約４００〜約７００ｎｍの波長範囲を指し、用語「近赤外線」とは、約７００〜約２５００ｎｍの波長範囲を指す。

成形ツール、パターン照射技術、及び放射線硬化性材料の多くの組み合わせが、本明細書において記載される方法に含まれる。これらの方法を使用して、広範な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品が、成形ツールの高価な修正を必要とせずに生成され得る。

本明細書において記載される方法の代表的用途には、製品安全マーク、ロゴ、商標、装飾的外観、及び光管理特性（例えば、透過光、反射光、又は再帰反射光）を有する物品の製造を含む。

相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製するための、本開示の方法の代表的な実施形態。 相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製するための、本開示の方法の代表的な実施形態。 相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製するための、本開示の方法の代表的な実施形態。 相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製するための、本開示の方法の代表的な実施形態。 相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製するための、本開示の方法の代表的な実施形態。 相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製するための、本開示の方法の代表的な実施形態。 本明細書において記載される方法を使用する、連続的な相異するようにパターン硬化された微細複製のための代表的な装置。 本発明において記載される、代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造のデジタル写真画像。 本発明において記載される相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製するための本開示の方法の代表的な実施形態。 本発明において記載される相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製するための本開示の方法の代表的な実施形態。 本発明において記載される相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製するための本開示の方法の代表的な実施形態。 本発明において記載される方法を使用した、連続的な相異するようにパターン硬化された微細複製のための代表的な装置。 本明細書において使用される代表的なマスクのデジタル写真画像。 図６Ａのマスクから調整される代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 図６Ａのマスクから調整される代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 本明細書において使用される代表的な金属マスクのデジタル写真画像。 図８Ａのマスクから調整される代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製するための、本開示の方法の代表的な実施形態。 相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製するための、本開示の方法の代表的な実施形態。 相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製するための、本開示の方法の代表的な実施形態。 相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製するための、本開示の方法の代表的な実施形態。 相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製するための、本開示の方法の代表的な実施形態。 本明細書において記載される、代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 本明細書において記載される、代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 本明細書において記載される、代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 本明細書において記載される、代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 本明細書において記載される、代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 本明細書において記載される、代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 本明細書において記載される、相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製するための、本開示の方法の代表的な実施形態。 本明細書において記載される、相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製するための、本開示の方法の代表的な実施形態。 本明細書において記載される、相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製するための、本開示の方法の代表的な実施形態。 本明細書において記載される代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 本明細書において記載される代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 方向付けられた光線を使用して、連続的な相異するようにパターン硬化された微細構造のための、代表的な装置及び代表的な方法。 本明細書において記載される代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 本明細書において記載される代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 方向付けられた光線を使用して、連続的な相異するようにパターン硬化された微細構造のための、装置及び代表的な方法。 本発明において記載される、代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造のデジタル写真画像。 本明細書において記載される、代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 本明細書において記載される、代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 本発明において記載される、代表的な相異するようにパターン硬化された光学顕微鏡プロファイル画像。 本発明において記載される、代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造のデジタル写真画像。 本明細書において記載される代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品の顕微鏡プロファイル画像。 本明細書において記載される同じ代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 本明細書において開示される、代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 本明細書において開示される、代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 本明細書において記載される、代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 本明細書において記載される、代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造化物品のデジタル写真画像。 本発明において記載される、代表的な相異するようにパターン硬化された微細構造のデジタル写真画像。

様々な図面における同様の参照番号は同様の要素を示す。しかしながら、特定の図中のある要素を示す数字の使用は、同じ数字によって示される別の図中のその要素を限定しようとするものではないことは理解されるであろう。要素によっては、同じ又は同等のものが複数個存在するものがあり、その場合、１つ以上の代表的な要素のみが参照符合によって示されている場合があるが、こうした参照符合はすべてのこのような同じ要素に適用されるものであることは理解されるであろう。特に指定されない限り、本文献における全ての図面及び図は、一定の縮尺ではなく、本発明の異なる実施形態を例示する目的で選択される。詳細には、異なる要素の寸法はあくまで例示的な意味で示されるものであり、特にそのように断られないかぎり、図面から異なる要素の寸法間にいっさいの関係が推測されるべきではない。「上部」、「下部」、「上側」、「下側」、「下」、「上」、「前」、「後」、「外側」、「内側」、「上方」、「下方」、並びに「第１」及び「第２」などの用語が本開示に使用され得るが、特に断らないかぎり、これらの用語はあくまで相対的な意味においてのみ使用される点は理解されるはずである。特に、いくつかの実施形態では、ある構成要素は、互換性のある及び／又は同一の複数体（例えば、対）で存在してもよい。これらの構成要素について、「第１の」及び「第２の」という表記は、本明細書に記載されるように、使用の順序に適用してもよい（これを使用することは、どの構成要素が最初に使用されると選択されるかに無関係である）。

図１Ａ〜１Ｅは、相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製する方法の代表的な実施形態を例示する。成形ツール１９０は、複数のキャビティ１２７を含む、微細構造化表面１９１を有する。複数のキャビティ１２７は、放射線硬化性樹脂１３０により少なくとも一部を充填され、複数のキャビティ１２７の上にマスク１５０が提供される。放射線硬化性樹脂１３０からのマスク１５０の除去を促進するための、任意の剥離ライナー１１９が、マスク１５０と放射線硬化性樹脂１３０との間に示される。放射線硬化性樹脂１３０は、マスク１５０の少なくとも１つの放射線透過性区域１５１に放射線１４０を通すことによって、第１のパターン照射に暴露される。放射線硬化性樹脂１３０の少なくとも１つの区域１３１は、第１照射１４０によって少なくとも部分的に硬化されるが、マスク１５０の少なくとも１つの放射線不透過性区域１５２が第１照射１４０を遮断し、図１Ａに例示されるように、少なくとも１つの第１区域１３１、及び少なくとも１つの第２区域１３４のパターンを含む、一部硬化した樹脂を形成する。少なくとも１つの第２区域１３４は、第１照射１４０によって硬化されない。マスク１５０及び剥離ライナー１１９が取り除かれ、図１Ｂに示されるように、少なくとも１つの第１区域１３１、及び少なくとも１つの第２区域１３４の両方の表面１３２を露出する。図１Ｃは、少なくとも１つの第１区域１３１及び少なくとも１つの第２区域１３４の両方の上にコーティングされた放射線硬化性樹脂１３０’の追加的な層、並びに放射線硬化性樹脂１３０’と接触するオーバーレイ要素１２０を示す。図１Ｃ〜１Ｅに例示される代表的な実施形態において、オーバーレイ要素１２０は、第２照射１４２に対して透明である。他の代表的な実施形態において（図示されない）、第２照射１４２は最初に成形ツール１９０を通過し、ここで成形ツール１９０は第２照射１４２に対して透明であり、このような代表的な実施形態において、オーバーレイ要素１２０は、第２照射１４２に対して透明である必要はない。図１Ｄに例示される代表的な実施形態において、少なくとも１つの第１区域１３１、及び少なくとも１つの第２区域１３４は、両方とも、最初にオーバーレイ要素１２０を通過する第２照射１４２に暴露される。放射線硬化性樹脂１３０’の追加的な層は、第２照射１４２にも暴露される。図１Ｅは、第２照射１４２が微細構造化層１３５を相異するように硬化された後に、成形ツール１９０から分離された物品１００を示す。

図１Ｆは、相異するように硬化された微細構造化層１３５を有する相異するように硬化された微細構造化物品１１０、及び放射線硬化性樹脂１３０’の層の別の代表的な実施形態を例示する（照射後として示される）。少なくとも１つの第２区域１３４、及び放射線硬化性樹脂１３０’の層において使用される、放射線硬化性樹脂は、同じであるか、又は互いに異なるようにして選択され得る。

図２は、図１Ａ〜１Ｅにおいて例示される方法に基づき、連続的な相異するようにパターン硬化された微細複製のための、方法の代表的な実施形態を例示する。装置２２０は、複数のキャビティ２２７を含む、微細構造化表面を有する、成形ツールロール２２５を含む。複数のキャビティ２２７は、ロール２２４を介してダイ２５０から供給される、放射線硬化性樹脂２３０を部分的に充填される。成形ツールロール２２５が回転すると、放射線硬化性樹脂２３０がマスク２７０の下を通る。マスク２７０は、放射線透過区域（図示されない）、及び放射線不透過性区域（図示されない）を有し、これらは図１Ａのマスク１５０の少なくとも１つの放射線透過性区域１５１、及び少なくとも１つの放射線不透過性区域１５２と類似である。マスク２７０を放射線硬化性樹脂２３０から分離させるために、マスク２７０に任意により剥離ライナー（図示されない）を備える。第１照射源２４０は、マスク２７０の放射線透過性区域を通じて、放射線硬化性区域２３０の第１照射をもたらす。マスク２７０の放射線不透過性区域は、照射源２４０からの照射に対して不透明であり、放射線硬化性区域２３０の非照射区域を生じる。放射線硬化性樹脂２３０の照射区域は第１照射２４０によって少なくとも部分的に硬化され、一方で放射線硬化性区域２３０の非照射区域は硬化されず、照射区域及び非照射区域のパターンを含む一部硬化した樹脂２３１を形成し、これは、図１Ｂに例示される少なくとも１つの第１区域１３１、及び少なくとも１つの第２区域１３４と類似である。

図２に例示される代表的な実施形態において、放射線硬化性樹脂２３０’はダイ２５２から、供給ロール２２２からのオーバーレイ要素２２１の主要表面上へと供給され（放射線硬化性樹脂２３０’のコーティングにおいてロール２２４’を任意により含む）、これはその後、成形ツールロール２２５の微細構造表面上で一部硬化した樹脂２３１に対してロール２２３でニップ加工され、一部硬化した複合物２３３を形成し、これは第２照射源２４１によって照射されて、更に硬化された複合物２３４を形成する。更に硬化された複合物２３４は、成形ツールロール２２５から分離されて、第３照射源２４２の下を通り、微細構造化表面、及び相異するように硬化されたパターンを内部に有する物品２３５を形成する。物品２３５は、ロール２２２’に巻き上げられるものとして図２に示される。

図２に例示される方法の、いくつかの代表的な実施形態において、放射線硬化性樹脂２３０及び２３０’は、互いに同じであり得る。いくつかの他の代表的な実施形態において、放射線硬化性樹脂２３０、及び２３０’は、互いに異なる場合がある。

オーバーレイ要素２２１は、ロールから供給されるものとして図２に示される。オーバーレイ要素の柔軟性により、オーバーレイ要素は、キャスティング、及び固化又は硬化中に、オーバーレイ要素に構造的及び機械的耐久性をもたらす、好適なキャリア層（図示されない）で支持されてもよい。キャリア層は物品２３５に組み込まれてもよく（すなわち、キャリア層がオーバーレイ要素２２１に固定されてもよい）、又はキャリア層はオーバーレイ要素２２１に取り外し可能に取り付けられ、第２照射の後に取り外されてもよい。

キャリア層は、ポリエステルフィルム、セルロースアセテートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、印刷紙、クラフト紙、セキュリティ用紙、包装紙、アルミ箔、及び銅箔を含む、このような目的に使用されるいずれかの従来的なフィルム、紙又はホイルであり得る。いくつかの実施形態においてキャリア層は、第１のパターン照射に対して透明であるように選択される。いくつかの他の実施形態において、キャリア層は、第１のパターン照射に対して不透明であるように選択され、このような実施形態において、成形ツールは、第１のパターン照射に対して透明であるように選択され、放射線硬化性樹脂２３０は、成形ツールにわたって最初に照射を行うことによって照射される。

図３は、第１のパターン付き照射から生じる少なくとも１つの第１区域３３１、及び少なくとも１つの第２区域３３４のパターンを例示する、図１Ａ〜１Ｅにおいて例示される代表的な方法を使用して生成される、物品３００のデジタル写真画像である。少なくとも１つの区域３３１、及び少なくとも１つの第２区域３３４はそれぞれ、微細構造化表面を有する成形ツール（すなわち、図１Ａの１９０）に対して補完的な微細構造化表面を含む。

図４Ａ〜４Ｃは、相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製する方法の代表的な実施形態を例示する。成形ツール４９０は、複数のキャビティ４２７を含む、微細構造化表面４９１を有する。複数のキャビティ４２７は放射線硬化性樹脂４３０を少なくとも部分的に充填され、オーバーレイ要素４２０が放射線硬化性樹脂４３０と重複及び接触する。マスク４５０がオーバーレイ要素４２０に重なり、放射線硬化性樹脂４３０は、マスク４５０の放射線透過性区域４５１を通じて第１照射４４０を行うことによってパターン照射に暴露される。放射線硬化性区域４３０の少なくとも１つの第１区域４３１は、第１照射４４０によって少なくとも部分的に硬化されるが、マスク４５０の放射線不透過性区域４５２が第１照射４４０を遮断し、図４Ａに例示されるように、少なくとも１つの第１区域４３１、及び少なくとも１つの第２区域４３４のパターンを含む、一部硬化した樹脂を形成する。少なくとも１つの第２区域４３４は、第１照射１４０によって硬化されない。マスク４５０が取り除かれ、少なくとも１つの第１区域４３１及び少なくとも１つの第２区域４３４はその後両方とも第２照射４４２に暴露され、この照射は図４Ｂに例示されるようにオーバーレイ要素４２０を通過する。第２照射１４２は、微細構造化表面、及び内部に相異するように硬化されたパターンを有する、物品４００をもたらす。図４Ｃは、オーバーレイ要素４２０、及び成形ツール４９０から分離された、相異するように硬化された微細構造化表面１３５を有する物品４００を示す。

図５は、図２に例示される方法との一定の類似性を有する、連続的な相異するようにパターン硬化された微細複製のための方法の代表的な実施形態を例示する。装置５２０は、複数のキャビティ５２７を含む、微細構造化表面を有する、成形ツールロール５２５を含む。複数のキャビティ５２７は、ダイ５５０から供給される、放射線硬化性樹脂５３０を部分的に充填される。放射線透過性オーバーレイ要素５２１は、ロール５２４を使用して、放射線硬化性樹脂５３０に対してニップ加工される。成形ツールロール５２５が回転すると、放射線硬化性樹脂５３０がマスク５７０の下を通る。マスク５７０は、放射線透過区域（図示されない）、及び放射線不透過性区域（図示されない）を有し、これらは図４Ａのマスク４５０の放射線透過性区域４５１、及び放射線不透過性区域４５２と類似である。第１照射源５４０は、マスク５７０の放射線透過性区域を通じて放射線硬化性区域５３０の第１照射を提供し、放射線硬化性区域の少なくとも１つの第１区域を生じる。マスク５７０の放射線非透過性区域は、照射源５４０からの照射を遮断し、放射線硬化性樹脂の少なくとも１つの第２区域を生じる。放射線硬化性区域の少なくとも１つの第１区域は照射源５４０からの照射によって少なくとも一部が硬化され、一方で放射線硬化性樹脂の少なくとも１つの第２区域は硬化されない。一部硬化した複合物５３１は、照射区域及び非照射区域のパターンを含み、これは図４Ｂに例示される少なくとも１つの第１区域４３１及び少なくとも１つの第２区域４３４のパターンと類似である。

図５に例示される代表的な実施形態において、一部硬化した複合物５３１は、第２照射源５４１によって照射され、更に硬化された複合物５３４を形成する。更に硬化された複合物５３４は、成形ツールロール５２５から分離されて、第３照射源５４２の下を通り、微細構造化表面、及び相異するように硬化されたパターンを内部に有する物品５３５を形成する。

図６Ａのマスク６５０を使用して生じる代表的な物品６００のデジタル写真画像が図６Ｂに示される。マスク６５０の放射線透過性区域６５１はマスク６５０を通じて光（例えば、紫外線又は可視光線）を通し、より暗い第１区域６３１を形成し、不透明区域６５２はマスクを通じて光を通さず、より明るい第２区域６３４を生じる。

いくつかの実施形態において、第２照射は、ｅビーム照射を含むことがある。図７は、図６Ａのマスクを通じた紫外線ＬＥＤ光源を使用した、第１のパターン照射、これに続く観察される相異するように硬化されたパターンを生じる、ｅビーム照射を使用した第２照射により生じる、代表的な物品７００のデジタル写真画像を示す。

第１パターン照射にｅビーム照射が含まれるいくつかの他の実施形態において、非照射区域に届かないように第１照射を遮断するために、金属（例えば、アルミニウム）マスクが設けられる。代表的な金属マスク８５０のデジタル写真画像が図８Ａに示される。マスク８５０内のｅビーム透過性区域８５１は、マスク８５０にｅビーム照射を通さず、より暗い第１区域（図示されない）を形成し、一方でｅビーム不透明区域８５２はマスク８５０にｅビーム照射を通さずに、より明るい第２区域を生じる（図示されない）。図８Ｂは、第１のパターン照射により生じる少なくとも１つの第１区域８３１、及び少なくとも１つの第２区域８３４のパターンを示す、マスク８５０のｅビーム透過性区域８５１を通じたｅビーム照射を使用した、図４Ａ〜４Ｃに関して例示されたプロセスによって生成される、物品８００のデジタル写真画像である。少なくとも１つの区域８３１、及び少なくとも１つの第２区域８３４はそれぞれ、微細構造化表面を有する成形ツール（すなわち、図１Ａの４９０）に対して補完的な微細構造化表面を含む。

図９Ａ及び９Ｂは、相異するようにパターン硬化された微細構造化物品を作製する方法の別の代表的な実施形態を例示する。図９Ａにおいて、成形ツール９９０は、複数のキャビティ９２７を含む、微細構造化表面９９１を有する。複数のキャビティ９２７は放射線硬化性樹脂９３０を少なくとも部分的に充填され、オーバーレイ要素９２０が放射線硬化性樹脂９３０と重複及び接触する。図９Ａに示される代表的な実施形態において、オーバーレイ要素９２０は第１照射９４０に対して透過性であり、オーバーレイ要素９２０は、第１照射９４０への暴露を伴って又は伴わずに、放射線硬化性樹脂９３０に接着するように選択される。放射線硬化性樹脂９３０は、マスク９５０の放射線透過性区域９５１を通じて第１照射９４０に暴露される。放射線硬化性樹脂９３０の照射区域９３１は、第１照射９４０によって少なくとも一部が硬化され、一方でマスク９５０の放射線不透過性区域９５２は、非照射区域９３４に到達しないように第１照射９４０を遮断し、図９Ａに例示されるように、少なくとも１つの区域９３１、及び少なくとも１つの第２区域９３４を含む対応するパターン硬化された樹脂に接着される、オーバーレイ要素９２０を含む一部硬化した複合物をもたらす。第２区域９３４は、第１照射９４０によって硬化されない。一部硬化した複合物は、第２区域９３４からの放射線硬化性区域９３０の少なくとも一部が成形ツール９９０に残るようにして、成形ツール９９０から分離され、非照射区域９３４に微細構造を有さない表面を備える、分離された一部硬化した複合物９００をもたらす。図９Ｂに例示される代表的な実施形態において、一部硬化した複合物９００が第２照射９４２に暴露されて、微細構造化表面及び内部に相異するように硬化されたパターンを有する複合体物品９００をもたらす。

複合体物品９００において例示された方法により調整された、複合体物品１０００のデジタル写真画像（黒い背景で撮られた）が図１０に示される。より明るい区域１０３１は、第１のパターン照射に暴露される区域に対応し、微細構造化表面を有する。より暗い区域１０３４は、非照射区域と対応し、微細構造化表面を有さない。

図１１は、互いに逆の画像である一対のマスクを使用する、複合体物品９００において例示される方法を使用して生じる、一対のパターン１１００のデジタル画像写真（格子線用紙に対してとられる）を示す。図１１の左半分１１０１において、三日月形区域１１３１は微細構造化表面を有さない非照射区域に対応し、一方でより暗い「背景」区域１１３４は微細構造化表面を有する非照射区域に対応する。図１１に右半分１１０２において、三日月形区域１１３４’は、構造化表面を有する照射区域に対応し、一方でより明るい「背景」区域１１３１’は、微細構造化表面を有さない非照射区域と対応する。

図１２は、複合体物品９００に関して例示される方法により調整される別の複合体物品１２００のデジタル写真画像を示し、より明るい区域１２３１は、微細構造化表面を有する照射区域に対応し、より暗い区域１２３４は、非照射区域に対応し、放射線硬化性樹脂は取り除かれた。

図９Ｃは別の代表的な実施形態を例示し、第２照射９４２は適用されず、代わりに、微細構造化表面、及び内部に相異するように硬化されたパターンを有する（非照射区域９３４の樹脂の内区域を有する）複合体物品９０１をもたらすために、一部硬化した複合物９００の非照射区域９３４の放射線硬化性区域９３０が取り除かれる（例えば、好適な溶媒で洗浄することにより）。複合体物品９０１は、照射区域９３１により高いレベルの硬化をもたらすために実質的に更に照射されてもよい。

図９Ｄは代表的な実施形態を例示し、図９Ｂの複合体物品９００は、オーバーレイ要素９２０の第２主要表面９８０（すなわち、オーバーレイ要素９２０の反対の第１主要表面９８５）上に微細構造化表面９８２を形成するために修正され、第２主要表面９８２は、放射線硬化性樹脂を第２主用表面９８０にコーティングすることにより形成され、樹脂を成形ツール（図示されない）の微細構造化表面と接触させ、かつ放射線硬化性樹脂を照射源（図示されない）により照射して、複合体物品９０３が形成される。複合体物品９０３は、微細構造化表面及び内部に相異するように硬化されたパターンを有する第１主要表面、及び微細構造化された第２主要表面９８２を有する。いくつかの代表的な実施形態において、複合体物品９０３の少なくともいくつかの区域が光透過性である場合、物品９０３の主要表面と垂直に観察した際に、比較的複雑的な視覚的パターンが明らかとなり得る。図１３は、物品９０３を形成するための例示される方法により形成された光透過性複合体物品１３００のデジタル写真画像を示し、干渉パターンが区域１３３１に観察され（すなわち、第１パターン照射によって照射された区域）、一方でモワレパターンは区域１３３４（すなわち、第１パターン照射によって照射されない区域であり、第１主要表面に微細構造が存在しない）に観察可能ではない。

図９Ｅは、複合体物品９００に関連する複合体物品の別の代表的な実施形態を例示し、非照射区域９４３のみに顔料を有する複合体物品９０２を形成するために、第２照射９４２（第２照射９４２は図９Ｅに図示されない）で照射する前に、非照射区域９３４に顔料９３９が追加された。図１４Ａは、周囲光における複合体物品１４００のデジタル写真画像であり、顔料を有し微細構造表面を有さない非照射区域１４３４を示し、一方でより明るい照射区域１４３１は微細構造表面を有し、顔料を有さない。図１４Ｂは、再帰反射ライティング状態における同じ複合体物品１４００を示し、はやり微細構造を有する照射区域１４３１は明るく、微細構造を有さない非照射区域１４３４は暗い。

図１５Ａ〜１５Ｃは、微細構造化表面、及び内部に相異するように硬化されたパターンを有する、複合体物品１５００を生成する方法の代表的な実施形態を例示する。成形ツール１５９０は、放射線硬化性樹脂１５３０を少なくとも部分的に充填した複数のキャビティ１５２７を含む、微細構造化表面１５９１を有する。オーバーレイ要素１５２０は、放射線硬化性樹脂１５３０と接触する。放射線硬化性樹脂１５３０は、マスク１５５０の放射線透過性区域１５５１を通じて、かつ第１照射１５４０に対して透過性であるように選択された成形ツール１５９０を通じて第１照射１５４０を行うことによって第１のパターン照射に暴露される。放射線硬化性樹脂１５３０の照射区域１５３１は、第１照射１５４０によって少なくとも一部が硬化され、一方でマスク１５５０の放射線不透過性区域１５５２は、非照射区域１５３４に到達しないように第１照射１５４０を遮断し、図１５Ａに例示されるように、照射区域１５３１、及び非照射区域１５３４を含む対応するパターン硬化された樹脂に接着される、オーバーレイ要素１５２０を含む一部硬化した複合物をもたらす。非照射区域１５３４は、第１照射１５４０によって硬化されない。図１５Ｂは、より完全に硬化した複合物を形成するために（すなわち、第１のパターン照射及び第２照射は、一部硬化した複合物の相対する面から行われる）オーバーレイ要素１５２０を通じて行う第２照射１５４２を例示し、成形ツールからより完全に硬化された複合物を取り除くことにより、微細構造化表面及び内部の相異するように硬化されたパターンを有する、図１５Ｃに示される複合体物品１５００が形成される。図１６Ａは、図１５Ａ〜１５Ｃにおいて例示される方法で有用なマスク１６５０のデジタル写真画像であり、図１６Ｂは図１５Ａ〜１５Ｃにおいて例示される方法における、第１パターン照射においてマスク１６５０を使用することによって生成される複合体物品１６００のデジタル写真画像である。

図１７は、図２において例示されるものと同様の装置及び方法の、別の代表的な実施形態を例示するが、放射線源１７６０が誘導された照射（例えば、誘導された光線（例えば、誘導されたレーザー））である点において異なる。装置１７２０は、複数のキャビティ１７２７を含む、微細構造化表面を有する成形ツールロール１７２５を含む。複数のキャビティ１７２７は、ロール１７２４を介してダイ１７５０から供給される、放射線硬化性樹脂１７３０を部分的に充填される。成形ツールロール１７２５が回転すると、放射線硬化性樹脂１７３０は誘導された放射線源１７６０の下を通過する。放射線硬化性樹脂１７３０の照射区域は第１照射１７４０によって少なくとも部分的に硬化され、一方で放射線硬化性樹脂１７３０の非照射区域は硬化されず、照射区域及び非照射区域のパターンを含む一部硬化した樹脂１７３１を形成し、これは、図１Ｂに例示される第１区域１３１、及び第２区域１３４と類似である。

図１７に例示される代表的な実施形態において、放射線硬化性樹脂１７３０’はダイ１７５２から、オーバーレイ要素１７２１の主要表面上へと供給され、これはその後、成形ツールロール１７２５の微細構造表面上で一部硬化した樹脂１７３１に対してニップ加工され、一部硬化した複合物１７３３を形成し、これは第２照射源１７４１によって照射されて、更に硬化された複合物１７３４を形成する。更に硬化された複合物１７３４は、成形ツールロール１７２５から分離されて、第３照射源１７４２の下を通り、微細構造化表面、及び相異するように硬化されたパターンを内部に有する物品１７３５を形成する。

図１７に例示される方法の、いくつかの代表的な実施形態において、放射線硬化性樹脂１７３０及び１７３０’は、互いに同じであり得る。いくつかの他の代表的な実施形態において、放射線硬化性樹脂１７３０、及び１７３０’は、互いに異なる場合がある。

オーバーレイ要素１７２１は、ロール１７２２から供給されるものとして図１７に示される。いくつかの代表的な実施形態において、キャリア層（図示されない）は、放射線硬化性樹脂１７３０’でコーティングされたオーバーレイ要素の主要表面と反対側のオーバーレイ要素の主要表面上に設けられてもよい。キャリア層（図示されない）は、物品１７３５に組み込まれてもよく（例えば、キャリア層（図示されない）はオーバーレイ要素１７２１に強く接着されてもよい）、又はキャリア層（図示されない）は、オーバーレイ要素１７２１に取り外し可能に取り付けられて、第２照射後に取り除かれてもよい。

図１８は、図１７において例示される方法にしたがって生成される複合体物品１８００の代表的な実施形態のデジタル写真画像であって、放射線硬化性樹脂１７３０及び１７３０’は、互いに同じであるように選択され、パターンを有する照射はレーザーを使用する。照射区域１８３１、及び非照射区域１８３４は共に、内部に相異するように硬化されたパターンを有する微細構造化表面を形成する。

図１９は、図１７において例示される方法にしたがって生成される複合体物品１８００の代表的な実施形態のデジタル写真画像であって、放射線硬化性樹脂１７３０及び１７３０’は、互いに異なるように選択される。照射区域１９３１、及び非照射区域１９３４は共に、内部に相異するように硬化されたパターンを有する微細構造化表面を形成する。図１８及び図１９の複合体物品の比較は、複合体物品１８００の照射区域１８３１と非照射区域１８３４との間の対比よりも優れた、複合体物品１９００の照射区域１９３１及び非照射区域１９３４との間の対比を示す。

図２０は、図５において例示されるものと同様の装置及び方法の、別の代表的な実施形態を例示するが、放射線源２０６０が誘導された照射（例えば、誘導された光線（例えば、誘導されたレーザー））である点において異なる。装置２０２０は、複数のキャビティ２０２７を含む、微細構造化表面を有する、成形ツールロール２０２５を含む。複数のキャビティ２０２７は、ダイ２０５０から供給される、放射線硬化性樹脂２０３０を部分的に充填される。放射線透過性オーバーレイ要素２０２１は、ロール２０２４を使用して、放射線硬化性樹脂２０３０に対してニップ加工される。成形ツールロール２０２５が回転すると、放射線硬化性樹脂２０３０は誘導された放射線源２０６０の下を通過する。放射線硬化性樹脂２０３０の照射区域は第１照射２０４０によって少なくとも部分的に硬化され、一方で放射線硬化性樹脂２０３０の非照射区域は硬化されず、照射区域及び非照射区域のパターンを含む一部硬化した樹脂２０３１を形成し、これは図４Ｂに例示される、照射区域４３１及び非照射区域４３４のパターンと類似である。

図２０に例示される代表的な実施形態において、一部硬化した複合物２０３１は、第２照射源２０４１によって照射され、更に硬化された複合物２０３４を形成する。更に硬化された複合物２０３４は、成形ツールロール２０２５から分離されて、第３照射源２０４２の下を通り、微細構造化表面、及び内部に相異するように硬化されたパターンを有する物品２０３５を形成する。

図２１は、図２０において例示される方法に従って生成される複合体物品２１００の代表的な実施形態のデジタル写真画像である。第１区域２１３１、及び第２区域２１３４は共に、内部に相異するように硬化されたパターンを有する微細構造化表面を形成する。

図２２Ａは、本開示の方法により生成される合成物品の代表的な実施形態のデジタル写真画像であり、放射線硬化性樹脂は、布層上に支持される。第１区域２２３１、及び第２区域２２３４は共に、内部に相異するように硬化されたパターンを有する微細構造化表面を形成する。放射線硬化性樹脂の放射線硬化を阻害しない好適な布地が使用され得る。例えば、好適な布地はナイロン布地を含む。図２２Ｂは、図２２Ａと同じサンプルを示すが、再帰反射ライティング状態である。

図２３は、微細構造化層２３４５内に２つ以上の相異するようにパターン硬化された層を有する、複合体物品２４００（図２４参照）の代表的な実施形態の断面図サンプルの顕微鏡写真である。第１層２３３６は、第１区域２４３１を含むように相異するようにパターン硬化された第１放射線硬化性樹脂を含み、第２層２３３５は、第１区域２４３６を含むために相異するようにパターン硬化された第２放射線硬化性樹脂を含む（すなわち、微細構造化層は、各層に異なるパターンを有する２つ以上の相異するようにパターン硬化された層を含み得るものとみられる）。

図２５Ａは、微細構造化層２５３５内に２つ以上の相異するようにパターン硬化された層を有する、複合体物品２５００（図２５Ｂ参照）の代表的な実施形態の断面図サンプルの顕微鏡写真である。第１層２５３６は、第１区域２５３１及び第２区域２５３４を含むように相異するようにパターン硬化された第１放射線硬化性樹脂を含み、第２層２５３８は、第１区域２５３９及び第２区域２５４０を含むために相異するようにパターン硬化された第２放射線硬化性樹脂を含む（すなわち、微細構造化層は、各層に異なるパターンを有する２つ以上の相異するようにパターン硬化された層を含み得るものとみられる）。

図２６Ａ及び図２６Ｂは、複合体物品２６００の代表的な実施形態を例示し、オーバーレイ要素は銅シートであり、第１区域２６３１及び第２区域２６３４は共に、微細構造化表面を有する相異するようにパターン硬化された層を含む。図２６Ｂは、微細構造化表面の再帰反射性を示す。

照射を必要とする、本明細書において記載される方法の実施形態において、照射の種類の例としては、電子ビーム、紫外線光、及び可視光が挙げられる。電離放射線としても知られる、電子ビーム照射は、約０．１Ｍｒａｄ〜１０Ｍｒａｄの範囲（より典型的には約１Ｍｒａｄ〜１０Ｍｒａｄの範囲）の照射量において使用され得る。紫外線照射とは、約２００〜４００ｎｍの範囲内（典型的には約２５０〜４００ｎｍの範囲内）の波長を有する非粒子状放射線を指す。典型的には、紫外線照射は、５０〜１５００ミリジュール／ｃｍ^２における紫外線光によりもたらされる場合がある。可視光照射とは、約４００ｎｍ〜約７００ｎｍの範囲内の波長を有する非粒子状放射線を指す。

少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を有する対応するパターンの一部硬化した樹脂をもたらす、任意の好適なパターン照射が使用され得、少なくとも１つの第１区域はパターン照射によって照射され、少なくとも１つの第２区域はパターン照射によって照射されない。

放射線硬化性樹脂のパターン照射の例としては、マスクの透明区域を通じた照射、光線の誘導、電子ビームの誘導、又はデジタル画像の投影の少なくとも１つが挙げられる。これらのパターン照射技術の組み合わせが使用されてもよい。樹脂の所望のレベルの硬化を得るために、電力レベル、照射時間、及び放射線硬化性樹脂からの距離の好適な調節が行われ得る。

マスクの透過性区域を通じた照射の実施形態としては、少なくとも１つの透過性区域及び少なくとも１つの不透明区域を有するマスクの使用が挙げられる。マスク内の区域の透明性及び不透明性は、照射源に関連して選択される。例えば、照射源が可視光であるとき、好適なマスクは可視光線に対して透過性であり、上部に印刷された（例えば、レーザーをプリンターにより）、少なくとも１つの不透明区域（可視光線に対して）を有する、フィルムを含み得る。他の実施形態において、照射源が紫外線光であるとき、好適なマスクは可視光線に対して透過性であり、上部に印刷された、少なくとも１つの不透明区域（紫外線光に対して）を有する、フィルムを含み得る。他の実施形態において、例えば、電子ビーム照射が使用されるとき、好適なマスクは内部に開放（すなわち、透明）区域を有するアルミニウムシートを含んでもよい。

いくつかの実施形態において、放射線硬化性樹脂は、可視光によって少なくとも一部が硬化可能であり、好適な照射源は、少なくとも可視光を供給し、これはレーザー光源ではない。可視光源の好適な例は、当該技術分野において既知である（例えば、蛍光ランプ）。

いくつかの実施形態において、放射線硬化性樹脂は、紫外線によって少なくとも一部が硬化可能であり、好適な照射源は少なくとも紫外線を供給し、これはレーザー光源ではない。紫外線を供給する好適な照射源は当該技術分野において既知であり、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）ランプ（例えば、Ｃｌｅａｒｓｔｏｎｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｍｉｎｎｅａｐｏｌｉｓ，ＭＮから商標名「ＭＯＤＥＬ ＬＮ １２０−３９５Ｂ−１２０」で、入手可能であるものを含む）の配列が挙げられ、いくつかの実施形態において、照射条件は、平方ｃｍ当たり約１７０ミリワットのエネルギー出力レベルを備える３９５ｎｍ紫外線光を有する照射が挙げられる。

いくつかの実施形態において、照射源は、ビーム光線を供給するレーザーであり得る。パターン照射を生成するために、放射線硬化性樹脂（例えば、ミラーで、若しくは成形ツールを移動することにより、又はその両方）に対して、ビーム光線が誘導され得る。放射線硬化性樹脂を照射するために使用されるレーザーは、可視及び／又は紫外線出力波長において動作する任意の好適なレーザーであってもよい。好適なレーザーの例には、ガスレーザー、エキシマレーザー、固定レーザー、及び化学レーザーが挙げられる。代表的なガスレーザーとしては、アルゴン−イオンレーザー（例えば、４５８ｎｍ、４８８ｎｍ、又は５１４．５ｎｍ）、一酸化炭素レーザー（例えば、最大５００ｋＷの電力を生成することができるもの）、及びより深い紫外線波長を生成するガスレーザーである金属イオンレーザー（例えば、ヘリウム−銀（ＨｅＡｇ）２２４ｎｍレーザー、及びネオン−銅（ＮｅＣｕ）２４８ｎｍレーザー）が挙げられる。

化学レーザーとしては、少なくとも一方が励起された電子状態である、２種の化学種（原子）による、短寿命二量体又はヘテロ二量体分子を有する、励起された二量体（すなわち、「エキシマ」）を伴う、化学反応によって駆動される、エキシマレーザーが挙げられる。これらは、典型的には紫外線を生じる。一般的に使用されるエキシマ分子としては、希ガス化合物（ＫｒＣｌ（２２２ｎｍ）、ＫｒＦ（２４８ｎｍ）、ＸｅＣｌ（３０８ｎｍ）、及びＸｅＦ（３５１ｎｍ））が挙げられる。

固体レーザー材料は通常、結晶性固体ホストを必要とされるエネルギー状態をもたらすイオンでドーピングすることによって製造される。例としては、ルビーレーザー（例えば、ルビー又はクロムドープしたサファイアから作製される）が挙げられる。別の一般的なタイプは、Ｎｄ：ＹＡＧとして知られるネオジミウムドープイットリウムアルミニウムガーネット（ＹＡＧ）から作られる。Ｎｄ：ＹＡＧレーザーは、１０６４ｎｍでの赤外スペクトルにおいて高出力を生み出すことができる。Ｎｄ：ＹＡＧレーザーはまた、可視の（緑色）コヒレントなソースが望ましい場合、一般的に周波数が二倍になり５３２ｎｍを生じる。

このレーザーは、パルスモード及び／又は持続波モードで用いられ得る。例えば、レーザーは少なくとも部分的に持続波モードで及び／又は少なくとも部分的にパルスモードで動作し得る。

レーザービームは典型的には、任意により、所望の照射パターンを達成するために方向付けられるか又は走査され、調節される。レーザービームは、１つ以上のミラー（例えば、ミラーの回転、及び／又はミラーの走査）、及び／又はレンズの組み合わせを介して方向付けられる。あるいは又はそれに加えて、基材がレーザービームに対して移動され得る。

いくつかの実施形態において、照射源は電子ビームである。好適なマスク（例えば、アルミニウムマスク）が、パターン照射を生成するために、電子ビームと組み合わせて使用されてもよい。好適な電子ビーム（「ｅビーム」）システムの例は、Ｅｎｅｒｇｙ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ Ｉｎｃ．，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＭＡ，から、商標「ＭＯＤＥＬ ＣＢ−３００ ＥＬＥＣＴＲＯＮ ＢＥＡＭ ＳＹＳＴＥＭ」で入手可能である。あるいは、電子ビームリソグラフィが、パターン照射において電子ビームを誘導するために使用されてもよい。好適な動作条件が、使用される放射線硬化性樹脂によって選択され得る。いくつかの実施形態において、電子ビームシステムは、放射線硬化性樹脂に硬化をもたらすために、２〜５Ｍｒａｄの照射量を供給するために、２００ｋＶ電圧で操作され得る。

いくつかの実施形態において、本明細書において記載される方法としては、デジタル画像の投影を使用した照射が挙げられる。デジタル画像として照射を投影するための、任意の好適な投影技術が使用され得る。デジタル画像の投影は、急速原型製造法技術（例えば、米国特許番号第７，０７９，９１５号（Ｈｕａｎｇ ｅｔ ａｌ．））において使用されている、パターン照射を生じるための、放射線硬化性樹脂の選択されるゾーンを走査するために、デジタルマイクロミラー装置又は液晶ディスプレイと共に平坦な光源を使用して、達成され得る。

いくつかの実施形態において、本開示の方法は、電子ビーム、紫外線光、及び可視光の少なくとも１つであり得る照射を備える、被覆照射（blanket irradiation）（すなわち、非パターン照射）を含む。放射線硬化性樹脂の非照射区域の少なくとも部分硬化を提供し、更に前に照射された区域（すなわち、パターン照射により照射された区域）の追加的な硬化を潜在的にもたらすために有用である。有利に、被覆照射は、放射線硬化性樹脂の寸法的及び化学的安定性を促進する。いくつかの実施形態において、被服照射は、放射線硬化性樹脂における非重合化前駆体の不在、又は不在に近い状態を生じる。

紫外線照射によって硬化可能な組成物としては一般的に少なくとも１つの光開始剤を含む。光開始剤は、約０．１重量％〜１０重量％の範囲の濃度で使用され得る。より典型的に、光開始剤は、０．２重量％〜３重量％の範囲の濃度で使用される。

一般的に、光開始剤は、少なくとも一部可溶性であり（例えば、樹脂の加工温度において）、重合化の後に実質的に無色である。光開始剤は有色であってもよく（例えば、黄色）、ただし光開始剤は紫外線光源に暴露した後に、実質的に無色となる。

好適な光開始剤としては、モノアシルホスフィンオキシド及びビスアシルホスフィンオキシドが挙げられる。入手可能なモノ又はビスアシルホスフィンオキシド光開始剤としては、ＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｃｌｉｆｔｏｎ，ＮＪから、商標「ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ」で入手可能な２，４，６−トリメイチルベンゾイルジフェニルホスフィン（trimethylbenzoydiphenylphosphine）オキサイド、またＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから商標名「ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ−Ｌ」で入手可能な、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネート、及びＣｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｔａｒｒｙｔｏｗｎ，ＮＹ，から、商標名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９」で入手可能なビス−（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキシドが挙げられる。Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから商標名「ＤＡＲＯＣＵＲ １１７３」で入手可能な２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、加えて、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから商標名「ＤＡＲＯＣＵＲ ４２６５」、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ６５１」、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８００」、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９」、「ＲＧＡＣＵＲＥ １７００」、及び「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７」から入手可能な他の光開始剤が挙げられる。

フリーラジカルスカベンジャー、又は抗酸化剤が、典型的には約０．０１重量％〜０．５重量％の範囲で使用され得る。好適な抗酸化剤としては、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから、商標名「ＩＲＧＡＮＯＸ １０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ １０３５」、及び「ＩＲＧＡＦＯＳ １６８」で入手可能なものなどの、ヒンダードフェノール樹脂が挙げられる。

本開示の物品を形成する放射線硬化性樹脂は、１つ以上の工程で硬化され得る。例えば、放射線源（例えば、１４０、２４０、４４０、５４０、９４０、１５４０、１７６０、又は２０６０）は、放射線硬化性樹脂の性質により、放射線硬化性樹脂を放射線に暴露する（例えば、紫外線、可視光線、ｅビーム）。

代表的ポリマー材料には、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、スチレンアクリロニトリルコポリマー、スチレン（メタ）アクリレートコポリマー、ポリメチルメタクリレート、スチレン無水マレイン酸コポリマー、有核半結晶性ポリエステル、ポリエチレンナフタレートのコポリマー、ポリイミド、ポリイミドコポリマー、ポリエーテルイミド、ポリスチレン、シンジオクタクチック（syndiodactic）ポリスチレン、ポリフェニレンオキサイド、アクリロニトリルとブタジエンとスチレンとのコポリマー、機能的に修飾されたポリオレフィン、及びポリウレタンが挙げられる。

代表的ＵＶ硬化性ポリマー材料には、化学線（例えば、電子ビーム、紫外線、又は可視光線）への曝露により、フリーラジカル重合機構によって架橋されることが可能な反応性樹脂系が挙げられる。これらの材料はまた、熱反応開始剤（例えば、過酸化ベンゾイル）の追加で熱的に重合されてもよい。放射線開始のカチオン重合性樹脂を使用してもよい。要素アレイを形成するために好適な反応性樹脂は、光開始剤と、アクリレート基を有する少なくとも１つの化合物との混合物であってもよい。好ましくは、樹脂混合物は、照射時に架橋ポリマー網状組織の形成を確実にするために、一官能性、二官能性、又は多官能性化合物を含有する。

本明細書で使用可能な、フリーラジカル機構によって重合可能な樹脂の代表的実施例としては、エポキシ類、ポリエステル類、ポリエーテル類、及びウレタン類、エチレン系不飽和化合物類、少なくとも１つのペンダントアクリレート基を有するアミノプラスト誘導体類、少なくとも１つのペンダントアクリレート基を有するイソシアネート誘導体類、アクリレート化エポキシ類以外のエポキシ樹脂類、並びにこれらの混合物及び組み合わせから誘導されるアクリル系樹脂が挙げられる。本明細書では、用語「アクリレート」とは、アクリレート及びメタクリレートの両方を包含するために使用される。

本開示の成形ツールは、ロール、連続的なベルト、フィルム及びプレートを含み得る。本開示の物品の連続的な生成のため、成形ツールは典型的にはロール又はベルトである。成形ツールは、所望の要素（例えば、コーナーキューブ要素）を形成するために好適な形状及び寸法を有する、複数のキャビティ開口部を上部に有する、微細構造化成形表面を有する。キャビティ、及びこれによって生じる要素は、例えば、１つのコーナーキューブであってもよく、例えば、１つのコーナーキューブをそれぞれ有する三面角錐（例えば、米国特許番号第４，５８８，２５８号（Ｈｏｏｐｍａｎ）に開示される）が２つの矩形の面及び２つの三角形の面を備える矩形の基部を有し、これによって各要素が２つのコーナーキューブ（例えば、米国特許番号第４，９３８，５６３（Ｎｅｌｓｏｎ ｅｔ ａｌ．）に開示される）をそれぞれ有するか、又は少なくとも１つのコーナーキューブを有する他の所望の形状を有してもよい（例えば、米国特許番号第４，８９５，４２８号（Ｎｅｌｓｏｎ ｅｔ ａｌ．）に開示される）。任意の角錐要素を本開示に従い使用してもよいことを当業者は理解されよう。成形型の窪みの形状、したがって、得られた物品構造もまた、例えば、湾曲側面のプリズム、切頭ピラミッド、小型レンズ、微小針、締結具、茎部、微小流量チャネル、及び様々な他の幾何形状であってもよい。表面のピッチは、１つの窪み又は構造から次の隣接する窪み又は構造までの反復距離を指す。

本明細書において記載されるいくつかの実施形態において、成形ツールは照射の少なくとも１つに対して透過性であり、米国特許番号第５，４３５，８１６号（Ｓｐｕｒｇｅｏｎ ｅｔ ａｌ．）、及び同第５，４２５，８４８号（Ｈａｉｓｍａ ｅｔ ａｌ．）に開示されるような、透明成形ツールを通じた照射によって行われ得る。いくつかの実施形態において、パターン照射は、これが成形ツールの放射線硬化性樹脂に到達する前に、透過性成形ツールを通過する。いくつかの実施形態において、非パターン照射は、これが成形ツールの放射線硬化性樹脂に到達する前に、透過性成形ツールを通過する。

いくつかの実施形態において、オーバーレイ要素は、オーバーレイフィルムであり得る。オーバーレイフィルムは、アイオノマーエチレンコポリマー、塑性ビニルハロゲン化物ポリマー、酸官能性エチレンコポリマー、脂肪族ポリウレタン、芳香族ポリウレタン、他の放射線透過性エラストマー、及びこれらの組み合わせを含む、これらの目的のために使用されるいずれかの従来的なフィルムであり得る。いくつかの実施形態において、オーバーレイフィルムは、光透過性支持層であり得る。

いくつかの実施形態において、本明細書において記載される物品は補強材料を含む。補強材料は、織布材料、不織布材料、フィラメント、織り糸、又はワイヤの少なくとも１つを含む、任意の好適な材料を含み得る。

いくつかの実施形態において、本明細書において開示される物品は、着色材料（例えば、蛍光粒子）を含む。いくつかの実施形態において、着色材料は、染料又は顔料（例えば、サターンイエロー）の少なくとも一方を含む。

いくつかの実施形態において、本開示の物品は、少なくとも第１主要表面と垂直に観察した際に可視のパターンで配置された第１微細構造化機構及び第２微細構造化機構を含む第１主要表面を有し、第１及び第２微細構造化機構は互いに異なり、円錐、回折格子、レンズ形、積分球の区分、角錐、円筒、フレネル、プリズム、及びこれらの組み合わせから成る群から選択される。いくつかの実施形態において、第１微細構造化機構は、第１ピッチを有し、第１ピッチは１０００μｍ以下である（いくつかの実施形態においては、５００、１００、５０、２０、１０、５、２、１、０．５、０．２、又は更に０．１μｍ以下である）。いくつかの実施形態において、第２微細構造化機構は、第２ピッチを有し、第２ピッチは１０００μｍ以下である（いくつかの実施形態においては、５００、１００、５０、２０、１０、５、２、１、０．５、０．２、又は更に０．１μｍ以下である）。いくつかの実施形態において、第２ピッチは第１ピッチの５０％以下（いくつかの実施形態においては、２０％、１０％、５％、２％以下、又は更に１％以下）である。

いくつかの実施形態において、物品は、着色剤又は顔料のうちの少なくとも１つを含む。いくつかの実施形態において、物品は、不透明の充填剤を含む。代表的着色剤及び顔料には、二酸化チタン、フタロシニアンブルー、赤色酸化鉄、様々な粘土、炭酸カルシウム、雲母、シリカ、及びタルクが挙げられる。代表的な充填剤には、ガラスビーズ又はガラス繊維、カーボンブラック、凝集粒子及び鉱物強化材が挙げられる。着色剤、顔料、及び／又は充填剤は、例えば、従来の技術を使用してそれらをポリマー材料中に添加することにより、本明細書に説明される物品中に組み込むことができる。

いくつかの実施形態において、物品は金属化層を含む。硬化された放射線硬化性樹脂にわたり、金属化層を提供する方法は本明細書において既知であり、米国特許番号第４，８０１，１９３号（Ｍａｒｔｉｎ）に記載される金属化再帰反射シートを作製するための方法を含む。

第２光学要素の少なくとも１つの非連続的な区域を有する、第１光学要素のマトリックスの様々なパターンのいずれかが提示され得る。例えば、いくつかの実施形態において、円、楕円、正方形、矩形、三角形、英数字などの、様々な形状のいずれかであり得る。いくつかの実施形態において、第１光学要素のマトリックス内の第２光学要素の複数の連続的な区域が存在する。いくつかの実施形態において、マトリックスの少なくとも一部、及び少なくとも１つの非連続的な区域（及び存在する場合、他の非連続的な区域）は、全体的に少なくとも第１（第２、第３、又はそれ以上）の画像又はしるし（世界（米国を含む）の国、領土などのいずれかにおいて規定される登録商標又は登録した著作権を含む、商標又は著作権を有するものであり得る）を呈する。第２光学要素の少なくとも１つの非連続的な区域（任意の追加的な非連続的な区域）を有する第１光学要素のマトリックスのパターンは典型的には、物品内の光学素子を形成するために使用されるツールの構成、及び／又は物品を作製するための方法で使用されるパターン照射によって形成される。

本明細書において記載される方法の使用には、製品安全マーク、ロゴ、商標、装飾的外観、及び光管理特性（例えば、透過光、反射光、又は再帰反射光）を有する物品の製造を含む。

実施形態
項目１．物品の製造方法であって、方法は、
複数のキャビティを含む微細構造化表面を有する成形ツールを提供する工程と、
複数のキャビティを第１放射線硬化性樹脂で少なくとも部分的に充填する工程と、
少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応するパターンを有する一部硬化した樹脂をもたらすために、第１の放射線硬化性樹脂を第１パターン照射に暴露する工程であって、少なくとも１つの第１区域が第１のパターン照射によって照射され、少なくとも１つの第２区域は第１のパターン照射によって照射されない工程と、
微細構造化表面、及び内部に相異するように硬化されたパターンを有する、物品を提供するために、少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域の両方を第２照射に暴露する工程と、
微細構造化表面、及び内部の相異するように硬化されたパターンを有する物品を成形ツールから分離する工程とを、含む、物品の作製方法。

項目２．パターン照射が、マスクの透過性区域を通じた照射、ビーム光線の誘導、電子ビームの誘導、又はデジタル画像の投影の少なくとも１つを含む、項目１に記載の方法。

項目３．第１放射線硬化性樹脂が、オーバーレイ要素の主表面と接触する、項目１に記載の方法。

項目４．オーバーレイ要素が、ポリマーフィルム、紙、布地、繊維ガラス、不織布、ガラス、及び金属箔からなる群から選択される材料を含む、項目３に記載の方法。

項目５．オーバーレイ要素が、照射の少なくとも１つにおいて使用される放射線に対して透過性である、項目３に記載の方法。

項目６．成形ツールが、照射の少なくとも１つにおいて使用される放射線に対して透過性である、項目１に記載の方法。

項目７．オーバーレイ要素は、パターン照射に対して不透明である、項目６に記載の方法。

項目８．第２照射の前に、一部硬化した樹脂にわたり、第２の放射線硬化性樹脂を適用する工程を更に含む、項目１に記載の方法。

項目９．第１及び第２放射線硬化性樹脂はそれぞれ、屈折率を有し、第１及び第２放射線硬化性樹脂の屈折率は、０．０００２未満の絶対差を有する、項目８に記載の方法。

項目１０．第１及び第２放射線硬化性樹脂はそれぞれ、屈折率を有し、第１及び第２放射線硬化性樹脂の屈折率は、少なくとも０．０００２の絶対差を有する、項目８に記載の方法。

項目１１．第２放射線硬化性樹脂は、オーバーレイ要素の主要表面と接触する、項目８〜１０のいずれか一項目に記載の方法。

項目１２．オーバーレイ要素が、ポリマーフィルム、紙、布地、繊維ガラス、不織布、ガラス、及び金属箔からなる群から選択される材料を含む、項目１１に記載の方法。

項目１３．成形ツールが、照射の少なくとも１つにおいて使用される放射線に対して透過性である、項目１１に記載の方法。

項目１４．オーバーレイ要素は、パターン照射に対して不透明である、項目１３に記載の方法。

項目１５．少なくとも１つの第２区域のマトリックス内に複数の第１区域が存在する、項目１〜１４に記載の方法。

項目１６．少なくとも１つの第１区域のマトリックス内に複数の第２区域が存在する、項目１〜１４に記載の方法。

項目１７．複合体物品を作製する方法であって、方法は、
複数のキャビティを含む第１微細構造化表面を有する第１成形ツールを提供する工程と、
複数のキャビティを、オーバーレイ要素の第１主要表面上に配置された放射線硬化性樹脂で少なくとも部分的に充填する工程と、
少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応するパターンを有する一部硬化した樹脂に接着されたオーバーレイ要素を含む、複数の硬化された樹脂をもたらすために、第１の放射線硬化性樹脂を第１パターン照射に暴露する工程であって、少なくとも１つの第１区域が第１のパターン照射によって照射され、少なくとも１つの第２区域は第１のパターン照射によって照射されない工程と、
少なくとも１つの第２区域の硬化性樹脂の一部が成形ツールに残るように、一部硬化した複合物を成形ツールから分離し、少なくとも１つの第２区域において微細構造を有さない表面を備える、分離した一部硬化した複合物をもたらす工程と、
第１微細構造化表面及び内部に相異するように硬化されたパターンを有する、複合物を提供するために、成形ツールから分離された一部硬化した複合物を第２照射に暴露する工程とを含む、方法。

項目１８．第２の複数のキャビティを含む第２微細構造化表面を有する第２成形ツールを提供する工程と、
第１の微細構造化表面、及び内部に相異するように硬化されたパターンを有する複合体物品のオーバーレイ要素の第２主要表面上に配置された、第２の放射線硬化性樹脂を有する、第２の複数のキャビティを少なくとも部分的に充填する工程と、
第１主要表面上の第１微細構造化表面及び内部の差別的構造化パターン、並びに第２主要表面上の第２微細構造化表面を有する物品をもたらすために、第２放射線硬化性樹脂を第３照射に暴露する工程と、
第２成形ツールから物品を分離する工程とを更に含む、項目１７に記載の方法。

項目１９．パターン照射が、マスクの透過性区域を通じた照射、ビーム光線の誘導、電子ビームの誘導、又はデジタル画像の投影の少なくとも１つを含む、項目１７又は１８に記載の方法。

項目２０．オーバーレイ要素が、ポリマーフィルム、紙、布地、繊維ガラス、不織布、ガラス、及び金属箔からなる群から選択される材料を含む、項目１７又は１８に記載の方法。

項目２１．オーバーレイ要素が、照射の少なくとも１つにおいて使用される放射線に対して透過性である、項目１７又は１８に記載の方法。

項目２２．第１成形ツールは、パターン照射に対して透過性である、項目１７又は１８に記載の方法。

項目２３．オーバーレイ要素は、パターン照射に対して不透明である、項目２２に記載の方法。

項目２４．成形ツールから分離される部分的に硬化された複合体を第２照射に暴露する前に、少なくとも１つの第２区域に顔料を添加する工程を更に含む、請求項１７〜２３に位置項目に記載の方法。

項目２５．複合体物品を作製する方法であって、方法は、
複数のキャビティを含む微細構造化表面を有する成形ツールを提供する工程と、
複数のキャビティを、オーバーレイ要素の主要表面上に配置された放射線硬化性樹脂で少なくとも部分的に充填する工程と、
少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応するパターンを有する一部硬化した樹脂に接着されたオーバーレイ要素を含む、複数の硬化された樹脂をもたらすために、第１の放射線硬化性樹脂をパターン照射に暴露する工程であって、少なくとも１つの第１区域がパターン照射によって照射され、少なくとも１つの第２区域はパターン照射によって照射されない工程と、
一部硬化した複合体を成形ツールから分離する工程と、
微細構造化表面を有する複合体物品をもたらすために、少なくとも１つの第２区域から放射線硬化性樹脂を取り除く工程と、を含む、方法。

項目２６．パターン照射が、マスクの透過性区域を通じた照射、ビーム光線の誘導、電子ビームの誘導、又はデジタル画像の投影の少なくとも１つを含む、項目２５に記載の方法。

項目２７．オーバーレイ要素が、ポリマーフィルム、紙、布地、繊維ガラス、不織布、ガラス、及び金属箔からなる群から選択される材料を含む、項目２５に記載の方法。

項目２８．オーバーレイ要素は、パターン照射に対して不透明である、項目２５に記載の方法。

項目２９．成形ツールは、パターン照射に対して透過性である、項目２５に記載の方法。

項目３０．オーバーレイ要素は、パターン照射に対して不透明である、項目２９に記載の方法。

項目３１．複合体物品を作製する方法であって、方法は、
複数のキャビティを含む微細構造化表面を有する成形ツールを提供する工程と、
複数のキャビティを第１放射線硬化性樹脂で少なくとも部分的に充填する工程と、
オーバーレイ要素を第１放射線硬化性樹脂に接触させる工程と、
少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応するパターンを有する第１の一部硬化した樹脂をもたらすために、第１の放射線硬化性樹脂を第１パターン照射に暴露する工程であって、少なくとも１つの第１区域が第１のパターン照射によって照射され、少なくとも１つの第２区域は第１のパターン照射によって照射されない工程と、
第１の更に硬化した樹脂をもたらすために、第１の一部硬化した樹脂を第１の被覆照射に暴露する工程であって、第１の更に硬化した樹脂はオーバーレイ要素に接着する、工程と、
第１の更に硬化した樹脂の少なくとも一部を成形ツールから分離する工程と、
第２の放射線硬化性樹脂で複数のキャビティを少なくとも部分的に充填する工程と、
第１の更に硬化した樹脂を第２の放射線硬化性樹脂と接触させる工程と、
少なくとも１つの第３区域及び少なくとも１つの第４区域を含む、対応するパターンを有する一部硬化した樹脂をもたらすために、第１の放射線硬化性樹脂を第１パターン照射に暴露する工程であって、少なくとも１つの第３区域が第２のパターン照射によって照射され、少なくとも１つの第４区域は第１のパターン照射によって照射されない工程と、
複合体物品をもたらすために第２の一部硬化した樹脂を第２の被覆照射に暴露する工程であって、第２の更に硬化した樹脂は第１の更に硬化した樹脂に接着し、第１の更に硬化した樹脂がオーバーレイ要素に接着する、工程と、
複合体物品を成形ツールから分離する工程と、を含む、複合体物品を作製する方法。

項目３２．複合体物品を作製する方法であって、方法は、
複数のキャビティを含む微細構造化表面を有する成形ツールを提供する工程と、
複数のキャビティを第１放射線硬化性樹脂で部分的に充填する工程と、
少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応するパターンを有する第１の一部硬化した樹脂をもたらすために、第１の放射線硬化性樹脂を第１パターン照射に暴露する工程であって、少なくとも１つの第１区域が第１のパターン照射によって照射され、少なくとも１つの第２区域は第１のパターン照射によって照射されない工程と、
第１の更に硬化した樹脂をもたらすために第１の一部硬化した樹脂を第１被覆照射に暴露する工程と、
複数のキャビティにおいて、第２放射線硬化性樹脂を第１の更に硬化した樹脂に接触させる工程と、
オーバーレイ要素を第２放射線硬化性樹脂に接触させる工程と、
少なくとも１つの第３区域及び少なくとも１つの第４区域を含む、対応するパターンを有する一部硬化した樹脂をもたらすために、第２の放射線硬化性樹脂を第２パターン照射に暴露する工程であって、少なくとも１つの第３区域が第２のパターン照射によって照射され、少なくとも１つの第４区域は第１のパターン照射によって照射されない工程と、
複合体物品をもたらすために第２の一部硬化した樹脂を第２被覆照射に暴露する工程であって、第１の更に硬化した樹脂は第２の更に硬化した樹脂に接着し、第２の更に硬化した樹脂がオーバーレイ要素に接着する、工程と、
複合体物品を成形ツールから分離する工程と、を含む、複合体物品を作製する方法。

本発明の利点及び実施形態は、以下の実施例により更に例示されるが、これらの実施例に列挙したその特定の材料及び量、並びに他の条件及び詳細は、本発明を過度に限定すると解釈されるべきではない。すべての部及びパーセンテージは、特に記載されていない限り、重量に基づく。

組成物１の作製
第１の放射線硬化性組成物（組成物１）は、２５重量％のＢＡＥＤ−１、１２％のＤＥＡＥＭＡ、３８重量％のＴＭＰＴＡ、２５重量％のＨＤＤＡ、０．５／１００部（ｐｐｈ）ＴＰＯ、０．２ｐｐｈのＩ１０３５、及び０．５ｐｐｈのＴ４０５をガラスジャー内で混合することによって調整された。約１００グラムの組成物が調整された。

組成物２の作製
第２の放射線硬化性組成物（組成物２）は、７４．５重量％のＡＵＡ、２４．５重量％のＨＤＤＡ、１．０重量％のＤ１１７３、及び０．５ｐｐｈ ＴＰＯをガラスジャー内で混合することによって調整された。１００グラムの組成物が調整された。

組成物３の作製
第３の放射線硬化性組成物（組成物３）が、４９．５重量％のＨＤＤＡ、４９．５重量％のＴＭＴＰＡ、及び１重量％のＴＰＯを混合することによって調整された。１００グラムの組成物が調整された。

組成物４の作製
第４の放射線硬化性組成物（組成物４）は、２５重量％のＢＡＥＤ−１、５０重量％のＴＭＰＴＡ、２５重量％のＨＤＤＡ、０．５／１００部（ｐｐｈ）ＴＰＯ、０．５ｐｐｈのＤ１１７３をガラスジャー内で混合することによって調整された。約１００グラムの組成物が調整された。

組成物５の作製
第５の放射線硬化性組成物（組成物５）は、７４．５重量％のＢＡＥＤ−１、２４．５重量％のＰＥＡ、０．５重量％のＤ１１７３、及び０．５重量％のＴＰＯを混合することによって調整された。約１００グラムの組成物が調整された。

組成物６の作製
第６の放射線硬化性組成物（組成物６）は、６４．７重量％のＢＡＥＤ、２４．９重量％のＰＥＡ、９．９５重量％のＴＭＰＴＡ、０．３５重量％のＤ１１７３、及び０．１重量％のＴＰＯを混合することによって調整された。約１００グラムの組成物が調整された。

組成物７の作製
第７放射線硬化性組成物（組成物７）は、７５重量％のＤｉＰＥＴＰＡ、２５重量％のＨＤＤＡ、０．３／１００部（ｐｐｈ）のＭＢ、０．４ｐｐｈのＩ７４６０と不透明のプラスチックジャー内で混合することによって調整された。約１００グラムの組成物が調整され、使用前に１０μｍフィルターを通じて濾過された。

（実施例１）
再帰反射性物品は、以下の手順を使用して調整された。約１０グラムの組成物１は、加熱された微細構造化ツールの上方微細構造面上に注がれ、その後ドクターブレードとして２５０μｍのポリエステルテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを使用して均一に拡散された。ツールは２５ｃｍ×３０ｃｍであり、厚さ７６０μｍのニッケルプレートであった。ツールは、４３μｍの深さ、及び８６μｍのピッチを有する、コーナーキューブキャビティからなる微細構造化表面を有した。ツールは、６０℃に設定された磁気ホットプレート上に配置された。ドクターブレードを使用してツールのキャビティに組成物１を充填した後、透明な、７５μｍでシリコーンコーティングされたＰＥＴ剥離ライナーが、インクローラーを使用して、コーティングされたツールの上面に積層された。その後、剥離ライナーの上にマスキングフィルムが配置された。マスキングフィルムは、図３に示される画像のネガ画像であった、黒い背景上の明るい画像を有する、１００μｍ ＰＥＴフォトリトグラフ印刷されたフィルムであった。０．６ｃｍ厚さの透明なガラスプレートがその後、マスクの上に配置された。

コーティングされたツール、剥離ライナー、マスキングフィルム、及びガラスプレートからなるアセンブリはその後、コンベアベルトに配置されて、コーティングされた組成物を硬化させるために、紫外線（ＵＶ）ランプの下を通された。第１硬化工程において、６００ワット／２．５ｃｍ（１００％の電力設定）に設定された、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｒｏｃｋｖｉｌｌｅ，ＭＤから入手可能）が、コーティングされた組成物を照射するために使用された。ランプは、ガラスプレートの上５ｃｍに位置付けられた。コンベアベルトは１５．２メートル／分で動作した。

紫外線暴露の後、ガラスプレート、マスキングフィルム、及び剥離ライナーがコーティングされたツールから除去された。組成物１の追加的な１０グラムが、ツール上に注がれ、均一に拡散した。オーバーレイフィルム（光透過性支持層）はその後、インクローラーを使用して、コーティングされたツールに積層された。オーバーレイフィルムは、７５μｍのＰＡＵでコーティングされた透明な５０μｍ ＰＥＴフィルムであった。オーバーレイフィルムのポリウレタンコーティングされた面が、コーティングされたツールと接触した。コーティングされたツールからなるアセンブリ、及びフィルムはその後、コンベアベルトに配置されて、第１硬化ステップにおいて先に記載されたものと同じ条件を使用して、コーティングされた組成物を硬化させるために、ＵＶランプの下に通された。硬化された組成物／フィルムはその後ツールから除去され、第１及び第２硬化工程に関して先に記載されたのと同じ条件を使用して硬化を完成させるために、微細構造がＵＶランプに面するようにして、ＵＶランプの下に再び通された。

図３は、生じる再帰反射性物品のデジタル写真画像（Ｍ_１が約５８ｍｍである）である。

（実施例２）
再帰反射性物品は、以下の手順を使用して調整された。約１０グラムの組成物１は、加熱された微細構造化ツールの上方微細構造面上に注がれ、その後ドクターブレードとして２５０μｍのＰＥＴフィルムを使用して均一に拡散された。ツールは２５ｃｍ×３０ｃｍであり、厚さ７６０μｍのニッケルプレートであった。ツールは、８９μｍの深さ、及び１７８μｍのピッチを有する、コーナーキューブキャビティからなる微細構造化表面を有した。ツールは、６０℃に設定された磁気ホットプレート上に配置された。ドクターブレードを使用してツールのキャビティに組成物１を充填した後、７５μｍのＰＡＵでコーティングされた、透明な５０μｍのＰＥＴオーバーレイフィルムが、インクローラーを使用して、コーティングされたツールの上面に積層された。その後、オーバーレイフィルムの上にマスキングフィルムが配置された。マスキングフィルムは、図６Ａに示されるように、黒い背景上の明るい画像を有する、５０μｍ ＰＥＴフォトリソグラフ印刷されたフィルムであった（Ｍ_２は約２６ｍｍ）。０．６ｃｍ厚さの透明なガラスプレートがその後、マスクの上に配置された。発光ダイオード（ＬＥＤ）の配列はその後、コーティングされたツール、オーバーレイフィルム、マスキングフィルム、及びガラスプレートからなるアセンブリの上に配置された。配列は、それぞれ３６ ＬＥＤの２列からなり（Ｃｌｅａｒｓｔｏｎｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｍｉｎｎｅａｐｏｌｉｓ，ＭＮから、商標名「ＣＦ １０００」で得られた３９５ｎｍの波長）、３ｃｍ×３８ｃｍフレーム内に合計７２のＬＥＤが配置された。ＬＥＤは、コーティングされた組成物を硬化させるために約６メートル／分でガラスプレートにわたって手動で２回往復させた。

ＬＥＤ暴露の後、ガラスプレート及びマスキングフィルムは、コーティングされたツールから除去された。コーティングされたツール及びオーバーレイフィルムからなるアセンブリはその後、コンベアベルト上に配置されて、コーティングされた組成物に追加的な硬化をもたらすために、６００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）に設定されたＦｕｓｉｏｎ「Ｈ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓから入手可能）の下を通される。ランプは、ガラスプレートの上５ｃｍに位置付けられた。コンベアベルトは１５．２メートル／分で動作した。硬化された組成物／フィルムはその後ツールから除去されて、コンベアベルト上に配置され、コーティングされた組成物に追加的な硬化をもたらすために、微細構造がＵＶランプに向くようにして、６００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力セッティング）に設定された、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｈ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）の下を再び通される。

図６Ｂは、生じる再帰反射性物品のデジタル写真画像（Ｍ_３が約２６ｍｍである）である。

（実施例３）
プリズム物品は、以下の手順を使用して調整された。約５グラムの組成物２は、加熱された微細構造化ツールの上方微細構造面上に注がれ、その後ドクターブレードとして２５０μｍのＰＥＴフィルムを使用して均一に拡散された。ツールは２５ｃｍ×３０ｃｍであり、厚さ７６０μｍのニッケルプレートであった。ツールは、２５μｍの深さ、及び５０μｍのピッチを有する、９０°のプリズム溝からなる微細構造化表面を有した。ツールは、６３℃に設定された磁気ホットプレート上に配置された。ドクターブレードを使用して、ツールの溝に組成物２を充填した後、透明のオーバーレイフィルム（光透過性支持層）が、インクローラーを使用して、コーティングされたツールに積層された。オーバーレイフィルムは、透明な、１２５μｍで下塗りしたＰＥＴフィルムであった（ＤｕＰｏｎｔ Ｔｅｉｊｉｎ Ｆｉｌｍｓ，Ｃｈｅｓｔｅｒ，ＶＡから、商標名「ＤＵＰＯＮＴ−ＴＥＩＪＩＮ ＃６１７」で得られる）。その後、オーバーレイフィルムの上にマスキングフィルムが配置された。マスキングフィルムは、図６Ａに示されるように、黒い背景上の明るい画像を有する、１００μｍ ＰＥＴフォトリソグラフ印刷されたフィルムであった。０．６ｃｍ厚さの透明なガラスプレートがその後、マスクの上に配置された。ＬＥＤの配列はその後、コーティングされたツール、オーバーレイフィルム、マスキングフィルム、及びガラスプレートからなるアセンブリの上に配置された。配列は、それぞれ３６ ＬＥＤの２列からなり（「ＣＦ １０００」）、３ｃｍ×３８ｃｍフレーム内に合計７２のＬＥＤが配置された。ＬＥＤは、コーティングされた組成物を硬化させるために約６メートル／分でガラスプレートにわたって手動で２回往復させた。

ＬＥＤ暴露の後、ガラスプレート及びマスキングフィルムは、コーティングされたツールから除去された。コーティングツール及びオーバーレイフィルムからなるアセンブリはその後、コンベアベルトに配置され、コーティングされた組成物に追加的な硬化をもたらすために、５Ｍｒａｄの照射量を供給するため、２００ｋＶ電圧で動作する、電子ビームシステム（Ｅｎｅｒｇｙ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ Ｉｎｃ．，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＭＡから、商標名「ＭＯＤＥＬ ＣＢ−３００ ＥＬＥＣＴＲＯＮ ＢＥＡＭ ＳＹＳＴＥＭ」で得られる）内で電子ビーム下に通される。コンベアベルトは７．９メートル／分で動作した。

図７は、生じる再帰反射性物品のデジタル写真画像（Ｍ_４が約２６ｍｍである）である。

（実施例４）
プリズム物品は、以下を例外として、実施例３に記載された通りに調整された。マスクは、図８Ａに示される１．６ｍｍアルミニウムダイカットされたシートである（Ｍ_５は、約６．２ｍｍ）。コーティングツール、オーバーレイフィルム、及びマスクからなるアセンブリはその後、コンベアベルトに配置され、コーティングされた組成物に追加的な硬化をもたらすために、２Ｍｒａｄの照射量を供給するため、２００ｋＶ電圧で動作する、電子ビームシステム（商標名「ＭＯＤＥＬ ＣＢ−３００ ＥＬＥＣＴＲＯＮ ＢＥＡＭ ＳＹＳＴＥＭ」）内で電子ビーム下に通される。コンベアベルトは７．９メートル／分で動作した。マスクはその後取り除かれて、コーティングされたツール及びオーバーレイフィルムからなるアセンブリはその後コンベアベルト上に配置され、コーティングされた組成物に追加的な硬化をもたらすために、５Ｍｒａｄの照射量を供給する、２００ｋＶ電圧で動作する電子ビーム下に通された。

図８Ｂは、生じるプリズム物品のデジタル写真画像（Ｍ_６が約１５ｍｍである）である。

（実施例５）
プリズム物品は、以下の手順を使用して調整された。二層積層体を形成する、除去可能接着剤テープ（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮから、商標名「ＳＣＯＴＣＨ ＃８１１」で入手可能）を使用した、７５μｍの、３８ｃｍ幅のストリップ（約１．２〜１．５メートル長さ）で下塗りされたＰＥＴオーバーレイフィルム（「ＤＵＰＯＮＴ−ＴＥＩＪＩＮ ＃６１７」）の一方の面に接着された。フィルムマスクは、図１０に示されるもののネガ画像である黒い背景上の明るい画像を有する１００μｍ ＰＥＴフォトリソグラフ印刷されたフィルムの２０ｃｍ×２５ｃｍのシートであった。

マスクの一方の表面をオーバーレイフィルムに対して、かつマスクの他方の表面をキャリア層の一方に対して有する、オーバーレイフィルムからなる三層積層体を形成するために接着剤テープ（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから、商標名「ＳＣＯＴＣＨ ＢＯＸ ＳＥＡＬＩＮＧ ＴＡＰＥ」で入手可能）を使用して、キャリア層として機能する５３ｃｍ幅７５μｍ ＰＥＴフィルム上に、二層積層体が貼り付けられた。過剰な樹脂組成物２はその後、材料の回転バンクがゴムコーティングされたニップロールと回転金属ツールとの間に形成されるように、従来的なコーティングダイを使用して、オーバーフィルム上にコーティングされた。回転金属ツールは、２５μｍの深さ、及び５０μｍのピッチを有する、９０°のプリズム溝からなる微細構造化表面を有した。

コーティングされた三層積層体は、５４℃の温度を有し、１２メートル／分のライン速度で動作する回転金属ツールに対してニップされた。コーティングされた三層積層体はその後、６００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）に設定され、ツールから５ｃｍ上に位置付けられた、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）を使用して、キャリア層側から照射し、よってマスクの透明部分を通じて組成物２の樹脂を照射することによって、最初に硬化された。コーティングされた三層積層体はその後、回転金属ツールから除去され、追加的な硬化を提供するために、４００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）の、ＵＶランプを備えた、活性窒素雰囲気ＵＶ硬化チャンバ（Ａｅｔｅｋ ＵＶ Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｌｅｂａｎｏｎ，ＩＮから、商標名「ＵＶＸＬ２０」から入手可能）へと運搬された。ランプは、組成物２の樹脂がランプに面する状態で、積層体から５ｃｍ上に位置付けられた。

図１０は、生じるプリズム物品のデジタル写真画像（Ｍ_７が約１２ｍｍである）である。

（実施例６）
一対のプリズム物品が、それぞれ図１１における左半分１１０１及び右半分１１０２のネガである、一対のマスクが使用された（横並び）ことを除いて、実施例５と同じ手順を使用して調整された。図１１は、生じたプリズム物品の対のデジタル写真画像である（Ｍ_８及びＭ_９はそれぞれ約２６ｍｍである）。

（実施例７）
マイクロレンズ物品は、以下の手順を使用して調整された。フィルムマスクが、二層積層体を形成する、除去可能接着剤テープ（「ＳＣＯＴＣＨ ＃８１１」で入手可能）を使用した、７５μｍの、３８ｃｍ幅のストリップ（約１．２〜１．５メートル長さ）で下塗りされたＰＥＴオーバーレイフィルム（「ＤＵＰＯＮＴ−ＴＥＩＪＩＮ ＃６１７」）の一方の面に接着された。フィルムマスクは、それぞれ図１２の少なくとも１つの第１区域１２３１、及び少なくとも１つの第２区域１２３４に対応する、黒い背景上の明るい画像を有する、１００μｍ ＰＥＴフォトリソグラフ印刷フィルムの、２０ｃｍ×２５ｃｍシートである。マスクの一方の主表面をオーバーレイフィルムに対して有し、かつマスクの他方の主表面をキャリア層に対して有する、オーバーレイフィルムからなる三層積層体を形成するために接着剤テープ（商標名「ＳＣＯＴＣＨ ＢＯＸ ＳＥＡＬＩＮＧ ＴＡＰＥ」）を使用して、キャリア層として機能する５３ｃｍ幅７５μｍ ＰＥＴフィルム上に、二層積層体が貼り付けられた。過剰な樹脂組成物２はその後、材料の回転バンクがゴムコーティングされたニップロールと回転金属ツールとの間に形成されるように、従来的なコーティングダイを使用して、オーバーフィルム上にコーティングされた。回転金属ツールは、４０μｍの直径、及び１０．８μｍの深さを有する、円形凹部からなるマイクロレンズ微細構造化表面を有する。

コーティングされた三層積層体は、５４℃の温度を有し、１２メートル／分のライン速度で動作する回転金属ツールに対してニップされた。コーティングされた三層積層体はその後、６００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）に設定され、ツールから５ｃｍ上に位置付けられた、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）を使用して、キャリア層側から照射することによって最初に硬化され、よってマスクの透明部分を通じて組成物２の樹脂を照射し、オーバーレイフィルム及び硬化樹脂の複合体を形成する。コーティングされた三層積層体はその後、回転金属ツールから取り除かれ、マスクの黒い区域によって保護されていたいずれかの残りの非硬化樹脂は、２−プロパノールを非硬化樹脂に手で噴霧して複合フィルムから取り除かれ、その後風乾された。

図１２は、生じるマイクロレンズ物品のデジタル写真画像である（Ｍ_１０が約１９ｍｍである）。

（実施例８）
マイクロレンズ物品は、以下の手順を使用して調整された。フィルムマスクが、二層積層体を形成する、除去可能接着剤テープ（「ＳＣＯＴＣＨ ＃８１１」で入手可能）を使用した、７５μｍの、３８ｃｍ幅のストリップ（約１．２〜１．５メートル長さ）で下塗りされたＰＥＴオーバーレイフィルム（「ＤＵＰＯＮＴ−ＴＥＩＪＩＮ ＃６１７」）の一方の面に接着された。フィルムマスクは、それぞれ図１３の少なくとも１つの第１区域１３３１、及び少なくとも１つの第１区域１３３４に対応する、黒い背景上の明るい画像を有する、１００μｍ ＰＥＴフォトリソグラフ印刷フィルムの、２０ｃｍ×２５ｃｍシートである。マスクの一方の主表面をオーバーレイフィルムに対して有し、かつマスクの他方の主表面をキャリア層に対して有する、オーバーレイフィルムからなる三層積層体を形成するために接着剤テープ（商標名「ＳＣＯＴＣＨ ＢＯＸ ＳＥＡＬＩＮＧ ＴＡＰＥ」）を使用して、キャリア層として機能する５３ｃｍ幅７５μｍ ＰＥＴフィルム上に、二層積層体が貼り付けられた。過剰な樹脂組成物２はその後、材料の回転バンクがゴムコーティングされたニップロールと回転金属ツールとの間に形成されるように、従来的なコーティングダイを使用して、オーバーフィルム上にコーティングされた。回転金属ツールは、４０μｍの直径、及び１０．８μｍの深さを有する、円形凹部からなるマイクロレンズ微細構造化表面を有する。

コーティングされた三層積層体は、５４℃の温度を有し、１２メートル／分のライン速度で動作する回転金属ツールに対してニップされた。コーティングされた三層積層体はその後、６００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）に設定され、ツールから５ｃｍ上に位置付けられた、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）を使用して、キャリア層側から照射することによって最初に硬化され、よってマスクの透明部分を通じて組成物２の樹脂を照射し、オーバーレイフィルム及び硬化樹脂の複合体を形成する。コーティングされた三層積層体及びマスクはその後、ツールから除去され、追加的な硬化を提供するために、４００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）の、ＵＶランプを備えた、活性窒素雰囲気ＵＶ硬化チャンバ（「ＵＶＸＬ２０」）へと運搬された。ランプは、積層体から５ｃｍ上に位置付けられ、コーティングされた三層積層体の樹脂側を照射した。

オーバーレイフィルム及び硬化樹脂の複合体がマスク及びキャリア層から分離され、オーバーレイフィルムの複製されない平滑な面が上を向くようにして位置付けられた。過剰な組成物２がその後オーバーレイフィルムの複製されない平滑な面上にコーティングされ、コーティングされたオーバーレイフィルムはその後、コーティングされた積層体を生じる、４０μｍの直径、及び１０．８μｍの深さを有する、円形凹部からなる微細構造表面を有する、回転金属ツールに対してニップされた。ツール温度は５４℃であり、１２メートル／分のライン速度で動作する。コーティングされた積層体はその後、６００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）に設定された、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）を使用して、ツールと接触している間に初期硬化された。ランプは、ツールの５ｃｍ上に位置付けられた。コーティングされた積層体はその後、ツールから除去され、追加的な硬化を提供するために、４００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）の、ＵＶランプを備えた、活性窒素雰囲気ＵＶ硬化チャンバ（「ＵＶＸＬ２０」）へと運搬された。ランプは、積層体から約５ｃｍ上に位置付けられた。

図１３は、生じるマイクロレンズ物品のデジタル写真画像である（Ｍ_１１が約３１ｍｍである）。様々な度合いのモワレ干渉が、図１３に明らかである。

（実施例９）
再帰反射性物品は、以下の手順を使用して調整された。約１０グラムの組成物２は、加熱された微細構造化ツールの上方微細構造面上に注がれ、その後ドクターブレードとして２５０ ＰＥＴフィルムを使用して均一に拡散された。ツールは２５ｃｍ×３０ｃｍであり、厚さ７６０μｍのニッケルプレートであった。ツールは、４３μｍの深さ、及び８６μｍのピッチを有する、コーナーキューブキャビティからなる微細構造化表面を有した。ツールは、６０℃に設定された磁気ホットプレート上に配置された。ドクターブレードを使用して、ツールのキャビティに組成物２を充填した後、オーバーレイフィルム（光透過性支持層）がその後、インクローラーを使用して、コーティングされたツールに積層された。オーバーレイフィルムは透明な７５μｍで下塗りされたＰＥＴフィルム（「ＤＵＰＯＮＴ−ＴＥＩＪＩＮ ＃６１７」）であった。その後、オーバーレイフィルムの上にマスキングフィルムが配置された。マスキングフィルムは、図１４Ａに示される画像のネガ画像であった、黒い背景上の明るい画像を有する、７５μｍ ＰＥＴフォトリトグラフ印刷されたフィルムであった。０．６ｃｍ厚さの透明なガラスプレートがその後、マスクの上に配置された。コーティングされたツール、剥離ライナー、マスキングフィルム、及びガラスプレートからなるアセンブリはその後、コンベアベルトに配置されて、コーティングされた組成物を照射するために、ＵＶランプの下を通された。６００ワット／２．５ｃｍ（１００％の電力設定）に設定された、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）が、コーティングされた組成物を照射するために使用された。ランプは、ガラスプレートの上５ｃｍに位置付けられた。コンベアベルトは１５．２メートル／分で動作した。ＵＶ暴露の後、ガラスプレート、マスキングフィルム、オーバーレイフィルム、及び硬化された組成物／フィルムが、コーティングされたツールから取り除かれた。

蛍光黄色顔料（ＤａｙＧｌｏ Ｃｏｌｏｒ Ｃｏｒｐ．，Ｃｌｅｖｅｌａｎｄ，ＯＨから、商標名「ＤＡＹ−ＧＬＯ ＺＱ−１７ ＳＡＴＵＲＮ ＹＥＬＬＯＷ」）が、マスキングフィルムの不透明区域によって被覆／保護されていたコーティングされた組成物の、非照射非硬化区域にわたって、手で散布された。非硬化区域に接着されない過剰な顔料は、振盪により取り除かれた。コーティングされた組成物及びオーバーレイフィルムからなるアセンブリは、その後微細構造がＵＶランプに向くようにしてコンベアベルトに配置され、上記の第１硬化工程に関して上記されたものと同じ条件を使用して、コーティングされた組成物の非硬化区域を硬化するために、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶ ランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）の下で窒素雰囲気下で通した。コーティングされた組成物、及びオーバーレイフィルムからなるアセンブリはその後反転され、第１及び第２硬化工程に関するものと同じ条件を使用して、硬化を完成させるために微細構造をＵＶランプと反対に向けて、ＵＶランプの下に再び通す。非接着残留顔料はその後、数滴の洗剤（Ａｌｃｏｎｏｘ，Ｉｎｃ．，Ｗｈｉｔｅ Ｐｌａｉｎｓ，ＮＹから、商標名「ＬＩＱＵＩ−ＮＯＸ」で得られる）を含む、脱イオン水を使用して洗い流された。微細構造化フィルムはその後、脱イオン水ですすがれ、その後エタノールですすがれた。

図１４Ａ及び１４Ｂは、通常の照明条件、及び再帰反射照明条件でそれぞれとった、生じた再帰反射性物品の画像である（Ｍ_１２、及びＭ_１３はそれぞれ、約３１ｍｍ）。

（実施例１０）
ポリマーフィルムツールは、以下の手順を用いて調整された。樹脂組成物２は、従来的なコーティングダイを使用して、１２５μｍで下塗りしたＰＥＴオーバーレイフィルム（「ＤＵＰＯＮＴ−ＴＥＩＪＩＮ ＃６１７」）上にコーティングされた。過剰な組成物２が、材料の回転バンクが形成されるように、ニップに供給された。コーティングされたＰＥＴフィルムは、８９μｍの高さ、１７８μｍのピッチを有する、コーナーキューブからなる微細構造化表面を有する、回転金属ツールに対してニップされた。ツール温度は５４℃であり、７．６メートル／分のライン速度で動作する。コーティングされたＰＥＴフィルムはその後、６００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）で設定され、ツールの上約５ｃｍ上に位置付けられた、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）を使用して、回転金属ツールと接触する際に、初期硬化された。コーティングされたＰＥＴフィルムはその後、回転金属ツールから取り除かれ、追加的な硬化をもたらすために、６００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）に設定された、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）を備える、ＵＶ硬化チャンバ内に運搬される。硬化された微細構造化組成物／ＰＥＴフィルム積層体（ポリマーツール）はその後、ポリマーツールの微細構造化面上に剥離コーティングをもたらすために、以下の手順を使用して、テトラメチルシランでプラズマ処理された。

剥離コーティングは、プラズマ蒸着によってシリコン含有フィルムを堆積することによって塗布された。蒸着は、２６インチ（６６ｃｍ）のより低い電力の電極、及び中央ガスポンピングによる、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）のために構成された（Ｐｌａｓｍａｔｈｅｒｍ，Ｋｒｅｓｓｏｎ，ＮＪから、商標名「ＰＬＡＳＭＡＴＨＥＲＭ ＭＯＤＥＬ ３０３２」で入手可能）市販の反応性イオンエッチャーシステムで実行された。チャンバは、乾燥機械ポンプ（Ｅｄｗａｒｄｓ Ｖａｃｕｕｍ，Ｌｔｄ．から、商標名「ＥＤＷＡＲＤＳ ＭＯＤＥＬ ｉＱＤＰ８０」で入手可能）により補助される、ルーツ送風機（Ｅｄｗａｒｄｓ Ｖａｃｕｕｍ，Ｌｔｄ．，Ｔｅｗｋｓｂｕｒｙ，ＭＡから、商標名「ＥＤＷＡＲＤＳ ＭＯＤＥＬ ＥＨ１２００」で入手可能）によってポンピングされた。無線周波電力は、インピーダンス適合ネットワークを通じた、５ｋＷ、１３．５６ＭＨｚソリッドステート発生器（「ＲＦＰＰ ＭＯＤＥＬ ＲＦ５０Ｓ０」）によって供給される。システムは、５ｍＴｏｒｒ（０．６７Ｐａ）の公称基本圧力を有する。ガスの流量は、流量コントローラー（ＭＫＳ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，Ａｎｄｏｖｅｒ，ＭＡから得られる）によって調節された。ポリマーツールのサンプルは、バッチプラズマ装置の駆動された電極上に配置された。一連の処理工程でプラズマ処理を行った。この機構は最初に５００ｃｍ^３／分の流量、及び２００ワットのプラズマ電力で、６０秒にわたって酸素ガスを流すことによって酸素プラズマで処理された。酸素プラズマ処理の後、シリコン含有フィルムはその後、１５０標準ｃｍ^３／分の流量、２００ワットのプラズマ電力で、１２０秒にわたって、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）ガスを流すことによって蒸着された。プラズマ蒸着が完了した後、チャンバが雰囲気に対して通気され、ポリマーツールは除去され、その後以下の手順でツールとして使用された。

再帰反射性物品はその後、上記の剥離コーティングされたポリマーツール、及び以下の手順を使用して、調整された。アセンブリは、フォトリソグラフィフィルムマスクを０．６ｃｍ厚さ透明ガラスプレートに配置することによって調整された。マスキングフィルムは、図１６Ａに示される画像のネガ画像であった、黒い背景上の明るい画像を有する、１００μｍ ＰＥＴフォトリトグラフ印刷されたフィルムであった（Ｍ_１４は約２６ｍｍであった）。ポリマーツールは、コーナーキューブが上方に向けて、マスクの上に配置された。約１０グラムの組成物１は、ポリマーツールの上方微細構造面上に注がれ、その後ドクターブレードとして２５０μｍのＰＥＴフィルムを使用して均一に拡散された。ガラスは、６６℃に設定された、ホットプレート上に位置する。ドクターブレードを使用してツールのキャビティに組成物１を充填した後、７５μｍのＰＡＵでコーティングされた、透明な５０μｍのＰＥＴオーバーレイフィルムが、インクローラーを使用して、コーティングされたツールの上面に積層された。０．６ｃｍ厚さの透明なガラスプレートがその後、オーバーレイフィルムの上に配置された。コーティングしたツール、マスク、キャリアフィルム、及びガラスプレートからなるアセンブリはその後、反転されて、マスクを通じてコーティングした組成物を硬化するために、コンベアベルトの上に配置されてＵＶランプの下に通される。６００ワット／２．５ｃｍ（１００％の電力設定）に設定された、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｈ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）が、コーティングされた組成物を硬化するために使用された。ランプは、ガラスプレートの上５ｃｍに位置付けられた。コンベアベルトは１５．２メートル／分で動作した。アセンブリはその後反転されて、二度目にコンベアベルトに配置されて、追加的な硬化をもたらすために、同じ手順を使用して硬化させた。

図１６Ｂは、生じる再帰反射性物品のデジタル写真画像（Ｍ_１５が約２６ｍｍである）である。

（実施例１１）
プリズム物品は、以下の手順を使用して調整された。樹脂組成物２は、図１７に一般的に示される従来的なコーティングダイを使用して、回転金属ツール上にコーティングされた。ダイは、回転金属ツールロールと、ゴムコーティングされたニップロールとの間に、組成物２をもたらすように位置付けられた。回転金属ツールは、２５μｍの深さ、及び５０μｍのピッチを有する、９０°のプリズム溝からなる微細構造化表面を有した。ツール温度は５７℃であり、７．６メートル／分のライン速度で動作する。組成物２の一部はその後、回転金属ツールと接触している間、１０キロへロツ（ｋＨｚ）の反復速度を有するＵＶレーザー（「ＡＶＩＡ ３５５−１５００」）による照射で、ツール表面から約６０ｍｍの距離にミラーが位置付けられ、約３２ｍｍ／秒のミラー走査速度で、架橋された。

ミラーは、正弦波形状の照射を生成するために、振動した。樹脂組成物２は、図１７に一般的に示される従来的なコーティングダイを使用して、７５μｍで下塗りしたＰＥＴフィルム（「ＤＵＰＯＮＴ−ＴＥＩＪＩＮ ＃６１７」）上にコーティングされた。過剰な組成物２が、材料の回転バンクが形成されるように、供給された。コーティングされたＰＥＴフィルムはその後、回転金属ツールに対してニップされた。コーティングされた回転金属は、その後６００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）に設定され、ツールの５ｃｍ上に位置付けられた、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）を使用して硬化された。硬化された組成物２及びＰＥＴフィルムは、回転金属ツールから取り除かれ、追加的な硬化をもたらすために、６００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）に設定された、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）を備える、ＵＶ硬化チャンバ内に運搬される。ランプは、積層体から約５ｃｍ上に位置付けられた。

図１８は、生じるプリズム物品のデジタル写真画像（Ｍ_１６が約２ｍｍであった）である。

（実施例１２）
プリズム物品は、以下の手順を使用して調整された。樹脂組成物３は、図１７に一般的に示される従来的なコーティングダイを使用して、回転金属ツール上にコーティングされた。ダイは、回転金属ツールロールと、ゴムコーティングされたニップロールとの間に、組成物３をもたらすように位置付けられた。回転金属ツールは、２５μｍの深さ、及び５０μｍのピッチを有する、９０°のプリズム溝からなる微細構造化表面を有した。ツール温度は５７℃であり、２３メートル／分のライン速度で動作する。コーティングされた組成物３の一部はその後、回転金属ツールと接触している間、７．５キロへロツ（ｋＨｚ）の反復速度を有するＵＶレーザー（「ＡＶＩＡ ３５５−１５００」）による照射で架橋された（ツール表面から約６０ｍｍの距離にミラーが位置付けられ、ミラー走査速度は約２７２ｍｍ／秒であった）。ミラーは、正弦波形状の照射を生成するために、振動した。

樹脂組成物２は、図１７に一般的に示される従来的なコーティングダイを使用して、７５μｍで下塗りしたＰＥＴフィルム（「ＤＵＰＯＮＴ−ＴＥＩＪＩＮ ＃６１７」）上にコーティングされた。過剰な組成物２が、材料の回転バンクが形成されるように、供給された。コーティングされたＰＥＴフィルムはその後、コーティングされた回転金属ツールに対してニップされて、輝度向上フィルム、架橋部分を有する組成物３のコーティング、組成物２のコーティング、及び下塗りしたＰＥＴフィルムを含む複合体を形成し、この複合体はその後、６００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）に設定され、回転金属ツールの上約５ｃｍに位置付けられた、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）を使用して硬化された。硬化された組成物２及びＰＥＴフィルムは、回転金属ツールから取り除かれ、追加的な硬化をもたらすために、６００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）に設定された、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）を備える、ＵＶ硬化チャンバ内に運搬される。ランプは、積層体から約５ｃｍ上に位置付けられた。

図１９は、生じるプリズム物品のデジタル写真画像（Ｍ_１７が約７５ｍｍでった）である。

（実施例１３）
プリズム物品は、以下の手順を使用して調整された。樹脂組成物２は、従来的なコーティングダイを使用して、７５μｍの下塗りしたＰＥＴフィルム（「ＤＵＰＯＮＴ−ＴＥＩＪＩＮ ＃６１７」）上にコーティングされ、コーティングされたフィルムは、図２０に一般的に示されるように、ゴムコーティングされたニップロールを使用して、回転金属ツールに対してニップされた。回転金属ツールは、２５μｍの深さ、及び５０μｍのピッチを有する、９０°のプリズム溝からなる微細構造化表面を有した。ツール温度は５７℃であり、７．６メートル／分のライン速度で動作する。コーティング組成物２の一部はその後、回転金属ツールと接触している間に、７．５キロヘルツ（ｋＨｚ）の反復速度を有するＵＶレーザー（「ＡＶＩＡ ３５５−１５００」）でオーバーレイフィルムを通じて照射することによって架橋され（ミラーはツール表面から約６０ｍｍの距離に位置付けられ、ミラー走査速度は約２７２ｍｍ／秒である）、一部硬化した樹脂をもたらした。ミラーは正弦波形状の照射を生じるように振動した。一部硬化した樹脂は、その後６００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）に設定され、回転金属ツールの５ｃｍ上に位置付けられた、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）を使用して硬化された。硬化された組成物２及びＰＥＴフィルムは、回転金属ツールから取り除かれ、追加的な硬化をもたらすために、６００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）に設定された、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）を備える、不活性窒素雰囲気ＵＶ硬化チャンバ内に運搬される。ランプは、積層体から約５ｃｍ上に位置付けられた。

図２１は、生じるプリズム物品のデジタル写真画像（Ｍ_１８が約７５ｍｍである）である。

（実施例１４）
再帰反射性物品は、以下の手順を使用して調整された。約１０グラムの組成物４は、加熱された微細構造化ツールの上方微細構造面上に注がれ、その後ドクターブレードとして２５０μｍのＰＥＴフィルムを使用して均一に拡散された。ツールは２５ｃｍ×３０ｃｍであり、厚さ７６０μｍのニッケルプレートであった。ツールは、８９μｍの深さ、及び１７８μｍのピッチを有する、コーナーキューブキャビティからなる微細構造化表面を有した。ツールは、６３℃に設定された磁気ホットプレート上に配置された。ドクターブレードを使用して組成物４でツールのキャビティを充填した後、ナイロン布地のシート（Ｊｏ−Ａｎｎ Ｆａｂｒｉｃｓ，Ｈｕｄｓｏｎ，ＯＨから、商標名「ＢＲＩＤＡＬ ＩＮＳＰＩＲＡＴＩＯＮＳ ＴＵＬＬＥ，ＷＨＩＴＥ ＯＲＧＡＮＺＡ ＃６６４−７２４２」で入手可能）およそ１３ｃｍ×２０ｃｍがコーティングされたツール上に配置された。更に５グラムの組成物４が、ツールに適用され、１２５μｍの透明なＰＥＴのシートが、インクローラーを使用して、コーティングされたツール及び布地の上面に積層された。その後、ＰＥＴフィルムの上にマスキングフィルムが配置された。マスキングフィルムは、黒い背景上の明るい画像を有する、１００μｍ ＰＥＴフォトリソグラフ印刷されたフィルムであった。０．６ｃｍ厚さの透明なガラスプレートがその後、マスクの上に配置された。コーティングされたツール、ナイロン布地、ＰＥＴフィルム、マスキングフィルム、及びガラスプレートからなるアセンブリはその後、コンベアベルト上に配置されて、コーティングされた組成物を照射するために、６００ワット／２．５ｃｍ（１００％電力設定）に設定された、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）の下に通された。ランプは、ガラスプレートの上５ｃｍに位置付けられた。コンベアベルトは１０．７メートル／分で動作した。ＵＶ暴露の後、ガラスプレート、マスキングフィルム、及びＰＥＴフィルム、並びにコーティングされた布地が、コーティングされたツールから取り除かれた。マスクにより保護された、いずれかの残った非硬化樹脂は、２−プロパノールを手で噴霧して布地から取り除かれ、その後風乾された。

図２２Ａは、周囲光における、生じた再帰反射性物品のデジタル写真画像である（Ｍ_２７は約３９ｍｍである）。図２２Ｂは、再帰反射における、生じた再帰反射性物品のデジタル写真画像である。

（実施例１５）
プリズム物品は、以下の手順を使用して調整された。約３０グラムの組成物２は、加熱された微細構造化ツールの上方微細構造面上に注がれ、その後ドクターブレードとして２５０μｍのＰＥＴフィルムを使用して均一に拡散された。ツールは２５ｃｍ×３０ｃｍであり、厚さ７６０μｍのニッケルプレートであった。金属構造化ツールは、１７５μｍの深さ、及び３５０μｍのピッチを有する９０°のプリズム溝からなる微細構造化表面を有した。金属微細構造化ツールは、６６℃に設定された磁気ホットプレート上に位置した。ドクターブレードを使用してツールのキャビティに組成物２を充填した後、透明な１２５μｍで下塗りしたＰＥＴオーバーレイフィルム（「ＤＵＰＯＮＴ ＴＥＩＪＩＮ ＃６１７」、図２３の２３３０）は、インクローラーを使用して、コーティングされたツールの上面に積層された。その後、オーバーレイフィルムの上に第１マスキングフィルムが配置された。第１マスキングフィルムは、図２４の「三日月形」２４３６に対応するパターンを有する、黒い背景上の明るい画像を有する、１００μｍ ＰＥＴフォトリトグラフ印刷されたフィルムであった。０．６ｃｍ厚さの透明なガラスプレートがその後、マスクの上に配置された。コーティングされたツール、オーバーレイフィルム、及びガラスプレートからなるアセンブリはその後、コンベアベルト上に配置されて、コーティングされた組成物を硬化するために、６００ワット／２．５４ｃｍ（１００％電力設定）に設定された、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）の下に通された。ランプは、ガラスプレートの上５ｃｍに位置付けられた。コンベアベルトは１５．２メートル／分で動作した。ＵＶ暴露の後、ガラスプレート、及び第１マスキングフィルムがコーティングされたツールから除去された。コーティングされたツール及びオーバーレイフィルムからなるアセンブリはその後、コンベアベルト上に配置され、コーティングされた組成物に更なる硬化をもたらすために、６００ワット／２．５４ｃｍ（１００％電力設定）に設定された、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプの下に通され、微細構造化ツールの硬化された組成物／フィルムを生じた。

微細構造化ツールは、加熱された磁気ホットプレート上に配置された。硬化された組成物／フィルムはその後、組成物／フィルムの微細構造化（図２３の２３３５）を、ツールの微細構造化表面のプリズム溝と位置合わせした状態に維持するように、ツールの組成物／フィルムの前縁部の約５ｃｍを残して、微細構造化ツールから一部取り除かれた。約５グラムの組成物５は、ツールと組成物／フィルムとの間に注がれた。インクローラーは、ツールと、組成物１によって形成された微細構造との間に組成物５を広げるために使用された。その後、オーバーレイフィルムの上に第２マスキングフィルムが配置された。第２マスキングフィルムは、図２４の「スマイル」２４３１に対応するパターンを有する、黒い背景上の明るい画像を有する、１００μｍ ＰＥＴフォトリトグラフ印刷されたフィルムであった。０．６ｃｍ厚さの透明なガラスプレートは、その後第２マスキングフィルムの上に配置された。コーティングされたツール、オーバーレイフィルム、第２マスキングフィルム、及びガラスプレートからなるアセンブリはその後、コンベアベルト上に配置されて、コーティングされた組成物を硬化するために、６００ワット／２．５４ｃｍ（１００％電力設定）に設定された、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）の下に通された。ランプは、ガラスプレートの上５ｃｍに位置付けられた。コンベアベルトは１５．２メートル／分で動作した。ＵＶ暴露の後、ガラスプレート、及び第２マスキングフィルムがコーティングされたツールから除去された。コーティングされたツール及びオーバーレイフィルムからなるアセンブリはその後、コンベアベルト上に配置されて、コーティングされた組成物に追加的な硬化をもたらすために、６００ワット／２．５４ｃｍ（１００％電力設定）に設定されたＦｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）の下を通される。

図２３は、生じるプリズム物品の顕微鏡断面画像である（Ｍ_２０は約３５０μｍ）。図２４は、周囲光における、生じるプリズム物品のデジタル写真画像（Ｍ_２１は約２６ｍｍであり、Ｍ_２２は約３１ｍｍである）。

（実施例１６）
プリズム物品は、以下の手順を使用して調整された。エタノール中における２５重量％の組成物２の溶液約１５グラムが、前縁部に沿って微細構造化ツールの上方微細構造化面上にビードとして、約２４℃で適用され、その後ドクターブレードとして２５０μｍ ＰＥＴフィルムを使用して均一に広げられた。ツールは２５ｃｍ×３０ｃｍであり、厚さ７６０μｍのニッケルプレートであった。金属構造化ツールは、１７５μｍの深さ、及び３５０μｍのピッチを有する９０°のプリズム溝からなる微細構造化表面を有した。コーティングされたツールは、エタノールを蒸発させるために、６３℃に設定された、加熱された磁気ホットプレートに配置された。約２分後、シリコーンコーティングされたＰＥＴ剥離ライナーが、コーティングされたツール上に配置された。その後、ＰＥＴ剥離フィルムの上にマスキングフィルムが配置された。マスキングフィルムは、黒い背景上の明るい画像を有する、１００μｍ ＰＥＴフォトリソグラフ印刷されたフィルムであった。０．６ｃｍ厚さの透明なガラスプレートがその後、マスクの上に配置された。コーティングされたツール、ＰＥＴ剥離フィルム、マスキングフィルム、及びガラスプレートからなるアセンブリはその後、コンベアベルトに配置されて、コーティングされた組成物を硬化させるために、紫外線（ＵＶ）ランプの下を通された。硬化工程において、６００ワット／２．５４ｃｍ（１００％の電力設定）に設定された、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）が、コーティングされた組成物を照射するために使用された。ランプは、ガラスプレートの上５ｃｍに位置付けられた。コンベアベルトは１５．２メートル／分で動作した。

ＵＶ暴露の後、ガラスプレート、マスキングフィルム、及びＰＥＴ剥離フィルムがコーティングされたツールから除去された。コーティングされたツールは、コンベア上に戻されて、上記のようにＵＶランプの下に通された。約１５グラムの組成物６は、ツールに適用され、１２５μｍの透明ＰＥＴのシート（「ＤＵＰＯＮＴ ＴＥＩＪＩＮ ＃６１７」、図２５Ａの２５２０）は、インクローラーを使用してコーティングされたツールの上面に積層される。その後、ＰＥＴフィルムの上に第２マスキングフィルムが配置された。マスキングフィルムは、黒い背景上の明るい画像を有する、１００μｍ ＰＥＴフォトリソグラフ印刷されたフィルムであった。０．６ｃｍ厚さの透明なガラスプレートがその後、マスクの上に配置された。コーティングされたツール、ＰＥＴフィルム、マスキングフィルム、及びガラスプレートからなるアセンブリはその後、コンベアベルトに配置されて、コーティングされた組成物を硬化させるために、紫外線（ＵＶ）ランプの下を通された。硬化工程において、６００ワット／２．５４ｃｍ（１００％の電力設定）に設定された、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）が、コーティングされた組成物を照射するために使用された。ランプは、ガラスプレートの上５ｃｍに位置付けられた。コンベアベルトは１５．２メートル／分で動作した。ＵＶ暴露後、ガラスプレート及びマスキングフィルムは、コーティングされたツールから除去された。フィルム／樹脂組成物を有するコーティングされたツールが、コンベア上に配置されて、上記のようにＵＶランプの下に通された。硬化工程の後、フィルム／樹脂組成物はツールから除去された。

図２５Ａは、生じるプリズム物品の顕微鏡断面画像である（Ｍ_２３は約３５０μｍ）。図２５Ｂは、周囲光における、生じたプリズム物品のデジタル写真画像である（Ｍ_２４は約３９ｍｍである）。

（実施例１７）
プリズム物品は、以下の手順を使用して調整された。約５グラムの組成物２が、６０℃まで加熱された１／１６インチ（１．６ｍｍ）のシート上に位置する加熱された３５μｍ厚さ、１１．４ｃｍ×１６．５ｃｍの銅ホイルシート（Ｈｉｇｈ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｃｏｐｐｅｒ Ｆｏｉｌ，Ｉｎｃ．、Ｃｈａｎｄｌｅｒ，ＡＺ，から、商標名「ＪＴＣ ＧＲＡＤＥ １ ＣＯＰＰＥＲ ＦＯＩＬ」で入手可能）の上面に注がれた。樹脂はその後、ドクターブレードとして、２５０μｍ ＰＥＴフィルムを使用して、均一に広げられた。銅ホイルをコーティングした後、プラズマテトラメチルシラン（ＴＭＳ）剥離処理された溝フィルムツール（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから商標名「ＴＨＩＮ ＢＲＩＧＨＴＮＥＳＳ ＥＮＨＡＮＣＩＮＧ ＦＩＬＭ ＩＩ（９０／２４）」で入手可能）、樹脂厚さを最小化するためにインクローラーを使用して樹脂に積層された。マスクが、溝付フィルムツール上に配置され、銅ホイル、樹脂、溝付フィルムツール、及びマスクの緊密な接触を確実にするために、窓ガラスの６．４ｍｍシートがマスク上に配置された。マスキングフィルムは、黒い背景上の明るい画像を有する、１００μｍ ＰＥＴフォトリソグラフ印刷されたフィルムであった。コーティングされた銅ホイル、フィルムツール、及びマスクからなるアセンブリはその後、コンベアベルト上に配置されて、コーティングされた組成物に硬化をもたらすために、６００ワット／２．５４ｃｍ（１００％電力設定）に設定されたＦｕｓｉｏｎ「Ｄ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）の下を通される。ランプは、ガラスプレートから５ｃｍ上に位置付けられた。コンベアベルトは１５．２メートル／分で動作した。ＵＶ暴露の後、ガラスプレート、フィルムツール、及びマスクは、コーティングされた銅ホイルから取り除かれ、非硬化樹脂はエタノールを使用して銅ホイルからすすがれ、風乾され、パターンを有する金属／樹脂複合体を生じる。

図２６Ａは、周囲光における、生じるプリズム物品のデジタル写真画像（Ｍ_２５は約１７ｍｍである）である。図２６Ｂは、プリズム少平面からの正反射を示す、約４５°の傾斜角で取られた。

（実施例１８）
再帰反射性物品は、以下の手順を使用して調整された。約５グラムの組成物７は、加熱された微細構造化ツールの上方微細構造面上に注がれ、その後ドクターブレードとして２５０μｍのＰＥＴフィルムを使用して均一に拡散された。ツールは２５ｃｍ×３０ｃｍであり、厚さ７６０μｍのニッケルプレートであった。ツールは、４３μｍの深さ、及び８６μｍのピッチを有する、コーナーキューブキャビティからなる微細構造化表面を有した。ツールは、６０℃に設定された磁気ホットプレート上に配置された。ドクターブレードを使用して、ツールのキャビティに組成物７を充填した後、オーバーレイフィルムがその後、インクローラーを使用して、コーティングされたツールの上面に積層された。オーバーレイフィルムは、透明な、７５μｍで下塗りしたＰＥＴフィルムであった（ＤｕＰｏｎｔ Ｔｅｉｊｉｎ Ｆｉｌｍｓから、商標名「ＤＵＰＯＮＴ−ＴＥＩＪＩＮ ＃６１７」で得られる）。第１硬化工程において、コーティングされたツール及びＰＥＴフィルムからなるアセンブリは、磁気ホットプレートから取り除かれて、Ｄａｖｉｓ Ｐｏｗｅｒｂｅａｍ「Ｖ」Ｄｉｇｉｔａｌ Ｌｉｇｈｔ Ｐｒｏｊｅｃｔｏｒ（ＤＬＰ）から垂直に約５８ｃｍのところに位置付けられた。白黒画像は、フィルムを通じてツールにコーティングされた樹脂上に、４５秒間にわたって投影された。アセンブリはその後コンベアベルト上に配置されて、コーティングされた組成物を硬化させるために、紫外線（ＵＶ）ランプの下に通された。第２硬化工程において、６００ワット／２．５ｃｍ（１００％の電力設定）に設定された、Ｆｕｓｉｏｎ「Ｈ」ＵＶランプ（Ｆｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ）が、コーティングされた組成物を照射するために使用された。ランプは、ガラスプレートから５ｃｍ上に位置付けられた。コンベアベルトは１０．７メートル／分で動作した。図２７Ａ及び２７Ｂは、それぞれ、周囲条件及び再帰反射照明条件における、生じた再帰反射性物品のデジタル写真画像である（Ｍ_２６は約１１１ｍｍである）。

（実施例１９）
プリズム物品は、実施例１８と同じように調製されたが、ただし約２５ｃｍ×３０ｃｍ、７６０μｍ厚さのニッケルプレートであり、２５μｍの厚さ、６５μｍのピッチを有する９０°のプリズム溝からなる、微細構造化表面を有する。図２８は、生じた再帰反射性物品２８００のデジタル写真画像である（Ｍ_２７は約１１１ｍｍである）。

本開示の範囲及び趣旨から外れることなく、本発明の予測可能な修正及び変更が当業者には自明であろう。本発明は、説明を目的として本出願に記載される各実施形態に限定されるべきものではない。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［２７］に記載する。
[１]
物品の製造方法であって、
複数のキャビティを含む微細構造化表面を有する成形ツールを提供する工程と、
前記複数のキャビティを第１放射線硬化性樹脂で少なくとも部分的に充填する工程と、
少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応するパターンを有する一部硬化した樹脂をもたらすために、前記第１放射線硬化性樹脂を第１のパターン照射に暴露する工程であって、前記少なくとも１つの第１区域が前記第１のパターン照射によって照射され、前記少なくとも１つの第２区域は前記第１のパターン照射によって照射されない工程と、
前記一部硬化した樹脂にわたって、第２放射線硬化性樹脂を適用する工程と、
微細構造化表面及び前記微細構造化表面内に相異するように硬化されたパターンを有する物品を提供するために、前記少なくとも１つの第１区域及び前記少なくとも１つの第２区域の両方を第２照射に暴露すると、
微細構造化表面及び前記微細構造化表面内に相異するように硬化されたパターンを有する前記物品を前記成形ツールから分離する工程とを含む、物品の作製方法。
[２]
前記パターン照射が、マスクの透過性区域を通じた照射、ビーム光線の誘導、電子ビームの誘導、又はデジタル画像の投影のうちの少なくとも１つを含む、項目１に記載の方法。
[３]
前記第２放射線硬化性樹脂が、オーバーレイ要素の主表面と接触する、項目１に記載の方法。
[４]
前記オーバーレイ要素が、ポリマーフィルム、紙、布地、繊維ガラス、不織布、ガラス、及び金属箔からなる群から選択される材料を含む、項目３に記載の方法。
[５]
前記オーバーレイ要素が、前記照射の少なくとも１つにおいて使用される前記放射線に対して透過性である、項目３に記載の方法。
[６]
前記成形ツールが、前記照射の少なくとも１つにおいて使用される前記放射線に対して透過性である、項目１に記載の方法。
[７]
前記オーバーレイ要素は、前記パターン照射に対して不透明である、項目６に記載の方法。
[８]
前記第１及び前記第２放射線硬化性樹脂はそれぞれ、屈折率を有し、前記第１及び前記第２放射線硬化性樹脂の屈折率は、０．０００２未満の絶対差を有する、項目１〜７のいずれか一項に記載の方法。
[９]
前記第１及び前記第２放射線硬化性樹脂はそれぞれ、屈折率を有し、前記第１及び前記第２放射線硬化性樹脂の前記屈折率は、少なくとも０．０００２の絶対差を有する、項目１〜７のいずれか一項に記載の方法。
[１０]
前記少なくとも１つの第２区域のマトリックス内に、複数の第１区域が存在する、項目１〜９のいずれか一項に記載の方法。
[１１]
前記少なくとも１つの第１区域のマトリックス内に、複数の第２区域が存在する、項目１〜９のいずれか一項に記載の方法。
[１２]
複合体物品を作製する方法であって、前記方法は、
複数のキャビティを含む第１微細構造化表面を有する第１成形ツールを提供する工程と、
前記複数のキャビティを、オーバーレイ要素の第１主要表面上に配置された放射線硬化性樹脂で少なくとも部分的に充填する工程と、
少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応するパターンを有する一部硬化した樹脂に接着された前記オーバーレイ要素を含む、一部硬化した複合体をもたらすために、前記放射線硬化性樹脂を第１パターン照射に暴露する工程であって、前記少なくとも１つの第１区域が前記第１のパターン照射によって照射され、前記少なくとも１つの第２区域は前記第１のパターン照射によって照射されない工程と、
前記少なくとも１つの第２区域の硬化性樹脂の少なくとも一部が前記成形ツールに残るように、前記一部硬化した複合物を前記成形ツールから分離し、前記少なくとも１つの第２区域において微細構造を有さない表面を備える、前記分離した一部硬化した複合物をもたらす工程と、
第１微細構造化表面及び前記第１微細構造化表面内に相異するように硬化されたパターンを有する複合体物品を提供するために、前記成形ツールから分離された前記一部硬化した複合物を第２照射に暴露する工程とを含む、方法。
[１３]
第２の複数のキャビティを含む第２微細構造化表面を有する第２成形ツールを提供する工程と、
第１微細構造化表面及び前記第１微細構造化表面内に相異するように硬化されたパターンを有する前記複合体物品の、前記オーバーレイ要素の第２主要表面上に配置された第２の放射線硬化性樹脂で、前記第２の複数のキャビティを少なくとも部分的に充填する工程と、
前記第１主要表面上の前記第１微細構造化表面及び前記第１微細構造化表面内に相異するように硬化されたパターン、並びに前記第２主要表面上の第２微細構造化表面を有する物品をもたらすために、前記第２放射線硬化性樹脂を第３照射に暴露する工程と、
前記第２成形ツールから前記物品を分離する工程とを更に含む、項目１２に記載の方法。
[１４]
前記パターン照射が、マスクの透過性区域を通じた照射、ビーム光線の誘導、電子ビームの誘導、又はデジタル画像の投影のうちの少なくとも１つを含む、項目１２又は１３に記載の方法。
[１５]
前記オーバーレイ要素が、ポリマーフィルム、紙、布地、繊維ガラス、不織布、ガラス、及び金属箔からなる群から選択される材料を含む、項目１２又は１３に記載の方法。
[１６]
前記オーバーレイ要素が、前記照射の少なくとも１つにおいて使用される前記放射線に対して透過性である、項目１２又は１３に記載の方法。
[１７]
前記第１成形ツールは、前記パターン照射に対して透過性である、項目１２又は１３に記載の方法。
[１８]
前記オーバーレイ要素は、前記パターン照射に対して不透明である、項目１７に記載の方法。
[１９]
前記成形ツールから分離される前記一部硬化した複合体を第２照射に暴露する前に、前記少なくとも１つの第２区域の少なくとも一部分に顔料を添加する工程を更に含む、項目１２〜１８のいずれか一項に記載の方法。
[２０]
複合体物品を作製する方法であって、前記方法は、
複数のキャビティを含む微細構造化表面を有する成形ツールを提供する工程と、
前記複数のキャビティを、オーバーレイ要素の第１主要表面上に配置された放射線硬化性樹脂で少なくとも部分的に充填する工程と、
少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応するパターンを有する一部硬化した樹脂に接着された、前記オーバーレイ要素を含む一部硬化した複合体をもたらすために、前記放射線硬化性樹脂をパターン照射に暴露する工程であって、前記少なくとも１つの第１区域が前記パターン照射によって照射され、前記少なくとも１つの第２区域は前記パターン照射によって照射されない工程と、
前記一部硬化した複合体を前記成形ツールから分離する工程と、
微細構造化表面を有する複合体物品をもたらすために、前記少なくとも１つの第２区域から前記放射線硬化性樹脂を取り除く工程とを含む、方法。
[２１]
前記パターン照射が、マスクの透過性区域を通じた照射、ビーム光線の誘導、電子ビームの誘導、又はデジタル画像の投影のうちの少なくとも１つを含む、項目２０に記載の方法。
[２２]
前記オーバーレイ要素が、ポリマーフィルム、紙、布地、繊維ガラス、不織布、ガラス、及び金属箔からなる群から選択される材料を含む、項目２０に記載の方法。
[２３]
前記オーバーレイ要素は、前記パターン照射に対して透過性である、項目２０に記載の方法。
[２４]
前記成形ツールは、前記パターン照射に対して透過性である、項目２０に記載の方法。
[２５]
前記オーバーレイ要素は、前記パターン照射に対して不透明である、項目２４に記載の方法。
[２６]
複合体物品を作製する方法であって、前記方法は、
複数のキャビティを含む微細構造化表面を有する成形ツールを提供する工程と、
前記複数のキャビティを第１放射線硬化性樹脂で少なくとも部分的に充填する工程と、
オーバーレイ要素を前記第１放射線硬化性樹脂に接触させる工程と、
少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応するパターンを有する第１の一部硬化した樹脂をもたらすために、前記第１放射線硬化性樹脂をパターン照射に暴露する工程であって、前記少なくとも１つの第１区域が前記第１のパターン照射によって照射され、前記少なくとも１つの第２区域は前記第１のパターン照射によって照射されない工程と、
第１の更に硬化した樹脂をもたらすために、前記第１の一部硬化した樹脂を第１の被覆照射に暴露する工程であって、前記第１の更に硬化した樹脂は前記オーバーレイ要素に接着する、工程と、
前記第１の更に硬化した樹脂の少なくとも一部を前記成形ツールから分離する工程と、
第２の放射線硬化性樹脂で前記複数のキャビティを少なくとも部分的に充填する工程と、
前記第１の更に硬化した樹脂を前記第２の放射線硬化性樹脂と接触させる工程と、
少なくとも１つの第３区域及び少なくとも１つの第４区域を含む、対応するパターンを有する第２の一部硬化した樹脂をもたらすために、前記第２放射線硬化性樹脂を第２パターン照射に暴露する工程であって、前記少なくとも１つの第３区域が前記第２のパターン照射によって照射され、前記少なくとも１つの第４区域は前記第１のパターン照射によって照射されない工程と、
複合体物品をもたらすために前記第２の一部硬化した樹脂を第２の被覆照射に暴露する工程であって、前記第２の更に硬化した樹脂は前記第１の更に硬化した樹脂に接着し、前記第１の更に硬化した樹脂が前記オーバーレイ要素に接着する、工程と、
前記複合体物品を前記成形ツールから分離する工程とを含む、複合体物品を作製する方法。
[２７]
複合体物品を作製する方法であって、前記方法は、
複数のキャビティを含む微細構造化表面を有する成形ツールを提供する工程と、
前記複数のキャビティを第１放射線硬化性樹脂で部分的に充填する工程と、
少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応するパターンを有する第１の一部硬化した樹脂をもたらすために、前記第１放射線硬化性樹脂をパターン照射に暴露する工程であって、前記少なくとも１つの第１区域が前記第１のパターン照射によって照射され、前記少なくとも１つの第２区域は前記第１のパターン照射によって照射されない工程と、
第１の更に硬化した樹脂をもたらすために前記第１の一部硬化した樹脂を第１の被覆照射に暴露する工程と、
前記複数のキャビティにおいて、第２放射線硬化性樹脂を前記第１の更に硬化した樹脂に接触させる工程と、
オーバーレイ要素を前記第２放射線硬化性樹脂に接触させる工程と、
少なくとも１つの第３区域及び少なくとも１つの第４区域を含む、対応するパターンを有する第２の一部硬化した樹脂をもたらすために、前記第２放射線硬化性樹脂を第２パターン照射に暴露する工程であって、前記少なくとも１つの第３区域が第２のパターン照射によって照射され、前記少なくとも１つの第４区域は第１のパターン照射によって照射されない工程と、
複合体物品をもたらすために前記第２の一部硬化した樹脂を第２の被覆照射に暴露する工程であって、前記第１の更に硬化した樹脂は前記第２の更に硬化した樹脂に接着し、前記第２の更に硬化した樹脂が前記オーバーレイ要素に接着する、工程と、
前記複合体物品を前記成形ツールから分離する工程とを含む、方法。

Claims (3)

1. 物品の製造方法であって、
   複数のキャビティを含む微細構造化表面を有する成形ツールを提供する工程と、
   前記複数のキャビティを第１放射線硬化性樹脂で少なくとも部分的に充填する工程と、
   少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応するパターンを有する一部硬化した樹脂をもたらすために、前記第１放射線硬化性樹脂を第１のパターン照射に暴露する工程であって、前記少なくとも１つの第１区域が前記第１のパターン照射によって照射され、前記少なくとも１つの第２区域は前記第１のパターン照射によって照射されない工程と、
   前記一部硬化した樹脂にわたって、第２放射線硬化性樹脂を適用する工程と、
   微細構造化表面及び前記微細構造化表面内に相異するように硬化されたパターンを有する物品を提供するために、前記少なくとも１つの第１区域及び前記少なくとも１つの第２区域の両方を第２照射に暴露する工程と、
   微細構造化表面及び前記微細構造化表面内に相異するように硬化されたパターンを有する前記物品を前記成形ツールから分離する工程とを含み、
   前記パターン照射が、マスクの透過性区域を通じた照射、ビーム光線の誘導、電子ビームの誘導、又はデジタル画像の投影のうちの少なくとも１つを含む、
   物品の作製方法。
2. 複合体物品を作製する方法であって、前記方法は、
   複数のキャビティを含む第１微細構造化表面を有する第１成形ツールを提供する工程と、
   前記複数のキャビティを、オーバーレイ要素の第１主要表面上に配置された放射線硬化性樹脂で少なくとも部分的に充填する工程と、
   少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応するパターンを有する一部硬化した樹脂に接着された前記オーバーレイ要素を含む、一部硬化した複合体をもたらすために、前記放射線硬化性樹脂を第１のパターン照射に暴露する工程であって、前記少なくとも１つの第１区域が前記第１のパターン照射によって照射され、前記少なくとも１つの第２区域は前記第１のパターン照射によって照射されない工程と、
   前記少なくとも１つの第２区域の硬化性樹脂の少なくとも一部が前記成形ツールに残るように、前記一部硬化した複合物を前記成形ツールから分離し、前記少なくとも１つの第２区域において微細構造を有さない表面を備える、前記分離した一部硬化した複合物をもたらす工程と、
   第１微細構造化表面及び前記第１微細構造化表面内に相異するように硬化されたパターンを有する複合体物品を提供するために、前記成形ツールから分離された前記一部硬化した複合物を第２照射に暴露する工程とを含む、方法。
3. 複合体物品を作製する方法であって、前記方法は、
   複数のキャビティを含む微細構造化表面を有する成形ツールを提供する工程と、
   前記複数のキャビティを、オーバーレイ要素の第１主要表面上に配置された放射線硬化性樹脂で少なくとも部分的に充填する工程と、
   少なくとも１つの第１区域及び少なくとも１つの第２区域を含む、対応するパターンを有する一部硬化した樹脂に接着された、前記オーバーレイ要素を含む一部硬化した複合体をもたらすために、前記放射線硬化性樹脂をパターン照射に暴露する工程であって、前記少なくとも１つの第１区域の前記キャビティー中の前記放射線硬化性樹脂が前記パターン照射によって照射され、前記少なくとも１つの第２区域の前記キャビティー中の前記放射線硬化性樹脂は前記パターン照射によって照射されない工程と
   前記一部硬化した複合体を前記成形ツールから分離する工程と、
   微細構造化表面を有する複合体物品をもたらすために、前記少なくとも１つの第２区域から前記放射線硬化性樹脂を取り除く工程とを含み、
   前記パターン照射が、マスクの透過性区域を通じた照射、ビーム光線の誘導、電子ビームの誘導、又はデジタル画像の投影のうちの少なくとも１つを含む、
   方法。

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