JP2013534725A5 - - Google Patents
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Description
アクチュエータアセンブリ286は、矢印215によって示されるように、シャワーヘッドアセンブリ204に向かうように、またはシャワーヘッドアセンブリ204から離れるように基板支持体214を垂直方向で移動させることができ、また、矢印216によって示されるように、基板支持体214を回転させることができる。下側体積210内で堆積が生じるのを防止する助けとなるように、また排出ガスをMOCVDチャンバ102から排出ポート205に向ける助けにもなるように、チャンバ本体201の内面に巡らせてリング220が配設される。下側ドーム219が、基板支持体214の下に配設される。下側ドーム219は、高純度石英などの透明材料からなり、内側ランプ221Aおよび外側ランプ221Bからの光が、キャリアプレート112の放射加熱のために通過できるようにする。内側ランプ221Aおよび外側ランプ221Bによって提供される放射エネルギーへのMOCVDチャンバ102の露出を制御する助けとなるように反射器266が使用される。
洗浄プレート230は、各乱流誘発構造375a〜375dの間に開口348を含み、これらの開口348は、キャリアプレート112の上面と乱流誘発構造375a〜375dの側壁とによって画定されたポケットを形成する。処理中、各ポケットは、洗浄位置でシャワーヘッドアセンブリに隣接して位置決めされるときに、シャワーヘッドアセンブリ表面の近くで洗浄ガスを含むことができ、それにより、シャワーヘッドアセンブリの近くでの洗浄ガスの滞留時間を延ばす。洗浄プレート230は、洗浄プレート230の底部から延出して、キャリアプレート112の上面に形成された基板キャリアポケット390内に入る足部によって、キャリアプレート112上に維持される。洗浄プレート230は、約3〜約10ミリメートルの範囲内、例えば約7ミリメートルの高さを有する。洗浄プレート230は、約300ミリメートル〜約400ミリメートルの範囲内の直径を有する。しかし、洗浄プレートが使用される処理チャンバのサイズに応じて、洗浄プレートを大きくすることも小さくすることもできると考えられる。洗浄プレート230は、石英から形成されるが、あるいは、処理チャンバに供給される洗浄ガスと実質的に非反応性の炭化ケイ素または別の材料から形成することもできる。
図8Aは、洗浄プレート830Aを示す。洗浄プレート830Aは、基板支持体上に配設されるように適合された底面と、底面と反対側の上面836とを有するプレート状本体を含む。洗浄プレート830Aは、洗浄プレート830Aの上面836の周縁部に巡らせて位置されて、上面836から垂直に延出するリング847を有する。リング847は、洗浄プロセス中に洗浄ガスのためのガス保持リングとして作用するように適合される。ガスじょう乱部または乱流誘発構造875A、例えば稜部または隆起部が、洗浄プレート830Aの上面836に位置される。乱流誘発構造875Aは、洗浄プレート830Aの中心から外方向に放射状に延びる稜部として構成される。洗浄プレート830Aは、石英やサファイアなど透光性材料から形成される。しかし、洗浄プレート830Aが放射エネルギーを直接吸収することができることが望まれるときには、洗浄プレート830Aを、代わりに炭化ケイ素または別の高放射率材料から形成することもできると考えられる。
Claims (15)
- 処理チャンバ内部で洗浄ガスの乱流を誘発するための装置であって、
円形リングと、
前記円形リングの内側に位置決めされた中央ハブと、
前記中央ハブと前記円形リングの間に延在する第1の組の乱流誘発構造とを備え、前記第1の組の乱流誘発構造のうちの1対または複数対の乱流誘発構造の間に開口が画定され、前記乱流誘発構造が透光性材料を有する装置。 - さらに、前記第1の組の乱流誘発構造と前記円形リングの間に延在する第2の組の乱流誘発構造を備える、請求項1に記載の装置。
- 前記第1の組の乱流誘発構造と前記第2の組の乱流誘発構造が、前記円形リングおよび前記中央ハブと同じ平面内に位置される、請求項2に記載の装置。
- 前記第1の組の乱流誘発構造および前記第2の組の乱流誘発構造の少なくとも1つの側壁が前記平面に垂直である、請求項3に記載の装置。
- さらに、
前記中央ハブと前記円形リングの間に延在する第3の組の乱流誘発構造と、
前記第3の組の乱流誘発構造から延出する複数の足部とを備え、前記足部が、丸みの付いた縁部を有し、前記平面に垂直な方向に延出する、
請求項4に記載の装置。 - 前記円形リング、前記中央ハブ、前記第1の組の乱流誘発構造、および前記第2の組の乱流誘発構造が石英を含み、前記円形リングが、洗浄プロセス中にシャワーヘッド表面の近くで処理ガスを維持するように適合される、請求項2に記載の装置。
- 処理チャンバ内部で洗浄ガスの乱流を誘発するための装置であって、
透光性材料からなるプレート状本体と、
前記プレート状本体の上面の周縁部に巡らせて配設された円形リングと、
前記プレート状本体の前記上面に形成された複数の乱流誘発構造と
を備える装置。 - 前記透光性材料が、石英またはサファイアを含み、前記乱流誘発構造が、前記プレート状本体の中心から放射状に延びる複数の稜部を備える、請求項7に記載の装置。
- 前記乱流誘発構造が、前記プレート状本体の前記上面に形成された複数の隆起部を備える、請求項7に記載の装置。
- 前記複数の乱流誘発構造が稜部および隆起部を含む、請求項7に記載の装置。
- 洗浄ガスの乱流を誘発することにより、シャワーヘッドを洗浄する方法であって、
処理チャンバ内部に配設された基板支持体上に洗浄プレートを位置決めするステップであって、前記洗浄プレートが複数の乱流誘発構造を備えるステップと、
前記処理チャンバ内に配設されたシャワーヘッドに隣接させて前記洗浄プレートを位置決めするステップと、
前記シャワーヘッドの表面上に配置された材料堆積物を加熱するステップと、
前記シャワーヘッドの前記表面と前記洗浄プレートの間の位置に洗浄ガスを導入するステップと、
前記洗浄プレートを回転させるステップと、
前記材料堆積物を蒸発させるステップと、
前記蒸発された材料堆積物を前記処理チャンバから排出するステップと
を含む方法。 - 前記材料堆積物が、ガリウム含有材料を含み、前記材料堆積物を加熱するステップが、複数のランプに電力を供給し、前記材料堆積物を照明するステップを含む、請求項11に記載の方法。
- さらに、
前記基板支持体上に前記洗浄プレートを位置決めする前に、前記処理チャンバからキャリアプレートを取り外すステップと、
前記蒸発された材料堆積物を排出する前に、前記基板支持体、および前記基板支持体上に配設された洗浄プレートを下降させるステップと
を含む、請求項11に記載の方法。 - 前記洗浄プレートに複数の開口が形成され、前記洗浄プレートの回転が、前記洗浄プレートと前記シャワーヘッドの間で前記洗浄ガスの乱流を引き起こす、請求項11に記載の方法。
- 前記洗浄プレートが、さらに、前記プレート状本体の周縁部に巡らせて配設された円形リングを備え、前記円形リングが、前記シャワーヘッドの表面の近くで前記洗浄ガスを含むように適合される、請求項14に記載の方法。
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