JP6859814B2 - 光照射装置 - Google Patents

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本発明は、光照射装置に関する。
紫外線等の光を照射して、印刷、または、樹脂もしくは接着剤の硬化等の処理を行う光照射装置において、半導体発光素子等の発光素子を光源に用いたものが知られている。そして、特許文献1には、冷却ディスクで冷却されるガス流がLED加熱デバイスを通ってウェーハに供給され、ウェーハを冷却する装置が開示されている。
特表2016−507763号公報
ここで、発光素子の照射対象物は、発光素子からの光照射にともなって加熱するため、当該照射対象物も冷却する必要がある。しかしながら、上記特許文献1に記載の装置では、照射対象物(ウェーハ)を効率良く冷却することが難しいという問題がある。
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、発光素子の照射対象物を効率良く冷却することができる光照射装置を提供することを目的とする。
本発明の一態様に係る光照射装置は、発光素子が配置される発光素子部と、前記発光素子の照射対象物が通過する通過孔を有するワーク部と、前記通過孔から前記ワーク部内に気体を吸気する吸気機構とを備える。
本発明によれば、発光素子の照射対象物を効率良く冷却することができる光照射装置が提供される。
実施形態に係る光照射装置が照射対象物に光を照射する構成を概念的に示す斜視図である。 図1の光照射装置の構成を概念的に示す斜視図である。 図2の光照射装置の照射器具の構成を概念的に示す斜視図である。 図2の光照射装置において吸気機構が吸気する気体の流れを説明する概念図である。 実施形態の変形例に係る光照射装置の構成を概念的に示す斜視図である。
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態及びその変形例に係る光照射装置について説明する。なお、以下で説明する実施形態及びその変形例は、いずれも包括的または具体的な例を示すものである。以下の実施形態及びその変形例で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態などは一例であり、本発明を限定する主旨ではない。また、以下の実施形態及びその変形例における構成要素のうち、最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。また、以下の各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示したものではない。
本発明者は、上記特許文献1に記載の装置では、照射対象物を冷却するための気体が、LED加熱デバイスを通るものであるため、当該加熱デバイスによって熱せられた気体が照射対象物に供給される点に着目した。このため、本発明者は、照射対象物を冷却するための気体は、LED加熱デバイスを通さないことで、上記懸念を払拭できると考えた。
すなわち、発光素子が配置される発光素子部と、前記発光素子の照射対象物が通過するワーク部とを別に設け、当該ワーク部に照射対象物が通過する通過孔を設け、かつ、前記通過孔から前記ワーク部内に気体を吸気する吸気機構を設けることで、照射対象物を冷却するための気体を、LED加熱デバイスを通ること無しに照射対象物に供給することができるため、当該照射対象物を効率良く冷却することができることを見出した。
このようなことを実現する構成について、以下に具体的に説明する。
まず、本実施形態に係る光照射装置1の全体的な構成について、説明する。図1は、本実施形態に係る光照射装置1が照射対象物2に光を照射する構成を概念的に示す斜視図である。図2は、図1の光照射装置1の構成を概念的に示す斜視図である。なお、説明の便宜のため、図2は、図1と上下を逆にして図示している。
図1に示すように、光照射装置1は、紫外線等の光を照射対象物(ワークともいう)2に照射して、印刷、または、樹脂もしくは接着剤の硬化等の処理を照射対象物2に施す装置である。つまり、光照射装置1は、発光素子が配置される発光素子部10と、発光素子の照射対象物2が通過する通過孔を有するワーク部11とを備える。このワーク部11内を照射対象物2が通過することで、照射対象物2に対して紫外線等の光が照射される。
具体的には、図2に示すように、光照射装置1は、発光素子が配置される発光素子部10と、発光素子部10の光照射方向に着脱可能に配置され、発光素子の照射対象物2が通過する通過孔を有するワーク部11とを備える。また、発光素子部10内には、複数(本実施形態では8つ)の直方体形状の照射器具30とを備えている。また、それぞれの照射器具30は、矩形状の基板31と、放熱機構32と、送風機構33とを有している。
また、発光素子部10には、前記照射器具30が配置される第1空間のY軸方向の両端に、吸気機構20が配置されている。この吸気機構20は各々円形状の第一排気口12が形成されている。さらに、発光素子部10には、複数(8つ)の照射器具30に対応して、複数(8つ)のスリット状の第二排気口13が形成されている。なお、第一排気口12及び第二排気口13の形状は、特に限定されない。
また、この吸気機構20は、ワーク部11の通過孔から(すなわち、光照射装置1の外部から)前記ワーク部11内に気体を吸気する。従って、当該吸気された気体は、照射器具30を通過することはない。
つまり、照射器具30の基板31上には後述の発光素子31a(図3参照)が配置されており、発光素子31aが照射対象物2に向けて光を発することで照射対象物2が発熱する。一方、吸気機構20によって、照射器具30を通過することなく、ワーク部11の通過孔から(すなわち、光照射装置1の外部から)前記ワーク部11内に気体が吸気され照射対象物2が冷却される。照射対象物2を冷却することで熱せられた気体は、第一排気口12から排気される。また、送風機構33によって、気体(空気(外気))が放熱機構32に吸気されて放熱機構32を冷却し、放熱機構32を冷却することで熱せられた気体は、第二排気口13から排気される。以下、これらの構成について、詳細に説明する。
なお、図2以降の図面中及びその説明において、光照射装置1の奥行方向(短手方向)、照射対象物2の送り方向、発光素子31aと配線31bとコネクタ31cとの並び方向、放熱機構32及び送風機構33の並び方向、吸気機構20が気体を排気する方向、または、送風機構33が気体を送風する方向を、X軸方向と定義する。また、光照射装置1の幅方向(長手方向)、照射器具30の配列方向、または、吸気機構20の並び方向を、Y軸方向と定義する。また、光照射装置1の高さ方向、基板31及び放熱機構32の並び方向、発光素子31aの光照射方向、または、上下方向を、Z軸方向と定義する。これらX軸方向、Y軸方向及びZ軸方向は、互いに交差(本実施形態では直交)する方向である。なお、使用態様によってはZ軸方向が上下方向にならない場合も考えられるが、以下では説明の便宜のため、Z軸方向を上下方向として説明する。また、以下の説明において、例えば、X軸方向プラス側とは、X軸の矢印方向側を示し、X軸方向マイナス側とは、X軸方向プラス側とは反対側を示す。Y軸方向やZ軸方向についても同様である。
次に、照射器具30の構成について、詳細に説明する。図3は、図2の光照射装置1の照射器具30の構成を概念的に示す斜視図である。
図3に示すように、照射器具30において、基板31の表面側(Z軸方向プラス側)には、複数の発光素子31aと、当該複数の発光素子31aの周辺に設けられ当該複数の発光素子31aに接続された複数の配線31bと、当該複数の配線31bに接続されたコネクタ31cとが設けられている。本実施形態では、基板31は、X軸方向に長尺の3枚の基板がY軸方向に配列されて構成されており、それぞれの基板について、複数の発光素子31aが配置され、かつ、複数の発光素子31aのX軸方向両側に、複数の配線31b及びコネクタ31cが配置されている。
また、本実施形態では、発光素子31aは、紫外線を照射する半導体発光素子(UV−LED(Ultraviolet−Light Emitting Diode))である。なお、発光素子31aの形状及び個数は特に限定されないが、複数の発光素子31aで矩形状の発光領域を形成している。また、配線31bの材質は特に限定されないが、例えば、白金、銅、アルミニウム等の素材で形成されている。また、コネクタ31cには、外部配線が接続されるが、当該外部配線の図示は省略する。
また、基板31の裏面側(Z軸方向マイナス側)には、放熱機構32と、放熱機構32に対して基板31の裏面側の側方から気体(外気)を送風する送風機構33とが設けられている。
放熱機構32は、放熱機能を有するヒートシンク32aと、ヒートシンク32aの両側方(Y軸方向両側)に配置されて気体の流路を仕切る仕切板32bと、ヒートシンク32aの底面側(Z軸方向マイナス側)に配置される底板32cとを有している。ヒートシンク32aは、ヒートパイプやフィン(ともに図示せず)等を有しており、基板31上の発光素子31aが発した熱を放熱する。また、仕切板32bは、気体の流路において、基板31と直交し、かつ、気体の流れ方向(X軸方向)に平行に配置された板状部材である。底板32cは、気体の流路において、基板31と平行、かつ、気体の流れ方向(X軸方向)に平行に配置された板状部材である。
送風機構33は、X軸方向に向けて気体を送風するファンであり、放熱機構32のX軸方向マイナス側に、Z軸方向に並んだ2つの送風機構33が設けられている。つまり、送風機構33は、放熱機構32(ヒートシンク32a)のX軸方向マイナス側から気体(外気)を吸気し、放熱機構32のX軸方向プラス側から気体を排気する。また、放熱機構32から排気された気体は、第二排気口13から光照射装置1の外方に排気される。
次に、吸気機構20が吸気する気体の流れについて、詳細に説明する。図4は、図2の光照射装置1において吸気機構20が吸気する気体の流れを説明する概念図である。
吸気機構20は、ワーク部11の照射対象物2が通過する通過孔から前記ワーク部11内に気体を吸気するファンであり、発光素子部10のX軸方向プラス側かつY軸方向両側に、ワーク部11を挟んで2つの吸気機構20が設けられている。つまり、発光素子部10のX軸方向プラス側の壁面のY軸方向両端に第一排気口12が形成されており、それぞれの第一排気口12内に吸気機構20が配置されている。ここで、ワーク部11の通過孔11aは、ワーク部11のX軸方向両側の壁面に形成されている。
また、ワーク部11は、上述の通り、発光素子31aの光照射側(Z軸方向プラス側)に配置され、発光素子31aの照射対象物である照射対象物2が通過する空間である。
具体的には、図4に示すように、吸気機構20は、ワーク部11に形成された通過孔11aから気体(外気)を吸気し、第一排気口12から気体を排気する。
さらに具体的には、吸気機構20は、ワーク部11のX軸方向プラス側の通過孔11aから、X軸方向マイナス側に気体を吸気するとともに(図4の気体の流れA1)、ワーク部11のX軸方向マイナス側の通過孔11aから、X軸方向プラス側に気体を吸気する(図4の気体の流れA2)。これにより、吸気機構20は、気体をワーク部11内に流入させる。
そして、吸気機構20は、当該気体にワーク部11の上方を通過させて、第一排気口12に向かわせる(図4の気体の流れA3)。そして、吸気機構20は、第一排気口12から当該気体を排気する(図4の気体の流れA4)。
これにより、吸気機構20は、照射器具30を通過することなく、照射対象物2に気体を送風することができる。
このように、吸気機構20によって、気体(外気)を、照射器具30を通過させずに照射対象物2に送風されるため、照射対象物2を効率良く冷却することができる。また、照射器具30(放熱機構32)を通過した熱せられた気体を冷却する冷却部等も不要となるため、光照射装置1としての煩雑化も抑制することができる。
また、本実施形態では、照射器具30の基板31上にカバー部材40が配置されており、照射器具30が配置される空間は、カバー部材40によってワーク部11の空間と区画されている。このため、吸気機構20によってワーク部11に流入した気体は、照射器具30が配置される空間と区画された流路を流れるため、当該気体が照射器具30が配置される空間を通過するのをさらに防止することができる構成となっている。
また、前記発光素子部10は、発光素子31a(照射器具30)が配置される第1空間と、前記第1空間と空間的に分離する第2空間とを有し、前記第2空間は前記ワーク部11内と空間的に連結され、吸気機構20は前記第2空間に配置されている。
ここでいう第1空間とは、発光素子31a(照射器具30)が配置される空間であり、具体的には、図4に示すY軸方向に延びる矩形状の空間である。また、第2空間とは前記第1空間とは空間的に分離された(不図示)、前記第1空間のY軸方向の両端に配置された矩形状の空間である。
このような空間配置とすることで、ワーク部11内に吸気し、照射対象物2を冷却した気体を発光素子31a(照射器具30)が配置される第1空間内に入りにくくすることができるため、発光素子31a(照射器具30)の冷却効果の低減を抑制することができる。
また、吸気機構20を発光素子部10に設けた第2空間に配置することで、ワーク部11内(詳しくは、ワーク部11のY軸方向の両端)には別の装置(例えば、ワーク部11内を通過する照射対象物2を位置決め又は通過補助をする搬送装置)を配置することができるため、光照射装置として汎用性を向上させることができる。
前記第1空間と前記ワーク部11内とは空間的に分離されていることが好ましい。
前記第1空間と前記ワーク部11内との空間的な分離は、周知の方法(例えば、第1空間を外装体で覆う等)ですることができる。
このような構成とすることで、より確実に、ワーク部11内に吸気し、照射対象物2を冷却した気体を発光素子31a(照射器具30)が配置される第1空間内に入りにくくすることができるため、発光素子31a(照射器具30)の冷却効果の低減を抑制することができる。
なお、上記の通り、本実施形態では、発光素子31aは、紫外線を照射する半導体発光素子(UV−LED素子)であるが、UV−LED素子は、発熱しやすい。そのため、上述の照射対象物2を効率良く冷却することによる効果は大きい。つまり、照射対象物2は、当該UV−LED素子からの発熱の影響を受けやすいが、本願によって照射対象物2を効率良く冷却することで、照射対象物2を当該発熱から保護することができる。
また、上述の通り、吸気機構20は、前記照射器具30が配置される第1空間のY軸方向の両端に、吸気機構20が配置されているため、気体をワーク部11に、バランス良く吸気及び排気することができる。これにより、気体がワーク部11内をバランス良く流れることができるため、照射対象物2をさらに効率良く冷却することができる。また、吸気機構20が2つになることで、吸気する気体の流量及び流速も大きくすることができる。
また、第一排気口12は、通過孔11aと異なる高さ(Z軸方向において異なる位置)に配置されている。つまり、吸気機構20は、発光素子31aの光照射方向(Z軸方向)において、通過孔11aと異なる位置に配置された第一排気口12から、気体を排気する。
これにより、吸気機構20によって第一排気口12から排気された気体(熱せられた空気)が、通過孔11aから再度吸気されるのを抑制することができ、ワーク部11に熱せられた空気が流入するのを抑制することができる。このため、照射対象物2の冷却効率が低下するのを抑制することができる。
なお、本実施形態において、図1に示すように光照射装置1を配置することで、第一排気口12は、通過孔11aよりも高い位置に配置される。このため、吸気機構20によって、通過孔11aよりも高い位置の第一排気口12から気体を排気することで、熱せられた気体は第一排気口12を出た後上昇するため、当該熱せられた気体が通過孔11aから吸気されるのをさらに抑制することができる。
また、第一排気口12及び吸気機構20は、図4等に示した位置に配置されることには限定されない。図5は、本実施形態の変形例に係る光照射装置1aの構成を概念的に示す斜視図である。具体的には、図5は、図4に対応する図であり、光照射装置1aにおける第一排気口12a及び吸気機構20aの配置位置、並びに、吸気機構20aが送風する気体の流れを示している。
図5に示すように、発光素子部10のY軸方向マイナス側の壁面に第一排気口12aが形成されており、第一排気口12a内に吸気機構20aが配置されている。ここで、ワーク部11の通過孔11aは、発光素子部10のX軸方向両側の壁面に形成されているため、第一排気口12aは、通過孔11aが形成されている側とは異なる側に配置されている。このため、吸気機構20aは、通過孔11aが形成されている側とは異なる側に配置された第一排気口12aから、気体を排気する。
これにより、吸気機構20aは、ワーク部11のX軸方向両側の通過孔11aから気体を吸気して(図5の気体の流れA1及びA2)、当該気体をワーク部11に流入させる。そして、吸気機構20aは、当該気体に発光素子部10の上方を通過させて第一排気口12aに向かわせ(図5の気体の流れA3)、第一排気口12aから当該気体を排気する(図5の気体の流れA5)。
なお、発光素子部10のY軸方向プラス側の壁面にも第一排気口12aが形成され、当該第一排気口12a内にも吸気機構20aが配置されており、上述と同様の流れで気体を送風する。
このように、吸気機構20aによって、通過孔11aと異なる側の第一排気口12aから気体を排気することで、第一排気口12aから排気された気体(熱せられた空気)が通過孔11aから再度吸気されるのをより抑制することができる。このため、ワーク部11に熱せられた空気が流入するのを抑制することができ、照射対象物2の冷却効率が低下するのをより抑制することができる。
なお、上記実施形態及びその変形例において、吸気機構20、20aは、ファンには限定されず、気体を吸気できるものであればどのような構造を有していてもよい。
また、吸気機構20、20aは、発光素子部10のX軸方向プラス側またはY軸方向両側の壁面のZ軸方向マイナス側の位置など、当該壁面のどの位置に配置されていてもよい。また、吸気機構20、20aは、発光素子部10のX軸方向マイナス側の壁面、底壁面(Z軸方向マイナス側の壁面)、または、上壁面(Z軸方向プラス側の壁面)に配置されていてもよい。
また、吸気機構20、20aは、3つ以上配置されていてもよいし、ワーク部11の両側ではなく片側のみに配置されていてもよい。また、吸気機構20、20aは、ワーク部11のX軸方向両側の通過孔11aのうちのいずれか一方の通過孔11aから気体を吸気して、ワーク部11に流入させる(図4または図5の気体の流れA1及びA2のうちのいずれか一方の流れ)ことにしてもよい。
上記実施形態及びその変形例では、第一排気口12、12aは、通過孔11aと異なる高さに配置されていることとしたが、第一排気口12、12aは、通過孔11aと同じ高さに配置されていてもよい。特に、図5に示した第一排気口12aであれば、通過孔11aと同じ高さに配置されていても、第一排気口12aから排気された気体が通過孔11aから吸気されるのを抑制することができる。
また、上記実施形態及びその変形例では、発光素子31aは、紫外線を照射する半導体発光素子(UV−LED)であることとしたが、発光素子31aが照射する光は、紫外線でなくてもよく、他の波長の光、例えば可視光線等であることにしてもよい。また、発光素子31aは、光を照射して発熱する光源であれば、半導体発光素子(LED)でなくてもかまわない。
また、上記実施形態及びその変形例では、光照射装置1、1aは、直方体形状の発光素子部10と、円形状の吸気機構20または20aと、直方体形状の照射器具30とを備えていることとした。しかし、発光素子部10、吸気機構20または20a、及び、照射器具30は、どのような形状であってもよい。
1、1a 光照射装置
2 照射対象物
10 発光素子部
11 ワーク部
11a 通過孔
12、12a 第一排気口
13 第二排気口
20、20a 吸気機構
30 照射器具
31 基板
31a 発光素子
31b 配線
31c コネクタ
32 放熱機構
32a ヒートシンク
32b 仕切板
32c 底板
33 送風機構
40 カバー部材

Claims (3)

  1. 発光素子が配置される発光素子部と、
    前記発光素子の照射対象物が通過する通過孔を有するワーク部と、
    前記通過孔から前記ワーク部内に気体を吸気する吸気機構と、を備え、
    前記発光素子部は、前記ワーク部内における前記照射対象物が通過する空間であるワーク部内空間と空間的に分離された状態で配置され、前記発光素子が配置される第1空間を有し、
    前記吸気機構は、前記気体を、前記第1空間を通過させることなく前記ワーク部内空間を通過させて、前記ワーク部内空間に配置される前記照射対象物を冷却する
    照射装置。
  2. 前記発光素子部は、前記第1空間と、前記第1空間と空間的に分離する第2空間とを有し、前記第2空間は前記ワーク部内空間と空間的に連結され、前記吸気機構は前記第2空間に配置されている
    請求項1に記載の光照射装置。
  3. 前記ワーク部を挟んで複数の前記吸気機構が設けられている
    請求項1又は2に記載の光照射装置。
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