TWI713888B

TWI713888B - 冷卻液處理系統

Info

Publication number: TWI713888B
Application number: TW107130241A
Authority: TW
Inventors: 西澤信也
Original assignee: 日商住友重機械精科技股份有限公司
Priority date: 2017-09-14
Filing date: 2018-08-30
Publication date: 2020-12-21
Also published as: TW201914753A; JP7519740B2; EP3683013A1; KR20200053478A; JPWO2019054018A1; WO2019054018A1; US20200179842A1; JP2023036702A; CN111050995A; EP3683013A4

Abstract

本發明的課題係在具備用於過濾包含污泥之冷卻液的過濾裝置之冷卻液處理裝置中，快速檢測由過濾器的損傷等引起之污泥洩漏，並抑制污泥混入到在過濾裝置中被處理之處理液中。為了解決上述課題而提供一種冷卻液處理系統，其特徵為，具備：過濾裝置，用於過濾包含污泥之冷卻液；及檢測機構，檢測在前述過濾裝置中被過濾之處理液中的粒子。依該冷卻液處理系統，在過濾裝置的後段具備檢測處理液中的粒子之檢測機構，因此能夠快速注意到污泥從過濾器洩漏。而且，在檢測出污泥洩漏之情況下，藉由立刻停止過濾裝置等的應對，就能夠抑制污泥混入到處理液中。

Description

冷卻液處理系統

本發明係有關一種冷卻液處理系統，其過濾包含污泥之冷卻液，以用於從冷卻液中去除污泥。

關於被供給到機床之冷卻液，在加工中產生之切削粉等雜質作為污泥混入到冷卻液中。已知有一種冷卻液處理系統，其為了再利用冷卻液，藉由過濾而捕捉冷卻液中的污泥，並淨化冷卻液。過濾裝置具備具有比規定的污泥的粒徑小的網眼之過濾器，以免規定的粒徑以上的污泥通過。藉由使冷卻液透過該過濾器而捕捉污泥。若長時間使用過濾裝置，則污泥逐漸積累於過濾器的上游，使過濾器堵塞。若過濾器堵塞，則需藉由過濾器清洗機構來清洗過濾器。　　在專利文獻1中，對於過濾器清洗機構係公開了具備逆洗機構之冷卻劑過濾裝置。逆洗機構係利用藉由使壓縮氣體相對於過濾器向與通常的冷卻液的流動相反的方向流動而剝離附著於過濾器周圍之切削粉等污泥之機構。又，在該冷卻劑過濾裝置中，作為檢測過濾器的堵塞狀態之機構而設置有壓力開關。構成為如下：若藉由壓力開關檢測過濾器處於堵塞狀態，則藉由過濾器清洗機構來清洗過濾器。　　而且，該冷卻劑過濾裝置具備用於儲存在過濾裝置中被處理之處理液的處理槽，在該處理槽中測定直至該處理液成為規定量為止進行補充所需補充時間。而且，在該測定時間成為預先設定之設定時間以上時通報異常。藉此，在該冷卻劑過濾裝置中，能夠提前通知過濾器的更換時間、儲存包含污泥之冷卻液之被處理液槽的清掃時間。 (先前技術文獻) (專利文獻) 　　專利文獻1：日本特開2004-66425號公報

(本發明所欲解決之課題) 　　習知之冷卻液處理系統係藉由檢測壓差的上升或過濾處理量的降低而通報過濾器的清洗或更換的時間者。然而，在產生了污泥因過濾器的損傷等而向處理液側洩漏之異常之情況下，不會產生壓差的上升或過濾處理量的降低，因此在習知之冷卻液處理系統中無法檢測污泥從過濾器向處理液側洩漏之異常。　　於是，本發明的課題係在具備用於過濾包含污泥之冷卻液的過濾裝置之冷卻液處理系統中，快速檢測由過濾器的損傷等引起之污泥洩漏，並抑制污泥混入到在過濾裝置中被處理之處理液中。 (用以解決課題之手段) 　　對於上述課題進行了深入研究之結果，本發明人發現藉由檢測在過濾處理裝置中被處理之處理液中的粒子就能夠快速檢測由過濾器的損傷等引起之污泥洩漏，而完成了本發明。　　亦即，本發明為以下的冷卻液處理系統。　　用於解決上述課題的本發明的冷卻液處理系統，其特徵為，具備：過濾裝置，用於過濾包含污泥之冷卻液；及檢測機構，檢測在前述過濾裝置中被過濾之處理液中的粒子。　　依該冷卻液處理系統，在過濾裝置的後段具備檢測處理液中的粒子之檢測機構，因此能夠快速注意到污泥從過濾器洩漏。然後，在檢測出污泥洩漏之情況下，藉由立即停止過濾處理裝置等的應對，就能夠抑制污泥混入到處理液中。　　本發明的冷卻液處理系統的一實施態樣，其特徵為，還具備儲存處理液之處理液槽，檢測機構設置於過濾裝置與前述處理液槽之間。　　依該特徵，能夠快速檢測由過濾器的損傷等引起之污泥洩漏，因此能夠進而發揮本發明的效果，亦即，抑制污泥混入到處理液中。　　又，若將檢測機構設置於處理液槽中，則從過濾器洩漏之污泥在處理液槽中的處理液中稀釋，因此存在檢測機構的感度降低之問題。然而，藉由在過濾裝置與處理液槽之間設置檢測機構，從過濾器洩漏之污泥在處理液槽中稀釋之前被檢測，因此能夠提高檢測機構的感度。　　本發明的冷卻液處理系統的一實施態樣，其特徵為，檢測機構係使用光檢測粒子之光學檢測機構。　　光學檢測機構不僅能夠以高感度檢測處理液中的污泥，而且亦能夠測定污泥的粒徑或粒子的數量，因此能夠以高精度檢測污泥洩漏。藉此，作為檢測機構而使用光學檢測機構，藉此例如在檢測出比所設定之粒徑大的粒子之情況下，或者在檢測出比所設定之粒子的數量多的粒子之情況下，能夠進行停止運行等高度的控制。 (發明之效果) 　　依本發明，在具備用於過濾包含污泥之冷卻液的過濾裝置之冷卻液處理系統中，能夠快速檢測由過濾器的損傷等引起之污泥洩漏，並能夠抑制污泥混入到在過濾裝置中被處理之處理液中。

冷卻液為在切削或研磨等加工機械中使用之潤滑油、水等，亦可以是水性液體及油性液體中的任一種。若將冷卻液使用於切削機、研磨機、磨床等加工機械中，則因切削或研磨等加工而生成之切削粉等粒子作為污泥混入到使用過的冷卻液中。本發明的冷卻液處理系統係用於從含有切削粉等污泥之冷卻液中去除污泥的系統。尤其，本發明的冷卻液處理系統係具備用於過濾包含污泥之冷卻液的過濾裝置之冷卻液處理系統，其特徵為，具備檢測在過濾裝置中被過濾之處理液中的粒子之檢測機構。　　以下，參考圖式詳細地說明本發明的實施形態。 [第一實施態樣] [冷卻液處理系統] 　　圖1表示本發明的第一實施態樣的冷卻液處理系統1A及機床100的整體結構。另外，機床100係使用冷卻液之磨床或切削機等加工機械，其係產生各種大小的切削粉等粒子者。　　本發明的冷卻液處理系統1A具備：過濾裝置2，用於過濾包含污泥之冷卻液；及檢測機構3，檢測在過濾裝置2中被過濾之處理液中所包含之粒子。而且，包含從機床100排出之污泥之冷卻液在過濾裝置2中被去除規定大小的粒子，從而作為已浄化之冷卻液再次使用於機床100中。＜過濾裝置＞　　過濾裝置2係用於過濾包含從機床100排出之污泥之冷卻液的裝置，其具備過濾器。過濾器的篩孔依據包含於冷卻液中之污泥的粒徑適當地設計，例如為1～30μm，更佳為5～20μm。藉由將過濾器的篩孔設為1μm以上，能夠充份地確保過濾處理量。另一方面，藉由將過濾器的篩孔設為30μm以下，冷卻液被充份地淨化，能夠防止機床100中之不良現象。　　過濾器的材質並無特別限制，例如可舉出聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚四氟乙烯(PTFE)、醋酸纖維素(CA)、聚丙烯腈(PAN)、聚醚碸(PES)、聚醯亞胺(PI)、聚碸(PS)等有機膜，氧化鋁(氧化鋁AL₂ 0₃ )、氧化鋯(二氧化鋯Zr0₂ )、氧化鈦(二氧化鈦Ti0₂ )、不銹鋼(SUS)、玻璃(SPG)等無機膜等。　　過濾器的形狀可以係任意的形狀，例如可舉出板狀、圓筒狀。過濾方式，例如有過濾冷卻液的總量之總量過濾方式、一邊使冷卻液相對於膜面平行地流動，一邊進行過濾之交叉流動方式等。過濾方式並無特別限制，能夠考慮冷卻液的供給泵的電力成本或污泥對膜面的堆積狀態等而適當地進行選擇。　　在過濾裝置2中較佳為設置過濾器清洗裝置。過濾器清洗裝置並無特別限制，例如可舉出逆洗裝置、鏟取裝置等。逆洗裝置係指藉由使流體向與過濾流動方向相反的方向流動而剝除堆積在過濾器表面之污泥之裝置。又，鏟取裝置係指藉由使鏟取構件等在過濾器表面摺動，或者將高壓氣體噴吹到過濾器表面而鏟取堆積在過濾器表面之污泥之裝置。依據清洗性能優異之觀點，較佳為使用逆洗裝置。又，在逆洗裝置中使用之流體並無特別限制，例如能夠使用空氣或被過濾處理之處理液等。在使用空氣之情況下，有透過過濾器之速度快且作業性優異之效果。　　又，在過濾裝置2中，為了確定清洗過濾器之時間，較佳為設置檢測過濾器的堵塞狀態之機構。作為檢測過濾器的堵塞狀態之機構，例如可舉出測定過濾器前後的壓差之壓力開關等。藉由使用壓力開關，若壓差上升到規定值，則判斷為堵塞狀態，從而能夠使清洗裝置自動工作。　　此外，在過濾裝置2中，為了確定過濾器的更換時間，亦可設置檢測過濾器的性能之機構。作為檢測過濾器的性能之機構，例如可舉出檢測過濾處理量之機構等。若過濾處理量降低至規定值，則能夠判斷為過濾器的性能降低而確定過濾器的更換時間。＜檢測機構＞　　檢測機構3構成為用於檢測在過濾裝置2中被過濾之處理液中的粒子。檢測機構3，若能夠檢測處理液中的粒子，則並無特別限制，例如可舉出使用光來檢測粒子之光學檢測機構、藉由磁鐵或過濾器等捕捉粒子進行檢測之捕捉檢測機構等。　　光學檢測機構對通過流路之處理液照射光，並藉由檢測該散射光、透射光、吸收光及反射光等而檢測處理液中的粒子的大小或粒子的數量等。光的波長並無特別限制，若為能夠檢測粒子之波長，則可用任一波長來進行檢測。依據減小處理液的色度中之光吸收影響之觀點，較佳為使用650nm以上的波長的光。　　光學檢測機構，較佳為使處理液通過藉由微小流路形成之測定部，並使用雷射光進行測定。另外，微小流路係指從幾乎所有冷卻液所通過之主流路一部分分支之流路。冷卻液在循環期間經過各種製程，因此在液體中包含氣泡。若提高光學檢測機構的感度，則將冷卻液中的氣泡作為噪聲而容易檢測。因此，較佳為加壓測定部以去除影響測定之氣泡。若藉由微小流路形成測定部，則能夠用小型的給油器等簡單之裝置來加壓測定部。　　為了加壓微小流路且以穩定之流速將冷卻液供給到微小流路，較佳為在光學檢測機構的前段設置給油器。作為給油器的功能，較佳為能夠調整為0.2MPa以上的壓力。藉由將供給壓力調整為0.2MPa以上，能夠去除影響測定之氣泡，並實現穩定之測定。又，藉由將供給壓力調整為0.2MPa以上，在微小流路中流入了預料之外的大小的粒子之情況下，可發揮以高壓力按壓粒子之作用，亦可發揮防止粒子堵塞微小流路之效果。　　光學檢測機構的具體例，例如使處理液以被控制成恆定之流速通過測定部，並對處理液照射波長為680nm的雷射光。被照射之雷射光透射測定部，並藉由光電二極體等光檢測器而被檢測。若粒子混入到處理液中，則屏蔽雷射光，因此在光檢測器中被檢測出陰影。在光檢測器中，依據粒子陰影的大小進行光電轉換，將依據因被屏蔽之光電量而產生之電壓降低量所導出之面積換算成圓，能夠將該直徑作為污染的大小進行處理。如此，光學檢測機構能夠以高感度檢測處理液中的粒子的粒徑或粒子數等。　　接著，依據由光學檢測機構檢測出之處理液中的粒子的粒徑或粒子數，判斷有無過濾裝置2中之污泥洩漏。作為污泥洩漏的判斷，例如在檢測出比所設定之粒徑大的粒子之情況下，或者在檢測出比所設定之粒子的數量多的粒子之情況下，判斷為產生了污泥洩漏，進行停止過濾處理2的運行等控制。關於該種控制，例如藉由計算機等控制部而進行控制，或者藉由警報而向操作者通報污泥洩漏，譲操作者停止過濾裝置2的運行即可。　　捕捉檢測機構係藉由磁鐵或過濾器等用於捕捉粒子的捕捉機構來捕捉粒子並進行檢測者。作為檢測粒子的捕捉狀態之方法，例如可舉出在流路上設置監視窗並監視捕捉機構的狀態之方法、以及定期進行分解並觀察捕捉機構的狀態之方法等。捕捉檢測機構能夠不使用價格昂貴的光學檢測機構而簡便地判定有無洩漏。 [第二實施態樣] 　　圖2中示出本發明的第二實施態樣的冷卻液處理系統1B及機床100的構造。　　第二實施態樣的冷卻液處理系統1B中具備：處理液槽4，用於儲存在過濾裝置2中被過濾之處理液；及被處理液槽5，儲存包含從機床100排出之污泥之冷卻液。又，在過濾裝置2與處理液槽4之間的流路L2上，作為檢測機構而設置有光學檢測機構3A。　　冷卻液從處理液槽4藉由設置在流路L4上之泵P1而供給到機床100。包含使用於機床100中之污泥之冷卻液經由流路L5、預處理裝置6及流路L6而回收到被處理液槽5。藉由具備處理液槽4，在污泥從過濾裝置2洩漏時，由於污泥殘留在處理液槽4中，因此能夠防止大的粒子等立即流入到機床100。　　包含回收到被處理液槽5中之污泥之冷卻液藉由設置在流路L3上之泵P2而被抽吸並供給到過濾裝置2。在過濾裝置2中被處理之處理液經由流路L1而供給到處理液槽4。處理液的一部分經由分支之流路L2(微小流路)而供給到處理液槽4。在流路L2上設置有光學檢測機構3A，藉由光學檢測機構3A來檢測粒子是否混入到在過濾裝置中被處理之處理液中。藉由設置從流路L1(主流路)分支之流路L2(微小流路)，能夠用簡單之給油器31來加壓處理液。而且，藉由加壓處理液，能夠去除影響測定之氣泡，並能夠提高光學檢測機構3A中之測定的精度或感度。　　藉由將光學檢測機構3A設置於過濾裝置2與處理液槽4之間的流路L2上，在處理液供給到處理液槽4之前能夠檢測處理液中的粒子。藉此，能夠更快速檢測由過濾器的損傷等引起之污泥洩漏，因此能夠進而發揮本發明的效果，亦即，抑制污泥混入被供給到處理液槽4之處理液中。　　又，若將光學檢測機構3A設置於處理液槽4、流路L4等在過濾裝置2中剛被處理後的處理液與其他處理液合流後的位置，則由於從過濾器洩漏之污泥在處理液槽4中的處理液中稀釋，因此存在光學檢測機構3A的感度降低之問題。藉此，藉由將光學檢測機構3A設置於過濾裝置2與處理液槽4之間的流路L2上，使從過濾器洩漏之污泥在處理液槽4中稀釋之前被檢測，因此亦有提高光學檢測機構3A的感度之效果。　　另外，光學檢測機構3A可設置於從過濾裝置2至機床100之間的任一位置，例如亦可將光學檢測機構3A設置於處理液槽4及流路L4等。　　又，在第二實施態樣的冷卻液處理系統1B中，處理液槽4和被處理液槽5藉由在一個處理槽中設置隔墻7而形成。進而，在隔墻7的上部形成有開口8，處理液槽4和被處理液槽5在上部空間連通。另外，處理液槽4和被處理液槽5可在單獨的槽中形成，該情況下，藉由配管等連通處理液槽4和被處理液槽5的上部空間即可。藉由連通處理液槽4和被處理液槽5的上部空間，處理液槽4的處理液能夠作為溢流流入到被處理液槽5中，因此能夠將在過濾裝置2中被處理之處理量設定為大於供給到機床100之處理液的量。　　在過濾裝置2中被處理之處理量較佳為設定成大於供給到機床100之處理液的量。例如從被處理液槽5經由流路L3而供給到過濾裝置2之被處理液的流量相對於從處理液槽4經由流路L4而供給到機床100之處理液的流量之比(被處理液的流量/處理液的流量)為1以上，較佳為1.2以上，更佳為1.4以上。藉此，能夠防止因處理液槽4的液位降低而停止對機床100供給冷卻液之問題。　　又，在第二實施態樣的冷卻液處理系統1B中具備預處理裝置6，該預處理裝置6用於從包含自機床100排出之污泥之冷卻液中去除污泥。藉由預處理裝置6而能夠減小過濾裝置2的負載，因此能夠減小更換過濾器等作業的頻率。　　預處理裝置6若是用於去除污泥的裝置，則可以是任何裝置。例如可舉出藉由磁力來附著污泥而去除之磁分離器、刮取沉降到儲存槽底部之污泥而去除之污泥輸送機、藉由離心力來分離並去除污泥之旋風分離機等。另外，預處理裝置6可組合該等複數個裝置而使用。 [第三實施態樣] 　　圖3中示出本發明的第三實施態樣的冷卻液處理系統1C及磨床101的構造。　　在本發明的第三實施態樣的冷卻液處理系統1C中，在處理液槽4中設置有液體溫度調整機H2及液位計S4。　　液體溫度調整機H2為用於降低在磨床101中吸收了熱之冷卻液的溫度的裝置。　　又，液位計S4係用於在處理液槽4的液位降低時檢測異常並進行監視，以免停止對磨床101供給冷卻液之裝置。　　又，在本發明的第三實施態樣的冷卻液處理系統1C中，作為預處理裝置而具備污泥輸送機61及磁分離器62。藉此，能夠減小過濾裝置的負載。另外，在污泥輸送機61中設置有液位計S2，檢測冷卻液量降低等異常，泵P7設置成始終能夠抽吸冷卻液。　　又，在本發明的第三實施態樣的冷卻液處理系統1C中，被處理液槽5的內部具備被處理液罐51。被處理液罐51由比被處理液槽5底面面積小且容量小的罐構成。又，被處理液罐51在被處理液槽5的低位經由浮動式回止閥52而連通。浮動式回止閥52構成為在浮子浮起之狀態下成為關閉狀態，藉由浮子下降，冷卻液從被處理液槽5流入到被處理液罐51。亦即，若藉由泵P5和/或泵P6來抽吸被處理液罐51內的包含污泥之冷卻液，則被處理液罐51內的水面降低，若被處理液罐51的液位降低至規定高度以下，則浮子追蹤液位而下降，冷卻液從被處理液槽5流入到被處理液罐51。另外，在被處理液罐51中設置有液位計S3，若運行異常，則能夠立刻進行檢測。　　接著，對被處理液罐51的作用效果進行說明。如前述第二實施態樣，在將包含污泥之冷卻液回收到被處理液槽5之情況下，存在污泥堆積在流路L6的出口附近的底部之問題。其原因在於，被處理液槽5需要確保規定大小，以能夠始終將冷卻液供給到過濾裝置，但藉此被處理液槽5的容量變大，無法用泵來抽吸堆積在被處理液槽5內之污泥。　　另一方面，若設為如第三實施態樣，則由於被處理液罐51的底面面積比被處理液槽5小，因此污泥的堆積區域受到限定。又，由於容量小，因此在被處理液罐51的整個內部產生強大的流動，從而污泥向泵P5和/或泵P6的方向被輸送。因此，回收到被處理液罐51中之污泥不會堆積在被處理液罐51的底部，而藉由泵P5和/或泵P6被抽吸，並能夠供給到過濾裝置2A和/或過濾裝置2B。　　又，在本發明的第三實施態樣的冷卻液處理系統1C中，兩個過濾裝置2A及2B並列設置。進而，在各過濾裝置2A及2B中設置有檢測過濾器的堵塞之壓力開關SW、藉由從空氣壓縮機AC供給之壓縮空氣來清洗過濾器之逆洗裝置。過濾裝置2A及2B被控制成在一個過濾裝置運行期間，另一個過濾裝置的運行停止，並進行過濾裝置的清洗。藉由過濾器清洗而回收之污泥經由流路L20和/或流路L21而供給到污泥輸送機61，並排出到系統外部。　　如第三實施態樣，本發明的冷卻液處理系統較佳為並列設置複數個過濾裝置。藉由並列設置複數個過濾裝置，在檢測機構中的處理液側檢測出污泥洩漏時，能夠用正常之過濾裝置持續進行運行，且能夠僅停止檢測出污泥洩漏之過濾裝置。因此，在產生了污泥洩漏之情況下，不需要停止機床100或冷卻液處理系統整體，能夠快速停止對檢測出污泥洩漏之過濾裝置的冷卻液的供給。　　又，在清洗過濾器或更換過濾器時，亦能夠不停止運行而實施清洗操作或更換操作。　　藉由過濾裝置2A及2B而被過濾處理之處理液暫且聚集在液體收集箱9中，之後，供給到處理液槽4。又，從液體收集箱9至處理液槽4之間的流路L14分支有流路L15，與第二實施態樣同樣地，在流路L15上設置有給油器31及光學檢測機構3A，檢測包含於處理液中之粒子。將藉由過濾裝置2A及2B而被過濾處理之處理液暫且聚集在液體收集箱9中，在其出口檢測處理液中的粒子，藉此，對於各過濾裝置2A、2B，能夠用一個光學檢測機構3A來檢測粒子。　　又，在並列設置之兩個過濾裝置2A及2B的出口亦即流路L13、L12上分別設置有光學檢測機構。該情況下，若依據由光學檢測機構檢測出之粒徑和/或粒子數來判斷存在污泥洩漏，則能夠立刻確定產生了污泥洩漏之過濾裝置。藉此，能夠快速停止使用產生了污泥洩漏之過濾裝置，因此能夠進而發揮本發明的效果，亦即，抑制污泥混入到處理液槽4中。　　圖4中示出兩個過濾裝置2A及2B的運行控制方法的例子。該控制方法中具備開始過濾裝置2A或過濾裝置2B的運行之步驟1、藉由光學檢測機構3A監視在過濾裝置2A或過濾裝置2B中被處理之處理液中的粒徑和/或粒子數之步驟2。　　接著，依據由光學檢測機構3A得到之資料來判斷有無污泥洩漏(if1)。有無污泥洩漏的判斷並無特別限制，例如在使用篩孔為10μm的過濾器進行過濾處理之情況下，若每lmL檢測出10個以上粒徑為10μm以上的粒子，則判斷為存在污泥洩漏等，設定粒徑比篩孔大的粒子的數量，在超過該數量之情況下，判斷為存在污泥洩漏。　　在依據光學檢測機構3A的資料判斷存在污泥洩漏之情況下，執行藉由警報而通報污泥洩漏之步驟3和隨之切換過濾裝置2A和過濾裝置2B的運行之步驟4。警報並無特別限制，只要發出警報聲或者在冷卻液處理系統的操作畫面顯示警報即可。步驟4為停止運行中之過濾裝置，並開始另一個過濾裝置的運行之製程。另外，關於已停止過濾裝置，調查污泥洩漏的原因，並進行過濾器更換等適當之處理進行修復即可。　　在步驟3及步驟4之後，繼續進行有無由光學檢測機構3A引起之污泥洩漏的判斷(if2)。然後，若藉由光學檢測機構3A得到之資料在所設定之粒徑和/或粒子數的範圍內，則執行停止警報之步驟5。停止警報之步驟5可自動停止，亦可由操作者來停止。在停止警報之後，執行藉由光學檢測機構3A來監視處理液中的粒徑和/或粒子數之步驟2。　　另外，圖4所示兩個過濾裝置2A及2B的運行控制方法為一例，可進行任意的控制。例如在過濾裝置2A和過濾裝置2B的後段分別設置光學檢測機構，在同時運行過濾裝置2A及過濾裝置2B之控制方法中，僅暫且停止判斷為存在污泥洩漏之過濾裝置，並進行已停止過濾裝置的修復即可。如圖4所示控制方法，交替運行兩個過濾裝置之控制方法能夠將過濾處理量控制成恆定，因此具有容易管理處理液槽4的液位水平等優點。　　又，在第三實施態樣中，作為供給用於冷卻磨床101的驅動軸的冷卻液之結構而具備主軸冷卻罐102。主軸冷卻罐102由兩個槽構成，被供給冷卻液之槽中具備液體溫度調整機H1，另一個槽中具備用於向磨床101供給冷卻液的泵P3和用於檢測冷卻液量降低等異常的液位計S1。又，在用於向磨床101供給冷卻液的流路L7的配管的前端設置吸引過濾器F，防止異物混入到磨床101的驅動軸。 [產業上的可利用性] 　　本發明的冷卻液處理系統能夠作為用於去除包含於冷卻液中之污泥的裝置而利用。例如為了從將金屬作為被切削材料之金屬研磨加工機械、將岩石作為被切削材料之岩石研磨加工機械等中之冷卻液中去除污泥而能夠利用。

1A、1B、1C‧‧‧冷卻液處理系統2、2A、2B‧‧‧過濾裝置3‧‧‧檢測機構3A‧‧‧光學檢測機構31‧‧‧給油器4‧‧‧處理液槽5‧‧‧被處理液槽6‧‧‧預處理裝置7‧‧‧隔墻8‧‧‧開口9‧‧‧液體收集箱51‧‧‧被處理液罐52‧‧‧浮動式回止閥61‧‧‧污泥輸送機62‧‧‧磁分離器100‧‧‧機床101‧‧‧磨床102‧‧‧主軸冷卻罐P1～P7‧‧‧泵Ll～L21‧‧‧流路Sl～S4‧‧‧液位計Hl～H2‧‧‧液體溫度調整機F‧‧‧吸引過濾器AC‧‧‧空氣壓縮機SW‧‧‧壓力開關

圖1係表示本發明的第一實施態樣的冷卻液處理系統的構造之概略說明圖。　　圖2係表示本發明的第二實施態樣的冷卻液處理系統的構造之概略說明圖。　　圖3係表示本發明的第三實施態樣的冷卻液處理系統的構造之概略說明圖。　　圖4係表示本發明的第三實施態樣的冷卻液處理系統的控制方法的一例之流程圖。

1B‧‧‧冷卻液處理系統

2‧‧‧過濾裝置

3A‧‧‧光學檢測機構

4‧‧‧處理液槽

5‧‧‧被處理液槽

6‧‧‧預處理裝置

7‧‧‧隔墻

8‧‧‧開口

31‧‧‧給油器

100‧‧‧機床

L1~L6‧‧‧流路

Claims

一種冷卻液處理系統，其特徵為，具備：過濾裝置，用於過濾包含污泥之冷卻液；及檢測機構，檢測在前述過濾裝置中被過濾之處理液中的粒子，前述檢測機構，是當比設定粒徑更大的粒子的數量，比所設定的粒子的數量更多地被檢測出的情況時，就進行污泥洩漏的檢測。
如申請專利範圍第1項所述之冷卻液處理系統，其中前述過濾裝置，是設置複數個，在檢測機構中的處理液側檢測出污泥洩漏時，用正常之過濾裝置持續進行運行，且僅停止檢測出污泥洩漏之過濾裝置。