TWI707053B - 相移光罩基底、相移光罩及其製造方法、與顯示裝置之製造方法 - Google Patents

相移光罩基底、相移光罩及其製造方法、與顯示裝置之製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI707053B
TWI707053B TW107105445A TW107105445A TWI707053B TW I707053 B TWI707053 B TW I707053B TW 107105445 A TW107105445 A TW 107105445A TW 107105445 A TW107105445 A TW 107105445A TW I707053 B TWI707053 B TW I707053B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
film
semi
phase shift
film pattern
transparent
Prior art date
Application number
TW107105445A
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Other versions
TW201819654A (zh
Inventor
坪井誠治
牛田正男
Original Assignee
日商Ｈｏｙａ股份有限公司
馬來西亞商Hoya電子馬來西亞私人股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商Ｈｏｙａ股份有限公司, 馬來西亞商Hoya電子馬來西亞私人股份有限公司 filed Critical 日商Ｈｏｙａ股份有限公司
Publication of TW201819654A publication Critical patent/TW201819654A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI707053B publication Critical patent/TWI707053B/zh

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P76/00—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography
    • H10P76/20—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography of masks comprising organic materials
    • H10P76/204—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography of masks comprising organic materials of organic photoresist masks

Landscapes

  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
TW107105445A 2013-03-19 2014-03-12 相移光罩基底、相移光罩及其製造方法、與顯示裝置之製造方法 TWI707053B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013-056295 2013-03-19
JP2013056295 2013-03-19

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201819654A TW201819654A (zh) 2018-06-01
TWI707053B true TWI707053B (zh) 2020-10-11

Family

ID=51758359

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW107105445A TWI707053B (zh) 2013-03-19 2014-03-12 相移光罩基底、相移光罩及其製造方法、與顯示裝置之製造方法
TW103108822A TWI622659B (zh) 2013-03-19 2014-03-12 相移光罩基底及其製造方法、相移光罩之製造方法、與顯示裝置之製造方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW103108822A TWI622659B (zh) 2013-03-19 2014-03-12 相移光罩基底及其製造方法、相移光罩之製造方法、與顯示裝置之製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (2) JP6324756B2 (https=)
KR (2) KR102134487B1 (https=)
TW (2) TWI707053B (https=)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6324756B2 (ja) * 2013-03-19 2018-05-16 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP6661262B2 (ja) * 2014-05-29 2020-03-11 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに位相シフトマスクの製造方法
JP6391495B2 (ja) * 2015-02-23 2018-09-19 Hoya株式会社 フォトマスク、フォトマスクセット、フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
JP6502143B2 (ja) * 2015-03-27 2019-04-17 Hoya株式会社 マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法
US10509310B2 (en) 2015-04-07 2019-12-17 Asml Netherlands B.V. Patterning devices for use within a lithographic apparatus, methods of making and using such patterning devices
JP6726553B2 (ja) * 2015-09-26 2020-07-22 Hoya株式会社 フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
JP2017182052A (ja) * 2016-03-24 2017-10-05 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及び表示装置の製造方法
TWI615668B (zh) * 2016-11-18 2018-02-21 台灣積體電路製造股份有限公司 相位移光罩的形成方法
JP2018106022A (ja) * 2016-12-27 2018-07-05 Hoya株式会社 表示装置製造用フォトマスクの製造方法および表示装置の製造方法
KR102429244B1 (ko) * 2017-02-27 2022-08-05 호야 가부시키가이샤 마스크 블랭크 및 임프린트 몰드의 제조 방법
CN110770652B (zh) * 2017-06-14 2023-03-21 Hoya株式会社 掩模坯料、相移掩模及半导体器件的制造方法
CN110196530B (zh) * 2018-02-27 2024-05-14 Hoya株式会社 相移掩模坯料、相移掩模的制造方法、及显示装置的制造方法
JP7073246B2 (ja) * 2018-02-27 2022-05-23 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
KR102582203B1 (ko) * 2018-09-14 2023-09-22 가부시키가이샤 니콘 위상 시프트 마스크 블랭크스, 위상 시프트 마스크, 노광 방법, 및 디바이스의 제조 방법
JP7217620B2 (ja) * 2018-11-22 2023-02-03 アルバック成膜株式会社 マスクブランクスおよびマスク
JP7059234B2 (ja) * 2018-11-30 2022-04-25 Hoya株式会社 フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法
JP7303077B2 (ja) * 2019-09-10 2023-07-04 アルバック成膜株式会社 マスクブランクスの製造方法及びフォトマスクの製造方法、マスクブランクス及びフォトマスク
TWI886224B (zh) * 2020-03-17 2025-06-11 日商Ｈｏｙａ股份有限公司 光罩基底、光罩之製造方法及顯示裝置之製造方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61272746A (ja) * 1985-05-28 1986-12-03 Asahi Glass Co Ltd フオトマスクブランクおよびフオトマスク
JPH02198835A (ja) * 1989-01-27 1990-08-07 Toppan Printing Co Ltd マスター用ガラス基板
JPH06123961A (ja) * 1992-10-12 1994-05-06 Hoya Corp 位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランク並びに位相シフトマスクの製造方法
JP3229446B2 (ja) * 1993-07-13 2001-11-19 大日本印刷株式会社 ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス
KR100295385B1 (ko) * 1993-04-09 2001-09-17 기타지마 요시토시 하프톤위상쉬프트포토마스크,하프톤위상쉬프트포토마스크용블랭크스및이들의제조방법
JP3256345B2 (ja) * 1993-07-26 2002-02-12 アルバック成膜株式会社 フォトマスクブランクスおよびフォトマスク
JPH0876353A (ja) * 1994-09-08 1996-03-22 Nec Corp 位相シフトマスクの製造方法
JPH08123010A (ja) * 1994-10-28 1996-05-17 Toppan Printing Co Ltd 位相シフトマスクおよびそれに用いるマスクブランク
JP2001174973A (ja) * 1999-12-15 2001-06-29 Dainippon Printing Co Ltd ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス
JP2001147516A (ja) * 2000-11-27 2001-05-29 Hoya Corp ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
JP4919259B2 (ja) * 2006-03-30 2012-04-18 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランク及びフォトマスク
JP5115953B2 (ja) * 2007-03-30 2013-01-09 Ｈｏｙａ株式会社 フォトマスクブランク及びフォトマスク
JP5588633B2 (ja) * 2009-06-30 2014-09-10 アルバック成膜株式会社 位相シフトマスクの製造方法、フラットパネルディスプレイの製造方法及び位相シフトマスク
JP5274393B2 (ja) * 2009-06-30 2013-08-28 アルバック成膜株式会社 ハーフトーンマスクの製造方法
JP5313401B2 (ja) * 2010-04-09 2013-10-09 Ｈｏｙａ株式会社 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに位相シフトマスク
JP6324756B2 (ja) * 2013-03-19 2018-05-16 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200086250A (ko) 2020-07-16
JP6324756B2 (ja) 2018-05-16
KR102134487B1 (ko) 2020-07-16
KR20140114797A (ko) 2014-09-29
JP2014206729A (ja) 2014-10-30
TW201443252A (zh) 2014-11-16
TWI622659B (zh) 2018-05-01
KR102246114B1 (ko) 2021-04-29
TW201819654A (zh) 2018-06-01
JP6553240B2 (ja) 2019-07-31
JP2018109792A (ja) 2018-07-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI707053B (zh) 相移光罩基底、相移光罩及其製造方法、與顯示裝置之製造方法
KR102297223B1 (ko) 위상 시프트 마스크 블랭크 및 그 제조 방법, 위상 시프트 마스크 및 그 제조 방법과 표시 장치의 제조 방법
TWI711876B (zh) 光罩基底、光罩基底之製造方法、及使用其等之光罩之製造方法、以及顯示裝置之製造方法
TWI645246B (zh) 相移光罩基底及其製造方法、與相移光罩之製造方法
JP6138676B2 (ja) 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに位相シフトマスクの製造方法
TWI651584B (zh) 相位偏移光罩基底及其製造方法、與相位偏移光罩之製造方法
TWI718263B (zh) 相位偏移光罩基底、相位偏移光罩及顯示裝置之製造方法
TWI813644B (zh) 相移光罩基底、相移光罩之製造方法、及顯示裝置之製造方法
TWI758382B (zh) 相移光罩基底、相移光罩之製造方法、及顯示裝置之製造方法
TWI828864B (zh) 光罩基底、光罩之製造方法、及顯示裝置之製造方法