TWI681260B - 光刻機刀口組、大視場光刻機和曝光方法 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種光刻機刀口組、大視場光刻機和曝光方法，在測試時，掃描向刀口組移動一次進行光照測試，測試完成後移動至對準標記上方；在曝光時，掃描向刀口組跟隨遮罩台以相同的速度和相同的方向移動，使掃描向刀口組與遮罩板的對準標記保持相對靜止。若為全視場曝光，非掃描向刀口組無需移動，若為局部曝光，則使非掃描向刀口組移動至局部曝光的視場處，由非掃描向刀口組形成的視窗形成控制照明光光斑的形狀，然後非掃描向刀口組可保持靜止，只需移動遮罩台和工作台，即可從一個曝光區域移出該曝光視場，另一個曝光區域移入該曝光視場，繼續進行曝光，從而完成所有曝光區域的曝光。本發明無需設置多套刀口組，結構簡單，降低對控制精度的要求。

Description

光刻機刀口組、大視場光刻機和曝光方法

本發明涉及半導體製造領域，特別涉及光刻機刀口組、大視場光刻機和曝光方法。

TFT（Thin Film Transistor）光刻機是平板製造領域的主要設備，用於將遮罩板上的圖形藉由物鏡投影到基板上。隨著平板顯示行業的快速發展，基板尺寸在不斷增加，為了增加產率，物鏡也從一個視場擴展為多個視場的結構，如G6物鏡採用6個視場即配備了6個物鏡。可動刀口是用於照明進行靜態曝光和遮擋遮罩標記等作用的機構，原來的可動刀口佈置在照明裝置下方，以G4.5代可動刀口為例，G4.5代可動刀口結構如第1圖所示，由四個刀片組成，分別為Y向刀片一101、X向刀片一102、Y向刀片二103、X向刀片二104，在正常曝光時，遮罩台與工作台按照同一方向、同一速度移動，則該可動刀口結構需要與遮罩台進行同步以使刀片能夠遮擋遮罩板上的標記，同時X向刀片一102和X向刀片二104控制X向視場大小，Y向刀片一101和Y向刀片二103控制Y向視場大小；在靜態曝光時，由Y向刀片一101和Y向刀片二103組成狹縫沿Y向進行掃描。隨著物鏡視場的數量的增多，如果按原來的可動刀口結構，即每個視場配備一個可動刀口，則需要多個可動刀口，結構將會十分繁雜；隨著物鏡視場的數量增大，刀口的外形尺寸和行程的需求也隨著增大，如G6物鏡中採用六個物鏡，則需求由原來G4.5代刀口的外形尺寸由40mm變為750mm，運動行程由原來的44mm，擴展到1100mm。則原來的可動刀口結構已不能滿足使用需要。

此外，請參照第2圖與第3圖，在每個視場內曝光時，在Y向上，Y向刀片一101和Y向刀片二103根據遮罩台的運動需要經過嚴格的速度計算：在正常曝光時，可動的刀口結構的最主要功能是在正常曝光時進行遮擋對準標記，以防止將對準標記刻在矽片上。因此如第2圖所示，G4.5可動刀口結構為了實現遮擋標記，需要與遮罩板404進行同步，需要四個步驟。當遮罩板404前部標記404a，運行到照明裝置403下方時（如第2a圖所示），Y向刀片二103與遮罩板404進行同步運動以確保遮蔽標記，直至規定視場寬度大小停止（如第2b圖所示）；當遮罩板404後部標記404b，運行到照明裝置403下方時（如第2c圖所示），Y向刀片一101與遮罩板404進行同步運動以確保遮蔽標記，直到視場邊緣停止（如第2d圖所示）；在靜態曝光時，可動刀口結構的重要作用之一為靜態曝光配合照明裝置進行曝光劑量控制，曝光劑量主要跟照度、衰減率和掃描速度以及狹縫寬度有關。使用G4.5代可動刀口結構進行靜態曝光如第3圖所示，當遮罩板404運動到需要進行掃描的區域，Y向刀片一101與Y向刀片二103形成所需寬度的狹縫，照明裝置403打開，兩刀片101、103以相同的速度進行掃描，藉由位於遮罩板404下方的感測器605接收透過狹縫、遮罩台的照明光，從而讀取資料。

由此可見，不論是正常曝光還是靜態曝光，使用原可動刀口結構在曝光時皆需要對其移動速度進行控制，且當從正常曝光模式轉換成靜態曝光模式時，需要改變刀片的移動速度，在此過程中較容易產生誤差。

為解決上述問題，本發明提出了一種光刻機刀口組、大視場光刻機和曝光方法。

為達到上述目的，本發明提供了一種光刻機刀口組，設置在光刻機內，所述光刻機在曝光時，遮罩台和工作台按照相同方向運動，該方向定義為掃描方向，在水平面上與掃描方向正交的方向定義為非掃描方向；包括在所述掃描方向上可運動的掃描向刀口組，所述掃描向刀口組用於遮擋所述遮罩台上遮罩板的對準標記；在非掃描方向上可運動的非掃描向刀口組；光刻機的照明裝置提供的照明光的光斑由所述非掃描向刀口組形成的視窗修剪後用於曝光；曝光時所述掃描向刀口組相對於所述遮罩板的對準標記保持靜止，所述非掃描向刀口組相對於所述照明裝置保持靜止。

本發明還提供一種大視場光刻機，具有多個曝光區域，從上至下依次包括： 照明裝置，用於提供照明光；遮罩台，用於放置遮罩板；工作台，用於放置需要掃描曝光的基板，曝光時遮罩台和工作台按照相同方向、相同速度運動，該方向定義為掃描方向，在水平面上與掃描方向正交的方向定義為非掃描方向；還設置有在所述掃描方向上可運動的掃描向刀口組，所述掃描向刀口組用於遮擋所述遮罩板的對準標記；在非掃描方向上可運動的非掃描向刀口組；所述照明裝置提供的照明光的光斑由所述非掃描向刀口組形成的視窗修剪後用於曝光；對所述多個曝光區域中的一個曝光時，所述掃描向刀口組相對於所述遮罩板的對準標記保持相對靜止，所述非掃描向刀口組相對於所述照明裝置保持靜止，藉由移動所述遮罩台和所述工作台將所述多個曝光區域逐個移動至所述照明裝置的照明視場內，即可完成所述多個曝光區域的曝光。

較佳地，所述掃描向刀口組位於所述遮罩台的粗動台上，且高度高於所述遮罩板，曝光時所述掃描向刀口組跟隨所述遮罩台的粗動台運動。

較佳地，所述掃描向刀口組包括長度方向互相平行的前刀片和後刀片。

較佳地，所述前刀片和所述後刀片皆為長度方向平行於非掃描方向的金屬片，所述後刀片上開設有長度方向平行於非掃描方向的狹縫。

較佳地，在遮罩台下方還設置有感測器，用於感應穿過所述狹縫的照明光。

較佳地，所述掃描向刀口組還包括第一運動導軌和第一驅動裝置，所述第一運動導軌的長度方向為掃描方向，所述第一驅動裝置驅動所述前刀片和後刀片沿所述第一運動導軌運動。

較佳地，設置有兩個相互平行的所述第一運動導軌，所述前刀片和所述後刀片的兩個端部皆在兩個第一運動導軌上移動。

較佳地，所述第一驅動裝置為分別設置在所述前刀片、所述後刀片兩個端部的直線電機。

較佳地，所述前刀片和所述後刀片的兩端與所述第一運動導軌的連接處上皆設置有解耦裝置。

較佳地，所述解耦裝置為交叉滾珠軸環。

較佳地，所述前刀片和所述後刀片的兩端與所述第一運動導軌的連接處上皆設置有刀片定位裝置。

較佳地，所述刀片定位裝置為導軌鉗制器，用於使所述前刀片和所述後刀片靜止在所述第一運動導軌上。

較佳地，所述第一運動導軌上各自設置有方位測量裝置。

較佳地，所述方位測量裝置為光柵尺。

較佳地，還包括物鏡陣列組，位於所述遮罩台和所述基板之間，所述物鏡陣列組具有複數個呈陣列排布的物鏡。

較佳地，所述非掃描向刀口組位於所述物鏡陣列組與所述基板之間。

較佳地，所述非掃描向刀口組包括四個刀片，且四個所述刀片排列成兩行兩列。

較佳地，所述刀片為方形。

較佳地，所述非掃描向刀口組還包括長度方向為非掃描方向的第二運動導軌和第二驅動裝置，所述第二驅動裝置驅動四個刀片沿所述第二運動導軌運動進行視場調節。

較佳地，設置有兩個相對的所述第二運動導軌，每個所述第二運動導軌上分別有兩個所述刀片，兩個所述刀片分別在所述第二運動導軌上移動。

較佳地，所述第二驅動裝置包括與所述第二運動導軌平行設置的絲桿和與所述絲桿連接的旋轉電機，所述非掃描向刀口組中的各個刀片分別用所述旋轉電機和絲桿的組合進行驅動。

本發明還提供一種使用如上所述的大視場光刻機的曝光方法，包括如下步驟：步驟一：在曝光前，由所述掃描向刀口組在曝光區域內在掃描向移動進行所述曝光區域內的光照測試；步驟二：由所述非掃描向刀口組移動至所述曝光區域內形成用於修剪照明光的光斑的視窗；步驟三：所述遮罩台和所述工作台按照同一方向移動，所述掃描向刀口組跟隨所述遮罩台運動並相對於所述遮罩板的對準標記保持靜止，所述非掃描向刀口組相對於所述照明裝置保持靜止，完成對所述曝光區域的曝光；步驟四：藉由移動所述遮罩台和所述工作台將下一個曝光區域移至照明裝置的照明視場內，重複步驟一至步驟三對所述下一個曝光區域進行曝光。

較佳地，所述遮罩板具有兩個呈對稱分佈的對準區域和複數個呈陣列排布的繪圖區域，兩個所述對準區域位於所述遮罩板兩側，每個所述繪圖區域對應一個曝光區域。

較佳地，所述掃描向刀口組包括前刀片和後刀片，曝光時所述前刀片和後刀片放置在所述對準區域上方，阻擋照向所述對準區域的照明光。

較佳地，步驟二中由掃描向刀口組在該曝光區域內在掃描向移動進行該曝光區域內的光照測試具體為：所述後刀片上設置有狹縫，在所述遮罩台下方設置有感測器，在測試時，所述前刀片固定在所述對準區域上方，所述後刀片沿著所述掃描方向移動，所述感測器藉由接收依次透過所述狹縫和所述遮罩台的照明光，得到在該曝光區域內的照明光的光照參數。

本發明提供的光刻機刀口組、大視場光刻機和曝光方法，在測試時，掃描向刀口組移動一次進行光照測試，測試完成後移動至對準標記上方；在曝光時，掃描向刀口組跟隨遮罩台以相同的速度和相同的方向移動，使掃描向刀口組與遮罩板的對準標記保持相對靜止。若為全視場曝光，非掃描向刀口組無需移動，若為局部曝光，則使非掃描向刀口組移動至局部曝光的視場處，由非掃描向刀口組形成的視窗形成控制照明光光斑的形狀，然後非掃描向刀口組可保持靜止，只需移動遮罩台和工作台，即可從一個曝光區域移出該曝光視場，另一個曝光區域移入該曝光視場，繼續進行曝光，從而完成所有曝光區域的曝光。

因此與習知技術相比，本發明具有以下有益效果：

1.結構簡單，所有的曝光視場皆使用一套掃描向刀口組和非掃描向刀口組，曝光時藉由移動遮罩台和工作台來實現不同視場的曝光，從而簡化了構造；

2.在曝光時，無需使掃描向刀口組和非掃描向刀口組時時配合遮罩台和工作台以特定的速度移動，降低對控制精度的要求，減少出錯的幾率。

為使本發明的上述目的、特徵和優點能夠更加明顯易懂，下面結合附圖對本發明的具體實施方式做詳細的說明。

請參照第4圖至第7圖，本發明提供了一種光刻機刀口組，設置在光刻機內，所述光刻機在曝光時，遮罩台和工作台按照相同方向運動，該方向定義為掃描方向，在水平面上與掃描方向正交的方向定義為非掃描方向；

所述光刻機刀口組包括：

在掃描方向上運動的掃描向刀口組，該掃描向刀口組主要用於遮擋遮罩台上遮罩板的對準標記，防止曝光時，將對準標記印刷在基板上，請參照第4圖，因此在曝光時，掃描向刀口組跟隨遮罩台以相同速度相同方向運動，使其相對於對準標記保持靜止；

在非掃描方向上運動的非掃描向刀口組，該非掃描向刀口組主要用於在局部曝光時，非掃描向刀口組移動至該局部曝光視場的曝光區域上，形成一個視窗，照明裝置提供的照明光經過該視窗的修剪後形成需要的光斑照射至該曝光區域上進行該曝光區域的曝光；

當一個曝光區域曝光完成後，非掃描向刀口組保持靜止，僅移動遮罩台和工作台，同時掃描向刀口組跟隨遮罩台移動，使得遮罩板4的另一個曝光區域移動至該局部曝光視場下，進行此曝光區域的曝光，依次類推，僅需移動遮罩台和工作台即可完成所有曝光區域的曝光。

本發明提供一種使用上述光刻機刀口組進行曝光的大視場光刻機，從上至下依次包括：

一照明裝置（未圖示），用於提供照明光；

一遮罩台（未圖示），表面放置有遮罩板4，遮罩台週邊設置有使其移動的粗動台207，該粗動台207使遮罩台進行大行程地移動；

物鏡陣列組，在本實施例中，該物鏡陣列組具有六個物鏡306，沿掃描方向呈兩排平行排布，每排有三個物鏡306，三個物鏡306沿非掃描方向排佈。

一工作台（未圖示），表面放置有需要掃描曝光的基板（未圖示），遮罩台和工作台按照相同方向、相同速度運動，該方向定義為掃描方向，在水平面上與掃描方向正交的方向定義為非掃描方向；

還設置有：

位於遮罩台的粗動台207上、高度高於遮罩板4以此遮擋住遮罩板4對準標記的掃描向刀口組，避免對準標記被照明光照射從而印刷在基板上，該掃描向刀口組在掃描方向上運動；

位於物鏡陣列組與基板之間的非掃描向刀口組，該非掃描向刀口組在非掃描方向上移動。

請參照第4圖，掃描向刀口組具體結構如下：遮罩台的粗動台207的兩條平行於掃描方向的邊上，各自設置有長度方向平行於該條邊的第一運動導軌205，該第一運動導軌205的長度即為掃描向刀口組運動的行程範圍；兩根刀片架設在兩條第一運動導軌205上，兩根刀片分別為前刀片203、後刀片204，兩根刀片為長條狀金屬片，其長度方向平行於非掃描方向，兩根刀片的兩端分別位於不同的第一運動導軌205上，可沿著兩端的第一運動導軌205在掃描方向上移動，每根刀片的兩端皆連接有驅動裝置，本實施例中驅動裝置為直線電機206，較佳地，第一運動導軌205即位於直線電機206上，直線電機206的運動路線即為第一運動導軌205，也即每個直線電機206驅動各自對應的刀片移動。

較佳地，請參照第4圖，兩根刀片的兩端還設置有解耦裝置，該解耦裝置在本實施例中為交叉滾柱軸環202，該交叉滾柱軸環202實現了刀片在非掃描方向和垂直方向上的解耦；相對應地，兩根刀片上也要設置定位裝置，在本實施例中，該定位裝置為導軌鉗制器208，其位於刀片兩端與第一運動導軌205的連接處，當刀片運動到指定位置後，導軌鉗制器208將刀片定位並鎖緊在該處。

較佳地，請參照第5圖，後刀片204中央設置有狹縫2041，該狹縫2041的長度方向平行於掃描方向，在曝光前的光照測試中，後刀片204在掃描方向上移動，在遮罩台下方設置感測器（未圖示），用於接收依次透過該狹縫2041以及遮罩台的照明光，並進行光照測試。

較佳地，請繼續參照第4圖，在第一運動導軌205上設置有能夠測量兩根刀片移動位置的方位測量裝置，在本實施例中，方位測量裝置即為光柵尺201。

請參照第7圖，非掃描向刀口組設置在物鏡306下方，包括四個刀片、第二運動導軌307和第二驅動裝置，所述四個刀片分別為刀片一301、刀片二302、刀片三303以及刀片四304，每個刀片皆為方形；四個刀片平均分佈在兩個長度方向平行於非掃描向的第二運動導軌307上，所述第二驅動裝置包括長度方向平行於第二運動導軌307的絲桿308和與絲桿308連接的旋轉電機305，一個絲桿308上套設有一個刀片，由每個旋轉電機305和絲桿308配合使得刀片各自在第二運動導軌307上移動，該四個刀片的行程由每個旋轉電機305自帶的編碼器進行測量。本實施例中兩個第二運動導軌307分別對應設置在物鏡陣列中的兩排物鏡306下方，每個第二運動導軌307上有兩個刀片，每個刀片在一組絲桿308和旋轉電機305的驅動下沿著第二運動導軌307運動，對每排物鏡306的通光進行控制，四個刀片的配合運動實現對曝光區域內照明光的光斑的修剪。

本發明還提供一種使用如上所述的大視場光刻機的曝光方法，包括如下步驟：

步驟一：遮罩板4上設置有對準區域401和複數個週期性陣列排布的繪圖區域402，如第6圖所示，對準區域401位於遮罩板4兩側呈對稱分佈，對準區域401上設置有對準標記，用於在曝光時使遮罩板4與基板對準。

每一個繪圖區域402對應基板上一個印刷區域，由遮罩板4上的一個繪圖區域402與基板上對應的印刷區域組成了一個曝光區域，對於任意一個曝光區域，在曝光前，將該曝光區域移動至曝光視場內，都需要對其進行光照測試，以確保基板上的不同部位接收到能夠進行光刻的光照強度，該光照測試由掃描向刀口組在該曝光區域內在掃描向移動進行，具體為，請參照第4圖與第5圖，在曝光前，前刀片203在一側的對準區域401上方保持相對靜止，打開照明裝置後，後刀片204在掃描方向上移動，照明光透過後刀片204上的狹縫2041，遮罩台下方的感測器接收依次透過狹縫2041和遮罩台的照明光，從而對該照明光進行光照參數的測試；

步驟二：請參照第8圖和第9圖，在全視場曝光時，非掃描向刀口組則無需進行移動，而在局部曝光時，在光照測試完畢後，後刀片204移動至遮罩板4另一側的對準區域401上方，並使其相對於該對準區域401保持靜止，此時由所述非掃描向刀口組移動至該曝光區域a內，由刀片一301、刀片二302、刀片三303以及刀片四304形成用於修剪照明光的光斑的視窗，然後使工作台與遮罩台按照同一方向、同一速度移動，掃描向刀口組跟隨遮罩台按照同一方向、同一速度移動，從而對該曝光區域a曝光；

步驟三：遮罩台和工作台按照同一方向移動，使得下一個曝光區域移動至該曝光視場內，重複步驟一和步驟二對此曝光區域進行曝光，直至完成所有曝光區域的曝光。

本發明提供的光刻機刀口組、大視場光刻機和曝光方法，在測試時，掃描向刀口組移動一次進行光照測試，測試完成後移動至對準標記上方；在曝光時，掃描向刀口組跟隨遮罩台以相同的速度和相同的方向移動，使掃描向刀口組與遮罩板4的對準標記保持相對靜止。若為全視場曝光，非掃描向刀口組無需移動，若為局部曝光，則使非掃描向刀口組移動至局部曝光的視場處，由非掃描向刀口組形成的視窗形成控制照明光光斑的形狀，然後非掃描向刀口組可保持靜止，只需移動遮罩台和工作台，即可從一個曝光區域移出該曝光視場，另一個曝光區域移入該曝光視場，繼續進行曝光，從而完成所有曝光區域的曝光。

因此與習知技術相比，本發明具有以下有益效果：

1.結構簡單，所有的曝光視場皆使用一套掃描向刀口組和非掃描向刀口組，曝光時藉由移動遮罩台和工作台來實現不同視場的曝光，從而簡化了構造；

2.在曝光時，無需對掃描向刀口組和非掃描向刀口組時時配合遮罩台和工作台以特定的速度移動，因此降低對控制精度的要求，減少出錯的幾率。

顯然本發明所屬領域中具有通常知識者可以對發明進行各種改動和變型而不脫離本發明的精神和範圍。這樣，倘若本發明的這些修改和變型屬於本發明申請專利範圍及其等同技術的範圍之內，則本發明也意圖包括這些改動和變型在內。

101、102、103、104‧‧‧刀片201‧‧‧光柵尺202‧‧‧交叉滾柱軸環203、204、301、302、303、304‧‧‧刀片2041‧‧‧狹縫205、307‧‧‧運動導軌206、305‧‧‧電機207‧‧‧粗動台208‧‧‧導軌鉗制器306‧‧‧物鏡308‧‧‧絲桿4、404‧‧‧遮罩板401‧‧‧對準區域402‧‧‧繪圖區域403‧‧‧照明裝置404a‧‧‧前部標記404b‧‧‧後部標記605‧‧‧感測器a‧‧‧曝光區域

第1圖為習知技術中的可動刀口結構示意圖；

第2圖為習知技術中在正常曝光時Y向刀片移動流程圖；

第3圖為習知技術中在靜態曝光時Y向刀片移動示意圖；

第4圖為本發明提供的正常曝光時掃描向刀口組結構示意圖；

第5圖為本發明後刀片結構示意圖；

第6圖為本發明提供的正常曝光時掃描向刀口組刀片位置示意圖；

第7圖為本發明提供的非掃描向刀口組結構示意圖；

第8圖為本發明的非掃描向刀口組在全視場曝光時位置示意圖；

第9圖為本發明的非掃描向刀口組在局部視場曝光時位置示意圖。

301、302、303、304‧‧‧刀片

305‧‧‧電機

306‧‧‧物鏡

307‧‧‧運動導軌

308‧‧‧絲桿

Claims (25)

1. 一種光刻機刀口組，其置在一光刻機內，該光刻機在曝光時，一遮罩台和一工作台按照相同方向運動，該方向定義為一掃描方向，在水平面上與該掃描方向正交的方向定義為一非掃描方向；其特徵在於，包括：在該掃描方向上可運動的一掃描向刀口組，該掃描向刀口組用於遮擋該遮罩台上遮罩板的對準標記；在該非掃描方向上可運動的一非掃描向刀口組；該光刻機的一照明裝置提供的照明光的光斑由該非掃描向刀口組形成的視窗修剪後用於曝光；以及曝光時該掃描向刀口組相對於該遮罩板的對準標記保持靜止，該非掃描向刀口組相對於該照明裝置保持靜止；其中該掃描向刀口組位於該遮罩台的粗動台上，且高度高於該遮罩板，曝光時該掃描向刀口組跟隨該遮罩台的粗動台運動。
2. 一種大視場光刻機，具有複數個曝光區域，從上至下依次包含：一照明裝置，用於提供照明光；一遮罩台，用於放置一遮罩板；一工作台，用於放置需要掃描曝光的一基板，曝光時該遮罩台和該工作台按照相同方向、相同速度運動，該方向定義為一掃描方向，在水平面上與該掃描方向正交的方向定義為一非掃描方向；其特徵在於，還設置有： 在該掃描方向上可運動的一掃描向刀口組，該掃描向刀口組用於遮擋該遮罩板的對準標記；在該非掃描方向上可運動的一非掃描向刀口組；該照明裝置提供的照明光的光斑由該非掃描向刀口組形成的視窗修剪後用於曝光；對所述複數個曝光區域中的一個曝光時，該掃描向刀口組相對於該遮罩板的對準標記保持相對靜止，該非掃描向刀口組相對於該照明裝置保持靜止，藉由移動該遮罩台和該工作台將該複數個曝光區域逐個移動至該照明裝置的照明視場內，即可完成該複數個曝光區域的曝光；其中該掃瞄向刀口組位於該遮罩台的粗動台上，且高度高於該遮罩板，曝光時該掃描向刀口組跟隨該遮罩台的粗動台運動。
3. 如申請專利範圍第2項所述之大視場光刻機，其中該掃描向刀口組包括長度方向互相平行的一前刀片和一後刀片。
4. 如申請專利範圍第3項所述之大視場光刻機，其中該前刀片和該後刀片皆為長度方向平行於該非掃描方向的金屬片，該後刀片上開設有長度方向平行於該非掃描方向的一狹縫。
5. 如申請專利範圍第4項所述之大視場光刻機，在該遮罩台下方還設置有一感測器，用於感應穿過該狹縫的照明光。
6. 如申請專利範圍第4項所述之大視場光刻機，其中該掃描向刀口組還包含一第一運動導軌和一第一驅動裝置，該第一運動導軌的長度方向為掃描方向，該第一驅動裝置驅動該前刀片和該後刀片沿該第一運動導軌運動。
7. 如申請專利範圍第6項所述之大視場光刻機，其中設置有兩個相互平行的該第一運動導軌，該前刀片和該後刀片的兩個端部皆在兩個該第一運動導軌上移動。
8. 如申請專利範圍第7項所述之大視場光刻機，其中該第一驅動裝置為分別設置在該前刀片、該後刀片兩個端部的一直線電機。
9. 如申請專利範圍第7項所述之大視場光刻機，其中該前刀片和該後刀片的兩端與該第一運動導軌的連接處上皆設置有一解耦裝置。
10. 如申請專利範圍第9項所述之大視場光刻機，其中該解耦裝置為一交叉滾珠軸環。
11. 如申請專利範圍第7項所述之大視場光刻機，其中該前刀片和該後刀片的兩端與該第一運動導軌的連接處上皆設置有一刀片定位裝置。
12. 如申請專利範圍第11項所述之大視場光刻機，其中該刀片定位裝置為一導軌鉗制器，用於使該前刀片和該後刀片靜止在該第一運動導軌上。
13. 如申請專利範圍第7項所述之大視場光刻機，其中該第一運動導軌上各自設置有一方位測量裝置。
14. 如申請專利範圍第13項所述之大視場光刻機，其中該方位測量裝置為一光柵尺。
15. 如申請專利範圍第2項所述之大視場光刻機，其進一步還包含一物鏡陣列組，位於該遮罩台和該基板之間，該物鏡陣列組具有複數個呈陣列排布的物鏡。
16. 如申請專利範圍第15項所述之大視場光刻機，其中該非掃描向刀口組位於該物鏡陣列組與該基板之間。
17. 如申請專利範圍第1或16項所述之大視場光刻機，其中該非掃描向刀口組包括四個一刀片，且四個該刀片排列成兩行兩列。
18. 如申請專利範圍第17項所述之大視場光刻機，其中該刀片為方形。
19. 如申請專利範圍第17項所述之大視場光刻機，其中該非掃描向刀口組還包含長度方向為該非掃描方向的一第二運動導軌和一第二驅動裝置，該第二驅動裝置驅動四個該刀片沿該第二運動導軌運動進行視場調節。
20. 如申請專利範圍第19項所述之大視場光刻機，其中設置有兩個相對的該第二運動導軌，每個該第二運動導軌上分別有兩個該刀片，兩個該刀片分別在該第二運動導軌上移動。
21. 如申請專利範圍第19項所述之大視場光刻機，其中該第二驅動裝置包含與該第二運動導軌平行設置的一絲桿和與該絲桿連接的一旋轉電機，該非掃描向刀口組中的各個該刀片分別用該旋轉電機和該絲桿的組合進行驅動。
22. 一種使用如申請專利範圍第2項所述之大視場光刻機的曝光方法，其包含如下步驟：步驟一：在曝光前，由該掃描向刀口組在一曝光區域內在該掃描方向移動進行該曝光區域內的光照測試；步驟二：由該非掃描向刀口組移動至該曝光區域內形成用於修剪照明光的光斑的視窗； 步驟三：該遮罩台和該工作台按照同一方向移動，該掃描向刀口組跟隨該遮罩台運動並相對於該遮罩板的對準標記保持靜止，該非掃描向刀口組相對於該照明裝置保持靜止，完成對該曝光區域的曝光；步驟四：藉由移動該遮罩台和該工作台將下一個曝光區域移至照明裝置的照明視場內，重複步驟一至步驟三對該下一個曝光區域進行曝光。
23. 如申請專利範圍第22項所述之曝光方法，其中該遮罩板具有兩個呈對稱分佈的一對準區域和複數個呈陣列排布的一繪圖區域，兩個該對準區域位於該遮罩板兩側，每個該繪圖區域對應一個曝光區域。
24. 如申請專利範圍第23項所述之曝光方法，其中該掃描向刀口組包括一前刀片和一後刀片，曝光時該前刀片和該後刀片放置在該對準區域上方，阻擋照向該對準區域的照明光。
25. 如申請專利範圍第22項所述之曝光方法，其中該步驟二中由該掃描向刀口組在該曝光區域內在該掃描方向移動進行該曝光區域內的光照測試具體為：該後刀片上設置有一狹縫，在該遮罩台下方設置有一感測器，在測試時，該前刀片固定在該對準區域上方，該後刀片沿著該掃描方向移動，該感測器藉由接收依次透過該狹縫和該遮罩台的照明光，得到在該曝光區域內的照明光的光照參數。

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