TWI662731B - 蒸鍍掩膜板、ｏｌｅｄ面板及系統及蒸鍍監控方法 - Google Patents

蒸鍍掩膜板、ｏｌｅｄ面板及系統及蒸鍍監控方法 Download PDF

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Abstract

本發明提供了一種蒸鍍掩膜板、OLED面板及系統及蒸鍍監控方法，其中，所述蒸鍍掩膜板包括第一功能區域和位於所述第一功能區域外的第一外圍區域，所述第一功能區域具有用於蒸鍍形成功能層的第一開口，所述第一外圍區域具有用於監控所述第一開口的蒸鍍效果的第二開口。通過蒸鍍掩膜板的第二開口可以在OLED面板的觀察層上蒸鍍形成監控結構，通過所述監控結構可以監控所述蒸鍍掩膜板的第一開口的蒸鍍效果，從而可以及時的監控蒸鍍效果，達到實時在線監控的效果。

Description

蒸鍍掩膜板、OLED面板及系統及蒸鍍監控方法
本發明涉及OLED技術領域，特別涉及一種蒸鍍掩膜板、OLED面板及系統及蒸鍍監控方法。
有機電致發光(Organic Light Emitting Display，OLED)技術是一種新型的顯示、照明技術，近幾年內針對OLED器件的投資逐漸增加，OLED器件已經成為行業熱點。
在OLED器件的製造過程中，往往會利用蒸鍍掩膜板，通過真空蒸鍍方式形成有機材料層。蒸鍍掩膜板通常包括掩膜片(sheet mask)，掩膜片上具有圖案，在真空蒸鍍過程中，(加熱昇華後的)有機材料通過所述圖案後到片達基板上，從而在基板上形成有機材料層。
蒸鍍的效果對於OLED器件的製造非常重要，現有技術中無法實現蒸鍍效果(主要包括蒸鍍偏位)的及時監控，只是對每次蒸鍍結果進行抽檢，利用顯微鏡進行人為測量，該方法耗時耗力且不能對蒸鍍過程時時監控。因此，如何提供一種能夠比較實時的蒸鍍監控方法成了本領域技術人員需要解決的一個問題。
本發明的目的在於提供一種蒸鍍掩膜板、OLED面板及系統及蒸鍍監控方法，以解決現有技術中不能對蒸鍍過程及時監 控的問題。
為解決上述技術問題，本發明提供一種蒸鍍掩膜板，其包括第一功能區域和位於所述第一功能區域外的第一外圍區域，所述第一功能區域具有用於在一OLED面板上蒸鍍形成功能層的至少一個第一開口，所述第一外圍區域具有用於在所述OLED面板上蒸鍍形成監控結構的至少一個第二開口，所述監控結構用於監控所述至少一個第一開口的蒸鍍效果。
可選的，在所述的蒸鍍掩膜板中，所述至少一個第二開口的形狀和所述至少一個第一開口的形狀相同。
可選的，在所述的蒸鍍掩膜板中，所述第一外圍區域具有相對的第一邊緣和第二邊緣，所述第一邊緣較所述第二邊緣靠近所述第一功能區域；相較於第二邊緣，每個所述第二開口靠近所述第一邊緣。
可選的，在所述的蒸鍍掩膜板中，所述第二開口的數量為多個，多個所述第二開口均勻的分佈於所述第一外圍區域。
可選的，在所述的蒸鍍掩膜板中，所述蒸鍍掩膜板包括掩膜片和用於支撐所述掩膜片的支撐條，所述至少一個第一開口和所述多個第二開口均位於所述掩膜片上，所述支撐條上具有至少一個第三開口，所述至少一個第三開口僅露出所述多個第二開口中對應的至少一個。
本發明還提供一種OLED面板，其包括第二功能區域和位於所述第二功能區域外的第二外圍區域，所述第二外圍區域上形成有觀察層，其中，通過一蒸鍍掩膜板的至少一個第一開口在所述第二功能區域蒸鍍形成功能層，通過所述蒸鍍掩膜板的至少一個 第二開口在所述OLED面板的觀察層上蒸鍍形成至少一個監控結構，所述監控結構用於監控所述至少一個第一開口的蒸鍍效果。
可選的，在所述的OLED面板中，所述觀察層的材料為反光材料。
可選的，在所述的OLED面板中，所述觀察層的厚度為100nm~200nm。
可選的，在所述的OLED面板中，所述第二外圍區域的表面和所述第二功能區域的表面的高度差小於等於200nm。
本發明還提供一種OLED面板系統，其包括：蒸鍍掩膜板，包括第一功能區域和位於所述第一功能區域外的第一外圍區域，所述第一功能區域具有至少一個第一開口，所述第一外圍區域具有至少一個第二開口；OLED面板，置於所述蒸鍍掩膜板上方，所述OLED面板包括第二功能區域和位於所述第二功能區域外的第二外圍區域，所述第二外圍區域上形成有觀察層，其中，通過所述蒸鍍掩膜板的所述至少一個第一開口在所述OLED面板的第二功能區域上蒸鍍形成功能層，通過所述蒸鍍掩膜板的所述至少一個第二開口在所述OLED面板的觀察層上蒸鍍形成至少一個監控結構，所述監控結構用於監控所述至少一個第一開口的蒸鍍效果。
本發明還提供一種蒸鍍監控方法，包括：提供一蒸鍍掩膜板，所述蒸鍍掩膜板包括第一功能區域和位於所述第一功能區域外的第一外圍區域，所述第一功能區域具有至少一個第一開口，所述第一外圍區域具有至少一個第二開口；提供一OLED面板，所述OLED面板包括第二功能區域和位於所述第二功能區域外的第二外圍區域，所述第二外圍區域上形成有 觀察層；採用所述蒸鍍掩膜板在所述OLED面板的第二功能區域和觀察層上分別形成功能層和至少一個監控結構；獲取在所述OLED面板上的所述至少一個監控結構的實際中心；以及將所述監控結構的實際中心和所述監控結構的理論中心進行對比，以得到所述蒸鍍掩膜板的所述至少一個第一開口的蒸鍍效果。
可選的，在所述的蒸鍍監控方法中，當所述監控結構的實際中心和所述監控結構的理論中心位置相同時，認為通過所述至少一個第一開口的蒸鍍沒有發生偏位；當所述監控結構的實際中心和所述監控結構的理論中心位置不同時，認為通過所述至少一個第一開口的蒸鍍發生了偏位。
在本發明提供的蒸鍍掩膜板、OLED面板及系統及蒸鍍監控方法中，通過蒸鍍掩膜板的第二開口可以在OLED面板的觀察層上蒸鍍形成監控結構，通過所述監控結構可以監控所述蒸鍍掩膜板的第一開口的蒸鍍效果，從而可以及時的監控蒸鍍效果，達到實時在線監控的效果。
100‧‧‧蒸鍍掩膜板
110‧‧‧掩膜片
110a‧‧‧第一功能區域
110b‧‧‧第一外圍區域
111‧‧‧第一開口
112‧‧‧第二開口
200‧‧‧OLED面板
200a‧‧‧第二功能區域
200b‧‧‧第二外圍區域
210‧‧‧觀察層
220‧‧‧監控結構
230‧‧‧功能層
300‧‧‧蒸鍍掩膜板
310‧‧‧掩膜片
310a‧‧‧第一功能區域
310b‧‧‧第一外圍區域
311‧‧‧第一開口
312‧‧‧第二開口
320‧‧‧支撐條
321‧‧‧第三開口
400‧‧‧OLED面板
400a‧‧‧第二功能區域
400b‧‧‧第二外圍區域
410‧‧‧觀察層
420‧‧‧監控結構
430‧‧‧功能層
L1‧‧‧第一邊緣
L2‧‧‧第二邊緣
L3‧‧‧第一邊緣
L4‧‧‧第二邊緣
圖1是本發明實施例一的蒸鍍掩膜板的俯視示意圖；圖2a是本發明實施例一的OLED面板的俯視示意圖；圖2b是本發明實施例一的OLED面板的主視示意圖；圖3a是本發明實施例二的蒸鍍掩膜板中掩膜片的俯視示意圖； 圖3b是本發明實施例二的蒸鍍掩膜板中支撐條的俯視示意圖；圖4是本發明實施例二的OLED面板的俯視示意圖。
以下結合附圖和具體實施例對本發明提出的蒸鍍掩膜板、OLED面板及系統及蒸鍍監控方法作進一步詳細說明。根據下面說明和申請專利範圍，本發明的優點和特徵將更清楚。需說明的是，附圖均採用非常簡化的形式且均使用非精準的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本發明實施例的目的。
[實施例一]
請參考圖1，其為本發明實施例一的蒸鍍掩膜板的結構示意圖。如圖1所示，在本申請實施例中，所述蒸鍍掩膜板100包括第一功能區域110a和位於所述第一功能區域110a外的第一外圍區域110b，所述第一功能區域110a具有用於蒸鍍形成功能層的第一開口111，所述第一外圍區域110b具有用於監控所述第一開口111的蒸鍍效果的第二開口112。在本申請實施例中，所述功能層可以是通過蒸鍍工藝形成的、任何具有一定功能的材料層，例如，所述功能層可以是具有一定電子、空穴傳輸能力的有機材料層，所述功能層也可以是具有一定導電性能的金屬層，所述功能層還可以是具有一定絕緣性能的介質層等。在本申請實施例中，所述第一功能區域110a可以用於形成OLED面板的顯示區域，所述第一外圍區域110b可以用於形成OLED面板的非顯示區域。
較佳地，所述第二開口112的形狀和所述第一開口111的形狀相同。例如，所述第一開口111的形狀為方形，則所述第二開口112的形狀也為方形；又如，所述第一開口111的形狀為 圓形，則所述第二開口112的形狀也為圓形。進一步的，所述第二開口112的大小和所述第一開口111的大小相同。例如，所述第一開口111和所述第二開口112的形狀都為方形時，兩者的邊長也相等。由此，通過所述第二開口112監控所述第一開口111的蒸鍍效果時，監控結果將更加準確。
請繼續參考圖1，進一步的，所述第一外圍區域110b在每一側均具有相對的第一邊緣L1和第二邊緣L2，所述第一邊緣L1較所述第二邊緣L2靠近所述第一功能區域110a；相較於第二邊緣L2，所述第二開口112靠近所述第一邊緣L1。在此，將所述第二開口112設置於儘量靠近所述第一功能區域110a的位置，由此可以使得所述第二開口112的蒸鍍效果和所述第一開口111的蒸鍍效果基本一致，從而可以進一步提高監控結果的準確性。
在本申請實施例中，所述蒸鍍掩膜板100包括掩膜片110，所述掩膜片110包括第一功能區域110a和位於所述第一功能區域110a外的第一外圍區域110b，所述第一開口111和所述第二開口112均位於所述掩膜片110上。進一步的，所述蒸鍍掩膜板100還包括支撐條(圖中未示出)，所述掩膜片110固定於所述支撐條上。在本申請實施例中，所述支撐條露出所有所述第一開口111和所有所述第二開口112。
在本申請實施例中，所述掩膜片110呈矩形，進一步，所述第一功能區域110a也呈矩形，所述第一外圍區域110b呈矩形環狀。所述第二開口112的數量為多個，多個所述第二開口112均勻的分佈於所述第一外圍區域110b。例如，所述第二開口112的數量為八個，則可以在所述第一外圍區域110b的每一側的條形 區域上均勻設置兩個所述第二開口112。通過多個所述第二開口112監控所述第一開口111的蒸鍍效果，可以進一步提高監控結果的準確性。
在本申請實施例中，所述第一開口111用於蒸鍍單色像素，多個所述第二開口112用於監控與所述第一開口111蒸鍍的單色像素相同顏色像素的蒸鍍效果。例如，所述第一開口111用於蒸鍍紅色像素，多個所述第二開口112均用於監控紅色像素的蒸鍍效果。又如，所述第一開口111用於蒸鍍藍色像素，多個所述第二開口112均用於監控藍色像素的蒸鍍效果。
在本申請實施例中，針對不同顏色像素的蒸鍍，往往採用不同的蒸鍍掩膜板100，即蒸鍍紅色像素時，採用一塊蒸鍍掩膜板100，其上的第二開口112用於監控紅色像素的蒸鍍效果；蒸鍍藍色像素時，採用另一塊蒸鍍掩膜板100，其上的第二開口112用於監控藍色像素的蒸鍍效果。在這種情況下，可以保證較高的監控準確性，但同時，蒸鍍掩膜板100的製造成本會有所增加。
相應的，本實施例還提供一種OLED面板，具體的，請參考圖2a和圖2b，其中，圖2a為本發明實施例一的OLED面板的俯視示意圖，圖2b為本發明實施例一的OLED面板的主視示意圖。如圖2a和圖2b所示，所述OLED面板200包括第二功能區域200a和位於所述第二功能區域200a外的第二外圍區域200b，所述第二外圍區域200b上形成有觀察層210。具體的，所述OLED面板200可以包括玻璃基板，所述玻璃基板可以包括第二功能區域和第二外圍區域，所述觀察層210可以形成於所述第二外圍區域的玻璃基板上。在本申請實施例中，所述第二功能區域200a可以為顯 示區，所述第二外圍區域200b可以為非顯示區域。
請結合參考圖1、圖2a和圖2b，本實施例還提供一種OLED面板系統，所述OLED面板系統包括：所述蒸鍍掩膜板100及所述OLED面板200，所述蒸鍍掩膜板100位於所述OLED面板200的下方，所述蒸鍍掩膜板100的第一開口111用於在所述OLED面板200的第二功能區域200a上蒸鍍形成功能層230，所述蒸鍍掩膜板100的第二開口112用於在所述OLED面板200的觀察層210上蒸鍍形成監控結構220，所述監控結構220用於監控所述第一開口111的蒸鍍效果。
在本申請實施例中，通過所述觀察層210能夠使得所述監控結構220易於被觀察到。例如，所述觀察層210的材料為反光材料，從而能夠突出所述監控結構220，使得所述監控結構220易於被觀察到，特別的，易於通過光學設備被抓取；又如，所述觀察層210的顏色和所述監控結構220的顏色具有較大的反差，從而使得所述監控結構220易於通過光學設備被抓取。
在此，通過所述蒸鍍掩膜板100的第二開口112在所述OLED面板200的觀察層210上蒸鍍形成監控結構220時，能夠非常容易的抓取到所述監控結構220(的外形)，從而易於根據所述監控結構220判斷所述第一開口111的蒸鍍效果。
較佳的，所述觀察層210的厚度為100nm~200nm。例如，所述觀察層210的厚度可以為100nm、110nm、130nm、150nm、170nm、185nm或者200nm等。在這一厚度下，能夠使得所述監控結構220的外形更加容易被抓取。進一步的，所述觀察層210可以是銀(Ag)、氧化銦錫(ITO)等。
請繼續參考圖2a和圖2b，在本申請實施例中，所述觀察層210覆蓋整個所述第二外圍區域200b。在本申請的其他實施例中，所述觀察層210也可以僅覆蓋部分所述第二外圍區域200b，具體的，所述觀察層210覆蓋的區域與通過所述第二開口112蒸鍍的區域對應，從而可以使得所述監控結構220能夠形成於所述觀察層210上。
較佳的，所述第二外圍區域200b的表面和所述第二功能區域200a的表面的高度差小於等於200nm。更佳的，所述第二外圍區域200b的表面和所述第二功能區域200a的表面的高度差小於等於100nm。由此，能夠進一步提高通過所述蒸鍍掩膜板100的第二開口112在所述OLED面板200的觀察層210上蒸鍍形成的監控結構220對於所述第一開口111的蒸鍍效果的監控。
具體的，所述第二功能區域200a的玻璃基板上可以形成有氧化矽層、氮化矽層、鈦鋁鈦層、有機膠層等膜層，其厚度可以在5μm~10μm。相應的，所述第二外圍區域200b的玻璃基板上也可以形成有氧化矽層、氮化矽層、鈦鋁鈦層、有機膠層等，在此基礎上，再形成觀察層210。其中，所述第二外圍區域200b的玻璃基板上的氧化矽層、氮化矽層、鈦鋁鈦層、有機膠層等可以跟所述第二功能區域200a的玻璃基板上的氧化矽層、氮化矽層、鈦鋁鈦層、有機膠層等同時形成。由此，既能夠保證所述第二外圍區域200b的表面高度和所述第二功能區域200a的表面高度相似，又能夠避免工藝步驟的增加。
在本申請實施例中，通過蒸鍍掩膜板100的第二開口112可以在OLED面板200的觀察層210上蒸鍍形成監控結構220， 通過所述監控結構220可以監控所述蒸鍍掩膜板100的第一開口111的蒸鍍效果，從而可以及時的監控蒸鍍效果，達到實時在線監控的效果。
相應的，本實施例還提供一種蒸鍍監控方法，所述蒸鍍監控方法包括：採用所述蒸鍍掩膜板100在所述OLED面板200上形成功能層230和監控結構220；獲取在所述OLED面板200上的所述監控結構220的實際中心；及將所述監控結構220的實際中心和所述監控結構220的理論中心進行對比，以得到所述蒸鍍掩膜板100的第一開口111的蒸鍍效果。
其中，所述OLED面板200上的所述監控結構220的實際中心可以通過如下方式獲取：先可通過圖像抓取設備(例如照相機、攝影機等)抓取所述監控結構220(的外形或邊界)；接著，根據抓取的所述監控結構220，計算出其中心，即得到了所述監控結構220的實際中心。易知的，當得到了所述監控結構220的外形或邊界後，將很容易通過計算得到其中心。例如，所述監控結構220的形狀為方形，則兩條對角線的交點即為所述監控結構220的中心；又如，所述監控結構220的形狀為圓形，則其圓心即為所述監控結構220的中心。
在本申請實施例中，當所述監控結構220的實際中心和所述監控結構220的理論中心位置相同時，則說明通過所述第二開口112的蒸鍍沒有發生偏位，並可推測出通過所述第一開口111 的蒸鍍也沒有發生偏位；當所述監控結構220的實際中心和所述監控結構220的理論中心位置不同時，則說明通過所述第二開口112的蒸鍍發生了偏位，並可推測出通過所述第一開口111的蒸鍍也發生了偏位。其中，所述監控結構220的實際中心和所述監控結構220的理論中心的位置比對可以通過比對兩者的坐標值來實現。
進一步的，上述蒸鍍監控方法可以通過一具有圖像抓取功能和計算功能的終端設備實現，從而使得整個蒸鍍監控非常方便、高效和準確。
進一步的，本實施例還提供一種蒸鍍調整方法，所述蒸鍍調整方法包括：採用上述蒸鍍監控方法得到所述蒸鍍掩膜板100的第一開口111在所述OLED面板200上的蒸鍍效果；當通過所述第一開口111的蒸鍍發生了偏位時，調整所述蒸鍍掩膜板100相對於所述OLED面板200的位置。
在本申請實施例中，例如，當比對所述監控結構220的實際中心和所述監控結構220的理論中心時，發現所述監控結構220的實際中心位於所述監控結構220的理論中心的第一側，則可以保持所述OLED面板200的位置不變，而將所述蒸鍍掩膜板100向所述理論中心的第二側移動，所述第二側和所述第一側相對，從而便可實現對於所述蒸鍍掩膜板100的調整，提高後續的蒸鍍效果。
綜上可見，在本發明實施例提供的蒸鍍掩膜板、OLED面板及系統、蒸鍍監控方法及調整方法中，通過蒸鍍掩膜板的第二開口可以在OLED面板的觀察層上蒸鍍形成監控結構，通過所述監控結構可以監控所述蒸鍍掩膜板的第一開口的蒸鍍效果，從而可以 及時的監控蒸鍍效果，達到實時在線監控的效果。
[實施例二]
請參考圖3a，其為本發明實施例二的蒸鍍掩膜板中掩膜片的俯視示意圖。如圖3a所示，在本申請實施例中，所述蒸鍍掩膜板300包括第一功能區域310a和位於所述第一功能區域310a外的第一外圍區域310b，所述第一功能區域310a具有用於蒸鍍形成功能層的第一開口311，所述第一外圍區域310b具有用於監控所述第一開口311的蒸鍍效果的第二開口312。在本申請實施例中，所述功能層可以是通過蒸鍍工藝形成的、任何具有一定功能的材料層，例如，所述功能層可以是具有一定電子、空穴傳輸能力的有機材料層，所述功能層也可以是具有一定導電性能的金屬層，所述功能層還可以是具有一定絕緣性能的介質層等。在本申請實施例中，所述第一功能區域310a可以用於形成OLED面板的顯示區域，所述第一外圍區域310b可以用於形成OLED面板的非顯示區域。
較佳的，所述第二開口312的形狀和所述第一開口311的形狀相同。例如，所述第一開口311的形狀為方形，則所述第二開口312的形狀也為方形；又如，所述第一開口311的形狀為圓形，則所述第二開口312的形狀也為圓形。進一步的，所述第二開口312的大小和所述第一開口311的大小相同。例如，所述第一開口311和所述第二開口312的形狀都為方形時，兩者的邊長相等；所述第一開口311和所述第二開口312的形狀都為圓形時，兩者的直徑也相等。由此，通過所述第二開口312監控所述第一開口311的蒸鍍效果時，監控結果將更加準確。
請繼續參考圖3a，進一步的，所述第一外圍區域310b 在每一側均具有相對的第一邊緣L3和第二邊緣L4，所述第一邊緣L3較所述第二邊緣L4靠近所述第一功能區域310a；相較於第二邊緣L4，所述第二開口312靠近所述第一邊緣L3。在此，將所述第二開口312設置於儘量靠近所述第一功能區域310a的位置，由此可以使得所述第二開口312的蒸鍍效果和所述第一開口311的蒸鍍效果基本一致，從而可以進一步提高監控結果的準確性。
在本申請實施例中，所述蒸鍍掩膜板300包括掩膜片310，所述掩膜片310包括第一功能區域310a和位於所述第一功能區域310a外的第一外圍區域310b，所述第一開口311和所述第二開口312均位於所述掩膜片310上。
在本申請實施例中，所述掩膜片310呈矩形，進一步，所述第一功能區域310a也呈矩形，所述第一外圍區域310b呈矩形環狀。所述第二開口312的數量為多個，多個所述第二開口312均勻的分佈於所述第一外圍區域310b。例如，所述第二開口312的數量為十二個，則可以在所述第一外圍區域310b的每一側的條形區域上均勻設置三個所述第二開口312。通過多個所述第二開口312監控所述第一開口311的蒸鍍效果，可以進一步提高監控結果的準確性。
在本申請實施例中，所述第一開口311用於蒸鍍單色像素，多個所述第二開口312用於監控不同顏色像素的蒸鍍效果。例如，所述第一開口311用於蒸鍍紅色像素，部分數量的所述第二開口312用於監控紅色像素的蒸鍍效果。又如，所述第一開口311用於蒸鍍藍色像素，部分數量的所述第二開口312用於監控藍色像素的蒸鍍效果。
在本申請實施例中，針對不同顏色像素的蒸鍍，可以採用同一蒸鍍掩膜板300，即蒸鍍紅色像素時，採用一塊蒸鍍掩膜板300，其上的部分數量的所述第二開口312用於監控紅色像素的蒸鍍效果；蒸鍍藍色像素時，繼續採用這一塊蒸鍍掩膜板300，其上的部分數量的所述第二開口312用於監控藍色像素的蒸鍍效果，其中，用於監控藍色像素的蒸鍍效果的部分數量的所述第二開口312與用於監控紅色像素的蒸鍍效果的部分數量的所述第二開口312不同(即不共用任何第二開口)。在這種情況下，不僅可以實現對於所述第一開口311蒸鍍效果的監控，同時，也不會增加蒸鍍掩膜板300的製造成本。
在本申請實施例中，多個所述第二開口312用於監控不同顏色像素的蒸鍍效果，例如，一部分數量的所述第二開口312可以用於監控紅色像素的蒸鍍效果，一部分數量的所述第二開口312可以用於監控藍色像素的蒸鍍效果，還有一部分數量的所述第二開口312可以用於監控綠色像素的蒸鍍效果，因此，在通過所述第二開口312監控所述第一開口311的蒸鍍效果時，在蒸鍍不同顏色的像素時，可以僅採用對應的部分數量的所述第二開口312，其餘不對應的部分數量的所述第二開口312則予以忽略。
接著，請參考圖3b，其為本發明實施例二的蒸鍍掩膜板中支撐條的俯視示意圖。如圖3b所示，所述蒸鍍掩膜板300還包括用於支撐所述掩膜片310的支撐條320，所述支撐條320上具有第三開口321，所述第三開口321僅露出部分數量的所述第二開口312，露出的所述第二開口312用於監控與所述第一開口311蒸鍍的單色像素相同顏色像素的蒸鍍效果。即在本申請實施例的一 實現方式中，通過所述支撐條320對於暫時用不到的所述第二開口312進行遮擋。例如，當採用所述第一開口311進行紅色像素的蒸鍍時，所述支撐條320的第三開口321僅露出用於監控紅色像素的蒸鍍效果的部分數量的所述第二開口312，例如，所述支撐條320遮擋住了用於監控藍色像素的蒸鍍效果的部分數量的所述第二開口312和用於監控綠色像素的蒸鍍效果的部分數量的所述第二開口312。在這種情況下，蒸鍍不同顏色的像素時，往往需要更換所述支撐條320或者改變所述支撐條320以使得所述支撐條320上的所述第三開口321露出不同的所述第二開口312，但，由於支撐條的成本相對較低，在此種方式下，既可以保證較高的監控準確性，同時又能保證相對較低的成本。
相應的，本實施例還提供一種OLED面板，具體的，請參考圖4，其為本發明實施例二的OLED面板的俯視示意圖。如圖4所示，所述OLED面板400包括第二功能區域400a和位於所述第二功能區域400a外的第二外圍區域400b，所述第二外圍區域400b上形成有觀察層410。具體的，所述OLED面板400可以包括玻璃基板，所述玻璃基板可以包括第二功能區域和第二外圍區域，所述觀察層410可以形成於所述第二外圍區域的玻璃基板上。在本申請實施例中，所述第二功能區域400a可以為顯示區，所述第二外圍區域400b可以為非顯示區域。
請結合參考圖3a、圖3b和圖4，本實施例還提供一種OLED面板系統，所述OLED面板系統包括：所述蒸鍍掩膜板300及所述OLED面板400，所述蒸鍍掩膜板300位於所述OLED面板400的下方，所述蒸鍍掩膜板300的第一開口311用於在所述 OLED面板400的第二功能區域400a上蒸鍍形成功能層430，所述蒸鍍掩膜板300的第二開口312用於在所述OLED面板400的觀察層410上蒸鍍形成監控結構420，所述監控結構420用於監控所述第一開口311的蒸鍍效果。
在本申請實施例中，通過所述觀察層410能夠使得所述監控結構420易於被觀察到。例如，所述觀察層410的材料為反光材料，從而能夠突出所述監控結構420，使得所述監控結構420易於被觀察到，特別的，易於通過光學設備被抓取；又如，所述觀察層410的顏色和所述監控結構420的顏色具有較大的反差，從而使得所述監控結構420易於通過光學設備被抓取。
在此，通過所述蒸鍍掩膜板300的第二開口312在所述OLED面板400的觀察層410上蒸鍍形成監控結構420時，能夠非常容易的抓取到所述監控結構420(的外形)，從而易於根據所述監控結構420判斷所述第一開口311的蒸鍍效果。
較佳的，所述觀察層410的厚度為100nm~200nm。例如，所述觀察層410的厚度可以為100nm、110nm、130nm、150nm、170nm、185nm或者200nm等。在這一厚度下，能夠使得所述監控結構420的外形更加容易被抓取。進一步的，所述觀察層410可以是銀(Ag)、氧化銦錫(ITO)等。
請繼續參考圖4，在本申請實施例中，所述觀察層410僅覆蓋部分所述第二外圍區域400b，具體的，所述觀察層410覆蓋的區域與通過所述第二開口312蒸鍍的區域對應，較佳的，所述觀察層410覆蓋的區域大於等於通過所述第二開口312蒸鍍的區域，從而可以使得所述監控結構420能夠形成於所述觀察層410上。在 本申請的其他實施例中，所述觀察層410也可以覆蓋整個所述第二外圍區域400b。
較佳的，所述第二外圍區域400b的表面和所述第二功能區域400a的表面的高度差小於等於200nm。更佳的，所述第二外圍區域400b的表面和所述第二功能區域400a的表面的高度差小於等於100nm。由此，能夠進一步提高通過所述蒸鍍掩膜板300的第二開口312在所述OLED面板400的觀察層410上蒸鍍形成的監控結構420對於所述第一開口311的蒸鍍效果的監控。
具體的，所述第二功能區域400a的玻璃基板上可以形成有氧化矽層、氮化矽層、鈦鋁鈦層、有機膠層等膜層，其厚度可以在5μm~10μm。相應的，所述第二外圍區域400b的玻璃基板上也可以形成有氧化矽層、氮化矽層、鈦鋁鈦層、有機膠層等，在此基礎上，再形成觀察層410。其中，所述第二外圍區域400b的玻璃基板上的氧化矽層、氮化矽層、鈦鋁鈦層、有機膠層等可以跟所述第二功能區域400a的玻璃基板上的氧化矽層、氮化矽層、鈦鋁鈦層、有機膠層等同時形成。由此，既能夠保證所述第二外圍區域400b的表面高度和所述第二功能區域400a的表面高度相似，又能夠避免工藝步驟的增加。
在本申請實施例中，通過蒸鍍掩膜板300的第二開口312可以在OLED面板400的觀察層410上蒸鍍形成監控結構420，通過所述監控結構420可以監控所述蒸鍍掩膜板300的第一開口311的蒸鍍效果，從而可以及時的監控蒸鍍效果，達到實時在線監控的效果。
相應的，本實施例還提供一種蒸鍍監控方法，所述蒸 鍍監控方法包括：採用所述蒸鍍掩膜板300在所述OLED面板400上形成功能層430和監控結構420；獲取在所述OLED面板400上的所述監控結構420的實際中心；及將所述監控結構420的實際中心和所述監控結構420的理論中心進行對比，以得到所述蒸鍍掩膜板300的第一開口311的蒸鍍效果。
其中，所述OLED面板400上的所述監控結構420的實際中心可以通過如下方式獲取：先可通過圖像抓取設備(例如照相機、攝影機等)抓取所述監控結構420(的外形或邊界)；接著，根據抓取的所述監控結構420，計算出其中心，即得到了所述監控結構420的實際中心。易知的，當得到了所述監控結構420的外形或邊界後，將很容易通過計算得到其中心。例如，所述監控結構420的形狀為方形，則兩條對角線的交點即為所述監控結構420的中心；又如，所述監控結構420的形狀為圓形，則其圓心即為所述監控結構420的中心。
在本申請實施例中，當所述監控結構420的實際中心和所述監控結構420的理論中心位置相同時，則說明通過所述第二開口312的蒸鍍沒有發生偏位，並可推測出通過所述第一開口311的蒸鍍也沒有發生偏位；當所述監控結構420的實際中心和所述監控結構420的理論中心位置不同時，則說明通過所述第二開口312的蒸鍍發生了偏位，並可推測出通過所述第一開口311的蒸鍍也發生了偏位。其中，所述監控結構420的實際中心和所述監控結構420 的理論中心的位置比對可以通過比對兩者的坐標值來實現。
進一步的，上述蒸鍍監控方法可以通過一具有圖像抓取功能和計算功能的終端設備實現，從而使得整個蒸鍍監控非常方便、高效和準確。
進一步的，本實施例還提供一種蒸鍍調整方法，所述蒸鍍調整方法包括：採用上述蒸鍍監控方法得到所述蒸鍍掩膜板300的第一開口311在所述OLED面板400上的蒸鍍效果；當通過所述第一開口311的蒸鍍發生了偏位時，調整所述蒸鍍掩膜板300相對於所述OLED面板400的位置。
在本申請實施例中，例如，當比對所述監控結構420的實際中心和所述監控結構420的理論中心時，發現所述監控結構420的實際中心位於所述監控結構420的理論中心的第一側，則可以保持所述OLED面板400的位置不變，而將所述蒸鍍掩膜板300向所述理論中心的第二側移動，所述第二側和所述第一側相對，從而便可實現對於所述蒸鍍掩膜板300的調整，提高後續的蒸鍍效果。
綜上可見，在本發明實施例提供的蒸鍍掩膜板、OLED面板及系統、蒸鍍監控方法及調整方法中，通過蒸鍍掩膜板的第二開口可以在OLED面板的觀察層上蒸鍍形成監控結構，通過所述監控結構可以監控所述蒸鍍掩膜板的第一開口的蒸鍍效果，從而可以及時的監控蒸鍍效果，達到實時在線監控的效果。
上述描述僅是對本發明較佳實施例的描述，並非對本發明範圍的任何限定，本發明領域的普通技術人員根據上述揭示內容做的任何變更、修飾，均屬於申請專利範圍的保護範圍。

Claims (12)

  1. 一種蒸鍍掩膜板，其特徵在於，所述蒸鍍掩膜板包括第一功能區域和位於所述第一功能區域外的第一外圍區域，所述第一功能區域具有用於在一OLED面板上蒸鍍形成功能層的至少一個第一開口，所述第一外圍區域具有用於在所述OLED面板上蒸鍍形成監控結構的至少一個第二開口，所述監控結構用於監控所述至少一個第一開口的蒸鍍效果。
  2. 如請求項1之蒸鍍掩膜板，其中，所述至少一個第二開口的形狀和所述至少一個第一開口的形狀相同。
  3. 如請求項1或2之蒸鍍掩膜板，其中，所述第一外圍區域具有相對的第一邊緣和第二邊緣，所述第一邊緣較所述第二邊緣靠近所述第一功能區域；相較於第二邊緣，每個所述第二開口靠近所述第一邊緣。
  4. 如請求項1或2之蒸鍍掩膜板，其中，所述第二開口的數量為多個，多個所述第二開口均勻的分佈於所述第一外圍區域。
  5. 如請求項4之蒸鍍掩膜板，其中，所述蒸鍍掩膜板包括掩膜片和用於支撐所述掩膜片的支撐條，所述至少一個第一開口和所述多個第二開口均位於所述掩膜片上，所述支撐條上具有至少一個第三開口，所述至少一個第三開口僅露出所述多個第二開口中對應的至少一個。
  6. 一種OLED面板，其特徵在於，所述OLED面板包括第二功能區域和位於所述第二功能區域外的第二外圍區域，所述第二外圍區域上形成有觀察層，其中，通過一蒸鍍掩膜板的至少一個第一開口在所述第二功能區域蒸鍍形成功能層，通過所述蒸鍍掩膜板的至少一個第二開口在所述OLED面板的觀察層上蒸鍍形成至少一個監控結構，所述監控結構用於監控所述至少一個第一開口的蒸鍍效果。
  7. 如請求項6之OLED面板，其中，所述觀察層的材料為反光材料。
  8. 如請求項6或7之OLED面板，其中，所述觀察層的厚度為100nm~200nm。
  9. 如請求項6或7之OLED面板，其中，所述第二外圍區域的表面和所述第二功能區域的表面的高度差小於等於200nm。
  10. 一種OLED面板系統，其特徵在於，所述OLED面板系統包括：蒸鍍掩膜板，包括第一功能區域和位於所述第一功能區域外的第一外圍區域，所述第一功能區域具有至少一個第一開口，所述第一外圍區域具有至少一個第二開口；OLED面板，置於所述蒸鍍掩膜板上方，所述OLED面板包括第二功能區域和位於所述第二功能區域外的第二外圍區域，所述第二外圍區域上形成有觀察層，其中，通過所述蒸鍍掩膜板的所述至少一個第一開口在所述OLED面板的第二功能區域上蒸鍍形成功能層，通過所述蒸鍍掩膜板的所述至少一個第二開口在所述OLED面板的觀察層上蒸鍍形成至少一個監控結構，所述監控結構用於監控所述至少一個第一開口的蒸鍍效果。
  11. 一種蒸鍍監控方法，其特徵在於，所述蒸鍍監控方法包括：提供一蒸鍍掩膜板，所述蒸鍍掩膜板包括第一功能區域和位於所述第一功能區域外的第一外圍區域，所述第一功能區域具有至少一個第一開口，所述第一外圍區域具有至少一個第二開口；提供一OLED面板，所述OLED面板包括第二功能區域和位於所述第二功能區域外的第二外圍區域，所述第二外圍區域上形成有觀察層；採用所述蒸鍍掩膜板在所述OLED面板的第二功能區域和觀察層上分別形成功能層和至少一個監控結構；獲取在所述OLED面板上的所述至少一個監控結構的實際中心；以及將所述監控結構的實際中心和所述監控結構的理論中心進行對比，以得到所述蒸鍍掩膜板的所述至少一個第一開口的蒸鍍效果。
  12. 如請求項11之蒸鍍監控方法，其中，當所述監控結構的實際中心和所述監控結構的理論中心位置相同時，認為通過所述至少一個第一開口的蒸鍍沒有發生偏位；當所述監控結構的實際中心和所述監控結構的理論中心位置不同時，認為通過所述至少一個第一開口的蒸鍍發生了偏位。
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