CN109585695A - 蒸镀掩膜板、oled面板及系统及蒸镀监控方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种蒸镀掩膜板、OLED面板及系统及蒸镀监控方法，其中，所述蒸镀掩膜板包括第一功能区域和位于所述第一功能区域外的第一外围区域，所述第一功能区域具有用于蒸镀形成功能层的第一开口，所述第一外围区域具有用于监控所述第一开口的蒸镀效果的第二开口。通过蒸镀掩膜板的第二开口可以在OLED面板的观察层上蒸镀形成监控结构，通过所述监控结构可以监控所述蒸镀掩膜板的第一开口的蒸镀效果，从而可以及时的监控蒸镀效果，达到实时在线监控的效果。

Description

蒸镀掩膜板、OLED面板及系统及蒸镀监控方法
技术领域
本发明涉及OLED技术领域，特别涉及一种蒸镀掩膜板、OLED面板及系统及蒸镀监控方法。
背景技术
有机电致发光技术(Organic Light Emitting Diode，OLED)是一种新型的显示、照明技术，近几年内针对OLED器件的投资逐渐增加，OLED器件已经成为行业热点。
在OLED器件的制造过程中，往往会利用蒸镀掩膜板，通过真空蒸镀方式形成有机材料层。蒸镀掩膜板通常包括掩膜片(sheet mask)，掩膜片上具有图案，在真空蒸镀过程中，(加热升华后的)有机材料通过所述图案后到片达基板上，从而在基板上形成有机材料层。
蒸镀的效果对于OLED器件的制造非常重要，现有技术中无法实现蒸镀效果(主要包括蒸镀偏位)的及时监控，只是对每次蒸镀结果进行抽检，利用显微镜进行人为测量，该方法耗时耗力且不能对蒸镀过程时时监控。因此，如何提供一种能够比较实时的蒸镀监控方法成了本领域技术人员需要解决的一个问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种蒸镀掩膜板、OLED面板及系统及蒸镀监控方法，以解决现有技术中不能对蒸镀过程及时监控的问题。
为解决上述技术问题，本发明提供一种蒸镀掩膜板，所述蒸镀掩膜板包括第一功能区域和位于所述第一功能区域外的第一外围区域，所述第一功能区域具有用于蒸镀形成功能层的第一开口，所述第一外围区域具有用于监控所述第一开口的蒸镀效果的第二开口。
可选的，在所述的蒸镀掩膜板中，所述第二开口的形状和所述第一开口的形状相同。
可选的，在所述的蒸镀掩膜板中，所述第一外围区域具有相对的第一边沿和第二边沿，所述第一边沿较所述第二边沿靠近所述第一功能区域；相较于第二边沿，所述第二开口靠近所述第一边沿。
可选的，在所述的蒸镀掩膜板中，所述第二开口的数量为多个，多个所述第二开口均匀的分布于所述第一外围区域。
可选的，在所述的蒸镀掩膜板中，所述蒸镀掩膜板包括掩膜片和用于支撑所述掩膜片的支撑条，所述第一开口和所述第二开口均位于所述掩膜片上，所述支撑条上具有第三开口，所述第三开口仅露出部分数量的所述第二开口。
本发明还提供一种OLED面板，所述OLED面板包括第二功能区域和位于所述第二功能区域外的第二外围区域，所述第二外围区域上形成有观察层。
可选的，在所述的OLED面板中，所述观察层的材料为反光材料。
可选的，在所述的OLED面板中，所述观察层的厚度为100nm～200nm。
可选的，在所述的OLED面板中，所述第二外围区域的表面和所述第二功能区域的表面的高度差小于等于200nm。
本发明还提供一种OLED面板系统，所述OLED面板系统包括：如上所述的蒸镀掩膜板及如上所述的OLED面板，所述蒸镀掩膜板位于所述OLED面板的下方，所述蒸镀掩膜板的第一开口用于在所述OLED面板的第二功能区域上蒸镀形成功能层，所述蒸镀掩膜板的第二开口用于在所述OLED面板的观察层上蒸镀形成监控结构，所述监控结构用于监控所述第一开口的蒸镀效果。
本发明还提供一种蒸镀监控方法，所述蒸镀监控方法包括：
采用如上所述的蒸镀掩膜板在如上所述的OLED面板上形成功能层和监控结构；
获取在所述OLED面板上的所述监控结构的实际中心；及
将所述监控结构的实际中心和所述监控结构的理论中心进行对比，以得到所述蒸镀掩膜板的第一开口的蒸镀效果。
可选的，在所述的蒸镀监控方法中，当所述监控结构的实际中心和所述监控结构的理论中心位置相同时，通过所述第一开口的蒸镀没有发生偏位；当所述监控结构的实际中心和所述监控结构的理论中心位置不同时，通过所述第一开口的蒸镀发生了偏位。
在本发明提供的蒸镀掩膜板、OLED面板及系统及蒸镀监控方法中，通过蒸镀掩膜板的第二开口可以在OLED面板的观察层上蒸镀形成监控结构，通过所述监控结构可以监控所述蒸镀掩膜板的第一开口的蒸镀效果，从而可以及时的监控蒸镀效果，达到实时在线监控的效果。
附图说明
图1是本发明实施例一的蒸镀掩膜板的俯视示意图；
图2a是本发明实施例一的OLED面板的俯视示意图；
图2b是本发明实施例一的OLED面板的主视示意图；
图3a是本发明实施例二的蒸镀掩膜板中掩膜片的俯视示意图；
图3b是本发明实施例二的蒸镀掩膜板中支撑条的俯视示意图；
图4是本发明实施例二的OLED面板的俯视示意图；
其中，
100-蒸镀掩膜板；110-掩膜片；110a-第一功能区域；110b-第一外围区域；111-第一开口；112-第二开口；L1-第一边沿；L2-第二边沿；
200-OLED面板；200a-第二功能区域；200b-第二外围区域；210-观察层；220-监控结构；230-功能层；
300-蒸镀掩膜板；310-掩膜片；310a-第一功能区域；310b-第一外围区域；311-第一开口；312-第二开口；320-支撑条；321-第三开口；L3-第一边沿；L4-第二边沿；
400-OLED面板；400a-第二功能区域；400b-第二外围区域；410-观察层；420-监控结构；430-功能层。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本发明提出的蒸镀掩膜板、OLED面板及系统及蒸镀监控方法作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
【实施例一】
请参考图1，其为本发明实施例一的蒸镀掩膜板的结构示意图。如图1所示，在本申请实施例中，所述蒸镀掩膜板100包括第一功能区域110a和位于所述第一功能区域110a外的第一外围区域110b，所述第一功能区域110a具有用于蒸镀形成功能层的第一开口111，所述第一外围区域110b具有用于监控所述第一开口111的蒸镀效果的第二开口112。在本申请实施例中，所述功能层可以是通过蒸镀工艺形成的、任何具有一定功能的材料层，例如，所述功能层可以是具有一定电子、空穴传输能力的有机材料层，所述功能层也可以是具有一定导电性能的金属层，所述功能层还可以是具有一定绝缘性能的介质层等。在本申请实施例中，所述第一功能区域110a可以用于形成显示区域，所述第一外围区域110b可以用于形成非显示区域。
优选的，所述第二开口112的形状和所述第一开口111的形状相同。例如，所述第一开口111的形状为方形，则所述第二开口112的形状也为方形；又如，所述第一开口111的形状为圆形，则所述第二开口112的形状也为圆形。进一步的，所述第二开口112的大小和所述第一开口111的大小相同。例如，所述第一开口111和所述第二开口112的形状都为方形时，两者的边长也相等。由此，通过所述第二开口112监控所述第一开口111的蒸镀效果时，监控结果将更加准确。
请继续参考图1，进一步的，所述第一外围区域110b具有相对的第一边沿L1和第二边沿L2，所述第一边沿L1较所述第二边沿L2靠近所述第一功能区域110a；相较于第二边沿L2，所述第二开口112靠近所述第一边沿L1。在此，将所述第二开口112设置于尽量靠近所述第一功能区域110a的位置，由此可以使得所述第二开口112的蒸镀效果和所述第一开口111的蒸镀效果基本一致，从而可以进一步提高监控结果的准确性。
在本申请实施例中，所述蒸镀掩膜板100包括掩膜片110，所述掩膜片110包括第一功能区域110a和位于所述第一功能区域110a外的第一外围区域110b，所述第一开口111和所述第二开口112均位于所述掩膜片110上。进一步的，所述蒸镀掩膜板100还包括支撑条(图中未示出)，所述掩膜片110固定于所述支撑条上。在本申请实施例中，所述支撑条露出(所有)所述第一开口111和(所有)所述第二开口112。
在本申请实施例中，所述掩膜片110呈矩形，进一步，所述第一功能区域110a也呈矩形，所述第一外围区域110b呈矩形环状。所述第二开口112的数量为多个，多个所述第二开口112均匀的分布于所述第一外围区域110b。例如，所述第二开口112的数量为八个，则可以在所述第一外围区域110b的每一条形区域上均匀设置两个所述第二开口112。通过多个所述第二开口112监控所述第一开口111的蒸镀效果，可以进一步提高监控结果的准确性。
在本申请实施例中，所述第一开口111用于蒸镀单色像素，多个所述第二开口112用于监控与所述第一开口111蒸镀的单色像素相同颜色像素的蒸镀效果。例如，所述第一开口111用于蒸镀红色像素，多个所述第二开口112均用于监控红色像素的蒸镀效果。又如，所述第一开口111用于蒸镀蓝色像素，多个所述第二开口112均用于监控蓝色像素的蒸镀效果。
在本申请实施例中，针对不同颜色像素的蒸镀，往往采用不同的蒸镀掩膜板100，即蒸镀红色像素时，采用一块蒸镀掩膜板100，其上的第二开口112用于监控红色像素的蒸镀效果；蒸镀蓝色像素时，采用另一块蒸镀掩膜板100，其上的第二开口112用于监控蓝色像素的蒸镀效果。在这种情况下，可以保证较高的监控准确性，但同时，蒸镀掩膜板100的制造成本会有所增加。
相应的，本实施例还提供一种OLED面板，具体的，请参考图2a和图2b，其中，图2a为本发明实施例一的OLED面板的俯视示意图，图2b为本发明实施例一的OLED面板的主视示意图。如图2a和图2b所示，所述OLED面板200包括第二功能区域200a和位于所述第二功能区域200a外的第二外围区域200b，所述第二外围区域200b上形成有观察层210。具体的，所述OLED面板200可以包括玻璃基板，所述玻璃基板可以包括第二功能区域和第二外围区域，所述观察层210可以形成于所述第二外围区域的玻璃基板上。在本申请实施例中，所述第二功能区域200a可以为显示区，所述第二外围区域200b可以为非显示区域。
请结合参考图1、图2a和图2b，本实施例还提供一种OLED面板系统，所述OLED面板系统包括：所述蒸镀掩膜板100及所述OLED面板200，所述蒸镀掩膜板100位于所述OLED面板200的下方，所述蒸镀掩膜板100的第一开口111用于在所述OLED面板200的第二功能区域200a上蒸镀形成功能层230，所述蒸镀掩膜板100的第二开口112用于在所述OLED面板200的观察层210上蒸镀形成监控结构220，所述监控结构220用于监控所述第一开口111的蒸镀效果。
在本申请实施例中，通过所述观察层210能够使得所述监控结构220易于被观察到。例如，所述观察层210的材料为反光材料，从而能够突出所述监控结构220，使得所述监控结构220易于被观察到，特别的，易于通过光学设备被抓取；又如，所述观察层210的颜色和所述监控结构220的颜色具有较大的反差，从而使得所述监控结构220易于通过光学设备被抓取。
在此，通过所述蒸镀掩膜板100的第二开口112在所述OLED面板200的观察层210上蒸镀形成监控结构220时，能够非常容易的抓取到所述监控结构220(的外形)，从而易于根据所述监控结构220判断所述第一开口111的蒸镀效果。
优选的，所述观察层210的厚度为100nm～200nm。例如，所述观察层210的厚度可以为100nm、110nm、130nm、150nm、170nm、185nm或者200nm等。在这一厚度下，能够使得所述监控结构220的外形更加容易被抓取。进一步的，所述观察层210可以是银(Ag)、氧化铟锡(ITO)等。
请继续参考图2a和图2b，在本申请实施例中，所述观察层210覆盖整个所述第二外围区域200b。在本申请的其他实施例中，所述观察层210也可以仅覆盖部分所述第二外围区域200b，具体的，所述观察层210覆盖的区域与通过所述第二开口112蒸镀的区域对应，从而可以使得所述监控结构220能够形成于所述观察层210上。
较佳的，所述第二外围区域200b的表面和所述第二功能区域200a的表面的高度差小于等于200nm。更佳的，所述第二外围区域200b的表面和所述第二功能区域200a的表面的高度差小于等于100nm。由此，能够进一步提高通过所述蒸镀掩膜板100的第二开口112在所述OLED面板200的观察层210上蒸镀形成的监控结构220对于所述第一开口111的蒸镀效果的监控。
具体的，所述第二功能区域200a的玻璃基板上可以形成有氧化硅层、氮化硅层、钛铝钛层、有机胶层等膜层，其厚度可以在5μm～10μm。相应的，所述第二外围区域200b的玻璃基板上也可以形成有氧化硅层、氮化硅层、钛铝钛层、有机胶层等，在此基础上，再形成观察层210。其中，所述第二外围区域200b的玻璃基板上的氧化硅层、氮化硅层、钛铝钛层、有机胶层等可以跟所述第二功能区域200a的玻璃基板上的氧化硅层、氮化硅层、钛铝钛层、有机胶层等同时形成。由此，既能够保证所述第二外围区域200b的表面高度和所述第二功能区域200a的表面高度相似，又能够避免工艺步骤的增加。
在本申请实施例中，通过蒸镀掩膜板100的第二开口112可以在OLED面板200的观察层210上蒸镀形成监控结构220，通过所述监控结构220可以监控所述蒸镀掩膜板100的第一开口111的蒸镀效果，从而可以及时的监控蒸镀效果，达到实时在线监控的效果。
相应的，本实施例还提供一种蒸镀监控方法，所述蒸镀监控方法包括：
采用所述蒸镀掩膜板100在所述OLED面板200上形成功能层230和监控结构220；
获取在所述OLED面板200上的所述监控结构220的实际中心；及
将所述监控结构220的实际中心和所述监控结构220的理论中心进行对比，以得到所述蒸镀掩膜板100的第一开口111的蒸镀效果。
其中，所述OLED面板200上的所述监控结构220的实际中心可以通过如下方式获取：先可通过图像抓取设备(例如摄像机、摄影机等)抓取所述监控结构220(的外形或边界)；接着，根据抓取的所述监控结构220，计算出其中心，即得到了所述监控结构220的实际中心。易知的，当得到了所述监控结构220的外形或边界后，将很容易通过计算得到其中心。例如，所述监控结构220的形状为方形，则两条对角线的交点即为所述监控结构220的中心；又如，所述监控结构220的形状为圆形，则其圆心即为所述监控结构220的中心。
在本申请实施例中，当所述监控结构220的实际中心和所述监控结构220的理论中心位置相同时，则说明通过所述第一开口111的蒸镀没有发生偏位；当所述监控结构220的实际中心和所述监控结构220的理论中心位置不同时，则说明通过所述第一开口111的蒸镀发生了偏位。其中，所述监控结构220的实际中心和所述监控结构220的理论中心的位置比对可以通过比对两者的坐标值来实现。
进一步的，上述蒸镀监控方法可以通过一具有图像抓取功能和计算功能的终端设备实现，从而使得整个蒸镀监控非常方便、高效和准确。
进一步的，本实施例还提供一种蒸镀调整方法，所述蒸镀调整方法包括：
采用上述蒸镀监控方法得到所述蒸镀掩膜板100的第一开口111在所述OLED面板200上的蒸镀效果；
当通过所述第一开口111的蒸镀发生了偏位时，调整所述蒸镀掩膜板100相对于所述OLED面板200的位置。
在本申请实施例中，例如，当比对所述监控结构220的实际中心和所述监控结构220的理论中心时，发现所述监控结构220的实际中心位于所述监控结构220的理论中心的第一侧，则可以保持所述OLED面板200的位置不变，而将所述蒸镀掩膜板100向所述理论中心的第二侧移动，所述第二侧和所述第一侧相对，从而便可实现对于所述蒸镀掩膜板100的调整，提高后续的蒸镀效果。
综上可见，在本发明实施例提供的蒸镀掩膜板、OLED面板及系统、蒸镀监控方法及调整方法中，通过蒸镀掩膜板的第二开口可以在OLED面板的观察层上蒸镀形成监控结构，通过所述监控结构可以监控所述蒸镀掩膜板的第一开口的蒸镀效果，从而可以及时的监控蒸镀效果，达到实时在线监控的效果。
【实施例二】
请参考图3a，其为本发明实施例二的蒸镀掩膜板中掩膜片的俯视示意图。如图3a所示，在本申请实施例中，所述蒸镀掩膜板300包括第一功能区域310a和位于所述第一功能区域310a外的第一外围区域310b，所述第一功能区域310a具有用于蒸镀形成功能层的第一开口311，所述第一外围区域310b具有用于监控所述第一开口311的蒸镀效果的第二开口312。在本申请实施例中，所述功能层可以是通过蒸镀工艺形成的、任何具有一定功能的材料层，例如，所述功能层可以是具有一定电子、空穴传输能力的有机材料层，所述功能层也可以是具有一定导电性能的金属层，所述功能层还可以是具有一定绝缘性能的介质层等。在本申请实施例中，所述第一功能区域310a可以用于形成显示区域，所述第一外围区域310b可以用于形成非显示区域。
优选的，所述第二开口312的形状和所述第一开口311的形状相同。例如，所述第一开口311的形状为方形，则所述第二开口312的形状也为方形；又如，所述第一开口311的形状为圆形，则所述第二开口312的形状也为圆形。进一步的，所述第二开口312的大小和所述第一开口311的大小相同。例如，所述第一开口311和所述第二开口312的形状都为圆形时，两者的直径也相等。由此，通过所述第二开口312监控所述第一开口311的蒸镀效果时，监控结果将更加准确。
请继续参考图3a，进一步的，所述第一外围区域310b具有相对的第一边沿L3和第二边沿L4，所述第一边沿L3较所述第二边沿L4靠近所述第一功能区域310a；相较于第二边沿L4，所述第二开口312靠近所述第一边沿L3。在此，将所述第二开口312设置于尽量靠近所述第一功能区域310a的位置，由此可以使得所述第二开口312的蒸镀效果和所述第一开口311的蒸镀效果基本一致，从而可以进一步提高监控结果的准确性。
在本申请实施例中，所述蒸镀掩膜板300包括掩膜片310，所述掩膜片310包括第一功能区域310a和位于所述第一功能区域310a外的第一外围区域310b，所述第一开口311和所述第二开口312均位于所述掩膜片310上。
在本申请实施例中，所述掩膜片310呈矩形，进一步，所述第一功能区域310a也呈矩形，所述第一外围区域310b呈矩形环状。所述第二开口312的数量为多个，多个所述第二开口312均匀的分布于所述第一外围区域310b。例如，所述第二开口312的数量为十二个，则可以在所述第一外围区域310b的每一条形区域上均匀设置三个所述第二开口312。通过多个所述第二开口312监控所述第一开口311的蒸镀效果，可以进一步提高监控结果的准确性。
在本申请实施例中，所述第一开口311用于蒸镀单色像素，多个所述第二开口312用于监控不同颜色像素的蒸镀效果。例如，所述第一开口311用于蒸镀红色像素，部分数量的所述第二开口312用于监控红色像素的蒸镀效果。又如，所述第一开口311用于蒸镀蓝色像素，部分数量的所述第二开口312用于监控蓝色像素的蒸镀效果。
在本申请实施例中，针对不同颜色像素的蒸镀，可以采用同一蒸镀掩膜板300，即蒸镀红色像素时，采用一块蒸镀掩膜板300，其上的部分数量的所述第二开口312用于监控红色像素的蒸镀效果；蒸镀蓝色像素时，继续采用这一块蒸镀掩膜板300，其上的部分数量的所述第二开口312用于监控蓝色像素的蒸镀效果，其中，用于监控蓝色像素的蒸镀效果的部分数量的所述第二开口312与用于监控红色像素的蒸镀效果的部分数量的所述第二开口312不同。在这种情况下，不仅可以实现对于所述第一开口311蒸镀效果的监控，同时，也不会增加蒸镀掩膜板300的制造成本。
在本申请实施例中，多个所述第二开口312用于监控不同颜色像素的蒸镀效果，例如，一部分数量的所述第二开口312可以用于监控红色像素的蒸镀效果，一部分数量的所述第二开口312可以用于监控蓝色像素的蒸镀效果，还有一部分数量的所述第二开口312可以用于监控绿色像素的蒸镀效果，因此，在通过所述第二开口312监控所述第一开口311的蒸镀效果时，在蒸镀不同颜色的像素时，可以仅采用对应的部分数量的所述第二开口312，其余不对应的部分数量的所述第二开口312则予以忽略。
接着，请参考图3b，其为本发明实施例二的蒸镀掩膜板中支撑条的俯视示意图。如图3b所示，所述蒸镀掩膜板300还包括用于支撑所述掩膜片310的支撑条320，所述支撑条320上具有第三开口321，所述第三开口321仅露出部分数量的所述第二开口312，露出的所述第二开口312用于监控与所述第一开口311蒸镀的单色像素相同颜色像素的蒸镀效果。即在本申请实施例的一实现方式中，通过所述支撑条320对于暂时用不到的所述第二开口312进行遮挡。例如，当采用所述第一开口311进行红色像素的蒸镀时，所述支撑条320的第三开口321仅露出用于监控红色像素的蒸镀效果的部分数量的所述第二开口312，例如，所述支撑条320遮挡住了用于监控蓝色像素的蒸镀效果的部分数量的所述第二开口312和用于监控绿色像素的蒸镀效果的部分数量的所述第二开口312。在这种情况下，蒸镀不同颜色的像素时，往往需要更换所述支撑条320或者改变所述支撑条320以使得所述支撑条320上的所述第三开口321露出不同的所述第二开口312，但，由于支撑条的成本相对较低，在此种方式下，既可以保证较高的监控准确性，同时又能保证相对较低的成本。
相应的，本实施例还提供一种OLED面板，具体的，请参考图4，其为本发明实施例二的OLED面板的俯视示意图。如图4所示，所述OLED面板400包括第二功能区域400a和位于所述第二功能区域400a外的第二外围区域400b，所述第二外围区域400b上形成有观察层410。具体的，所述OLED面板400可以包括玻璃基板，所述玻璃基板可以包括第二功能区域和第二外围区域，所述观察层410可以形成于所述第二外围区域的玻璃基板上。在本申请实施例中，所述第二功能区域400a可以为显示区，所述第二外围区域400b可以为非显示区域。
请结合参考图3a、图3b和图4，本实施例还提供一种OLED面板系统，所述OLED面板系统包括：所述蒸镀掩膜板300及所述OLED面板400，所述蒸镀掩膜板300位于所述OLED面板400的下方，所述蒸镀掩膜板300的第一开口311用于在所述OLED面板400的第二功能区域400a上蒸镀形成功能层430，所述蒸镀掩膜板300的第二开口312用于在所述OLED面板400的观察层410上蒸镀形成监控结构420，所述监控结构420用于监控所述第一开口311的蒸镀效果。
在本申请实施例中，通过所述观察层410能够使得所述监控结构420易于被观察到。例如，所述观察层410的材料为反光材料，从而能够突出所述监控结构420，使得所述监控结构420易于被观察到，特别的，易于通过光学设备被抓取；又如，所述观察层410的颜色和所述监控结构420的颜色具有较大的反差，从而使得所述监控结构420易于通过光学设备被抓取。
在此，通过所述蒸镀掩膜板300的第二开口312在所述OLED面板400的观察层410上蒸镀形成监控结构420时，能够非常容易的抓取到所述监控结构420(的外形)，从而易于根据所述监控结构420判断所述第一开口311的蒸镀效果。
优选的，所述观察层410的厚度为100nm～200nm。例如，所述观察层410的厚度可以为100nm、110nm、130nm、150nm、170nm、185nm或者200nm等。在这一厚度下，能够使得所述监控结构420的外形更加容易被抓取。进一步的，所述观察层410可以是银(Ag)、氧化铟锡(ITO)等。
请继续参考图4，在本申请实施例中，所述观察层410仅覆盖部分所述第二外围区域400b，具体的，所述观察层410覆盖的区域与通过所述第二开口312蒸镀的区域对应，优选的，所述观察层410覆盖的区域大于等于通过所述第二开口312蒸镀的区域，从而可以使得所述监控结构420能够形成于所述观察层410上。在本申请的其他实施例中，所述观察层410也可以覆盖整个所述第二外围区域400b。
较佳的，所述第二外围区域400b的表面和所述第二功能区域400a的表面的高度差小于等于200nm。更佳的，所述第二外围区域400b的表面和所述第二功能区域400a的表面的高度差小于等于100nm。由此，能够进一步提高通过所述蒸镀掩膜板300的第二开口312在所述OLED面板400的观察层410上蒸镀形成的监控结构420对于所述第一开口311的蒸镀效果的监控。
具体的，所述第二功能区域400a的玻璃基板上可以形成有氧化硅层、氮化硅层、钛铝钛层、有机胶层等膜层，其厚度可以在5μm～10μm。相应的，所述第二外围区域400b的玻璃基板上也可以形成有氧化硅层、氮化硅层、钛铝钛层、有机胶层等，在此基础上，再形成观察层410。其中，所述第二外围区域400b的玻璃基板上的氧化硅层、氮化硅层、钛铝钛层、有机胶层等可以跟所述第二功能区域400a的玻璃基板上的氧化硅层、氮化硅层、钛铝钛层、有机胶层等同时形成。由此，既能够保证所述第二外围区域400b的表面高度和所述第二功能区域400a的表面高度相似，又能够避免工艺步骤的增加。
在本申请实施例中，通过蒸镀掩膜板300的第二开口312可以在OLED面板400的观察层410上蒸镀形成监控结构420，通过所述监控结构420可以监控所述蒸镀掩膜板300的第一开口311的蒸镀效果，从而可以及时的监控蒸镀效果，达到实时在线监控的效果。
相应的，本实施例还提供一种蒸镀监控方法，所述蒸镀监控方法包括：
采用所述蒸镀掩膜板300在所述OLED面板400上形成功能层430和监控结构420；
获取在所述OLED面板400上的所述监控结构420的实际中心；及
将所述监控结构420的实际中心和所述监控结构420的理论中心进行对比，以得到所述蒸镀掩膜板300的第一开口311的蒸镀效果。
其中，所述OLED面板400上的所述监控结构420的实际中心可以通过如下方式获取：先可通过图像抓取设备(例如摄像机、摄影机等)抓取所述监控结构420(的外形或边界)；接着，根据抓取的所述监控结构420，计算出其中心，即得到了所述监控结构420的实际中心。易知的，当得到了所述监控结构420的外形或边界后，将很容易通过计算得到其中心。例如，所述监控结构420的形状为方形，则两条对角线的交点即为所述监控结构420的中心；又如，所述监控结构420的形状为圆形，则其圆心即为所述监控结构420的中心。
在本申请实施例中，当所述监控结构420的实际中心和所述监控结构420的理论中心位置相同时，则说明通过所述第一开口311的蒸镀没有发生偏位；当所述监控结构420的实际中心和所述监控结构420的理论中心位置不同时，则说明通过所述第一开口311的蒸镀发生了偏位。其中，所述监控结构420的实际中心和所述监控结构420的理论中心的位置比对可以通过比对两者的坐标值来实现。
进一步的，上述蒸镀监控方法可以通过一具有图像抓取功能和计算功能的终端设备实现，从而使得整个蒸镀监控非常方便、高效和准确。
进一步的，本实施例还提供一种蒸镀调整方法，所述蒸镀调整方法包括：
采用上述蒸镀监控方法得到所述蒸镀掩膜板300的第一开口311在所述OLED面板400上的蒸镀效果；
当通过所述第一开口311的蒸镀发生了偏位时，调整所述蒸镀掩膜板300相对于所述OLED面板400的位置。
在本申请实施例中，例如，当比对所述监控结构420的实际中心和所述监控结构420的理论中心时，发现所述监控结构420的实际中心位于所述监控结构420的理论中心的第一侧，则可以保持所述OLED面板400的位置不变，而将所述蒸镀掩膜板300向所述理论中心的第二侧移动，所述第二侧和所述第一侧相对，从而便可实现对于所述蒸镀掩膜板300的调整，提高后续的蒸镀效果。
综上可见，在本发明实施例提供的蒸镀掩膜板、OLED面板及系统、蒸镀监控方法及调整方法中，通过蒸镀掩膜板的第二开口可以在OLED面板的观察层上蒸镀形成监控结构，通过所述监控结构可以监控所述蒸镀掩膜板的第一开口的蒸镀效果，从而可以及时的监控蒸镀效果，达到实时在线监控的效果。
上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述，并非对本发明范围的任何限定，本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。

Claims (12)

1.一种蒸镀掩膜板，其特征在于，所述蒸镀掩膜板包括第一功能区域和位于所述第一功能区域外的第一外围区域，所述第一功能区域具有用于蒸镀形成功能层的第一开口，所述第一外围区域具有用于监控所述第一开口的蒸镀效果的第二开口。
2.如权利要求1所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述第二开口的形状和所述第一开口的形状相同。
3.如权利要求1或2所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述第一外围区域具有相对的第一边沿和第二边沿，所述第一边沿较所述第二边沿靠近所述第一功能区域；相较于第二边沿，所述第二开口靠近所述第一边沿。
4.如权利要求1或2所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述第二开口的数量为多个，多个所述第二开口均匀的分布于所述第一外围区域。
5.如权利要求4所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述蒸镀掩膜板包括掩膜片和用于支撑所述掩膜片的支撑条，所述第一开口和所述第二开口均位于所述掩膜片上，所述支撑条上具有第三开口，所述第三开口仅露出部分数量的所述第二开口。
6.一种OLED面板，其特征在于，所述OLED面板包括第二功能区域和位于所述第二功能区域外的第二外围区域，所述第二外围区域上形成有观察层。
7.如权利要求6所述的OLED面板，其特征在于，所述观察层的材料为反光材料。
8.如权利要求6或7所述的OLED面板，其特征在于，所述观察层的厚度为100nm～200nm。
9.如权利要求6或7所述的OLED面板，其特征在于，所述第二外围区域的表面和所述第二功能区域的表面的高度差小于等于200nm。
10.一种OLED面板系统，其特征在于，所述OLED面板系统包括：如权利要求1～5中任一项所述的蒸镀掩膜板及如权利要求6～9中任一项所述的OLED面板，所述蒸镀掩膜板位于所述OLED面板的下方，所述蒸镀掩膜板的第一开口用于在所述OLED面板的第二功能区域上蒸镀形成功能层，所述蒸镀掩膜板的第二开口用于在所述OLED面板的观察层上蒸镀形成监控结构，所述监控结构用于监控所述第一开口的蒸镀效果。
11.一种蒸镀监控方法，其特征在于，所述蒸镀监控方法包括：
采用如权利要求1～5中任一项所述的蒸镀掩膜板在如权利要求6～9中任一项所述的OLED面板上形成功能层和监控结构；
获取在所述OLED面板上的所述监控结构的实际中心；及
将所述监控结构的实际中心和所述监控结构的理论中心进行对比，以得到所述蒸镀掩膜板的第一开口的蒸镀效果。
12.如权利要求11所述的蒸镀监控方法，其特征在于，当所述监控结构的实际中心和所述监控结构的理论中心位置相同时，通过所述第一开口的蒸镀没有发生偏位；当所述监控结构的实际中心和所述监控结构的理论中心位置不同时，通过所述第一开口的蒸镀发生了偏位。
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