CN111816685B - 显示基板及其测试方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，能够提高像素测量位置精度，包括显示基板具有显示区和设置在显示区周边的周边区；显示基板包括：衬底；设置于衬底上的第一图案层，第一图案层可反光，第一图案层包括位于显示区的第一图案和位于周边区的第一保留图案，第一保留图案上具有镂空部；设置于衬底上且位于第一图案层远离衬底一侧的至少一个第二图案层，每个第二图案层包括位于显示区的第二图案和位于周边区的第二保留图案，第一保留图案在衬底上的正投影覆盖第二保留图案在衬底上的正投影，第二保留图案在衬底上的正投影与镂空部在衬底上的正投影不重叠。

Description

显示基板及其测试方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其测试方法、显示装置。

背景技术

自发光显示装置例如有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示基板具有自发光、轻薄、功耗低、色彩还原度好、反应灵敏以及广视角等有点，已经被越来越广泛的应用在手机、笔记本电脑以及电视等显示设备中，成为目前市场的主流。

发明内容

本发明的实施例提供一种显示基板及其测试方法、显示装置，能够提高像素测量位置精度。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一方面，提供一种显示基板，所述显示基板具有显示区和设置在显示区周边的周边区；包括，衬底、设置于所述衬底上的第一图案层以及设置于所述衬底上且位于所述第一图案层远离所述衬底一侧的至少一个第二图案层。

设置于所述衬底上的第一图案层，所述第一图案层可反光，所述第一图案层包括位于所述显示区的第一图案和位于所述周边区的第一保留图案，所述第一保留图案上具有镂空部。

设置于所述衬底上且位于所述第一图案层远离所述衬底一侧的至少一个第二图案层，每个第二图案层包括位于所述显示区的第二图案和位于所述周边区的第二保留图案，第一保留图案在所述衬底上的正投影覆盖所述第二保留图案在所述衬底上的正投影，所述第二保留图案在所述衬底上的正投影与所述镂空部在所述衬底上的正投影不重叠。

可选的，所述第一保留图案包括：间隔设置的第一子图案和第二子图案，所述第一子图案上具有所述镂空部，所述第二子图案在所述衬底上的正投影覆盖所述第二保留图案在所述衬底上的正投影。

或者，所述第一保留图案在所述衬底上的投影具有一条封闭的外轮廓线，所述镂空部和所述第一保留图案在所述衬底上的正投影均在所述的外轮廓线以内。

可选的，所述显示基板包括：多个所述第二图案层，不同第二图案层中的第二保留图案在所述衬底上的正投影的不重叠。

可选的，显示区包括多个子像素区。

所述第一图案层包括第一电极层，一个第一图案为位于一个子像素区中的第一电极。

所述第二图案层包括发光层，一个第二图案为位于一个子像素区中的发光图案。

可选的，多个子像素区包括：第一颜色子像素区、第二颜色子像素区和第三颜色子像素区。

所述显示基板包括多个所述发光层，多个所述发光层包括：第一发光层、第二发光层和第三发光层。

所述第一发光层包括位于所述第一颜色子像素区的第一发光图案和位于周边区的第一发光保留图案；所述第二发光层包括位于所述第二颜色子像素区的第二发光图案和位于周边区的第二发光保留图案；所述第三发光层包括：位于所述第三颜色子像素区的第三发光图案和位于周边区的第三发光保留图案；第一发光保留图案和第二发光保留图案和第三发光保留图案均为所述第二保留图案。

可选的，多个所述发光层还包括：第四发光图案层和第五发光图案层。

所述第四发光图案层包括位于所述第一颜色子像素区的第四发光图案和位于周边区的第四发光保留图案；所述第五发光图案层包括位于所述第二颜色子像素区的第五发光图案和第五发光保留图案。

可选的，在多个所述发光层包括第一发光层、第二发光层和第三发光层的情况下，所述第一发光保留图案、所述第二发光保留图案和所述第三发光保留图案并排设置。

在多个所述发光层还包括第四发光图案层和第五发光图案层的情况下，所述第一发光保留图案、所述第二发光保留图案、所述第三发光保留图案、所述第四发光保留图案和所述第五发光保留图案并排设置。

可选的，所述镂空部包括沿第一方向设置的至少一对第一镂空部和沿第二方向设置的至少一对第二镂空部。

一对所述第一镂空部和一对所述第二镂空部在所述第二保留图案上具有交点，所述交点在所述第一保留图案在所述第二保留图案上的投影内。

其中，所述第一方向与所述第二方向交叉设置。

另一方面，本发明实施例提供一种显示装置，包括上述显示基板。

再一方面，本发明实施例提供一种显示基板的测试方法，所述显示基板为上述显示基板，所述方法包括：

获取一对所述第一镂空部和一对所述第二镂空部的交点的第一中心坐标(x1,y1)。

获取所述第二保留图案的第二中心坐标(x2,y2)。

利用下式计算所述第一保留图案和所述第二保留图案之间的偏移量：(Δx，Δy)＝(x1-x2,y1-y2)。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为相关技术中提供的一种显示基板的结构示意图；

图2为相关技术中提供的一种显示基板中S’区域的结构示意图；

图3为相关技术中提供的另一种显示基板中S’区域的结构示意图；

图4为相关技术中提供的再一种显示基板中S’区域的结构示意图；

图5A为本发明实施例提供的一种显示基板的结构示意图；

图5B为本发明实施例提供的另一种显示基板的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的一种显示基板中S11区域的结构示意图；

图7为本发明实施例提供的另一种显示基板中S11区域的结构示意图；

图8为本发明实施例提供的再一种显示基板中S11区域的结构示意图；

图9为本发明实施例提供的又一种显示基板中S11区域的结构示意图；

图10A为本发明实施例提供的另一种显示基板的结构示意图；

图10B为本发明实施例提供的再一种显示基板的结构示意图；

图11A为本发明实施例提供的另一种显示基板的结构示意图；

图11B为本发明实施例提供的再一种显示基板的结构示意图；

图12为本发明实施例提供的显示基板的测试方法的流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在相关技术中，提供一种显示基板，如图1所示，显示基板具有显示区(activearea，简称AA区)和设置在显示区AA周边的周边区S。周边区S例如可以围绕AA区一圈设置。上述AA区中包括多种颜色的亚像素(sub pixel)P。该多种颜色的亚像素P至少包括第一颜色亚像素、第二颜色亚像素和第三颜色亚像素，第一颜色、第二颜色和第三颜色为三基色(例如红色、绿色和蓝色)。

图1以上述多个亚像素P呈矩阵形式排列为例进行的说明。在此情况下，沿水平方向X排列成一排的亚像素P可称为同一行亚像素，同一行亚像素可以与一根栅线连接。沿竖直方向Y排列成一排的亚像素P可称为同一列亚像素，同一列亚像素可以与一根数据线连接。

该显示基板例如可以为OLED显示基板，OLED显示基板在每个亚像素中均设置相同结构的像素驱动电路和设置在每个亚像素中的发光器件。显示基板包括衬底，发光器件包括依次设置在衬底上的第一电极、有机发光图案和第二电极。其中，多个发光器件的第一电极分别独立设置，多个发光器件的第二电极整层为整层结构，示例的，第一电极例如可以为阳极，此时第二电极可以为阴极。

在此基础上，如图2所示，周边区S具有标记设置区域S’，评价蒸镀有机发光图案与第一电极之间的位置偏移程度(又称作像素位置精度)的方法为，在制作第一电极时，同时在标记设置区域S’制作与第一电极对应的第一标记图案20，在制作有机发光图案时，同时在标记设置区域S’制作有机发光标记30，通过光学显微镜(Optical Microscope，OM)测量第一标记图案20的坐标和有机发光标记30的坐标，经过计算可以得到像素位置精度。其中，由于第一标记图案20的材料为金属材料，故第一标记图案20本身可以反光；有机发光标记本身30并不能发光或者反光，故第一标记图案20还包括以及在衬底10上的正投影与有机发光标记30在衬底10上的正投影不重叠的部分202。

基于此，会出现以下问题，第一，如图3所示，在刻蚀形成第一电极以及第一标记图案20时，发生过刻，导致第一标记图案20尤其是在衬底10上的正投影与有机发光标记30在衬底10上的正投影不重叠的部分202较小，从而测量不到第一标记图案20的坐标；第二，如图4所示，当有机发光标记30的边缘与设置在在有机发光标记30与衬底10之间的部分201的边缘距离较小时，OM会在识别有机发光标记30的边界时发生错误，导致有机发光标记30的坐标测量错误。

为了解决上述问题，本公开实施例提供一种显示基板，如图5A和图5B所示，显示基板具有显示区AA’和设置在显示区AA’周边的周边区S1。

如图6所示，显示基板包括衬底10、第一图案层40和至少一个第二图案层50。

第一图案层40设置在衬底10上，第一图案层40可反光，第一图案层40包括位于显示区AA的第一图案401和位于周边区S1的第一保留图案402，如图6-图9所示，第一保留图案402上具有镂空部402a。

至少一个第二图案层50设置于衬底10上且位于第一图案层40远离衬底10一侧，每个第二图案层50包括位于显示区AA的第二图案501和位于周边区S1的第二保留图案502，第一保留图案402在衬底10上的正投影覆盖第二保留图案502在衬底10上的正投影，第二保留图案502在衬底10上的正投影与镂空部402a在衬底10上的正投影不重叠。

其中，不对第一图案401和第二图案501的个数进行限定，示例的，如图5A和图5B所示，第一图案401和第二图案501均为多个，且第一图案401与第二图案501一一对应。

第一图案401和第一保留图案402同层同材料，即在刻蚀形成位于显示区AA’的第一图案401时同时刻蚀形成位于周边区S1的第一保留图案402以及第一保留图案402上的镂空部，在原有的工艺制程上即可形成第一保留图案402，无需额外增加制程，简化了制作工艺。

第二图案501和第二保留图案502同层同材料，即在刻蚀形成位于显示区AA’的第二图案501时同时刻蚀形成位于周边区S1的第二保留图案502以及第二保留图案502上的镂空部，在原有的工艺制程上即可形成第二保留图案502，无需额外增加制程，简化了制作工艺。

通过在反光的第二保留图案4021的部分设置镂空部402a，镂空部402a的部分无法反光，从而使得镂空部402a处发暗，在此基础上，OM可以测量到镂空部402a的坐标。

本发明实施例通过设置第一保留图案402，并在反光的第一保留图案402中设置镂空部402a，并通过OM设备测量镂空部402a的坐标，将镂空部402a的坐标作为第一图案层40的参考坐标，此时，即使在刻蚀形成第一图案层40时发生过刻，由于第一保留图案402较大，并不会被完全刻蚀掉造成第一保留图案402的缺失，同时刻蚀形成的镂空部402a还会增大，从而避免无法获取第一图案层40的参考坐标。

可选的，如图6和图8所示，第一保留图案402包括：间隔设置的第一子图案4021和第二子图案4022，第一子图案4021上具有镂空部4021a，第二子图案4022在衬底10上的正投影覆盖第二保留图案502在衬底10上的正投影。

或者，如图7和图9所示，第一保留图案402在衬底10上的投影具有一条封闭的外轮廓线，镂空部402a和第一保留图案402在衬底10上的正投影均在的外轮廓线以内。

可选的，如图5A和图5B所示，显示区AA’包括多个子像素区P’。

第一图案层40包括第一电极层，一个第一图案401为位于一个子像素区P’中的第一电极。

第二图案层50包括发光层，一个第二图案501为位于一个子像素区P’中的发光图案。

显示基板还包括第二电极层，第二电极层位于第二图案层远离第一图案层的一侧，在每个子像素P’中，第一电极、发光图案和第二电极层构成一个发光器件。示例的，第二电极层为一整层结构。

可选的，如图10A和图10B和图11A和图11B所示，多个子像素区包括：第一颜色子像素区P1’、第二颜色子像素区P2’和第三颜色子像素区P3’。

显示基板包括多个发光层，多个发光层包括：第一发光层、第二发光层和第三发光层。

第一发光层包括位于第一颜色子像素区P1’的第一发光图案601a和位于周边区的第一发光保留图案601b；第二发光层包括位于第二颜色子像素区P2’的第二发光图案602a和位于周边区的第二发光保留图案602b；第三发光层包括：位于第三颜色子像素区P3’的第三发光图案603a和位于周边区的第三发光保留图案603b；第一发光保留图案601b和第二发光保留图案602b和第三发光保留图案603b均为第二保留图案502。

其中，第一发光图案601a用于形成第一颜色子像素，第二发光图案602a用于形成第二颜色子像素，第三发光图案603a用于形成第三颜色子像素。

示例的，第一发光图案的材料601a为第一颜色子像素、第二颜色子像素或者第三颜色子像素的发光层或者空穴传输层中的一层，第二发光图案602a的材料为第一颜色子像素、第二颜色子像素或者第三颜色子像素的发光层或者空穴传输层中的一层，第三发光图案603a的材料为第一颜色子像素、第二颜色子像素或者第三颜色子像素的发光层或者空穴传输层中的一层。

可选的，多个发光层还包括：第四发光图案层和第五发光图案层。

第四发光图案层包括位于第一颜色子像素区P1’的第四发光图案604a和位于周边区的第四发光保留图案604b；第五发光图案层包括位于第二颜色子像素区P2’的第五发光图案605a和第五发光保留图案605b。

其中，第四发光图案604a用于形成第一颜色子像素，第五发光图案605a用于形成第二颜色子像素。

示例的，第四发光图案604a的材料为第一颜色子像素、第二颜色子像素的发光层或者空穴传输层中的一层，第五发光图案605a的材料为第一颜色子像素、第二颜色子像素的发光层或者空穴传输层中的一层。

示例的，当第一颜色为红色、第二颜色为绿色以及第三颜色为蓝色时，第一颜色子像素的发光层和空穴传输层在不同的腔室内蒸镀，第二颜色子像素的发光层和空穴传输层在不同的腔室内蒸镀，第三颜色子像素的发光层和空穴传输层在同一腔室内蒸镀。

在此基础上，第一颜色子像素区的发光层为两层结构，分别包括第一发光图案601a和第四发光图案604a，分别蒸镀的两层材料构成，结合能够发第一颜色的光；第二颜色子像素区的发光层为两层结构，分别包括第二发光图案602a和第五发光图案605a，分别蒸镀的两层材料构成，结合能够发第二颜色的光；第三颜色子像素区的发光层为两层结构，第三发光图案605a为分别蒸镀的两层材料构成，结合能够发第三颜色的光。

可选的，如图11A和图11B所示，在多个发光层包括第一发光层、第二发光层和第三发光层的情况下，第一发光保留图案、第二发光保留图案和第三发光保留图案并排设置。

示例的，第一发光保留图案、第二发光保留图案和第三发光保留图案的形状为正方形。

其中，并排设置指多个图案的中心排列在一条直线上。

在多个发光层还包括第四发光图案层和第五发光图案层的情况下，第一发光保留图案、第二发光保留图案、第三发光保留图案、第四发光保留图案和第五发光保留图案并排设置。

示例的，第四发光保留图案和第五发光保留图案的形状为正方形。

可选的，如图6-图9所示，镂空部包括沿第一方向设置的至少一对第一镂空部和沿第二方向设置的至少一对第二镂空部。

一对第一镂空部和一对第二镂空部在第二保留图案上具有交点，交点在第一保留图案在第二保留图案上的投影内。

其中，第一方向与第二方向交叉设置。

示例的，如图6-图9所示，第一方向与第二方向交叉设置为第一方向与第二方向互相垂直设置。

另一方面，本发明实施例还提供一种显示基板的测试方法，显示基板为包括至少一对第一镂空部和至少一对第二镂空部。

如图12所示，上述显示基板的测试方法包括：

S1、获取一对第一镂空部和一对第二镂空部的交点的第一中心坐标(x1,y1)。

S2、获取第二保留图案的第二中心坐标(x2,y2)。

S3、利用下式计算第一保留图案和第二保留图案之间的偏移量：

(Δx，Δy)＝(|x1-x2|,|y1-y2|)。

其中，使用光学显微镜获取第一中心坐标(x1,y1)和第二中心坐标(x2,y2)。

在本发明提供的实施例中，位于显示区的发光器件包括依次设置在衬底上的第一电极、发光图案和第二电极，其中，每个发光器件对应有一个第一电极和一个发光图案，每个发光器件中发光图案的发光面积为沿显示基板厚度方向，第一电极在衬底上的正投影和发光图案在衬底上的正投影重叠的面积，第一电极与发光图案之间的偏移量越小，发光图案的发光面积越大，发光器件能够更好的发光。由于第一保留图案与第一电极同层同材料，第二保留图案与发光图案同层同材料，所以在周边区第一保留图案与第二保留图案之间的偏移量，可以表征第一电极与发光图案之间的偏移量。

示例的，一对第一镂空部的坐标分别为(x11，y11)和(x12，y12)，一对第二镂空部的坐标分别为(x21，y21)和(x22，y22)，则第一镂空部和第二镂空部的交点的坐标

第二保留图案的第二中心坐标为第二保留图案的几何中心的坐标。

本领域普通技术人员可以理解：实现上述方法实施例的全部或部分步骤可以通过程序指令相关的硬件来完成，前述的程序可以存储于一计算机可读取存储介质中，该程序在执行时，执行包括上述方法实施例的步骤；而前述的存储介质包括：ROM、RAM、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板具有显示区和设置在显示区周边的周边区；

所述显示基板包括：

衬底；

设置于所述衬底上的第一图案层，所述第一图案层可反光，所述第一图案层包括位于所述显示区的第一图案和位于所述周边区的第一保留图案，所述第一保留图案上具有镂空部；

设置于所述衬底上且位于所述第一图案层远离所述衬底一侧的至少一个第二图案层，每个第二图案层包括位于所述显示区的第二图案和位于所述周边区的第二保留图案，第一保留图案在所述衬底上的正投影覆盖所述第二保留图案在所述衬底上的正投影，所述第二保留图案在所述衬底上的正投影与所述镂空部在所述衬底上的正投影不重叠。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一保留图案包括：间隔设置的第一子图案和第二子图案，所述第一子图案上具有所述镂空部，所述第二子图案在所述衬底上的正投影覆盖所述第二保留图案在所述衬底上的正投影；

或者，

所述第一保留图案在所述衬底上的投影具有一条封闭的外轮廓线，所述镂空部和所述第一保留图案在所述衬底上的正投影均在所述的外轮廓线以内。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：多个所述第二图案层，不同第二图案层中的第二保留图案在所述衬底上的正投影的不重叠。

4.根据权利要求1～3任一项所述的显示基板，其特征在于，显示区包括多个子像素区；

所述第一图案层包括第一电极层，一个第一图案为位于一个子像素区中的第一电极；

所述第二图案层包括发光层，一个第二图案为位于一个子像素区中的发光图案。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，

多个子像素区包括：第一颜色子像素区、第二颜色子像素区和第三颜色子像素区；

所述显示基板包括多个所述发光层，多个所述发光层包括：第一发光层、第二发光层和第三发光层；

所述第一发光层包括位于所述第一颜色子像素区的第一发光图案和位于周边区的第一发光保留图案；所述第二发光层包括位于所述第二颜色子像素区的第二发光图案和位于周边区的第二发光保留图案；所述第三发光层包括：位于所述第三颜色子像素区的第三发光图案和位于周边区的第三发光保留图案；第一发光保留图案和第二发光保留图案和第三发光保留图案均为所述第二保留图案。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，

多个所述发光层还包括：第四发光图案层和第五发光图案层；

所述第四发光图案层包括位于所述第一颜色子像素区的第四发光图案和位于周边区的第四发光保留图案；所述第五发光图案层包括位于所述第二颜色子像素区的第五发光图案和第五发光保留图案。

7.根据权利要求5或6所述的显示基板，其特征在于，

在多个所述发光层包括第一发光层、第二发光层和第三发光层的情况下，所述第一发光保留图案、所述第二发光保留图案和所述第三发光保留图案并排设置；

在多个所述发光层还包括第四发光图案层和第五发光图案层的情况下，所述第一发光保留图案、所述第二发光保留图案、所述第三发光保留图案、所述第四发光保留图案和所述第五发光保留图案并排设置。

8.根据权利要求1-3、5和6任一项所述的显示基板，其特征在于所述镂空部包括沿第一方向设置的至少一对第一镂空部和沿第二方向设置的至少一对第二镂空部；

一对所述第一镂空部和一对所述第二镂空部在所述第二保留图案上具有交点，所述交点在所述第一保留图案在所述第二保留图案上的投影内；

其中，所述第一方向与所述第二方向交叉设置。

9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的显示基板。

10.一种显示基板的测试方法，其特征在于，所述显示基板包括：如权利要求8所述的显示基板；

所述显示基板的测试方法包括：

获取一对所述第一镂空部和一对所述第二镂空部的交点的第一中心坐标(x1,y1)；

获取所述第二保留图案的第二中心坐标(x2,y2)；

利用下式计算所述第一保留图案和所述第二保留图案之间的偏移量：

(Δx，Δy)＝(|x1-x2|,|y1-y2|)。

Images