CN106086786B - 偏移校准方法及系统 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种偏移校准方法及系统，用于校准背板上的预设位置和掩膜板上开口之间的偏移，包括以下步骤：基于所述背板和所述掩膜板的初始位置进行一次蒸镀；测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标；根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在偏移量满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量；根据所述旋转角度和所述平移量调整所述背板或掩膜板。本发明提供的偏移校准方法及系统，能够校准背板的预设位置和掩膜板的开口之间的偏移量(Offset)，从而可以避免混色和和不良品的出现。

Description

偏移校准方法及系统
技术领域
本发明属于显示技术领域，具体涉及一种偏移校准方法及系统。
背景技术
目前，有LCD、OLED、PDP和电子墨水等多种显示板，其中，OLED显示板借助轻薄、低功耗、高对比度、高色度域以及可柔性显示等优点，作为下一代显示器的发展趋势。
OLED显示板包括PMOLED和AMOLED两种类型，其中AMOLED显示包括LTPS背板+精细金属掩膜(FMM Mask)方式和Oxide背板+WOLED+彩膜两种方式，前者主要应用于小尺寸面板，对应手机和移动应用；后者主要应用于大尺寸面板，对应监控器和电视等应用。现在LTPS背板+FMM Mask的方式已经初步成熟，实现了量产。
在采用金属掩膜板在背板上进行蒸镀时，需要将金属掩膜板上的开口与背板上的预设电极位置进行准确对位，以减小混色和不良品的出现，从而提高生产良率。在实际应用中，由于每张金属掩膜板的焊接情况不一致，且蒸镀腔室和金属掩膜板的匹配精度不高，因此，在初次对位完成之后，并不能使得金属掩膜板的开口和背板的预设电极位置准确对位。
为此，目前亟需一种校准金属掩膜板的开口和背板的预设电极位置的方法和系统。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种偏移校准方法及系统。
为解决上述问题之一，本发明提供了一种偏移校准方法，用于校准背板上的预设位置和掩膜板上开口之间的偏移，包括以下步骤：基于所述背板和所述掩膜板的初始位置进行一次蒸镀；测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标；根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在偏移量满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量；根据所述旋转角度和所述平移量调整所述背板或掩膜板。
优选地，执行上述步骤两次，在第一次执行时，所述背板采用测试背板；在第二次执行时，所述背板采用工艺背板。
优选地，所述测试背板为白玻璃。
优选地，在第二次执行时，所述测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标，包括：对蒸镀后的所述背板上每个单元的不同位置分别获取一张图片；测量每张图片中的至少一个所述预设位置和与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标。
优选地，所述根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量，包括：
测量的每个所述预设位置的坐标为(Xs,Ys)以及该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(Xm,Ym)；
ΔX1＝Xm-Xs；
ΔY1＝Ym-Ys；
ΔX2＝(cosθ-1)*Xm-Ym*sinθ；
ΔY2＝Xm*sinθ+(cosθ-1)*Ym；
θ为所述旋转角度；
ΔX3＝ΔX1+ΔX2+ΔX；
ΔY3＝ΔY1+ΔY2+ΔY；
ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；
ΔX3，ΔY3分别为在基于θ、ΔX、ΔY校准之后沿X轴和Y轴的偏移量；
在所有的预设位置对应的ΔX3，ΔY3满足偏移要求的情况下获得校准所需的所述旋转角度θ和所述平移量ΔX、ΔY。
优选地，所述根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量，包括：测量的每个所述预设位置的坐标为(Xs,Ys)以及与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(Xm,Ym)；
ΔX1＝Xm-Xs；ΔY1＝Ym-Ys；
X’＝R*cos(θ1+θ2)；
Y’＝R*sin(θ1+θ2)；
θ2＝arc tan(Ym/Xm)；
θ1为所述旋转角度；
ΔX2＝X’-Xm；
ΔY2＝Y’-Ym；
ΔX3＝ΔX1+ΔX2；
ΔY3＝ΔY1+ΔY2；
ΔX4＝ΔX3+ΔX；
ΔY4＝ΔY3+ΔY；
ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；
ΔX4，ΔY4分别为在基于θ1、ΔX、ΔY校准之后沿所述坐标系的X轴和Y轴的偏移量；
在所有的预设位置对应的ΔX4，ΔY4满足偏移要求的情况下计算校准所需的所述旋转角度θ1和所述平移量ΔX、ΔY。
本发明还提供了一种偏移校准系统，用于校准背板上的预设位置和掩膜板上开口之间的偏移，包括测量模块、校准量获得模块和调整模块：其中所述测量模块用于在基于所述背板和所述掩膜板的初始位置进行一次蒸镀后，测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标；所述校准量获得模块用于根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在偏移量满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量；所述调整模块用于根据所述旋转角度和所述平移量调整所述背板或掩膜板。
优选地，还包括图像获取模块，所述图像获取模块用于对蒸镀后的所述背板上每个单元的不同位置分别获取一张图片；所述测量模块用于测量每张图片中的至少一个所述预设位置和与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标。
优选地，所述校准量获得模块被设置成：测量的每个所述预设位置的坐标为(Xs,Ys)以及该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(Xm,Ym)；
ΔX1＝Xm-Xs；
ΔY1＝Ym-Ys；
ΔX2＝(cosθ-1)*Xm-Ym*sinθ；
ΔY2＝Xm*sinθ+(cosθ-1)*Ym；
θ为所述旋转角度；
ΔX3＝ΔX1+ΔX2+ΔX；
ΔY3＝ΔY1+ΔY2+ΔY；
ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；
ΔX3，ΔY3分别为在基于θ、ΔX、ΔY校准之后沿X轴和Y轴的偏移量；
在所有的预设位置对应的ΔX3，ΔY3满足偏移要求的情况下获得校准所需的所述旋转角度θ和所述平移量ΔX、ΔY。
优选地，所述校准量获得模块被设置成：测量的每个所述预设位置的坐标为(Xs,Ys)以及与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(Xm,Ym)；
ΔX1＝Xm-Xs；ΔY1＝Ym-Ys；
X’＝R*cos(θ1+θ2)；
Y’＝R*sin(θ1+θ2)；
θ2＝arc tan(Ym/Xm)；
θ1为所述旋转角度；
ΔX2＝X’-Xm；
ΔY2＝Y’-Ym；
ΔX3＝ΔX1+ΔX2；
ΔY3＝ΔY1+ΔY2；
ΔX4＝ΔX3+ΔX；
ΔY4＝ΔY3+ΔY；
ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；
ΔX4，ΔY4分别为在基于θ1、ΔX、ΔY校准之后沿所述坐标系的X轴和Y轴的偏移量；
在所有的预设位置对应的ΔX4，ΔY4满足偏移要求的情况下计算校准所需的所述旋转角度θ1和所述平移量ΔX、ΔY。
本发明具有以下有益效果：
本发明提供的偏移校准方法及系统，在先预蒸镀一次之后，再测量蒸镀后的多个蒸镀位置和与之对应的预设位置的坐标，再根据该多个的蒸镀位置和预设位置的坐标，即可确定在偏移量满足偏移要求时校准所需要掩膜板或背板的旋转角度以及平移量，再基于该旋转角度和平移量调整背板或掩膜板，因而能够校准背板的预设位置和掩膜板的开口之间的偏移量(Offset)，从而可以避免混色和和不良品的出现。
附图说明
图1为本发明实施例提供的偏移校准方法的流程图；
图2为本发明实施例提供的偏移校准系统的原理框图。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图来对本发明提供的偏移校准方法及系统进行详细描述。
实施例1
图1为本发明实施例提供的偏移校准方法的流程图。请参阅图1，本发明实施例提供的偏移校准方法，用于校准背板上的预设位置和掩膜板上开口之间的偏移，预设位置具体为背板上预先设置的像素电极的位置；掩膜板上的开口与像素电极的尺寸相匹配，以便蒸镀材料经过该开口蒸镀尺寸符合要求的像素电极。
该偏移校准方法包括以下步骤：
S1，基于所述背板和所述掩膜板的初始位置进行一次蒸镀。
S2，测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标。所谓蒸镀位置是指蒸镀材料经由该预设位置对应的开口形成的电极图形所在的位置。
具体地，可预先利用背板上面的mark建立该预设坐标系。所谓预设位置的坐标可以但不限于为预设位置的中心点坐标，蒸镀位置的坐标可以但不限于蒸镀位置的中心点坐标。
S3，根据测量的多个所述预设位置和与之对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在偏移量满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量。其中，平移量包括：在X轴上的水平平移量，在Y轴上的竖直平移量。旋转角度为背板或掩膜板围绕坐标原点旋转的角度。
所谓偏移量满足偏移要求可以为使得整体(或者说，大部分)的蒸镀位置和预设位置的偏移量处于预设范围内，例如，±5μm。
S4，根据所述旋转角度和平移量调整所述背板或掩膜板。
本发明实施例提供的偏移校准方法，在先预蒸镀一次之后，再测量蒸镀后的多个蒸镀位置和与之对应的预设位置的坐标，再根据该多个的蒸镀位置和预设位置的坐标，即可确定在偏移量满足偏移要求时校准所需要掩膜板或背板的旋转角度以及平移量，再基于该旋转角度和平移量调整背板或掩膜板，因而能够校准背板的预设位置和掩膜板的开口之间的偏移量(Offset)，从而可以避免混色和和不良品的出现。
在步骤S4中，由于掩膜板的重量相对背板的重量较重，因此，在步骤S4中根据所述旋转角度和平移量调整背板进行校准，这样，校准的过程相对省力。
优选地，该偏移校准方法还包括：执行上述步骤S1～S4两次，在第一次执行时，所述背板采用测试背板，一般选择白玻璃，该白玻璃上没有设置一些材料层，所要满足偏移要求是使整体的蒸镀的像素位置精确度PPA处于最小，PPA越小表示蒸镀精度越好。
在第二次执行时，此时步骤S1的背板和掩膜板的初始位置为第一次的步骤S4粗校准之后的位置，所述背板采用工艺背板，工艺背板是指实际工艺中的BP基板，其上已经形成有材料层，所要满足偏移要求仍然是使整体的蒸镀的像素位置精确度PPA处于最小，PPA越小表示蒸镀精度越好。
通过第一次执行上述步骤S1-S4，可以先通过白玻璃进行一次校准，这样，可以避免采用成本较高的工艺背板，因而可以减少工艺背板的浪费，从而降低生产成本。
在白玻璃基板校准之后，为能够真实地反映蒸镀情况来提高校准精度，再一次执行上述步骤S1-S4，背板采用实际工艺背板一样的工艺背板与一样，因此，可以提高校准精度。故可称该第二次执行过程为微校准过程，第一次执行过程称之为粗校准过程，本发明通过粗校准和微校准的结合，既可以降低成本，又可以提高校准精度。
具体地，在第二次执行时，步骤S2包括：对蒸镀后的所述背板上每个单元的不同位置分别获取一张图片；测量每张图片中的至少一个所述预设位置和与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标。
更具体地，对蒸镀后的所述背板上每个单元的上中下(或者左中下等)位置分别获取一张图片。
优选地，在本实施例中，步骤S3包括：
测量的每个所述预设位置的坐标为(Xs,Ys)以及该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(Xm,Ym)；
ΔX1＝Xm-Xs；
ΔY1＝Ym-Ys；
ΔX2＝(cosθ-1)*Xm-Ym*sinθ；
ΔY2＝Xm*sinθ+(cosθ-1)*Ym；
θ为所述旋转角度；
ΔX3＝ΔX1+ΔX2+ΔX；
ΔY3＝ΔY1+ΔY2+ΔY；
ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；
ΔX3，ΔY3分别为在基于θ、ΔX、ΔY校准之后沿X轴和Y轴的偏移量；
ΔX2，ΔY2分别为在基于θ校准之后沿X轴和Y轴的偏移量；
在所有的预设位置对应的ΔX3，ΔY3满足偏移要求的情况下获得校准所需的所述旋转角度θ和所述平移量ΔX、ΔY。
另外，优选地，步骤S3还可以包括：
测量的每个所述预设位置的坐标为(Xs,Ys)以及与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(Xm,Ym)；
ΔX1＝Xm-Xs；ΔY1＝Ym-Ys；
X’＝R*cos(θ1+θ2)；
Y’＝R*sin(θ1+θ2)；
θ2＝arc tan(Ym/Xm)；
θ1为所述旋转角度；
ΔX2＝X’-Xm；
ΔY2＝Y’-Ym；
ΔX3＝ΔX1+ΔX2；
ΔY3＝ΔY1+ΔY2；
ΔX4＝ΔX3+ΔX；
ΔY4＝ΔY3+ΔY；
ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；
ΔX4，ΔY4分别为在基于θ1、ΔX、ΔY校准之后沿所述坐标系的X轴和Y轴的偏移量；
ΔX3，ΔY3分别为在基于θ1校准之后沿所述坐标系的X轴和Y轴的偏移量；
在所有的预设位置对应的ΔX4，ΔY4满足偏移要求的情况下计算校准所需获得所旋转角度θ1和所述平移量ΔX、ΔY。
优选地，ΔX＝(ΔX31+ΔX32+……+ΔX3n)/n，ΔY＝(ΔY31+ΔY32+……+ΔY3n)/n其中，n为选择的预设位置的数量，ΔX3i为在基于θ1校准之后第i个预设位置对应的沿X轴上的偏移量，ΔY3i为在基于θ1校准之后第i个预设位置对应的Y轴上的偏移量，1≤i≤n；由此，可根据上述公式计算出旋转角度θ1、ΔX和ΔY。
实施例2
图2为本发明实施例提供的偏移校准系统，请参阅图2，本发明实施例提供的偏移校准系统用于校准背板上的预设位置和掩膜板上开口之间的偏移，包括测量模块10、校准量获得模块11和调整模块12。
其中，所述测量模块10用于在基于所述背板和所述掩膜板的初始位置进行一次蒸镀后，测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标。
所述校准量获得模块11用于根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在偏移量满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量。
所述调整模块12用于根据所述旋转角度和所述平移量调整所述背板或掩膜板。
优选地，还包括图像获取模块13，所述图像获取模块13用于对蒸镀后的所述背板上每个单元(cell)的不同位置分别获取一张图片；所述测量模块10用于测量每张图片中的至少一个所述预设位置和与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标。
优选地，校准量获得模块11被设置成：测量的每个所述预设位置的坐标为(Xs,Ys)以及该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(Xm,Ym)；
ΔX1＝Xm-Xs；
ΔY1＝Ym-Ys；
ΔX2＝(cosθ-1)*Xm-Ym*sinθ；
ΔY2＝Xm*sinθ+(cosθ-1)*Ym；
θ为所述旋转角度；
ΔX3＝ΔX1+ΔX2+ΔX；
ΔY3＝ΔY1+ΔY2+ΔY；
ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；
ΔX3，ΔY3分别为在基于θ、ΔX、ΔY校准之后沿X轴和Y轴的偏移量；
在所有的预设位置对应的ΔX3，ΔY3满足偏移要求的情况下获得校准所需的所述旋转角度θ和所述平移量ΔX、ΔY。
另外，还优选地，所述校准量获得模块11被设置成：测量的每个所述预设位置的坐标为(Xs,Ys)以及与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(Xm,Ym)；
ΔX1＝Xm-Xs；ΔY1＝Ym-Ys；
X’＝R*cos(θ1+θ2)；
Y’＝R*sin(θ1+θ2)；
θ2＝arc tan(Ym/Xm)
θ1为所述旋转角度；
ΔX2＝X’-Xm；
ΔY2＝Y’-Ym；
ΔX3＝ΔX1+ΔX2；
ΔY3＝ΔY1+ΔY2；
ΔX4＝ΔX3+ΔX；
ΔY4＝ΔY3+ΔY；
ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；
ΔX4，ΔY4分别为在基于θ1、ΔX、ΔY校准之后沿所述坐标系的X轴和Y轴的偏移量；
在所有的预设位置对应的ΔX4，ΔY4满足偏移要求的情况下计算校准所需的所述旋转角度θ1和所述平移量ΔX、ΔY。
本发明实施例提供的偏移校准系统的校准方法如上述实施例1所示，在此不再赘述。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (6)

1.一种偏移校准方法，用于校准背板上的预设位置和掩膜板上开口之间的偏移，其特征在于，包括以下步骤：
基于所述背板和所述掩膜板的初始位置进行一次蒸镀；
测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标；
根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在偏移量满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量；
根据所述旋转角度和所述平移量调整所述背板或掩膜板；
所述根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在偏移量满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量，包括：
测量的每个所述预设位置的坐标为(Xs,Ys)以及该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(Xm,Ym)；
ΔX1＝Xm-Xs；
ΔY1＝Ym-Ys；
ΔX2＝(cosθ-1)*Xm-Ym*sinθ；
ΔY2＝Xm*sinθ+(cosθ-1)*Ym；
θ为所述旋转角度；
ΔX3＝ΔX1+ΔX2+ΔX；
ΔY3＝ΔY1+ΔY2+ΔY；
ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；
ΔX3，ΔY3分别为在基于θ、ΔX、ΔY校准之后沿X轴和Y轴的偏移量；
在所有的预设位置对应的ΔX3，ΔY3满足偏移要求的情况下获得校准所需的所述旋转角度θ和所述平移量ΔX、ΔY；
或者,所述根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量，包括：
测量的每个所述预设位置的坐标为(Xs,Ys)以及与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(Xm,Ym)；
ΔX1＝Xm-Xs；ΔY1＝Ym-Ys；
X’＝R*cos(θ1+θ2)；
Y’＝R*sin(θ1+θ2)；
θ2＝arc tan(Ym/Xm)；
θ1为所述旋转角度；
ΔX2＝X’-Xm；
ΔY2＝Y’-Ym；
ΔX3＝ΔX1+ΔX2；
ΔY3＝ΔY1+ΔY2；
ΔX4＝ΔX3+ΔX；
ΔY4＝ΔY3+ΔY；
ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；
ΔX4，ΔY4分别为在基于θ1、ΔX、ΔY校准之后沿所述坐标系的X轴和Y轴的偏移量；
在所有的预设位置对应的ΔX4，ΔY4满足偏移要求的情况下计算校准所需的所述旋转角度θ1和所述平移量ΔX、ΔY。
2.根据权利要求1所述的偏移校准方法，其特征在于，执行上述步骤两次，在第一次执行时，所述背板采用测试背板；在第二次执行时，所述背板采用工艺背板。
3.根据权利要求2所述的偏移校准方法，其特征在于，所述测试背板为白玻璃。
4.根据权利要求2所述的偏移校准方法，其特征在于，在第二次执行时，所述测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标，包括：
对蒸镀后的所述背板上每个单元的不同位置分别获取一张图片；
测量每张图片中的至少一个所述预设位置和与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标。
5.一种偏移校准系统，用于校准背板上的预设位置和掩膜板上开口之间的偏移，其特征在于，包括测量模块、校准量获得模块和调整模块：其中
所述测量模块用于在基于所述背板和所述掩膜板的初始位置进行一次蒸镀后，测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标；
所述校准量获得模块用于根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在偏移量满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量；
所述调整模块用于根据所述旋转角度和所述平移量调整所述背板或掩膜板；
所述校准量获得模块被设置成：测量的每个所述预设位置的坐标为(Xs,Ys)以及该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(Xm,Ym)；
ΔX1＝Xm-Xs；
ΔY1＝Ym-Ys；
ΔX2＝(cosθ-1)*Xm-Ym*sinθ；
ΔY2＝Xm*sinθ+(cosθ-1)*Ym；
θ为所述旋转角度；
ΔX3＝ΔX1+ΔX2+ΔX；
ΔY3＝ΔY1+ΔY2+ΔY；
ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；
ΔX3，ΔY3分别为在基于θ、ΔX、ΔY校准之后沿X轴和Y轴的偏移量；
在所有的预设位置对应的ΔX3，ΔY3满足偏移要求的情况下获得校准所需的所述旋转角度θ和所述平移量ΔX、ΔY，
或者，所述校准量获得模块被设置成：测量的每个所述预设位置的坐标为(Xs,Ys)以及与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(Xm,Ym)；
ΔX1＝Xm-Xs；ΔY1＝Ym-Ys；
X’＝R*cos(θ1+θ2)；
Y’＝R*sin(θ1+θ2)；
θ2＝arc tan(Ym/Xm)；
θ1为所述旋转角度；
ΔX2＝X’-Xm；
ΔY2＝Y’-Ym；
ΔX3＝ΔX1+ΔX2；
ΔY3＝ΔY1+ΔY2；
ΔX4＝ΔX3+ΔX；
ΔY4＝ΔY3+ΔY；
ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；
ΔX4，ΔY4分别为在基于θ1、ΔX、ΔY校准之后沿所述坐标系的X轴和Y轴的偏移量；
在所有的预设位置对应的ΔX4，ΔY4满足偏移要求的情况下计算校准所需的所述旋转角度θ1和所述平移量ΔX、ΔY。
6.根据权利要求5所述的偏移校准系统，其特征在于，还包括图像获取模块，
所述图像获取模块用于对蒸镀后的所述背板上每个单元的不同位置分别获取一张图片；
所述测量模块用于测量每张图片中的至少一个所述预设位置和与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标。
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