CN110172666A - 掩膜板组件及其制作方法、像素生成方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及显示技术领域，提出一种掩膜板组件及其制作方法、像素生成方法，该掩膜板组件包括：安装框体和多个掩膜板，多个掩膜板固定设置于所述安装框体上，且沿第一方向间隔分布；其中，多个所述掩膜板共同形成一掩膜图像，所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设的掩膜位置。本公开提供的掩膜板组件可以实现像素单元中有机发光材料的精确蒸镀。

Description

掩膜板组件及其制作方法、像素生成方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜板组件及其制作方法、像素生成方法。
背景技术
OLED(Organic Light-Emitting Diode)屏因其具有对比度高、能够自发光及柔性显示等优点而得到了越来越广泛的应用。目前，真空热蒸镀是制备OLED器件的一种行之有效的方法，它将加热蒸发的材料分子穿过FMM(Fine Metal Mask，高精度金属掩膜板)的开口沉积到背板的相应位置处。
相关技术中，一般通过MFA(Mask Frame Assembly，掩膜板组件)实现像素单元的形成。掩膜板组件一般包括沿一方向间隔分布的多个掩膜板，多个掩膜板的开口与阵列基板上像素开口精确对位。从而可以保证将有机发光材料精确蒸镀到像素开口位置。
然而，在实际蒸镀过程中，阵列基板一般位于掩膜板组件的上方，阵列基板在其重力作用下会出现下垂现象，从而使得掩膜板也随之下垂，且掩膜板与阵列基板的下垂量不同。同时由于蒸镀腔室温度较高，在热应力作用下蒸镀组件也会膨胀形变。最终造成通过上述掩膜板组件形成的有机发光材料无法精确蒸镀到阵列基板上像素的开口位置，从而造成屏幕混色。
需要说明的是，在上述背景技术部分发明的信息仅用于加强对本发明的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
本发明的目的在于提供一种掩膜板组件及其制作方法、像素生成方法，该掩膜板组件能够实现像素单元的精确蒸镀。
本发明的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本发明的实践而习得。
根据本公开的一方面，提供一种掩膜板组件，其该掩膜板组件包括安装框体和多个掩膜板，多个掩膜板固定设置于所述安装框体上，且沿第一方向间隔分布；其中，多个所述掩膜板共同形成一掩膜图像，所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设的掩膜位置。
在本公开的一种示例性实施例中，所述第一方向包括相反的第一侧方向和第二侧方向；位于所述掩膜图像形心第一侧方向的所述掩膜板沿所述第二侧方向偏离其预设的掩膜位置；位于所述掩膜图像形心第二侧方向的所述掩膜板沿所述第一侧方向偏离其预设的掩膜位置。
在本公开的一种示例性实施例中，位于所述第一侧方向外侧的所述掩膜板的偏离距离大于位于所述第一侧方向内侧的所述掩膜板的偏离距离；
位于所述第二侧方向外侧的所述掩膜板的偏离距离大于位于所述第二侧方向内侧的所述掩膜板的偏离距离。
在本公开的一种示例性实施例中，该掩膜板组件还包括多个第一支撑条，多个第一支撑条固定设置于所述安装框体上，沿所述第一方向间隔分布，且覆盖于相邻所述掩膜板之间间隙上。
在本公开的一种示例性实施例中，还包括多个第二支撑条，多个第二支撑条固定设置于所述安装框体上，且沿第二方向间隔分布，用于支撑所述掩膜板。
根据本公开的一方面，提供一种掩膜板组件制作方法，该方法包括：
提供一安装框体；
将多个掩膜板固定设置于所述安装框体上，且沿第一方向间隔分布；
其中，多个所述掩膜板共同形成一掩膜图像，所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设的掩膜位置。
在本公开的一种示例性实施例中，将多个掩膜板固定设置于所述安装框体上，包括：
获取位于所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的偏移量；
根据所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的偏移量将所述掩膜板固定设置于所述安装框体上。
在本公开的一种示例性实施例中，获取位于所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的偏移量，包括：
提供一成品掩膜板组件，所述掩膜板组件中多个掩膜板位于预设的掩膜位置；
通过所述成品掩膜板组件在一对象基板上形成蒸镀单元；
检测所述蒸镀单元偏离其预设蒸镀位置的偏移量；
根据所述蒸镀单元的偏移量获取所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的距离。
在本公开的一种示例性实施例中，根据所述蒸镀单元的偏移量获取所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的距离，包括：
获取所述掩膜板对应的多个所述蒸镀单元的偏移量；
计算多个所述蒸镀单元偏移量的平均值，从而获取所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的距离。
根据本公开的一方面，提供一种像素单元生成方法，该方法包括：
提供一上述的掩膜板组件；
利用所述掩膜板组件生成像素单元。
本公开提出一种掩膜板组件及其制作方法、像素生成方法，该掩膜板组件包括：安装框体和多个掩膜板，多个掩膜板固定设置于所述安装框体上，且沿第一方向间隔分布；其中，多个所述掩膜板共同形成一掩膜图像，所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设的掩膜位置。一方面，本公开提供的掩膜板组件可以实现像素单元中有机发光材料的精确蒸镀；另一方面，本公开提供的掩膜板组件结构简单、成本较低。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为相关技术中掩膜板组件一种示例性实施例的结构示意图；
图2为相关技术中掩膜板组件工作时的结构示意图；
图3为相关技术中掩膜板组件形成的像素单元发光层的结构示意图；
图4为本公开掩膜板组件一种示例性实施例的结构示意图；
图5为本公开掩膜板组件另一种示例性实施例的结构示意图；
图6为本公开掩膜板组件制作方法一种示例性实施例的流程图。
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述示例实施例。然而，示例实施例能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施例使得本发明将更加全面和完整，并将示例实施例的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。
虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。其他相对性的用语，例如“高”“低”“顶”“底”“左”“右”等也作具有类似含义。当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。
用语“一个”、“一”、“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等。
如图1所示，为相关技术中掩膜板组件一种示例性实施例的结构示意图。相关技术中，掩膜板组件包括安装框体11、第一支撑条12、第二支撑条13、以及多个掩膜板14。第一支撑条12固定连接于安装框体11上，且沿第一方向X间隔分布。第二支撑条13固定连接于安装框体11上，且沿第二方向Y间隔分布。多个掩膜板14沿第一方向间隔分布，且位于第一支撑条12之间。其中，每个掩膜板14位于预设的掩膜位置，以使每个掩膜板的开口与阵列基板上的像素开口一一对应。
然而，在实际蒸镀过程中，如图2所示，为相关技术中掩膜板组件工作时的结构示意图。掩膜板组件1位于阵列基板2的下方，阵列基板2在其重力作用下会出现下垂现象，从而使得掩膜板组件1中掩膜版也随之下垂，且掩膜板与阵列基板的下垂量不同。同时由于蒸镀腔室温度较高，在热应力作用下掩膜板组件也会膨胀形变。例如，如图2所示，掩膜板组件1中掩膜板位于预设的掩膜位置时，掩膜板A点位置处的开口应该与阵列基板2上B点处的像素开口相对应，然而，由于掩膜板和阵列基板的下垂量不同，在实际蒸镀过程中，蒸镀源沿箭头方向(其中θ为蒸镀角)向掩膜板组件1喷射有机发光材料，从而会在C点位置处形成像素单元的发光材料层。如图3所示，为相关技术中掩膜板组件形成的像素单元发光层的结构示意图。图3中虚线框为阵列基板上发光层的预设位置，实线框为阵列基板上发光层的实际位置。显然，通过相关技术中掩膜板组件形成的像素单元发光层偏离其预设的位置。最终造成通过上述掩膜板组件形成的有机发光材料无法精确蒸镀到阵列基板上像素的开口位置，从而造成屏幕混色。
基于此，本示例性实施例提供一种掩膜板组件，如图4所示，为本公开掩膜板组件一种示例性实施例的结构示意图。其该掩膜板组件包括安装框体3和多个掩膜板4，多个掩膜板4固定设置于所述安装框体上，且沿第一方向X间隔分布；其中，多个所述掩膜板共同形成一掩膜图像，所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设的掩膜位置。图4中批注5为掩膜板的预设位置。其中，掩膜板预设的掩膜位置具体可以指，当掩膜板组件与阵列基板均水平相对放置时，能够使得每个掩膜板中的开口位于其对应像素开口正投影的位置。掩膜板可以为高精度金属掩膜板。
本公开提出一种掩膜板组件，该掩膜板组件包括：安装框体和多个掩膜板，多个掩膜板固定设置于所述安装框体上，且沿第一方向间隔分布；其中，多个所述掩膜板共同形成一掩膜图像，所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设的掩膜位置。一方面，本公开提供的掩膜板组件可以实现像素单元中有机发光材料的精确蒸镀；另一方面，本公开提供的掩膜板组件结构简单、成本较低。
由图3可以看出，位于右侧的像素单元中发光层的实际位置向右偏离其预设位置，位于左侧的像素单元中发光层的实际位置向左偏离其预设位置。因此，本示例性实施例中，所述第一方向包括相反的第一侧方向(图4中右侧方向)和第二侧方向(图4中左侧方向)；位于所述掩膜图像形心第一侧方向的所述掩膜板沿所述第二侧方向偏离其预设的掩膜位置；位于所述掩膜图像形心第二侧方向的所述掩膜板沿所述第一侧方向偏离其预设的掩膜位置。从而可以使得发光层的实际位置在第一方向上不发生偏离。
由图2可以看出，掩膜板组件与阵列基板之间的间隙随距离掩膜板组形心位置越远间隙越大，结合上述中发光层发生偏离的原理，可知：越偏离掩膜板组形心位置的掩膜板所形成的发光层越偏离其预设位置。因此，本示例性实施例中，位于所述第一侧方向外侧(即左侧)的所述掩膜板的偏离距离大于位于所述第一侧方向内侧(即右侧)的所述掩膜板的偏离距离；位于所述第二侧方向外侧的所述掩膜板的偏离距离大于位于所述第二侧方向内侧的所述掩膜板的偏离距离。从而实现通过该掩膜板组中每个掩膜板形成的像素发光层在第一方向上不发生偏移。
本示例性实施例中，如图5所示，为本公开掩膜板组件另一种示例性实施例的结构示意图。该掩膜板组件还可以包括多个第一支撑条6，多个第一支撑条6固定设置于所述安装框体3上，沿所述第一方向X间隔分布，且覆盖于相邻所述掩膜板之间间隙上。该掩膜板组件还可以包括多个第二支撑条7，多个第二支撑条7固定设置于所述安装框体上，且沿第二方向Y间隔分布，用于支撑所述掩膜板。同时第一支撑条6和第二支撑条7还可以用于遮挡发光材料，从而在第一支撑条6和第二支撑条7对应的阵列基板位置形成阵列基板的边沿走线区。
应该理解的是，该掩膜组件用于形成像素单元发光层以外还可以用于形成其他的蒸镀单元，这些都属于本公开的保护范围。
本示例性实施例还提供一种掩膜板组件制作方法，如图6所示，为本公开掩膜板组件制作方法一种示例性实施例的流程图。该方法包括：
步骤S1：提供一安装框体；
步骤S2：将多个掩膜板固定设置于所述安装框体上，且沿第一方向(行方向)间隔分布；
其中，多个所述掩膜板共同形成一掩膜图像，所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设的掩膜位置。
以下对上述步骤进行详细说明：
本示例性实施例中，将多个掩膜板固定设置于所述安装框体上，可以包括：
获取位于所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的偏移量；
根据所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的偏移量将所述掩膜板固定设置于所述安装框体上。
其中，获取位于所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的偏移量的一种可实施方案可以包括：
提供一成品掩膜板组件，所述掩膜板组件中多个掩膜板位于预设的掩膜位置；
通过所述成品掩膜板组件在一对象基板上形成蒸镀单元；
检测所述蒸镀单元偏离其预设蒸镀位置的偏移量；
根据所述蒸镀单元的偏移量获取所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的距离。
本示例性实施例中，根据所述蒸镀单元的偏移量获取所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的距离，可以包括：
获取所述掩膜板对应的多个所述蒸镀单元的偏移量；
计算多个所述蒸镀单元偏移量的平均值，从而获取所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的距离。其中，多个所述蒸镀单元可以选择位于不同列上的多个蒸镀单元。
此外，获取位于所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的偏移量还有更多的实现方式，例如，可以通过数值模拟获取掩膜板的偏移量，还可以通过实际测量结合几何运算获取掩膜板的偏移量。
本示例性实施例还提供一种像素单元生成方法，该方法包括：
提供一上述的掩膜板组件；
利用所述掩膜板组件生成像素单元。
本公开提供的像素单元生成方法与上述的掩膜板组件具有相同的技术特征和工作原理，此处不再赘述。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本公开的其他实施例。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由权利要求指出。
应当理解的是，本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限。

Claims (10)

1.一种掩膜板组件，其特征在于，包括：
安装框体；
多个掩膜板，固定设置于所述安装框体上，且沿第一方向间隔分布；
其中，多个所述掩膜板共同形成一掩膜图像，所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设的掩膜位置。
2.根据权利要求1所述的掩膜板组件，其特征在于，所述第一方向包括相反的第一侧方向和第二侧方向；
位于所述掩膜图像形心第一侧方向的所述掩膜板沿所述第二侧方向偏离其预设的掩膜位置；
位于所述掩膜图像形心第二侧方向的所述掩膜板沿所述第一侧方向偏离其预设的掩膜位置。
3.根据权利要求2所述的掩膜板组件，其特征在于，
位于所述第一侧方向外侧的所述掩膜板的偏离距离大于位于所述第一侧方向内侧的所述掩膜板的偏离距离；
位于所述第二侧方向外侧的所述掩膜板的偏离距离大于位于所述第二侧方向内侧的所述掩膜板的偏离距离。
4.根据权利要求1所述的掩膜板组件，其特征在于，还包括：
多个第一支撑条，固定设置于所述安装框体上，沿所述第一方向间隔分布，且覆盖于相邻所述掩膜板之间的间隙上。
5.根据权利要求1所述的掩膜板组件，其特征在于，还包括：
多个第二支撑条，固定设置于所述安装框体上，且沿第二方向间隔分布，用于支撑所述掩膜板。
6.一种掩膜板组件制作方法，其特征在于，包括：
提供一安装框体；
将多个掩膜板固定设置于所述安装框体上，且沿第一方向间隔分布；
其中，多个所述掩膜板共同形成一掩膜图像，所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设的掩膜位置。
7.根据权利要求6所述的掩膜板组件制作方法，其特征在于，将多个掩膜板固定设置于所述安装框体上，包括：
获取位于所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的偏移量；
根据所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的偏移量将所述掩膜板固定设置于所述安装框体上。
8.根据权利要求7所述的掩膜板组件制作方法，其特征在于，获取位于所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的偏移量，包括：
提供一成品掩膜板组件，所述掩膜板组件中多个掩膜板位于预设的掩膜位置；
通过所述成品掩膜板组件在一对象基板上形成蒸镀单元；
检测所述蒸镀单元偏离其预设蒸镀位置的偏移量；
根据所述蒸镀单元的偏移量获取所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的距离。
9.根据权利要求8所述的掩膜板组件制作方法，其特征在于，根据所述蒸镀单元的偏移量获取所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的距离，包括：
获取所述掩膜板对应的多个所述蒸镀单元的偏移量；
计算多个所述蒸镀单元偏移量的平均值，从而获取所述掩膜板偏离其预设掩膜位置的距离。
10.一种像素单元生成方法，其特征在于，包括：
提供一权利要求1-5任一项所述的掩膜板组件；
利用所述掩膜板组件生成像素单元。
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