CN117328023A - 掩膜版组件及显示面板 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种掩膜版组件及显示面板，属于显示技术领域。掩膜版组件包括：层叠设置的第一掩膜版主体和第二掩膜版主体，第一掩膜版主体和第二掩膜版主体中的一个开设有多个蒸镀开口槽，蒸镀开口槽的正投影和显示面板的第一区域的正投影重叠，第一区域为显示面板的显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域；第一掩膜版主体的正投影和第二掩膜版主体的正投影的非重叠区域的正投影为第一投影，显示面板的显示区的正投影为第二投影，第一投影和第二投影重叠。这样，可以在不影响显示区正常制备的情况下，可以通过蒸镀开口槽对显示面板的显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域的局部像素级的高精度蒸镀，进而节省了成本。

Description

掩膜版组件及显示面板

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种掩膜版组件及显示面板。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)具有功耗低、响应速度快、清晰度高、更轻薄、更大的可视角度等诸多优点，是目前可实现量产的最新一代显示技术。OLED显示器件的发光层主要通过掩模蒸镀法将发光材料蒸镀到显示基板上，在显示基板前设定金属掩模板，如精细金属掩模板(FMM，Fine Metal Mask)作为遮挡层，在蒸镀过程中就需要高精度的金属掩膜版进行遮挡，才能让材料蒸镀在需要蒸镀的地方。

目前，随着OLED各种新技术的发展，需要对显示面板的显示区域局部进行高精度蒸镀的需求越来越多。比如屏下摄像头、屏下指纹识别等技术，都需要对显示区域中的局部区域进行高精度的蒸镀，使局部区域去除阴极，进而使得该区域的光线透过率增大。

然而，普通的掩膜板难以对屏下摄像头、屏下指纹识别等区域进行高精度蒸镀，且无法做到蒸镀的同时不影响显示面板其它显示区的正常制备，若需要实现该目的，则需要增加加工工艺，进而使得显示面板的制备成本提升。

发明内容

本发明实施例的目的是提供一种掩膜版组件及显示面板，能够解决掩膜版难以对屏下摄像头、屏下指纹识别等区域进行高精度蒸镀的问题。

第一方面，本发明实施例提供了一种掩膜版组件，用于制备显示面板，所述掩膜版组件包括：

层叠设置的第一掩膜版主体和第二掩膜版主体，所述第一掩膜版主体和所述第二掩膜版主体中的一个开设有多个蒸镀开口槽，所述蒸镀开口槽的正投影和所述显示面板的第一区域的正投影重叠，所述第一区域为所述显示面板的显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域；

所述第一掩膜版主体的正投影和所述第二掩膜版主体的正投影的非重叠区域的正投影为第一投影，所述显示面板的显示区的正投影为第二投影，所述第一投影和所述第二投影重叠。

可选的，所述第一掩膜版主体上开设有多个显示开口槽；

所述第二掩膜版主体包括第一部分和第二部分，所述蒸镀开口槽开设在所述第二部分，其中，所述第一部分的第二区域正对所述显示开口槽，所述第二区域的正投影和所述显示面板的显示区的正投影重叠，其中，所述第二区域为半刻掩膜区域。

可选的，所述蒸镀开口槽开设在所述第一掩膜版主体上；

所述第二掩膜版主体长度方向上的两个端部伸出于所述第一掩膜版主体的边缘；

所述第二掩膜版主体的正投影和所述显示面板的显示区的正投影的重叠部分为通刻区域，所述通刻区域的正投影和所述蒸镀开口槽的正投影部分重合。

可选的，所述第一掩膜版主体上开设有多个显示开口槽；

所述第二掩膜版主体包括第三区域，所述蒸镀开口槽开设在所述第三区域内，所述第三区域内除外设所述蒸镀开口槽外的其它区域为半刻掩膜区域；

其中，所述第三区域正对所述显示开口槽，所述第三区域的正投影和所述显示面板的显示区的正投影重叠。

可选的，所述第一部分和第二部分均为矩形板状结构；

所述第二部分的宽度小于所述第一部分的宽度的二分之一。

可选的，所述第一部分的长度小于所述第二部分的长度，所述第一部分长度方向上的两个端部伸出于所述第一掩膜版主体的边缘。

可选的，所述第一掩膜版主体除开设所述蒸镀开口槽外的其它区域为半刻掩膜区域。

可选的，所述第二掩膜版主体为矩形板状结构，所述第二掩膜版主体的长度方向上的两个端部伸出于所述第一掩膜版主体的边缘。

可选的，多个所述蒸镀开口槽呈阵列排布。

第二方面，本发明实施例还提供了一种显示面板，所述显示面板通过第一方面任一实施例所述的掩膜版组件制备，所述显示面板包括：

第一显示区和第二显示区；

所述第二显示区位于所述显示面板的显示面的第一区域，所述第二显示区的像素密度为所述第一显示区的预设倍数，以使所述第二显示区的透过率大于所述第一显示区的透过率；

所述第二显示区设置有阴极去除区，所述阴极去除区饶设在所述第二显示区中的像素单元四周；

其中，所述预设倍数为小于1且大于0的倍数值，所述第一区域为与所述显示面板的显示面的显示区设置光学功能元件的区域相对的区域。

从上述实施例可以看出，在本发明实施例中，由于第一掩膜版主体和第二掩膜版主体中的一个开设有多个蒸镀开口槽，蒸镀开口槽的正投影和显示面板的第一区域的正投影重叠，第一区域为显示面板的显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域，因此可以通过开设蒸镀开口槽的掩膜版进行局部像素级的高精度蒸镀。又由于第一掩膜版主体的正投影和第二掩膜版主体的正投影的非重叠区域的正投影为第一投影，显示面板的显示区的正投影为第二投影，第一投影和第二投影重叠，因此，可以通过层叠设置的第一掩膜版主体和第二掩膜版主体对显示面板的显示区正常进行遮挡，即对显示面板的显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域的局部像素级的高精度蒸镀不会影响显示面板的显示区的正常制备。这样，可以在不影响显示区正常制备的情况下，可以通过蒸镀开口槽对显示面板的显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域的局部像素级的高精度蒸镀，且实现该方式没有增加工艺难度，进而节省了成本，有利于产品的量产。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1表示本发明实施例提供的第一种掩膜版组件的结构示意图之一；

图2表示本发明实施例提供的第一种掩膜版组件的结构示意图之二；

图3表示本发明实施例提供的第一种掩膜版组件的结构示意图之三；

图4表示本发明实施例提供的第一种掩膜版组件的结构示意图之四；

图5表示本发明实施例提供的第二种掩膜版组件的结构示意图之一；

图6表示本发明实施例提供的第二种掩膜版组件的结构示意图之二；

图7表示本发明实施例提供的第二种掩膜版组件的结构示意图之三；

图8表示本发明实施例提供的第三种掩膜版组件的结构示意图之一；

图9表示本发明实施例提供的第三种掩膜版组件的结构示意图之二；

图10表示本发明实施例提供的第三种掩膜版组件的结构示意图之三；

图11表示本发明实施例提供的显示面板的结构示意图。

附图标记：

1：第一掩膜版主体；2：第二掩膜版主体；3：蒸镀开口槽；4：显示开口槽；5：显示面板；21：第一部分；22：第二部分；23：通刻区域；24：第三区域；51：第一显示区；52：第二显示区；211：第二区域。

具体实施方式

下面将结合附图，对本发明一些实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明所提供的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

除非上下文另有要求，否则，在整个说明书和权利要求书中，术语“包括(comprise)”及其其他形式例如第三人称单数形式“包括(comprises)”和现在分词形式“包括(comprising)”被解释为开放、包含的意思，即为“包含，但不限于”。在说明书的描述中，术语“一个实施例(one embodiment)”、“一些实施例(some embodiments)”、“示例性实施例(exemplary embodiments)”、“示例(example)”、“特定示例(specific example)”或“一些示例(some examples)”等旨在表明与该实施例或示例相关的特定特征、结构、材料或特性包括在本发明的至少一个实施例或示例中。上述术语的示意性表示不一定是指同一实施例或示例。此外，所述的特定特征、结构、材料或特点可以以任何适当方式包括在任何一个或多个实施例或示例中。

以下，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明实施例的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在描述一些实施例时，可能使用了“电连接”及其衍伸的表达。例如，描述一些实施例时可能使用了术语“电连接”以表明两个或两个以上部件彼此间有直接物理接触或电接触。

“A和/或B”，包括以下三种组合：仅A，仅B，及A和B的组合。

本文中“被配置为”的使用意味着开放和包容性的语言，其不排除适用于或被配置为执行额外任务或步骤的设备。

如本文所使用的那样，“大致”包括所阐述的值以及处于特定值的可接受偏差范围内的平均值，其中所述可接受偏差范围如由本领域普通技术人员考虑到正在讨论的测量以及与特定量的测量相关的误差(即，测量系统的局限性)所确定。

本文中“同层”指的是采用同一成膜工艺形成用于形成特定图形的膜层，然后利用同一掩模板通过一次构图工艺形成的层结构。根据特定图形的不同，一次构图工艺可能包括多次曝光、显影或刻蚀工艺，而形成的层结构中的特定图形可以是连续的也可以是不连续的，这些特定图形还可能处于不同的高度或者具有不同的厚度。与之相反地，“异层”指的是分别采用相应的成膜工艺形成用于形成特定图形的膜层，然后利用相应的掩模板通过构图工艺形成的层结构，例如，“两个层结构异层设置”是指两个层结构分别在相应的工艺步骤(成膜工艺和构图工艺)下形成。

本文参照作为理想化示例性附图的剖视图和/或平面图描述了示例性实施方式。在附图中，为了清楚，放大了层和区域的厚度。因此，可设想到由于例如制造技术和/或公差引起的相对于附图的形状的变动。因此，示例性实施方式不应解释为局限于本文示出的区域的形状，而是包括因例如制造而引起的形状偏差。例如，示为矩形的蚀刻区域通常将具有弯曲的特征。因此，附图中所示的区域本质上是示意性的，且它们的形状并非旨在示出设备的区域的实际形状，并且并非旨在限制示例性实施方式的范围。

第一方面，本发明实施例提供了一种掩膜版组件，图1表示本发明实施例提供的一种掩膜版组件的结构示意图，如图1所示，该掩膜版组件用于制备显示面板，包括：

层叠设置的第一掩膜版主体1和第二掩膜版主体2，第一掩膜版主体1和第二掩膜版主体2中的一个开设有多个蒸镀开口槽3，蒸镀开口槽3的正投影和显示面板的第一区域的正投影重叠，第一区域为显示面板的显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域。

第一掩膜版主体1的正投影和第二掩膜版主体2的正投影的非重叠区域的正投影为第一投影，显示面板的显示区的正投影为第二投影，第一投影和第二投影重叠。

从上述实施例可以看出，在本发明实施例中，由于第一掩膜版主体1和第二掩膜版主体2中的一个开设有多个蒸镀开口槽3，蒸镀开口槽3的正投影和显示面板的第一区域的正投影重叠，第一区域为显示面板的显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域，因此可以通过开设蒸镀开口槽3的掩膜版进行局部像素级的高精度蒸镀。又由于第一掩膜版主体1的正投影和第二掩膜版主体2的正投影的非重叠区域的正投影为第一投影，显示面板的显示区的正投影为第二投影，第一投影和第二投影重叠，因此，可以通过层叠设置的第一掩膜版主体1和第二掩膜版主体2对显示面板的显示区正常进行遮挡，即对显示面板的显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域的局部像素级的高精度蒸镀不会影响显示面板的显示区的正常制备。这样，可以在不影响显示区正常制备的情况下，可以通过蒸镀开口槽3对显示面板的显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域的局部像素级的高精度蒸镀，且实现该方式没有增加工艺难度，进而节省了成本，有利于产品的量产。

需要说明的是，上述实施例中的第一掩膜版主体1和第二掩膜版主体2中有一个上开设有蒸镀开口槽3，也即是，蒸镀开口槽3可以开设在第一掩膜版主体1上，蒸镀开口槽3为设置在第一掩膜版主体1或者第二掩膜版主体2上的通槽结构，蒸镀开口槽3可以为圆形槽，也可以为方形槽，或者其它结构形状的槽型，本发明实施例对此不做限定。蒸镀开口槽3的槽口面积依据显示面板的显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域的大小确定。此外，第一掩膜版主体1或者第二掩膜版主体2上的蒸镀开口槽3的个数依据掩膜版组件蒸镀的显示面板的个数确定。此外，在第一掩膜版主体1或者第二掩膜版主体2上的蒸镀开口槽3的个数为多个的情况下，每个蒸镀开口槽3的槽口面积相等，或者，每个蒸镀开口槽3的槽口面积也可以不相等，以满足不同显示面板的显示区的底部设置光学功能元件的区域的不同大小需求。

在一些实施例中，多个蒸镀开口槽3呈阵列排布。多个蒸镀开口槽3可以呈线性阵列排布，如一行三列、一行四列等，多个蒸镀开口槽3也可以呈矩阵阵列排布，如三行三列，三行四列等。这样，多个蒸镀开口槽3呈阵列排布，可以使得掩膜版上进行局部像素级的高精度蒸镀的区域均匀分布，一方面便于在掩膜版上开设蒸镀开口槽3，便于掩膜版的制造，另一方面便于通过掩膜版进行局部像素级的高精度蒸镀。

此外，第一掩膜版主体1的正投影和第二掩膜版主体2的正投影的非重叠区域的正投影为第一投影，显示面板的显示区的正投影为第二投影，第一投影和第二投影重叠，也即是，第一掩膜版主体1和第二掩膜版主体2中只有一个掩膜版主体包括和显示面板的显示区的正投影的显示开口槽4。这样，不会额外增加工艺难度，进而节省了成本。

此外，第一区域可以位于显示面板的显示面的任一位置，具体位置依据显示面板中设置的光学功能元件的设置位置确定，该光学功能元件可以为摄像头、感光器等光学元件，本公开实施例对此不做限定。此外，第一区域的形状可以为圆形、方形、椭圆形、菱形、多边形或不规则图形等任意的形状，本公开实施例对此也不做限定。

加下来具体介绍下本发明实施例提供的掩膜版组件的几种结构，具体如下：

在一种实施例中，如图1至图4所示，第一掩膜版主体1上开设有多个显示开口槽4；第二掩膜版主体2包括第一部分21和第二部分22，蒸镀开口槽3开设在第二部分22，其中，第一部分21的第二区域211正对显示开口槽4，第二区域211的正投影和显示面板的显示区的正投影重叠，其中，第二区域211为半刻掩膜区域。

在该实施例中，多个显示开口槽4可以呈矩阵排列，以使得通过一个掩膜版可以制备多个显示面板。显示开口槽4的槽口面积和显示面板的显示区的正投影重叠，即显示开口槽4和显示面板的显示区正对，第一掩膜版主体1上除开设显示开口槽4外的其它区域为用来遮挡显示面板不需要进行蒸镀的区域。即每个蒸镀开口槽3四周具有第一掩膜版主体1进行饶设，进而可以第一掩膜版主体1上除开设显示开口槽4外的其它区域对第二掩膜版主体2进行支撑。由于每个显示开口槽4位于第一掩膜版主体1的中部，因此可以减少第一掩膜版主体1的下垂量，进而提升掩膜版组件的对位精度。

相比于第一掩膜版主体1，第二掩膜版主体2为该实施例中进行局部像素级的高精度蒸镀的掩膜版，在该实施例中，第二掩膜版主体2包括第一部分21和第二部分22，其中，第一部分21位于第二部分22的一侧，将蒸镀开口槽3开设在第二部分22。换句话说，可以在第二部分22开设通槽区域，以使得第二部分22的局部具有可以用来进行局部像素级的高精度蒸镀的通槽区域。

此外，由于第一部分21的第二区域211正对显示开口槽4，第二区域211的正投影和显示面板的显示区的正投影重叠，第二区域211为半刻掩膜区域，因此一方面可以通过第一部分21的第二区域211和第一部分21除开设蒸镀开口槽3的区域对显示面板的显示区进行遮挡，另一方面，对第二区域211进行半刻设计，可以减轻第二掩膜版主体2的重量，进而减少第一掩膜版主体1和第二掩膜版主体2组装后的下垂量。需要说明的是，半刻掩膜区域为可以进行半刻蚀的掩膜区域，相比于全刻掩膜区域，半刻掩膜区域的厚度较小。

进一步的，如图3和图4所示，第一部分21和第二部分22均为矩形板状结构，第二部分22的宽度小于第一部分21的宽度的二分之一。

需要说明的是，若显示面板的显示区为矩形显示区，则显示开口槽4也为矩形槽，显示开口槽4沿长度方向排布，那么在该实施例中，第一部分21的宽度和第二部分22的宽度之和等于显示开口槽4长度方向上的尺寸。由于第二掩膜版主体2包括第一部分21和第二部分22，蒸镀开口槽3开设在第二部分22，因此第二部分22为第二掩膜版主体2进行局部像素级的高精度蒸镀的区域，那么在第二部分22的宽度小于第一部分21的宽度的二分之一的情况下，使得第二部分22的宽度较窄，可以降低第二部分22的在掩膜版制造时的张网难度，进而使得第二部分22不受进行局部像素级的高精度蒸镀的区域的限制。其中，第一部分21的宽度如图3中d1所示，第二部分22的宽度如图4中d2所示。

可选的，第一部分21的长度小于第二部分22的长度，第一部分21长度方向上的两个端部伸出于第一掩膜版主体1的边缘。

需要说明的是，第一部分21长度方向上的两个端部伸出于第一掩膜版主体1的边缘，第一部分21的长度小于第二部分22的长度，因此可以保证用于进行局部像素级的高精度蒸镀的区域的第二部分22可以伸出于第一掩膜版主体1的边缘，即可以保证第一掩膜版主体对第二部分22构成支撑，且伸出的部分可以用于对掩膜版组件进行限位，以保证掩膜版组件整体结构的稳定性。其中，第一部分21的长度如图3中h1所示，第二部分22的长度如图4中h2所示。

在另一种实施例中，如图5至图7，蒸镀开口槽3开设在第一掩膜版主体1上；第二掩膜版主体2长度方向上的两个端部伸出于第一掩膜版主体1的边缘；第二掩膜版主体2的正投影和显示面板的显示区的正投影的重叠部分为通刻区域23，通刻区域23的正投影和蒸镀开口槽3的正投影部分重合。

在该实施例中，由于第二掩膜版主体2长度方向上的两个端部伸出于第一掩膜版主体1的边缘，第二掩膜版主体2的正投影和显示面板的显示区的正投影的重叠部分为通刻区域23，因此可以使得第二掩膜版主体2的中部为通刻区域23。又由于通刻区域23的正投影和蒸镀开口槽3的正投影部分重合，因此可以使得通刻区域23和第一掩膜版上1的蒸镀开口槽3处于贯穿状态。这样，在通过本发明实施例提供的掩膜版组件进行显示面板的制备时，先在显示基板和显示面板的显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域通过本发明实施例提供的掩膜版组件蒸镀上氧化铟锡材料，接着再采用常规的掩膜版，就可使显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域蒸镀上氧化铟锡材料的位置不存在阴极材料，使阴极在局部区域图案化，进而使得显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域的透光率大于显示面板其它区域的透过率。综上所述，通过该实施例提供的掩膜版组件制备显示面板的第一区域时，可以实现对第一区域只需一种掩膜版组件即可，进而降低了显示面板的制备的难度，降低了制备成本。

需要说明的是，在该实施例中，第二掩膜版主体2为长条形板状结构，因此第二掩膜版主体2的宽度较窄，第二掩膜版主体2的张网工艺成熟，降低第二掩膜版主体2的成本，便于补偿蒸镀开口槽3的位置，且使得第二掩膜版主体2的长度方向上两端拉力均匀，可实现对第一掩膜版主体1的蒸镀开口槽3进行像素级的高精度的蒸镀。

可选的，第一掩膜版主体1除开设蒸镀开口槽3外的其它区域为半刻掩膜区域。这样，可以减轻第一掩膜版主体的重量，进而减少第一掩膜版主体1和第二掩膜版主体2组装后的下垂量。需要说明的是，半刻掩膜区域为可以进行半刻蚀的掩膜区域，相比于全刻掩膜区域，半刻掩膜区域的厚度较小。

在一些实施例中，如图8至图10，第一掩膜版主体1上开设有多个显示开口槽4；第二掩膜版主体2包括第三区域24，蒸镀开口槽3开设在第三区域24内，第三区域24内除外设蒸镀开口槽3外的其它区域为半刻掩膜区域；其中，第三区域24正对显示开口槽4，第三区域24的正投影和显示面板的显示区的正投影重叠。

在该实施例中，多个显示开口槽4可以呈矩阵排列，以使得通过一个掩膜版可以制备多个显示面板。显示开口槽4的槽口面积和显示面板的显示区的正投影重叠，即显示开口槽4和显示面板的显示区正对，第一掩膜版主体1上除开设显示开口槽4外的其它区域为用来遮挡显示面板不需要进行蒸镀的区域。即每个蒸镀开口槽3四周具有第一掩膜版主体1进行饶设，进而可以第一掩膜版主体1上除开设显示开口槽4外的其它区域对第二掩膜版主体2进行支撑。由于每个显示开口槽4位于第一掩膜版主体1的中部，因此可以减少第一掩膜版主体1的下垂量，进而提升掩膜版组件的对位精度。

相比于第一掩膜版主体1，第二掩膜版主体2为该实施例中进行局部像素级的高精度蒸镀的掩膜版，在该实施例中，蒸镀开口槽3开设在第二掩膜版主体2的第三区域24内，也即是，可以在第二部分22开设通槽区域，以使得第二部分22的局部具有可以用来进行局部像素级的高精度蒸镀的通槽区域。

需要说明的是，OLED的显示面板的发光材料主要使用掩模板组件蒸镀到显示基板上。每个显示开口槽4包括多个像素开口区，像素开口区用于定义RGB子像素。在通过该实施例制备显示面板时，可以先在显示基板和第一区域相对的区域，即显示基板和显示面板的显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域通过本发明实施例提供的掩膜版组件蒸镀上氧化铟锡材料，接着再采用常规的掩膜版，就可使显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域蒸镀上氧化铟锡材料的位置不存在阴极材料，使阴极在局部区域图案化，进而使得显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域的透光率大于显示面板其它区域的透过率。

可选的，第二掩膜版主体2为矩形板状结构，第二掩膜版主体2的长度方向上的两个端部伸出于第一掩膜版主体1的边缘。

需要说明的是，在第二掩膜版主体2的长度方向上的两个端部伸出于第一掩膜版主体1的边缘的情况下，便于第一掩膜版主体的支撑，且使得第二掩膜版主体2的张网工艺成熟，降低第二掩膜版主体2的成本，且使得第二掩膜版的长度方向上两端拉力均匀，可实现对第一掩膜版主体1的蒸镀开口槽3进行像素级的高精度的蒸镀。

还需要说明的是，若显示面板的显示区为矩形显示区，则显示开口槽4也为矩形槽，显示开口槽4沿长度方向排布，那么在该实施例中，第二掩膜版主体为矩形板板状结构的情况下，第二掩膜版主体的宽度等于显示面板的显示区的长度，这样，即可以满足对显示面板的显示区的遮挡，又可以使得第二掩膜版主体2进行半刻的区域的面积最大化，即可以最大程度的减轻第二掩膜版主体的重量，进而减少第一掩膜版主体1和第二掩膜版主体2组装后的下垂量。

从上述实施例可以看出，在本发明实施例中，由于第一掩膜版主体1和第二掩膜版主体2中的一个开设有多个蒸镀开口槽3，蒸镀开口槽3的正投影和显示面板的第一区域的正投影重叠，第一区域为显示面板的显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域，因此可以通过开设蒸镀开口槽3的掩膜版进行局部像素级的高精度蒸镀。又由于第一掩膜版主体1的正投影和第二掩膜版主体2的正投影的非重叠区域的正投影为第一投影，显示面板的显示区的正投影为第二投影，第一投影和第二投影重叠，因此，可以通过层叠设置的第一掩膜版主体1和第二掩膜版主体2对显示面板的显示区正常进行遮挡，即对显示面板的显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域的局部像素级的高精度蒸镀不会影响显示面板的显示区的正常制备。这样，可以在不影响显示区正常制备的情况下，可以通过蒸镀开口槽3对显示面板的显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域的局部像素级的高精度蒸镀，且实现该方式没有增加工艺难度，进而节省了成本，有利于产品的量产。

第二方面，如图11所示，本发明实施例还提供了一种显示面板5，显示面板5通过第一方面任一实施例的掩膜版组件制备，显示面板5包括：第一显示区51和第二显示区52；第二显示区52位于显示面板5的显示面的第一区域，第二显示区52的像素密度为第一显示区51的预设倍数，以使第二显示区52的透过率大于第一显示区51的透过率；第二显示区52设置有阴极去除区，阴极去除区饶设在第二显示区52中的像素单元四周；其中，预设倍数为小于1且大于0的倍数值，第一区域为与显示面板5的显示面的显示区设置光学功能元件的区域相对的区域。

其中，第一显示区51为显示面板5中起显示作用的主要区域，第二显示区52为与显示面板5的显示面的底部设置光学功能元件的区域相对的区域，第二显示区52可以位于显示面板5的显示面的任一位置，具体位置依据显示面板5中设置的光学功能元件的设置位置确定，该光学功能元件可以为摄像头、感光器等光学元件，本公开实施例对此不做限定。此外，第二显示区52的形状可以为圆形、方形、椭圆形、菱形、多边形或不规则图形等任意的形状，本公开实施例对此也不做限定。

为提升显示面板5在第二显示区52的光学及显示效果，第二显示区52的像素密度为第一显示区51的预设倍数，该预设倍数为小于1且大于0的倍数值，如第二显示区52的像素密度为第一显示显示区的像素密度的2/3倍、1/2倍、1/3倍、1/4倍等任意倍数。这样，使得第二显示区52的相邻的两个像素单元之间的空隙相比于第一显示区51的相邻的两个像素单元之间的空隙面积增大，该空隙指的是第一显示区51或者第二显示区52未设置像素单元的区域，进而使得第二显示区52的透过率大于第一显示区51的透过率。需要说明的是，在本公开实施例中，像素单元指的是构成显示面板5基本原色素及灰度的基本单位，每个像素单元包括一个红色子像素、一个绿色子像素和一个蓝色子像素。

此外，需要说明的是，阴极去除区可以采用第一方面任一实施例提供的掩膜版组件进行真空蒸镀沉积的方式实现，具体为在蒸镀阴极之前，先利用图形化的掩膜蒸镀一层对阴极材料排斥的材料，称之为抑制剂，阴极抑制剂材料的图形与阴极去除部分的图形一致。当沉积完抑制剂材料后再进行整面阴极的沉积，由于材料排斥作用，已经有抑制剂图形的区域阴极将无法附着，从而实现阴极图形化去除，在第二显示区52内形成阴极去除区。

还需要说明的是，如图所示，由于阴极去除区饶设在第二显示区52中的像素单元四周，因此掩膜版组件中的开孔位置也应饶设在第二显示区52中的像素单元四周。

从上述实施例可以看出，在本发明实施例中，由于第二显示区52的像素密度为第一显示区51的预设倍数，且预设倍数为小于1且大于0的倍数值，因此使得第二显示区52的相邻的两个像素单元之间的空隙相比于第一显示区51的相邻的两个像素单元之间的空隙面积增大，加之第二显示区52设置有阴极去除区，阴极去除区饶设在第二显示区52中的像素单元四周，进而使得第二显示区52的透过率大于第一显示区51的透过率。又由于第二显示区52位于显示面板5的显示面的第一区域，第一区域为与显示面板5的显示面的底部设置功能元件的区域相对的区域，因此使得显示面板5的显示面中与设置功能元件的区域相对的区域的透过率相对于其它区域的透过率提升，使得功能元件可以正常感光，进而提升显示面板5的光学及显示效果。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (10)

1.一种掩膜版组件，用于制备显示面板，其特征在于，所述掩膜版组件包括：

层叠设置的第一掩膜版主体和第二掩膜版主体，所述第一掩膜版主体和所述第二掩膜版主体中的一个开设有多个蒸镀开口槽，所述蒸镀开口槽的正投影和所述显示面板的第一区域的正投影重叠，所述第一区域为所述显示面板的显示区的底部设置光学功能元件的区域相对的区域；

所述第一掩膜版主体的正投影和所述第二掩膜版主体的正投影的非重叠区域的正投影为第一投影，所述显示面板的显示区的正投影为第二投影，所述第一投影和所述第二投影重叠。

2.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述第一掩膜版主体上开设有多个显示开口槽；

所述第二掩膜版主体包括第一部分和第二部分，所述蒸镀开口槽开设在所述第二部分，其中，所述第一部分的第二区域正对所述显示开口槽，所述第二区域的正投影和所述显示面板的显示区的正投影重叠，其中，所述第二区域为半刻掩膜区域。

3.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述蒸镀开口槽开设在所述第一掩膜版主体上；

所述第二掩膜版主体长度方向上的两个端部伸出于所述第一掩膜版主体的边缘；

所述第二掩膜版主体的正投影和所述显示面板的显示区的正投影的重叠部分为通刻区域，所述通刻区域的正投影和所述蒸镀开口槽的正投影部分重合。

4.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述第一掩膜版主体上开设有多个显示开口槽；

所述第二掩膜版主体包括第三区域，所述蒸镀开口槽开设在所述第三区域内，所述第三区域内除外设所述蒸镀开口槽外的其它区域为半刻掩膜区域；

其中，所述第三区域正对所述显示开口槽，所述第三区域的正投影和所述显示面板的显示区的正投影重叠。

5.根据权利要求2所述的掩膜版组件，其特征在于，所述第一部分和第二部分均为矩形板状结构；

所述第二部分的宽度小于所述第一部分的宽度的二分之一。

6.根据权利要求5所述的掩膜版组件，其特征在于，所述第一部分的长度小于所述第二部分的长度，所述第一部分长度方向上的两个端部伸出于所述第一掩膜版主体的边缘。

7.根据权利要求3所述的掩膜版组件，其特征在于，所述第一掩膜版主体除开设所述蒸镀开口槽外的其它区域为半刻掩膜区域。

8.根据权利要求4所述的掩膜版组件，其特征在于，所述第二掩膜版主体为矩形板状结构，所述第二掩膜版主体的长度方向上的两个端部伸出于所述第一掩膜版主体的边缘。

9.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，多个所述蒸镀开口槽呈阵列排布。

10.一种显示面板，所述显示面板通过权利要求1-9任一项所述的掩膜版组件制备，其特征在于，所述显示面板包括：

第一显示区和第二显示区；

所述第二显示区位于所述显示面板的显示面的第一区域，所述第二显示区的像素密度为所述第一显示区的预设倍数，以使所述第二显示区的透过率大于所述第一显示区的透过率；

所述第二显示区设置有阴极去除区，所述阴极去除区饶设在所述第二显示区中的像素单元四周；

其中，所述预设倍数为小于1且大于0的倍数值，所述第一区域为与所述显示面板的显示面的显示区设置光学功能元件的区域相对的区域。