TWI643924B - 丙烯酸系黏著劑組合物、丙烯酸系黏著劑層、附黏著劑層之基材膜、積層體、及圖像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之目的在於提供一種丙烯酸系黏著劑組合物，其能夠形成可抑制於在透明導電層等被黏著體上積層黏著劑層之情形時因該黏著劑層中所含之劣化物質(例如自偏光元件轉移而來之碘、或酸成分等)而使上述被黏著體劣化的黏著劑層。又，本發明之目的亦在於提供一種由上述丙烯酸系黏著劑組合物形成之黏著劑層、於基材膜之至少一面具有上述黏著劑層之附黏著劑層之基材膜、將上述附黏著劑層之基材膜與具有透明導電層之基材以使上述附黏著劑層之基材膜之黏著劑層與上述基材之透明導電層接觸之方式貼合而成之積層體、及使用上述積層體或附黏著劑層之基材膜之圖像顯示裝置。
本發明之丙烯酸系黏著劑組合物之特徵在於含有(甲基)丙烯酸系聚合物、及下述通式(1)：
(式中，R係氫原子、或可含有氧原子之碳數1~18之烴殘基)所表 示之膦酸系化合物或其鹽，且上述通式(1)所表示之膦酸系化合物之含量相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份為0.005~3重量份。

Description

丙烯酸系黏著劑組合物、丙烯酸系黏著劑層、附黏著劑層之基材膜、積層體、及圖像顯示裝置
本發明係關於一種丙烯酸系黏著劑組合物、及由上述黏著劑組合物形成之丙烯酸系黏著劑層。進而，本發明係關於一種於基材膜之至少一面具有上述丙烯酸系黏著劑層之附黏著劑層之基材膜、將上述附黏著劑層之基材膜與具有透明導電層之基材以使上述附黏著劑層之基材膜之黏著劑層與上述基材之透明導電層接觸之方式貼合而成之積層體、及使用上述積層體或附黏著劑層之基材膜之圖像顯示裝置。
近年來，氧化銦錫(ITO，Indium Tin Oxide)薄膜等透明導電膜於各種用途中被廣泛使用。例如，已知上述透明導電膜係形成於使用共平面切換(IPS，In-Plane Switching)方式等液晶單元之液晶顯示裝置之與和構成液晶單元之透明基板的液晶層接觸之側相反之側，且製成防靜電層。又，於透明樹脂膜上形成有上述透明導電膜之透明導電性膜可用於觸控面板之電極基板，例如，將行動電話或攜帶用音樂播放器等中所使用之液晶顯示裝置或圖像顯示裝置與該觸控面板組合而使用之輸入裝置廣泛地普及。
作為將觸控面板與圖像顯示裝置組合而使用之輸入裝置，先前，將於玻璃板或包含透明樹脂膜之透明基材上形成有透明導電層之透明導電性膜設置於液晶顯示裝置上(與液晶顯示裝置之視認側偏光膜相比更靠上之側)之外掛(out-cell)型廣泛地普及，近年來，已知有 於液晶單元之上玻璃基板上形成包含透明導電膜之電極之表嵌(on-cell)型、或將包含透明導電膜之電極導入至液晶單元內部之形式之內嵌(in-cell)型等各種構成。又，亦已知藉由將作為圖像顯示裝置之防靜電層之ITO層設為觸控感測器，並將其圖案化，而實現觸控面板功能。
存在如下情形：於此種透明導電膜上經由黏著劑層積層有偏光膜等光學膜。關於通常之黏著劑，為了提高黏著成分之凝聚力，使用含羧基之單體等作為黏著劑成分。然而，於此種包含酸成分之黏著劑層與透明導電層直接接觸之情形時，存在上述透明導電層因酸而發生腐蝕之情形，而難以用於該用途。
為了解決此種金屬腐蝕之問題，業界提出有一種具有各種防金屬腐蝕性之黏著劑組合物。具體而言，提出有添加特定量之含氮原子之成分而減少酸成分含量之黏著劑組合物(例如參照專利文獻1)、含有不具有酸性基之丙烯酸系樹脂作為主成分之黏著劑組合物(例如參照專利文獻2)、包含實質上不含酸性基之(甲基)丙烯酸系聚合物之黏著劑(例如參照專利文獻3)等。
又，於上述液晶顯示裝置或圖像顯示裝置等中，近年來，強烈要求輕量化、薄型化，對該液晶顯示裝置等中所使用之偏光膜亦要求薄型化、輕量化。作為偏光膜之薄型化、輕量化方法，例如已知有製成僅於偏光元件之單面設置透明保護膜之單面保護偏光膜、或使偏光元件本身之膜厚變薄之薄型偏光膜之製造方法等。
作為薄型偏光膜之製法，已知有如下光學膜積層體之製造方法，其係於連續纖維網之非晶質酯系熱塑性樹脂基材上，將包含使碘配向而成之聚乙烯醇系樹脂之薄型偏光膜製膜(例如參照專利文獻4、5)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2010-144002號公報
[專利文獻2]日本專利特表2011-225835號公報
[專利文獻3]日本專利特開2013-018227號公報
[專利文獻4]日本專利第4751481號說明書
[專利文獻5]日本專利第4691205號說明書
關於上述專利文獻1~3之黏著劑組合物，由於減少含羧基之樹脂等酸成分之含量、或未使用酸成分，故而關於金屬腐蝕抑制效果，發揮出一定效果。然而，於上述專利文獻1~3之黏著劑組合物中，由於上述酸成分之含量較少，故而樹脂之凝聚力不足，接著力或保持力等基本物性不足，尤其是作為透明導電層用之黏著劑，無法認為具有充分之性能。
又，於在透明導電膜上經由黏著劑層而積層偏光膜之情形時，若偏光膜為碘系偏光膜，則存在透明導電層之電阻值上升之情形。可知，此種電阻值之上升係因如下情況所導致：偏光元件所含之碘滲出至黏著劑層，該碘到達透明導電層，由此腐蝕透明導電層。
例如，關於專利文獻4、5中所記載之厚度10μm以下之薄型碘系偏光元件，可知，為了具有與先前之偏光元件相同之偏光特性，而必須提高偏光元件中之碘濃度，於將包含此種碘濃度較高之偏光元件之偏光膜與透明導電層貼合之情形時，容易產生因透明導電層之碘所引起之腐蝕。又，可知，於使用單面保護之碘系偏光膜之情形時，亦由於在碘系偏光元件直接經由黏著劑層而貼合透明導電層，故而容易產生透明導電層之腐蝕。
因此，本發明之目的在於提供一種丙烯酸系黏著劑組合物，其 能夠形成可抑制於在透明導電層等被黏著體上積層黏著劑層之情形時因該黏著劑層中所含之劣化物質(例如自碘系偏光元件轉移而來之碘、或酸成分等)而使上述被黏著體劣化的黏著劑層。又，本發明之目的亦在於提供一種由上述丙烯酸系黏著劑組合物形成之黏著劑層、於基材膜之至少一面具有上述黏著劑層之附黏著劑層之基材膜、將上述附黏著劑層之基材膜與具有透明導電層之基材以使上述附黏著劑層之基材膜之黏著劑層與上述基材之透明導電層接觸之方式貼合而成的積層體、及使用上述積層體或附黏著劑層之基材膜之圖像顯示裝置。
本發明者等為了解決上述課題而進行努力研究，結果發現藉由製成下述丙烯酸系黏著劑組合物，可達成上述目的，從而完成本發明。
即，本發明係關於一種丙烯酸系黏著劑組合物，其特徵在於：其含有(甲基)丙烯酸系聚合物、及下述通式(1)：
(式中，R係氫原子、或可含有氧原子之碳數1~18之烴殘基)
所表示之膦酸系化合物或其鹽，且上述通式(1)所表示之膦酸系化合物之含量相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份為0.005~3重量份。
較佳為上述(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為120萬~300萬。
較佳為上述(甲基)丙烯酸系聚合物含有(甲基)丙烯酸烷基酯、及 含羧基之單體作為單體單元。
較佳為上述丙烯酸系黏著劑組合物進而包含異氰酸酯系交聯劑。
較佳為上述丙烯酸系黏著劑組合物係用以形成與具有導電層之導電性基材之上述導電層接觸之黏著劑層的黏著劑組合物。
較佳為上述導電層為透明導電層，更佳為上述透明導電層係由氧化銦錫形成。
較佳為上述氧化銦錫為非晶質之氧化銦錫。
又，本發明係關於一種丙烯酸系黏著劑層，其特徵在於：其係由上述丙烯酸系黏著劑組合物形成。
進而，本發明係關於一種附黏著劑層之基材膜，其特徵在於：其於基材膜之至少一面具有上述丙烯酸系黏著劑層。
較佳為上述基材膜係於含有1~14重量%之碘及/或碘離子之碘系偏光元件之至少單面具有透明保護膜的碘系偏光膜，更佳為上述碘系偏光元件中之碘及/或碘離子之含量為3~12重量%。
較佳為上述碘系偏光膜係僅於上述碘系偏光元件之單側具有透明保護膜之單面保護偏光膜，且上述黏著劑層與上述單面保護偏光膜之不具有透明保護膜之面接觸。
進而，本發明係關於一種積層體，其特徵在於：其係將上述附黏著劑層之基材膜與具有透明導電層之基材以使上述附黏著劑層之基材膜之黏著劑層與上述基材之透明導電層接觸之方式貼合而成。
進而，本發明係關於一種圖像顯示裝置，其特徵在於：其係將上述附黏著劑層之基材膜與具有透明導電層之液晶面板以使上述附黏著劑層之基材膜之黏著劑層與上述液晶面板之透明導電層接觸之方式貼合而成。
又，本發明係關於一種圖像顯示裝置，其特徵在於：其使用上 述積層體作為觸控面板。
由本發明之丙烯酸系黏著劑組合物形成之黏著劑層由於包含膦酸系化合物，故而於該黏著劑層積層於導電層等被黏著體上之情形時亦可抑制上述被黏著體之劣化。認為其原因在於：膦酸系化合物選擇性地吸附於被黏著體表面(例如導電層表面等)而形成被覆層，其結果，黏著劑層中所含之劣化物質(例如自碘系偏光元件轉移而來之碘、或酸成分等)未轉移至被黏著體表面，而阻礙被黏著體表面之劣化(腐蝕)。
1‧‧‧偏光膜
2‧‧‧黏著劑層
3‧‧‧防靜電層
4‧‧‧玻璃基板
5‧‧‧液晶層
6‧‧‧驅動電極
7‧‧‧防靜電層兼感測器層
8‧‧‧驅動電極兼感測器層
9‧‧‧感測器層
圖1係模式性地表示本發明之圖像顯示裝置之一實施形態之剖面圖。
圖2係模式性地表示本發明之圖像顯示裝置之一實施形態之剖面圖。
圖3係模式性地表示本發明之圖像顯示裝置之一實施形態之剖面圖。
1.丙烯酸系黏著劑組合物
本發明之丙烯酸系黏著劑組合物之特徵在於含有(甲基)丙烯酸系聚合物、及下述通式(1)：
(式中，R係氫原子、或可含有氧原子之碳數1~18之烴殘基)
所表示之膦酸系化合物或其鹽，且上述通式(1)所表示之膦酸系化合物之含量相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份為0.005~3重量份。
本發明中所使用之膦酸系化合物係以下述通式(1)表示：
通式(1)中，R係氫原子、或可含有氧原子之碳數1~18之烴殘基。作為可含有氧原子之碳數1~18之烴殘基，可列舉：碳數1~18之烷基、碳數1~18之烯基、碳數6~18之芳基等。又，烷基、烯基可為直鏈狀亦可為支鏈狀。
於本發明中，亦可為通式(1)之R為氫原子之膦酸(HP(=O)(OH)2)。又，亦可較佳地使用上述膦酸之鹽(鈉、鉀、及鎂等之金屬鹽、銨鹽等)。
作為上述通式(1)所表示之膦酸系化合物，具體而言，可列舉：膦酸、甲基膦酸、乙基膦酸、正丙基膦酸、異丙基膦酸、正丁基膦酸、第三丁基膦酸、第二丁基膦酸、異丁基膦酸、正戊基膦酸、正己基膦酸、異己基膦酸、正庚基膦酸、正辛基膦酸、異辛基膦酸、第三辛基膦酸、正壬基膦酸、正癸基膦酸、異癸基膦酸、正十二烷基膦酸、異十二烷基膦酸、正十四烷基膦酸、正十六烷基膦酸、正十八烷基膦酸、正二十烷基膦酸、環丁基膦酸、環戊基膦酸、環己基膦酸、降基膦酸、苯基膦酸、萘基膦酸、聯苯基膦酸、甲氧基苯基膦酸、乙氧基苯基膦酸及該等之鹽。於本發明中，可單獨使用該等或組合兩 種以上使用。
又，亦可較佳地使用上述通式(1)所表示之膦酸系化合物之二聚物、三聚物等。
關於上述膦酸系化合物之添加量，相對於下述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份為0.005~3重量份，較佳為0.01~2.5重量份，更佳為0.01~2重量份，進而較佳為0.01~1.5重量份，進而較佳為0.01~1重量份，尤佳為0.02~1重量份。藉由使膦酸系化合物之添加量為上述範圍內，可抑制導電層等被黏著體之劣化，且可提高針對加熱、加濕之耐久性，故而較佳。若上述膦酸系化合物之添加量未達0.005重量份，則無法充分地抑制被黏著體之劣化，而使被黏著體之表面電阻值上升。又，若上述膦酸系化合物之添加量超過3重量份，則雖然可抑制被黏著體之劣化，但針對加熱、加濕之耐久性降低。又，於本發明中，於使用2種以上之膦酸系化合物之情形時，係以使膦酸系化合物之合計量成為上述範圍之方式進行添加。
本發明之丙烯酸系黏著劑組合物由於含有上述通式(1)所表示之膦酸系化合物，故而即便於將由該黏著劑組合物形成之黏著劑層積層於導電層等被黏著體上之情形時，亦可抑制該導電層等被黏著體之劣化(腐蝕)，於上述被黏著體為具有導電層之導電性基材之情形時，可抑制其表面電阻值之上升。認為其原因在於：膦酸系化合物選擇性地吸附於被黏著體表面(例如導電層表面等)而形成被覆層，其結果，黏著劑層中所含之劣化物質(例如自碘系偏光元件轉移而來之碘、或酸成分等)未轉移至被黏著體表面，而阻礙被黏著體表面之劣化(腐蝕)。
關於此處所指之腐蝕，於金屬氧化物中，因與通常已知之金屬腐蝕不同之機制而發生腐蝕。於如ITO之金屬氧化物之情形時，由於源自偏光元件之碘滲入至金屬氧化物層中，降低金屬氧化物之載子遷移率，故而產生電阻值之上升。
於本發明中，係如上所述之可對金屬氧化物之腐蝕表現出優異之腐蝕抑制效果者，尤其是可對包含金屬氧化物之透明導電層發揮出更良好之效果者。
作為本發明中所使用之(甲基)丙烯酸系聚合物，並無特別限定，例如，較佳為使含有(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分聚合而獲得者，更佳為使含有(甲基)丙烯酸烷基酯及含羧基之單體之單體成分聚合而獲得者。再者，(甲基)丙烯酸烷基酯係指丙烯酸烷基酯及/或甲基丙烯酸烷基酯，與本發明之(甲基)為同樣之含義。
作為(甲基)丙烯酸烷基酯之烷基，可使用直鏈狀或支鏈狀之各種烷基。作為上述(甲基)丙烯酸烷基酯之具體例，例如可例示：(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯異壬酸酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸異肉豆蔻酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、或(甲基)丙烯酸十二烷基酯等。該等可單獨使用或組合使用。該等之中，較佳為具有碳數4~18之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯，更佳為具有碳數4~10之烷基之(甲基)丙烯酸酯，進而較佳為(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯，尤佳為(甲基)丙烯酸正丁酯。
相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份，上述(甲基)丙烯酸烷基酯較佳為50重量份以上，較佳為60重量份以上，更佳為70重量份以上，進而較佳為80重量份以上。又，上限值並無特別限定，例如，較佳為100重量份以下，更佳為99重量份以下。
作為含羧基之單體，可並無特別限制地使用具有含有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性之官能基、且具有羧基者。作為含羧基之單體，例如可列舉：丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸等，該等可單獨使用或組合使用。
相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份，含羧基之單體較佳為10重量份以下，更佳為0.1~10重量份，進而較佳為1~7重量份。藉由在上述範圍內含有含羧基之單體，可提高耐久性，故而較佳。
於本發明中所使用之形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中，可含有上述(甲基)丙烯酸烷基酯、任意上述含羧基之單體等，除可使用該等單體以外，亦可使用含羥基之單體、(甲基)丙烯酸脂環式烴酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、其他共聚單體作為單體成分。
作為含羥基之單體，可並無特別限制地使用具有含有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性之官能基、且具有羥基者。作為含羥基之單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯、(甲基)丙烯酸(4-羥甲基環己基)甲酯等，可單獨使用該等之1種或混合使用2種以上。該等之中，較佳為丙烯酸4-羥基丁酯。藉由使用丙烯酸4-羥基丁酯作為含羥基之單體，於使用下述異氰酸酯系交聯劑之情形時，由於可高效率地確保與該異氰酸酯系交聯劑之異氰酸酯基之交聯點，故而較佳。
相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份，含羥基之單體較佳為10重量份以下，更佳為0.01~10重量份，進而較佳為0.05~3重量份。
作為(甲基)丙烯酸脂環式烴酯，例如可列舉：(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸異酯等，作為(甲基)丙烯酸芳基酯，例如可列舉：(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯等。
相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份，(甲基)丙烯酸脂環式烴酯較佳為10重量份以下，更佳為0.01~10重量份，進而較佳為0.05~3重量份。又，相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份，(甲基)丙烯酸芳基酯較佳為20重量份以下，更佳為0.1~15重量份，進而較佳為1~15重量份。
作為他共聚單體，只要為具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性之官能基者，則並無特別限制，可列舉：例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯酯類；例如苯乙烯等苯乙烯系單體；例如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基縮水甘油酯等含環氧基之單體；例如(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等含烷氧基之單體；例如丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基之單體；例如異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯等官能性單體；例如乙烯、丙烯、異戊二烯、丁二烯、異丁烯等烯烴系單體；例如乙烯基醚等乙烯基醚系單體；例如氯乙烯等含鹵素原子之單體等。
又，作為共聚性單體，可列舉：例如N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-異丙基順丁烯二醯亞胺、N-月桂基順丁烯二醯亞胺、N-苯基順丁烯二醯亞胺等順丁烯二醯亞胺系單體；例如N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體；例如N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基丁二醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基丁二醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基丁二醯亞胺等丁二醯亞胺系單體；例如苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、 (甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基之單體。
又，作為共聚性單體，可列舉：例如(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等二醇系丙烯酸酯單體；此外之例如(甲基)丙烯酸四氫糠酯、或(甲基)丙烯酸氟酯等含有雜環或鹵素原子之丙烯酸酯系單體等。
進而，作為共聚性單體，可使用多官能性單體。作為多官能性單體，可列舉具有2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵之化合物等。例如可列舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(單或聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、或丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(單或聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(單或聚)伸烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯、此外之新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物；二乙烯基苯等多官能乙烯系化合物；(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯等具有反應性之不飽和雙鍵之化合物等。又，作為多官能性單體，亦可使用於聚酯、環氧、胺基甲酸酯等骨架上加成有2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵作為與單體成分相同之官能基之聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯等。
關於其他共聚單體之比例，相對於上述形成(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份，較佳為30重量份以下，更佳為20重量份以下，進而較佳為15重量份以下。若上述共聚單體之比例變得過多，則有由上述丙烯酸系黏著劑組合物形成之黏著劑層對玻璃或膜、 透明導電層等各種被黏著體之密接性降低等黏著特性降低之虞。
本發明中所使用之(甲基)丙烯酸系聚合物通常可使用重量平均分子量為90萬~300萬之範圍者。尤其是若考慮耐久性，則重量平均分子量較佳為120萬~300萬，更佳為150萬~250萬。若重量平均分子量小於90萬，則存在就耐熱性之觀點而言欠佳之情形，又，若重量平均分子量大於300萬，則為了調整為用於進行塗敷之黏度而需要大量稀釋溶劑，就成本之觀點而言欠佳。上述重量平均分子量係指藉由GPC(Gel Permeation Chromatography，凝膠滲透層析法)進行測定，藉由聚苯乙烯換算而算出之值。其中，乳化聚合中所獲得之黏著劑通常凝膠成分較多，無法藉由GPC進行測定，故而多數情況下難以利用與分子量相關之實際測定予以證實。
此種(甲基)丙烯酸系聚合物之製造可適當選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知之製造方法，並無特別限定。又，所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物亦可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等之任一種。
於溶液聚合中，作為聚合溶劑，例如可使用乙酸乙酯、甲苯等。作為具體之溶液聚合例，反應係於氮氣等惰性氣體氣流下，添加聚合起始劑，通常於50~70℃左右且5~30小時左右之反應條件下進行。
自由基聚合中所使用之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等可並無特別限定地適當選擇而使用。再者，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可根據聚合起始劑、鏈轉移劑之使用量、反應條件而加以控制，並且根據該等之種類而適當調整其使用量。
作為聚合起始劑，例如可列舉：2,2'-偶氮雙異丁腈(AIBN，Azobisisobutyronitrile)、2,2'-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙脒) 二硫酸鹽、2,2'-偶氮雙(N,N'-二亞甲基異丁基脒)、2,2'-偶氮雙[N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒]水合物(商品名：VA-057，和光純藥工業股份有限公司製造)等偶氮系起始劑、過硫酸鉀、過硫酸銨等過硫酸鹽、過氧化二碳酸二(2-乙基己酯)、過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己酯)、過氧化二碳酸二-第二丁酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化特戊酸第三己酯、過氧化特戊酸第三丁酯、過氧化二月桂醯、過氧化二-正辛醯、過氧化-2-乙基己酸1,1,3,3-四甲基丁酯、過氧化二(4-甲基苯甲醯)、過氧化二苯甲醯、過氧化異丁酸第三丁酯、1,1-二(過氧化第三己基)環己烷、氫過氧化第三丁基、過氧化氫等過氧化物系起始劑、過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉之組合、過氧化物與抗壞血酸鈉之組合等將過氧化物與還原劑組合而成之氧化還原系起始劑等，但並不限定於該等。
上述聚合起始劑可單獨使用，又，亦可混合使用2種以上，關於以整體計之含量，相對於上述形成(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份，較佳為0.005~2重量份左右。
作為鏈轉移劑，例如可列舉：月桂基硫醇、縮水甘油基硫醇、巰基乙酸、2-巰基乙醇、硫代乙醇酸、巰基乙酸2-乙基己酯、2,3-二巰基-1-丙醇等。鏈轉移劑可單獨使用，又，亦可混合使用2種以上，關於以整體計之含量，相對於單體成分之總量100重量份，為0.1重量份左右以下。
又，於本發明之丙烯酸系黏著劑組合物中可進而添加交聯劑。使用多官能性之化合物作為交聯劑，可列舉有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。作為有機系交聯劑，可列舉：異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑、亞胺系交聯劑、唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、過氧化物系交聯劑等。多官能性金屬螯合物係多價金屬原子與有機化合物進行共價鍵結或配位鍵結者。作為多價金屬原 子，可列舉：Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作為進行共價鍵結或配位鍵結之有機化合物中之原子，可列舉氧原子等，作為有機化合物，可列舉：烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。該等交聯劑之中，由於可賦予與黏著劑之耐久性相關之凝聚力，故而較佳為異氰酸酯系交聯劑，更佳為併用異氰酸酯系交聯劑與過氧化物系交聯劑。
作為異氰酸酯系交聯劑，可列舉1分子中具有2個以上異氰酸酯基(包括藉由封端劑或幾聚物化等對異氰酸酯基進行了暫時保護之異氰酸酯再生型官能基)之化合物。
作為異氰酸酯系交聯劑，可列舉：甲苯二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯等芳香族異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等脂肪族異氰酸酯等。
更具體而言，例如可列舉：伸丁基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類，伸環戊基二異氰酸酯、伸環己基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯類，2,4-甲苯二異氰酸酯、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、聚亞甲基聚苯基異氰酸酯等芳香族二異氰酸酯類，三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯三聚物加成物(商品名：Coronate L，Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製造)、三羥甲基丙烷/六亞甲基二異氰酸酯三聚物加成物(商品名：Coronate HL，Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製造)、六亞甲基二異氰酸酯之異氰尿酸酯體(商品名：Coronate HX，Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製造)等異氰酸酯加成物，苯二甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物(商品名：D110N，三井化學股份有限公司製造)、六亞甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物(商品名：D160N，三井化學股份有限公司製造)；聚 醚聚異氰酸酯、聚酯聚異氰酸酯、以及該等與各種多元醇之加成物、藉由異氰尿酸酯鍵、縮二脲鍵、脲基甲酸酯鍵等進行了多官能化之聚異氰酸酯等。
異氰酸酯系交聯劑之調配比例並無特別限定，相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(固形物成分)100重量份，較佳為以異氰酸酯系交聯劑(固形物成分)10重量份左右以下之比例進行調配，更佳為0.01~10重量份左右，進而較佳為0.01~5重量份左右，尤佳為0.01~1重量份左右。
作為過氧化物系交聯劑，可使用各種過氧化物。作為過氧化物，可列舉：過氧化二碳酸二(2-乙基己酯)、過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己酯)、過氧化二碳酸二-第二丁酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化特戊酸第三己酯、過氧化特戊酸第三丁酯、過氧化二月桂醯、過氧化二-正辛醯、過氧化異丁酸1,1,3,3-四甲基丁酯、過氧化2-乙基己酸1,1,3,3-四甲基丁酯、過氧化二(4-甲基苯甲醯)、過氧化二苯甲醯、過氧化異丁酸第三丁酯等。該等之中，可較佳地使用交聯反應效率尤其優異之過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己酯)、過氧化二月桂醯、過氧化二苯甲醯。
於使用過氧化物系交聯劑之情形時，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(固形物成分)100重量份，較佳為10重量份以下左右，更佳為0.01~1重量份左右，進而較佳為0.03~0.5重量份左右。
又，關於異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑以外之交聯劑之添加量，相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(固形物成分)100重量份，較佳為10重量份左右以下。
於本發明之丙烯酸系黏著劑組合物中，為了提高高溫多濕條件下之密接性，可添加各種矽烷偶合劑。作為矽烷偶合劑，可使用具有任意適當之官能基者。作為官能基，例如可列舉：乙烯基、環氧基、 胺基、巰基、(甲基)丙烯醯氧基、乙醯乙醯基、異氰酸酯基、苯乙烯基、多硫基等。具體而言，例如可列舉：乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三丙氧基矽烷、乙烯基三異丙氧基矽烷、乙烯基三丁氧基矽烷等含乙烯基之矽烷偶合劑；γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷偶合劑；γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-β-(胺基乙基)-γ-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-三乙氧基矽烷基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙基胺、N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷偶合劑；γ-巰基丙基甲基二甲氧基矽烷等含巰基之矽烷偶合劑；對苯乙烯基三甲氧基矽烷等含苯乙烯基之矽烷偶合劑；γ-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯酸基之矽烷偶合劑；3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽烷偶合劑；雙(三乙氧基矽烷基丙基)四硫化物等含多硫基之矽烷偶合劑等。
上述矽烷偶合劑可單獨使用，又，亦可混合使用2種以上，關於以整體計之含量，相對於構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份，較佳為1重量份以下，更佳為0.01~1重量份，進而較佳為0.02~0.8重量份，尤佳為0.05~0.7重量份。若矽烷偶合劑之調配量超過1重量份，則會產生未反應偶合劑成分，就耐久性之觀點而言欠佳。
再者，於上述矽烷偶合劑可與上述單體成分藉由自由基聚合而進行共聚之情形時，可使用該矽烷偶合劑作為上述單體成分。其比例相對於構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份，較佳為0.005~0.7重量份。
又，藉由在本發明之丙烯酸系黏著劑組合物中添加離子性化合 物，就步驟作業時之膜之防靜電之觀點而言較佳。
作為離子性化合物，可較佳地使用鹼金屬鹽及/或有機陽離子-陰離子鹽。鹼金屬鹽可使用鹼金屬之有機鹽、及無機鹽。再者，所謂本發明中所指之「有機陽離子-陰離子鹽」，為有機鹽，表示其陽離子部係利用有機物構成，陰離子部可為有機物，亦可為無機物。「有機陽離子-陰離子鹽」亦可稱為離子性液體、離子性固體。
<鹼金屬鹽>
作為構成鹼金屬鹽之陽離子部之鹼金屬離子，可列舉鋰、鈉、鉀之各離子。該等鹼金屬離子之中，較佳為鋰離子。
鹼金屬鹽之陰離子部可利用有機物構成，亦可利用無機物構成。作為構成有機鹽之陰離子部，例如可使用CH3COO-、CF3COO-、CH3SO3 -、CF3SO3 -、(CF3SO2)3C-、C4F9SO3 -、C3F7COO-、(CF3SO2)(CF3CO)N-、-O3S(CF2)3SO3 -、PF6 -、CO3 2-、或下述通式(4)~(7)、(4)：(CnF2n+1SO2)2N-(其中，n為1~10之整數)、(5)：CF2(CmF2mSO2)2N-(其中，m為1~10之整數)、(6)：-O3S(CF2)lSO3 -(其中，l為1~10之整數)、(7)：(CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2)(其中，p、q為1~10之整數)、所表示者等。尤其是就可獲得離子解離性良好之離子化合物之觀點而言，包含氟原子之陰離子部可較佳地使用。作為構成無機鹽之陰離子部，可使用Cl-、Br-、I-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、BF4 -、PF6 -、ClO4 -、NO3 -、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、(CN)2N-等。作為陰離子部，較佳為(CF3SO2)2N-、(C2F5SO2)2N-等上述通式(4)所表示之(全氟烷基磺醯基)醯亞胺，尤佳為(CF3SO2)2N-所表示之(三氟甲磺醯基)醯亞胺。
作為鹼金屬之有機鹽，具體而言，可列舉：乙酸鈉、海藻酸 鈉、木質素磺酸鈉、甲苯磺酸鈉、六氟磷酸鋰(LiPF6)、LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N、Li(CF3SO2)3C、KO3S(CF2)3SO3K、LiO3S(CF2)3SO3K等，該等之中，較佳為六氟磷酸鋰(LiPF6)、LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N、Li(CF3SO2)3C等，更佳為Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N等含氟之鋰醯亞胺鹽，尤佳為六氟磷酸鋰(LiPF6)、雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰(LiTFSI、Li(CF3SO2)2N)。
又，作為鹼金屬之無機鹽，可列舉：過氯酸鋰、碘化鋰。
<有機陽離子-陰離子鹽>
本發明中所使用之有機陽離子-陰離子鹽係由陽離子成分與陰離子成分構成，上述陽離子成分係包含有機物者。作為陽離子成分，具體而言，可列舉：吡啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯烷鎓陽離子、具有吡咯啉骨架之陽離子、具有吡咯骨架之陽離子、咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子、四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子等。
作為陰離子成分，例如可使用Cl-、Br-、I-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、BF4 -、PF6 -、ClO4 -、NO3 -、CH3COO-、CF3COO-、CH3SO3 -、CF3SO3 -、(CF3SO2)3C-、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、(CN)2N-、C4F9SO3 -、C3F7COO-、((CF3SO2)(CF3CO)N-、-O3S(CF2)3SO3 -、或下述通式(4)~(7)、(4)：(CnF2n+1SO2)2N-(其中，n為1~10之整數)、(5)：CF2(CmF2mSO2)2N-(其中，m為1~10之整數)、(6)：-O3S(CF2)lSO3 -(其中，l為1~10之整數)、(7)：(CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2)(其中，p、q為1~10之整數)、所表示者等。該等之中，尤其是就可獲得離子解離性良好之離 子化合物之觀點而言，包含氟原子之陰離子成分可較佳地使用。
作為有機陽離子-陰離子鹽之具體例，可適當選擇使用包含上述陽離子成分與陰離子成分之組合之化合物。例如可列舉：1-丁基吡啶鎓四氟硼酸鹽、1-丁基吡啶鎓六氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓四氟硼酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓三氟甲磺酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-己基吡啶鎓四氟硼酸鹽、2-甲基-1-吡咯啉四氟硼酸鹽、1-乙基-2-苯基吲哚四氟硼酸鹽、1,2-二甲基吲哚四氟硼酸鹽、1-乙基咔唑四氟硼酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓乙酸酯、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三氟乙酸酯、1-乙基-3-甲基咪唑鎓七氟丁酸酯、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓全氟丁磺酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓二氰胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三(三氟甲磺醯基)甲基化物、1-丁基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟乙酸酯、1-丁基-3-甲基咪唑鎓七氟丁酸酯、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓全氟丁磺酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-己基-3-甲基咪唑鎓溴化物、1-己基-3-甲基咪唑鎓氯化物、1-己基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-辛基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-辛基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-己基-2,3-二甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1,2-二甲基-3-丙基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基吡唑鎓四氟硼酸鹽、3-甲基吡唑鎓四氟硼酸鹽、四己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、二烯丙基二甲基銨四氟硼酸鹽、二烯丙基二甲基銨三氟甲磺酸鹽、二烯丙基二甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、二烯丙基二甲基銨雙(五氟乙磺 醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨四氟硼酸鹽、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨三氟甲磺酸鹽、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、縮水甘油基三甲基銨三氟甲磺酸鹽、縮水甘油基三甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、縮水甘油基三甲基銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丁基吡啶鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、二烯丙基二甲基銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、縮水甘油基三甲基銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-壬基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-二丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-戊基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-二己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-丙基-N-戊 基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-甲基-N-乙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N,N-二己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三辛基甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N-甲基-N-乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶-1-鎓三氟甲磺酸鹽等。作為該等之市售品，例如可使用「CIL-314」(日本Carlit股份有限公司製造)、「ILA2-1」(廣榮化學工業股份有限公司製造)等。
又，例如可列舉：四甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基乙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基辛基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四乙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺等。
又，例如可列舉：1-二甲基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1- 戊基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、 1,1-二丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺，1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺等。
又，可列舉使用三甲基鋶陽離子、三乙基鋶陽離子、三丁基鋶陽離子、三己基鋶陽離子、二乙基甲基鋶陽離子、二丁基乙基鋶陽離子、二甲基癸基鋶陽離子、四甲基鏻陽離子、四乙基鏻陽離子、四丁基鏻陽離子、四己基鏻陽離子代替上述化合物之陽離子成分之化合物等。
又，可列舉使用雙(五氟磺醯基)醯亞胺、雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、(三氟甲磺醯基)(九氟丁磺醯基)醯亞胺、(七氟丙磺醯基)(三氟甲磺醯基)醯亞胺、(五氟乙磺醯基)(九氟丁磺醯基)醯亞胺、環-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺陰離子等代替上述雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺之化合物等。
又，作為離子性化合物，可列舉：上述鹼金屬鹽、有機陽離子-陰離子鹽、此外之氯化銨、氯化鋁、氯化銅、氯化亞鐵、氯化鐵、硫酸銨等無機鹽。該等離子性化合物可單獨使用或併用複數種。
丙烯酸系黏著劑組合物中之離子性化合物之調配比例並無特別限定，相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(固形物成分)100重量份，較佳為10重量份左右以下，更佳為7重量份左右以下，進而較佳為5重量份左右以下。又，下限值並無特別限定，較佳為0.01重量份左右以上。
進而，於本發明之丙烯酸系黏著劑組合物中，視需要可較佳地使用黏度調整劑、剝離調整劑、黏著賦予劑、塑化劑、軟化劑、玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、包含其他無機粉末等之填充劑、顏料、著色劑(顏料、染料等)、pH值調整劑(酸或鹼)、抗氧化劑、紫外線吸收劑等，且可於不脫離本發明之目的之範圍內較佳地使用各種添加劑。該等添加劑亦能夠以乳液之形式調配。該等各種添加劑可於不損及本發明之效果之範圍內添加，添加量並無特別限定，例如，相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(固形物成分)100重量份，較佳為10重量份左右以下。
關於本發明之上述丙烯酸系黏著劑組合物，適宜作為用以形成與具有導電層之導電性基材之上述導電層接觸的黏著劑層之黏著劑組合物。此處，作為導電層，可列舉：Cu、Ag等金屬薄膜、或下述透明導電層等。
2.丙烯酸系黏著劑層
本發明之丙烯酸系黏著劑層之特徵在於：其係由上述丙烯酸系黏著劑組合物形成。關於丙烯酸系黏著劑層之形成方法，如下所述。
3.附黏著劑層之基材膜
本發明之附黏著劑層之基材膜之特徵在於：於基材膜之至少一面具有上述丙烯酸系黏著劑層。
作為上述基材膜，並無特別限定，例如可列舉脫模膜、透明樹脂膜基材等各種基材，作為其具體例，可較佳地使用本說明書中所記 載者。
又，作為基材膜，可較佳地使用於含有1~14重量%之碘及/或碘離子之碘系偏光元件之至少單面具有透明保護膜的碘系偏光膜。以下，對碘系偏光膜進行說明。
上述碘系偏光膜係於含有1~14重量%之碘及/或碘離子之碘系偏光元件之至少單面具有透明保護膜者。於本發明中，可為於碘系偏光元件之單面具有透明保護膜之單面保護偏光膜，亦可為於碘系偏光元件之雙面具有透明保護膜之雙面保護偏光膜，於使用單面保護偏光膜之情形時，本發明之效果較顯著。又，即便為雙面保護偏光膜，於與黏著劑層接觸之側之透明保護膜的厚度較薄(例如25μm以下)之情形時，本發明之效果亦較顯著。再者，於為偏光膜單面保護偏光膜之情形時，黏著劑層可直接設置於不具有上述透明保護膜之側之偏光元件表面。
作為碘系偏光元件，只要為含有1~14重量%之碘及/或碘離子之偏光元件，則可使用任意者，例如可列舉使碘吸附於聚乙烯醇(PVA，Polyvinyl Alcohol)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜而進行單軸延伸者等。該等之中，較佳為包含PVA系膜與碘之偏光元件。該等偏光元件之厚度並無特別限制，通常為5~80μm左右。
關於利用碘對PVA系膜進行染色並進行單軸延伸之偏光元件，例如可藉由如下方法而製作：藉由將PVA浸漬於碘之水溶液中而進行染色，並延伸至原長之3~7倍。視需要亦可浸漬於亦可包含硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等水溶液中。進而視需要亦可於染色前將PVA系膜浸漬於水中而進行水洗。藉由對PVA系膜進行水洗，可洗淨PVA系膜表面之污垢或抗黏連劑，此外，亦存在藉由使PVA系膜膨潤而防止染色之不均等不均勻之效果。延伸可於利用碘染色後進行，亦可一 面染色一面進行延伸，又，亦可於延伸後利用碘進行染色。亦可於硼酸或碘化鉀等之水溶液或水浴中進行延伸。
又，於本發明中，亦可較佳地使用厚度為10μm以下之薄型碘系偏光元件。就薄型化之觀點而言，該厚度較佳為1~7μm。此種薄型之碘系偏光元件由於厚度不均較少，視認性優異，又，尺寸變化較少，故而就耐久性優異、進而，作為偏光膜之厚度亦可實現薄型化之觀點較佳。
作為薄型之偏光元件，代表性地可列舉：日本專利特開昭51-069644號公報或日本專利特開2000-338329號公報、或國際公開第2010/100917號說明書、國際公開第2010/100917號說明書、或日本專利4751481號說明書或日本專利特開2012-073563號公報中所記載之薄型偏光膜。該等薄型偏光膜可藉由包括在積層體之狀態下使PVA系樹脂層與延伸用樹脂基材延伸之步驟與進行染色的步驟之製法而獲得。若為該製法，則即便PVA系樹脂層較薄，亦藉由被延伸用樹脂基材支持，而可無因延伸所導致之斷裂等不良情況地進行延伸。
作為上述薄型偏光膜，於包括在積層體之狀態下進行延伸之步驟與進行染色之步驟之製法中，就能夠以高倍率進行延伸而可提高偏光性能之觀點而言，較佳為藉由如於國際公開第2010/100917號說明書、國際公開第2010/100917號說明書、或日本專利4751481號說明書或日本專利特開2012-073563號公報中有記載之包括於硼酸水溶液中進行延伸之步驟之製法而獲得者，尤佳為藉由在日本專利4751481號說明書或日本專利特開2012-073563號公報中有記載之包括於在硼酸水溶液中進行延伸前輔助地進行空中延伸(in-airstretching)之步驟之製法而獲得者。
又，關於本發明中所使用之碘系偏光元件之碘及/或碘離子之含量(以下，有時亦稱為碘含量)，於偏光元件中為1~14重量%，可為3 ~12重量%，亦可為4~7.5重量%。關於本發明之附黏著劑層之基材膜，即便碘系偏光元件中之碘含量如上述範圍般較多，亦可抑制於該附黏著劑層之基材膜上所積層之透明導電層之表面電阻上升。其可認為，由於黏著劑層中所含之膦酸系化合物選擇性地吸附於透明導電層而形成被覆層，故而自碘系偏光膜轉移至黏著劑層之碘未轉移至透明導電層表面，其結果，透明導電層之腐蝕被阻礙，而可抑制透明導電層之表面電阻上升。
作為形成設置於上述碘系偏光元件之單面、或雙面之透明保護膜之材料，較佳為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性、各向同性等優異者。例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物、雙乙醯纖維素或三乙醯纖維素等纖維素系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯或丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS(Acrylonitrile-Styrene)樹脂)等苯乙烯系聚合物、聚碳酸酯系聚合物等。又，聚乙烯、聚丙烯、具有環系或降烯結構之聚烯烴、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏二氯乙烯系聚合物、乙烯基丁醛系聚合物、芳基酯系聚合物、聚氧亞甲基系聚合物、環氧系聚合物、或上述聚合物之摻合物等亦可作為形成上述透明保護膜之聚合物之例而加以列舉。透明保護膜亦可作為丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型、紫外線硬化型之樹脂之硬化層而形成。
保護膜之厚度可適當地決定，通常就強度或操作性等作業性、薄膜性等觀點而言，為1~500μm左右。
上述碘系偏光元件與透明保護膜通常係經由水系接著劑等而進行密接。作為水系接著劑，可例示：異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系 接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚胺基甲酸酯、水系聚酯等。作為上述以外之偏光元件與透明保護膜之接著劑，可列舉：紫外線硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等。電子束硬化型偏光膜用接著劑對上述各種透明保護膜顯示出適宜之接著性。又，於本發明中所使用之接著劑中可含有金屬化合物填料。
亦可對上述透明保護膜之不與碘系偏光元件接著之面，實施以硬塗層或抗反射處理、防黏、或擴散或防眩為目標之處理。
關於本發明中所使用之碘系偏光膜之總厚度，為了應對附黏著劑層之基材膜之薄型化之要求，較佳為90μm以下，更佳為80μm以下，進而較佳為70μm以下，尤佳為60μm以下。作為偏光膜之總厚度之下限，並無特別限定，例如可列舉10μm。
本發明之附黏著劑層之基材膜可藉由在上述碘系偏光膜等基材膜之至少一面形成由上述丙烯酸系黏著劑組合物形成之黏著劑層而獲得。
上述黏著劑層之形成方法並無特別限定，可為於各種基材上塗佈上述丙烯酸系黏著劑組合物，藉由熱烘箱等乾燥器加以乾燥，使溶劑等揮發而形成黏著劑層，並於上述碘系偏光膜等基材膜上，將該黏著劑層轉印之方法，亦可於上述碘系偏光膜等基材膜上直接塗佈上述丙烯酸系黏著劑組合物而形成黏著劑層。
作為上述基材，並無特別限定，例如可列舉：脫模膜、透明樹脂膜基材等各種基材。
作為向上述基材或偏光膜之塗佈方法，可使用各種方法。具體而言，例如可列舉：噴注式塗佈、輥式塗佈、接觸輥式塗佈、凹版塗佈、反向塗佈、輥式刷塗、噴塗、浸輥塗佈、棒式塗佈、刮塗、氣刀塗佈、淋幕式塗佈、利用模唇塗佈機、模嘴塗佈機等之擠出塗佈法等方法。
乾燥條件(溫度、時間)並無特別限定，可根據丙烯酸系黏著劑組合物之組成、濃度等而進行適當設定，例如為80~170℃左右，較佳為90~200℃下，且為1~60分鐘，較佳為2~30分鐘。
黏著劑層之厚度(乾燥後)例如較佳為5~100μm，更佳為10~60μm，進而較佳為12~40μm。若黏著劑層之厚度未達10μm，則有缺乏對被黏著體之密接性，高溫、高溫多濕下之耐久性不充分之傾向。另一方面，於黏著劑層之厚度超過100μm之情形時，有於形成黏著劑層時之丙烯酸系黏著劑組合物之塗佈、乾燥時無法充分地完全乾燥，而殘留氣泡，或於黏著劑層之面產生厚度不均，外觀上之問題容易明顯化之傾向。
作為上述脫模膜之構成材料，例如可列舉：聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯膜等樹脂膜、紙、布、不織布等多孔質材料、網狀物、發泡片材、金屬箔、及該等之層壓體等適當之薄片體等，就表面平滑性優異之觀點而言，可較佳地使用樹脂膜。
作為其樹脂膜，例如可列舉：聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚對苯二甲酸丁二酯膜、聚胺基甲酸酯膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物膜等。
上述脫模膜之厚度通常為5~200μm，較佳為5~100μm左右。亦可對上述脫模膜視需要進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪醯胺系之脫模劑、二氧化矽粉等之脫模及防污處理、或塗佈型、混練型、蒸鍍型等防靜電處理。尤其是可藉由對上述脫模膜之表面適當進行聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，而進一步提高自上述黏著劑層之剝離性。
作為上述透明樹脂膜基材，並無特別限制，可使用具有透明性之各種樹脂膜。該樹脂膜係由1層膜形成。例如，作為其材料，可列 舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳基酯系樹脂、聚苯硫醚系樹脂等。該等之中，尤佳者為聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及聚醚碸系樹脂。
上述膜基材之厚度較佳為15~200μm。
又，於碘系偏光膜與黏著劑層之間亦可具有增黏層。形成增黏層之材料並無特別限定，例如可列舉：各種聚合物類、金屬氧化物之溶膠、二氧化矽溶膠等。該等之中，可尤佳地使用聚合物類。上述聚合物類之使用形態可為溶劑可溶型、水分散型、水溶解型之任一種。
作為上述聚合物類，例如可列舉：聚胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚醚系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚乙烯基吡咯啶酮、聚苯乙烯系樹脂等。該等之中，尤佳為聚胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂。於該等樹脂中可適當地調配交聯劑。該等其他黏合劑成分可適當地根據其用途而使用1種、或2種以上。
於藉由水分散型材料形成增黏層之情形時，使用水分散型聚合物。作為水分散型聚合物，可列舉：使用乳化劑對聚胺基甲酸酯、聚酯等各種樹脂進行乳膠化者、或於上述樹脂中導入水分散性之陰離子基、陽離子基、或非離子基而進行自我乳化者等。
又，於上述增黏劑中可含有防靜電劑。防靜電劑只要為可賦予導電性之材料，則並無特別限制，例如可列舉：離子性界面活性劑、導電性聚合物、金屬氧化物、碳黑、及碳奈米材料等，該等之中，較佳為導電性聚合物，更佳為水分散性導電聚合物。
作為水溶性導電性聚合物，可列舉聚苯胺磺酸(利用聚苯乙烯換 算之重量平均分子量為150000，Mitsubishi Rayon股份有限公司製造)等，作為水分散性導電聚合物，可列舉聚噻吩系導電性聚合物(Nagase chemteX公司製造，Denatron系列)等。
關於上述防靜電劑之調配量，例如，相對於增黏劑中所使用之上述聚合物類100重量份，為70重量份以下，較佳為50重量份以下。就防靜電效果之觀點而言，較佳為設為10重量份以上、進而20重量份以上。
增黏層之厚度並無特別限定，較佳為5~300nm。
作為上述增黏層之形成方法，並無特別限定，通常可藉由公知之方法進行。又，於形成增黏層時，可對上述碘系偏光膜實施活化處理。活化處理可採用各種方法，例如可採用電暈處理、低壓UV(Ultra Violet，紫外線)處理、電漿處理等。
黏著劑層於碘系偏光膜上之增黏層上之形成方法如上所述。
又，於本發明之附黏著劑層之基材膜之黏著劑層露出之情形時，亦可藉由脫模膜(隔片)保護黏著劑層直至供於實用。作為脫模膜，可列舉上述者。於製作上述黏著劑層時，於使用脫模膜作為基材之情形時，將脫模膜上之黏著劑層與碘系偏光膜等基材膜貼合，藉此該脫模膜可用作附黏著劑層之基材膜之黏著劑層之脫模膜，而可進行步驟方面之簡化。
4.積層體
本發明之積層體之特徵在於：其係將上述附黏著劑層之基材膜與具有透明導電層之基材以使上述附黏著劑層之基材膜之黏著劑層與上述基材之透明導電層接觸之方式貼合而成。
上述附黏著劑層之基材膜可使用上述者。
作為具有透明導電層之基材，並無特別限定，可使用公知者，可列舉：於透明膜等透明基材上具有透明導電膜者、或具有透明導電 膜與液晶單元之構件。
作為透明基材，只要為具有透明性者即可，例如可列舉：樹脂膜、或包含玻璃等之基材(例如片狀或膜狀、板狀之基材等)等，尤佳為樹脂膜。透明基材之厚度並無特別限定，較佳為10~200μm左右，更佳為15~150μm左右。
作為上述樹脂膜之材料，並無特別限制，可列舉具有透明性之各種塑膠材料。例如，作為其材料，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳基酯系樹脂、聚苯硫醚系樹脂等。該等之中，尤佳者為聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及聚醚碸系樹脂。
又，對上述透明基材，亦可對表面預先實施濺鍍、電暈放電、火焰、紫外線照射、電子束照射、化成、氧化等蝕刻處理或底塗處理，而提高對設置於其上之透明導電層之上述透明基材之密接性。又，於設置透明導電層前，視需要亦可藉由溶劑洗淨或超音波洗淨等而進行除塵、淨化。
作為上述透明導電層之構成材料，並無特別限定，可使用選自由銦、錫、鋅、鎵、銻、鈦、矽、鋯、鎂、鋁、金、銀、銅、鈀、鎢所組成之群中之至少1種金屬之金屬氧化物。於該金屬氧化物中，視需要亦可進而含有上述群所表示之金屬原子。例如可較佳地使用含有氧化錫之氧化銦(ITO)、含有銻之氧化錫等，可尤佳地使用ITO。作為ITO，較佳為含有80~99重量%之氧化銦及1~20重量%之氧化錫。
又，作為上述ITO，可列舉：晶質之ITO、非晶質(amorphous)之ITO。晶質ITO可藉由在濺鍍時施加高溫，或進而對非晶質ITO進行加 熱而獲得。由於因上述碘所導致之劣化於非晶質ITO中顯著地發生，故而本發明之附黏著劑層之基材膜於非晶質之ITO中尤其有效。
上述透明導電膜之厚度並無特別限制，較佳為設為7nm以上，更佳為設為10nm以上，進而較佳為設為12~60nm，進而較佳為設為15~45nm，進而較佳為設為18~45nm，尤佳為設為20~30nm。若透明導電膜之厚度未達7nm，則有容易產生因碘所導致之透明導電膜之劣化，透明導電膜之電阻值之變化增大之傾向。另一方面，於超過60nm之情形時，有透明導電膜之生產性降低，成本亦上升，進而，光學特性亦降低之傾向。
作為上述透明導電層之形成方法，並無特別限定，可採用先前公知之方法。具體而言，例如可例示：真空蒸鍍法、濺鍍法、離子電鍍法。又，亦可根據所需之膜厚而採用適當之方法。
作為具有上述透明導電層之基材之厚度，可列舉15~200μm。進而，就薄膜化之觀點而言，較佳為15~150μm，更佳為15~50μm。於具有上述透明導電層之基材係以電阻膜方式使用之情形時，例如可列舉100~200μm之厚度。又，於以靜電電容方式使用之情形時，例如較佳為15~100μm之厚度，尤其是隨著近年來之進一步之薄膜化要求，更佳為15~50μm之厚度，進而較佳為20~50μm之厚度。
又，於透明導電層與透明基材之間，視需要可設置底漆塗佈層、低聚物防止層等。
又，作為具有透明導電膜與液晶單元之構件，可列舉：各種液晶顯示裝置等圖像顯示裝置中所使用之於包含基板(例如玻璃基板等)/液晶層/基板之構成之液晶單元之不與該基板的液晶層接觸之側具有透明導電膜者。又，於在液晶單元上設置彩色濾光片基板之情形時，亦可於該彩色濾光片上具有透明導電膜。於液晶單元之基板上形成透明導電膜之方法與上述同樣。
5.圖像顯示裝置
本發明之積層體於構成具備輸入裝置(觸控面板等)之圖像顯示裝置(液晶顯示裝置、有機EL(Electro Luminescence，電致發光)顯示裝置、PDP(Plasma Display Panel，電漿顯示器面板)、電子紙等)、輸入裝置(觸控面板等)等設備之基材(構件)或該等設備中所使用的基材(構件)之製造中可較佳地使用，尤其是於觸控面板用之光學基材之製造中可較佳地使用。又，可無關電阻膜方式或靜電電容方式等觸控面板等方式而使用。
對本發明之積層體實施裁切、抗蝕劑印刷、蝕刻、銀油墨印刷等處理，所獲得之透明導電性膜可用作光學元件用基材(光學構件)。作為光學元件用基材，只要為具有光學特性之基材，則並無特別限定，例如可列舉：構成圖像顯示裝置(液晶顯示裝置、有機EL(電致發光)顯示裝置、PDP(電漿顯示器面板)、電子紙等)、輸入裝置(觸控面板等)等設備之基材(構件)或該等設備中所使用之基材(構件)。
又，如上所述，本發明之附黏著劑層之基材膜係於在該附黏著劑層之基材膜之黏著劑層積層有透明導電層之情形時，亦可抑制透明導電層之腐蝕，而可抑制透明導電層之表面電阻上升者。因此，只要為具有附黏著劑層之基材膜之黏著劑層與透明導電層接觸之構成之圖像顯示裝置，則可較佳地使用本發明之附黏著劑層之基材膜。例如，可將本發明之附黏著劑層之基材膜與具有透明導電層之液晶面板以使上述附黏著劑層之基材膜之黏著劑層與上述液晶面板之透明導電層接觸之方式貼合，而製成圖像顯示裝置。
更具體而言，可列舉：將透明導電膜用作防靜電層用途之圖像顯示裝置、或將透明導電膜用作觸控面板之電極用途之圖像顯示裝置。作為將透明導電膜用作防靜電層用途之圖像顯示裝置，具體而言，例如，如圖1所示，可列舉如下圖像顯示裝置，其係包含偏光膜 1/黏著劑層2/防靜電層3/玻璃基板4/液晶層5/驅動電極6/玻璃基板4/黏著劑層2/偏光膜1之構成，且上述防靜電層3、驅動電極6係由透明導電層形成。作為該圖像顯示裝置之上側(視認側)之附黏著劑層之基材膜(1、2)，可使用本發明之附黏著劑層之基材膜。又，作為將透明導電膜用作觸控面板之電極用途之圖像顯示裝置，例如可列舉如下圖像顯示裝置，其係偏光膜1/黏著劑層2/防靜電層兼感測器層7/玻璃基板4/液晶層5/驅動電極兼感測器層8/玻璃基板4/黏著劑層2/偏光膜1之構成(內嵌型觸控面板)、或偏光膜1/黏著劑層2/防靜電層兼感測器層7/感測器層9/玻璃基板4/液晶層5/驅動電極6/玻璃基板4/黏著劑層2/偏光膜1之構成(表嵌型觸控面板)，且防靜電層兼感測器層7、感測器層9、驅動電極6係由透明導電層形成。作為該圖像顯示裝置之上側(視認側)之附黏著劑層之基材膜(1、2)，可使用本發明之附黏著劑層之基材膜。
[實施例]
以下，關於本發明，使用實施例詳細地進行說明，但本發明只要不超過其主旨，則並不限定於以下之實施例。又，於各例中，份、%均為重量基準。
<偏光元件中之碘含量>
偏光元件中之碘含量(碘及/或碘離子之含量)係藉由以下之順序進行測定。
1)對複數個包含特定量之碘化鉀之偏光元件測定螢光X射線強度，導出碘含量與螢光X射線強度之關係式。
2)對未知碘含量之碘系偏光元件之螢光X射線進行測定，並根據該數值使用上述關係式計算出碘量。
製造例1(基材膜(1)之製作)
對在非晶質PET(Polyethylene Terephthalate，聚對苯二甲酸乙二 酯)基材上將9μm厚之聚乙烯醇(PVA)層製膜之積層體，藉由延伸溫度130℃之空中輔助延伸，而產生延伸積層體。繼而，將延伸積層體於相對於水100重量份含有碘0.1重量份、及碘化鉀0.7重量份之染色液中浸漬60秒鐘，而產生著色積層體。進而，藉由延伸溫度65℃之硼酸水中延伸，產生以使總延伸倍率成為5.94倍之方式使著色積層體與非晶質PET基材一體延伸之包含4μm厚的PVA層之光學膜積層體。藉由此種2段延伸，於非晶質PET基材上使經製膜之PVA層之PVA分子高次地配向，成功產生構成因染色而吸附之碘以聚碘離子錯合物之形式於一方向上高次地配向而成之高功能偏光層、且包含厚度4μm的PVA層之光學膜積層體。進而，一面於該光學膜積層體之偏光層之表面塗佈PVA系接著劑，一面貼合經皂化處理之40μm厚之丙烯酸系樹脂膜(透明保護膜(1))後，將非晶質PET基材剝離，而製作僅於使用薄型之碘系偏光元件之單側具有透明保護膜之偏光膜。以下，將其稱為基材膜(1)。基材膜(1)之碘含量為5.1重量%。
製造例2(基材膜(2)之製作)
一面將厚度80μm之聚乙烯醇膜於速度比不同之輥間，於30℃、0.3%濃度之碘溶液中染色1分鐘，一面延伸至3倍。其後，一面於60℃、包含4%濃度之硼酸、及10%濃度之碘化鉀之水溶液中浸漬0.5分鐘，一面使綜合延伸倍率延伸至6倍。繼而，於30℃、包含1.5%濃度之碘化鉀之水溶液中浸漬10秒鐘，藉此於洗淨後，於50℃下乾燥4分鐘，而獲得厚度25μm、碘含量2.3重量%之偏光元件。
進而，一面於該偏光元件之一表面上塗佈PVA系接著劑，一面貼合經皂化處理之40μm厚之丙烯酸系樹脂膜(透明保護膜(1))，然後於偏光元件之另一表面，藉由PVA系接著劑貼合厚度25μm之降烯系膜(透明保護膜(2))，而製作雙面保護偏光膜。以下，將其稱為基材膜(2)。基材膜(2)之碘含量為2.3重量%。
將製造例1、2中所獲得之基材膜(1)、(2)中所使用之偏光元件、透明保護膜厚度、偏光膜總厚度、碘含量(偏光元件中之碘及/或碘離子之含量)匯總於以下之表1。
又，使用厚度38μm之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(三菱化學聚酯膜股份有限公司製造)作為基材膜(3)，使用厚度100μm之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(三菱化學聚酯膜股份有限公司製造)作為基材膜(4)。
製造例3(含有丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液之製作)
於具備冷凝管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，與乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯83.9份、丙烯酸4-羥基丁酯0.1份、丙烯酸5份、丙烯酸苄酯11份、及相對於單體(固形物成分)100份之作為起始劑之AIBN 1份，並於氮氣氣流下，於60℃下使之反應7小時。其後，於該反應液中，添加乙酸乙酯，而獲得含有重量平均分子量200萬之丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液(固形物成分濃度30重量%)。
製造例4(含有丙烯酸系聚合物(A-2)之溶液之製作)
於具備冷凝管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，與乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯94.9份、丙烯酸4-羥基丁酯0.1份、丙烯酸5份、及相對於單體(固形物成分)100份之作為起始劑之AIBN 1份，並於氮氣氣流下，於60℃下使之反應7小時。其後，於該反應液中，添加乙酸乙酯，而獲得含有重量平均分子量200萬之丙烯 酸系聚合物(A-2)之溶液(固形物成分濃度30重量%)。
製造例5(含有丙烯酸系聚合物(A-3)之溶液之製作)
於具備冷凝管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，與乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯88.4份、丙烯酸4-羥基丁酯0.1份、丙烯酸0.5份、丙烯酸苄酯11份、及相對於單體(固形物成分)100份之作為起始劑之AIBN 1份，並於氮氣氣流下，於60℃下使之反應7小時。其後，於該反應液中，添加乙酸乙酯，而獲得含有重量平均分子量為180萬之丙烯酸系聚合物(A-3)之溶液(固形物成分濃度30重量%)。
製造例6(含有丙烯酸系聚合物(A-4)之溶液之製作)
於具備冷凝管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，與乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯83.9份、丙烯酸2-羥基乙酯0.1份、丙烯酸5份、丙烯酸苄酯11份、及相對於單體(固形物成分)100份之作為起始劑之AIBN 1份，並於氮氣氣流下，於60℃下使之反應7小時。其後，於該反應液中，添加乙酸乙酯，而獲得含有重量平均分子量200萬之丙烯酸系聚合物(A-4)之溶液(固形物成分濃度30重量%)。
製造例7(含有丙烯酸系聚合物(A-5)之溶液之製作)
於具備冷凝管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，與乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯83.9份、丙烯酸4-羥基丁酯0.1份、丙烯酸5份、丙烯酸苄酯11份、及相對於單體(固形物成分)100份之作為起始劑之AIBN 2份，並於氮氣氣流下，於60℃下使之反應7小時。其後，於該反應液中，添加乙酸乙酯，而獲得含有重量平均分子量90萬之丙烯酸系聚合物(A-5)之溶液(固形物成分濃度30重量%)。
製造例8(含有丙烯酸系聚合物(A-6)之溶液之製作)
於具備冷凝管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，與乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯99份、丙烯酸4-羥基丁酯1份、 及相對於單體(固形物成分)100份之作為起始劑之AIBN 1份，並於氮氣氣流下，於60℃下使之反應7小時。其後，於該反應液中，添加乙酸乙酯，而獲得含有重量平均分子量為160萬之丙烯酸系聚合物(A-6)之溶液(固形物成分濃度30重量%)。
又，製造例3~8中所獲得之丙烯酸系聚合物之重量平均分子量係藉由以下之測定方法而進行測定。
<丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)之測定>
所製作之丙烯酸系聚合物之重量平均分子量係藉由GPC(凝膠滲透層析法)進行測定。
裝置：Tosoh公司製造之HLC-8220GPC
管柱：樣品管柱：Tosoh公司製造，TSKguardcolumn Super HZ-H(1根)+TSKgel Super HZM-H(2根)
參考管柱：Tosoh公司製造之TSKgel Super H-RC(1根)
流量：0.6mL/min
注入量：10μL
管柱溫度：40℃
溶離液：THF(Tetrahydrofuran，四氫呋喃)
注入試樣濃度：0.2重量%
檢測器：示差折射計
再者，重量平均分子量係藉由聚苯乙烯換算而算出。
實施例1
(丙烯酸系黏著劑組合物之製備)
相對於製造例3中所獲得之含有丙烯酸酯共聚物(A-1)之溶液(固形物成分濃度30重量%)之固形物成分每100份，調配作為交聯劑之三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯之加成物(商品名：Coronate L，Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製造)0.5份、過氧化二苯甲醯0.1份、作為膦酸系化合物之苯基膦酸(和光純藥工業股份有限公司製造)0.4份、及作為矽烷偶合劑之γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷(商品名：KBM-403，信越化學工業股份有限公司製造)0.1份，而獲得丙烯酸系黏著劑組合物。
(附黏著劑層之基材膜之製作)
利用噴注式塗佈機將上述丙烯酸系黏著劑組合物均勻地塗敷於藉由聚矽氧系剝離劑進行過處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜(基材)之表面，並於155℃之空氣循環式恆溫烘箱中乾燥2分鐘，而於基材之表面形成厚度20μm之黏著劑層。繼而，使形成有黏著劑層之隔離膜轉黏至偏光膜(1)之不具有保護膜之面，而製作附黏著劑層之基材膜。
實施例2~5
將膦酸系化合物之添加量自0.4份變更為表2中所記載之份數，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之基材膜。
實施例6
將苯基膦酸(和光純藥工業股份有限公司製造)0.4份變更為乙烷膦酸(和光純藥工業股份有限公司製造)0.3份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之基材膜。
實施例7
將苯基膦酸(和光純藥工業股份有限公司製造)0.4份變更為膦酸(東邦化學工業股份有限公司製造)0.3份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之基材膜。
實施例8~12
將含有製造例3中所獲得之丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液變更為分別含有製造例4~8中所獲得之丙烯酸系聚合物(A-2)~(A-6)之溶液，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之基材膜。
實施例13
(丙烯酸系黏著劑組合物之製備)
相對於製造例3中所獲得之含有丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液(固形物成分濃度30重量%)之固形物成分每100份，調配作為交聯劑之三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯之加成物(商品名：Coronate L，Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製造)0.5份、過氧化二苯甲醯0.1份、作為膦酸系化合物之苯基膦酸(和光純藥工業股份有限公司製造)0.3份、作為矽烷偶合劑之γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷(商品名：KBM-403，信越化學工業股份有限公司製造)0.1份、及作為離子性化合物之1-甲基-1-乙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(岸田化學股份有限公司製造)1份，而獲得丙烯酸系黏著劑組合物。
(附黏著劑層之基材膜之製作)
使用上述丙烯酸系黏著劑組合物，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之基材膜。
實施例14
於實施例1之(附黏著劑層之基材膜之製作)中，將基材膜(1)變更為基材膜(2)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之基材膜。再者，黏著劑層係於基材膜(2)之厚度25μm之降烯系膜(透明保護膜(2))側形成。
實施例15、16
於實施例1之(附黏著劑層之基材膜之製作)中，將基材膜(1)變更為基材膜(3)、(4)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之基材膜。
比較例1、2
將膦酸系化合物之添加量自0.4份變更為表2中所記載之份數，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之基材膜。
比較例3
未使用膦酸系化合物，除此以外，以與實施例9相同之方式製作附黏著劑層之基材膜。
比較例4
未使用膦酸系化合物，除此以外，以與實施例12相同之方式製作附黏著劑層之基材膜。
比較例5
未使用膦酸系化合物，除此以外，以與實施例14相同之方式製作附黏著劑層之基材膜。
比較例6
於實施例11之(丙烯酸系黏著劑組合物之製備)中，未使用膦酸系化合物，且於(附黏著劑層之基材膜之製作)中，將基材膜(1)變更為基材膜(2)，除此以外，以與實施例11相同之方式製作附黏著劑層之基材膜。
比較例7
未使用膦酸系化合物，除此以外，以與實施例15相同之方式製作附黏著劑層之基材膜。
對實施例、比較例中所獲得之附黏著劑層之基材膜、附黏著劑層之基材膜，進行以下之評價。
<耐腐蝕性試驗>
將於表面形成有非晶質ITO層之導電性膜(商品名：ELECRYSTA(P400L)，日東電工股份有限公司製造，以下有時亦稱為「透明導電性基材(E-1)」)切斷為15mm×15mm，於該導電性膜上之中央部，將於實施例、及比較例中所獲得之附黏著劑層之基材膜切斷為8mm×8mm而貼合後，於50℃、5atm之條件下施加高壓蒸氣滅菌15分鐘，將所獲得者設為耐腐蝕性之測定用樣品。使用下述測定裝置 測定所獲得之測定用樣品之電阻值，將其設為「初始電阻值」。
其後，將測定用樣品投入至溫度60℃、濕度90%之環境中500小時後，對電阻值進行測定，將所獲得者設為「濕熱後之電阻值」。再者，上述電阻值係使用Accent Optical Technologies公司製造之HL5500PC進行測定。根據如上所述般測定之「初始電阻值」及「濕熱後之電阻值」，藉由下式算出電阻值變化率(%)，並藉由以下之評價基準進行評價。
(評價基準)
◎：電阻值變化率未達150%(因濕熱所引起之電阻值之上升幅度較小(耐腐蝕性良好))
○：電阻值變化率為150%以上且未達300%
△：電阻值變化率為300%以上且未達400%
×：電阻值變化率為400%以上(因濕熱所引起之電阻值之上升幅度較大(耐腐蝕性不良))
又，於實施例1之附黏著劑層之基材膜中，除使用上述透明導電性基材(E-1)以外，亦使用以下之透明導電性基材而進行耐腐蝕性試驗。
透明導電性基材(E-2)：形成有晶質ITO層之膜(商品名：V150-G5Y，日東電工股份有限公司製造)
透明導電性基材(E-3)：形成有非晶質ITO層之玻璃
透明導電性基材(E-4)：形成有晶質ITO層之玻璃
再者，透明導電性基材(E-3)及透明導電性基材(E-4)之製造方法如下所述。
(透明導電性基材(E-3)及透明導電性基材(E-4)之製作)
於無鹼玻璃之一面，藉由濺鍍法形成ITO膜，而製作具有結晶化ITO薄膜之透明導電性基材(E-4)、及具有非晶化ITO膜之透明導電性基材(E-3)。於將各基材與實施例、比較例中所獲得之附黏著劑層之基材膜貼合前，進行140℃ 30分鐘之加熱處理。晶質ITO薄膜之Sn比率為10重量%。非晶質ITO薄膜之Sn比率為3重量%。再者，ITO薄膜之Sn比率係根據Sn原子之重量/(Sn原子之重量+In原子之重量)而算出。
<黏著劑之耐久性試驗(剝離及發泡)>
將實施例、比較例中所獲得之附黏著劑層之基材膜之隔離膜剝離，貼合於無鹼玻璃(EG-XG，Corning公司製造)及形成有非晶質ITO之玻璃(透明導電性基材(E-3))之ITO面，於進行50℃、5atm、15分鐘之高壓蒸氣滅菌處理後，投入至80℃之加熱烘箱及60℃/90%RH之恆溫恆濕機中。目測觀察500小時後之基材膜之剝離及發泡，並藉由以下之評價基準進行評價。
◎：完全未觀察到剝離或發泡。
○：觀察到無法藉由目測確認之程度之剝離或發泡。
△：觀察到可藉由目測確認之較小之剝離或發泡。
×：觀察到明顯之剝離或發泡。
表2中之簡稱分別如下所述。
(膦酸系化合物)
B-1：苯基膦酸(和光純藥工業股份有限公司製造)
B-2：乙烷膦酸(和光純藥工業股份有限公司製造)
B-3：膦酸(岸田化學股份有限公司製造)
(交聯劑)
過氧化物系：過氧化二苯甲醯
異氰酸酯系：三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯之加成物(商品名：Coronate L，Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製造)
(離子性化合物)
1-甲基-1-乙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(岸田化學股份有限公司製造)
又，表1、2中之碘含量為偏光元件中之碘及/或碘離子之含量(重量%)。

Claims (16)

  1. 一種丙烯酸系黏著劑組合物，其特徵在於含有(甲基)丙烯酸系聚合物、及下述通式(1)：(式中，R係氫原子、或可含有氧原子之碳數1~18之烴殘基)所表示之膦酸系化合物或其鹽，且上述通式(1)所表示之膦酸系化合物之含量相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份為0.005~3重量份。
  2. 如請求項1之丙烯酸系黏著劑組合物，其中上述(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為120萬~300萬。
  3. 如請求項1之丙烯酸系黏著劑組合物，其中上述(甲基)丙烯酸系聚合物含有(甲基)丙烯酸烷基酯、及含羧基之單體作為單體單元。
  4. 如請求項1之丙烯酸系黏著劑組合物，其進而包含異氰酸酯系交聯劑。
  5. 如請求項1至4中任一項之丙烯酸系黏著劑組合物，其中上述丙烯酸系黏著劑組合物係用以形成與具有導電層之導電性基材之上述導電層接觸之黏著劑層的黏著劑組合物。
  6. 如請求項5之丙烯酸系黏著劑組合物，其中上述導電層為透明導電層。
  7. 如請求項6之丙烯酸系黏著劑組合物，其中上述透明導電層係由氧化銦錫形成。
  8. 如請求項7之丙烯酸系黏著劑組合物，其中上述氧化銦錫為非晶質之氧化銦錫。
  9. 一種丙烯酸系黏著劑層，其特徵在於：其係由如請求項1至8中任一項之丙烯酸系黏著劑組合物形成。
  10. 一種附黏著劑層之基材膜，其特徵在於：於基材膜之至少一面具有如請求項9之丙烯酸系黏著劑層。
  11. 如請求項10之附黏著劑層之基材膜，其中上述基材膜係於含有1~14重量%之碘及/或碘離子之碘系偏光元件之至少單面具有透明保護膜的碘系偏光膜。
  12. 如請求項11之附黏著劑層之基材膜，其中上述碘系偏光元件中之碘及/或碘離子之含量為3~12重量%。
  13. 如請求項11或12之附黏著劑層之基材膜，其中上述碘系偏光膜係僅於上述碘系偏光元件之單側具有透明保護膜之單面保護偏光膜，且上述黏著劑層係與上述單面保護偏光膜之不具有透明保護膜之面接觸。
  14. 一種積層體，其特徵在於：其係將如請求項10至13中任一項之附黏著劑層之基材膜與具有透明導電層之基材以使上述附黏著劑層之基材膜之黏著劑層與上述基材之透明導電層接觸之方式貼合而成。
  15. 一種圖像顯示裝置，其特徵在於：其係將如請求項10至13中任一項之附黏著劑層之基材膜與具有透明導電層之液晶面板以使上述附黏著劑層之基材膜之黏著劑層與上述液晶面板之透明導電層接觸之方式貼合而成。
  16. 一種圖像顯示裝置，其特徵在於：其使用如請求項14之積層體作為觸控面板。
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