TWI740821B - 偏光膜用黏著劑組合物、偏光膜用黏著劑層、附黏著劑層之偏光膜、及圖像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之目的在於提供一種偏光膜用黏著劑組合物，其可形成即便於產生較大之靜電之情形時，亦可使產生之白色斑於短時間內消失，即便於嚴酷條件下之加熱加濕試驗後亦可滿足耐久性，且具有優異外觀之黏著劑層。又，本發明之目的亦在於提供一種由上述黏著劑組合物形成之黏著劑層、使用該黏著劑層之附黏著劑層之偏光膜、及使用該附黏著劑層之偏光膜之圖像顯示裝置。
本發明之偏光膜用黏著劑組合物之特徵在於：含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)、鎓-陰離子鹽(B1)、鹼金屬鹽(B2)，上述鹼金屬鹽(B2)係相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份而含有0.4~3.5重量份，上述鹼金屬鹽(B2)與鎓-陰離子鹽(B1)之重量比(B2/B1)為1.2~4。

Description

偏光膜用黏著劑組合物、偏光膜用黏著劑層、附黏著劑層之偏光膜、及圖像顯示裝置
本發明係關於一種偏光膜用黏著劑組合物、包含該偏光膜用黏著劑組合物之偏光膜用黏著劑層、及使用上述偏光膜用黏著劑層之附黏著劑層之偏光膜。進而，本發明係關於一種使用上述附黏著劑層之偏光膜之液晶顯示裝置、有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示裝置、PDP(Plasma Display Panel，電漿顯示器)等圖像顯示裝置。
液晶顯示裝置等就其圖像形成方式而言，必須於液晶單元之兩側配置偏光元件，通常貼合有偏光膜。於將上述偏光膜貼合於液晶單元時，通常為了減少光之損耗，使用黏著劑使各材料密接。於此種情形時，就具有於使偏光膜固著時無需乾燥步驟等優點之方面而言，通常使用預先於偏光膜之單側以黏著劑層之形式設有黏著劑之附黏著劑層之偏光膜。於附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層上通常貼附有脫模膜。
製造液晶顯示裝置時，於將上述附黏著劑層之偏光膜貼附於液晶單元時，將脫模膜自附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層剝離，但因該脫模膜之剝離而產生靜電。如此般產生之靜電會對液晶顯示裝置內部之液晶之配向產生影響，導致不良。例如存在如下問題：於因使用液晶顯示裝置時之靜電而於黑顯示時產生白色斑之情形時，產生該白色斑於數分鐘內不消失之現象，畫面之顯示特性劣化。又，即便於安裝 於電視等之後，亦有因背光裝置與偏光板摩擦時產生之靜電而產生同樣之白色斑之情形。
靜電之產生例如可藉由於偏光膜之外表面形成抗靜電層而抑制，但其效果較小，存在無法根本地防止靜電產生之問題。因此，為了於靜電產生之根本位置抑制其產生，要求對黏著劑層賦予抗靜電功能。作為對黏著劑層賦予抗靜電功能之方法，例如提出有：於形成黏著劑層之黏著劑中調配離子性化合物(例如參照專利文獻1或2)。於專利文獻1中記載有：於形成黏著劑層之黏著劑中使用離子性液體、鹼金屬鹽作為抗靜電劑，藉此抗靜電性優異。於專利文獻2中記載有：作為離子性化合物，除了鎓-陰離子鹽以外併用鹼金屬鹽，藉此即便於嚴酷條件下之加濕試驗後，亦可維持抗靜電功能與耐久性。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2006-152235號公報
[專利文獻2]日本專利特開2014-48497號公報
一直以來被視為問題之靜電係相對較小者，藉由使用先前之具有抗靜電功能之黏著劑層，白色斑於數秒內消失，故而不成問題。然而，於產生之靜電較大之情形時，利用先前之具有抗靜電功能之黏著劑層無法充分地中和所產生之電荷，故而有無法使白色斑於短時間內消失之情形。於此情形時，於畫面上存在白色斑，產生所謂之被稱作「空白」之斑。對於上述專利文獻1、2中所記載之含有離子性化合物之黏著劑組合物而言，由於未充分地控制離子性化合物與鹼金屬鹽之添加量，故而於產生之靜電較大之情形時亦有產生空白之情形，於抗靜電功能之方面而言存在進一步研究之餘地。
於如上所述般產生之靜電較大之情形時，可藉由對黏著劑賦予較高之抗靜電功能性而使產生之白色斑於短時間內消失。作為對黏著劑賦予較高之抗靜電功能性之方法，考慮增加導電劑量之方法。然而，若僅增加導電劑之量，則有於黏著劑中發生結晶而產生外觀不良之情形。又，若增加導電劑之量，則導電劑向被黏著體界面附近偏析，結果有產生剝離之可能性(即，可靠性或耐久性差)。因此，期盼可兼具較高之抗靜電功能與可靠性之黏著劑層。
本發明之目的在於提供一種偏光膜用黏著劑組合物，其可形成即便於產生較大之靜電之情形時，亦可使產生之白色斑於短時間內消失，即便於嚴酷條件下之加熱加濕試驗後亦可滿足耐久性，且具有優異外觀之黏著劑層。又，本發明之目的亦在於提供一種包含上述黏著劑組合物之黏著劑層、使用該黏著劑層之附黏著劑層之偏光膜、及使用該附黏著劑層之偏光膜之圖像顯示裝置。
本發明者等人為了解決上述問題而反覆進行銳意研究，結果發現了下述偏光膜用黏著劑組合物，從而完成了本發明。
即，本發明係關於一種偏光膜用黏著劑組合物，其特徵在於：含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)、鎓-陰離子鹽(B1)、鹼金屬鹽(B2)，上述鹼金屬鹽(B2)係相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份而含有0.4~3.5重量份，上述鹼金屬鹽(B2)與鎓-陰離子鹽(B1)之重量比(B2/B1)為1.2~4。
較佳為於本發明之偏光膜用黏著劑組合物中進而含有硫醇系矽烷偶合劑(C1)。
較佳為相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，上述硫醇系矽烷偶合劑(C1)為0.001~5重量份。
較佳為相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，上述鎓-陰離子鹽(B1)為0.1~1.5重量份。
較佳為於本發明之偏光膜用黏著劑組合物中進而含有交聯劑(D)。
較佳為上述交聯劑(D)係相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份而含有0.01~20重量份。
較佳為上述交聯劑(D)係選自由異氰酸酯系化合物、及過氧化物所組成之群中之至少1種交聯劑。
較佳為於本發明之偏光膜用黏著劑組合物中進而含有含乙醯乙醯基之矽烷偶合劑(C2)。
又，本發明係關於一種偏光膜用黏著劑層，其特徵在於包含上述偏光膜用黏著劑組合物。
又，本發明係關於一種附黏著劑層之偏光膜，其特徵在於：其係具有偏光膜、及設置於該偏光膜上之黏著劑層者；並且上述偏光膜僅於偏光元件之單側具有透明保護膜，上述黏著劑層係設置於上述偏光元件之不具有上述透明保護膜之面，且上述黏著劑層係上述偏光膜用黏著劑層。
較佳為上述偏光元件之厚度為10μm以下。
進而，本發明係關於一種圖像顯示裝置，其特徵在於使用至少1片上述附黏著劑層之偏光膜。
發明之偏光膜用黏著劑組合物含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)、鎓-陰離子鹽(B1)、及鹼金屬鹽(B2)，且將上述鎓-陰離子鹽(B1)與鹼金屬鹽(B2)之添加量設為特定之範圍，藉此可形成即便於產生較大之靜電之情形時，亦可使產生之白色斑於短時間內消失，即便於嚴酷條件下之加熱加濕試驗後亦可滿足耐久性，且具有優異外觀之黏著劑 層。
又，包含本發明之偏光膜用黏著劑組合物之黏著劑層、及包含該黏著劑層之附黏著劑層之偏光膜係滿足優異之抗靜電功能及耐久性者。又，具有本發明之附黏著劑層之偏光膜之圖像顯示裝置可抑制白色斑(空白)之產生。
1.偏光膜用黏著劑組合物
本發明之偏光膜用黏著劑組合物之特徵在於：含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)、鎓-陰離子鹽(B1)、鹼金屬鹽(B2)，上述鹼金屬鹽(B2)係相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份而含有0.4~3.5重量份，上述鹼金屬鹽(B2)與鎓-陰離子鹽(B1)之重量比(B2/B1)為1.2~4。以下，詳細地對本發明之偏光膜用黏著劑組合物之組成進行說明。
(1)(甲基)丙烯酸系聚合物(A)
本發明之偏光膜用黏著劑組合物含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)作為基礎聚合物。(甲基)丙烯酸系聚合物(A)通常以單體單元之形式含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分。再者，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，本發明之(甲基)係指相同之含義。
作為構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之主骨架之(甲基)丙烯酸烷基酯，可例示具有碳數1~18之直鏈狀或分支鏈狀之烷基者。例如，作為上述烷基，可例示甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、己基、環己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基、十二烷基、異十四烷基、月桂基、十三烷基、十五烷基、十六烷 基、十七烷基、十八烷基等。該等可單獨或組合使用。
上述(甲基)丙烯酸烷基酯係作為構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之所有單體中之主成分者。此處，所謂主成分，係指構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之所有單體中(甲基)丙烯酸烷基酯為80~100重量%左右，較佳為85~99.9重量%左右，更佳為90~99.9重量%左右。
於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中，為了改善接著性或耐熱性，可藉由共聚而導入含有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性之官能基的1種以上之共聚單體。作為此種共聚單體之具體例，例如可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯或丙烯酸(4-羥基甲基環己基)-甲酯等含羥基單體；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、馬來酸、富馬酸、巴豆酸等含羧基單體；馬來酸酐、伊康酸酐等含酸酐基單體；丙烯酸之己內酯加成物；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基單體；2-羥基乙基丙烯醯基磷酸酯等含磷酸基單體等。
又，亦可列舉如下單體作為改質目的之單體例：(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺或N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺等(N-取代)醯胺系單體；(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲胺基乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯系單體；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯系單體；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧 基八亞甲基琥珀醯亞胺、N-丙烯醯基
Figure 105110640-A0202-12-0007-2
啉等琥珀醯亞胺系單體；N-環己基馬來醯亞胺或N-異丙基馬來醯亞胺、N-月桂基馬來醯亞胺或N-苯基馬來醯亞胺等馬來醯亞胺系單體；N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體等。
進而，作為改質單體，亦可使用：乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、甲基乙烯基吡咯啶酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌
Figure 105110640-A0202-12-0007-3
、乙烯基吡
Figure 105110640-A0202-12-0007-4
、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基
Figure 105110640-A0202-12-0007-6
唑、乙烯基
Figure 105110640-A0202-12-0007-5
啉、N-乙烯基羧醯胺類、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯基己內醯胺等乙烯系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系單體；(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等含環氧基之丙烯酸系單體；(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯、氟(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯或丙烯酸2-甲氧基乙酯等丙烯酸酯系單體等。進而，可列舉異戊二烯、丁二烯、異丁烯、乙烯醚等。
進而，作為上述以外之可共聚之單體，可列舉含有矽原子之矽烷系單體等。作為矽烷系單體，例如可列舉：3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷等。
又，作為共聚單體，亦可使用：三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二縮 水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物等具有2個以上之(甲基)丙烯醯基、乙烯基等之不飽和雙鍵之多官能性單體，或於聚酯、環氧化物、胺基甲酸酯等骨架上加成2個以上之作為與單體成分相同之官能基之(甲基)丙烯醯基、乙烯基等之不飽和雙鍵而獲得之聚酯(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸環氧酯、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯等。
上述共聚單體之比例並無特別限制，於構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之所有單體中為0~20重量%左右，較佳為0.1~15重量%左右，更佳為0.1~10重量%左右。
該等共聚單體中，就接著性、耐久性之方面而言，可較佳地使用含羥基單體、含羧基單體。含羥基單體及含羧基單體可併用。於黏著劑組合物含有交聯劑之情形時，該等共聚單體成為與交聯劑之反應點。含羥基單體、含羧基單體等富有與分子間交聯劑之反應性，故而可較佳地用於提高所獲得之黏著劑層之凝聚性或耐熱性。
於含有含羥基單體作為共聚單體之情形時，其比例較佳為0.01~15重量%，更佳為0.03~10重量%，進而較佳為0.05~7重量%。於含有含羧基單體作為共聚單體之情形時，其比例較佳為10重量%以下，更佳為0.05~10重量%，進而較佳為0.1~8重量%，尤佳為0.2~6重量%。
本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)通常使用重量平均分子量為50萬~300萬之範圍者。若考慮耐久性、尤其是耐熱性，則較佳為使用重量平均分子量為70萬~270萬者。進而，較佳為80萬~250萬。若重量平均分子量小於50萬，則於耐熱性之方面欠佳。又，若重量平均 分子量大於300萬，則調整為用以進行塗佈之黏度需要大量稀釋溶劑，成本增加，故而欠佳。再者，重量平均分子量係指利用GPC(Gel Permeation Chromatography，凝膠滲透層析法)進行測定，並藉由聚苯乙烯換算而算出之值。
此種(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之製造可適當地選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知之製造方法。又，所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等之任一種。
再者，於溶液聚合中，作為聚合溶劑，例如可使用乙酸乙酯、甲苯等。作為具體之溶液聚合例，於氮氣等惰性氣體氣流下添加聚合起始劑，通常以50~70℃左右、5~30小時左右之反應條件進行反應。
用於自由基聚合之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等並無特別限定，可適當地選擇而使用。再者，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量可藉由聚合起始劑、鏈轉移劑之使用量、反應條件而控制，根據該等之種類適當地調整其使用量。
作為聚合起始劑，例如可列舉：2,2'-偶氮雙異丁腈、2,2'-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2'-偶氮雙(N,N'-二亞甲基異丁基脒)、2,2'-偶氮雙[N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒]水合物(商品名：VA-057，和光純藥工業(股)製造)等偶氮系起始劑，過硫酸鉀、過硫酸銨等過硫酸鹽，過氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯、過氧化二碳酸二-第二丁酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化特戊酸第三己酯、過氧化特戊酸第三丁酯、過氧化二月桂醯、過氧化二正辛醯、過氧化2-乙基己酸1,1,3,3-四甲基丁酯、過氧化二(4-甲基苯甲醯)、過氧化二苯甲醯、過氧化異丁酸第三 丁酯、1,1-二(過氧化第三己基)環己烷、氫過氧化第三丁基、過氧化氫等過氧化物系起始劑、過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉之組合、過氧化物與抗壞血酸鈉之組合等將過氧化物與還原劑組合而成之氧化還原系起始劑等，但不限定於該等。
上述聚合起始劑可單獨使用，又，亦可混合2種以上而使用，相對於單體100重量份，整體之含量較佳為0.005~1重量份左右，更佳為0.02~0.5重量份左右。
再者，於使用例如2,2'-偶氮雙異丁腈作為聚合起始劑製造上述重量平均分子量之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)時，聚合起始劑之使用量較佳為相對於單體成分之總量100重量份而設為0.06~0.2重量份左右，更佳為設為0.08~0.175重量份左右。
又，鏈轉移劑、乳化劑等可適當地使用先前公知者。關於其等之添加量，亦可於不損及本發明之效果之範圍內適當決定。
(2)鎓-陰離子鹽(B1)
上述鎓-陰離子鹽(B1)係屬於「離子性化合物」，亦被稱作離子性液體、離子性固體。上述鎓-陰離子鹽(B1)係屬於包含陽離子成分及陰離子成分之陽離子-陰離子鹽。本發明中，該陽離子-陰離子鹽中，使用陽離子為鎓之鎓-陰離子鹽。
<陰離子成分>
作為陰離子成分，例如可使用：Cl-、Br-、I-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、BF4 -、PF6 -、ClO4 -、NO3 -、CH3COO-、CF3COO-、CH3SO3 -、CF3SO3 -、(CF3SO2)3C-、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、(CN)2N-、C4F9SO3 -、C3F7COO-、(CF3SO2)(CF3CO)N-、-O3S(CF2)3SO3 -、或下述通式(1)~(4)所表示者等：(1)：(CnF2n+1SO2)2N-(其中，n為1~10之整數)、(2)：CF2(CmF2mSO2)2N-(其中，m為1~10之整數)、 (3)：-O3S(CF2)lSO3 -(其中，l為1~10之整數)、(4)：(CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2)(其中，p、q為1~10之整數)。其中，尤其包含氟原子之陰離子成分由於可獲得離子解離性良好之離子化合物，故而可較佳地使用。尤其，陰離子成分較佳為含氟醯亞胺陰離子。
≪含氟醯亞胺陰離子≫
作為上述含氟醯亞胺陰離子，例如可例示具有全氟烷基之醯亞胺陰離子。
具體可使用：上述例示之陰離子成分中之(CF3SO2)(CF3CO)N-，或上述通式(1)、(2)、(4)所表示者等：(1)：(CnF2n+1SO2)2N-(其中，n為1~10之整數)、(2)：CF2(CmF2mSO2)2N-(其中，m為1~10之整數)、(4)：(CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2)(其中，p、q為1~10之整數)。該等含氟醯亞胺陰離子由於可獲得離子解離性良好之離子性化合物，故而可較佳地使用。又，上述含氟醯亞胺陰離子中，具有碳數1~4之氟化烷基或氟化伸烷基者於可將表面電阻值控制為較小而抑制靜電斑之方面較佳。作為上述含氟醯亞胺陰離子，較佳為(CF3SO2)2N-、(C2F5SO2)2N-等上述通式(1)所表示之(全氟烷基磺醯基)醯亞胺，尤其較佳為(CF3SO2)2N-所表示之(三氟甲磺醯基)醯亞胺。
<鎓>
作為構成上述鎓-陰離子鹽(B1)中之陽離子部之鎓，係使成為鎓離子之原子質子化而成者。又，本發明之鎓較佳為未藉由雙鍵、三鍵等不飽和鍵而形成鎓鹽者。即，作為本發明之鎓，較佳為藉由有機基等之取代而形成鎓離子之有機鎓。
又，作為上述有機鎓中之有機基，可例示烷基、烷氧基、烯基等。該等中，較佳為不具有不飽和鍵者。烷基之碳數例如可自1~12 中選擇，較佳為1~8，進而較佳為1~4。作為有機鎓，較佳為所有取代基具有碳數1~4之烷基之烷基鎓。烷基可使用直鏈或分支鏈，較佳為直鏈。又，於有機鎓具有環狀結構之情形時，較佳為鎓具有5員環或6員環，其他取代基為碳數1~4之烷基。
作為上述鎓，並無特別限制，例如可列舉含氮鎓、含硫鎓、含磷鎓等。該等中，較佳為含氮鎓、含硫鎓。
作為含氮鎓，可列舉銨陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、吡啶鎓陽離子、具有吡咯啉骨架之陽離子、具有吡咯骨架之陽離子、咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子等。該等中，較佳為銨陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子，尤其，較佳為吡咯啶鎓。作為具體之含氮鎓，較佳為四烷基銨陽離子、烷基哌啶鎓陽離子、烷基吡咯啶鎓陽離子。
作為含硫鎓，可列舉鋶陽離子等。又，作為含磷鎓，可列舉鏻陽離子等。
上述鎓-陰離子鹽(B1)可適當地選擇使用包含上述鎓成分與陰離子成分之組合之化合物。本發明中，該鎓-陰離子鹽(B1)中，較佳為陰離子為含氟醯亞胺陰離子之鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽。
作為鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽之具體例，可適當地選擇包含上述鎓成分與含氟醯亞胺陰離子成分之組合之化合物而使用，可較佳地使用選自含氮鎓鹽、含硫鎓鹽及含磷鎓鹽中之至少任1種。進而，可較佳地使用選自銨鹽、吡咯啶鎓鹽、哌啶鎓鹽及鋶鹽中之至少任1種。
例如可列舉：1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,2-二甲基-3-丙基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞 胺、二烯丙基二甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、二烯丙基二甲基銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、縮水甘油基三甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、縮水甘油基三甲基銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-壬基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-二丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-戊基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-二己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-甲基-N-乙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N,N-二己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞 胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三辛基甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N-甲基-N-乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺等。作為該等之市售品，例如可使用「CIL-314」(Japan Carlit(股)製造)、「ILA2-1」(廣榮化學工業(股)製造)等。
又，例如可列舉：四甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基乙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基辛基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四乙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺等。
又，例如可列舉：1-二甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯 基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯 基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、N-甲基-N-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺等。
又，可列舉使用三甲基鋶陽離子、三乙基鋶陽離子、三丁基鋶陽離子、三己基鋶陽離子、二乙基甲基鋶陽離子、二丁基乙基鋶陽離子、二甲基癸基鋶陽離子、四甲基鏻陽離子、四乙基鏻陽離子、四丁基鏻陽離子、四己基鏻陽離子代替上述化合物之鎓成分之化合物等。
又，可列舉使用雙(五氟磺醯基)醯亞胺、雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、三氟甲磺醯基九氟丁磺醯基醯亞胺、七氟丙磺醯基三氟甲磺醯基醯亞胺、五氟乙磺醯基九氟丁磺醯基醯亞胺、環-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺陰離子等代替上述雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺之化合物等。
作為鎓-含氟醯亞胺陰離子鹽以外之鎓-陰離子鹽(B1)，可適當地選擇使用包含上述鎓成分與含氟醯亞胺陰離子鹽以外之陰離子成分之組合之化合物。例如可列舉：1-丁基吡啶鎓四氟硼酸鹽、1-丁基吡啶鎓六氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓四氟硼酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓三氟甲磺酸鹽、1-己基吡啶鎓四氟硼酸鹽、2-甲基-1-吡咯啉四氟硼酸鹽、1-乙基-2-苯基吲哚四氟硼酸鹽、1,2-二甲基吲哚四氟硼酸鹽、1-乙基咔唑四氟硼酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓乙酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三氟乙酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓七氟丁酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓全氟丁磺酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓二氰胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三(三氟甲磺醯基)甲基化物、1-丁基-3-甲基咪唑鎓四 氟硼酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟乙酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓七氟丁酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓全氟丁磺酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑鎓溴化物、1-己基-3-甲基咪唑鎓氯化物、1-己基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-辛基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-辛基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-己基-2,3-二甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-甲基吡唑鎓四氟硼酸鹽、3-甲基吡唑鎓四氟硼酸鹽、二烯丙基二甲基銨四氟硼酸鹽、二烯丙基二甲基銨三氟甲磺酸鹽、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨四氟硼酸鹽、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨三氟甲磺酸鹽、1-丁基吡啶鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、二烯丙基二甲基銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、縮水甘油基三甲基銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-丁基-3-甲基吡啶-1-鎓三氟甲磺酸鹽等。
本發明中，上述鎓-陰離子鹽(B1)可單獨使用1種或混合2種以上而使用。又，該等中，較佳為1-甲基-1-乙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺。
相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，本發明之黏著劑組合物中之鎓-陰離子鹽(B1)之比例較佳為0.1~1.5重量份。若上述鎓-陰離子鹽(B1)未達0.1重量份，則有抗靜電性能之提高效果不充分之情形。上述鎓-陰離子鹽(B1)較佳為0.2重量份以上，進而較佳為0.5重量份以上。另一方面，若上述鎓-陰離子鹽(B1)超過1.5重量份，則有耐久性或外觀變得不充分之情形。上述鎓-陰離子鹽(B1)較佳為1.3重量份以下，更佳為1.0重量份以下，進而較佳為未達1.0重量份。上述 鎓-陰離子鹽(B1)之比例可採用上述上限值或下限值而設定較佳之範圍。
又，上述中，例如1-甲基-1-乙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺般為固體且分子較大者若使添加量超過1.5重量份，則有於黏著劑中發生結晶而產生外觀不良之情形，尤其欠佳。
(3)鹼金屬鹽(B2)
作為鹼金屬鹽(B2)，可使用鹼金屬之有機鹽及無機鹽。
作為構成鹼金屬鹽(B2)之陽離子部之鹼金屬離子，可列舉鋰、鈉、鉀之各離子。該等鹼金屬離子中，較佳為鋰離子。
鹼金屬鹽之陰離子部可包含有機物，亦可包含無機物。作為構成有機鹽之陰離子部，例如可使用：CH3COO-、CF3COO-、CH3SO3 -、CF3SO3 -、(CF3SO2)3C-、C4F9SO3 -、C3F7COO-、(CF3SO2)(CF3CO)N-、-O3S(CF2)3SO3 -、PF6 -、CO3 2-、或下述通式(1)~(4)所表示者等：(1)：(CnF2n+1SO2)2N-(其中，n為1~10之整數)、(2)：CF2(CmF2mSO2)2N-(其中，m為1~10之整數)、(3)：-O3S(CF2)lSO3 -(其中，l為1~10之整數)、(4)：(CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2)(其中，p、q為1~10之整數)。尤其，含有氟原子之陰離子部由於可獲得離子解離性良好之離子化合物，故而可較佳地使用。作為構成無機鹽之陰離子部，可使用Cl-、Br-、I-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、BF4 -、PF6 -、ClO4 -、NO3 -、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、(CN)2N-等。作為陰離子部，較佳為(CF3SO2)2N-、(C2F5SO2)2N-等上述通式(1)所表示之(全氟烷基磺醯基)醯亞胺，尤其較佳為(CF3SO2)2N-所表示之(三氟甲磺醯基)醯亞胺。
作為鹼金屬之有機鹽，具體可列舉乙酸鈉、海藻酸鈉、木質素磺酸鈉、甲苯磺酸鈉、LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N、Li(CF3SO2)3C、KO3S(CF2)3SO3K、LiO3S(CF2)3SO3K 等，該等中，較佳為LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N、Li(CF3SO2)3C等，更佳為Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N等含氟鋰醯亞胺鹽，尤其較佳為(全氟烷基磺醯基)醯亞胺鋰鹽。
又，作為鹼金屬之無機鹽，可列舉過氯酸鋰、碘化鋰。
本發明中，上述鹼金屬鹽(B2)可單獨使用1種或混合2種以上而使用。
相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，本發明之黏著劑組合物中之鹼金屬鹽(B2)之比例為0.4~3.5重量份。若上述鹼金屬鹽(B2)未達0.4重量份，則有包含本發明之黏著劑組合物之黏著劑層表面之表面電阻值變高，結果產生白色斑之情形。上述鹼金屬鹽(B2)更佳為0.5重量份以上。另一方面，若上述鹼金屬鹽(B2)超過3.5重量份，則嚴酷條件下之加濕試驗後之抗靜電性能之提高效果不充分。又，若上述鹼金屬鹽(B2)較多，則有鹼金屬鹽(B2)向包含黏著劑組合物之黏著劑層與偏光膜等被黏著體之界面附近偏析，其結果產生剝離之情形，可靠性或耐久性差。上述鹼金屬鹽(B2)較佳為3.0重量份以下，更佳為2.0重量份以下。上述鹼金屬鹽(B2)之比例可採用上述上限值或下限值而設定較佳之範圍。
又，上述鹼金屬鹽(B2)與鎓-陰離子鹽(B1)之重量比(B2/B1)為1.2~4，較佳為1.2~3.5，更佳為1.2~3.0。若上述重量比(B2/B1)未達1.2，則無法獲得高水準之導電性能，若重量比(B2/B1)超過4，則容易產生由鹼金屬鹽之析出所致之外觀不良或耐濕試驗時之性能不良。
(4)硫醇系矽烷偶合劑(C1)
本發明之偏光膜用黏著劑組合物較佳為含有硫醇系矽烷偶合劑(C1)。硫醇系矽烷偶合劑(C1)由於不易對導電性能造成不良影響，故而可於不損及黏著劑層之導電性能之情況下提高與被黏著體之接著耐 久性。因此，即便於產生利用先前之抗靜電黏著劑組合物無法消除之較大之靜電之情形時，亦可抑制白色斑。
作為硫醇系矽烷偶合劑(C1)，例如只要為具有矽氧烷骨架與巰基者即可，例如可列舉X-41-1810(商品名，巰基當量：450g/mol)、X-41-1805(商品名，巰基當量：800g/mol)、X-41-1818(商品名，巰基當量：850g/mol)(均為信越化學工業(股)製造)等，該等可單獨使用一種或混合兩種以上而使用。又，該等中，就抑制黏著劑層之急遽之黏著力上升而可自被黏著體進行二次加工之方面而言，較佳為X-41-1810。
關於硫醇系矽烷偶合劑(C1)之硫醇基之含量，例如於巰基之情形時，較佳為巰基當量1000g/mol以下，更佳為850g/mol以下，就抑制急遽之黏著力上升而可自被黏著體進行二次加工之方面而言，更佳為650g/mol以下。又，巰基當量之下限值並無特別限定，例如較佳為100g/mol以上。
相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，本發明之黏著劑組合物中之硫醇系矽烷偶合劑(C1)之比例較佳為0.001~5重量份。若上述硫醇系矽烷偶合劑(C1)未達0.001重量份，則有難以提高對玻璃及ITO(Indium Tin Oxide，氧化銦錫)等之透明導電層表面之可靠性之情形。上述硫醇系矽烷偶合劑(C1)較佳為0.01重量份以上，進而較佳為0.1重量份以上。另一方面，若上述硫醇系矽烷偶合劑(C1)超過5重量份，則黏著劑層之黏著力會過度上升，故而有難以自被黏著體對該黏著劑層進行二次加工之情形。上述硫醇系矽烷偶合劑(C1)較佳為4重量份以下，較佳為3重量份以下，較佳為2.5重量份以下，進而較佳為2重量份以下。上述硫醇系矽烷偶合劑(C1)之比例可採用上述上限值或下限值而設定較佳之範圍。
(5)其他
本發明之黏著劑組合物中，除了上述以外亦可含有交聯劑(D)。作為交聯劑(D)，可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。作為有機系交聯劑，可列舉異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物係多價金屬與有機化合物進行共價鍵結或配位鍵結而成者。作為多價金屬原子，可列舉Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作為共價鍵結或配位鍵結之有機化合物中之原子，可列舉氧原子等，作為有機化合物，可列舉烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
作為交聯劑(D)，較佳為選自由異氰酸酯系交聯劑及過氧化物形交聯劑所組成之群中之1種以上之交聯劑，更佳為將異氰酸酯系交聯劑與過氧化物形交聯劑一併使用。作為屬於異氰酸酯系交聯劑之化合物，例如可列舉：甲苯二異氰酸酯、氯伸苯基二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、經氫化之二苯基甲烷二異氰酸酯等異氰酸酯單體及使該等異氰酸酯單體與三羥甲基丙烷等進行加成而獲得之異氰酸酯化合物或異氰尿酸酯化物，縮二脲型化合物，進而與聚醚多元醇或聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等進行加成反應而獲得之胺基甲酸酯預聚物型之異氰酸酯等。尤佳為聚異氰酸酯化合物，且為選自由六亞甲基二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯、及異佛爾酮二異氰酸酯所組成之群中之1種或來源於其之聚異氰酸酯化合物。此處，選自由六亞甲基二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯、及異佛爾酮二異氰酸酯所組成之群中之1種或來源於其之聚異氰酸酯化合物中，包含六亞甲基二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、多元醇改性六亞甲基二異氰酸酯、多元醇改性氫化苯二甲基二異氰酸酯、三聚物型氫化苯二甲基二異氰酸酯、及多元醇改性異佛爾 酮二異氰酸酯等。所例示之聚異氰酸酯化合物與羥基之反應迅速進行，尤其使聚合物中所包含之酸、鹼如觸媒般發揮作用，故而尤其有助於交聯之快速進行，從而較佳。
作為過氧化物，只要為藉由加熱或光照射產生自由基活性種而使黏著劑組合物之基礎聚合物進行交聯者，則可適當地使用，若考慮到作業性或穩定性，則較佳為使用1分鐘半衰期溫度為80℃~160℃之過氧化物，更佳為使用1分鐘半衰期溫度為90℃~140℃之過氧化物。
作為可使用之過氧化物，例如可列舉：過氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯(1分鐘半衰期溫度：90.6℃)、過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧化二碳酸二-第二丁酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、過氧化新癸酸第三丁酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、過氧化特戊酸第三己酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、過氧化特戊酸第三丁酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、過氧化二月桂醯(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、過氧化二正辛醯(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、過氧化2-乙基己酸1,1,3,3-四甲基丁酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、過氧化二(4-甲基苯甲醯)(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、過氧化二苯甲醯(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、過氧化異丁酸第三丁酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(過氧化第三己基)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。其中，過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧化二月桂醯(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、過氧化二苯甲醯(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)等由於交聯反應效率尤其優異，故而可較佳地使用。
再者，所謂過氧化物之半衰期，係表示過氧化物之分解速度之指標，係指過氧化物之殘留量降至一半所需之時間。關於用於以任意之時間獲得半衰期之分解溫度、或任意之溫度下之半衰期時間，係記載於製造商目錄等中，例如係記載於日本油脂(股)「有機過氧化物目 錄第9版(2003年5月)」等中。
相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，交聯劑(D)之使用量較佳為0.01~20重量份，進而較佳為0.03~10重量份。再者，若交聯劑(D)未達0.01重量份，則有黏著劑之凝聚力不足之傾向，有加熱時產生發泡之虞，另一方面，若超過20重量份，則耐濕性不充分，容易於可靠性試驗等中產生剝離。
上述異氰酸酯系交聯劑可單獨使用1種，又，亦可混合2種以上而使用，關於整體之含量，較佳為相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份含有0.01~2重量份之上述異氰酸酯系交聯劑而成，更佳為含有0.02~2重量份而成，進而較佳為含有0.05~1.5重量份而成。可考慮凝聚力、耐久性試驗中之剝離之阻止等而適當含有上述異氰酸酯系交聯劑。
上述過氧化物可單獨使用1種，又，亦可混合2種以上而使用，關於整體之含量，相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份含有0.01~2重量份、較佳為0.04~1.5重量份之上述過氧化物而成，更佳為含有0.05~1重量份而成。可為了調整加工性、二次加工性、交聯穩定性、剝離性等而於該範圍內適當選擇。
再者，作為反應處理後之殘留之過氧化物分解量之測定方法，例如可藉由HPLC(High Performance Liquid Chromatography，高效液相層析儀)進行測定。
更具體而言，例如可每次取出約0.2g反應處理後之黏著劑組合物，浸漬於乙酸乙酯10ml，利用振盪機於25℃下以120rpm振盪萃取3小時後，於室溫下靜置3日。繼而，添加乙腈10ml，於25℃下以120rpm振盪30分鐘，利用膜濾器(0.45μm)進行過濾，將過濾所得之約10μl之萃取液注入至HPLC進行分析，作為反應處理後之過氧化物量。
進而，本發明之黏著劑組合物中，就提高耐久性之觀點而言，較佳為含有含乙醯乙醯基之矽烷偶合劑(C2)。作為含乙醯乙醯基之矽烷偶合劑(C2)，可列舉綜研化學(股)製造之A-100(商品名)等。
上述矽烷偶合劑(C2)可單獨使用，又，亦可混合2種以上而使用，關於整體之含量，相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，較佳為上述矽烷偶合劑(C2)0.001~5重量份，進而較佳為0.01~1重量份，進而更佳為0.02~1重量份，進而較佳為0.05~0.6重量份。其為提高耐久性且適度保持對偏光膜之接著力之量。
上述矽烷偶合劑(C2)與上述硫醇系矽烷偶合劑(C1)之比例並無特別限定，(C2)/(C1)之重量比較佳為0.1~2左右，更佳為0.1~1左右，進而較佳為0.2~0.6左右。藉由上述矽烷偶合劑(C2)與上述硫醇系矽烷偶合劑(C1)之調配比例在上述範圍內，於將包含本發明之黏著劑組合物之黏著劑層貼附於被黏著體之情形時，可於貼附初期自被黏著體對黏著劑層進行二次加工，進而可賦予經時之黏著力耐久性，故而較佳。
又，本發明之黏著劑組合物中亦可含有硫醇系矽烷偶合劑(C1)、含乙醯乙醯基之矽烷偶合劑(C2)以外之矽烷偶合劑，例如可列舉：3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷偶合劑，3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽烷基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙基胺、N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷偶合劑，3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯酸基之矽烷偶合劑，3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽烷偶合劑等。作為該等之添加量，並無特別限定，可於不損及本發明之效果之範圍內進行添 加，例如較佳為相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份而未達0.2重量份，本發明中較佳為不添加。
進而，本發明之黏著劑組合物中亦可含有其他公知之添加劑，例如可根據使用之用途而適當添加聚丙二醇等聚伸烷基二醇之聚醚化合物、著色劑、顏料等之粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、黏著性賦予劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、防老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機之填充劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。又，亦可於可控制之範圍內添加還原劑而採用氧化還原系。
2.偏光膜用黏著劑層
本發明之偏光膜用黏著劑層之特徵在於包含上述偏光膜用黏著劑組合物。
作為形成黏著劑層之方法，例如可列舉將上述黏著劑組合物塗佈於經剝離處理之隔離件等上，將聚合溶劑等乾燥去除而形成黏著劑層之方法。又，亦可藉由如下方法製作：於後述偏光膜上塗佈上述黏著劑組合物，將聚合溶劑等乾燥去除而於偏光膜上形成黏著劑層之方法等。再者，於塗佈黏著劑組合物時，可適當地新添加聚合溶劑以外之一種以上之溶劑。
作為經剝離處理之隔離件，可較佳地使用聚矽氧剝離襯墊。於在此種襯墊上塗佈本發明之黏著劑組合物，並使其乾燥而形成黏著劑層之情形時，作為使黏著劑乾燥之方法，可根據目的適當採用合適之方法。較佳為使用對上述塗佈膜進行加熱乾燥之方法。加熱乾燥溫度較佳為40℃~200℃，進而較佳為50℃~180℃，尤佳為70℃~170℃。藉由將加熱溫度設為上述範圍，可獲得具有優異之黏著特性之黏著劑。
乾燥時間可適當採用合適之時間。上述乾燥時間較佳為5秒~20 分鐘，進而較佳為5秒~10分鐘，尤佳為10秒~5分鐘。
作為上述黏著劑組合物之塗佈方法，可使用各種方法。具體而言，例如可列舉輥式塗佈、接觸輥式塗佈、凹版塗佈、反向塗佈、輥式刷塗、噴塗、浸漬輥式塗佈、棒式塗佈、刮塗、氣刀塗佈、淋幕式塗佈、模唇塗佈、利用模嘴塗佈機等之擠出塗佈法等方法。
黏著劑層之厚度並無特別限制，例如為1~100μm左右。較佳為2~50μm，更佳為2~40μm，進而較佳為5~35μm。
3.附黏著劑層之偏光膜
本發明之附黏著劑層之偏光膜之特徵在於：具有偏光膜、及設置於該偏光膜上之黏著劑層，上述偏光膜僅於偏光元件之單側具有透明保護膜，上述黏著劑層係設置於上述偏光元件之不具有上述透明保護膜之面上，且上述黏著劑層為本發明之偏光膜用黏著劑層。
作為形成黏著劑層之方法，如上所述。
於將黏著劑層形成於經剝離處理之隔離件等上之情形時，本發明之附黏著劑層之偏光膜可藉由將該隔離件上之黏著劑層轉印至偏光膜之不具透明保護膜之面上而形成。又，亦可藉由在偏光膜之不具有透明保護膜之面上塗佈上述黏著劑組合物，將聚合溶劑等乾燥去除而於偏光膜上形成黏著劑層之方法進行製作。
又，可於上述偏光膜之塗佈黏著劑組合物之表面(偏光膜之不具有透明保護膜之面)上形成增黏層，或實施電暈處理、電漿處理等各種易接著處理後形成黏著劑層。又，亦可對黏著劑層之表面進行易接著處理。
於上述附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層露出之情形時，亦可於供實用之前利用經剝離處理之片材(隔離件)保護黏著劑層。
作為隔離件之構成材料，例如可列舉：聚乙烯、聚丙烯、聚對 苯二甲酸乙二酯、聚酯膜等塑膠膜，紙，布、不織布等多孔質材料，網狀物，發泡片材，金屬箔，及該等之層壓體等適當之薄片體等，就表面平滑性優異之方面而言，可較佳地使用塑膠膜。
作為該塑膠膜，只要為可保護上述黏著劑層之膜，則無特別限定，例如可列舉聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚對苯二甲酸丁二酯膜、聚胺基甲酸酯膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物膜等。
上述隔離件之厚度通常為5~200μm，較佳為5~100μm左右。視需要亦可對上述隔離件進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系之脫模劑、二氧化矽粉等進行之脫模及防污處理，或塗佈型、混練型、蒸鍍型等之抗靜電處理。尤其藉由對上述隔離件之表面適當進行聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可進一步提高自上述黏著劑層之剝離性。
再者，於製作上述附黏著劑層之偏光膜時所使用之經剝離處理之片材可直接用作附黏著劑層之偏光膜之隔離件，可簡化步驟。
偏光膜係使用僅於偏光元件之單側具有透明保護膜者。
偏光元件並無特別限定，可使用各種偏光元件。作為偏光元件，例如可列舉：使聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜吸附碘或二色性染料之二色性物質並經單軸延伸而成者，聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。該等中，較佳為包含聚乙烯醇系膜與碘等二色性物質之偏光元件，更佳為含有碘及/或碘離子之碘系偏光元件。又，該等偏光元件之厚度並無特別限制，通常為5~80μm左右。
利用碘將聚乙烯醇系膜染色並進行單軸延伸而成之偏光元件例 如可藉由如下方式製作：藉由將聚乙烯醇浸漬於碘之水溶液中而進行染色，並延伸至原長之3~7倍。視需要亦可浸漬於硼酸或可含有硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等之水溶液中。進而，視需要亦可於染色前將聚乙烯醇系膜浸漬於水中進行水洗。藉由對聚乙烯醇系膜進行水洗，除了可將聚乙烯醇系膜表面之污垢或抗黏連劑洗淨以外，亦具有藉由使聚乙烯醇系膜膨潤而防止染色之不均等不均勻之效果。延伸可於利用碘進行染色後進行，亦可一面進行染色一面進行延伸，又，亦可於延伸後利用碘進行染色。亦可於硼酸或碘化鉀等之水溶液或水浴中進行延伸。
又，本發明中，亦可使用厚度為10μm以下之薄型偏光元件。就薄型化之觀點而言，該厚度較佳為1~7μm。此種薄型之偏光元件於以下方面而言較佳：厚度不均較少，視認性優異，又，尺寸變化較少，故而耐久性優異，進而作為偏光膜之厚度亦可實現薄型化。
作為薄型之偏光元件，可代表性地列舉日本專利特開昭51-069644號公報或日本專利特開2000-338329號公報、或國際公開第2010/100917號公報、國際公開第2010/100917號公報、或日本專利4751481號說明書或日本專利特開2012-073563號公報中所記載之薄型偏光膜。該等薄型偏光膜可藉由包括如下步驟之製法而獲得：將聚乙烯醇系樹脂(以下，亦稱作PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材以積層體之狀態進行延伸之步驟及進行染色之步驟。若為該製法，則即便PVA系樹脂層較薄，亦可藉由經延伸用樹脂基材支撐而不產生由延伸所致之斷裂等不良情況而延伸。
作為上述薄型偏光膜，就於包括以積層體之狀態進行延伸之步驟及進行染色之步驟之製法中，亦可高倍率地進行延伸而可提高偏光性能之方面而言，較佳為國際公開第2010/100917號公報、國際公開第2010/100917號公報、或日本專利4751481號說明書或日本專利特開 2012-073563號公報中所記載般之藉由包括於硼酸水溶液中進行延伸之步驟之製法而獲得者，尤其較佳為日本專利4751481號說明書或日本專利特開2012-073563號公報中所記載般之藉由包括於在硼酸水溶液中進行延伸之前輔助性地進行空中延伸之步驟之製法而獲得者。
作為構成透明保護膜之材料，例如可使用透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性、各向同性等優異之熱塑性樹脂。作為此種熱塑性樹脂之具體例，可列舉：三乙醯纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降
Figure 105110640-A0202-12-0029-7
烯系樹脂)、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、及該等之混合物。透明保護膜中亦可包含1種以上之任意之合適之添加劑。作為添加劑，例如可列舉紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護膜中之上述熱塑性樹脂之含量較佳為50~100重量%，更佳為50~99重量%，進而較佳為60~98重量%，尤佳為70~97重量%。於透明保護膜中之上述熱塑性樹脂之含量為50重量%以下之情形時，有無法充分地表現出熱塑性樹脂原本具有之高透明性等之虞。
於上述偏光元件之單側，利用接著劑層貼合有透明保護膜。對於偏光元件與透明保護膜之接著處理，可使用接著劑。作為接著劑，可例示異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯系乳膠系、水系聚酯等。上述接著劑通常係以包含水溶液之接著劑之形式使用，通常含有0.5~60重量%之固形物成分而成。除上述以外，作為偏光元件與透明保護膜之接著劑，可列舉紫外硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等。電子束硬化型偏光膜用接著劑對上述各種透明保護膜顯示出較佳之接著性。又，可使本發明中所使用之接著劑中含 有金屬化合物填料。
3.圖像顯示裝置
本發明係關於一種圖像顯示裝置，其特徵在於至少使用1片上述附黏著劑層之偏光膜。
本發明之附黏著劑層之偏光膜可較佳地用於液晶顯示裝置等各種圖像顯示裝置之形成等。液晶顯示裝置之形成可依照先前進行。即，液晶顯示裝置通常係藉由將液晶單元等顯示面板與附黏著劑層之偏光膜、及視需要而使用之照明系統等構成零件適當組裝並組入驅動電路等而形成，本發明中，除了使用本發明之附黏著劑層之偏光膜之方面以外，並無特別限定，可依照先前。關於液晶單元，亦可使用例如TN(Twisted Nematic，扭轉向列)型或STN(Super Twisted Nematic，超扭轉向列)型、π型、VA(Vertical Aligned，垂直配向)型、IPS(In-Plane Switching，橫向電場效應)型等任意類型等任意類型者。
可形成於液晶單元等顯示面板之單側或兩側配置有附黏著劑層之偏光膜之液晶顯示裝置、或照明系統使用背光裝置或反射板者等適當之液晶顯示裝置。於此情形時，本發明之附黏著劑層之偏光膜可設置於液晶單元等顯示面板之單側或兩側。於在兩側設置光學膜之情形時，其等可相同，亦可不同。進而，於形成液晶顯示裝置時，可於適當之位置配置1層或2層以上之例如擴散層、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散片、背光裝置等適當之零件。
[實施例]
以下，藉由實施例具體地對本發明進行說明，但本發明不受該等實施例之限定。再者，各例中之份及%均係重量標準。以下，未特別規定之室溫放置條件全部為23℃65%RH。
製造例1(丙烯酸系聚合物(A-1)之製備)
於具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶中加入含有丙烯酸丁酯99份及丙烯酸4-羥基丁酯1份之單體混合物。進而，相對於上述單體混合物(固形物成分)100份，與乙酸乙酯一併加入作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈0.1份，一面緩慢地進行攪拌一面導入氮氣而進行氮氣置換後，將燒瓶內之液溫保持於60℃附近而進行7小時聚合反應。其後，於所獲得之反應液中加入乙酸乙酯，製備經調整為固形物成分濃度30%之重量平均分子量140萬之丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液。
所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量係藉由以下方法進行測定。
<(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量之測定>
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量係藉由GPC(凝膠滲透層析法)進行測定。
‧分析裝置：Tosoh公司製造之HLC-8120GPC
‧管柱：Tosoh公司製造之G7000HXL+GMHXL+GMHXL
‧管柱尺寸：各7.8mm
Figure 105110640-A0202-12-0031-8
×30cm共計90cm
‧管柱溫度：40℃
‧流量：0.8ml/min
‧注入量：100μl
‧溶離液：四氫呋喃
‧檢測器：示差折射計(RI)
‧標準試樣：聚苯乙烯
製造例2(薄型偏光膜之製作)
為了製作薄型偏光層，首先使於非晶性PET(polyethylene terephthalate，聚對苯二甲酸乙二酯)基材上將9μm厚之PVA層製膜而 成之積層體進行延伸溫度130℃之空中輔助延伸，藉此生成延伸積層體，繼而藉由對延伸積層體進行染色而生成著色積層體，進而使著色積層體於延伸溫度65℃之硼酸水中進行延伸，藉此以總延伸倍率成為5.94倍之方式與非晶性PET基材一體地延伸，生成含有4μm厚之PVA層之光學膜積層體。藉由此種2階段延伸，可生成含有厚度4μm之PVA層之光學膜積層體，該厚度4μm之PVA層構成製膜於非晶性PET基材上之PVA層之PVA分子經高次地配向、且藉由染色而吸附之碘以多碘離子錯合物之形式朝一個方向高次地配向之高功能偏光層。進而，一面於該光學膜積層體之偏光層之表面上塗佈聚乙烯醇系接著劑，一面貼合經皂化處理之厚40μm之三乙醯纖維素膜後，將非晶性PET基材剝離，製作使用薄型偏光層之薄型偏光膜。
實施例1
(黏著劑組合物之製備)
相對於製造例1中所獲得之丙烯酸系聚合物(A-1)溶液之固形物成分100份，調配作為鎓-陰離子鹽(B1)之乙基甲基吡咯啶鎓-雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(東京化成工業(股)製造)0.7份、作為鹼金屬鹽(B2)之鋰雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(Mitsubishi Materials Electronic Chemicals(股)製造)1份，進而調配作為交聯劑(D)之三羥甲基丙烷苯二甲基二異氰酸酯(商品名：Takenate D110N，三井化學(股)製造)0.095份與過氧化二苯甲醯(商品名：Nyper BMT40SV，日本油脂(股)製造)0.3份、作為硫醇系矽烷偶合劑(C1)之含甲基及巰基之烷氧基矽烷基樹脂(商品名：X-41-1810，信越化學工業(股)製造)0.2份、作為含乙醯乙醯基之矽烷偶合劑(C2)之含乙醯乙醯基之矽烷偶合劑(商品名：A-100，綜研化學(股)製造)0.2份，製備丙烯酸系黏著劑溶液。
(附黏著劑層之偏光膜之製作)
繼而，利用噴注式塗佈機將上述丙烯酸系黏著劑溶液均勻地塗佈於經聚矽氧系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜(隔離膜)之表面上，利用155℃之空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘，於隔離膜之表面上形成厚度20μm之黏著劑層。繼而，將形成於隔離膜上之黏著劑層轉印至製造例2中所製作之薄型偏光膜之偏光元件之偏光層之側，製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例2~10、比較例1~11
於實施例1中，於製備黏著劑組合物時，如表1所示般變更鎓-陰離子鹽(B1)、鹼金屬鹽(B2)之添加量、及矽烷偶合劑之種類及其添加量，除此以外，以與實施例1同樣之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
對上述實施例及比較例中所獲得之附黏著劑層之偏光膜進行以下之評價。將評價結果示於表1。
<表面電阻值>
將實施例、比較例中所獲得之附黏著劑層之偏光膜之隔離膜剝離後，使用Mitsubishi Chemical Analytech(股)製造之MCP-HT450對黏著劑表面之表面電阻值(Ω/□)進行測定。表面電阻值較佳為未達1.0×1011Ω/□，較佳為9.0×1010Ω/□以下，更佳為5.0×1010Ω/□以下。
<液晶面板之白色消失時間>
將實施例、比較例中所獲得之附黏著劑層之偏光膜切斷為100mm×100mm之大小，貼附於液晶面板上。將該面板置於具有10000cd之亮度之背光裝置上，使用作為靜電產生裝置之ESD(Electrostatic discharge，靜電放電)(ESD-8012A，SANKI公司製造)產生5kV、15kV之靜電，藉此引起液晶之配向混亂。使用瞬間多通道測光檢測器(MCPD-3000，大塚電子(股)製造)測定由該配向不良所致之顯示不良 之恢復時間(秒)。顯示不良之恢復時間較佳為於5kV、15kV之情形時均為10秒以下，更佳為5秒以下。
<接著耐久性>
將實施例、比較例中所獲得之附黏著劑層之偏光膜之隔離膜剝離，使用貼合機貼附於厚度0.7mm之無鹼玻璃(Corning公司製造之1737)上。繼而，於50℃、5atm下進行15分鐘之高壓釜處理，使上述附黏著劑層之偏光膜完全密接於無鹼玻璃。繼而，將其分別投入至85℃之加熱烘箱(加熱)及60℃/95%RH之恆溫恆濕機(加濕)之條件下，以下述標準評價500小時後之偏光膜之剝離之有無。又，將上述無鹼玻璃變更為ITO玻璃(商品名：IT20-N-ES160-60，Geomatec(股)製造)，進行同樣之評價。
◎：完全未觀察到剝離。
○：觀察到無法以目測確認之程度之剝離。
△：觀察到能夠以目測確認之較小之剝離。
×：觀察到明顯之剝離。
<外觀>
對於實施例、比較例中所獲得之附黏著劑層之偏光膜，以目測確認結晶之析出之有無，根據以下之評價標準進行評價。將評價結果示於表1。
○：未觀察到結晶之析出。
×：觀察到結晶析出。
Figure 105110640-A0202-12-0035-1
表1中，(C2)表示含乙醯乙醯基之矽烷偶合劑(商品名：A-100，綜研化學(股)製造)，(C3)表示γ-縮水甘油氧基丙基甲氧基矽烷(商品名：KBM-403，信越化學工業(股)製造)，(C4)表示含環氧基之矽烷偶合劑(商品名：X-41-1056，信越化學工業(股)製造)。

Claims (11)

  1. 一種偏光膜用黏著劑組合物，其特徵在於：含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)、鎓-陰離子鹽(B1)、鹼金屬鹽(B2)及硫醇系矽烷偶合劑(C1)，上述鹼金屬鹽(B2)係相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份而含有0.4~3.5重量份，上述鹼金屬鹽(B2)與鎓-陰離子鹽(B1)之重量比(B2/B1)為1.2~3.0(其中，不包含3.0)。
  2. 如請求項1之偏光膜用黏著劑組合物，其中相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，上述硫醇系矽烷偶合劑(C1)為0.001~5重量份。
  3. 如請求項1之偏光膜用黏著劑組合物，其中相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，上述鎓-陰離子鹽(B1)為0.1~1.5重量份。
  4. 如請求項1之偏光膜用黏著劑組合物，其進而含有交聯劑(D)。
  5. 如請求項4之偏光膜用黏著劑組合物，其中上述交聯劑(D)係相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份而含有0.01~20重量份。
  6. 如請求項4之偏光膜用黏著劑組合物，其中上述交聯劑(D)係選自由異氰酸酯系化合物、及過氧化物所組成之群中之至少1種交聯劑。
  7. 如請求項1至6中任一項之偏光膜用黏著劑組合物，其進而含有含乙醯乙醯基之矽烷偶合劑(C2)。
  8. 一種偏光膜用黏著劑層，其特徵在於包含如請求項1至7中任一項之偏光膜用黏著劑組合物。
  9. 一種附黏著劑層之偏光膜，其特徵在於：其係具有偏光膜、及 設置於該偏光膜上之黏著劑層者；上述偏光膜僅於偏光元件之單側具有透明保護膜，上述黏著劑層係設置於上述偏光元件之不具有上述透明保護膜之面上，且上述黏著劑層係如請求項8之偏光膜用黏著劑層。
  10. 如請求項9之附黏著劑層之偏光膜，其中上述偏光元件之厚度為10μm以下。
  11. 一種圖像顯示裝置，其特徵在於使用至少1片如請求項9或10之附黏著劑層之偏光膜。
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