TWI634176B - Polarizing film, laminated body and image display device with adhesive layer - Google Patents

Polarizing film, laminated body and image display device with adhesive layer Download PDF

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TWI634176B
TWI634176B TW103122410A TW103122410A TWI634176B TW I634176 B TWI634176 B TW I634176B TW 103122410 A TW103122410 A TW 103122410A TW 103122410 A TW103122410 A TW 103122410A TW I634176 B TWI634176 B TW I634176B
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Abstract

本發明之目的在於提供一種附黏著劑層之偏光膜，其即便於積層於透明導電層上之情形時，亦抑制上述透明導電層之腐蝕，而可抑制上述透明導電層之表面電阻值上升。又，本發明之目的亦在於提供一種將上述附黏著劑層之偏光膜與具有透明導電層之基材貼合而成之積層體、將上述附黏著劑層之偏光膜與具有透明導電層之液晶面板貼合而成之圖像顯示裝置、使用上述積層體作為觸控面板之圖像顯示裝置。本發明係一種附黏著劑層之偏光膜，其特徵在於：於含有碘及/或碘離子之碘系偏光元件之至少單面具有透明保護膜的碘系偏光膜之至少一面，具有由含有磷酸系化合物及(甲基)丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑組合物所形成之黏著劑層，該磷酸系化合物係選自由下述通式(1)：
(式中，R1及R2分別獨立地表示氫原子或可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基)所表示之化合物及上述通式(1)所表示之化合物之多聚物 所組成之群中之1種以上。

Description

附黏著劑層之偏光膜、積層體及圖像顯示裝置
本發明係關於一種附黏著劑層之偏光膜。又，本發明係關於一種將上述附黏著劑層之偏光膜與具有透明導電層之基材貼合而成之積層體、將上述附黏著劑層之偏光膜與具有透明導電層之液晶面板貼合而成之圖像顯示裝置、使用上述積層體作為觸控面板之圖像顯示裝置。
近年來，於各種用途中業界廣泛使用氧化銦錫(ITO)薄膜等透明導電膜。例如已知將上述透明導電膜形成於使用有橫向電場效應(IPS，In-Plane Switching)方式等之液晶單元的液晶顯示裝置的構成液晶單元之透明基板之與接觸液晶層之側相反之側而作為抗靜電層。又，於透明樹脂膜上形成有上述透明導電膜之透明導電性膜係用於觸控面板之電極基板，例如將用於行動電話或攜帶用音樂播放器等中之液晶顯示裝置或圖像顯示裝置與該觸控面板組合而使用之輸入裝置逐漸廣泛普及。
作為將觸控面板與圖像顯示裝置組合而使用之輸入裝置，先前將於包含玻璃板或透明樹脂膜之透明基材上形成有透明導電層之透明導電性膜設置於液晶顯示裝置上(液晶顯示裝置之視認側偏光膜的上側)的外掛(Out-Cell)型得到廣泛普及，但近年來，已知有將包含透明導電膜之電極形成於液晶單元之上玻璃基板上的外嵌(On-Cell)型、將包含透明導電膜之電極組入至液晶單元內部之形態的內嵌(In-Cell)型 等各種構成。又，亦已知藉由以作為圖像顯示裝置之抗靜電層之ITO層作為觸控感測器並將其圖案化而實現觸控面板功能。
對於該等使用有透明導電膜之液晶顯示裝置或圖像顯示裝置等，近年來對輕量化、薄型化之要求強烈，對於該液晶顯示裝置等中所使用之偏光膜亦要求薄型化、輕量化。作為偏光膜之薄型化、輕量化方法，例如已知有僅於偏光元件之單面設置透明保護膜而作為單面保護偏光膜之方法、或使偏光元件自身之膜厚變薄的薄型偏光膜之製造方法等。
作為薄型偏光膜之製造方法，已知有於連續網狀之非晶質酯系熱塑性樹脂基材上製成包含配向有碘之聚乙烯醇系樹脂之薄型偏光膜的光學膜積層體之製造方法(例如參照專利文獻1、2)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第4751481號說明書
[專利文獻2]日本專利第4691205號說明書
例如於使用透明導電膜作為抗靜電層用途之情形時，通常於具有該抗靜電層之液晶單元上積層附黏著劑層之偏光膜，經由黏著劑層而使包含透明導電膜之抗靜電層與偏光膜貼合。又，於使用透明導電膜作為觸控面板之電極用途之情形時，根據觸控面板之構成，有時於上述電極用透明導電膜上積層附黏著劑層之偏光膜，經由黏著劑層而使包含透明導電膜之抗靜電層與偏光膜貼合。
於偏光膜為碘系偏光膜之情形時，如上述般使透明導電層與該碘系偏光膜貼合，若進行加濕耐久試驗(通常之耐久試驗)，則有時透明導電層之電阻值會上升。已知上述電阻值上升之原因在於，偏光元 件中所含之碘滲出至黏著劑層，該碘到達透明導電層而腐蝕透明導電層。
例如關於專利文獻1、2中所記載之厚度10μm以下之薄型碘系偏光元件，已知為了具有與先前之偏光元件同樣的偏光特性而必須提高偏光元件中之碘濃度，於將包含上述碘濃度較高之偏光元件之偏光膜與透明導電層貼合之情形時，容易產生透明導電層之由碘引起之腐蝕。又，已知於使用單面保護之碘系偏光膜之情形時，直接經由黏著劑層而將透明導電層貼合於碘系偏光元件上，因而亦容易產生透明導電層之腐蝕。
因此，本發明之目的在於提供一種附黏著劑層之偏光膜，其即便於積層於透明導電層上之情形時，亦抑制上述透明導電層之腐蝕，而可抑制上述透明導電層之表面電阻值上升。又，本發明之目的亦在於提供一種將上述附黏著劑層之偏光膜與具有透明導電層之基材貼合而成之積層體、將上述附黏著劑層之偏光膜與具有透明導電層之液晶面板貼合而成之圖像顯示裝置、使用上述積層體作為觸控面板之圖像顯示裝置。
本發明者等人為了解決上述問題而進行努力研究，結果發現藉由使用由含有磷酸系化合物及(甲基)丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑組合物所形成之黏著劑層，可達成上述目的，從而完成本發明。
即，本發明係關於一種附黏著劑層之偏光膜，其特徵在於：於含有碘及/或碘離子之碘系偏光元件之至少單面具有透明保護膜的碘系偏光膜之至少一面，具有由含有磷酸系化合物及(甲基)丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑組合物所形成之黏著劑層，該磷酸系化合物係選自由下述通式(1)：
(式中，R1及R2分別獨立地表示氫原子或可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基)
所表示之化合物及上述通式(1)所表示之化合物之多聚物所組成之群中之1種以上。此處，所謂「含有碘及/或碘離子之碘系偏光元件」係指含有碘之碘系偏光元件、含有碘離子之碘系偏光元件、含有碘及碘離子兩者之碘系偏光元件，於本發明中，可適宜地使用任一者。
上述碘系偏光元件中之碘及/或碘離子之含量可為1~14重量%，亦可為3~12重量%。
較佳為上述磷酸系化合物係包含磷酸且包含選自由通式(1)之R1及R2中之任一者為氫原子而另一者為可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基的磷酸單酯及通式(1)之R1及R2為可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基的磷酸二酯所組成之群中之1種以上之磷酸酯的混合物。
較佳為上述磷酸系化合物係包含磷酸及磷酸單酯之混合物。又，較佳為磷酸及磷酸單酯之合計量於磷酸系化合物100重量%中為80重量%以上。
較佳為上述碳數1~18之烴殘基為碳數1~10之直鏈或支鏈之烷基。
較佳為上述碘系偏光膜僅於上述碘系偏光元件之單側具有透明保護膜之單面保護偏光膜，且上述黏著劑層與上述單面保護偏光膜之不具有透明保護膜之面接觸。
較佳為上述碘系偏光元件之厚度為10μm以下。
較佳為上述碘系偏光膜之總厚度為80μm以下。
又，較佳為以上述附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層與具有透明導電層之基材之透明導電層接觸之方式進行貼合而使用。
較佳為上述磷酸系化合物之添加量相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份而為0.001~4重量份。
較佳為上述(甲基)丙烯酸系聚合物含有(甲基)丙烯酸烷基酯及含羥基之單體作為單體單元。
較佳為含羥基之單體為丙烯酸4-羥基丁酯。
較佳為(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為120萬~300萬。
較佳為上述丙烯酸系黏著劑組合物進而含有交聯劑，更佳為交聯劑為選自由過氧化物系交聯劑及異氰酸酯系交聯劑所組成之群中之1種以上之交聯劑。
較佳為上述丙烯酸系黏著劑組合物進而含有離子性化合物。
又，本發明係關於一種積層體，其特徵在於：使上述附黏著劑層之偏光膜與具有透明導電層之透明導電性構件以上述附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層與上述構件之透明導電層接觸之方式進行貼合。
較佳為上述透明導電層係由氧化銦錫所形成，更佳為上述氧化銦錫為非晶質之氧化銦錫。
又，本發明係關於一種圖像顯示裝置，其特徵在於：使上述附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層與具有透明導電層之液晶面板以上述附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層與上述液晶面板之透明導電層接觸之方式進行貼合。
進而，本發明係關於一種圖像顯示裝置，其特徵在於：使用上述積層體作為觸控面板。
本發明之附黏著劑層之偏光膜雖然使用碘系偏光元件，但即使於該附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層上積層有透明導電層之情形時，亦抑制透明導電層之腐蝕，而可抑制透明導電層之表面電阻上升。其原因在於，本發明之附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層包含磷酸系化合物。具體而言，認為其原因在於，例如於磷酸系化合物包含磷酸之情形時，於透明導電層表面會由磷酸及透明導電層中之金屬離子形成鈍態皮膜，其結果為，偏光元件中之碘不會轉移至透明導電層表面，而防止透明導電層之腐蝕。又，認為其原因在於，於磷酸系化合物為磷酸化合物(例如磷酸酯等)之情形時，該磷酸化合物會選擇性地吸附於透明導電層表面而形成覆膜，其結果為，偏光元件中之碘不會轉移至透明導電層表面，而防止透明導電層之腐蝕。
1‧‧‧偏光膜
2‧‧‧黏著劑層
3‧‧‧抗靜電層
4‧‧‧玻璃基板
5‧‧‧液晶層
6‧‧‧驅動電極
7‧‧‧兼作抗靜電層之感測層
8‧‧‧兼作驅動電極之感測層
9‧‧‧感測層
圖1係模式性地表示本發明之圖像顯示裝置之一實施形態的剖面圖。
圖2係模式性地表示本發明之圖像顯示裝置之一實施形態的剖面圖。
圖3係模式性地表示本發明之圖像顯示裝置之一實施形態的剖面圖。
1.附黏著劑層之偏光膜
本發明之附黏著劑層之偏光膜之特徵在於：於含有碘及/或碘離子之碘系偏光元件之至少單面具有透明保護膜的碘系偏光膜之至少一面，具有由含有磷酸系化合物及(甲基)丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑組合物所形成之黏著劑層，該磷酸系化合物係選自由下述通式 (1)：
(式中，R1及R2分別獨立地表示氫原子或可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基)
所表示之化合物及上述通式(1)所表示之化合物之多聚物所組成之群中之1種以上。
(1)碘系偏光膜
本發明中使用之碘系偏光膜係於含有碘及/或碘離子之碘系偏光元件之至少單面具有透明保護膜者。於本發明中，可為於碘系偏光元件之單面具有透明保護膜之單面保護偏光膜，亦可為於碘系偏光元件之雙面具有透明保護膜之雙面保護偏光膜，於使用單面保護偏光之情形時，本發明之效果顯著。又，即便為雙面保護偏光膜，於與黏著劑層接觸之側之透明保護膜之厚度較薄(例如25μm以下)之情形時，本發明之效果亦顯著。再者，於偏光膜為單面保護偏光膜之情形時，黏著劑層可直接設置於不具有上述透明保護膜之側之偏光元件表面。
作為碘系偏光元件，只要為含有碘及/或碘離子之偏光元件，則可使用任何者，例如可列舉：使碘吸附於聚乙烯醇(PVA，Polyvinyl alcohol)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜上並進行單軸延伸而成者等。該等之中，較佳為包含PVA系膜及碘之偏光元件。該等偏光元件之厚度並無特別限定，通常為5~80μm之程度。
以碘對PVA系膜進行染色並進行單軸延伸而成之偏光元件例如可 藉由如下方式製作：藉由將PVA浸漬於碘之水溶液中進行染色，延伸至原長度之3~7倍。視需要亦可浸漬於可包含硼酸、硫酸鋅或氯化鋅等的碘化鉀等之水溶液中。進而視需要亦可於染色前將PVA系膜浸漬於水中而進行水洗。藉由對PVA系膜進行水洗，可將PVA系膜表面之污垢或抗黏連劑洗淨，此外，藉由使PVA系膜膨潤，亦有防止染色不均等不均之效果。延伸可於利用碘進行染色後進行，亦可一面染色一面延伸，又，亦可於延伸後利用碘進行染色。亦可於硼酸或碘化鉀等之水溶液或水浴中進行延伸。
又，於本發明中，亦可適宜地使用厚度為10μm以下之薄型碘系偏光元件。就薄型化之觀點而言，該厚度較佳為1~7μm。此種薄型碘系偏光元件由於厚度不均較少，而視認性優異，又，由於尺寸變化較少而耐久性優異，進而作為偏光膜而言其厚度於謀求薄型化方面較佳。
作為薄型偏光元件，代表性而言，可列舉日本專利特開昭51-069644號公報、日本專利特開2000-338329號公報、國際公開第2010/100917號手冊、國際公開第2010/100917號手冊或日本專利4751481號說明書或者日本專利特開2012-073563號公報中所記載之薄型偏光膜。該等薄型偏光膜可藉由包括於積層體之狀態下對PVA系樹脂層及延伸用樹脂基材進行延伸之步驟及染色之步驟的製造方法而獲得。根據該製造方法，即便PVA系樹脂層較薄，亦可藉由被延伸用樹脂基材所支持而於並無由延伸所引起之斷裂等不良情形之情況下進行延伸。
作為上述薄型偏光膜，就於包括在積層體之狀態下進行延伸之步驟及染色之步驟的製造方法中，可延伸至高倍率而提昇偏光性能之方面而言，較佳為藉由如國際公開第2010/100917號手冊、國際公開第2010/100917號手冊或日本專利4751481號說明書或者日本專利特開 2012-073563號公報中所記載之包括在硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製造方法而獲得者，尤佳為藉由日本專利4751481號說明書或日本專利特開2012-073563號公報中所記載之包括在硼酸水溶液中進行延伸前輔助性地進行空中延伸之步驟的製造方法而獲得者。
又，本發明中使用之碘系偏光元件之碘及/或碘離子之含量(以下，有時亦稱為碘含量)於偏光元件中可為1~14重量%，亦可為3~12重量%，亦可為4~7.5重量%。本發明之附黏著劑層之偏光膜即便碘系偏光元件中之碘含量如上述範圍般較多，亦可抑制積層於該附黏著劑層之偏光膜上的透明導電層之表面電阻上升。認為其原因在於，藉由黏著劑層中所含之磷酸系化合物而於透明導電層表面形成覆膜，故而碘系偏光膜中所含之碘不會轉移至透明導電層表面，其結果為，防止透明導電層之腐蝕。具體而言，於上述磷酸系化合物包含磷酸之情形時，該磷酸於透明導電層表面會與透明導電層中之金屬離子形成鈍態皮膜，於上述磷酸系化合物包含磷酸化合物(例如磷酸酯等)之情形時，該磷酸化合物可選擇性地吸附於透明導電層表面而形成覆膜。
作為形成設置於上述碘系偏光元件之單面或雙面之透明保護膜的材料，較佳為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性、等向性等優異者。例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物、二乙醯纖維素或三乙醯纖維素等纖維素系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯或丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物、聚碳酸酯系聚合物等。又，作為形成上述透明保護膜之聚合物之例，亦可列舉：聚乙烯、聚丙烯、具有環系或降烯結構之聚烯烴、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏二氯乙烯系聚合物、乙烯丁醛系聚合 物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或上述聚合物之摻合物等。透明保護膜亦可以丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型、紫外線硬化型樹脂之硬化層之形式形成。
保護膜之厚度可適當地決定，通常就強度或操作性等作業性、薄膜性等方面而言，為1~500μm之程度。
上述碘系偏光元件與透明保護膜通常經由水系接著劑等而密接。作為水系接著劑，可例示異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯系乳膠系、水系聚胺基甲酸酯、水系聚酯等。除上述以外，作為偏光元件與透明保護膜之接著劑，亦可列舉紫外線硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等。電子束硬化型偏光膜用接著劑對於上述各種透明保護膜顯示出適宜之接著性。又，於本發明中使用之接著劑中，可含有金屬化合物填料。
對於上述透明保護膜之未接著碘系偏光元件之面，亦可實施硬塗層或抗反射處理、抗黏處理或者以擴散或抗眩為目的之處理。
為了應對附黏著劑層之偏光膜之薄型化要求，本發明中使用之碘系偏光膜之總厚度較佳為80μm以下，更佳為70μm以下，進而較佳為60μm以下。作為偏光膜之總厚度之下限，並無特別限定，例如可列舉10μm。
(2)黏著劑層
本發明之附黏著劑層之偏光膜所使用之黏著劑層係由丙烯酸系黏著劑組合物所形成。丙烯酸系黏著劑組合物含有選自由下述通式(1)：[化3]
(式中，R1及R2分別獨立地表示氫原子或可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基)
所表示之化合物及上述通式(1)所表示之化合物之多聚物所組成之群中之磷酸系化合物及(甲基)丙烯酸系聚合物。
作為上述磷酸系化合物，如下所述，可列舉磷酸、磷酸酯或者該等之鹽、二聚物或三聚物等。以下，對該等進行詳細說明。
通式(1)中，R1及R2分別獨立為氫原子或可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基。作為可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基，可列舉碳數1~18之烷基、碳數1~18之烯基、碳數6~18之芳基、-(CH2CH2O)nR3(R3為碳數1~18之烷基、碳數1~18之烯基或碳數6~18之芳基，n為0~15之整數)等。又，烷基、烯基可為直鏈狀，亦可為支鏈狀。該等之中，作為上述碳數之1~18之烴殘基，較佳為碳數1~10之直鏈或支鏈之烷基、碳數6~18之芳基，更佳為碳數2~6之直鏈或支鏈之烷基。
於本發明中，亦可適宜地使用通式(1)之R1及R2均為氫原子之磷酸(H3PO4)。又，亦可適宜地使用上述磷酸之鹽(鈉、鉀及鎂等金屬之鹽、銨鹽等)。
又，於本發明中，通式(1)所表示之化合物較佳為酸性磷酸酯。此處，所謂酸性磷酸酯係指通式(1)之R1及R2均為可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基的情形(二酯體)，或者R1、R2中之任一者為氫原子而另一者為可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基的情形(單酯體)，例如可列舉以下之通式(2)：[化4]
(式中，R1與上述相同，R3為碳數1~18之烷基、碳數1~18之烯基或碳數6~18之芳基，n為0~15之整數)
所表示之磷酸酯系化合物。
通式(2)之R1與通式(1)之R1相同，為氫原子或可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基。作為可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基，可列舉與上述相同者。作為通式(2)之R1，較佳為氫原子、碳數1~18之直鏈或支鏈之烷基或碳數6~18之芳基，更佳為氫原子或碳數1~10之直鏈或支鏈之烷基，進而較佳為氫原子或碳數2~6之直鏈或支鏈之烷基。作為R3，可列舉碳數1~18之烷基、碳數1~18之烯基或碳數6~18之芳基，較佳為碳數1~18之烷基、碳數6~18之芳基，更佳為碳數1~10之烷基，進而較佳為碳數2~6之烷基。又，n為0~15之整數，較佳為0~10之整數。又，於本發明中，就抗劣化之觀點而言，較佳為不包含聚環氧乙烷結構(CH2CH2O)(即，式(2)中，n=0)。
作為通式(2)所表示之磷酸酯系化合物，就對被黏著體之吸附效果之觀點而言，較佳為R1為氫原子且R3為碳數1~18之直鏈或支鏈之烷基之磷酸單酯，更佳為R1為氫原子且R3為碳數1~10之直鏈或支鏈之烷基之磷酸單酯，進而較佳為R1為氫原子且R3為碳數2~6之直鏈或支鏈之烷基之磷酸單酯。
又，於本發明中，可將2種以上之通式(2)所表示之化合物混合而使用，又，亦可使用通式(2)所表示之化合物與上述磷酸之混合物。又，一般而言，通式(2)所表示之磷酸酯系化合物於多數情況下係以 單酯與二酯之混合物之形式獲得，較佳為於上述單酯與二酯之混合物中進而添加上述磷酸而使用。
於本發明中，亦可適宜地使用通式(2)所表示之化合物之鹽(鈉、鉀及鎂等金屬之鹽、銨鹽等)。
作為上述通式(2)所表示之磷酸酯系化合物之市售品，可列舉：東邦化學工業(股份)製造之「Phosphanol SM-172」(通式(2)之R1=R3=C8H17、n=0、單酯-二酯混合物、酸值：219mgKOH/g)、「Phosphanol GF-185」(通式(2)之R1=R3=C13H27、n=0、單酯-二酯混合物、酸值：158mgKOH/g)、「Phosphanol BH-650」(通式(2)之R1=R3=C4H9、n=1、單酯-二酯混合物、酸值：388mgKOH/g)、「Phosphanol RS-410」(通式(2)之R1=R3=C13H27、n=4、單酯-二酯混合物、酸值：105mgKOH/g)、「Phosphanol RS-610」(通式(2)之R1=C13H27、R3=C13H27、n=6、單酯-二酯混合物、酸值：82mgKOH/g)、「Phosphanol RS-710」(通式(2)之R1=C13H27、R3=C13H27、n=10、單酯-二酯混合物、酸值：62mgKOH/g)、「Phosphanol ML-220」(通式(2)之R1=R3=C12H25、n=2、單酯-二酯混合物)、「Phosphanol ML-200」(通式(2)之R1=R3=C12H25、n=0、單酯-二酯混合物)、「Phosphanol ED-200」(通式(2)之R1=R3=C8H17、n=1、單酯-二酯混合物)、「Phosphanol RL-210」(通式(2)之R1=R3=C18H37、n=2、單酯-二酯混合物)、「Phosphanol GF-339(通式(2)之R1=R3=C6H13~C10H21之混合、n=0、單酯-二酯混合物)、「Phosphanol GF-199」(通式(2)之R1=R3=C12H25、n=0、單酯-二酯混合物)、「Phosphanol RL-310」(通式(2)之R1=R3=C18H37、n=3、單酯-二酯混合物)、「Phosphanol LP-700」(通式(2)之R1=R3=C6H5、n=6、單酯-二酯混合物)、大八化學工業(股份)製造之「AP-1」(通式(2)之R1=R3=CH3、n=0、單酯-二酯混合物、酸值：650mgKOH/g 以上)、「AP-4」(通式(2)之R1=R3=C4H9、n=0、單酯-二酯混合物、酸值：452mgKOH/g)、「DP-4」(通式(2)之R1=R3=C4H9、n=0、單酯-二酯混合物、酸值：292mgKOH/g)、「MP-4」(通式(2)之R1=H、R3=C4H9、n=0、單酯-二酯混合物、酸值：670mgKOH/g)、「AP-8」(通式(2)之R1=R3=C8H17、n=0、單酯-二酯混合物、酸值：306mgKOH/g)、「AP-10」(通式(2)之R1=R3=C10H21、n=0、單酯-二酯混合物、酸值：263mgKOH/g)、「MP-10」(通式(2)之R1=H、R3=C10H21、n=0、單酯-二酯混合物、酸值：400mgKOH/g)、城北化學(股份)製造之「JP-508」(通式(2)之R1=R3=C8H17、n=0、單酯-二酯混合物、酸值：288mgKOH/g)、「JP-513」(通式(2)之R1=R3=C13H27、n=0、單酯-二酯混合物)、「JP-524R」(通式(2)之R1=R3=C24H49、n=0、單酯-二酯混合物)、「DBP」(通式(2)之R1=R3=C4H9、n=0、單酯-二酯混合物、酸值：266mgKOH/g)、「LB-58」(通式(2)之R1=R3=C8H17、n=0、二酯體、酸值：173mgKOH/g)、日光化學(股份)製造之「Nikkol DDP-2」(通式(2)之R1=R3=C12H25~C15H31之混合物、n=2)、SIGMA-ALDRICH製造之磷酸單正丁酯(O=P(OH)2(OC4H9)、通式(2)之R1=H、R3=C4H9、n=0、製品編號：CDS001281、單酯體)等及該等之鹽。再者，所謂上述「單酯-二酯混合物」係指單酯(通式(2)之R1=H)與二酯(通式(2)之R1=可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基)之混合物，例如於為Phosphanol SM-172之情形時係指單酯(通式(2)之R1=H、R3=C8H17、n=0)與二酯(通式(2)之R1=R3=C8H17、n=0)之混合物。上述「單酯-二酯混合物」之單酯與二酯之混合比率可根據31P-NMR之測定結果而算出。測定方法係如實施例所記載。
作為本發明中使用之磷酸系化合物，選自由通式(1)所表示之化合物(或通式(2)所表示之化合物)或者該等之鹽或多聚物所組成之群中 之化合物可單獨使用1種，亦可將2種以上混合而使用，就對被黏著體(尤其是具有金屬或金屬氧化物或者包含金屬或金屬氧化物之層的被黏著體)之吸附效果之觀點而言，較佳為選自由磷酸、磷酸單酯及磷酸二酯所組成之群中之2種以上之混合物，更佳為包含磷酸且包含選自由磷酸單酯及磷酸二酯所組成之群中之1種以上之磷酸酯的混合物，尤佳為包含磷酸單酯及磷酸之混合物。於本發明中，亦可單獨使用選自由磷酸、磷酸單酯及磷酸二酯所組成之群中之1種，但若單獨使用磷酸，則有時黏著劑組合物之適用期變得不充分。又，磷酸為極性非常高之化合物，與丙烯酸系聚合物之相溶性不充分，故而磷酸會滲出至黏著劑層表面，其結果為，有時於耐久性之方面產生問題。又，若不使用磷酸而僅使用磷酸酯(磷酸單酯及/或磷酸二酯)，則有時於非常嚴酷之條件下之耐久性(例如熱循環試驗等)方面產生問題。於本發明中，就透明導電層之腐蝕之抑制與非常嚴酷之條件下之耐久性的平衡之觀點而言，最佳為使用包含磷酸及磷酸單酯之磷酸系化合物。又，磷酸及磷酸單酯之合計量並無特別限定，較佳為於磷酸系化合物100重量%中為80重量%以上。此處，所謂磷酸單酯係指通式(1)之R1及R2中之任一者為氫原子而另一者為可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基的化合物(於通式(2)之情形時，係R1為氫原子之化合物)，所謂磷酸二酯係指通式(1)之R1及R2為可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基的化合物(於通式(2)之情形時，係R1為可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基的化合物)。
關於對上述被黏著體(尤其是金屬或金屬氧化物)之吸附效果，認為被黏著面與磷酸系化合物係由HSAB法則(Hard and Soft Acids and bases，軟硬酸鹼規則)所定義、即與「硬及軟之酸鹼之法則」相關，藉由於硬酸中組合硬鹼並於軟酸中組合軟鹼而吸附效果較高，其結果為，認為獲得較高之抗劣化效果。即，例如ITO之In符合HSAB法則所 定義之硬酸，磷酸系化合物係按照磷酸、磷酸單酯、磷酸二酯之順序自硬鹼成為軟鹼，故而可按照上述順序有效地吸附於ITO上，其結果為，認為獲得較高之抗劣化效果。
又，於使用單酯體與二酯體之混合物之情形時，較佳為包含較多單酯體之混合物。上述單酯體與二酯體之混合物之混合比率(重量比)較佳為單酯體：二酯體=6：4~9：1，更佳為7：3~9：1。基於上述原因，藉由包含較多單酯體而對被黏著體之吸附效果較高，故而較佳。
又，如上所述，於本發明中，較佳為於磷酸酯系化合物(尤其是磷酸單酯)中進而添加磷酸，該情形時之磷酸之添加量相對於磷酸酯系化合物100重量份而較佳為10~400重量份，更佳為10~100重量份，就對被黏著體之吸附效果之觀點而言，較佳為10~50重量份。又，就非常嚴酷之條件下之耐久性之觀點而言，磷酸之添加量相對於磷酸酯系化合物100重量份而較佳為10~100重量份，更佳為10~50重量份。
又，本發明中使用之磷酸化合物之酸值較佳為900mgKOH/g以下，更佳為50~800mgKOH/g，較佳為10~700mgKOH/g。又，就生產上之操作性之觀點而言，上述磷酸化合物之酸值較佳為400mgKOH/g以下，更佳為50~400mgKOH/g，進而較佳為50~350mgKOH/g，尤佳為100~300mgKOH/g。磷酸化合物根據下述交聯劑之種類(例如異氰酸酯系交聯劑)而有時作為交聯反應之反應觸媒而發揮作用，於該情形時，有作為黏著劑時之適用期變短之情形。藉由將磷酸化合物之酸值設為上述範圍，可抑制作為反應觸媒之作用，故而就黏著劑之適用期之觀點而言較佳。又，就可有效率地發揮效果之觀點而言，較佳為以下述添加量添加具有上述範圍之酸值的磷酸化合物。
又，作為上述通式(1)所表示之化合物之多聚物，可列舉上述通式(1)所表示之化合物之二聚物、三聚物等。
上述磷酸系化合物之添加量相對於下述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份而較佳為0.001~4重量份，更佳為0.001~3重量份，進而較佳為0.001~2重量份，尤佳為0.005~1重量份，進而較佳為0.01~1重量份，尤佳為0.02~0.2重量份。藉由磷酸系化合物之添加量為上述範圍內，可抑制透明導電層之表面電阻值之上升，且可提昇對加熱、加濕之耐久性，故而較佳。又，於本發明中，可如上述般併用磷酸、磷酸酯等磷酸化合物，於該情形時，可以合計量成為上述範圍之方式添加。
於本發明中，藉由形成具有由包含上述磷酸系化合物之丙烯酸系黏著劑組合物所形成之黏著劑層附黏著劑層之偏光膜，即便於附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層面積層透明導電層，亦可抑制透明導電層之表面電阻上升。認為其原因在於，於上述磷酸系化合物中包含磷酸之情形時，該磷酸於透明導電層表面會與透明導電層中之金屬離子形成鈍態皮膜，偏光元件中之碘不會轉移至透明導電層表面，其結果為，防止透明導電層之腐蝕，又，認為其原因在於，於上述磷酸系化合物含有磷酸化合物(例如磷酸酯等)之情形時，該磷酸化合物會選擇性地吸附於透明導電層表面而形成覆膜，故而偏光元件中之碘不會轉移至透明導電層表面，其結果為，防止透明導電層之腐蝕。
關於此處言及之腐蝕，就金屬氧化物而言係藉由與通常已知之金屬腐蝕不同之機制而引起腐蝕。於為如ITO之金屬氧化物之情形時，來自偏光元件之碘滲入至金屬氧化物層中而降低金屬氧化物之載子遷移率，故而產生電阻值之上升。
本發明係可對如上所述之金屬氧化物之腐蝕表現優異之腐蝕抑制效果者，尤其是可對包含金屬氧化物之透明導電層發揮更良好效果 者。
作為本發明中使用之(甲基)丙烯酸系聚合物，並無特別限定，例如較佳為使含有(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分聚合而獲得者，較佳為使含有(甲基)丙烯酸烷基酯及含羥基之單體的單體成分聚合而獲得者。再者，(甲基)丙烯酸烷基酯係指丙烯酸烷基酯及/或甲基丙烯酸烷基酯，含義與本發明之(甲基)相同。
作為(甲基)丙烯酸烷基酯之烷基，可使用直鏈狀或支鏈狀之各種烷基。作為上述(甲基)丙烯酸烷基酯之具體例，例如可例示：(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯(isopentyl(metha)acrylate)、(甲基)丙烯酸異戊酯(isoamyl(metha)acrylate)、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸異肉豆蔻酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、或(甲基)丙烯酸十二烷基酯等。該等可單獨或組合使用。該等之中，較佳為具有碳數4~18之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯，更佳為具有碳數4~10之烷基之(甲基)丙烯酸酯，進而較佳為(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯，尤佳為(甲基)丙烯酸正丁酯。
上述(甲基)丙烯酸烷基酯相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分100重量份而較佳為50重量份以上，較佳為60重量份以上，更佳為70重量份以上，進而較佳為80重量份以上，尤佳為90重量份以上。
又，作為含羥基之單體，可無特別限定地使用具有(甲基)丙烯醯 基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有羥基者。作為含羥基之單體，例如可列舉(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯、(甲基)丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯等，該等可單獨使用1種或將2種以上混合而使用。該等之中，較佳為丙烯酸4-羥基丁酯。又，於使用異氰酸酯系交聯劑作為下述交聯劑之情形時，藉由使用丙烯酸4-羥基丁酯作為含羥基之單體，可高效率地確保與異氰酸酯系交聯劑之異氰酸酯基的交聯點，故而較佳。
含羥基之單體相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分100重量份而較佳為10重量份以下，更佳為0.1~10重量份，進而較佳為0.1~3重量份。
於形成本發明中使用之(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中，可含有上述具有碳數4~18之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯、任意之上述含羥基之單體等，除該等單體以外，亦可使用含羧基之單體、含芳基之單體、其他共聚合單體作為單體成分。
作為含羧基之單體，可無特別限定地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有羧基者。作為含羧基之單體，例如可列舉丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸等，該等可單獨或組合使用。
含羧基之單體相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分100重量份而較佳為10重量份以下，更佳為8重量份以下，尤其是就為大致不會對透明導電層產生影響之添加量之觀點而言，進而較佳為6重量份以下，進而較佳為2重量份以下，尤佳為0.5重量份以下。
作為含芳基之單體，可無特別限定地使用具有(甲基)丙烯醯基或 乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有芳基者。作為含芳基之單體，例如可列舉(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯等(甲基)丙烯酸芳酯。
含芳基之單體之比率相對於形成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分100重量份而較佳為30重量份以下，更佳為1~20重量份，進而較佳為5~15重量份。
作為其他共聚合單體，只要為具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等有不飽和雙鍵之聚合性官能基者，則無特別限定，可列舉：例如(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸異酯等(甲基)丙烯酸脂環式烴酯；例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯酯類；例如苯乙烯等苯乙烯系單體；例如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基縮水甘油酯等含環氧基之單體；例如(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等含烷氧基之單體；例如丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基之單體；例如異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯等官能性單體；例如乙烯、丙烯、異戊二烯、丁二烯、異丁烯等烯烴系單體；例如乙烯醚等乙烯醚系單體；例如氯乙烯等含鹵素原子之單體等。
又，作為共聚合性單體，可列舉：例如N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-異丙基順丁烯二醯亞胺、N-月桂基順丁烯二醯亞胺、N-苯基順丁烯二醯亞胺等順丁烯二醯亞胺系單體；例如N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體；例如N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等琥珀醯亞胺系單體；例如苯乙烯磺酸、烯丙磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺基丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基之單體。
又，作為共聚合性單體，可列舉：例如聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等二醇系丙烯酸酯單體；此外，例如(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯等含有雜環或鹵素原子之丙烯酸酯系單體等。
進而，作為共聚合性單體，可使用多官能性單體。作為多官能性單體，可列舉具有2個以上之(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵之化合物等。例如可列舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(單或聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(單或聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(單或聚)烷二醇二(甲基)丙烯酸酯；此外，新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物；二乙烯基苯等多官能乙烯基化合物；(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯等具有反應性不飽和雙鍵之化合物等。又，作為多官能性單體，亦可使用於聚酯、環氧化合物、胺基甲酸酯等骨架上加成2個以上之作為與單體成分相同之官能基的(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵而成之聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等。
其他共聚合單體之比率相對於形成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分100重量份而較佳為30重量份以下，更佳為20重量份以下，進而較佳為15重量份以下，尤佳為10重量份以下。若上述共聚合單體之比率過多，則有由上述丙烯酸系黏著劑組合物所形成之黏著劑層對玻璃或膜、透明導電層等各種被黏著體的密接性降低等黏著特性降低 之虞。
本發明中使用之(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量較佳為120萬~300萬之範圍，更佳為120萬~270萬，進而較佳為120萬~250萬。若重量平均分子量小於120萬，則有時就耐熱性之方面而言欠佳。又，若重量平均分子量小於120萬，則於黏著劑組合物中低分子量成分變多，有時該低分子量成分自黏著劑層滲出而損害透明性。又，使用重量平均分子量小於120萬之(甲基)丙烯酸系聚合物獲得之黏著劑層有時耐溶劑性或力學特性較差。又，若重量平均分子量大於300萬，則為了調整至用於塗佈之黏度，需要大量稀釋溶劑，就成本之觀點而言欠佳。又，藉由重量平均分子量為上述範圍內，就耐腐蝕性、耐久性之觀點而言亦較佳。上述重量平均分子量係指利用GPC(Gel Permeation Chromatography，凝膠滲透層析法)進行測定並根據聚苯乙烯換算而算出之值。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物之製造可適當選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知之製造方法，並無特別限定。又，所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等中之任一種。
於溶液聚合中，作為聚合溶劑，例如使用乙酸乙酯、甲苯等。作為具體之溶液聚合例，反應係於氮氣等惰性氣體氣流下添加聚合起始劑且通常於50~70℃之程度、5~30小時之程度之反應條件下進行。
自由基聚合中所使用之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等並無特別限定，可適當選擇使用。再者，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可根據聚合起始劑、鏈轉移劑之使用量、反應條件而加以控制，根據該等之種類而調整適當之使用量。
作為聚合起始劑，例如可列舉：2,2'-偶氮雙異丁腈、2,2'-偶氮雙 (2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2'-偶氮雙(N,N'-二甲基異丁基脒)、2,2'-偶氮雙[N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒]水合物(商品名：VA-057、和光純藥工業(股份)製造)等偶氮系起始劑；過硫酸鉀、過硫酸銨等過硫酸鹽；過氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯、過氧化二碳酸二第二丁酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化特戊酸第三己酯、過氧化特戊酸第三丁酯、過氧化二月桂醯、過氧化二正辛醯、過氧化-2-乙基己酸1,1,3,3-四甲基丁酯、過氧化二(4-甲基苯甲醯)、過氧化二苯甲醯、過氧化異丁酸第三丁酯、1,1-二(第三己基過氧化)環己烷、氫過氧化第三丁基、過氧化氫等過氧化物系起始劑；過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉之組合、過氧化物與抗壞血酸鈉之組合等組合過氧化物與還原劑之氧化還原系起始劑等；但並不限定於該等。
上述聚合起始劑可單獨使用，亦可將2種以上混合而使用，整體之含量相對於形成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分100重量份而較佳為0.005~1重量份左右。
作為鏈轉移劑，例如可列舉月桂基硫醇、縮水甘油基硫醇、巰基乙酸、2-巰基乙醇、硫代乙醇酸、硫代乙醇酸2-乙基己酯、2,3-二巰基-1-丙醇等。鏈轉移劑可單獨使用，亦可將2種以上混合而使用，整體之含量相對於單體成分之總量100重量份而為0.1重量份左右以下。
於本發明中使用之丙烯酸系黏著劑組合物中，為了提昇高溫多濕條件下之密接性，可添加各種矽烷偶合劑。作為矽烷偶合劑，可使用具有任意之適當之官能基者。作為官能基，例如可列舉乙烯基、環氧基、胺基、巰基、(甲基)丙烯醯氧基、乙醯乙醯基、異氰酸酯基、苯乙烯基、聚硫基等。具體而言，例如可列舉：乙烯基三乙氧基矽 烷、乙烯基三丙氧基矽烷、乙烯基三異丙氧基矽烷、乙烯基三丁氧基矽烷等含乙烯基之矽烷偶合劑；γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷偶合劑；γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-β-(胺基乙基)-γ-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-三乙氧基矽烷基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺、N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷偶合劑；γ-巰基丙基甲基二甲氧基矽烷等含巰基之矽烷偶合劑；對苯乙烯基三甲氧基矽烷等含苯乙烯基之矽烷偶合劑；γ-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯醯基之矽烷偶合劑；3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽烷偶合劑；雙(三乙氧基矽烷基丙基)四硫化物等含多硫基之矽烷偶合劑等。
上述矽烷偶合劑可單獨使用，亦可將2種以上混合而使用，整體之含量相對於構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份而較佳為1重量份以下，更佳為0.01~1重量份，進而較佳為0.02~0.8重量份，尤佳為0.05~0.7重量份。若矽烷偶合劑之調配量超過1重量份，則產生未反應偶合劑成分，就耐久性之方面而言欠佳。
再者，於上述矽烷偶合劑可藉由自由基聚合而與上述單體成分共聚合之情形時，可使用該矽烷偶合劑作為上述單體成分。其比率相對於構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份而較佳為0.005~0.7重量份。
進而，藉由於本發明中使用之丙烯酸系黏著劑組合物中添加交聯劑，可賦予與黏著劑之耐久性相關之凝聚力，故而較佳。
作為交聯劑，使用多官能性之化合物，可列舉有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。作為有機系交聯劑，可列舉：環氧系交聯劑、 異氰酸酯系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑、亞胺系交聯劑、唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、過氧化物系交聯劑等。多官能性金屬螯合物係多價金屬原子與有機化合物共價鍵結或配位鍵結者。作為多價金屬原子，可列舉Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作為共價鍵結或配位鍵結之有機化合物中之原子，可列舉氧原子等，作為有機化合物，可列舉烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。該等交聯劑可單獨使用1種或組合2種以上使用。該等之中，較佳為過氧化物系交聯劑、異氰酸酯系交聯劑，更佳為組合該等使用。
異氰酸酯系交聯劑係指於1分子中具有2個以上異氰酸酯基(包括藉由嵌段劑或數量體化等而暫時保護異氰酸酯基之異氰酸酯再生型官能基)之化合物。
作為異氰酸酯系交聯劑，可列舉：甲苯二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯等芳香族異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等脂肪族異氰酸酯等。
更具體而言，例如可列舉：伸丁基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類；伸環戊基二異氰酸酯、環己二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯類；2,4-甲苯二異氰酸酯、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、聚亞甲基聚苯基異氰酸酯等芳香族二異氰酸酯類；三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯三聚物加成物(商品名：Coronate L、日本聚胺基甲酸酯工業(股份)製造)、三羥甲基丙烷/六亞甲基二異氰酸酯三聚物加成物(商品名：Coronate HL、日本聚胺基甲酸酯工業(股份)製造)、六亞甲基二異氰酸酯之異氰尿酸酯體(商品名：Coronate HX、日本聚胺基甲酸酯工業(股份)製造)等異氰酸酯加成物；苯二甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物(商品名：D110N、三井化學(股份)製造)、六亞甲基二異氰酸 酯之三羥甲基丙烷加成物(商品名：D160N、三井化學(股份)製造)；聚醚聚異氰酸酯、聚酯聚異氰酸酯、及該等與各種多元醇之加成物、經異氰尿酸酯鍵、縮二脲鍵、脲基甲酸酯鍵等多官能化之聚異氰酸酯等。該等之中，就反應速度較快之方面而言，較佳為使用脂肪族異氰酸酯。
作為過氧化物系交聯劑，使用各種過氧化物。作為過氧化物，可列舉：過氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯、過氧化二碳酸二第二丁酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化特戊酸第三己酯、過氧化特戊酸第三丁酯、過氧化二月桂醯、過氧化二正辛醯、過氧化異丁酸1,1,3,3-四甲基丁酯、過氧化2-乙基己酸1,1,3,3-四甲基丁酯、過氧化二(4-甲基苯甲醯)、過氧化二苯甲醯、過氧化異丁酸第三丁酯等。該等之中，尤其是可較佳地使用交聯反應效率優異之過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯、過氧化二月桂醯、過氧化二苯甲醯。
丙烯酸系黏著劑組合物中之交聯劑之調配比率並無特別限定，通常相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(固形分)100重量份而以交聯劑(固形分)10重量份左右以下之比率進行調配。上述交聯劑之調配比率較佳為0.01~10重量份，進而較佳為0.01~5重量份左右。又，尤其是於使用過氧化物系交聯劑之情形時，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(固形分)100重量份而較佳為0.05~1重量份左右，更佳為0.06~0.5重量份。
又，藉由於本發明中使用之丙烯酸系黏著劑組合物中添加離子性化合物，就步驟作業時之膜的抗靜電之觀點而言較佳。
作為離子性化合物，可較佳地使用鹼金屬鹽及/或有機陽離子-陰離子鹽。鹼金屬鹽可使用鹼金屬之有機鹽、及無機鹽。再者，所謂本發明中所述之「有機陽離子-陰離子鹽」係指為有機鹽且其陽離子部 由有機物所構成者，陰離子部可為有機物，亦可為無機物。「有機陽離子-陰離子鹽」亦稱為離子性液體、離子性固體。
<鹼金屬鹽>
作為構成鹼金屬鹽之陽離子部之鹼金屬離子，可列舉鋰、鈉、鉀之各離子。於該等鹼金屬離子中，較佳為鋰離子。
鹼金屬鹽之陰離子部可由有機物所構成，亦可由無機物所構成。作為構成有機鹽之陰離子部，例如使用CH3COO-、CF3COO-、CH3SO3 -、CF3SO3 -、(CF3SO2)3C-、C4F9SO3 -、C3F7COO-、(CF3SO2)(CF3CO)N-、-O3S(CF2)3SO3 -、PF6 -、CO3 2-、或下述通式(4)~(7)、(4)：(CnF2n+1SO2)2N-(其中，n為1~10之整數)、(5)：CF2(CmF2mSO2)2N-(其中，m為1~10之整數)、(6)：-O3S(CF2)lSO3 -(其中，l為1~10之整數)、(7)：(CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2)(其中，p、q為1~10之整數)
所表示者等。尤其是就獲得離子解離性較佳之離子化合物之方面而言，可較佳地使用包含氟原子之陰離子部。作為構成無機鹽之陰離子部，使用Cl-、Br-、I-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、BF4 -、PF6 -、ClO4 -、NO3 -、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、(CN)2N-等。作為陰離子部，較佳為(CF3SO2)2N-、(C2F5SO2)2N-等上述通式(4)所表示之(全氟烷基磺醯基)醯亞胺，尤佳為(CF3SO2)2N-所表示之(三氟甲磺醯基)醯亞胺。
作為鹼金屬之有機鹽，具體而言，可列舉乙酸鈉、海藻酸鈉、木質素磺酸鈉、甲苯磺酸鈉、六氟磷酸鋰(LiPF6)、LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N、Li(CF3SO2)3C、KO3S(CF2)3SO3K、LiO3S(CF2)3SO3K等，該等之中，較佳為六氟磷酸鋰(LiPF6)、LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N、Li(CF3SO2)3C等，更佳為 Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N等含氟之鋰醯亞胺鹽，尤佳為六氟磷酸鋰(LiPF6)、雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰(LiTFSI、Li(CF3SO2)2N)。
又，作為鹼金屬之無機鹽，可列舉過氯酸鋰、碘化鋰。
<有機陽離子-陰離子鹽>
本發明中所使用之有機陽離子-陰離子鹽係由陽離子成分及陰離子成分所構成，上述陽離子成分為包含有機物者。作為陽離子成分，具體而言，可列舉：吡啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯烷鎓陽離子、具有吡咯啉骨架之陽離子、具有吡咯骨架之陽離子、咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子、四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子等。
作為陰離子成分，例如使用Cl-、Br-、I-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、BF4 -、PF6 -、ClO4 -、NO3 -、CH3COO-、CF3COO-、CH3SO3 -、CF3SO3 -、(CF3SO2)3C-、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、(CN)2N-、C4F9SO3 -、C3F7COO-、((CF3SO2)(CF3CO)N-、-O3S(CF2)3SO3 -、或下述通式(4)~(7)、(4)：(CnF2n+1SO2)2N-(其中，n為1~10之整數)、(5)：CF2(CmF2mSO2)2N-(其中，m為1~10之整數)、(6)：-O3S(CF2)lSO3 -(其中，l為1~10之整數)、(7)：(CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2)(其中，p、q為1~10之整數)
所表示者等。該等之中，尤其是就獲得離子解離性較佳之離子化合物之方面而言，可較佳地使用包含氟原子之陰離子成分。
作為有機陽離子-陰離子鹽之具體例，可適當選擇使用包含上述陽離子成分與陰離子成分之組合之化合物。例如可列舉：1-丁基吡啶鎓四氟硼酸鹽、1-丁基吡啶鎓六氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓四氟硼酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓三氟甲磺酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓 雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-己基吡啶鎓四氟硼酸鹽、2-甲基-1-吡咯啉四氟硼酸鹽、1-乙基-2-苯基吲哚四氟硼酸鹽、1,2-二甲基吲哚四氟硼酸鹽、1-乙基咔唑四氟硼酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓乙酸酯、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三氟乙酸酯、1-乙基-3-甲基咪唑鎓七氟丁酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓全氟丁磺酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓二氰胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三(三氟甲磺醯基)甲基化物、1-丁基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟乙酸酯、1-丁基-3-甲基咪唑鎓七氟丁酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓全氟丁磺酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、溴化1-己基-3-甲基咪唑鎓、氯化1-己基-3-甲基咪唑鎓、1-己基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-辛基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-辛基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-己基-2,3-二甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1,2-二甲基-3-丙基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基吡唑鎓四氟硼酸鹽、3-甲基吡唑鎓四氟硼酸鹽、四己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、二烯丙基二甲基銨四氟硼酸鹽、二烯丙基二甲基銨三氟甲磺酸鹽、二烯丙基二甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、二烯丙基二甲基銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨四氟硼酸鹽、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨三氟甲磺酸鹽、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、縮水甘油基三甲基銨三氟甲磺酸鹽、縮水甘油基三甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞 胺、縮水甘油基三甲基銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丁基吡啶鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、二烯丙基二甲基銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、縮水甘油基三甲基銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-壬基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-二丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-戊基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-二己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-甲基-N-乙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N,N-二 己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三辛基甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N-甲基-N-乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶-1-鎓三氟甲磺酸鹽等。作為該等之市售品，例如可使用「CIL-314」(日本Carlit(股份)製造)、「ILA2-1」(廣榮化學工業(股份)製造)等。
又，例如可列舉：四甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基乙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基辛基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四乙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺等。
又，例如可列舉：1-二甲基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞 胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯烷鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞 胺、1-甲基-1庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺，1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺等。
又，可列舉：代替上述化合物之陽離子成分而使用三甲基鋶陽離子、三乙基鋶陽離子、三丁基鋶陽離子、三己基鋶陽離子、二乙基甲基鋶陽離子、二丁基乙基鋶陽離子、二甲基癸基鋶陽離子、四甲基鏻陽離子、四乙基鏻陽離子、四丁基鏻陽離子、四己基鏻陽離子之化合物等。
又，可列舉：代替上述雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺而使用雙(五氟磺醯基)醯亞胺、雙(七氟丙烷磺醯基)醯亞胺、雙(九氟丁烷磺醯基)醯亞胺、三氟甲磺醯基九氟丁烷磺醯基醯亞胺、七氟丙烷磺醯基三氟甲磺醯基醯亞胺、五氟乙磺醯基九氟丁烷磺醯基醯亞胺、環-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺陰離子等之化合物等。
又，作為離子性化合物，除上述鹼金屬鹽、有機陽離子-陰離子鹽以外，亦可列舉：氯化銨、氯化鋁、氯化銅、氯化亞鐵、氯化鐵、硫酸銨等無機鹽。該等離子性化合物可單獨使用或併用複數種。
丙烯酸系黏著劑組合物中之離子性化合物之調配比率並無特別限定，相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(固形分)100重量份而較佳為10重量份左右以下，更佳為5重量份以下，進而較佳為2重量份以下。又，下限值並無特別限定，較佳為0.01重量份以上。
進而，於本發明中使用之丙烯酸系黏著劑組合物中，視需要亦可於不脫離本發明目的之範圍內適當使用黏度調整劑、剝離調整劑、 黏著賦予劑、塑化劑、軟化劑、包含玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、其他無機粉末等之填充劑、顏料、著色劑(顏料、染料等)、pH值調整劑(酸或鹼)、抗氧化劑、紫外線吸收劑等各種添加劑。該等添加劑亦可以乳膠之形式調配。
(3)附黏著劑層之偏光膜
本發明之附黏著劑層之偏光膜係藉由於上述碘系偏光膜之至少一面形成由上述丙烯酸系黏著劑組合物所形成之黏著劑層而獲得。
上述黏著劑層之形成方法並無特別限定，可為於各種基材上塗佈上述丙烯酸系黏著劑組合物，利用熱烘箱等乾燥器進行乾燥，使溶劑等揮散而形成黏著劑層，將該黏著劑層轉印於上述碘系偏光膜上之方法，亦可於上述碘系偏光膜上直接塗佈上述丙烯酸系黏著劑組合物而形成黏著劑層。
作為上述基材，並無特別限定，例如可列舉脫模膜、透明樹脂膜基材等各種基材。
作為對上述基材或偏光膜之塗佈方法，可使用各種方法。具體而言，例如可列舉：噴注式塗佈機、輥式塗佈、接觸輥式塗佈、凹版塗佈、反向塗佈、輥式刷塗、噴塗、浸輥式塗佈、棒式塗佈、刮塗、氣刀塗佈、淋幕式塗佈、模唇塗佈、利用模具塗佈機等之擠壓塗佈法等方法。
乾燥條件(溫度、時間)並無特別限定，可根據丙烯酸系黏著劑組合物之組成、濃度等而適當設定，例如為80~170℃之程度，較佳為90~200℃，為1~60分鐘，較佳為2~30分鐘。
黏著劑層之厚度(乾燥後)例如較佳為5~100μm，更佳為10~60μm，進而較佳為12~40μm。若黏著劑層之厚度未達10μm，則有對被黏著體之密接性變差，高溫、高溫多濕下之耐久性不充分之傾向。另一方面，於黏著劑層之厚度超過100μm之情形時，有形成黏著劑層 時之丙烯酸系黏著劑組合物之塗佈、乾燥時未充分地乾燥而殘留氣泡，或於黏著劑層之面產生厚度不均，或者外觀上之問題變得明顯之傾向。
作為上述脫模膜之構成材料，例如可列舉聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯膜等樹脂膜、紙、布、不織布等多孔質材料、網狀物、起泡片、金屬箔、及該等之層壓體等適當之薄葉體等，就表面平滑性優異之方面而言，可較佳地使用樹脂膜。
作為該樹脂膜，例如可列舉：聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚對苯二甲酸丁二酯膜、聚胺基甲酸酯膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物膜等。
上述脫模膜之厚度通常為5~200μm，較佳為5~100μm之程度。對於上述脫模膜，視需要亦可進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系之脫模劑、二氧化矽粉末等之脫模及防污處理或塗佈型、混練型、蒸鍍型等之抗靜電處理。尤其是藉由對上述脫模膜之表面適當進行聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可進而提高自上述黏著劑層之剝離性。
作為上述透明樹脂膜基材，並無特別限定，可使用具有透明性之各種樹脂膜。該樹脂膜係藉由1層膜而形成。例如作為其材料，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚苯硫醚系樹脂等。該等之中，尤佳為聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及聚醚碸系樹脂。
上述膜基材之厚度較佳為15~200μm。
又，於碘系偏光膜與黏著劑層之間，亦可具有增黏層。形成增黏層之材料並無特別限定，例如可列舉各種聚合物類、金屬氧化物之溶膠、矽溶膠等。該等之中，尤其是可較佳地使用聚合物類。上述聚合物類之使用形態可為溶劑可溶型、水分散型、水溶解型中之任一者。
作為上述聚合物類，例如可列舉：聚胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚醚系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚乙烯吡咯啶酮、聚苯乙烯系樹脂等。該等之中，尤佳為聚胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂。於該等樹脂中，可適當地調配交聯劑。該等其他黏合劑成分可根據其用途而適當地使用1種或組合2種以上使用。
於利用水分散型材料形成增黏層之情形時，係使用水分散型聚合物。作為水分散型聚合物，可列舉：使用乳化劑使聚胺基甲酸酯、聚酯等各種樹脂乳化而成者；或於上述樹脂中導入水分散性之陰離子基、陽離子基或非離子基進行自我乳化而成者等。
又，於上述增黏劑中，可含有抗靜電劑。抗靜電劑只要為可賦予導電性之材料，則無特別限定，例如可列舉離子性界面活性劑、導電性聚合物、金屬氧化物、碳黑、及碳奈米材料等，該等之中，較佳為導電性聚合物，更佳為水分散性導電聚合物。
作為水溶性導電性聚合物，可列舉聚苯胺磺酸(經聚苯乙烯換算之重量平均分子量150000、三菱麗陽(股份)製造)等，作為水分散性導電聚合物，可列舉聚噻吩系導電性聚合物(長瀨化成公司製造、Denatoron Series)等。
上述抗靜電劑之調配量例如相對於用於增黏劑之上述聚合物類100重量份而為70重量份以下，較佳為50重量份以下。就抗靜電效果之方面而言，較佳為設為10重量份以上，進而設為20重量份以上。
又，於上述增黏劑中，為了抑制與增黏塗佈層接觸時產生之黏著劑層或偏光元件之劣化等，可調配各種添加劑，又，為了對增黏塗佈層賦予功能，可調配各種添加劑。例如可添加抗氧化劑、抗劣化劑、紫外線吸收劑、螢光增白劑等。
增黏層之厚度並無特別限定，較佳為5~300nm。
作為上述增黏層之形成方法，並無特別限定，可藉由通常公知之方法而進行。又，於形成增黏層時，可對上述碘系偏光膜實施活化處理。活化處理可採用各種方法，例如可採用電暈處理、低壓UV處理、電漿處理等。
黏著劑層於碘系偏光膜上之增黏層上之形成方法如上所述。
又，於本發明之附黏著劑層之偏光膜的黏著劑層露出之情形時，於供於實用之前亦可以脫模膜(隔片)保護黏著劑層。作為脫模膜，可列舉如上所述者。於製作上述黏著劑層時使用脫模膜作為基材之情形時，將脫模膜上之黏著劑層與碘系偏光膜貼合，藉此該脫模膜可用作附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層的脫模膜，可進行步驟上之簡化。
2.積層體
本發明之積層體之特徵在於，將上述附黏著劑層之偏光膜與具有透明導電層之構件以上述附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層與具有上述透明導電層之構件之透明導電層接觸之方式進行貼合。
上述附黏著劑層之偏光膜可使用如上所述者。
作為具有透明導電層之構件，並無特別限定，可使用公知者，可列舉於透明膜等透明基材上具有透明導電層者、或具有透明導電層及液晶單元之構件。
作為透明基材，只要為具有透明性者即可，例如可列舉包括樹脂膜或玻璃等之基材(例如片狀、膜狀或板狀之基材等)等，尤佳為樹 脂膜。透明基材之厚度並無特別限定，較佳為10~200μm之程度，更佳為15~150μm之程度。
作為上述樹脂膜之材料，並無特別限定，可列舉具有透明性之各種塑膠材料。例如作為其材料，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚苯硫醚系樹脂等。該等之中，尤佳為聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及聚醚碸系樹脂。
又，對於上述透明基材，亦可對表面預先實施濺鍍、電暈放電、火焰、紫外線照射、電子束照射、化成、氧化等蝕刻處理或底塗處理而提昇設置於其上之透明導電層對於上述透明基材之密接性。又，於設置透明導電層前，視需要亦可利用溶劑洗淨或超音波洗淨等進行除塵、淨化。
作為上述透明導電層之構成材料，並無特別限定，使用選自由銦、錫、鋅、鎵、銻、鈦、矽、鋯、鎂、鋁、金、銀、銅、鈀、鎢所組成之群中之至少1種金屬之金屬氧化物。於該金屬氧化物中，視需要亦可進而含有上述群中所示之金屬原子。例如可較佳地使用含有氧化錫之氧化銦(ITO)、含有銻之氧化錫等，可尤其較佳地使用ITO。作為ITO，較佳為含有氧化銦80~99重量%及氧化錫1~20重量%。
又，作為上述ITO，可列舉晶質ITO、非晶質(amorphous)ITO。晶質ITO可藉由於濺鍍時施加高溫、或進而加熱非晶質ITO而獲得。上述由碘所引起之劣化於非晶質ITO上明顯地產生，故而本發明之附黏著劑層之偏光膜對於非晶質ITO尤其有效。
上述透明導電層之厚度並無特別限定，較佳為設為7nm以上，更佳為設為10nm以上，進而較佳為設為12~60nm，進而較佳為設為 15~45nm，進而較佳為設為18~45nm，尤佳為設為20~30nm。若透明導電層之厚度未達7nm，則有容易產生由碘所引起的透明導電層之劣化，透明導電層之電阻值的變化增大之傾向。另一方面，於超過60nm之情形時，有透明導電層之生產性降低，成本亦上升，進而光學特性亦降低之傾向。
作為上述透明導電層之形成方法，並無特別限定，可採用先前公知之方法。具體而言，例如可例示真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍著法。又，亦可根據所需之膜厚而採用適當之方法。
作為具有上述透明導電層之基材之厚度，可列舉15~200μm。進而，就薄膜化之觀點而言，較佳為15~150μm，更佳為15~50μm。於以電阻膜方式使用具有上述透明導電層之基材之情形時，例如可列舉100~200μm之厚度。又，於以靜電電容方式使用之情形時，例如較佳為15~100μm之厚度，尤其是伴隨於近年來之進一步之薄膜化要求，更佳為15~50μm之厚度，進而較佳為20~50μm之厚度。
又，於透明導電層與透明基材之間，視需要可設置底塗層、低聚物防止層等。
又，作為具有透明導電層及液晶單元之構件，可列舉各種液晶顯示裝置等圖像顯示裝置中所使用之於包含基板(例如玻璃基板等)/液晶層/基板之構成的液晶單元之該基板之不與液晶層接觸之側具有透明導電層者。又，於液晶單元上設置濾色器基板之情形時，亦可於該濾色器上具有透明導電層。於液晶單元之基板上形成透明導電層之方法係與上述相同。
3.圖像顯示裝置
本發明之積層體可較佳地用於製造構成具備輸入裝置(觸控面板等)之圖像顯示裝置(液晶顯示裝置、有機EL(電致發光)顯示裝置、 PDP(電漿顯示面板)、電子紙等)、輸入裝置(觸控面板等)等機器之基材(構件)、或該等機器所使用之基材(構件)，尤其是可較佳地用於製造觸控面板用光學基材。又，無論電阻膜方式或靜電電容方式等觸控面板等之方式均可使用。
對於本發明之積層體實施裁斷、抗蝕劑印刷、蝕刻、銀油墨印刷等處理，所獲得之透明導電性膜可用作光學元件用基材(光學構件)。作為光學元件用基材，只要為具有光學特性之基材，則無特別限定，例如可列舉：構成圖像顯示裝置(液晶顯示裝置、有機EL(電致發光)顯示裝置、PDP(電漿顯示面板)、電子紙等)、輸入裝置(觸控面板等)等機器之基材(構件)、或該等機器所使用之基材(構件)。
又，本發明之附黏著劑層之偏光膜係如上述般，即便於該附黏著劑層之偏光膜的黏著劑層上積層透明導電層之情形時，亦抑制透明導電層之腐蝕，而可抑制透明導電層之表面電阻上升者。因此，只要為具有附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層與透明導電層接觸之構成的圖像顯示裝置，則可較佳地使用本發明之附黏著劑層之偏光膜。例如可將本發明之附黏著劑層之偏光膜與具有透明導電層之液晶面板以上述附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層與上述液晶面板之透明導電層接觸之方式貼合而製作圖像顯示裝置。
進而具體而言，可列舉使用透明導電層作為抗靜電層用途之圖像顯示裝置或使用透明導電層作為觸控面板之電極用途之圖像顯示裝置。作為使用透明導電層作為抗靜電層用途之圖像顯示裝置，具體而言，例如可列舉：如圖1所示般具有偏光膜1/黏著劑層2/抗靜電層3/玻璃基板4/液晶層5/驅動電極6/玻璃基板4/黏著劑層2/偏光膜1之構成且上述抗靜電層3、驅動電極6由透明導電層所形成之圖像顯示裝置。作為該圖像顯示裝置之上側(視認側)之附黏著劑層之偏光膜(1、2)，可使用本發明之附黏著劑層之偏光膜。又，作為使用透明導電層作為觸 控面板之電極用途之圖像顯示裝置，例如可列舉：為偏光膜1/黏著劑層2/兼作抗靜電層之感測層7/玻璃基板4/液晶層5/兼作驅動電極之感測層8/玻璃基板4/黏著劑層2/偏光膜1之構成(In-Cell型觸控面板、圖2)、或偏光膜1/黏著劑層2/兼作抗靜電層之感測層7/感測層9/玻璃基板4/液晶層5/驅動電極6/玻璃基板4/黏著劑層2/偏光膜1之構成(On-Cell型觸控面板、圖3)且兼作抗靜電層之感測層7、感測層9、驅動電極6由透明導電層所形成之圖像顯示裝置。作為該圖像顯示裝置之上側(視認側)之附黏著劑層之偏光膜(1、2)，可使用本發明之附黏著劑層之偏光膜。
[實施例]
以下，使用實施例對本發明進行詳細說明，但只要不超過其主旨，則本發明並不限定於以下之實施例。又，各例中，份、%均為重量基準。
<偏光元件中之碘含量>
偏光元件中之碘含量(碘及/或碘離子之含量)係按照以下之工序進行測定。
1)對複數之包含特定量碘化鉀之偏光元件測定螢光X射線強度，導出碘含量與螢光X射線強度之關係式。
2)測定碘含量未知之碘系偏光元件之螢光X射線，自該數值並使用上述關係式計算碘量。
製造例1(偏光膜(1)之製作)
藉由使於非晶質PET基材上製膜有9μm厚之聚乙烯醇(PVA，Polyvinyl alcohol)層之積層體在延伸溫度130℃下之空中補助延伸而生成延伸積層體。其次，將延伸積層體於相對於水100重量份而含有碘0.1重量份、碘化鉀0.7重量份之染色液中浸漬60秒鐘而生成著色積層體。進而，利用延伸溫度65℃下之硼酸水中以總延伸倍率成為5.94倍 之方式使著色積層體與非晶質PET基材一體延伸而生成包含4μm厚之PVA層之光學膜積層體。藉由上述2段延伸，可生成構成高功能偏光層之包含厚度4μm之PVA層之光學膜積層體，該高功能偏光層係使於非晶質PET基材上所製膜之PVA層之PVA分子高次配向，使因染色而吸附之碘作為聚碘離子錯合物而高次配向於一方向。進而，於該光學膜積層體之偏光層之表面塗佈PVA系接著劑，並且貼合經皂化處理之40μm厚之丙烯酸系樹脂膜(透明保護膜(1))後，立即將非晶質PET基材剝離而製作僅於使用薄型碘系偏光元件之單側具有透明保護膜之偏光膜。以下，將其稱為偏光膜(1)。偏光膜(1)之碘含量為5.1重量%。
製造例2、3(偏光膜(2)、(3)之製作)
將染色時間自60秒變更為120秒(製造例2)、180秒(製造例3)，除此以外，以與製造例1相同之方式製作僅於使用薄型碘系偏光元件之單側具有透明保護膜之偏光膜。以下，將該等稱為偏光膜(2)、(3)。偏光膜(2)、(3)之碘含量分別為7.2重量%、11.1重量%。
製造例4(偏光膜(4)之製作)
將厚度80μm之聚乙烯醇膜於速度比不同之輥間並於30℃、0.3%濃度之碘溶液中染色1分鐘並且延伸至3倍。其後，於包含60℃、4%濃度之硼酸、10%濃度之碘化鉀的水溶液中浸漬0.5分鐘，並且進行延伸直至總延伸倍率為6倍。其次，藉由於包含30℃、1.5%濃度之碘化鉀之水溶液中浸漬10秒鐘而洗淨後，於50℃下乾燥4分鐘而獲得厚度25μm、碘含量2.3重量%之偏光元件。利用聚乙烯醇系接著劑將厚度40μm之丙烯酸系樹脂膜(透明保護膜(1))貼合於該偏光元件之單面而製作偏光膜。以下，將其稱為偏光膜(4)。偏光膜(4)之碘含量為2.3重量%。
製造例5(偏光膜(5)之製作)
於製造例1中，將非晶質PET基材剝離後，利用聚乙烯醇系接著 劑將厚度25μm之降烯系膜(透明保護膜(2))貼合於其他單面而製作偏光膜。以下，將其稱為薄型偏光膜(5)。偏光膜(5)之碘含量為5.1重量%。
製造例6(偏光膜(6)之製作)
利用聚乙烯醇系接著劑將厚度40μm之丙烯酸系樹脂膜(透明保護膜(1))、厚度25μm之降烯系膜(透明保護膜(2))貼合於由製造例4所獲得之碘含量2.3重量%之偏光元件的雙面而製作偏光膜。以下，將其稱為偏光膜(6)。偏光膜(6)之碘含量為2.3重量%。
將製造例1~6中所獲得之偏光膜(1)~(6)之偏光元件、透明保護膜厚度、偏光膜總厚度、碘含量(偏光元件中之碘及/或碘離子之含量)匯總於以下之表1中。
製造例7(含有丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液之製作)
於具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，與乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯99份、丙烯酸4-羥基丁酯1份、及相對於單體(固形分)100份之作為起始劑之2,2'-偶氮雙異丁腈(AIBN)1份，於氮氣氣流下且於60℃下反應7小時。其後，於其反應液中添加乙酸乙酯而獲得含有重量平均分子量160萬之丙烯酸系聚合物(A-1)之 溶液(固形分濃度30重量%)。
製造例8(含有丙烯酸系聚合物(A-2)之溶液之製作)
於具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，與乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯99份、丙烯酸2-羥基乙酯1份、及相對於單體(固形分)100份之作為起始劑之AIBN 1份，於氮氣氣流下且於60℃下反應7小時。其後，於其反應液中添加乙酸乙酯而獲得含有重量平均分子量160萬之丙烯酸系聚合物(A-2)之溶液(固形分濃度30重量%)。
製造例9(含有丙烯酸系聚合物(A-3)之溶液之製作)
於具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，與乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯100份、及相對於單體(固形分)100份之作為起始劑之AIBN 1份，於氮氣氣流下且於60℃下反應7小時。其後，於其反應液中添加乙酸乙酯而獲得含有重量平均分子量160萬之丙烯酸系聚合物(A-3)之溶液(固形分濃度30重量%)。
製造例10(含有丙烯酸系聚合物(A-4)之溶液之製作)
於具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，與乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯98.6份、丙烯酸4-羥基丁酯1份、丙烯酸0.4份、及相對於單體(固形分)100份之作為起始劑之AIBN 1份，於氮氣氣流下且於60℃下反應7小時。其後，於其反應液中添加乙酸乙酯而獲得含有重量平均分子量160萬之丙烯酸系聚合物(A-4)之溶液(固形分濃度30重量%)。
製造例11(含有丙烯酸系聚合物(A-5)之溶液之製作)
於具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，與乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯95份、丙烯酸4-羥基丁酯1份、丙烯酸4份、及相對於單體(固形分)100份之作為起始劑之AIBN 1份，於氮氣氣流下且於60℃下反應7小時。其後，於其反應液中添加乙酸乙酯 而獲得含有重量平均分子量155萬之丙烯酸系聚合物(A-5)之溶液(固形分濃度30重量%)。
製造例12(含有丙烯酸系聚合物(A-6)之溶液之製作)
於具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，與乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯91份、丙烯酸2-羥基乙酯1份、丙烯酸8份、及相對於單體(固形分)100份之作為起始劑之AIBN 0.75份，於氮氣氣流下且於60℃下反應9小時。其後，於其反應液中添加乙酸乙酯而獲得含有重量平均分子量190萬之丙烯酸系聚合物(A-6)之溶液(固形分濃度30重量%)。
製造例13(含有丙烯酸系聚合物(A-7)之溶液之製作)
於具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，與乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯99份、丙烯酸4-羥基丁酯1份、及相對於單體(固形分)100份之作為起始劑之AIBN 1.5份，於氮氣氣流下且於60℃下反應7小時。其後，於其反應液中添加乙酸乙酯而獲得含有重量平均分子量90萬之丙烯酸系聚合物(A-7)之溶液(固形分濃度30重量%)。
製造例14(含有丙烯酸系聚合物(A-8)之溶液之製作)
於具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，與乙酸乙酯一起添加丙烯酸丁酯84.9份、丙烯酸4-羥基丁酯0.1份、丙烯酸5份、丙烯酸苄酯10份、及相對於單體(固形分)100份之作為起始劑之AIBN 1份，於氮氣氣流下且於60℃下反應7小時。其後，於其反應液中添加乙酸乙酯而獲得含有重量平均分子量180萬之丙烯酸系聚合物(A-8)之溶液(固形分濃度30重量%)。
又，製造例7~14中所獲得之丙烯酸系聚合物之重量平均分子量係藉由以下之測定方法而進行測定。
<丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)之測定>
所製作之丙烯酸系聚合物之重量平均分子量係藉由GPC(凝膠滲透層析法)而進行測定。
裝置：東梭公司製造、HLC-8220GPC
管柱：
樣品管柱：東梭公司製造、TSKguardcolumn Super HZ-H(1根)+TSKgel Super HZM-H(2根)
參考管柱：東梭公司製造、TSKgel Super H-RC(1根)
流量：0.6mL/min
注入量：10μL
管柱溫度：40℃
溶離液：THF
注入試樣濃度：0.2重量%
檢出器：示差折射計
再者，重量平均分子量係根據聚苯乙烯換算而算出。
實施例1
(丙烯酸系黏著劑組合物之製備)
於製造例7中所獲得之含有丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液(固形分濃度30重量%)之固形分每100份中，調配作為交聯劑之三羥甲基丙烷苯二甲基二異氰酸酯(商品名：Takenate D110N、三井化學(股份)製造)0.1份、過氧化二苯甲醯0.3份、作為磷酸化合物之Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)0.03份、作為矽烷偶合劑之γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷(商品名：KBM-403、信越化學工業(股份)製造)0.075份、及作為酚系抗氧化劑之季戊四醇四[3-(3,5-二第三丁基-4-羥基苯基)丙酸內鹽(IRGANAOX 1010、BASF Japan(股份)製造)0.3份，而獲得丙烯酸系黏著劑組合物。
(附黏著劑層之偏光膜之製作)
利用噴注式塗佈機將上述丙烯酸系黏著劑組合物均勻地塗佈於經聚矽氧系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜(基材)之表面，利用155℃之空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘而於基材之表面形成厚度20μm之黏著劑層。其次，使形成有黏著劑層之隔片移接於偏光膜(1)之不具有保護膜之面上而製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例2~5
將磷酸化合物之添加量自0.03份變更為表3中所記載之份數，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例6
將Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)0.03份變更為Phosphanol RS-410(東邦化學工業(股份)製造)0.1份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例7
將Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)0.03份變更為Phosphanol RS-710(東邦化學工業(股份)製造)0.1份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例8
將Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)0.03份變更為DBP(城北化學(股份)製造)0.05份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例9
將Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)0.03份變更為磷酸(試劑特級)(和光純藥工業(股份)製造)0.03份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例10~14
將製造例7中所獲得之含有丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液分別變更 為製造例8~12中所獲得之含有丙烯酸系聚合物(A-2)~(A-6)之溶液，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例15~17
於實施例1之(附黏著劑層之偏光膜之製作)中，將偏光膜(1)變更為偏光膜(2)、(3)、(4)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例18
(丙烯酸系黏著劑組合物之製備)
於製造例7中所獲得之含有丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液(固形分濃度30重量%)之固形分每100份中，調配作為交聯劑之三羥甲基丙烷苯二甲基二異氰酸酯(商品名：Takenate D110N、三井化學(股份)製造)0.1份、過氧化二苯甲醯0.3份、作為磷酸化合物之Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)0.03份、作為矽烷偶合劑之γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷(商品名：KBM-403、信越化學工業(股份)製造)0.075份、作為離子性化合物之雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰(森田化學工業(股份)製造)0.5份、及作為酚系抗氧化劑之季戊四醇四[3-(3,5-二第三丁基-4-羥基苯基)丙酸內鹽(IRGANAOX 1010、BASF Japan(股份)製造)0.3份，而獲得丙烯酸系黏著劑組合物。
(附黏著劑層之偏光膜之製作)
使用上述丙烯酸系黏著劑組合物，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例19
將雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰(森田化學工業(股份)製造)0.5份變更為1-甲基-1-乙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(岸田化學(股份)製造)0.5份，除此以外，以與實施例18相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例20
將製造例7中所獲得之含有丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液變更為製造例14中所獲得之丙烯酸酯共聚物(A-8)，且將Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)0.03份變更為磷酸(試劑特級)(和光純藥工業(股份)製造)0.05份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例21
將磷酸(試劑特級)(和光純藥工業(股份)製造)之添加量自0.05份變更為0.1份，除此以外，以與實施例20相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例22
將Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)0.03份變更為MP-4(商品名、酸值：670mgKOH/g、大八化學工業(股份)製造)0.01份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例23
將MP-4(商品名、酸值：670mgKOH/g、大八化學工業(股份)製造)之添加量自0.01份變更為0.06份，除此以外，以與實施例22相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例24
將製造例7中所獲得之含有丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液變更為製造例14中所獲得之丙烯酸酯共聚物(A-8)，且將Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)0.03份變更為MP-4(商品名、酸值：670mgKOH/g、大八化學工業(股份)製造)0.1份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例25、26
將MP-4(商品名、酸值：670mgKOH/g、大八化學工業(股份)製造)之添加量自0.1份變更為0.8份、3份，除此以外，以與實施例24相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例27
將製造例7中所獲得之含有丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液變更為製造例14中所獲得之丙烯酸酯共聚物(A-8)，且將Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)0.03份變更為MP-4(商品名、酸值：670mgKOH/g、大八化學工業(股份)製造)0.04份與磷酸(試劑特級)(和光純藥工業(股份)製造)0.01份之混合物，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例28
將製造例7中所獲得之含有丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液變更為製造例14中所獲得之丙烯酸酯共聚物(A-8)，且將Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)0.03份變更為Phosphanol SM-172(商品名、東邦化學工業(股份)製造)0.04份與磷酸(試劑特級)(和光純藥工業(股份)製造)0.01份之混合物，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例29~34
將所獲得之含有丙烯酸系聚合物之溶液之種類、磷酸化合物之種類及添加量變更為表3中所記載之種類及份數，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
比較例1
將含有丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液變更為製造例8中所獲得之含有丙烯酸系聚合物(A-2)之溶液，且不使用磷酸酯，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
比較例2
將含有丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液變更為製造例9中所獲得之含有丙烯酸系聚合物(A-3)之溶液，且不使用磷酸酯，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
比較例3
將含有丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液變更為製造例11中所獲得之含有丙烯酸系聚合物(A-5)之溶液，且不使用磷酸酯，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
比較例4
將含有丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液變更為製造例13中所獲得之含有丙烯酸系聚合物(A-7)之溶液，且不使用磷酸酯，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。
實施例35、36
於實施例1之(附黏著劑層之偏光膜之製作)中，將偏光膜(1)變更為偏光膜(5)、(6)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。再者，黏著劑層積層於保護膜(2)側。
實施例37
於實施例24之(附黏著劑層之偏光膜之製作)中，將偏光膜(1)變更為偏光膜(5)，除此以外，以與實施例24相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。再者，黏著劑層積層於保護膜(2)側。
比較例5
於實施例1(丙烯酸系黏著劑組合物之製備)中不使用磷酸酯，於(附黏著劑層之偏光膜之製作)中，將偏光膜(1)變更為偏光膜(5)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。再者，黏著劑層積層於保護膜(2)側。
比較例6
於實施例1(丙烯酸系黏著劑組合物之製備)中，將含有丙烯酸系 聚合物(A-1)之溶液變更為製造例9中所獲得之含有丙烯酸系聚合物(A-3)之溶液，且不使用磷酸酯，於(附黏著劑層之偏光膜之製作)中，將偏光膜(1)變更為偏光膜(6)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附黏著劑層之偏光膜。再者，黏著劑層積層於保護膜(2)側。
對實施例及比較例中使用之磷酸系化合物進行如下分析。將其結果示於表2。
(分析方法)
基於31P-NMR(Acetone-d6、室溫)之測定結果而算出實施例及比較例中使用之磷酸系化合物之組成。藉由測定並根據所獲得之波峰之積分值而算出mol%後，自酯之醇成分之烷基鏈算出含量比(重量%)。
(31P-NMR測定條件)
測定裝置：Bruker Biospin、AVANCE III-400
觀測頻率：160MHz(31P)
翻轉角：30°
測定溶劑：Acetone-d6(重氫丙酮)
測定溫度：室溫
化學位移標準：P=(OCH3)3 in Acetone-d6(31P；140ppm外部標準)
於表2中，所謂磷酸單酯係指通式(1)之R1及R2中之任一者為氫原子而另一者為可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基的化合物(於通式(2)之情形時，係R1為氫原子之化合物)，所謂磷酸二酯係指通式(1)之R1及R2為可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基的化合物(於通式(2)之情形時，係R1為可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基的化合物)。例如於為Phosphanol SM-172之情形時，「單酯」表示通式(2)之R1=H、R3=C8H17、n=0之化合物，「二酯」表示通式(2)之R1=R3=C8H17、n=0之化合物。
<耐腐蝕性試驗>
將於表面形成有ITO層之導電性膜(商品名：Elecrysta(P400L)、日東電工(股份)製造)切割成15mm×15mm，將實施例及比較例中所獲得之樣品切割成8mm×8mm而貼合於該導電性膜上之中央部後，於50℃、5atm下施加15分鐘高壓釜，將所獲得者設為耐腐蝕性測定樣品。使用下述測定裝置測定所獲得之測定用樣品之電阻值，將其設為「初始電阻值」。
其後，將測定用樣品於溫度60℃、濕度90%之環境下投入500小時後，測定電阻值，將所獲得者設為「濕熱後之電阻值」。再者，上述電阻值係使用Accent Optical Technologies公司製造之HL5500PC進行測定。自以上述方式測得之「初始電阻值」及「濕熱後之電阻值」並根據下式而算出電阻值變化率(%)，按照以下之評價基準進行評價。
(評價基準)
◎：電阻值變化率未達150%(由濕熱所引起之電阻值之上升幅度較小(耐腐蝕性良好))
○：電阻值變化率為150%以上且未達300%
△：電阻值變化率為300%以上且未達400%
×：電阻值變化率為400%以上(由濕熱所引起之電阻值之上升幅度較大(耐腐蝕性不良))
<黏著劑之耐久性試驗(剝離及起泡)>
將實施例、比較例中所獲得之附黏著劑層之偏光膜樣品之隔離膜剝離，並貼合於無鹼玻璃及形成有下述非晶質ITO之玻璃的ITO面，進行50℃、5atm、15分鐘之高壓釜處理後，投入至80℃及100℃之加熱烘箱及60℃/90%RH及85℃/85%RH之恆溫恆濕機中。以目視觀察500小時後之偏光膜之剝離及起泡，按照以下之評價基準進行評價。又，以目視觀察使85℃及-40℃之環境以每個循環1小時實施300循環後(熱休克試驗(HS試驗))的偏光膜之剝離及起泡。按照以下之評價基準進行評價。
◎：完全未發現剝離或起泡。
○：發現以目視無法確認之程度之剝離或起泡。
△：發現可以目視確認之較小之剝離或起泡。
×：發現明顯之剝離或起泡
(形成有非晶質ITO之玻璃之製造方法)
利用濺鍍法於無鹼玻璃之一面形成ITO膜而製作具有非晶質ITO薄膜之被黏著體。晶質ITO薄膜之Sn比率為3重量%。再者，ITO薄膜之Sn比率係自Sn原子之重量/(Sn原子之重量+In原子之重量)算出。
表中之簡稱分別如下所述。
(磷酸化合物)
B-1：Phosphanol SM-172、酸值：219mgKOH/g、單酯-二酯混合物、東邦化學工業(股份)製造
B-2：Phosphanol RS-410、酸值：105mgKOH/g、單酯-二酯混合物、東邦化學工業(股份)製造
B-3：Phosphanol RS-710、酸值：62mgKOH/g、單酯-二酯混合物、東邦化學工業(股份)製造
B-4：DBP、酸值：266mgKOH/g、單酯-二酯混合物、城北化學(股份)製造
B-5：磷酸(試劑特級)、和光純藥工業(股份)製造
B-6：MP-4、酸值：670mgKOH/g、單酯-二酯混合物、大八化學工業(股份)製造
B-7：磷酸單正丁酯(O=P(OH)2(OC4H9)、製品編號：CDS001281)、SIGMA-ALDRICH製造
(交聯劑)
過氧化物系：過氧化二苯甲醯
異氰酸酯系：三羥甲基丙烷苯二甲基二異氰酸酯(商品名：Takenate D110N)(三井化學(股份)製造)
(離子性化合物)
E-1：雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰(森田化學工業(股份)製造)
E-2：1-甲基-1-乙基吡咯烷鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(岸田化學(股份)製造)
又，表3、5中之碘含量為偏光元件中之碘及/或碘離子之含量(重量%)。

Claims (22)

  1. 一種附黏著劑層之偏光膜，其特徵在於：於含有碘及/或碘離子之碘系偏光元件之至少單面具有透明保護膜的碘系偏光膜之至少一面，具有由含有磷酸系化合物及(甲基)丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑組合物所形成之黏著劑層，該磷酸系化合物係選自由下述通式(1)： (式中，R1及R2分別獨立地表示氫原子或可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基)所表示之化合物及上述通式(1)所表示之化合物之多聚物所組成之群中之1種以上。
  2. 如請求項1之附黏著劑層之偏光膜，其中上述碘系偏光元件中之碘及/或碘離子之含量為1~14重量%。
  3. 如請求項2之附黏著劑層之偏光膜，其中上述碘系偏光元件中之碘及/或碘離子之含量為3~12重量%。
  4. 如請求項1之附黏著劑層之偏光膜，其中上述磷酸系化合物為包含磷酸且包含選自由通式(1)之R1及R2中之任一者為氫原子而另一者為可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基的磷酸單酯及通式(1)之R1及R2為可包含氧原子之碳數1~18之烴殘基的磷酸二酯所組成之群中之1種以上之磷酸酯的混合物。
  5. 如請求項4之附黏著劑層之偏光膜，其中上述磷酸系化合物為包含磷酸及磷酸單酯之混合物。
  6. 如請求項1之附黏著劑層之偏光膜，其中上述碳數1~18之烴殘基為碳數1~10之直鏈或支鏈之烷基。
  7. 如請求項1之附黏著劑層之偏光膜，其中上述碘系偏光膜為僅於上述碘系偏光元件之單側具有透明保護膜之單面保護偏光膜，且上述黏著劑層與上述單面保護偏光膜之不具有透明保護膜之面接觸。
  8. 如請求項1之附黏著劑層之偏光膜，其中上述碘系偏光元件之厚度為10μm以下。
  9. 如請求項1之附黏著劑層之偏光膜，其中上述碘系偏光膜之總厚度為80μm以下。
  10. 如請求項1至9中任一項之附黏著劑層之偏光膜，其係以如請求項1至9中任一項之附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層與具有透明導電層之構件之透明導電層接觸之方式進行貼合而使用。
  11. 如請求項1之附黏著劑層之偏光膜，其中上述磷酸系化合物之添加量相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份而為0.001~4重量份。
  12. 如請求項1之附黏著劑層之偏光膜，其中上述(甲基)丙烯酸系聚合物含有(甲基)丙烯酸烷基酯及含羥基之單體作為單體單元。
  13. 如請求項12之附黏著劑層之偏光膜，其中含羥基之單體為丙烯酸4-羥基丁酯。
  14. 如請求項1之附黏著劑層之偏光膜，其中(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為120萬~300萬。
  15. 如請求項1之附黏著劑層之偏光膜，其中上述丙烯酸系黏著劑組合物進而含有交聯劑。
  16. 如請求項15之附黏著劑層之偏光膜，其中交聯劑為選自由過氧化物系交聯劑及異氰酸酯系交聯劑所組成之群中之1種以上之交聯劑。
  17. 如請求項1之附黏著劑層之偏光膜，其中上述丙烯酸系黏著劑組合物進而含有離子性化合物。
  18. 一種積層體，其特徵在於：使如請求項1至17中任一項之附黏著劑層之偏光膜與具有透明導電層之透明導電性構件以上述附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層與上述基材之透明導電層接觸之方式進行貼合。
  19. 如請求項18之積層體，其中上述透明導電層係由氧化銦錫所形成。
  20. 如請求項19之積層體，其中上述氧化銦錫為非晶質之氧化銦錫。
  21. 一種圖像顯示裝置，其特徵在於：使如請求項1至17中任一項之附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層與具有透明導電層之液晶面板以上述附黏著劑層之偏光膜之黏著劑層與上述液晶面板之透明導電層接觸之方式進行貼合。
  22. 一種圖像顯示裝置，其特徵在於：使用如請求項18至20中任一項之積層體作為觸控面板。
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