CN113970981A - 一种触控偏光片及加工工艺和光学显示装置 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及偏光片加工技术领域,具体公开了一种触控偏光片及加工工艺和光学显示装置,触控偏光片包括偏光片本体、固设在偏光片本体光出射表面的结合层、第一保护层、固设在第一保护层表面的触控层,所述第一保护层连同触控层一起通过卷对卷方式固定连接在结合层表面,所述结合层位于偏光片本体和第一保护层之间,所述第一保护层位于结合层和触控层之间。本申请的触控偏光片,提高了触控偏光片的加工效率和稳定性,还提高了触控偏光片的实用性。

Description

一种触控偏光片及加工工艺和光学显示装置
技术领域
本申请涉及偏光片加工技术领域,更具体地说,它涉及一种触控偏光片及加工工艺和光学显示装置。
背景技术
偏光片又称偏振光片,液晶显示器的成像必须依靠偏振光,所有液晶显示器都有前后两片偏光片紧贴在液晶玻璃上,组成总厚度1mm左右的液晶片。偏光片光出射的表面设置有触控屏,触控屏通过OCA胶实现其和偏光片的固定连接,此时,触控屏、偏光片均需要预先制作完成,且触控屏、偏光片两者为分开、独立状态,然后在偏光片光出射表面贴上一层OCA胶,之后采用片对片的方式,将触控屏粘贴在偏光片表面的OCA胶上,并实现触控屏和偏光片的固定,由于需要精准对位,效率较低。
发明内容
为了提高触控偏光片加工效率和稳定性,本申请提供一种触控偏光片及加工工艺和光学显示装置。
第一方面,本申请提供一种触控偏光片,采用如下的技术方案:
一种触控偏光片,包括偏光片本体、固设在偏光片本体光出射表面的结合层、第一保护层、固设在第一保护层表面的触控层,所述第一保护层连同触控层一起通过卷对卷方式固定连接在结合层表面,所述结合层位于偏光片本体和第一保护层之间,所述第一保护层位于结合层和触控层之间。
通过采用上述技术方案,采用卷对卷的方式,相比采用片对片的方式,提高了触控偏光片的加工效率,使触控偏光片具有加工简便、稳定的优点。同时,第一保护层和触控层之间不需要OCA胶,简化加工工艺,节约成本,也提高了触控偏光片的加工效率。
进一步的申请人发现,如果在偏光片本体光出射表面设置第一保护层,然后在第一保护层的表面设置触控层,由于触控层设置时,不可避免的需要对偏光片本体进行曝光,曝光会使偏光片本体出现黄变现象,使偏光片本体光学色调B值变大,影响偏光片本体的色调和使用效果。本申请中,将触控层固设在第一保护层表面后,然后将第一保护层连同触控层一起固定连接在偏光片本体光出射表面的结合层上,不需要对偏光片本体进行曝光,从而不会使偏光片本体出现因曝光而黄变的情况,提高触控偏光片的使用效果和实用性。
可选的,所述第一保护层为SRF膜、TAC膜中的一种。
通过采用上述技术方案,对第一保护层进行优化,降低第一保护层产生干涉条纹而对触控偏光片显示效果的影响,提高触控偏光片的实用性。
可选的,所述触控层为纳米银膜制成的触控层。
通过采用上述技术方案,便于触控层的加工和使用。
可选的,所述第一保护层的两个侧面分别设置有预涂层。
通过采用上述技术方案,预涂层对第一保护层进行润湿,并利用预涂层聚合物中的官能团有效的增加第一保护层和结合层之间的结合力,进一步提高第一保护层和偏光片本体的结合力,也提高第一保护层和触控层的结合力,提高触控偏光片的实用性和稳定性。
可选的,所述偏光片本体光入射表面设置有第二保护层,所述第二保护层和偏光片本体之间也设置有结合层,所述第二保护层通过结合层实现其和偏光片本体的固定连接。
通过采用上述技术方案,第二保护层对偏光片本体起到保护的作用,降低水分对偏光片本体的影响,而且还能够增加偏光片本体的机械强度,提高触控偏光片的实用性。
可选的,所述第二保护层为SRF膜、TAC膜中的一种。
通过采用上述技术方案,对第二保护层进行优化,便于根据需要进行选择,提高触控偏光片的实用性。
可选的,所述结合层为PVA胶、PSA胶、OCA胶、UV固化胶中的一种。
通过采用上述技术方案,结合层可以为PVA胶、PSA胶、OCA胶、UV固化胶中的一种,能够实现偏光片本体和第一保护层的固定连接,而且还能够根据需要进行选择,提高触控偏光片的实用性。
第二方面,本申请提供一种上述触控偏光片的加工工艺,采用如下的技术方案:
一种上述触控偏光片的加工工艺,包括如下步骤:
在第一保护层的其中一个侧面形成导电膜;
在导电膜表面涂覆光刻胶,且形成光刻胶膜,然后利用掩模板对光刻胶膜进行曝光,将触控图形以外的图形留于光刻胶膜上,显影后除去触控图形以外的光刻胶膜,并露出触控图形以外的导电膜,且光刻胶膜于触控图形处形成光刻胶层;
对露出触控图形以外的导电膜进行刻蚀,导电膜于触控图形处形成第一触控电极、第二触控电极,然后除去光刻胶层,并露出触控图形处的导电膜,且形成触控层,得到带有触控层的第一保护层;
在偏光片本体光出射表面贴合结合原料,结合原料形成结合层,然后采用卷对卷的方式,将带有触控层的第一保护层于远离触控层的侧面和偏光片本体光出射表面的结合层贴合,并卷对卷复合,得到触控偏光片。
通过采用上述技术方案,采用卷对卷的方式实现第一保护层和偏光片本体的连接,相比采用片对片的方式,提高了触控偏光片的加工效率,使触控偏光片具有加工简便、稳定的优点。而且,由于第一保护层连同触控层一起固定连接在偏光片本体光出射表面的结合层上,没有对偏光片本体进行曝光,从而不会使偏光片本体出现因曝光而黄变的情况,提高触控偏光片的使用效果和实用性。
可选的,第一保护层表面涂覆光刻胶前,先对第一保护层的两个侧面分别涂覆底涂剂,且于第一保护层的两侧形成预涂层。
通过采用上述技术方案,利用预涂层提高第一保护层和偏光片本体、触控层、第一保护层连接稳定性,提高触控偏光片的实用性和稳定性。
第三方面,本申请提供一种光学显示装置,采用如下的技术方案:
一种光学显示装置,包括上述所述的触控偏光片。
通过采用上述技术方案,便于触控偏光片的使用。
综上所述,本申请具有以下有益效果:
1、本申请的触控偏光片,触控层固设在第一保护层表面后,采用卷对卷的方式,将第一保护层连同触控层一起固定连接在偏光片本体光出射表面的结合层上,采用卷对卷的方式,相比采用片对片的方式,提高了触控偏光片的加工效率,而且,第一保护层和触控层之间不需要OCA胶,简化加工工艺,节约成本,使触控偏光片具有加工简便、稳定的优点,同时,不需要对偏光片本体进行曝光,不会使偏光片本体出现因曝光而黄变的情况,提高触控偏光片的使用效果和实用性。
2、在第一保护层的两个侧面分别设置有预涂层,预涂层对第一保护层进行润湿,并利用预涂层提高第一保护层和偏光片本体、触控层的结合力,提高触控偏光片的实用性和稳定性。
3、在偏光片本体上设置第二保护层,降低水分对偏光片本体的影响,而且还能够增加偏光片本体的机械强度,提高触控偏光片的实用性。
附图说明
图1是本申请触控偏光片的示意图。
附图标记说明:1、偏光片本体;2、第一保护层;21、预涂层;3、结合层;4、触控层;5、第二保护层。
具体实施方式
以下结合附图1对本申请作进一步详细说明。
一种触控偏光片
参照图1,触控偏光片包括偏光片本体1,偏光片本体1为PVA膜。偏光片本体1的光出射表面设置有第一保护层2,第一保护层2为SRF膜,且选自日本东洋,SRF膜的延迟量为7000nm,达到无干涉条纹的效果,降低第一保护层2对触控偏光片显示效果的影响。第一保护层2也可以根据需要设置为TAC膜。第一保护层2和偏光片本体1之间设置有结合层3,结合层3为PVA胶,其也可以根据需要设置为PSA胶、OCA胶、UV固化胶等。第一保护层2和偏光片本体1通过结合层3实现两者的固定连接,且结合层3位于偏光片本体1和第一保护层2之间,第一保护层2位于结合层3和触控层4之间。
参照图1,第一保护层2远离偏光片本体1的表面设置有触控层4,触控层4为纳米银膜制成的触控层4。第一保护层2的两个侧面分别涂布有预涂层21,预涂层21为Rvoeo PM-3底涂剂。第一保护层2通过预涂层21增加其和偏光片本体1连接的稳定性,第一保护层2也通过预涂层21增加其和触控层4连接的稳定性。
第一保护层2属于弱极性膜,在第一保护层2侧面涂布预涂层21,预涂层21对第一保护层2进行润湿,并利用预涂层21聚合物中的官能团不仅能够有效的促进分子间作用力和结合力,而且还能够与结合层3发生化学键合作用,提高结合层3和第一保护层2的结合力,并进一步提高第一保护层2和偏光片本体1、触控层4的结合力,提高触控偏光片的实用性和稳定性。
参照图1,偏光片本体1光入射表面设置有第二保护层5,第二保护层5为TAC膜,其也可以根据需要设置为SRF膜。第二保护层5和偏光片本体1之间也设置有结合层3,结合层3为PVA胶,第二保护层5和偏光片本体1通过结合层3实现两者的固定连接。第二保护层5对偏光片本体1起到保护的作用,而且还能够增加偏光片本体1的机械强度,提高触控偏光片的实用性。
参照图1,触控层4固设在第一保护层2表面后,采用卷对卷的方式,将第一保护层2连同触控层4一起固定连接在偏光片本体1光出射表面的结合层3表面上,即第一保护层2连同触控层4一起通过卷对卷方式固定连接在结合层3表面。
由于在第一保护层2的表面直接设置触控层4,使第一保护层2和触控层4成为一体,不需要在第一保护层2表面贴一层OCA胶,也不需要采用片对片的方式将触控层4粘贴在OCA胶上,而是直接在第一保护层2的表面设置触控层4,然后采用卷对卷的方式,将第一保护层2连同触控层4一起固定连接在偏光片本体1光出射表面的结合层3上,并利用第一保护层2作为触控层4的基础,省去第一保护层2和触控层4之间的OCA膜,简化了加工工艺,节约成本,提高了触控偏光片的加工效率。
申请人进一步发现,如果在偏光片本体1光出射表面设置第一保护层2,然后在第一保护层2的表面形成纳米银膜,并进一步形成触控层4,此时,不可避免的需要对偏光片本体1进行曝光,曝光的能量较高,且曝光会使偏光片本体1的PVA膜中的碘升华,伴随着偏光片本体1的PVA膜出现黄变现象,此时,偏光片本体1光学色调B值变大,影响偏光片本体1的色调和使用效果。
本申请中,由于第一保护层2为SRF膜,在第一保护层2表面形成纳米银膜,且进行曝光时,由于SRF膜中没有碘,不会造成碘升华,也不会造成第一保护层2出现黄变的现象,实现了第一保护层2和触控层4的固定连接,然后将第一保护层2连同触控层4一起固定连接在偏光片本体1光出射表面的结合层3上,不会对偏光片本体1进行曝光,从而不会使偏光片本体1出现黄变的情况,提高触控偏光片的使用效果和实用性。
同时,采用卷对卷的方式实现第一保护层2和偏光片本体1的连接,相比采用片对片的方式,提高了触控偏光片的加工效率,使触控偏光片具有加工简便、稳定的优点。而且,第一保护层2采用SRF膜或TAC膜,第一保护层2无干涉条纹,提高触控偏光片的使用效果。
一种触控偏光片的加工工艺,包括如下步骤:
S1、在第一保护层2的两个侧面分别涂覆底涂剂,底涂剂为Rvoeo PM-3底涂剂,且选自上海博帮化工有限公司,底涂剂于第一保护层2的两侧形成预涂层21。
S2、在第一保护层2的其中一个侧面于预涂层21表面溅射纳米银,并形成导电膜,导电膜为纳米银膜。
S3、在导电膜表面涂覆光刻胶,光刻胶为RD-PFR/PFS,且选自深圳市容大感光科技股份有限公司,光刻胶在导电膜表面形成光刻胶膜。然后利用掩模板对光刻胶膜进行曝光,将触控图形以外的图形留于光刻胶膜上,显影后除去触控图形以外的光刻胶膜,并露出触控图形以外的导电膜,且光刻胶膜于触控图形处形成光刻胶层。
S4、对露出触控图形以外的导电膜进行刻蚀,导电膜于触控图形处形成第一触控电极、第二触控电极,然后除去光刻胶层,并露出触控图形处的导电膜,形成触控层4,得到带有触控层4的第一保护层2。
S5、在偏光片本体1光入射表面贴合结合原料,结合原料为PVA胶。然后设置第二保护层5,第二保护层5为TAC膜。PVA胶形成结合层3,并实现偏光片本体1和第二保护层5的连接。
S6、在偏光片本体1光出射表面贴合结合原料,结合原料为PVA胶,PVA胶形成结合层3,然后采用卷对卷的方式,将带有触控层4的第一保护层2于远离触控层4的侧面和偏光片本体1光出射表面的结合层3贴合,并卷对卷复合,实现偏光片本体1和第一保护层2的固定连接,得到触控偏光片。
在触控层4固设在第一保护层2表面后,然后将第一保护层2连同触控层4一起固定连接在偏光片本体1光出射表面的结合层4上,不需要对偏光片本体1进行曝光,从而不会使偏光片本体1出现因曝光而黄变的情况,提高触控偏光片的使用效果和实用性,而且,采用卷对卷的方式实现第一保护层2和偏光片本体1的连接,相比采用片对片的方式,提高了触控偏光片的加工效率,使触控偏光片具有加工简便、稳定的优点。
一种光学显示装置
光学显示装置包括上述的触控偏光片。
本具体实施例仅仅是对本申请的解释,其并不是对本申请的限制,本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改,但只要在本申请的权利要求范围内都受到专利法的保护。

Claims (10)

1.一种触控偏光片,其特征在于:包括偏光片本体(1)、固设在偏光片本体(1)光出射表面的结合层(3)、第一保护层(2)、固设在第一保护层(2)表面的触控层(4),所述第一保护层(2)连同触控层(4)一起通过卷对卷方式固定连接在结合层(3)表面,所述结合层(3)位于偏光片本体(1)和第一保护层(2)之间,所述第一保护层(2)位于结合层(3)和触控层(4)之间。
2.根据权利要求1所述的一种触控偏光片,其特征在于:所述第一保护层(2)为SRF膜、TAC膜中的一种。
3.根据权利要求1所述的一种触控偏光片,其特征在于:所述触控层(4)为纳米银膜制成的触控层(4)。
4.根据权利要求1所述的一种触控偏光片,其特征在于:所述第一保护层(2)的两个侧面分别设置有预涂层(21)。
5.根据权利要求1所述的一种触控偏光片,其特征在于:所述偏光片本体(1)光入射表面设置有第二保护层(5),所述第二保护层(5)和偏光片本体(1)之间也设置有结合层(3),所述第二保护层(5)通过结合层(3)实现其和偏光片本体(1)的固定连接。
6.根据权利要求5所述的一种触控偏光片,其特征在于:所述第二保护层(5)为SRF膜、TAC膜中的一种。
7.根据权利要求1所述的一种触控偏光片,其特征在于:所述结合层(3)为PVA胶、PSA胶、OCA胶、UV固化胶中的一种。
8.一种基于权利要求1-7中任意一项所述的触控偏光片的加工工艺,其特征在于:包括如下步骤:
在第一保护层(2)的其中一个侧面形成导电膜;
在导电膜表面涂覆光刻胶,且形成光刻胶膜,然后利用掩模板对光刻胶膜进行曝光,将触控图形以外的图形留于光刻胶膜上,显影后除去触控图形以外的光刻胶膜,并露出触控图形以外的导电膜,且光刻胶膜于触控图形处形成光刻胶层;
对露出触控图形以外的导电膜进行刻蚀,导电膜于触控图形处形成第一触控电极、第二触控电极,然后除去光刻胶层,并露出触控图形处的导电膜,且形成触控层(4),得到带有触控层(4)的第一保护层(2);
在偏光片本体(1)光出射表面贴合结合原料,结合原料形成结合层(3),然后采用卷对卷的方式,将带有触控层(4)的第一保护层(2)于远离触控层(4)的侧面和偏光片本体(1)光出射表面的结合层(3)贴合,并卷对卷复合,得到触控偏光片。
9.根据权利要求8所述的一种触控偏光片的加工工艺,其特征在于:第一保护层(2)表面涂覆光刻胶前,先对第一保护层(2)的两个侧面分别涂覆底涂剂,且于第一保护层(2)的两侧形成预涂层(21)。
10.一种光学显示装置,其特征在于:包括权利要求1-7中任一所述的触控偏光片。
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