TWI603746B - 美容方法 - Google Patents
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Description
本申請案是根據2012年10月12日在日本國提出專利申請的「特許出願2012-227075號」而主張優先權,其之內容是在此援用。
本發明是有關美容方法,尤其是關於凹凸之修補效果優異,可容易卸除上妝化妝料或防曬化妝料的美容方法。
一直以來,有很多人殷切期望能修補因毛孔、皺紋、粉刺(青春痘)痕跡等而產生的皮膚上之凹凸現象。
作為如此具有凹凸修補效果的皮膚外用劑,已知有含矽氧系皮膜劑等的凹凸修補用皮膚外用劑(專利文獻1)。此凹凸修補用皮膚外用劑,係在皮膚上作成強韌的化妝膜而達成優異的凹凸修補效果。然而,不使用卸妝用的洗淨劑時,會有化妝膜在皮膚上殘留之問題。
一般的上妝化妝料或防曬化妝料中,當卸除化妝料時,如不使用非為水之卸妝用的清洗劑時,紋路中會殘留化妝料,會有成為顏面暗沉或肌膚粗糙的原因之問題。
又,在護膚化妝料中,係嘗試摻配各式各樣的有效
成分,以賦與保濕效果或美白效果等。
記載指出為了提高如此之有效成分的經皮吸收效果,使保濕用凝膠薄片(專利文獻2)或機能性薄片(專利文獻3)中含有有效成分。此等的薄片因為是凝膠狀而顯目,故無法長時間黏貼在臉上並直接黏貼著而外出。
另一方面,在塗布護膚化妝料後,如塗布上妝化妝料或防曬化妝料時,有效成分可能會混雜,也會有可能污染筆或粉撲等的塗布器具之問題。
專利文獻1:日本特開2010-229094號公報
專利文獻2:日本特開2001-31556號公報
專利文獻3:日本特開2012-148980號公報
本發明是有鑑於前述以往技術而進行者,此待解決之課題是提供一種美容方法,其凹凸修補效果優異,可容易卸除上妝化妝料及/或防曬化妝料。又,亦可提供一種美容方法,其係在黏貼基材膜之前塗布護膚化妝料時,護膚化妝料經皮吸收之效果優異。
本發明人等為了解決前述課題,經過精心再三研究之結果,發現在含有下述步驟:將包含膜厚10至500nm的基材膜
與支撐物的薄膜之基材膜面黏貼在皮膚之步驟,與除去黏貼有薄膜的支撐物之步驟,與在該皮膚上塗布上妝化妝料及/或防曬化妝料之步驟時,則凹凸之修補效果優異,並可容易卸除上妝化妝料及防曬化妝料,遂而完成本發明。
亦即,本發明的美容方法,係含有:在皮膚上黏貼薄膜的基材膜面之步驟,與除去黏貼有薄膜的支撐物之步驟,與在該皮膚上塗布上妝化妝料及/或防曬化妝料之步驟的美容方法,其中,薄膜包含膜厚10至500nm的基材膜與支撐物。
前述美容方法中,在將基材膜黏貼於皮膚上之步驟前,宜有塗布護膚化妝料之步驟。
前述美容方法中,基材膜宜含有1種或2種以上選自聚乳酸、聚乙醇酸、聚己內酯、或是此等的共聚合物、丙烯酸胺酯共聚合物中。
前述美容方法中,基材膜中宜載持透明質酸或其衍生物膜。
前述美容方法中,支撐物宜為水溶性高分子膜或布。
前述美容方法中,皮膚宜有凹凸者。
本發明的上妝方法,係將基材膜(除去支撐物的薄膜)黏貼在皮膚上之後,塗布上妝化妝料及/或防曬化妝料之上妝方法,其中,薄膜包含膜厚10至500nm的基材膜與支撐物。
本發明提供一種凹凸之修補效果優異,並可容易卸除上妝化妝料及防曬化妝料的美容方法。又,提供一種美容方法,係在黏貼基材膜前塗布護膚化妝料時,護膚化妝料的經皮吸收效
果優異。
10‧‧‧薄膜
12‧‧‧基材膜
14‧‧‧支撐物
16‧‧‧角層
18‧‧‧表皮
20‧‧‧上妝化妝料及/或是防曬化妝料
22‧‧‧護膚化妝料
第1圖係呈示本發明的美容方法中所使用之薄膜的圖。
第2圖(A)至(C)係本發明的美容方法之說明圖。
第3圖(A)至(C)係本發明的美容方法之說明圖。
第4圖(A)至(D)係具有塗布護膚化妝料之步驟的本發明之美容方法的說明圖。
第5圖(A)至(D)係具有塗布護膚化妝料之步驟的本發明之美容方法的說明圖。
第6圖(A)是素顏的照片。(B)是在的皮膚上黏貼有基材膜之照片。(C)是在(B)的基材膜上塗布有上妝化妝料之照片。
第7圖(A)是素顏的照片。(B)是在(A)的皮膚上塗布有粉狀粉底的皮膚照片。
第8圖(A)是素顏的照片。(B)是在(A)的皮膚上黏貼有基材膜之照片。(C)是在(B)的基材膜上塗布有上妝化妝料之照片。(D)是將(C)的基材膜以透明膠帶除去之照片。
第9圖(A)是在素顏上塗布有護膚化妝料及上妝化妝料之照片。(B)是在素顏上塗布有護膚化妝料後,黏貼基材膜,塗布有上妝化妝料之照片。
第10圖(A-1)是在皮膚上塗布有上妝化妝料之照片。(A-2)是將(A-1)的化妝料塗布部分以透明膠帶剝離時的照片((A-2')是其放大照片)。(B-1)是在皮膚上黏貼基材膜,並塗布有上妝化妝料之照片。(B-2)是將(B-1)的化妝料塗布部分以透明膠帶剝離時之照片
((B-2')是其放大照片)。
第11圖係呈示由只塗布胺甲環酸(tranexamic acid)溶液之皮膚(只有胺甲環酸溶液)與在塗布胺甲環酸溶液後黏貼有基材膜之皮膚(胺甲環酸溶液+基材膜)所採集的角質層的胺甲環酸量之圖(3名審察員所測定之結果)。
第12圖係呈示由只塗布胺甲環酸溶液之皮膚(只有胺甲環酸溶液)與在塗布胺甲環酸溶液後黏貼有基材膜之皮膚(胺甲環酸溶液+基材膜)所採集的角質層的胺甲環酸量之圖(測定結果的平均值)。
第13圖(A)是素顏的照片。(B)是在(A)的肌膚上塗布保濕液之皮膚,經過8小時後的照片。
第14圖(A)是素顏的照片。(B)是在(A)的肌膚上塗布保濕液後,黏貼有基材膜的皮膚,經過8小時後之照片。
首先,說明有關在本發明的美容方法中所使用的薄膜。
本發明中使用的薄膜係呈示於第1圖。
薄膜10是包含膜厚10至500nm的基材膜12與支撐物14。
基材膜必需是要有10至500nm的厚度。又,基材膜的厚度是以50至350nm為佳,以100至250nm為特佳。
基材膜的厚度太厚時,在黏貼部分會有產生不適感,且凹凸之修補效果變差的傾向。
基材膜的厚度太薄時,操作性有變差的傾向。
基材膜的材料,雖無特別限定,但以1種或2種以上選自聚乳酸、聚乙醇酸、聚己內酯、此等的共聚合物、丙烯酸胺酯共聚合物中的材料為佳。
基材膜的製作方法,如為可以製作本發明的厚度者即可而無特別限定,惟以藉由旋轉塗布法、(微)凹版印刷法,或噴霧塗布法來製作為佳。尤其是在旋轉塗布法時,雖可以使用任意的旋轉塗布機,但是以旋轉數2000至5000rpm來製作為佳。
又,在基材膜中以載持透明質酸或其衍生物者為佳。本發明中,在載持時,是含有載持層(透明質酸或其衍生物)作為基材膜。
載持層(透明質酸或其衍生物)的厚度雖無特別限定,但是為了製造均勻的製品,是以50至400nm為佳。
作為透明質酸或其衍生物者,可以列舉透明質酸鈉、乙醯基化透明質酸等。
載持透明質酸或其衍生物的方法,可用任意的方法來進行。例如,可以列舉:將基材膜藉由旋轉塗布法、(微)凹版印刷法、或是噴霧塗布法等製作後,滴入含有透明質酸或其衍生物之溶液使其乾燥的方法,或是將透明質酸或其衍生物分散在基材膜材料中而得到分散液後,使用旋轉塗布法、(微)凹版印刷法、或是噴霧塗布法等在使用之基板上滴入該分散液的方法等,但並不限定此等者。
作為支撐物者,是以使用水溶性高分子膜或是布為佳。只有基材膜,則太薄以致製作後的剝離等會有困難,雖處理性也差,但將支撐物積層,可以達成處理性優異的薄膜。
支撐物的厚度並無特別限定,惟以1至500μm為佳。
作為水溶性高分子膜者,並無特別限定,惟以含有1種或2種以上選自聚乙烯醇或其衍生物、聚醚或其衍生物、聚多醣類、高分子電解質或其鹽、透明質酸或其衍生物中者為佳。
又,為了處理容易,在載持透明質酸鈉等時,支撐物除了水溶性高分子膜,亦可使用PET(聚對苯二甲酸乙二酯)等的樹脂膜。
布並無特別限定,以網狀物或是不織布為佳。
網狀物是指有網眼狀的樹脂薄片,作為素材者,可以列舉:PET樹脂、聚酯樹脂、尼龍等,從剝離性的觀點而言,雖是以使用PET樹脂為佳,但任何一種都可以良好地使用。
又,作為不織布者,可以列舉:尼龍、纖維素、聚酯纖維等。
又,本發明中,雖可列舉用於導引基材膜均勻地黏貼在皮膚上之狀態的支撐物種類或使用方法之例,但只要能均勻地黏貼在皮膚上者,即可發揮本發明的效果。
本發明的美容方法,係為了凹凸之修補效果優異,並容易卸除上妝化妝料及防曬化妝料而實施者。
本發明的美容方法,具有除去薄膜的支撐物之步驟(第2圖(A)),與在皮膚上黏貼基材膜之步驟(第2圖(B)),與在該皮膚上塗布上妝化妝料及/或防曬化妝料之步驟(第2圖(C))。
首先,如第2圖(A)所示,必需要除去薄膜的支撐物而得到基材膜。
作為支撐物而使用水溶性高分子膜時,水溶性高分子膜,例如是浸漬在水中才可以容易地除去。
作為支撐物而使用布時,在皮膚上塗布水或化妝水等,將薄
膜的基材膜側黏貼在皮膚上,將基材膜黏貼在肌膚上,可以只剝離支撐物。
其次,如第2圖(B)所示,必需要在皮膚上黏貼基材膜。
在基材膜上,載持透明質酸或其衍生物時,以將透明質酸或其衍生物載持側黏貼在皮膚上為佳。
然後,如第2圖(C)所示,必需要在黏貼有基材膜之皮膚上塗布上妝化妝料及/或防曬化妝料20。
上妝化妝料並無特別限定,惟可列舉:粉底、腮紅、眼影、底妝料、口紅、BB霜等。
防曬化妝料是為了皮膚避免紫外線光而使用的化妝品,一般是以高量調配紫外線吸收劑。本發明中,防曬化妝料不一定僅使用在身體上,也包含臉面使用的化妝料。作為防曬化妝料者,可以列舉:防曬用、白天使用的美容液、白天使用的乳液、BB乳霜等。
又,BB乳霜是Blemish Balm cream的簡稱,因為除了有底妝料、粉底、遮瑕膏等的上妝化妝料之機能之外,尚且也有防日曬機能及美容液的機能之多機能化妝品,故可以分成上妝化妝料與防曬化妝料的兩種類。
上妝化妝料及/或防曬化妝料是以不強力擦拭而塗布者為佳。
又,作為上妝化妝料及/或防曬化妝料,是以使用粉狀粉底等的液狀成分調配量少之化妝料為佳,液狀成分調配量是以使用30質量%以下的化妝料為更佳。使用液狀粉底等的液狀
成分調配量多的化妝料時,會有基材膜容易剝離的情形。
作為基材膜而使用含有聚乳酸的基材膜時,在上妝化妝料及/或是防曬化妝料中宜不調配高量的高極性成分。在調配高量的高極性成分時,會有膜形成能下降的情形。
作為高極性的成分者,例如,可以列舉:聚氧乙烯、聚氧丙烯、二甲基醚、苯氧基乙醇等。
又,在上妝化妝料及/或防曬化妝料中,亦不高量調配乙醇、十甲基環五矽氧烷、甲氧基桂皮酸乙基己酯為更佳。將如此之成分高量調配時,會有膜形成能下降的情形。
上述成分的合計量,是以30質量%以下為佳,10質量%以下為更佳,以不調配者為特佳。
又,在皮膚中進行基材膜的黏貼之步驟後,自皮膚上的基材膜乾燥後,在皮膚上進行塗布上妝化妝料及/或是防曬化妝料之步驟為佳。
基材膜至乾燥為止所需的放置時間,並無特別限定,惟以30秒鐘以上為佳,以1分鐘以上為更佳。
本發明的美容方法中,除去薄膜的支撐物之步驟,與在皮膚上黏貼基材膜之步驟,即使順序相反亦無妨。
亦即,本發明之美容方法,是含有:將薄膜的基材膜面黏貼在皮膚上之步驟(第3圖(A)),將黏貼有薄膜的支撐物除去之步驟(第3圖(B)),與在該皮膚上塗布上妝化妝料及/或防曬化妝料之步驟(第3圖(C))。
此等的步驟,可以與上述的實施形態同樣進行。
第3圖(A)所示之步驟,是在適當沾濕的皮膚上黏貼
薄膜。在此,皮膚是可用水或化妝料等的任意液體等沾濕。作為支撐物而使用布時,可在如此沾濕的皮膚上容易地黏貼薄膜。為此,本實施形態中,支撐物是以布為佳。
本發明的美容方法所黏貼之基材膜,係在使用後,藉由水或其它的清洗劑(例如卸妝品,洗面劑等),就可剝離。由於經塗布的上妝化妝料或防曬化妝料全部塗布在基材膜上,故剝離基材膜即可容易地卸除。
如此,即使只有水,沾濕黏貼部分時,即可除去基材膜及上妝化妝料及防曬化妝料。然而,本發明的基材膜,只以一般的出汗並無法剝離。
本發明的美容方法,宜使用於具有凹凸的皮膚上。進行本發明的美容方法,即使如第2圖(B)或第3圖(A)般,在角質層16中具有凹凸的皮膚,也可達成優異的凹凸之修補效果。
本發明的美容方法,在皮膚黏貼基材膜的步驟前,以具有塗布護膚化妝料的步驟為佳。
亦即,以具有下述步驟者為佳:除去薄膜的支撐物之步驟(第4圖(A)),與塗布護膚化妝料之步驟(第4圖(B)),與在皮膚上黏貼基材膜之步驟(4圖(C)),與在該皮膚上塗布上妝化妝料及/或防曬化妝料之步驟(第4圖(D))。
又,除去薄膜的支撐物之步驟,與塗布護膚化妝料之步驟,即使進行順序相反亦無妨。
本發明的美容方法中,除去薄膜的支撐物之步驟,與在皮膚上黏貼基材膜之步驟,即使順序相反亦無妨。
亦即,本發明的美容方法,是含有下述步驟:塗布護膚化妝料
之步驟(第5圖(A)),與在該皮膚上黏貼薄膜的基材膜面之步驟(第5圖(B)),與除去黏貼有薄膜的支撐物之步驟(第5圖(C)),與在該皮膚中塗布上妝化妝料及/或防曬化妝料之步驟(第5圖(D))。
具有塗布護膚化妝料之步驟的美容方法中,除去薄膜的支撐物之步驟,在皮膚上黏貼基材膜之步驟,在該皮膚上塗布上妝化妝料及/或防曬化妝料之步驟,係如上述說明來進行。
塗布護膚化妝料之步驟,係如第4圖(B)及第5圖(A)所示。
作為護膚化妝料者,並無特別限定,但可以列舉:化妝水、乳液、美容液、乳霜等。
作為支撐物而使用布時,以將皮膚以護膚化妝料等沾濕,在皮膚上黏貼薄膜的基材膜面,並只剝離布,將得到之基材膜黏貼在皮膚上為佳。亦即,在第5圖所示之實施形態中,支撐物是以布為佳。
在皮膚與基材膜之間存在的護膚化妝料,有效成分的經皮吸收效果優異。即,進行本發明的美容方法,如第4圖(D)及第5圖(D)所示般,角質層16及表皮18中存在的角質細胞中的有效成分的經皮吸收量變多。因此,在護膚化妝料中,是以調配保濕劑、美白劑、血液循環促進劑、植物萃取物等的有效成分為佳。
首先,呈示本發明之美容方法中使用的薄膜之製作方法。
.薄膜製作方法
全部的操作,是在潔淨室(等級10,000)內設置旋轉塗布機(Opticoat MS-A 150,MIKASA公司製)來進行。
將矽基板(KST World公司製)切成4cm×4cm,在SPM(H2SO4/H2O 2.3:1(v/v))中於120℃浸漬10分鐘後,在離子交換水(電阻18M Ω cm)中洗浄。將此基板設置在旋轉塗布機中,滴入聚L乳酸(以下,簡稱PLA)二氯甲烷溶液(Mw:100,000,聚科學公司製,20mg/mL)500μL,進行旋轉塗布(4000rpm,20秒),得到聚L乳酸膜。得到的聚L乳酸膜厚度以原子間力顕微鏡(KEYENCE公司製)測定時,確定是120nm。
其次,將透明質酸鈉(BioHyaluro 12(資生堂股份公司製))在70%乙醇水溶液中調製成10mg/mL後,將此約1.5mL滴入聚L乳酸膜上並使其乾燥(80℃,30分鐘),在離子交換水中洗浄基板表面(室温,1分鐘),在氮氣中乾燥表面,得到基材膜(在聚L乳酸膜中載持透明質酸鈉的膜;厚度130nm)。
進一步,在基材膜的表面滴入0.5mL聚乙烯醇水溶液(以下簡稱PVA,Mw:22,000,關東化學公司製,100mg/mL)使其乾燥,並在基材膜上形成水溶性高分子膜(PVA薄膜)(80℃,30分鐘)。由矽基板剝離基材膜的每個水溶性高分子膜,得到薄膜。
又,以下顯示的效果,係將薄膜浸漬在水中並溶解水溶性高分子膜而得到的基材膜,藉由載持有透明質酸鈉之側黏貼在皮膚上而評定。
本發明人等,對於黏貼有以上述製作方法得到的薄膜基材膜之皮膚進行觀察。
首先,拍攝被驗者完全沒有塗布任何物的臉頰。拍攝之照片
係如第6圖(A)所示。
其次,在相同地方的皮膚上沾上少許的水,黏貼基材膜,約1分鐘,等待基材膜的乾燥,進行拍攝(虛線包圍的部分)。拍攝的照片係如第6圖(B)所示。
此後,在相同地方的皮膚上,將下述參考例1的粉狀粉底以海綿沾上,以拍撲方式塗布,並進行拍攝。拍攝照片係如第6圖(C)中所示。
由第6圖可知,在黏貼有基材膜之皮膚上塗布粉狀粉底,即可達成優異的凹凸修補效果。
其次,對於黏貼有上述製作方法得到的薄膜基材膜之皮膚進行更進一步的檢討。
首先,將拍攝被驗者完全沒有塗布任何東西的臉頰照片係如第7圖(A)所示。然後,在相同地方的皮膚上,塗布上述參考例1
的粉狀粉底之照片,係如第7圖(B)所示。
其次,將相同被驗者完全沒有塗布任何東西之臉頰所拍攝之照片呈示在第8圖(A)中。在相同地方的皮膚上,沾上少許的水,黏貼基材膜(實線圍繞部分),約1分鐘,等待基材膜乾燥後,加以拍攝。照片係如第8圖(B)中所示。
此後,在相同地方的皮膚上,將上述參考例1的粉狀粉底以海綿沾上,以拍撲方式塗布。此時之照片係如第8圖(C)所示。
其次,將黏貼之基材膜,用透明膠帶除去。此時的照片係如第8圖(D)所示。
由第7圖及第8圖可再度確認,在黏貼有基材膜之皮膚上塗布粉狀粉底時,可達成優異之凹凸修補效果。又,可知在除去基材膜後,在毛孔不會有化妝品堵塞,化妝品可容易脫落。
其次,對於黏貼有不同厚度的基材膜之皮膚進行檢討。
首先,本發明人等,將含有厚度330nm(聚L乳酸膜250nm+乙醯基化透明質酸80nm)的基材膜之薄膜以(微)凹版印刷法製作。作為支撐物者,是使用布(PET網狀物)。
然後,在受驗者洗臉後,使塗布護膚化妝料、上妝化妝料,經過5小時後拍攝照片。又,在剛要塗布上妝化妝料之前,只在單邊臉頰上黏貼基材膜,剝離支撐物。
在此,於護膚化妝料(化妝水及乳液)、上妝化妝料(底妝及粉狀粉底)中,分別使用ELIXIR SUPERIEUR(都是Ⅱ,資生堂公司製)、MAQuill AGE(全效精華妝前底霜BB(Perfect Multi Base BB)、TRUE POWDERY,資生堂公司製)。
將不黏貼有經過5小時化妝料塗布後的基材膜的皮膚,黏貼有基材膜之皮膚的照片,分別如第9圖(A),第9圖(B)所示。
由第9圖,即使在不黏貼有基材膜的皮膚上塗布上妝化妝料,於毛孔中底粉的粉也會掉落,而無法遮掩毛孔。另一方面,在黏貼有基材膜之皮膚上塗布上妝化妝料時,毛孔並不明顯,可以再確認能達成優異的凹凸修補效果。
另一方面,本發明人等藉由(微)凹版印刷法,製作包含上述以外之厚度(300nm(聚L乳酸膜200nm+乙醯基化透明質酸100nm)及400nm(聚L乳酸膜200nm+乙醯基化透明質酸200nm))之基材膜的薄膜(支撐物:PET網狀物、尼龍網狀物、不織布),當將基材膜黏貼在皮膚上時,任何一種都有優異的凹凸修補效果。
由以上之事實,本發明之美容方法,是具有下述步驟:將薄膜的基材膜面黏貼在皮膚上之步驟,與除去黏貼有薄膜的支撐物之步驟,與在該皮膚上塗布上妝化妝料及/或防曬化妝料之步驟的美容方法,其中,薄膜包含膜厚10至500nm的基材膜與支撐物。
使用本發明的美容方法,凹凸之修補效果優異,可容易卸除上妝化妝料及/或防曬化妝料。
本發明人等進一步檢討的結果,得知在皮膚上黏貼基材膜之步驟,與除去薄膜的支撐物之步驟的順序即使相反亦具有同樣的效果。
其次,本發明人等,對於以上述製作方法得到的薄膜黏貼在皮膚上並塗布上妝化妝料之皮膚進行觀察。
將藉由下述方法拍攝經上妝之皮膚(A(控制組)及B)的照片,
分別呈示於第10圖(A-1)、(B-1)。該皮膚之妝以透明膠帶剝離時的照片,分別呈示於第10圖(A-2)、(B-2)。又,第10圖(A-2’)、(B-2’)分別是(A-2)、(B-2)的放大照片。
.皮膚A(控制組)
在完全沒有塗布的皮膚上,將下述參考例2的眼影以眼影棒(Eye shadow chip)塗布。
.皮膚B
在皮膚上沾有少許的水,黏貼基材膜,剝離支撐物。然後,1分鐘,等待基材膜乾燥後,將下述參考例2的眼影以眼影棒塗布。
由第10圖可知,黏貼有基材膜之皮膚,在剝離基材膜時,容易使基材膜上的上妝化妝料卸除。又,藉由放大照片時,可知皮膚A會有紋路中殘留化妝料的情形,但在皮膚B卻可以很乾淨地卸除。
其次,本發明人等,在黏貼以上述製作方法得到之
薄膜之前,塗布護膚化妝料(胺甲環酸(Tranexamic acid)溶液),對於該化妝品的經皮吸收效果進行檢討。
將控制組的僅塗布胺甲環酸溶液之皮膚(只有胺甲環酸溶液),與在塗布胺甲環酸溶液後黏貼薄膜之皮膚(胺甲環酸溶液+薄膜)的角層,藉由下述方法採集。然後,由採集之角層在水中萃取胺甲環酸,在液體層析分析儀質量分析(LC-MS)中定量。將3名的審察員(panel)進行2次的試驗結果呈示於第11圖,將該結果的平均值呈示於第12圖。
.角層採集方法
在22℃,相對濕度20%的恒温恒濕室中進行。
首先,將3名的審察員的左手腕前腕內側用肥皂洗浄。
其次,將2%胺甲環酸水溶液分別塗布在受驗部位2個地方(塗布量:2μl/cm2),使之乾燥。乾燥後,塗布水。
在一方的受驗部位(控制組),就直接使其乾燥。在另一方的受驗部位上,黏貼基材膜。
然後,以6小時靜置在恒温恒濕室中。6小時之後,以肥皂將各受驗部位洗浄。此時,基材膜也用水洗掉。
然後,將各受驗部位的角層以瞬間強力黏合劑(Aron Alpha)採集。
由第11圖及第12圖可知,在塗布護膚化妝料(胺甲環酸溶液)之後黏貼基材膜,有效成分(胺甲環酸)的經皮吸收效果會上昇。
亦即,在乾燥環境中,於只有胺甲環酸溶液,胺甲環酸會結晶而不易經皮吸收,但在黏貼基材膜則不會結晶化,顯示對肌膚
的滲透量變多。
其次,本發明人等,在黏貼以上述製作方法得到之薄膜之前,塗布護膚化妝料(保濕液),對於粗糙角質層的凹凸修補效果與保濕效果進行檢討。
在皮膚(A),拍攝進行下述美容方法的皮膚(B)之照片,分別呈示於第13圖(B)(控制組),第14圖(B)。
.美容方法
在23℃,相對濕度10%的恒温恒濕室中進行。
首先,在審察員的左手腕前腕內側,將下述參考例3所示的保濕液分別塗布(塗布量:2μl/cm2)在受驗部位的2個地方。
在一方的受驗部位,就直接放置8小時(控制組)。在另一方的受驗部位,黏貼基材膜之後,放置8小時。
第13圖的(A)、(B),與第14圖的(A)、(B)相比較時,可知黏貼有基材膜之第14圖的這一方,因粗糙而使角質層呈現白色捲曲部分變少。
如此,如使用本發明的美容方法時,也可長時間維持凹凸之修補效果及保濕效果。
10‧‧‧薄膜
12‧‧‧基材膜
14‧‧‧支撐物
Claims (10)
- 一種美容方法,係依序含有下述步驟:在皮膚上黏貼薄膜的基材膜面之步驟、除去黏貼有薄膜的支撐物之步驟、以及在該皮膚上塗布上妝化妝料及/或防曬化妝料之步驟;其中,薄膜包含膜厚10至500nm的基材膜與支撐物;基材膜是含有選自聚乳酸、聚乙醇酸、聚己內酯、或是此等的共聚合物、丙烯酸胺酯共聚合物中之1種或是2種以上;在基材膜中載持有透明質酸或其衍生物膜,透明質酸之衍生物為透明質酸鈉或乙醯基化透明質酸。
- 一種美容方法,係依序含有下述步驟:除去薄膜的支撐物之步驟、在皮膚上黏貼基材膜之步驟、以及在該皮膚上塗布上妝化妝料及/或防曬化妝料之步驟;其中,薄膜包含膜厚10至500nm的基材膜與支撐物;基材膜是含有選自聚乳酸、聚乙醇酸、聚己內酯、或是此等的共聚合物、丙烯酸胺酯共聚合物中之1種或是2種以上;在基材膜中載持有透明質酸或其衍生物膜,透明質酸之衍生物為透明質酸鈉或乙醯基化透明質酸。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之美容方法,其中,在皮膚上黏貼基材膜之步驟前,係有塗布護膚化妝料之步驟。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之美容方法,其中,支撐物是水溶性高分子膜或布。
- 如申請專利範圍第3項所述之美容方法,其中,支撐物是水溶性高分子膜或布。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之美容方法,其中,皮膚是有 凹凸者。
- 如申請專利範圍第3項所述之美容方法,其中,皮膚是有凹凸者。
- 如申請專利範圍第4項所述之美容方法,其中,皮膚是有凹凸者。
- 如申請專利範圍第5項所述之美容方法,其中,皮膚是有凹凸者。
- 一種化妝方法,係在皮膚上黏貼基材膜(除去支撐物的薄膜)之後,塗布上妝化妝料及/或防曬化妝料者,其中,薄膜包含膜厚10至500nm的基材膜與支撐物;基材膜是含有選自聚乳酸、聚乙醇酸、聚己內酯、或是此等的共聚合物、丙烯酸胺酯共聚合物中之1種或是2種以上;在基材膜中載持有透明質酸或其衍生物膜,透明質酸之衍生物為透明質酸鈉或乙醯基化透明質酸。
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