TWI579037B - Substrate liquid processing device and substrate liquid treatment method - Google Patents

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TWI579037B
TWI579037B TW103138346A TW103138346A TWI579037B TW I579037 B TWI579037 B TW I579037B TW 103138346 A TW103138346 A TW 103138346A TW 103138346 A TW103138346 A TW 103138346A TW I579037 B TWI579037 B TW I579037B
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Yasuhiro Takaki
Hiroshi Komiya
Chikara Nobukuni
Keigo Satake
Atsushi Anamoto
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Tokyo Electron Ltd
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Description

基板液處理裝置及基板液處理方法
本發明，係關於基板液處理裝置中之處理液 的濃度調節技術者，該基板液處理裝置，係使用以預定之比率混合複數個原料液之處理液而對基板施予預定的液處理。
在半導體裝置之製造工程中，係包含有藉由 將處理液供給至基板所執行之洗淨、蝕刻等的液處理。為了進行像這樣的液處理，例如使用如記載於專利文獻1之具備有複數個液處理單元的液處理系統。
記載於專利文獻1的液處理系統，係具有： 儲槽，儲存處理液；循環管線，連接於儲槽；及泵，使儲存於儲槽內的處理液在循環管線循環。在循環管線中，係分別經由分歧管線而連接有複數個液處理單元，液處理單元，係使用在循環管線內循環的處理液而對基板施予預定的液處理。
液處理所使用的處理液，係藉由使複數個種 類之原料液從分別獨立的原料液供給管線，以各預定量供 給至儲槽，而在儲槽內混合該些的方式，予以調整。如此一來，當藉由儲槽內混合來調整處理液時，有在儲槽內原料液彼此充分混合之前從儲槽流出，而不適當之濃度的處理液被供給至液處理單元的情形。
又，在各原料液供給管線，係分別設置有液 體流量控制器(LFC)，而藉由各個LFC的設定流量及供給時間，將原料液供給至儲槽。在必須以低濃度且在狹窄的容許範圍內控制處理液的濃度時，係亦有因各個LFC之設定流量及供給時間而導致供給量管理不充分的情形。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2009-172459號公報
本發明，係以提供一種可將精確之濃度的處理液供給至基板的技術為目的。
在本發明之合適的一實施形態中，提供一種基板液處理裝置，其係具備有：儲槽，儲存混合至少2種類原料液而成的處理液；循環管線，處理液從前述儲槽流出再流回前述儲槽；處理部，使用前述儲槽內的處理液， 對基板施予液處理；處理液生成機構，以所控制的混合比，混合從前述至少2種類原料液之各個供給源所供給的原料液而生成處理液；處理液供給管線，將前述處理液生成機構所生成的處理液供給至前述儲槽；濃度測定裝置，測定流經前述循環管線之處理液的濃度及流經前述處理液供給管線之處理液的濃度；及控制裝置，以根據由前述濃度測定裝置所測定之處理液的濃度，使該處理液之濃度成為事先被決定之範圍內之濃度的方式，來控制前述處理液生成機構。
在本發明之其他合適的一實施形態中，提供 一種基板液處理裝置，其係具備有：處理液生成機構，混合從至少2種類原料液之各個供給源所供給的原料液而生成處理液；液處理部，使用由前述處理液生成機構所生成的處理液，對基板施予液處理；處理液供給管線，將前述處理液生成機構所生成的處理液供給至前述液處理部或連接於前述液處理部的供給目的地；濃度測定裝置，測定流經前述處理液供給管線之處理液的瞬時濃度；及控制裝置，控制前述處理液生成機構所混合之原料液的混合比，前述控制裝置，係逐次計算出由前述濃度測定裝置所測定之瞬時濃度的累加平均值，並且監視該累加平均值，以使前述累加平均值收斂於與目標濃度相關之事先被決定之容許範圍內的方式，來控制前述處理液生成機構。
在本發明之另外其他合適的一實施形態中， 提供一種基板液處理方法，其係在使用具備有儲槽(該儲 槽，係儲存混合至少2種類原料液而成的處理液)、循環管線(該循環管線，係處理液從前述儲槽流出再流回前述儲槽)及處理部(該處理部，係使用流經前述循環管線的處理液，對基板施予液處理)之基板液處理裝置的基板液處理方法中，具備有：測定流經前述循環管線之處理液之濃度的步驟；根據所測定之處理液的前述濃度，來求出為了將存在於前述循環管線及前述儲槽內之處理液的濃度設成為所期望之範圍內的濃度而應追加至前述儲槽之處理液的濃度及量之步驟；及將所求出之前述濃度及前述量的處理液供給至儲槽之步驟，將前述濃度及前述量的處理液供給至儲槽，係具有：藉由處理生成機構來混合從前述至少2種類原料液之各個供給源所供給的原料液，經由處理液供給管線送至前述儲槽的步驟；測定流經前述處理液供給管線之處理液之濃度的步驟；及根據所測定之濃度，以使流經前述處理液供給管線之處理液的濃度成為所需求之前述濃度的方式，來調節前述處理液生成機構中之原料液之混合比的步驟。
在本發明之另外其他合適的一實施形態中， 提供一種基板液處理方法，其係在使用具備有處理液生成機構(該處理液生成機構，係混合從至少2種類原料液之各個供給源所供給的原料液而生成處理液)、液處理部(該液處理部，係使用由前述處理液生成機構所生成的處理液，對基板施予液處理)、處理液供給管線(該處理液供給管線，係將前述處理液生成機構所生成的處理液供給 至前述液處理部或連接於前述液處理部的供給目的地)及濃度測定裝置(該濃度測定裝置，係測定流經前述處理液供給管線之處理液的瞬時濃度)之基板液處理的基板液處理方法中，具備有：一邊控制前述處理液生成機構所混合之原料液的混合比，一邊生成處理液，使所生成的處理液流通於前述處理液供給管線的步驟；藉由前述濃度測定裝置，來測定流經前述處理液供給管線之處理液之瞬時濃度的步驟；及逐次計算出由前述濃度測定裝置所測定之瞬時濃度的累加平均值，並且監視該累加平均值的步驟；使監視之前述累加平均值收斂於與前述目標濃度相關之事先被決定之容許範圍內的處理液流通於前述液處理部或前述供給目的地的步驟，前述原料液之混合比的控制，係藉由以使前述累加平均值收斂於與目標濃度相關之事先被決定的容許範圍內來控制前述處理液生成機構的方式予以進行。
根據上述之本發明之合適的實施形態，可將精確之濃度的處理液供給至基板。
4‧‧‧控制裝置
16‧‧‧液處理部(處理單元)
102‧‧‧儲槽
104‧‧‧循環管線
112‧‧‧分歧管線
206A，206B‧‧‧定壓閥(處理液生成機構)
208‧‧‧混合閥(處理液生成機構)
210‧‧‧處理液供給管線
210V、216V‧‧‧開關閥
212‧‧‧濃度計
212、212’‧‧‧濃度計(第1濃度測定部、第2濃度測定部)
216‧‧‧排放管線
[圖1]概略地表示液處理裝置之全體構成的電路圖。
[圖2]詳細地表示與圖1所示之液處理裝置之藥液濃度管理相關連之構成的電路圖。
[圖3]表示圖2之代替實施形態的電路圖。
[圖4]用於說明液流動方向之濃度分布的圖。
[圖5]表示根據液流動方向之濃度分布而濃度計之檢測值變動之狀態的圖。
[圖6]用於說明處理液可否供給至儲槽之判斷程序的圖。
[圖7]用於說明處理液可否供給至儲槽之判斷的程序及基於該判斷之處理液供給至儲槽的流程圖。
[圖8]說明累加平均計算之切換的圖表。
[圖9]說明在混合閥之下游側設置管內攪拌器(in-line mixer)之變形實施形態的圖。
[圖10]表示不具有儲槽之液處理裝置之全體構成的電路圖。
以下，參照圖式說明發明之實施形態。
如圖1所示，液處理裝置，係具有：複數個處理單元(液處理單元)16，對基板進行液處理；及處理流體供給源70，對處理單元16供給處理液。
處理流體供給源70，係具有：儲槽102，儲存處理液；及循環管線104，從儲槽102流出再流回儲槽102。在循環管線104，係設置有泵106。泵106，係形成從儲槽102流出而通過循環管線104流回儲槽102的循環流。在泵106的下游側中，循環管線104，係設置有去除 處理液所含之微粒等之污染物質的過濾器108。因應所需，亦更可在循環管線104設置輔助設備(例如加熱器等)。
在設定於循環管線104的連接區域110，係連 接有1個或複數個分歧管線112。各分歧管線112，係將流經循環管線104的處理液供給至對應之處理單元16。 在各分歧管線112，係可因應所需，設置流量控制閥等的流量調整機構、過濾器等。
液處理裝置，係具有將處理液或處理液構成 成分補充至儲槽102的儲槽液補充部116。在儲槽102，係設置有用於將儲槽102內之處理液廢棄的排液部118。
如圖2所示，液處理裝置，係具備有控制裝 置4。控制裝置4，係例如為電腦，具備有控制部18與記憶部19。在記憶部19，係儲存有控制在液處理裝置所執行之各種處理的程式。控制部18，係藉由讀出並執行記憶於記憶部19的程式，來控制液處理裝置的動作。
另外，該程式，係記錄於可藉由電腦進行讀 取的記憶媒體者，亦可為由該記憶媒體安裝於控制裝置4之記憶部19者。作為可藉由電腦進行讀取的記憶媒體，係例如有硬碟(HD)、軟碟片(FD)、光碟(CD)、磁光碟(MO)、記憶卡等。
接下來，參閱詳細地表示該些的圖2，說明圖 1所示之儲槽液補充部116及與其相關連的構成要素。在圖2中雖被簡略化，但在循環管線104係與圖1相同設定 有連接區域110，且在其中連接有1個或複數個分歧管線112，在各分歧管線112連接有液處理單元16。另外，在圖2中，符號109，係指用於加熱在循環管線104循環之處理液的加熱器。
儲槽液補充部116，係具有：藥液管線 204A，流通作為從藥液供給源202A供給之第1原料液的藥液(在本例中係氫氟酸(HF))；及稀釋液管線204B，流通作為用於從稀釋液供給源202B將藥液稀釋之第2原料液的稀釋液(在本例中係純水(DIW))。
在藥液管線204A及稀釋液管線204B，係分 別介設有定壓閥(減壓閥)206A、206B。
在定壓閥206A、206B的下流側中，藥液管線 204A及稀釋液管線204B，係連接於混合閥208。混合閥208，係在其內部具有相當於使2個附有開關功能之可變節流閥208A、208B一體成型者的構成。流經藥液管線204A及稀釋液管線204B的液體，係藉由被調節為預定開合度的可變節流閥208A、208B來分別限制流量，然後進行匯流。藉此，生成以預定之比率來混合了藥液與稀釋液的處理液。亦即，設置於藥液管線204A及稀釋液管線204B的定壓閥206A、206B及混合閥208，係構成處理液生成機構。
定壓閥206A、206B，係無關乎一次側壓力之 變動，具有進行減壓控制的功能，該減壓控制，係將二次側壓力維持於所指定的固定壓力。從藥液供給源202A及 稀釋液供給源202B所供給的藥液，係通常具有壓力變動。因此，為了得到精確之藥液與稀釋液的混合比，而使用定壓閥206A、206B為較佳。
在本實施形態使用的定壓閥206A、206B，係 可藉由使導入至引導口之加壓空氣的壓力(引導壓力)改變的方式，使二次側壓力之設定值改變的形式者。引導壓力之調節，係藉由電空調整器(EPR)209A、209B予以進行。
在本實施形態中，內藏於混合閥208之可變 節流閥208A、208B的開合度調節功能，係僅利用於初始設定，在運轉期間，可變節流閥208A、208B係作為固定節流而使用。藥液及稀釋液的流量調節，係使用定壓閥206A、206B的二次側壓力調節功能而進行。藉由定壓閥206A、206B之二次側壓力，亦即使作為固定節流之可變節流閥208A、208B之一次側壓力改變的方式，可調節流經藥液管線204A及稀釋液管線204B之液體的流量。可變節流閥208A、208B，係與流量調整相比，更用於壓力損耗平衡調整等的目的。
進一步詳細敍述，在本實施形態中，位於藥 液管線202A之定壓閥206A的設定二次側壓力，係設成為固定，而藉由使位於稀釋液管線202B之定壓閥206B之設定二次側壓力改變的方式，進行濃度調整。如此一來，與相對於調整小流量之藥液的流量相比，相對於調整大流量之稀釋液的流量，係因可精密地調整濃度，故較 佳。
在混合閥208，係連接有用於將在混合閥208 所調整之處理液供給至儲槽102的處理液供給管線210。
在處理液供給管線210，係附設有用以測定流 經處理液供給管線210之處理液之濃度(處理液中所含之藥液的濃度)的濃度計212。因應於成為計測對象之藥液的種類或者所需進行的精度，可使用任意形式的濃度計212，例如根據導電率進行濃度測定者、根據超音波傳播速度進行濃度測定者等。
濃度計212的檢測訊號，係被輸入至濃度控 制器214。濃度控制器214，係亦可為控制裝置4的一部分。濃度控制器214，係因應於來自濃度計212的檢測訊號，來調節從電空調整器209B送至定壓閥206B的引導壓力，藉此調節定壓閥206B之二次側壓力，使流經稀釋液管線204B之稀釋液(DIW)的流量改變，藉此，以使從混合閥208流出之處理液的濃度成為所期望之濃度的方式，進行反饋控制。另外，在本實施形態中，係如前述，因藉由僅調整大流量之稀釋液之流量的方式來調整處理液的濃度，故從電空調整器209A送至定壓閥206B的引導壓力被維持為固定。
從處理液供給管線210分歧預備捨棄用之排 放管線216，而匯流至排放管線118。在排放管線216，係介設有開關閥216V。在比排放管線216之分歧點更靠下游側，在處理液管線210亦介設有開關閥210V。
為了濃度計測，而從循環管線104分歧取出處理液的取出管線220，在混合閥208與濃度計212之間的匯流點中，使其匯流至處理液供給管線210。在取出管線220，係介設有開關閥220V。
在儲槽102中，係附設有用以檢測出儲槽102內之處理液之液位的液位計120。
接下來，說明上述之液處理裝置的運用方法。下述說明中之各構成要素的動作，係以控制裝置4的控制為基礎而予以進行。濃度控制器214，係藉由控制裝置4予以控制，又，濃度控制器214所掌握的濃度資訊會被傳達至控制裝置4。
首先，說明藉由儲槽液補充部116將所期望之濃度的處理液供給至儲槽102的基本程序。
適合於獲得所期望之濃度之處理液之混合閥208之可變節流208A、208B的開合度，係由試驗運轉來加以求得，可變節流208A、208B的開合度，係被事先設定為像那樣的開合度。又，相同地，適合於獲得所期望之濃度之處理液之定壓閥206A、206B的引導壓力，係由試驗運轉來加以求得，其值被記憶於濃度控制器214以作為控制基準值。
首先，設成為對定壓閥206A、206B之引導口賦予預定的引導壓力，將排放管線216之開關閥216V打開，將處理液供給管線210之開關閥210V關閉的狀態。又，將混合閥208之可變節流208A、208B設成為預定開 合度的開啟狀態。另外，取出管線220的開關閥220V為關閉狀態。
如此一來，藥液及稀釋液，係從藥液管線204A及稀釋液管線204B，分別以預定流量流入至混合閥208，藥液及稀釋液，係以對應於該流量比的混合比，在混合閥208內被混合，流出至處理液供給管線210，且流出至排放管線216。亦即，一開始，係進行廢棄之預備捨棄操作而不對儲槽102供給已調整的處理液。通常，直至藥液及稀釋液之流量穩定為止需要一段時間，故進行像這樣的預備捨棄操作為較佳。
在預備捨棄操作中，藉由濃度計212監視處理液的濃度，以使處理液之濃度成為所期望之濃度的方式，使濃度控制器214進行前述的反饋控制。如果由濃度計212所測定的濃度在容許範圍內穩定，則將排放管線216之開關閥216V關閉，將處理液供給管線210打開，從而將處理液供給至儲槽102內。
處理液從處理液供給管線210供給至儲槽102內的期間、使處理液流通於處理液供給管線210的期間，亦係藉由濃度計212持續地監視濃度。濃度控制器214，係在處理液的濃度高(低)於目標值時，使從電空調整器209B供給至定壓閥206B的引導壓力改變，使稀釋液的流量增加(減少)，藉此，供給至儲槽102內之處理液的濃度會被維持於容許範圍內。
該控制，係藉由反饋控制而進行，該反饋控 制，係根據相對於設定值SV(目標濃度)之測定值PV(濃度計212的檢測值)的偏差來修正操作量MV(引導壓力亦即定壓閥206A之開合度)。亦即，在該控制中，由於並不介設有流量檢測之步驟，故不需要昂貴之高精度的流量檢測器或流量檢測器內藏型的流量調整器(如液體流量控制器般者)。
不過，通常濃度計212，係在預定的取樣周期 (例如0.1~0.2ms左右)測定流經處理液供給管線210之 處理液的濃度。以下，在本說明書中，亦有時將各取樣周期時點中的處理液濃度稱為「瞬時濃度」。藉由在上述之預備捨棄操作中的濃度計212，處理液之濃度監視，係可根據各取樣時點之瞬時濃度值與容許濃度範圍的比較來進行。又，可將各取樣時點之瞬時濃度值設成為測定值PV，並將濃度目標值設成為設定值SV而進行反饋控制。
另外，由濃度計212所測定的瞬時濃度會隨 著時間經過而在預定之範圍內發生一定程度振盪(其理由為後述)，故為了避免過度敏感之監視及控制而使裝置的動作穩定，而亦可根據瞬時濃度的移動平均值以取代各個瞬時濃度值，來進行上述之監視及反饋控制。
從儲槽液補充部116將處理液供給至空的儲 槽102(設置液處理裝置後立即完全更換儲槽內的處理液時等)時，係執行以下之程序。
在按照前述的基本程序進行預備捨棄操作預 定時間之後，被調整為預定濃度的處理液，係從處理液供 給管線210將處理液供給至儲槽102內。此時，排放管線118的開關閥118V及取出管線220的開關閥220V皆為關閉狀態。
如果在儲槽102內儲存有一定程度量的處理 液，則直至儲槽102內之處理液的液位成為預定高度的期間為止一邊繼續將處理液供給至儲槽102內，一邊使泵106動作，而使處理液在循環管線104內循環。
如果在儲槽102內儲存有預定量的處理液， 則在處理單元16開始基板之處理。亦即，在使儲存於儲槽102內的處理液在循環管線104循環的狀態下，因應所需(因應於處理排程)，操作設置於分歧管線112之未圖示的開關閥、流量調節閥等，從循環管線104經由分歧管線112，將處理液送至處理單元16。使用該處理液，在處理單元16內對基板施予預定處理。
另外，在進行完全更換處理液的情況下，亦 可在將處理液儲存至儲槽之前，藉由沖洗液(例如純水)來洗淨包含有儲槽及循環管線的循環系統。在該情況下，如果擔心即使沖洗液殘留於循環系統而藉由處理液之預洗亦無法完全被去除，則在開始處理之前，依照後述之濃度監視的程序來確認位於循環系統內之處理液的濃度，如果有異常，則亦可依照後述之濃度修正的程序來進行處理液的濃度修正。
儲槽102內的處理液，係被處理單元16所進 行的液處理消耗，因而隨著時間經過，量會減少。因此， 若處理液減少預定量，則藉由儲槽液補充部116，將處理液補充至儲槽102內。在補充處理液的期間，亦繼續進行液處理。又，由儲槽102及循環管線104所構成之循環系統所含的處理液，係因溶媒(稀釋液)的蒸發、分解等，隨著時間而濃度產生改變。例如在處理液為高溫的DHF(稀氫氟酸)時，DHF中的HF濃度會隨著時間經過而逐漸慢慢地下降。
因此，在進行處理液之補充時，進行由儲槽 102及循環管線104所構成之循環系統所含之處理液的濃度修正。例如，如果所測定之處理液的濃度低於目標值，則藉由將比目標值高濃度的處理液補充至儲槽102的方式，使存在於循環系統之處理液的濃度接近目標值。
進行濃度修正之時點，雖係綜合考慮裝置之 運轉狀況、處理液是否為容易隨時間變化者、「處理容許濃度範圍(後述)」的大小等而決定即可，但例如可如下述進行設定。
(1)由液位計120所檢測出之儲槽102內的液位下降至某閥值時，進行處理液之補充，且在此時進行濃度修正(定期性之濃度修正)。
(2)經常或定期地(或者擔心有裝置之長期停止後等之濃度變化時)監視循環系統內之處理液的濃度，當濃度偏離「修正基準濃度範圍(後述)」時，進行濃度修正(基於監視之濃度修正)。
另外，「修正基準濃度範圍」，係如下述所 定義。作為設置「修正基準濃度範圍」的前提，有「處理容許濃度範圍」。「處理容許濃度範圍」，係指在藉由偏離了該範圍之濃度的處理液而進行基板之處理時，可能發生無法容許的問題之範圍的意思。另外，在偏離了「處理容許濃度範圍」的情況下，液處理裝置會被即時緊急停止。「修正開始濃度範圍」，係指比「處理容許濃度範圍」狹窄的濃度範圍，在偏離了該範圍的狀態下，即使繼續一段時間之液處理裝置的運轉，亦設定為具有不會輕易地偏離「處理容許濃度範圍」的安全範圍。另外，濃度之「目標值」，係指例如「修正開始濃度範圍」的中央值。
即使在上述(1)的情況下，亦必須在補充處 理液之前，監視循環系統內之處理液的濃度至少一次。這是為了決定所補充之處理液的量及濃度。
在循環系統內監視處理液濃度時，係維持使 泵106動作的狀態，使用開關功能，將混合閥208之可變節流閥208A、208B設成為關閉狀態，將取出管線220之開關閥220V打開，將處理液供給管線210的開關閥210V打開。另外，排放管線216之開關閥216，係事先關閉。 如此一來，流經比循環管線104之連接區域110稍微更往上流之處理液的一部分，係通過取出管線220，流入至處理液供給管線210，從而流入至儲槽102。因此，藉由附設於處理液供給管線210的濃度計212，可計測流經循環管線104之處理液的濃度。
在上述之「(1)定期性之濃度修正」的情況 下，由於是在儲槽102內的液位下降至某閥值時進行處理液的補充，因此，在開始補充處理液的時點已知存在於循環系統內之處理液的總量，因此，可知道為了將儲槽102內之處理液的液位設成為通常上限高度，而應補充的處理液量。因此，只要在補充前知道存在於循環系統內之處理液的濃度，則可為了在補充後將存在於循環系統內之處理液的濃度設成為目標值，而藉由計算來輕易地求出所必需進行補充之處理液的濃度。像這樣的計算，係可藉由控制裝置4進行。只要知道應補充的濃度，則根據上述的基本程序，將該濃度的處理液從儲槽液補充部116供給至儲槽102即可。
在上述之「(2)基於監視之濃度修正」的情況下，係將排放管線118之開關閥118V打開，一邊藉由液位計120來監視儲槽102之處理液的液位，一邊將儲槽102內的處理液排液直至液位成為預定高度為止。然後，只要執行與「(1)定期性之濃度修正」相同的程序即可。
根據上述實施形態，由於是將被調整為預定濃度的處理液供給至儲槽102，因此，從儲槽102流出至循環管線104之處理液的濃度穩定，而可使程序的穩定性提升。當將複數種原料液分別供給至儲槽102，該些原料液在儲槽102充分混合之前會流出至循環管線104，這雖然可能有在處理單元中被供給至基板的可能性，但上述實施形態並不會發生像這樣的情形。
又，根據上述實施形態，由於處理液濃度的控制，係藉由根據濃度計212(該濃度計212，係附設於處理液供給管線201)之檢測值之閥開合度(定壓閥206B之開合度)的反饋控制來予以進行，故相較於藉由原料液的流量控制來間接地控制作為原料液之混合液之處理液之濃度的情形，可更快且更精確地控制處理液濃度。又，可省略根據濃度計212的檢測值來控制LFC(液體流量控制器)時所需之從濃度進行所需流量之運算等麻煩的計算。
根據上述實施形態，由於可藉由由共通之1個濃度計212所構成的濃度測定裝置來測定從儲槽液補充部116供給至儲槽102之處理液的濃度與流經循環管線104之處理液的濃度兩者，故可縮減昂貴之濃度計的個數，而可降低液處理裝置的成本。
然而，亦可由2個濃度計構成濃度測定裝置。具體而言，例如如圖3所示，用於測定流經循環管線104之處理液之濃度的濃度計212’亦可與用於測定從儲槽液補充部116供給至儲槽102之處理液之濃度的濃度計212獨立設置。在圖3所示的替代實施形態中，取出管線220’，係從循環管線104分歧而延伸至儲槽102內，在該取出管線220’，係附設有濃度計212’。另外，亦可不設置取出管線220’而將濃度計212’直接安裝於循環管線104。另外，在圖3中，與圖2所示之構件相同的構件，係賦予相同的參考符號。
根據圖3所示的替代實施形態，由於可同時 測定流經循環管線104內之處理液的濃度與從儲槽液補充部116所供給之處理液的濃度，故可對處理液的濃度變動迅速地進行應對，又可進行精確地濃度控制。
接下來，在下述中，詳細說明關於使用濃度 計212，監視且控制從處理液供給管線210供給至儲槽102內(或者被廢棄至排放管線216)之處理液的濃度之方法之其他合適的實施形態。
在圖4中，表示混合閥208內之藥液管線 204A與稀釋液管線204B之匯流部分之構成的一例。在該例中，係對於作為稀釋液之DIW的直線形流動，將作為藥液之HF注入至與該流動大概成垂直的方向。由於液體(DIW及HF)皆藉由泵來予以輸送，故液體流動會不可避免地產生某些量的壓力變動。亦即，當定點觀測液體的流速時，則成為液體之流速(當微視性觀看時)與壓力變動連動而變動的情形。因此，會產生圖4中示意所示之液體流動方向的藥液濃度分布(陰影線部分深)。另外，實際上，由於在DIW及HF兩者中存在有上述之壓力變動，故實際的藥液濃度分布更為複雜。
濃度計212，係在預定的取樣周期(例如0.1~ 0.2ms左右)測定流經處理液供給管線210之處理液的濃度。起因於上述之液體流動方向的藥液濃度分布，濃度計212的測定值，係例如如圖5的圖表所示，會強烈振盪。 在圖5的圖表中，縱軸，係處理液(HF+DIW)中的HF濃度；橫軸，係時間經過。在此，HF濃度的目標值，係 0.0023%，該目標值，係在圖表中以實線的水平線表示。 又，相對於HF濃度之目標值之變動的容許範圍，係0.2%，該容許範圍，係以2條虛線的水平線表示。
圖5之圖表所示之濃度計212之測定值的振 盪，係在判斷(濃度監視)可否將流經處理液供給管線210的處理液供給至儲槽102之後，成為障礙。又，混合比之反饋控制亦變得不穩定。如前述，由於因不可避免的壓力變動而產生檢測值之變動，故不會有濃度計212的測定值穩定而收斂於容許範圍內的情形。在前述的實施形態中，係根據瞬時濃度值或瞬時濃度值的移動平均，來進行濃度監視及反饋控制。但是，在相對於濃度目標值，而以更精確的濃度將處理液供給至基板時，使用了瞬時濃度值之移動平均的監視及控制是不夠的，有更進一步改善的餘地。
在本實施形態中，係著眼於微視性之濃度的 變動不會對處理結果造成任何不良影響的情形，根據處理液之濃度的平均值(在此，係如後述為累加平均值)來進行混合比之反饋控制，並且判斷可否將處理液供給至儲槽102。在下述中，參閱圖6之圖表及圖7之流程圖，說明判斷程序及基於該判斷之處理液的供給。
在圖6的圖表中，縱軸，係處理液 (HF+DIW)中的HF濃度；橫軸，係時間經過。位於高度方向中央之水平的實線CT，係濃度目標值，此係與圖5之實線的水平線相對應。2條水平之一點鏈線CS1、CS2 所夾住的區域、作為累加濃度監視開始基準範圍(±1%)之2條水平之虛線CA1、CA2所夾住的區域，係濃度容許範圍(允許流動於儲槽102之處理液的濃度範圍)(±0.2%)，此係與圖5之虛線的水平線相對應。另外，在圖6中，由濃度計212所檢測出之濃度的變動波形雖為單純的鋸齒型，但這是為了簡化圖面，實際的濃度變化，係如圖5所示者。
如同先前所說明過，首先，藥液及稀釋液， 係從藥液管線204A及稀釋液管線204B，以由濃度控制器214所控制的流量，分別流入至混合閥208，且藥液及稀釋液是以對應於該流量比的混合比，在混合閥208內被混合，從而開始生成處理液(混合液)。在開始生成處理液之後，立即進行使所生成之處理液(稀釋藥液)流出至排放管線216的預備捨棄操作。該預備捨棄操作的開始時點，係對應於圖6之圖表中的時點T0，對應於圖7之流程圖中之步驟S1的開始時點。亦即，從時點T0開始監視瞬時濃度(由濃度計212所測定之處理液之濃度的各個原始資料)(步驟S1)。
圖6的例子，係在預備捨棄操作開始時點 中，稀釋藥液(HF+DIW=DHF)亦即處理液的濃度變得比目標值CT高(當然亦可能有較低的情形)。在該條件下，當藉由濃度控制器214開始進行濃度控制時，流經稀釋液管線204B之稀釋液的流量會逐漸增加，其結果，稀釋藥液的濃度會逐漸接近目標值CT。此時，亦因前述理 由，由濃度計212所檢測出的瞬時濃度值會強烈振盪。
如果瞬時濃度值收斂於被水平線C1H(對應 於第1上限值)、C1L(對應於第1下限值)所夾住的累加平均監視開始基準範圍(圖6之時點T1、圖7之步驟S2的Yes)，則開始瞬時濃度之累加平均的運算處理及累加平均值之監視(圖6之時間T1、圖7之步驟S3)。例如，以複數個連續(例如10個左右)的瞬時濃度值(資料)落於累加平均監視開始基準範圍內，或者瞬時濃度值一旦進入累加平均監視開始基準範圍內後，以不偏離累加平均監視開始基準範圍一預定時間的期間，可判定為「瞬時濃度已收斂於累加平均監視開始基準範圍」者。在圖6之圖表的例子，係在時點T1中，3個連續的瞬時濃度值(資料)收斂於累加平均監視開始基準範圍內。
在該說明書中，用語「累加平均」，係指為 了計算平均值，而從一開始(亦即，在此係時點T1)取得的資料X1直至最後取得之資料Xn之所有資料之相加平均((X1+X2+．．．Xn)/n)的意思。因此，越往後計算者，則成為更多資料的平均值。在上述的觀點中，「累加平均」，係指成為平均計算之對象之資料的數量總是相同，且與「移動平均」不同，該「移動平均」，係指成為平均計算之對象的資料取得期間會慢慢地往時間性延後的側偏移。
為了計算累加平均值及根據計算結果控制處 理液之供給，控制裝置4，係具有記憶體，該記憶體，係 儲存有從濃度計212輸送來的瞬時濃度資料。
如果正常進行濃度控制，則累加平均值會逐 漸收斂於目標值。如果累加平均值收斂於被2條水平之虛線CA1、CA2所夾住的濃度容許範圍內(圖6之時點T2、圖7之步驟S4的Yes)，則控制裝置4會將開關閥216V關閉，將開關閥210V打開。藉此，處理液(稀釋藥液)之預備捨棄結束，開始從處理液供給管線210將處理液(稀釋藥液)供給至儲槽102內(圖7之步驟S5)。 例如，以複數個(n)(例如10個左右)連續的累加平均值落於濃度容許範圍內，或者累加平均值一旦進入濃度容許範圍內後，以不偏離累加平均容許範圍預定時間(t)，可判定為「累加平均值已收斂於濃度容許範圍內」者。
當開始將處理液供給至儲槽102內的同時 (時點T2)，控制裝置4開始計算新的累加平均值。在此，參閱圖8，說明新的累加平均值之計算方法。在圖8中，在時點T2取得第100個瞬時濃度資料，時點T2之(舊)累加平均值，係(X1+X2+．．．X100)/100。雖然亦可能藉由式(X100+X101+．．．XN)/(N-100+1)來計算出新的累加平均值，但如此一來，緊接著時點T2後之短時間所得到之新的累加平均值強烈振盪的可能性高，在判斷的穩定性上，將此使用來作為判斷基準並不佳。
因此，在本實施形態中，係將新的累加平均 值之計算設成為從時點T2回溯預定時間之時點T2’所取 得的瞬時濃度資料，在此係將瞬時濃度資料X96設成為用於計算出新的累加平均值之最初的瞬時濃度資料。亦即，新的累加平均值，係根據式(X96+X97+．．．XN)/(N-100+5)來計算。亦即，控制裝置4，係亦可被視為從使用於計算從時點T2後所算出之累加平均值之瞬時濃度的資料，排除比時點T2前所取得之瞬時濃度之資料的一部分(從時點T1至時點T2’前之時點所取得的資料)，而繼續計算累加平均。另外，在時點T2’中，係以複數個(比上述n少的適當數量，例如5個左右)連續累加平均值已落於濃度容許範圍內，或者累加平均值一旦進入濃度容許範圍內後不偏離濃度容許範圍預定時間(比上述t小的適當時間)為較佳。
時點T2之後，控制裝置4，係繼續監視新的 累加平均值，如果累加平均值偏離上述的累加平均容許範圍(圖7之步驟S6的Yes)，則立即將開關閥216V打開且將開關閥210V關閉。藉此，處理液朝向儲槽102內之供給被停止，再次進行將處理液預備捨棄至排放管線216(圖7的步驟S9)。
亦可於再次開始預備捨棄之後，返回到步驟 S1。此時，只要步驟S2之判斷持續為No的狀態或是步驟S4之判斷持續為No的狀態，則被推定為在任一構成機器中有異常，因此，控制裝置4，係在經過了事先被設定的時間後，發出警報。
只要圖7之步驟S6的判斷維持為No的狀 態，則繼續將處理液供給至儲槽102直至所需的量之處理液儲存於儲槽102為止(圖7的步驟S7、S8)。
又，如果瞬時濃度值收斂於被水平線C1H (對應於第1上限值)、C1L(對應於第1下限值)所夾 住之累加平均監視開始基準範圍(對應於圖6之時點T1、圖7之步驟S2的Yes)，則從已收斂的時點起經過事先被決定的時間(例如1秒)之後，混合比之反饋控制中的測定值PV會被切換為濃度之累加平均值，而根據相對於目標濃度值(設定值SV)之瞬時濃度值之累加平均值的偏差進行反饋控制。切換之前，作為反饋控制中的測定值PV，係例如可使用瞬時濃度值的移動平均(設定值SV，係相同的目標濃度值即可)。藉由像這樣，可進行穩定的控制。又，當開始將處理液供給至儲槽102的同時(時點T2)，反饋控制中的測定值PV會被切換為與上述者相同之新的累加平均值。
如上述，藉由使用累加平均來進行處理液之 濃度的控制及監視之方式，可一邊回避裝置之濃度控制的不穩定，一邊將更精確之濃度的處理液供給至儲槽102。 實際上，根據發明者的試驗，測定被供給至儲槽102後，流經循環管線104而充分被均質化後之處理液的濃度時，處理液進入濃度容許範圍內。亦可根據瞬時濃度值或其移動平均，判斷混合比的控制及處理液可否開始供給至儲槽102。然而，亦有在判斷可否供給處理液上必需使用比較複雜的邏輯，又，判斷上花費較長時間的情形。又，亦有 控制會變得不穩定，直至處理液之濃度在容許範圍內穩定為止非常費時的情況。當在判斷及直至濃度穩定上需要長時間時，液處理裝置的運轉效率會下降，又，由於預備捨棄所捨棄之處理液的量會增加，故不經濟。對此，可藉由使用累加平均的方式，根據非常簡單的邏輯進行判斷，且能夠以短時間進行處理液可否開始供給至儲槽102之判斷。因此，能夠以短時間將精確之濃度的處理液供給至基板。
接下來，說明關於在將位於包含有儲槽102 及循環管線104之循環系統內的處理液全部置換時，在將處理液儲存於儲槽102之前，藉由沖洗液(例如純水)來洗淨包含有儲槽及循環管線的循環系統之後，將處理液供給至儲槽102之合適的實施形態。在該情況下，由於一定程度量的沖洗液不可避免地會殘留於循環系統，故通常難以使精確之濃度的處理液儲存於儲槽102。
在該實施形態中，並非1次將處理液供給直 至儲槽102成為滿液狀態，而是至少分成2次將處理液供給至儲槽102。第1次，係供給儲槽102之額定容量之大概一半量的處理液。處理液供給至儲槽102的供給量，係根據液位計120之檢測值來加以控制。圖2中雖未詳細記載，但液位計120，係例如構成為具備有複數個液位感測器(未圖示)，例如分別檢測出下限液位LL、低液位L、高液位H、上限液位HH的4個液位感測器。所謂高液位H，係指儲槽102之額定容量的處理液位於儲槽102 內時的液位，所謂低液位L，係指因處理液之消耗而液位變得比該低液位L低時所需補充處理液的液位。在該實施形態中，藉由第1次的處理液供給，將處理液供給至儲槽102直至低液位L為止，藉由第2次的處理液供給，將處理液供給至高液位H為止。
在第1次的處理液供給時，首先，將應儲存 於儲槽102之處理液的目標濃度設定為濃度控制器214的控制目標值。作為該控制目標值的濃度，雖係亦可與應儲存於儲槽102之處理液的目標濃度完全相等，但亦可在沖洗後，考慮殘留於循環系統之沖洗液(在此，係與稀釋液相同的純水)的量，而設定為比應儲存於儲槽102之處理液的濃度稍微高的濃度。在該狀態下，執行記載於圖7之流程圖之步驟S1~S8的程序。在步驟S5中開始將處理液供給至儲槽102之後，如果在儲槽102內儲存有一定程度的處理液(例如如果超過下限液位LL)，則使泵106動作，使處理液在循環管線104內循環。步驟S7中的「已將所需量的處理液供給至儲槽？」，係只要稱為「儲槽102內之處理液的液位已成為低液位L？」即可。
在進行步驟S1之預備捨棄操作之際，從開始 使稀釋液流通於稀釋液管線204B而經過預定的延遲時間之後，使藥液開始流通於藥液管線204A為較佳。在延遲時間期間，例如可確認濃度計212的健全性。
如果第1次處理液供給的步驟S8結束，則利 用開關功能將可變節流閥208A、208B關閉，將開關閥 220V打開，經由取出管線220使流經循環管線104內的處理液流通於處理液供給管線210，藉由濃度計212來測定位於包含有儲槽102及循環系統104之循環系統內之處理液的濃度(採用圖2之構成的情況下)。測定結束後，在適當的時序中，利用開關功能將可變節流閥208A、208B打開，將開關閥220V關閉。
根據濃度測定結果，來決定用於第2次處理 液供給之濃度控制器214的控制目標值。亦即，只要所測定的濃度比應儲存於儲槽102之處理液的目標濃度低(高)，則將高(低)於該目標濃度的濃度設定為濃度控制器214的控制目標值。濃度目標值的設定，係由於已知在現時點存在於循環系統之處理液的量與由第2次處理液供給所供給之處理液的比率，故可輕易地進行計算。該控制目標值之演算，係可藉由儲存於控制裝置4的演算程式來執行。
再次執行記載於圖7之流程圖之步驟S1~S8 的程序。在最慢之步驟S5的開始時點中，處理液，係在循環管線104內循環為較佳。步驟S7中的「已將所需量的處理液供給至儲槽？」，係只要稱為「儲槽102內之處理液的液位已成為高液位H？」即可。
如果第2次處理液供給結束，則與第1次處 理液供給相同，藉由濃度計212來測定位於包有儲槽102及循環管線104之循環系統內之處理液的濃度。只要所測定的濃度進入相對於目標濃度的容許範圍內，則處理液供 給至儲槽102的供給操作結束。然後，在任意時期中，可將處理液供給至處理單元16而進行基板之處理。
例如，在沖洗後，殘留於循環系統之沖洗液 的量比預想多很多，因此，考慮第1次處理液供給後所測定之循環系統內之處理液的濃度大幅度低於目標濃度的情形。在該情況下，亦考慮使第2次處理液供給中進行供給之處理液的濃度(控制目標值)大幅提高，使第2次處理液供給後之循環系統內之處理液的濃度進入相對於目標濃度之容許範圍內的情形。
然而，欲生成較大地偏離目標濃度的處理 液，係從濃度控制精度的觀點來看並不佳。因此，設置控制目標值的容許範圍(上限值及下限值)，將第2次(第3次以後也)之處理液供給時之濃度控制器214的控制目標值設定在容許範圍內。如此一來，甚至在第2次處理液供給結束後，亦存在有不進入相對於位於循環系統內之處理液之濃度目標濃度之容許範圍內的情形。
在該情況下，在第2次處理液供給結束之 後，將開關閥118V打開，從儲槽102排出預定量的處理液(例如排出直至儲槽102內的液位成為低液位L為止)，然後，進行第3次處理液供給。
在第2次處理液供給後進行循環系統內之處 理液的濃度測定之後，與第2次相同，決定用於第3次處理液供給之濃度控制器214的控制目標值，再次執行記載於圖7之流程圖之步驟S1~S8的程序。從使液處理裝置之 運轉效率提升的觀點來看，與第2次處理液供給後之從儲槽102排出處理液並行而進行步驟S5中的程序為較佳。 另外，甚至在第3次處理液供給結束後，在不進入相對於位於循環系統內之處理液之濃度目標濃度的容許範圍內時，亦可藉由與第3次相同的程序，進行第4次或更往後的處理液供給。
在圖2及圖3所示的實施形態中，如圖9所 示，在混合閥208的下游側(詳細而言，係在藥液管線204A及稀釋液管線204B之匯流點與濃度計212連接至處理液供給管線210的連接點之間的位置)，至少設置1個管內攪拌器241、242為較佳。至少1個管內攪拌器，係可設成為(通常之)靜態攪拌器241與時間差式攪拌器242的組合。較佳的係靜態攪拌器241被設置於上游側，而時間分隔式攪拌器242被設置於下流側。在此，「時間差式攪拌器」之用語，係指使流入至攪拌器內的流體分歧而流通於不同流路長度的複數個流路，然後，再使其匯流之形式者的意思。「(通常之)靜態攪拌器」之用語，係指不具有上述「時間差式攪拌器」的構成者，且使流入至攪拌器內的流體分割、轉換、反轉之形式者的意思。靜態攪拌器，係有容易實現管狀剖面方向之濃度均勻性優異之混合的傾向，時間分隔式攪拌器，係有容易實現管狀軸線方向之濃度均勻性優異之混合的傾向。藉由組合具有像這樣優點之攪拌器的方式，可生成管狀剖面及管狀軸線方向之濃度均勻性高的稀釋藥液。藉由設置像這樣之管內攪拌 器的方式，可緩和圖5及圖6所示之濃度計212之檢測值的振盪，且在更早的時點判斷可否供給處理液。
以上，雖說明了本發明之合適的實施形態， 但本發明並不限定於上述實施形態者。
在上述的實施形態中，儲槽液供給部116，雖 係經由循環管線104將處理液供給至連接於處理單元16的儲槽102(亦即處理液生成機構(206A、206B、208)所生成之處理液的供給目的地，係儲槽102)，但並不限定於此。例如，如圖10所示，與儲槽液供給部116相同構成的處理液供給部116’，係亦可不經由儲槽而將處理液供給至處理單元16。在圖10的實施形態中，係經由分歧管線112，將1個或複數個處理單元16連接於處理液供給管線210的連接區域110’。處理液供給部116’所致之處理液的供給程序，係與儲槽液供給部116所致之處理液的供給程序相同。亦即，例如執行記載於圖7之流程圖的程序，而如果步驟S4中的判斷結果為Yes，則藉由將開關閥216V關閉、將開關閥210V打開的方式，結束經由排放管線216之預備捨棄操作，而開始將處理液供給至處理單元16。依序將基板投入至該些複數個處理單元16而將處理液供給至基板時，係因應於各處理單元16的處理排程，藉由將開關閥112V打開的方式，將處理液供給至對應的處理單元16。在該情況下，例如，為了連接區域110’內之壓力的穩定化，而亦可在比連接區域110’更往下流側之處理液供給管線210的末端部分210’設置釋放閥 300。預備捨棄操作，雖係亦可經由比連接區域110’更往下游側之處理液供給管線210的末端部分210’加以進行(在該情況下，不設置圖10所示的釋放閥300或設置從末端部分210’分歧的排放管線)，但可藉由如本實施形態般經由比供給目的地更往位於上流側的排放管線216加以進行的方式，使預備捨棄之處理液的量減少，以短時間將處理液供給至基板。
又例如，設置於比設置有濃度計212之位置 更往上流側的元件(亦即構成處理液生成機構的元件)，係並不限定於圖2及圖3所示之定壓閥與可變節流閥的組合者，只要是可根據濃度計212的檢測值而以所期望的精度進行濃度調節，則為任意。例如，亦可設置LFC等的流量控制器以代替定壓閥與可變節流閥的組合。
又例如，在定壓閥與可變節流閥的組合中， 亦可藉由固定定壓閥的設定(不使二次側壓力改變)、可變節流閥之開合度調節，控制流入至混合部之原料液的流動。
又例如，亦可藉由調節小流量之原料液 (HF)之流動以代替調節大流量之原料液(DIW)之流動的方式，來調節處理液的濃度。
在上述的實施形態中，在處理單元16所處理 的基板，係可設成為半導體晶圓、LCD用玻璃基板、陶瓷基板等、半導體裝置製造之技術領域所使用之任意的基板。
4‧‧‧控制裝置
16‧‧‧液處理部(處理單元)
18‧‧‧控制部
19‧‧‧記憶部
102‧‧‧儲槽
104‧‧‧循環管線
106‧‧‧泵
108‧‧‧過濾器
109‧‧‧加熱器
110‧‧‧連接區域
112‧‧‧分歧管線
116‧‧‧儲槽液補充部
118‧‧‧排放管線
118V‧‧‧開關閥
120‧‧‧液位計
202A‧‧‧藥液供給源
202B‧‧‧稀釋液供給源
204A‧‧‧藥液管線
204B‧‧‧稀釋液管線
206A‧‧‧定壓閥(減壓閥)
206B‧‧‧定壓閥(減壓閥)
208‧‧‧混合閥
208A‧‧‧可變節流閥
208B‧‧‧可變節流閥
209A‧‧‧電空調整器(EPR)
209B‧‧‧電空調整器(EPR)
210‧‧‧處理液供給管線
210V‧‧‧開關閥
212‧‧‧濃度計
214‧‧‧濃度控制器
216‧‧‧排放管線
216V‧‧‧開關閥
220‧‧‧取出管線
220V‧‧‧開關閥

Claims (14)

  1. 一種基板液處理裝置，其特徵係，具備有：儲槽，儲存混合至少2種類原料液而成的處理液；循環管線，處理液從前述儲槽流出再流回前述儲槽；液處理部，使用前述儲槽內的處理液，對基板施予液處理；處理液生成機構，混合從前述至少2種類原料液之各個供給源所供給的原料液而生成處理液；處理液供給管線，將前述處理液生成機構所生成的處理液供給至前述儲槽；濃度計，測定流經前述循環管線之處理液的濃度及流經前述處理液供給管線之處理液的濃度；及控制裝置，根據由前述濃度計所測定之處理液的濃度，以使該處理液之濃度成為事先被決定之範圍內之濃度的方式，來控制前述處理液生成機構。
  2. 如申請專利範圍第1項之基板液處理裝置，其中，前述控制裝置，係為了根據流經由前述濃度計所測定之前述循環管線之處理液的濃度，將該處理液的濃度設成為事先被決定之範圍內的濃度，而以使所需之濃度及量的處理液經由前述處理液供給管線供給至前述儲槽的方式，來控制前述處理液生成機構。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之基板液處理裝置，其中，前述控制裝置，係為了根據流經由前述濃度計所測定 之前述處理液供給管線之處理液的濃度，將該處理液的濃度設成為事先被決定之範圍內的濃度，而以使所需之濃度及量的處理液經由前述處理液供給管線供給至前述儲槽的方式，來控制前述處理液生成機構。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之基板液處理裝置，其中，前述控制裝置，係在處理液從前述處理液生成機構經由前述處理液供給管線供給至前述儲槽時，根據流經由前述濃度計所測定之前述處理液供給管線之處理液的濃度，以使流經前述處理液供給管線之處理液的濃度成為前述事先被決定之範圍內之濃度的方式，來控制前述處理液生成機構中之原料液的混合比。
  5. 如申請專利範圍第1或2項之基板液處理裝置，其中，更具備有取出流經前述循環管線的處理液而送至前述處理液供給管線的濃度計測用取出管線，前述濃度計，係設置於前述處理液供給管線，且可測定由前述處理液生成機構所生成之處理液的濃度與從前述循環管線經由前述取出管線而送至前述處理液供給管線之處理液的濃度兩者。
  6. 如申請專利範圍第1或2項之基板液處理裝置，其中，前述濃度計，係測定流經前述處理液供給管線之處理液的瞬時濃度，前述控制裝置，係在藉由前述處理液生成機構開始生 成處理液之後，計算由前述濃度計所測定之瞬時濃度的累加平均值，並且監視該累加平均值，而且以使前述累加平均值收斂於事先被決定之容許範圍的方式，來控制處理液生成機構。
  7. 如申請專利範圍第6項之基板液處理裝置，其中，更具備有：排放管線，從前述處理液供給管線分歧，且用於從前述處理液供給管線排出處理液；及開關閥，可在第1狀態與第2狀態之間進行切換，該第1狀態，係使前述處理液生成機構所生成的處理液流通於前述排放管線，該第2狀態，係使前述處理液生成機構所生成的處理液供給至前述儲槽，前述控制裝置，係控制為：在前述累加平均值為事先被決定的容許範圍內時，將前述開關閥設成為第2狀態，在前述累加平均值偏離事先被決定的容許範圍時，將前述開關閥設成為前述第1狀態。
  8. 如申請專利範圍第7項之基板液處理裝置，其中，前述濃度計，係由第1濃度測定部與第2濃度測定部所構成，第1濃度測定部，係測定流經前述循環管線之處理液的濃度，第2濃度測定部，係被設置於前述處理液供給管線，測定流經前述處理液供給管線之處理液的濃度。
  9. 一種基板液處理方法，其係在使用具備有儲槽(該儲槽，係儲存混合至少2種類原料液而成的處理液)、循環管線(該循環管線，係處理液從前述儲槽流出再流回前 述儲槽)及處理部(該處理部，係使用流經前述循環管線的處理液，對基板施予液處理)之基板液處理裝置的基板液處理方法中，具備有：測定流經前述循環管線之處理液之濃度的步驟；為了根據所測定之處理液的前述濃度，將存在於前述循環管線及前述儲槽內之處理液的濃度設成為所期望之範圍內的濃度，而求出應追加至前述儲槽之處理液的濃度及量之步驟；及將所求出之前述濃度及前述量的處理液供給至儲槽之步驟，將前述濃度及前述量的處理液供給至儲槽，係具有：藉由處理液生成機構來混合從前述至少2種類原料液之各個供給源所供給的原料液，經由處理液供給管線送至前述儲槽的步驟；測定流經前述處理液供給管線之處理液之濃度的步驟；及根據所測定之濃度，以使流經前述處理液供給管線之處理液的濃度成為所需求之前述濃度的方式，來調節前述處理液生成機構中之原料液之混合比的步驟。
  10. 一種基板液處理裝置，其特徵係，具備有：處理液生成機構，混合從至少2種類原料液之各個供給源所供給的原料液而生成處理液；液處理部，使用由前述處理液生成機構所生成的處理液，對基板施予液處理；處理液供給管線，將前述處理液生成機構所生成的處理液供給至前述液處理部或連接於前述液處理部的供給目 的地；濃度計，測定流經前述處理液供給管線之處理液的瞬時濃度；及控制裝置，控制前述處理液生成機構所混合之原料液的混合比，前述控制裝置，係逐次計算出由前述濃度計所測定之瞬時濃度的累加平均值，並且監視該累加平均值，以使前述累加平均值收斂於與目標濃度相關之事先被決定之容許範圍內的方式，來控制前述處理液生成機構。
  11. 如申請專利範圍第10項之基板液處理裝置，其中，更具備有：排放管線，在前述處理液供給管線上的分歧點中，從前述處理液供給管線分歧，且用於從前述處理液供給管線排出處理液；及開關閥，可在第1狀態與第2狀態之間進行切換，該第1狀態，係使前述處理液生成機構所生成之處理液流通於前述排放管線，該第2狀態，係使前述處理液生成機構所生成之處理液供給至前述液處理部或前述供給目的地，前述控制裝置，係控制為：在前述累加平均值為前述事先被決定的容許範圍內時，將前述開關閥設成為第2狀態，在前述累加平均值偏離前述事先被決定的容許範圍時，將前述開關閥設成為前述第1狀態。
  12. 如申請專利範圍第10或11項之基板液處理裝置，其中， 前述控制裝置，係在開關閥從前述第1狀態切換為前述第2狀態時，從使用於計算隨後所計算出之累加平均值之瞬時濃度的資料，排除開關閥從前述第1狀態切換為前述第2狀態之前所取得之瞬時濃度之資料的一部分。
  13. 如申請專利範圍第10或11項之基板液處理裝置，其中，前述供給目的地，係用於儲存經由循環管線連接於前述液處理部之處理液的儲槽。
  14. 一種基板液處理方法，其係在使用具備有處理液生成機構(該處理液生成機構，係混合從至少2種類原料液之各個供給源所供給的原料液而生成處理液)、液處理部(該液處理部，係使用由前述處理液生成機構所生成的處理液，對基板施予液處理)、處理液供給管線(該處理液供給管線，係將前述處理液生成機構所生成的處理液供給至前述液處理部或連接於前述液處理部的供給目的地)及濃度計(該濃度計，係測定流經前述處理液供給管線之處理液的瞬時濃度)之基板液處理裝置的基板液處理方法中，具備有：一邊控制前述處理液生成機構所混合之原料液的混合比，一邊生成處理液，使所生成的處理液流通於前述處理液供給管線的步驟；藉由前述濃度計，來測定流經前述處理液供給管線之處理液之瞬時濃度的步驟；逐次計算由前述濃度計所測定之瞬時濃度的累加平均 值，並且監視該累加平均值的步驟；及使監視之前述累加平均值收斂於與前述目標濃度相關之事先被決定之容許範圍內的處理液流通於前述液處理部或前述供給目的地的步驟，前述原料液之混合比的控制，係藉由以使前述累加平均值收斂於與目標濃度相關之事先被決定的容許範圍內來控制前述處理液生成機構的方式予以進行。
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