TWI564595B

TWI564595B - Optical body and its manufacturing method, sunshine shielding member, window material, built-in components and construction equipment

Info

Publication number: TWI564595B
Application number: TW100109959A
Authority: TW
Inventors: Masamitsu Kageyama; Hironori Yoshida; Masayuki Tanishima; Tsutomu Nagahama; Masashi Enomoto
Original assignee: Dexerials Corp
Priority date: 2010-04-15
Filing date: 2011-03-23
Publication date: 2017-01-01
Also published as: US20110267686A1; KR101767680B1; HK1203454A1; KR20110115523A; JP6074128B2; JP2011227154A; CN102221722A; US9069129B2; CN102221722B; CN104297824A; CN104297824B; TW201207445A

Description

光學體及其製造方法、日照遮蔽構件、窗材、內裝構件及建具

本發明係關於一種光學體及其製造方法、日照遮蔽構件、窗材、內裝構件及建具。詳細而言，本發明係關於一種使入射光指向反射之光學體。

近年來，於高層辦公大樓、住宅等之建築用玻璃或車窗玻璃上設置吸收或反射太陽光之一部分之層的情形正不斷增加。其係為了防止地球暖化之節能對策之一，其目的在於減輕因自太陽所發出之光能自窗射入屋內引起屋內溫度上升所造成的冷氣設備之負荷。

於自太陽光所發出之光能中，波長為380~780 nm之可見區域與波長為780~2100 nm之近紅外區域佔據較大之比率。其中，後者之波段中之窗的透過率與人之目視確認性無關，因此成為影響作為具有高透明性及高熱遮蔽性之窗之性能的重要因數。

作為一面維持可見區域之透明性一面遮蔽近紅外線之方法，有於窗玻璃上設置對近紅外區域具有高反射率之光學體之方法。關於該方法，已大量揭示有使用光學多層膜、含有金屬之膜、透明導電性膜等作為反射層之技術(例如參照專利文獻1)。

但是，由於此種反射層係設置於平面上之窗玻璃上，因此僅可使所入射之太陽光正反射。因此，自上空照射並經正反射之光到達屋外之其他建築物或地面，被吸收後變成熱而使周圍之氣溫上升。由此產生如下等問題：於將此種反射層貼在整個窗上之辦公大樓之周邊，引起局部之溫度上升而導致都市區中熱島增加、或者僅於反射光之照射面草坪不生長。

針對上述問題，提出有藉由使用指向性反射體而使太陽光朝入射方向反射之技術(例如專利文獻2)。此處，作為指向性反射體，例如採用使大致金字塔形狀排列而成者。入射至指向性反射體中之光藉由各金字塔形狀內之各面而反射多次，藉此朝大致入射方向反射。

但是，對於朝向指向性反射體之入射角度較大之光線，指向反射之性能下降。又，該大致金字塔形狀之於設計上剖面被設定為大致三角形狀之脊線部存在因製造步驟上的理由，而具有自理想形狀之變形之情形。此時，朝該脊線部入射之入射光不產生多次反射，而朝正反射方向反射。即，該脊線部之自理想形狀之變形越大，指向性反射成分越減少。

如上所述之反射體存在如下之問題：因指向性反射成分之減少，太陽光到達地上，而引起地表面附近之溫度上昇。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]國際公開第05/087680號手冊

[專利文獻2]日本專利特開2007-10893號公報

本發明者等人為了解決先前技術所存在之上述課題，進行了努力研究。其結果，發明了即便於脊線部之自理想形狀之變形比較大的情形時，朝向地上之反射成分亦較少的光學體及其製造方法、日照遮蔽構件、窗材、內裝構件及建具。

為瞭解決上述課題，本發明係一種光學體，其包括：第1光學層；第2光學層，其具有光所入射之入射面；以及反射層，其由第1及第2光學層夾持；第1光學層於設置反射層之表面，具有被設定為凸形狀或凹形狀之多個構造體，被設定為凸形狀之構造體、或相鄰之被設定為凹形狀之構造體間的脊線部具有朝入射面之側突出之前端部，前端部具有自理想形狀之變形，第2光學層透明，且其折射率為1.1以上、1.9以下，且使以入射角(θ、Φ)(其中，θ：相對於入射面之垂線、與入射至入射面之入射光或自入射面出射之反射光所成的角，Φ：入射面內之特定之直線、與將入射光或反射光投影至入射面之成分所成的角)入射至入射面之光中之特定波長帶的光選擇性地朝(-θ、Φ+180°)以外之方向指向反射。

較佳為多個構造體呈大致週期性之構造。

較佳為前端部之自理想形狀之變形的大小為構造體之配置間距之7%以下。

較佳為第2光學層之折射率為1.4以上、1.6以下。

或者，較佳為第2光學層之折射率為1.49以上、1.55以下。

又，本發明係一種光學體之製造方法，其包括如下步驟：將模具之凹凸形狀轉印至第1樹脂材料上，形成一主面上具有被設定為凸形狀或凹形狀之多個構造體之第1光學層；於轉印至第1光學層上之凹凸形狀面上形成反射層；以及利用第2樹脂材料包埋反射層，藉此形成具有光所入射之入射面，並且透明且其折射率被設定為1.1以上、1.9以下之第2光學層；被設定為凸形狀之構造體、或相鄰之被設定為凹形狀之構造體間的脊線部具有朝入射面之側突出之前端部，前端部具有自理想形狀之變形，且使以入射角(θ、Φ)(其中，θ：相對於入射面之垂線、與入射至入射面之入射光或自入射面出射之反射光所成的角，Φ：入射面內之特定之直線、與將入射光或反射光投影至入射面之成分所成的角)入射至入射面之光中之特定波長帶的光選擇性地朝(-θ、Φ+180°)以外之方向指向反射。

此處，所謂自理想形狀之變形，係指以如下方式所決定之圓之半徑。圖32A及圖32B係用於說明自理想形狀之變形Cr之決定方法之圖。P為構造體之配置間距(以下，亦稱為間距)。圖32B係將圖32A中之A部放大表示之圖。

如圖32B所示，當觀察光學層之構造剖面時，描繪若設定為與設計一樣則會獲得之構造前端之輪廓線PL1及PL2。此時，於如在設計上之剖面構造中，構造前端已具有曲率或某種形狀之情形時，將延長剖面構造之側面之輪廓線而成之線看作輪廓線P1及P2。繼而，描繪內接於PL1及PL2，且通過實際所獲得之構造前端之形狀中最朝光之入射側突出之點T的圓。將此時所獲得之圓之中，半徑較大之圓Ic的半徑Cr設定為自理想形狀之變形之大小。

自理想形狀之變形之大小例如為對用於將形狀轉印至光學層上之模具進行加工時所使用的車刀前端之曲率半徑。

於構造體呈大致週期性之構造之情形時，構造體之配置間距為該大致週期性之構造之週期。此處，所謂大致週期性之構造，係指構造體之配置間距之偏差為設計上之配置間距的3%以下，較佳為1%以下之構造。再者，大致週期性之構造亦包括完全之週期構造。

於本發明中，將包埋形成於凹凸面上之反射層而成之光學層的折射率設定為特定之範圍內者，藉此即便於構造前端之自理想形狀之變形增加的情形時，亦可抑制作為整體之指向性反射成分之減少。

一面參照圖式，一面按以下之順序對本發明之實施形態進行說明。

1.　第1實施形態(於角隅稜鏡圖案上形成有反射層之光學體之例)

2.　第2實施形態(具備光學體之日照遮蔽裝置之例)

3.　第3實施形態(將光學體應用於捲簾裝置之例)

4.　第4實施形態(於採光部具備光學體之建具之例)

<1.　第1實施形態>

[光學體之構成]

圖1係表示本發明之第1實施形態之光學體之概觀的立體圖。圖2A係表示本發明之第1實施形態之光學體之一構成例的剖面圖。圖2B係將表示本發明之第1實施形態之光學體貼合於被黏附體之例的剖面圖。作為指向反射體之光學體1例如為具有指向反射性能之光學膜。如圖1所示，光學體1具有帶狀之形狀，且被捲繞成例如輥狀而作為所謂的素材。

如圖2A所示，該光學體1包括：內部具有凹凸形狀之界面之光學層2、以及設置於該光學層2之界面上之反射層3。光學層2包括：具有凹凸形狀之第1面之第1光學層4、以及具有凹凸形狀之第2面之第2光學層5。光學層內部之界面係由經對向配置之凹凸形狀之第1面與第2面形成。具體而言，光學體包括：具有凹凸面之第1光學層4、形成於第1光學層之凹凸面上之反射層3、以及以填埋形成有反射層3之凹凸面之方式形成於反射層3上的第2光學層5。光學體1具有太陽光等光所入射之入射面S1、以及自該入射面S1入射之光中之透過光學體1之光所出射的出射面S2。光學體1係適合應用於內壁構件、外壁構件、窗材、壁材等者。又，光學體1亦適合用作百葉窗裝置之板條(日照遮蔽構件)、及捲簾裝置之簾幕(日照遮蔽構件)。進而，光學體1亦適合用作設置於拉門等建具(內裝構件或外裝構件)之採光部的光學體。

光學體1亦可視需要於光學層2之出射面S2進而具備第1基材4a。又，光學體1亦可視需要於光學層2之入射面S1進而具備第2基材5a。再者，當如上述般於光學體1中具備第1基材4a、及/或第2基材5a時，較佳為於在光學體1中具備第1基材4a、及/或第2基材5a之狀態下，滿足以下所示之透明性及透過色等光學特性。

光學體1亦可視需要進而具備貼合層6。該貼合層6係形成於光學體1之入射面S1及出射面S2之中貼合於窗材10的面。經由該貼合層6而將光學體1貼合於作為被黏附體之窗材10之屋內側或屋外側。作為貼合層6，例如可使用以接著劑作為主成分之接著層(例如，UV(ultraviolet，紫外線)硬化型樹脂，二液混合型樹脂)、或者以黏著劑作為主成分之黏著層(例如，感壓黏著材(PSA：Pressure Sensitive Adhesive))。於貼合層6為黏著層之情形時，較佳為進而具備形成於貼合層6上之剝離層7。其原因在於：藉由設定為此種構成，僅將剝離層7剝離，便可經由貼合層6而容易地將光學體1貼合於窗材10等被黏附體上。

就提高第2基材5a與貼合層6及/或第2光學層5之接合性之觀點而言，光學體1亦可在第2基材5a與貼合層6及/或第2光學層5之間進而具備底塗層(未圖示)。又，就提高相同之部位之接合性之觀點而言，較佳為實施公知之物理性前處理來代替底塗層、或者連同底塗層一起實施公知之物理性前處理。作為公知之物理性前處理，例如可列舉電漿處理、電暈處理等。

光學體1可在貼合於窗材10等被黏附體之入射面S1或出射面S2上、或者該面與反射層3之間進而具備障壁層(未圖示)。藉由如上述般具備障壁層，可減少自入射面S1或出射面S2朝反射層3之水分之擴散，從而可抑制反射層3中所包含之金屬等之劣化。因此，可提高光學體1之耐久性。

光學體1就對表面賦予耐磨性等之觀點而言，可進而具備硬塗層8。該硬塗層8較佳為形成於光學體1之入射面S1及出射面S2之中，與貼合於窗材10等被黏附體之面為相反側的面。就對光學體1之入射面S1賦予抗污性等之觀點而言，可進而具備具有斥水性或親水性之層。具有此種功能之層例如可直接設置於光學層2上、或者設置於硬塗層8等各種功能層上。

就可容易地將光學體1貼合於窗材10等被黏附體之觀點而言，較佳為光學體1具有可撓性。較佳為光學體1係具有可撓性之光學膜。其原因在於：藉此，可將帶狀之光學體1捲繞成輥狀來作為素材，從而提昇搬送性及操作性等。此處，設定為膜包括片材。即，設定為光學體1亦包括光學片材。再者，光學體1之形狀並不限定於膜狀，亦可設定為板狀、塊狀等。

光學體1具有透明性。作為透明性，較佳為具有後述之透過像清晰度之範圍者。第1光學層4與第2光學層5之折射率差較佳為0.010以下，更佳為0.008以下，進而更佳為0.005以下。若折射率差超過0.010，則存在模糊地看到透過像之傾向。若為超過0.008且0.010以下之範圍，則雖然亦取決於外部之明亮度，但日常生活並無問題。若為超過0.005且0.008以下之範圍，則僅如光源般非常明亮之物體會感覺到繞射圖案，但可清晰地看到外部之景色。若為0.005以下，則幾乎感覺不到繞射圖案。再者，第1光學層4及第2光學層5之折射率差不一定必需進入上述範圍內。

第1光學層4及第2光學層5之中，成為與窗材10等貼合之側之光學層可將黏著劑作為主成分。藉由設定為此種構成，可利用以黏著劑作為主成分之第1光學層4、或第2光學層5將光學體1貼合於窗材10等上。再者，於設定為此種構成之情形時，較佳為黏著劑之折射率差處於上述範圍內。

較佳為第1光學層4與第2光學層5之折射率等光學特性相同。更具體而言，較佳為第1光學層4與第2光學層5包含在可見區域中具有透明性之相同之材料，例如相同之樹脂材料。由相同之材料構成第1光學層4與第2光學層5，藉此兩者之折射率變得相等，因此可提昇可見光之透明性。但是，即便以相同之材料作為起始源，亦存在因成膜步驟中之硬化條件等而導致最終生成之層之折射率不同的情形，因此必需加以注意。相對於此，若由不同之材料構成第1光學層4與第2光學層5，則因兩者之折射率不同，故存在光以反射層3作為邊界折射，透過像模糊不清之傾向。尤其，若觀察靠近遠處之電燈等點光源之物，則存在顯著地觀察到繞射圖案之傾向。再者，為了調整折射率之值，亦可使添加劑混入至第1光學層4及/或第2光學層5中。

較佳為第1光學層4與第2光學層5於可見區域中具有透明性。此處，透明性之定義有兩種含義：不存在光之吸收、及不存在光之散射。通常於提及透明之情形時，有時僅指前者，但第1實施形態之光學體1較佳為包括兩者。由於當前所利用之回復反射體係以目視確認道路標識或夜間作業者之衣服等之顯示反射光為目的，因此即便具有例如散射性，只要與基底反射體密接，則亦可目視確認該反射光。例如，與如下之情形為相同之原理：即便以賦予防眩性為目的對圖像顯示裝置之前表面進行具有散射性之防眩處理，亦可目視確認圖像。但是，第1實施形態之光學體1於使指向反射之特定之波長以外的光透過方面具有特徵，且為了接著於主要使該透過波長透過之透過體來觀察其透過光，較佳為不存在光之散射。然而，根據其用途不同，亦可有意圖地使第1光學層4具有散射性。

光學體1較佳為經由黏著劑等而貼合於主要對所透過之特定波長以外之光具有透過性的剛體、例如窗材10上來使用。作為窗材10，可列舉高層辦公大樓或住宅等之建築用窗材、車輛用之窗材等。於將光學體1應用於建築用窗材之情形時，特佳為將光學體1應用於配置在東~南~西朝向中之任一方向(例如東南~西南朝向)上之窗材10。其原因在於：藉由應用於此種位置之窗材10，可更有效地反射紅外線。光學體1不僅可用於單層之窗玻璃，亦可用於多層玻璃等特殊玻璃。又，窗材10並不限定於包含玻璃者，亦可使用包含具有透明性之高分子材料者。較佳為光學層2於可見區域中具有透明性。其原因在於：藉由如上述般具有透明性，於將光學體1貼合在窗玻璃等窗材10上之情形時，可使可見光透過，從而確保太陽光之採光。又，作為貼合之面，不僅可用於玻璃之內表面，亦可用於外表面。

又，光學體1可與其他紅外線截止膜併用而使用，亦可在例如空氣與光學體1之界面(即，光學體1之最表面)設置光吸收塗膜。又，光學體1亦可與硬塗層、紫外線截止層、表面抗反射層等併用而使用。於併用該等功能層之情形時，較佳為將該等功能層設置於光學體1與空氣之間之界面上。然而，關於紫外線截止層，必須配置於較光學體1更靠近太陽側，因此尤其於在室內之窗玻璃面上用作內貼用之情形時，較理想的是將紫外線截止層設置於該窗玻璃面與光學體1之間。於此情形時，亦可事先將紫外線吸收劑揉進窗玻璃面與光學體1之間之貼合層中。

又，根據光學體1之用途，可對光學體1實施著色而賦予設計性。於如上述般賦予設計性之情形時，較佳為設定成如下之構成：於無損透明性之範圍內，第1光學層4及第2光學層5之至少一者主要吸收可見區域中之特定之波長帶的光。

圖3係表示對光學體1所入射之入射光與由光學體1所反射之反射光之關係的立體圖。光學體1具有光L所入射之入射面S1。於反射層3為波長選擇反射層之情形時，較佳為光學體1使以入射角(θ、Φ)入射至入射面S1之光L中之特定波長帶的光L₁選擇性地朝正反射(-θ、Φ+180°)以外之方向指向反射，相對於此，使特定波長帶以外之光L₂透過。又，光學體1對於上述特定波長帶以外之光具有透明性。作為透明性，較佳為具有後述之透過像清晰度之範圍者。於反射層3為半透過層之情形時，較佳為使以入射角(θ、Φ)入射至入射面S1之光L中之一部分的光L₁朝正反射(-θ、Φ+180°)以外之方向指向反射，相對於此，使剩餘之光L₂透過。其中，θ：相對於入射面S1之垂線l₁與入射光L或反射光L₁所成之角。Φ：入射面S1內之特定之直線l₂與將入射光L或反射光L₁投影至入射面S1之成分所成的角。此處，所謂入射面內之特定之直線l₂，係指當固定入射角(θ、Φ)，以相對於光學體1之入射面S1之垂線l₁為軸而使光學體1旋轉時，朝向Φ方向之反射強度成為最大之軸。其中，於反射強度成為最大之軸(方向)有複數個之情形時，選擇其中之1個作為直線l₂。再者，將以垂線l₁為基準而順時針旋轉之角度θ設定為「+θ」，將逆時針旋轉之角度θ設定為「-θ」。將以直線l₂為基準而順時針旋轉之角度Φ設定為「+Φ」，將逆時針旋轉之角度Φ設定為「-Φ」。於反射層3為半透過層之情形時，較佳為指向反射之光主要係波長區域為400 nm以上、2100 nm以下之光。

選擇性地指向反射之特定之波長帶的光、及所透過之特定之光根據光學體1之用途而有所不同。例如，於將光學體1應用於窗材10之情形時，較佳為選擇性地指向反射之特定之波長帶的光為近紅外光，所透過之特定之波長帶的光為可見光。具體而言，較佳為選擇性地指向反射之特定之波長帶的光主要係波長區域為780 nm~2100 nm之近紅外線。藉由反射近紅外線，於將光學體貼合於玻璃窗等窗材之情形時，可抑制建築物內之溫度上升。因此，可減輕冷氣負荷，而謀求節能化。此處，所謂指向反射，係指具有朝向正反射以外之某一特定方向之反射，且遠強於不具有指向性之擴散反射強度。此處，所謂反射，係表示特定之波長區域、例如近紅外區域內之反射率較佳為30%以上，更佳為50%以上，進而更佳為80%以上。所謂透過，係表示特定之波長區域、例如可見光區域內之透過率較佳為30%以上，更佳為50%以上，進而更佳為70%以上。

於光學體1中，指向反射之方向Φo較佳為-90°以上、90°以下。其原因在於：於將光學體1貼合在窗材10之情形時，可使自上空所入射之光中之特定波長帶的光返回至上空方向。於周邊不存在高建築物之情形時，該範圍之光學體1有用。又，指向反射之方向較佳為(θ、-Φ)附近。所謂附近，係指自(θ、-Φ)起較佳為5度以內，更佳為3度以內，進而更佳為2度以內之範圍內之偏差。其原因在於：藉由設定為該範圍，於將光學體1貼在窗材10之情形時，可使自以相同程度之高度並排而立之建築物的上空所入射之光中之特定波長帶的光高效地返回至其他建築物之上空。為了實現此種指向反射，較佳為使用例如球面或雙曲面之一部分或者三角錐、四角錐、圓錐等三維構造體。自(θ、Φ)方向(-90°<Φ<90°)所入射之光可根據其形狀而朝(θo、Φo)方向(0°<θo<90°、-90°<Φo<90°)反射。或者，亦可設定為朝一方向伸展之柱狀體。自(θ、Φ)方向(-90°<Φ<90°)所入射之光可根據柱狀體之傾斜角而朝(θo、-Φ)方向(0°<θo<90°)反射。

於光學體1中，較佳為特定波長帶之光之指向反射為回復反射附近方向，即，相對於以入射角(θ、Φ)入射至入射面S1之光之特定波長帶之光的反射方向為(θ、Φ)附近。其原因在於：於將光學體1貼在窗材10之情形時，可使自上空所入射之光中之特定波長帶的光返回至上空方向。此處，所謂附近，係指較佳為5度以內，更佳為3度以內，進而更佳為2度以內。其原因在於：藉由設定為該範圍，於將光學體1貼在窗材10之情形時，可使自上空所入射之光中之特定波長帶的光高效地返回上空。又，於如紅外線感測器或紅外線攝像般紅外光照射部與受光部鄰接之情形時，回復反射方向必需與入射方向相同，於無需如本發明般自特定之方向進行感測之情形時，則無需嚴格地設定為相同之方向。

於反射層3為波長選擇反射層之情形時，於光學體1中，關於針對具有透過性之波長帶之透過像清晰度，使用0.5 mm之光梳(optical comb)時之值較佳為50以上，更佳為60以上，進而更佳為75以上。若透過像清晰度之值未達50，則存在模糊地看到透過像之傾向。若為50以上且未達60，則雖然亦取決於外部之明亮度，但日常生活並無問題。若為60以上且未達75，則僅如光源般非常明亮之物體會感覺到繞射圖案，但可清晰地看到外部之景色。若為75以上，則幾乎感覺不到繞射圖案。進而使用0.125 mm、0.5 mm、1.0 mm、2.0 mm之光梳進行測定之透過像清晰度之值的合計值較佳為230以上，更佳為270以上，進而更佳為350以上。若透過像清晰度之合計值未達230，則存在模糊地看到透過像之傾向。若為230以上且未達270，則雖然亦取決於外部之明亮度，但日常生活並無問題。若為270以上且未達350，則僅如光源般非常明亮之物體會感覺到繞射圖案，但可清晰地看到外部之景色。若為350以上，則幾乎感覺不到繞射圖案。此處，透過像清晰度之值係使用Suga Test Instruments製造之ICM-1T，依據JIS K7105而測定者。但是，當欲使其透過之波長與D65光源波長不同時，較佳為於使用欲透過之波長之濾波器進行校正之後測定。

於反射層3為半透過層之情形時，關於針對D65光源之透過像清晰度，使用0.5 mm之光梳時之值較佳為30以上，更佳為50以上，進而更佳為75以上。若透過像清晰度之值未達30，則存在模糊地看到透過像之傾向。若為30以上且未達50，則雖然亦取決於外部之明亮度，但日常生活並無問題。若為50以上且未達75，則僅如光源般非常明亮之物體會感覺到繞射圖案，但可清晰地看到外部之景色。若為75以上，則幾乎感覺不到繞射圖案。進而使用0.125 mm、0.5 mm、1.0 mm、2.0 mm之光梳進行測定之透過像清晰度之值的合計值較佳為170以上，更佳為230以上，進而更佳為350以上。若透過像清晰度之合計值未達170，則存在模糊地看到透過像之傾向。若為170以上且未達230，則雖然亦取決於外部之明亮度，但日常生活並無問題。若為230以上且未達350，則僅如光源般非常明亮之物體會感覺到繞射圖案，但可清晰地看到外部之景色。若為350以上，則幾乎感受不到繞射圖案，此處，透過像清晰度之值係使用Suga Test Instruments製造之ICM-1T，依據JIS K7105而測定者。

於光學體1中，針對具有透過性之波長帶之霧度較佳為6%以下，更佳為4%以下，進而更佳為2%以下。其原因在於：若霧度超過6%，則透過光會散射，看起來模糊。此處，霧度係使用村上色彩製造之HM-150，利用由JIS K7136所規定之測定方法進行測定者。然而，當欲使其透過之波長與D65光源波長不同時，，較佳為於使用欲透過之波長之濾波器進行校正之後測定。光學體1之入射面S1、較佳為入射面S1及出射面S2具有不使透過像清晰度下降之程度之平滑性。具體而言，入射面S1及出射面S2之算術平均粗糙度Ra較佳為0.08 μm以下，更佳為0.06 μm以下，進而更佳為0.04 μm以下。再者，上述算術平均粗糙度Ra係測定入射面之表面粗糙度，自二維剖面曲線取得粗糙度曲線，將其作為粗糙度參數而算出者。再者，測定條件係以JIS B0601：2001為依據。以下表示測定裝置及測定條件。

測定裝置：全自動微細形狀測定機Surfcorder ET4000A(小阪研究所股份有限公司)

λc=0.8 mm，評價長度4 mm，截斷×5倍

資料取樣間隔0.5 μm

光學體1之透過色儘可能接近於中性色，即便帶有顏色，亦以給人清涼感之藍色、藍綠色、綠色等淺色調為佳。就獲得此種色調之觀點而言，較理想的是自入射面S1入射，透過光學層2及反射層3，自出射面S2出射之透過光及反射光之色度座標x、y相對於例如D65光源之照射，滿足較佳為0.20<x<0.35且0.20<y<0.40，更佳為0.25<x<0.32且0.25<y<0.37，進而更佳為0.30<x<0.32且0.30<y<0.35之範圍。進而，為了使色調不帶有紅色，較理想的是滿足較佳為y>x-0.02，更佳為y>x之關係。又，若反射色調根據入射角度而變化，則例如在應用於辦公大樓之窗之情形時，色調會根據場所而不同，或走動時顏色看上去會變化，故而不佳。就抑制此種色調之變化之觀點而言，以5°以上、60°以下之入射角度θ自入射面S1或出射面S2入射，並由光學層1反射之正反射光之色度座標x之差的絕對值、及色度座標y之差的絕對值於光學體1之兩主面之任一面中，較佳為0.05以下，更佳為0.03以下，進而更佳為0.01以下。關於針對此種反射光之色度座標x、y之數值範圍之限定較理想的是於入射面S1、及出射面S2之兩面中得到滿足。

為了抑制正反射附近之色調變化，較理想的是不包含具有較佳為5°以下、更佳為10°以下之傾斜角之平面。又，於反射層3由樹脂覆蓋之情形時，由於入射光自空氣入射至樹脂時會折射，因此可於更廣之入射角之範圍內抑制正反射光附近之色調變化。此外，於朝向正反射以外之反射色成為問題之情形時，較佳為配置光學體1，以使指向反射不會在成為問題之方向上進行。

以下，依次對構成光學體1之第1光學層4、第2光學層5、及反射層3進行說明。

「第1光學層、第2光學層」

第1光學層4係例如用以支撐且保護反射層3者。就對光學體1賦予可撓性之觀點而言，第1光學層4包含例如以樹脂為主成分之層。第1光學層4之兩主面之中，例如一面為平滑面，另一面為凹凸面(第1面)。反射層3係形成於該凹凸面上。

第2光學層5係用以藉由包埋形成有反射層3之第1光學層4之第1面(凹凸面)，而保護反射層3者。就對光學體1賦予可撓性之觀點而言，第2光學層5包含例如以樹脂為主成分之層。第2光學層5之兩主面之中，例如一面為平滑面，另一面為凹凸面(第2面)。第1光學層4之凹凸面與第2光學層5之凹凸面處於彼此使凹凸反轉之關係。

第1光學層4之凹凸面係由例如進行了二維排列之複數個構造體4c形成。第2光學層5之凹凸面係由例如進行了二維排列之複數個構造體5c形成。第1光學層4之構造體4c與第2光學層5之構造體5c僅凹凸反轉這一點不同，因此以下對第1光學層4之構造體4c進行說明。

構造體4c之間距P較佳為5 μm以上、5 mm以下，更佳為5 μm以上且未達250 μm，進而更佳為20 μm以上、200 μm以下。若構造體4c之間距未達5 μm，則難以將構造體4c之形狀設定為所期望之形狀，而且波長選擇反射層之波長選擇特性通常難以變得顯著，因此有時會反射透過波長之一部分。若引起此種反射，則會產生繞射，甚至目視確認到高階之反射，故存在透明性感覺不佳之傾向。另一方面，若構造體4c之間距超過5 mm，則於考慮了指向反射所需之構造體4c之形狀之情形時，必要之膜厚變厚而失去可撓性，從而難以貼合於窗材10等剛體上。又，藉由使構造體4c之間距未達250 μm，可進一步增加可撓性，利用連續捲繞之製造變得容易，從而無需批量生產。為了將光學體1應用於窗等建材，需要數m左右之長度，與批量生產相比利用連續捲繞之製造更合適。進而，於將間距設定為20 μm以上、200 μm以下之情形時，生產效率進一步提昇。

又，形成於第1光學層4之表面之構造體4c之形狀並不限定於一種，亦可使複數種形狀之構造體4c形成於第1光學層4之表面。於將複數種形狀之構造體4c設置於表面之情形時，可使包含複數種形狀之構造體4c之特定之圖案週期性地重複。又，根據所期望之特性，可使複數種構造體4c無規則(非週期性)地形成。

圖4A係表示第1光學層之凹凸面之形狀之一例的平面圖。圖4B係沿圖4A所示之第1光學層之B-B線的剖面圖。第1光學層4之凹凸面例如以使相鄰之構造體4c之傾斜面對向之方式進行二維排列，藉此形成作為具有角隅稜鏡形狀之凹部之構造體4c。二維排列較佳為最稠密填充狀態下之二維排列。其原因在於：可提高構造體4c之填充率，從而提昇光學體1之指向反射效果。

圖5係將圖4A所示之第1光學層之凹凸面之一部分放大表示的放大平面圖。作為凹部之構造體4c係包含具有三角形狀之底面71、以及具有三角形狀之3個傾斜面72之角隅稜鏡形狀的構造體(以下，將角隅稜鏡形狀之構造體適當地稱為角隅稜鏡)。藉由相鄰之構造體4c之傾斜面而形成脊線部73a、73b、73c。該等脊線部73a、73b、73c係於第1光學層4之凹凸面內朝向3個方向(以下稱為脊線方向)a、b、c而形成。3個脊線方向a、b、c之中，1個脊線方向c與帶狀之光學體1之長邊方向D_L，即光學體1之入射面內之特定之直線1₂的方向處於大致平行之關係。

此處，於角隅稜鏡形狀中，除正確之角隅稜鏡形狀以外，亦包括大致角隅稜鏡形狀。所謂大致角隅稜鏡形狀，係指光軸傾斜之角隅稜鏡、傾斜面彎曲之角隅稜鏡、角隅角度偏離90°之角隅稜鏡、3個方向之槽組偏離6次對稱之角隅稜鏡、特定之2個方向之槽較其他1個方向之槽更深的角隅稜鏡、特定之1個方向之槽較其他2個方向之槽更深的角隅稜鏡、3個方向之槽之交點並不完全一致之角隅稜鏡、及頂部具有曲率之角隅稜鏡等之形狀。作為傾斜面彎曲之角隅稜鏡，例如可列舉：構成角隅稜鏡之3個面全部為彎曲之曲面的角隅稜鏡、及構成角隅稜鏡之3個面中之1個面或2個面為彎曲之曲面且剩餘之面為平面的角隅稜鏡。作為彎曲之曲面之形狀，例如可列舉：抛物面、雙曲面、球面、橢圓面等曲面，自由曲面等。又，曲面既可為凹狀及凸狀之任一者，亦可於1個角隅稜鏡上存在凹狀、及凸狀之兩種曲面。

第1光學層4例如具有雙層構造。具體而言，第1光學層4具備第1基材4a、及形成於第1基材4a與反射層3之間且具有與反射層3密接之凹凸面的第1樹脂層4b。再者，第1光學層4之構成並不限定於雙層構造，亦可設定為單層構造、或3層以上之構造。

第1光學層4較佳為以100℃下之儲存彈性模數之下降較少，25℃與100℃下之儲存彈性模數明顯相同之樹脂作為主成分。具體而言，較佳為包含25℃下之儲存彈性模數為3×10⁹Pa以下，100℃下之儲存彈性模數為3×10⁷Pa以上的樹脂。再者，第1光學層4較佳為由一種樹脂構成，但亦可包含兩種以上之樹脂。又，視需要亦可混入添加劑。

若如上述般以100℃下之儲存彈性模數之下降較少，25℃與100℃下之儲存彈性模數明顯相同之樹脂作為主成分，則即便於形成第1光學層4之凹凸面(第1面)後存在伴有熱、或伴有熱與加壓之製程的情形時，亦可大致保持所設計之界面形狀。相對於此，若以100℃下之儲存彈性模數之下降較大，25℃與100℃下之儲存彈性模數明顯不同之樹脂作為主成分，則自所設計之界面形狀之變形變大，於光學體1上產生捲曲。

此處，伴有熱之製程不僅包含如退火處理等直接對光學體1或其構成構件加熱之製程，亦包含如於薄膜之成膜時、及樹脂組合物之硬化時等，成膜面之局部之溫度上昇而間接地對光學體1或其構成構件加熱的製程，或者如藉由能量線照射而使模具之溫度上昇，從而間接地對光學膜加熱之製程。又，藉由限定上述儲存彈性模數之數值範圍所獲得之效果並不特別受限於樹脂之種類，可藉由熱塑性樹脂、熱硬化型樹脂、及能量線照射型樹脂之任一者獲得。

第1光學層4之儲存彈性模數例如可藉由如下方式來確認。於第1光學層4之表面露出之情形時，可藉由使用微小硬度計測定其露出面之儲存彈性模數來確認。又，當於第1光學層4之表面形成有第1基材4a等時，可藉由在剝離第1基材4a等，而使第1光學層4之表面露出後，使用微小硬度計測定其露出面之儲存彈性模數來確認。

作為抑制高溫下之彈性模數之下降的方法，例如，於為熱塑性樹脂時，可列舉調整側鏈之長度及種類等之方法，於為熱硬化型樹脂、及能量線照射型樹脂時，可列舉調整交聯點之量及交聯材料之分子結構等的方法。但是，較佳為使對樹脂材料本身所要求之特性不會因此種構造變更而受損。例如，根據交聯劑之種類，存在室溫附近之彈性模數變高、變脆，或者收縮變大、膜彎曲或捲曲之情形，因此較佳為對應於所期望之特性適當地選擇交聯劑之種類。

於第1光學層4包含結晶性高分子材料作為主成分之情形時，較佳為以玻璃轉移點大於製造製程中之最高溫度，且製造製程中之最高溫度下之儲存彈性模數之下降較少的樹脂為主成分。相對於此，若使用玻璃轉移點處於室溫25℃以上、製造製程中之最高溫度以下之範圍內，且製造製程中之最高溫度下之儲存彈性模數之下降較大的樹脂，則於製造製程中難以保持所設計之理想之界面形狀。

於第1光學層4包含非晶性高分子材料作為主成分之情形時，較佳為以熔點大於製造製程中之最高溫度，且製造製程中之最高溫度下之儲存彈性模數之下降較少的樹脂為主成分。相對於此，若使用熔點處於室溫25℃以上、製造製程中之最高溫度以下之範圍內，且製造製程中之最高溫度下之儲存彈性模數之下降較大的樹脂，則於製造製程中難以保持所設計之理想之界面形狀。

此處，所謂製造製程中之最高溫度，係指製造製程中之第1光學層4之凹凸面(第1面)之最高溫度。較佳為第2光學層5亦滿足上述儲存彈性模數之數值範圍、及玻璃轉移點之溫度範圍。

即，較佳為第1光學層4及第2光學層5之至少一者包含25℃下之儲存彈性模數為3×10⁹ Pa以下的樹脂。其原因在於：可於室溫25℃下對光學體1賦予可撓性，因此可進行利用連續捲繞之光學體1之製造。

「基材」

第1基材4a及第2基材5a例如具有透明性。作為基材之形狀，就對光學體1賦予可撓性之觀點而言，較佳為具有膜狀，但並不特別限定於該形狀。作為第1基材4a及第2基材5a之材料，例如可使用公知之高分子材料。作為公知之高分子材料，例如可列舉：三乙醯纖維素(TAC，Triacetyl Cellulose)、聚酯(TPEE，Thermoplastic Polyester Elastomer)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET，Polyethylene Terephthalate)、聚醯亞胺(PI，Polyimide)、聚醯胺(PA，Polyamide)、芳族聚醯胺、聚乙烯(PE，polyethylene)、聚丙烯酸酯、聚醚碸、聚碸、聚丙烯(PP，Polypropylene)、二乙醯纖維素、聚氯乙烯、丙烯酸系樹脂(PMMA，Polymethylmethacrylate)、聚碳酸酯(PC，Polycarbonate)、環氧樹脂、脲樹脂、胺基甲酸酯樹脂、三聚氰胺樹脂等，但並不特別限定於該等材料。第1基材4a及第2基材5a之厚度就生產性之觀點而言，較佳為38~100 μm，但並不特別限定於該範圍。第1基材4a及第2基材5a較佳為具有能量線透過性。其原因在於：藉此，可如後述般自第1基材4a或第2基材5a側對介於第1基材4a、或第2基材5a與反射層3之間之能量線硬化型樹脂照射能量線，從而使能量線硬化型樹脂硬化。

「樹脂層」

第1光學層4及第2光學層5例如具有透明性。第1光學層4及第2光學層5例如藉由使樹脂組合物硬化而獲得。作為樹脂組合物，就製造之容易性之觀點而言，較佳為使用藉由光或電子束等而硬化之能量線硬化型樹脂、或者藉由熱而硬化之熱硬化型樹脂。作為能量線硬化型樹脂，較佳為藉由光而硬化之感光性樹脂組合物，最佳為藉由紫外線而硬化之紫外線硬化型樹脂組合物。就提高第1光學層4、或第2光學層5與反射層3之密接性之觀點而言，較佳為樹脂組合物進而包含含有磷酸之化合物、含有琥珀酸之化合物、含有丁內酯之化合物。作為含有磷酸之化合物，例如可使用含有磷酸之(甲基)丙烯酸酯，較佳為官能基中具有磷酸之(甲基)丙烯酸單體或寡聚物。作為含有琥珀酸之化合物，例如可使用含有琥珀酸之(甲基)丙烯酸酯，較佳為官能基中具有琥珀酸之(甲基)丙烯酸單體或寡聚物。作為含有丁內酯之化合物，例如可使用含有丁內酯之(甲基)丙烯酸酯，較佳為官能基中具有丁內酯之(甲基)丙烯酸單體或寡聚物。

紫外線硬化型樹脂組合物例如含有(甲基)丙烯酸酯、及光聚合起始劑。又，紫外線硬化型樹脂組合物可視需要進而含有光穩定劑、阻燃劑、調平劑及抗氧化劑等。

作為丙烯酸酯，較佳為使用具有2個以上(甲基)丙烯醯基之單體及/或寡聚物。作為該單體及/或寡聚物，例如可使用(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、(甲基)丙烯酸環氧基酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯等。此處，所謂(甲基)丙烯醯基，係指丙烯醯基及甲基丙烯醯基之任一者。此處，所謂寡聚物，係指分子量為500以上、60000以下之分子。

作為光聚合起始劑，可使用自公知之材料中適當地選擇者。作為公知之材料，例如可單獨使用二苯甲酮衍生物、苯乙酮衍生物、蒽醌衍生物等，或者併用該等來使用。聚合起始劑之調配量較佳為於固形物成分中為0.1質量%以上、10質量%以下。若未達0.1質量%，則光硬化性下降，實質上不適合工業生產。另一方面，若超過10質量%，則於照射光量較小之情形時，存在塗膜上殘留臭氣之傾向。此處，所謂固形物成分，係指構成硬化後之硬塗層12之所有成分。具體而言，例如將丙烯酸酯、及光聚合起始劑等稱為固形物成分。

作為所使用之樹脂，較佳為如即便於介電體形成時之製程溫度下亦不變形、且不會產生龜裂者。若玻璃轉移溫度較低，則設置後，於高溫時會變形、或者於介電體形成時樹脂形狀會變化，故而不佳，若玻璃轉移溫度較高，則易於產生龜裂或界面剝落，故而不佳。具體而言，玻璃轉移溫度較佳為60度以上、150度以下，更佳為80度以上、130度以下。

樹脂較佳為藉由能量線照射或熱等而可轉印構造者，可使用乙烯系樹脂、環氧系樹脂、熱塑性樹脂等。若為滿足上述折射率之要求者，則可使用任一種樹脂。

為了減少硬化收縮，可添加寡聚物。作為硬化劑，可含有聚異氰酸酯等。又，亦可考慮與第1光學層4及第2光學層5之密接性而添加如具有羥基或羧基、磷酸基之單體，多元醇類、羧酸、矽烷、鋁、鈦等之偶合劑或各種螯合劑等。

樹脂組合物較佳為進而包含交聯劑。作為該交聯劑，特佳為使用環狀之交聯劑。其原因在於：藉由使用交聯劑，可不使室溫下之儲存彈性模數大幅度變化，而使樹脂耐熱化。再者，若室溫下之儲存彈性模數大幅度變化，則光學體1變脆，難以進行藉由連續捲繞步驟等之光學體1之製作。作為環狀之交聯劑，例如可列舉：二烷醇二丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二甲基丙烯酸脂、環氧乙烷改質異三聚氰酸二丙烯酸酯、環氧乙烷改質異三聚氰酸三丙烯酸酯、己內酯改質三(丙烯醯氧基乙基)異氰尿酸酯等。

再者，上述聚合物等之含量可對應於反射層3中所包含之介電體層、或金屬層等之性質而任意地調整。

較佳為第1基材4a、或第2基材5a之水蒸氣透過率較第1光學層4、或第2光學層5之水蒸氣透過率更低。例如，於藉由如丙烯酸胺基甲酸酯之能量線硬化型樹脂形成第1光學層4之情形時，較佳為藉由水蒸氣透過率較第1光學層4更低、且具有能量線透過性之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)等樹脂而形成第1基材4a。藉此，可減少自入射面S1或出射面S2朝向反射層3之水分之擴散，從而抑制反射層3中所包含之金屬等之劣化。因此，可提昇光學膜1之耐久性。再者，厚度為75 μm之PET之水蒸氣透過率為10 g/m²/day(40℃、90%RH)左右。

較佳為第1光學層4及第2光學層5中之至少一者包含極性較高之官能基，且其含量於第1樹脂層4b與第2樹脂層5b中不同。較佳為第1光學層4與第2光學層5兩者含有磷酸化合物(例如，磷酸酯)，且第1光學層4與第2光學層5中之上述磷酸化合物之含量不同。較佳為磷酸化合物之含量於第1樹脂層4b與第2樹脂層5b中相差較佳為2倍以上，更佳為5倍以上，進而更佳為10倍以上。

於第1光學層4、及第2光學層5中之至少一者含有磷酸化合物之情形時，較佳為反射層3之與含有磷酸化合物之第1光學層4或第2光學層5接觸的面上含有氧化物或氮化物、氮氧化物。特佳為反射層3之與含有磷酸化合物之第1光學層4或第2光學層5接觸的面上具有含有氧化鋅(ZnO)或氧化鈮之層。其原因在於：該等光學層與波長選擇反射層等反射層3之密接性得到提昇。又，其原因在於：於反射層3含有Ag等金屬之情形時，抗腐蝕效果較高。又，該反射層亦可含有Al、Ga等摻雜物。其原因在於：於藉由濺鍍法等形成金屬氧化物層之情形時，膜質及平滑性得到提昇。

就對光學體1或窗材10等賦予設計性之觀點而言，較佳為第1光學層4及第2光學層5中之至少一者具有吸收可見區域中之特定之波長帶之光的特性。分散於樹脂中之顏料可為有機系顏料及無機系顏料中之任一者，特佳為設定成顏料本身之耐候性較高之無機系顏料。具體而言，可列舉：鋯灰(摻雜有Co、Ni之ZrSiO₄)、鐠黃(摻雜有Pr之ZrSiO₄)、鉻鈦黃(摻雜有Cr、Sb之TiO₂或摻雜有Cr、W之TiO₂)、鉻綠(Cr₂O₃等)、孔雀藍((CoZn)O(AlCr)₂O₃)、維多利亞綠((Al、Cr)₂O₃)、鐵藍(CoO‧Al₂O₃‧SiO₂)、釩鋯藍(摻雜有V之ZrSiO₄)、鉻錫紅(摻雜有Cr之CaO‧SnO₂‧SiO₂)、錳紅(摻雜有Mn之Al₂O₃)、橙紅(摻雜有Fe之ZrSiO₄)等無機顏料，偶氮系顏料或酞菁系顏料等有機顏料。

(第2光學層之折射率)

如上所述，第2光學層5係用以藉由包埋形成有反射層3之第1光學層4之第1面(凹凸面)，而保護反射層3者。藉由將第2光學層之折射串設定為特定之範圍，可使入射至光學體1之光於入射面折射，而緩和對於反射層3之實質之入射角度。又，可抑制由入射光於空氣/樹脂之界面反射所引起之指向性反射成分的減少。因此，當形成反射層之構造前端，例如構造體為角隅稜鏡形狀時，即便於其脊線部具有形狀之變形之情形時，亦可將作為整體之指向性反射成分保持得較高。

第2光學層5例如具有雙層構造。具體而言，第2光學層5具備第2基材5a、以及形成於第2基材5a與反射層3之間且具有與反射層3密接之凹凸面的第2樹脂層5b。再者，第2光學層5之構成並不限定於雙層構造，亦可設定為單層構造、或3層以上之構造。

作為第2基材5a、及第2樹脂層5b之材料，可分別使用與第1基材4a、及第1樹脂層4b相同者，但重要的是將其折射率設定為特定之範圍內者。即，第2光學層之折射率較佳為1.1以上、1.9以下，更佳為1.4以上、1.6以下，進而更佳為1.49以上、1.55以下。將第2光學層之折射率設定為上述範圍而較佳之理由將結合實施例之說明而後述。

再者，當將第2光學層設定為多層構造時，各個層間之折射率差較佳為0.010以下，更佳為0.008以下，進而更佳為0.005以下。於設定為使光學體1貼合於窗材等被黏附體之構成之情形時，較佳為被黏附面側之光學層之折射率與被黏附體之折射率的差處於上述範圍內。

圖6A係表示入射至光學體1之光藉由反射層3而反射之様子的剖面示意圖。圖6B係表示於空氣/樹脂之界面折射之光藉由反射層3而反射之様子的略線圖。

於圖6A中，省略被黏附體或黏著層等之圖示，將入射面S1設定為光學體1與空氣之界面。此處，將圖之左側設定為垂直上方來進行說明，但本實施形態並不限定於該例。例如，於將光學體1應用於已傾斜之屋頂之情形時，亦可將圖6A之左側設定為斜上方，於將光學體1應用於天窗等之情形時，亦可將光學體1設定為朝向大致水平方向者。

自光學體1所出射之光之上方反射(指向性反射)率Ru及下方反射率Rd可藉由以下所說明之方式求出。

現在，設定為光L以入射角θ₀入射至光學體1。光L之一部分於空氣/樹脂之界面反射，剩餘之成分以折射角θ₁之角度折射後朝向反射層3。朝向反射層3之光之一部分於反射層3中朝光學體之下方反射，剩餘之成分被指向反射。被指向反射之光再次朝向空氣/樹脂之界面，於空氣/樹脂之界面折射後朝光學體之上方出射。另一方面，未藉由反射層3指向反射之成分於空氣/樹脂之界面折射後朝光學體之下方(圖6A之右側)出射。

因此，上方反射成分係光L之中藉由反射層3而指向反射之成分，下方反射成分可以說係於空氣/樹脂之界面反射之成分與未藉由反射層3指向反射之成分的和。再者，所謂本說明書中之上方反射，於圖6A中，係指來自光學體之出射光Lu之出射角度θu為0°以上、90°以下者。

空氣/樹脂之界面上之能量反射率係藉由所謂的菲涅耳之反射率之公式來計算。

[數1]

[數2]

Γs：能量反射率(S波)

Γp：能量反射率(P波)

n₀：空氣之折射率(n₀=1.0)

n₁：第2光學層之折射率

空氣/樹脂之界面反射之成分的大小可根據Γs、Γp之算術平均Γ(以下，稱為菲涅耳反射率)而估計。另一方面，入射至光學體之光之中，未於空氣/樹脂之界面反射之成分的比例，換言之，於空氣/樹脂之界面折射後朝向反射層3之成分之比例可認為係(1-Γ)。

若將入射至反射層3之光之中被指向反射之光的比例，即，反射層3中之指向反射率設定為Re，則自光學體之上方所入射之光之中，再次朝向上方並自光學體出射之光之比例(上方反射率Ru)係表示為Re×(1-Γ)，朝下方出射之光之比例係表示為(1-Re)×(1-Γ)。

根據以上所述，光學體1之上方反射率Ru、下方反射率Rd可分別藉由以下之式(3)及(4)表示。

[數3]

Ru=Re×(1-Γ)　…(3)

[數4]

Rd=Γ+(1-Re)×(1-Γ)=1-Re×(1-Γ)　…(4)

圖7表示菲涅耳反射率Γ與第2光學層之折射率n₁之關係。如圖7所示，隨著n₁變大，Γ增加。其表示於僅考慮抑制所入射之光L之中，在空氣/樹脂之界面正反射之成分的情形時，第2光學層之折射率n₁越接近1.0越好。

另一方面，於使反射層3中之指向反射率Re增加時，較理想的是使朝向反射層之光於形狀內之各面確實地反射多次。因此，使將反射層假定為與入射面平行之平面時時之入射角，即，空氣/樹脂之界面中之折射角θ₁越小越好。

折射角θ₁係藉由所謂的司乃耳定律(Snell's law)來計算。

[數5]

n₀sinθ₀=n₁sinθ₁　…(5)

可知於設定為n₀=1.0，並將θ₀固定之情形時，為使折射角θ₁變小，使第2光學層之折射率n₁越大越好。

若總結以上所述，則可認為作為使光學體之指向性反射性能下降之下方反射之成分，空氣/樹脂之界面上之反射及反射層中之下方反射這兩者會產生影響。於使前者之作用變小時，第2光學層之折射率n₁越接近空氣之折射率越好，於使後者之作用變小時，第2光學層之折射率n₁儘可能越大越好。根據以上所述，第2光學層之折射率成為決定光學體之指向性反射性能之參數之一。

「反射層」

反射層例如為使以入射角(θ、Φ)入射至入射面之光中之特定波長帶的光指向反射，相對於此，使特定波長帶以外之光透過的波長選擇反射層；使以入射角(θ、Φ)入射至入射面之光指向反射之反射層；或者散射較少並可目視確認相反側之具有透明性之半透過層。波長選擇反射層例如為積層膜、透明導電層、或功能層。又，可將積層膜、透明導電層、及功能層之兩種以上加以組合來作為波長選擇層。反射層3之平均層厚較佳為20 μm，更佳為5 μm以下，進而更佳為1 μm以下。若反射層3之平均層厚超過20 μm，則存在透過光折射之光程變長，透過像看上去歪斜之傾向。作為反射層之形成方法，例如可使用濺鍍法、蒸鍍法、浸塗法、模塗法等。

以下，依次對積層膜、透明導電層、功能層、及半透過層進行說明。

(積層膜)

積層膜係例如使折射率不同之低折射率層及高折射率層交替地積層而成之積層膜。或者，積層膜係使於紅外區域內反射率較高之金屬層、防止反射層之劣化之氧化金屬保護層、於可見區域內折射率較高而作為抗反射層發揮功能之高折射率層積層而成的積層膜。作為高折射率層，可使用光學透明層、或透明導電層。積層膜之構成亦可藉由於金屬層上積層氧化金屬層、於氧化金屬層上積層高折射率層而反覆積層。

於紅外區域內反射率較高之金屬層可將例如Au、Ag、Cu、Al、Ni、Cr、Ti、Pd、Co、Si、Ta、W、Mo、Ge等單體，或包含兩種以上之該等單體之合金作為主成分。而且，若考慮實用性之方面，則較佳為該等中之Ag系、Cu系、Al系、Si系或Ge系之材料。又，於使用合金作為金屬層之材料之情形時，金屬層較佳為將AlCu、AlTi、AlCr、AlCO、AlNdCu、AlMgSi、AgPdCu、AgPdTi、AgCuTi、AgPdCa、AgPdMg、AgPdFe、AgNdCu、AgBi、Ag或SiB等作為主成分。又，為了抑制金屬層之腐蝕，較佳為對金屬層添加Ti、Nd等材料。尤其，於使用Ag作為金屬層之材料之情形時，較佳為添加上述材料。

又，波長選擇金屬層之膜厚較佳為設定成6~30 nm，更佳為設定成7~25 nm，進而更佳為設定成8~20 nm。若未達6 nm，則因反射層之金屬成為島狀或粒狀而產生反射功能之下降，若成為30 nm以上，則會產生透過率之下降。

作為氧化金屬保護層，較佳為例如將ZnO系之ZnO、GAZO、AZO、GZO等氧化金屬設定成3~30 nm，更佳為設定成4~20 nm，進而更佳為設定成5~15 nm。若未達3 nm，則容易產生選擇反射金屬層之劣化，若為30 nm以上，則容易產生龜裂。氧化金屬保護層之製膜較佳為使用氧化物靶材，藉由直流脈衝濺鍍法或MF(Medium Frequency，中頻)雙濺鍍法、RF(Radio Frequency，射頻)濺鍍法而僅以Ar氣體來進行。

高折射率層係以例如金屬之氧化物作為主成分之層。作為金屬之氧化物，較佳為以例如氧化鈮、氧化鉭、氧化鈦等高介電體作為主成分，將例如五氧化鈮或五氧化鉭、氧化鈦等之氧化金屬層設定成10~80 nm，更佳為設定成10~100 nm，進而更佳為設定成10~120 nm。若膜厚未達10 nm，則存在可見光變得易於反射之傾向。另一方面，若膜厚超過120 nm，則存在容易產生透過率之下降或龜裂之傾向。

又，積層膜中所包含之高折射率層之折射率較佳為1.7以上、2.6以下之範圍內。更佳為1.8以上、2.6以下，進而更佳為1.9以上、2.6以下。其原因在於：藉此，可利用不會產生龜裂之程度之薄膜而實現可見光區域中之抗反射。此處，折射率係波長為550 nm者。

再者，積層膜並不限定於包含無機材料之薄膜，亦可使包含高分子材料之薄膜及於高分子中分散有微粒子等之層積層而構成。

(透明導電層)

透明導電層係以於可見區域中具有透明性之導電性材料作為主成分之透明導電層。透明導電層係以例如氧化錫、氧化鋅、含有奈米碳管之物質、摻雜有銦之氧化錫、摻雜有銦之氧化鋅、摻雜有銻之氧化錫等透明導電物質作為主成分。或者，可使用使該等之奈米粒子或金屬等具有導電性之材料之奈米粒子、奈米棒、奈米線高濃度地分散於樹脂中而成之層。

(功能層)

功能層係以藉由外部刺激而使反射性能等可逆地變化之變色材料作為主成分。變色材料係例如藉由熱、光、滲入分子等外部刺激而使構造可逆地變化之材料。作為變色材料，例如可使用光致變色材料、熱變色材料、氣致變色材料、電致變色材料。

所謂光致變色材料，係指藉由光之作用而使構造可逆地變化之材料。光致變色材料可藉由例如紫外線等之光照射而使反射率或顏色等各種物性可逆地變化。作為光致變色材料，例如可使用摻雜有Cr、Fe、Ni等之TiO₂、WO₃、MoO₃、Nb₂O₅等過渡金屬氧化物。又，亦可藉由使該等之層與折射率不同之層積層而提昇波長選擇性。

所謂熱變色材料，係指藉由熱之作用而使構造可逆地變化之材料。熱變色材料可藉由加熱而使反射率或顏色等各種物性可逆地變化。作為熱變色材料，例如可使用VO₂等。又，為了控制轉移溫度及轉移曲線，亦可添加W、Mo、F等元素。又，可設定為藉由以TiO₂或ITO等高折射率體作為主成分之抗反射層夾持以VO₂等熱變色材料作為主成分之膜之積層構造。

又，亦可使用膽固醇液晶等之光子晶格。膽固醇液晶可選擇性地反射對應於層間隔之波長之光，該層間隔根據溫度而變化，因此可藉由加熱而使反射率或顏色等物性可逆地變化。此時，亦可使用層間隔不同之若干膽固醇液晶層而擴大反射區域。

所謂電致變色材料，係可藉由電而使反射率或顏色等各種物性可逆地變化之材料。作為電致變色材料，例如可使用藉由電壓之施加而使構造可逆地變化之材料。更具體而言，作為電致變色材料，例如可使用藉由質子等之摻雜或去摻雜而使反射特性改變之反射型調光材料。所謂反射型調光材料，具體係指可藉由外部刺激而將光學性質控制成透明之狀態、鏡之狀態、及/或其中間狀態之材料。作為此種反射型調光材料，例如可使用：以鎂及鎳之合金材料、鎂及鈦之合金材料作為主成分之合金材料，WO₃或於微膠囊中封入具有選擇反射性之針狀晶體而成之材料等。

作為具體之功能層之構成，例如可使用於第2光學層上積層有如下層之構成：上述合金層、含有Pd等之觸媒層、較薄之Al等之緩衝層、Ta₂O₅等之電解質層、含有質子之WO₃等之離子儲存層、透明導電層。又，可使用於第2光學層上積層有透明導電層、電解質層、WO₃等之電致變色層、透明導電層之構成。於該等構成中，藉由對透明導電層與對向電極之間施加電壓，而將電解質層中所含之質子摻雜於合金層中或去摻雜。藉此，合金層之透過率變化。又，為了提高波長選擇性，較理想的是將電致變色材料與TiO₂或ITO等高折射率體加以積層。又，作為其他構成，可使用於第2光學層上積層有透明導電層、使微膠囊分散而成之光學透明層、透明電極之構成。於該構成中，可藉由對兩透明電極間施加電壓而使微膠囊中之針狀晶體成為經配向之透過狀態，或者可藉由去除電壓而使針狀晶體朝向四面八方，成為波長選擇反射狀態。

(半透過層)

半透過層係半透過性之反射層。作為半透過性之反射層，例如可列舉包含半導體性物質之較薄之金屬層、金屬氮化層等，就抗反射、色調調整、化學潤濕性提昇、或相對於環境惡化之可靠性提昇等觀點而言，較佳為設定成將上述反射層與氧化層、氮化層、或氮氧化層等加以積層而成之積層構造。

作為於可見區域及紅外區域內反射率較高之金屬層，例如可列舉：Au、Ag、Cu、Al、Ni、Cr、Ti、Pd、Co、Si、Ta、W、Mo、Ge等單體，或以包含兩種以上之該等單體之合金為主成分的材料。而且，若考慮實用性之方面，則較佳為該等之中的Ag系、Cu系、Al系、Si系或Ge系之材料。又，為了抑制金屬層之腐蝕，較佳為對金屬層添加Ti、Nd等材料。又，作為金屬氮化層，例如可列舉TiN、CrN、WN等。

半透過層之膜厚例如可設定為2 nm以上、40 nm以下之範圍，只要係於可見區域及近紅外區域內具有半透過性之膜厚即可，而並不限定於上述範圍。此處，所謂半透過性，係表示波長為500 nm以上、1000 nm以下時之透過率為5%以上、70%以下，較佳為10%以上、60%以下，更佳為15%以上、55%以下。又，所謂半透過層，係表示波長為500 nm以上、1000 nm以下時之透過率為5%以上、70%以下，較佳為10%以上、60%以下，更佳為15%以上、55%以下之反射層。

[光學體之功能]

圖8A、圖8B係用於說明光學體之功能之一例的剖面圖。此處，作為例子，以構造體之剖面形狀係傾斜角為45。之稜鏡形狀之情形為例進行說明。如圖8A所示，入射至該光學體1之太陽光中之近紅外線L₁的一部分朝與所入射之方向相同程度之上空方向指向反射，相對於此，可見光L2透過光學體1。

又，如圖8B所示，入射至光學體1並由反射層3之反射層面所反射之光係以對應於入射角度之比例，而分離成進行上空反射之成分Lu、及不進行上空反射之成分Ld。而且，不進行上空反射之成分Ld於在第2光學層5與空氣之界面進行全反射之後，最終朝與入射方向不同之方向反射。

若將光之入射角度設定為θ0，將第2光學層5之折射率設定為θ₁，將反射層3之反射率設定為R，則相對於所有入射成分之上空反射成分Lu之比例Ru可將空氣之折射率設定為n₀=1.0而由以下之式(6)表示。再者，θ₁係空氣與第2光學層5之界面上之折射角。

Ru=(sin (45-θ₁)+cos(45-θ₁)/tan(45+θ₁))/(sin(45-θ₁)+cos(45-θ₁))×R²　…(6)

其中，θ₁=sin^-1(sinθ₀/n₁)

即，於將第2光學層5之折射率n₁固定而考慮之情形時，若入射至光學體之光之入射角度θ₀增加，則上方反射成分之比例Ru減少。反過來說，為了降低伴隨θ₀之增加之Ru之減少，抑制朝向反射層之具有實效之入射角度，即儘可能增大第2光學層5之折射率n₁對於防止伴隨θ₀之增加之Ru之減少有效。

又，若不進行上空反射之成分Ld之比例增多，則入射光進行上空反射之比例減少。為了提昇上空反射之比例，有效的是對反射層3之形狀，即第1光學層4之構造體4c之形狀進行設計。

圖9A係示意性地表示形成有角隅稜鏡之第1光學層4之一部分的立體圖。圖9B係於第1光學層4上形成有角隅稜鏡之光學體1之剖面示意圖。如圖9所示，若角隅稜鏡之脊線不存在自理想形狀之變形，則可直接應用上述理論，但存在因製造步驟上之理由，而難以形成如設計值般之形狀之情形。

圖10A係示意性地表示形成有具有自理想形狀之變形之角隅稜鏡之第1光學層4之一部分的立體圖。圖10B係於第1光學層4上形成有具有自理想形狀之變形之角隅稜鏡之光學體1的剖面示意圖。若如圖10A所示之原本剖面應該為大致三角形狀之角隅稜鏡之脊線部存在自理想形狀的變形，則朝上空反射之成分減少。即，如圖10B所示，於脊線部不存在自理想形狀之變形之情形時，朝上空反射之成分Lu中之一部分藉由脊線部而朝下方反射。如此，脊線部之自理想形狀之變形的存在成為使不進行上空反射之成分Ld之比例增加的主要原因。因此，重要的是降低如上所述之自理想形狀之變形之影響。

[光學體之貼合方法]

圖11A、圖11B係用於說明本發明之第1實施形態之光學體之貼合方法之一例的略線圖。辦公大樓等近年來之高層建築物上所設置之窗材10通常係縱寬大於橫寬之矩形狀者。因此，以下對將光學體1貼合於具有此種形狀之窗材10之例進行說明。

首先，自捲繞成輥狀之光學體(所謂的素材)1捲出帶狀之光學體1，並結合所貼合之窗材10之形狀而適當地裁剪，從而獲得矩形狀之光學體1。該矩形狀之光學體1如圖11A所示，具有對向之1組長邊La、及對向之1組短邊Lb。矩形狀之光學體1之長邊La與光學體1之入射面內之角隅稜鏡的脊線1c大致平行。即，矩形狀之光學體1之長邊方向DL與光學體1之入射面內之角隅稜鏡之脊線1c的方向大致平行。

其次，使所裁剪之光學體1之一條短邊Lb對準位於矩形狀之窗材10之上端的短邊10a。繼而，將矩形狀之光學體1經由貼合層6等而自窗材10之上端朝下端依次貼合。藉此，光學體1之另一條短邊Lb與位於矩形狀之窗材10之另一端的短邊10b對準。繼而，視需要對貼合於窗材10上之光學體1之表面進行擠壓等，而將混入至窗材10與光學體1之間之氣泡除氣。藉由以上所述，以使光學體1之入射面內之角隅稜鏡之脊線1c與高層建築物等建築物的高度方向D_H大致平行之方式，將矩形狀之光學體1貼合於窗材10上。

[光學體之製造裝置]

圖12係表示用於製造本發明之第1實施形態之光學體之製造裝置之一構成例的概略圖。如圖12所示，該製造裝置具備基材供給輥51，光學層供給輥52，捲取輥53，層壓輥54、55，導向輥56~60，塗佈裝置61，以及照射裝置62。

基材供給輥51及光學層供給輥52分別以如下方式配置：將帶狀之基材5a及帶狀之帶有反射層之光學層9捲成輥狀，並可藉由導向輥56、57等而將基材5a及帶有反射層之光學層9連續地送出。圖中之箭頭表示搬送基材5a及帶有反射層之光學層9之方向。帶有反射層之光學層9係形成有反射層3之第1光學層4。

捲取輥53係以可捲取藉由該製造裝置所製作之帶狀之光學體1之方式配置。導向輥56~60係以可搬送帶狀之帶有反射層之光學層9、帶狀之基材5a、及帶狀之光學體1之方式而配置於該製造裝置內之搬送路徑上。層壓輥54、55及導向輥56~60之材質並無特別限定，可根據所期望之輥特性而適當地選擇不鏽鋼等金屬、橡膠、聚矽氧等來使用。

塗佈裝置61可使用例如具備塗佈機等塗佈機構之裝置。作為塗佈機，例如可考慮要塗佈之樹脂組合物之物性等而適當地使用凹版、線棒、及鑄模等之塗佈機。照射裝置62係照射例如電子束、紫外線、可見光線、或γ射線等電離線之照射裝置。

圖13係將圖12中之K部放大表示之圖。層壓輥54、55係以可夾持帶有反射層之光學層9與第2基材5a之方式構成。此處，帶有反射層之光學層9係於第1光學層4之一主面上使反射層3成膜而成者。再者，作為帶有反射層之光學層9，亦可在與第1光學層4之使反射層3成膜之面為相反側之另一主面上形成第1基材4a。於該例中，表示於第1光學層4之一主面上使反射層3成膜，於另一主面上形成有第1基材4a之情形。

[光學體之製造方法]

以下，參照圖12及圖14~圖16，對本發明之第1實施形態之光學體之製造方法的一例進行說明。再者，以下所示之製造製程之一部分或全部較佳為考慮生產性而藉由連續捲繞來進行。但是，去除模具之製作步驟。

首先，如圖14A所示，藉由例如車刀加工或雷射加工等而形成與構造體4c相同之凹凸形狀之模具、或具有該模具之反轉形狀之模具(複製品)21。其次，如圖14B所示，使用例如熔融擠出法或轉印法等將上述模具之凹凸形狀轉印至膜狀之樹脂材料上。作為轉印法，可列舉：使能量線硬化型樹脂流入模具中，並照射能量線而使其硬化之方法；對樹脂施加熱或壓力而轉印形狀之方法；或者自輥供給樹脂膜，一面施加熱一面轉印模具之形狀之方法(層壓轉印法)等。藉此，如圖14C所示，於一主面上形成有具有構造體4c之第1光學層4。再者，樹脂較佳為進而包含交聯劑。其原因在於：可不使室溫下之儲存彈性模數大幅度變化，而使樹脂耐熱化。

繼而，如圖15A所示般，於該第1光學層4之一主面上使反射層3成膜。作為反射層3之成膜方法，例如可使用濺鍍法、蒸鍍法、CVD(Chemical Vapor Deposition，化學氣相沈積)法、浸塗法、模塗法、濕式塗佈法、噴塗法等，較佳為對應於構造體4c之形狀等而自該等成膜方法中適當地選擇。繼而，如圖15B所示，視需要對反射層3實施退火處理31。退火處理之溫度例如為100℃以上、250以下之範圍。

繼而，如圖15C所示，將未硬化狀態之樹脂22塗佈於反射層3上。作為樹脂22，例如可使用能量線硬化型樹脂、或熱硬化型樹脂等。作為能量線硬化型樹脂，較佳為紫外線硬化樹脂。繼而，如圖16A所示，藉由於樹脂22上覆蓋基材5a而形成積層體。繼而，如圖16B所示，藉由例如能量線32或加熱32而使樹脂22硬化，並且對積層體施加壓力33。作為能量線，例如可使用電子束、紫外線、可見光線、γ射線、電子束等，就生產設備之觀點而言，較佳為紫外線。累計照射量較佳為考慮樹脂之硬化特性、樹脂或基材之黃變抑制等而適當地選擇。對積層體所施加之壓力較佳為0.01MPa以上、1MPa以下之範圍內。若未達0.01MPa，則膜之移動性會產生問題。另一方面，若超過1MPa，則必需使用金屬輥作為夾輥，容易產生壓力不均而不佳。藉由以上所述，如圖16C所示，於反射層上形成第2光學層5，從而獲得光學體1。

此處，使用圖12所示之製造裝置，對第2光學層之形成方法進行具體說明。首先，自基材供給輥51送出基材5a，所送出之基材5a經過導向輥56而通過塗佈裝置61之下方。其次，於通過塗佈裝置61之下方之基材5a上，藉由塗佈裝置61而塗佈電離線硬化樹脂。繼而，將塗佈有電離線硬化樹脂之基材5a朝層壓輥進行搬送。另一方面，自光學層供給輥52送出帶有反射層之光學層9，經過導向輥57而朝層壓輥54、55進行搬送。

繼而，以不使氣泡進入基材5a與帶有反射層之光學層9之間的方式，藉由層壓輥54、55夾持所搬入之基材5a與帶有反射層之光學層9，將帶有反射層之光學層9層壓於基材5a上。繼而，一面使由帶有反射層之光學層9所層壓之基材5a沿著層壓輥55之外周面，一面進行搬送，並且藉由照射裝置62自基材5a側對電離線硬化樹脂照射電離線，而使電離線硬化樹脂硬化。藉此，基材5a與帶有反射層之光學層9經由電離線硬化樹脂而貼合，從而製作出作為目標之長條之光學體1。繼而，將所製作之帶狀之光學體1經由輥 58、59、60而搬送至捲取輥53上，藉由捲取輥53而捲取光學體1。藉此，可獲得捲繞有帶狀之光學體1之素材。

當將上述之第2光學層形成時之製程溫度設定為t℃時，經硬化之第1光學層4之(t-20)℃下的儲存彈性模數較佳為3×10⁷Pa。此處，製程溫度t例如為層壓輥55之加熱溫度。第1光學層4例如設置於第1基材4a上，並經由第1基材4a而以沿著層壓輥55之方式被搬送，因此根據經驗可知實際施加於第1光學層4上之溫度為(t-20)℃左右。因此，藉由將第1光學層4之(t-20)℃下之儲存彈性模數設定為3×10⁷Pa以上，可抑制因熱、或者因熱與加壓而導致光學層內部之界面之凹凸形狀變形。

又，第1光學層4之25℃下之儲存彈性模數較佳為3×10⁹Pa以下。藉此，可於室溫下對光學體賦予可撓性。因此，可藉由輥對輥等製造步驟而製作光學體1。

再者，若考慮光學層或基材之使用樹脂之耐熱性，則製程溫度t較佳為200℃以下。但是，藉由使用耐熱性高之樹脂，亦可將製程溫度t設定成200℃以上。

[輥狀母盤之構成]

圖17A係表示輥狀母盤之概觀之立體圖。圖17B係將圖17A所示之區域R放大表示之放大平面圖。圖17C係沿圖17B所示之C-C線的剖面圖。輥狀母盤43具有圓柱面，且於其圓柱面上形成有凹凸面。藉由將該凹凸面轉印至膜等上而使第1光學層4之凹凸面成形。輥狀母盤43之凹凸面係藉由大量排列作為具有角隅稜鏡形狀之凸部之構造體43a而形成。輥狀母盤43之構造體43a之形狀係將第1光學層4之構造體4c之凹形狀反轉而形成凸形狀者。

作為凸部之構造體43c係包含具有三角形狀之底面81、及具有三角形狀之3個傾斜面82之角隅稜鏡形狀的構造體。藉由相鄰之構造體43a之傾斜面而形成槽部83a、83b、83c。該等槽部83a、83b、83c係於輥狀母盤43之圓柱面內朝向3個方向(以下，適當地稱為槽方向)a、b、c而形成。3個槽方向a、b、c之中，1個槽方向c與輥狀母盤43之徑向D_R處於約平行之關係。藉由該輥狀母盤43而使第1光學層4之凹凸面成形，藉此可如圖5所示般，在與帶狀之光學體1之長邊方向D_L約平行之方向上形成脊線73c。

藉由以上所述，可獲得本發明之實施形態之光學體。此處，作為構造前端之自理想形狀之變形產生的主要原因，例如可列舉以下原因。

模具製作時因車刀磨損所引起的構造前端之鈍化

將模具之凹凸形狀轉印至膜狀之樹脂材料時之不完全轉印

由捲繞於輥上所引起之緊繞

實際上難以防止自該等步驟上之問題所引起之構造前端之自理想形狀之變形的產生、及自理想形狀之變形之大小的增加。

[實施例]

本發明之發明者等人發現即便於存在如上所述之構造前端之自理想形狀之變形的情形時，藉由以樹脂包埋反射層，並控制該包埋樹脂之折射率，亦可抑制相對於入射光之上方反射率之下降。以下，藉由試驗例而具體地說明本發明，但本發明並不僅限定於該等試驗例。

(試驗例1)

圖18A及圖18B係用以說明試驗例1之模擬條件之略線圖。

使用ORA(Optical Research Associates)公司製造之照明設計分析軟體Light Tools，進行以下之模擬，求出上方反射率。

首先，設定最稠密地填充有角隅稜鏡圖案之指向反射面S_CCP。

以下表示指向反射面S_CCP之設定條件。

角隅稜鏡之間距：100 μm

角隅稜鏡之頂角之角度：90°

其次，設定虛擬太陽光源(色溫6500 K)作為光源P，使光自入射角(θ₀、Φ)=(0°、0°)之方向入射至指向反射面S_CCP，於入射角(θ₀、Φ)=(0°、0°)~(70°、0°)之範圍內使θ₀每次增加10°。

再者，上方反射率係藉由以下之式(7)來定義。

上方反射率Ru=[(上方向之反射光功率之總計)/(入射光功率之總計)]×100…(7)

其中，入射光之功率=(上方向之反射光之功率)+(下方向之反射光之功率)

上方向：反射角(θ、Φ)=(θ、270°)~(θ、90°)

下方向：反射角(θ、Φ)=(θ、90°)~(θ、270°)

其中，Φ=90°、270°之方向係設定為上方向中所包含者。入射角θ₀為0°≦θ0≦90°之範圍。

圖19A係表示藉由上述模擬所求出之上方反射率之圖表。圖19A表示設定為未利用樹脂包埋反射層，且將指向反射面S_CCP之構造前端之自理想形狀的變形Cr設定為0、1.46、3.43、7.87(μm)之各情形時之上方反射率Ru。橫軸係作為存在包埋樹脂時之光之折射角θ₁來表示。再者，於本試驗例中，由於未利用樹脂包埋反射層，因此此處之上方反射率Ru相當於菲涅耳反射率Γ=0之情形。

(試驗例2)

除設定為利用折射率n₁=1.53之樹脂包埋反射層以外，以與試驗例1完全相同之方式求出上方反射率。

圖19B係表示藉由上述模擬所求出之上方反射率之圖表。圖19B表示將指向反射面S_CCP之構造前端之自理想形狀的變形Cr設定為0、1.46、3.43、7.87(μm)之各情形時之上方反射率Ru。再者，橫軸係作為折射角θ₁來表示，縦軸係作為上方反射率。

與不利用樹脂包埋反射層之情形進行比較，可知相對於自理想形狀之變形Cr之增加的上方反射率之下降受到抑制。即，利用樹脂包埋構造上所形成之反射層對於防止由構造前端之自理想形狀之變形所引起的上方反射率之下降有效。

如第2樹脂層之折射率之說明中所述般，包埋反射層之樹脂，即第2樹脂層5之折射率n₁對使光學體之指向性反射性能下降之下方反射成分的大小產生影響。因此，藉由調節第2樹脂層之折射率n₁，可防止上方反射率之下降。

(試驗例3)

為了調查使自理想形狀之變形Cr及包埋樹脂之折射率n₁變化時之對於上方反射率Ru的影響，而準備了樣品1~樣品9。

以下表示指向反射面S_CCP之設定條件。

角隅稜鏡之間距：100 μm

角隅稜鏡之頂角之角度：90°。

將針對光學體之入射光之入射角度設定為θ₀=60°，藉由式(5)而分別自各θ₁求出折射率n₁。

對各n₁及Cr進行模擬，獲得表1所示之結果作為指向反射率Re。再者，對於θ₁=35°，使用θ₁=30°及40°時之Re之算術平均。

此處，以上所獲得之結果係未考慮空氣/樹脂之界面上之反射之影響的結果。其次，因考慮空氣/樹脂之界面上之反射之影響，故使用θ₁及n₁之值，根據式(1)及(2)求出Γ。根據Γ求出(1-Γ)。

將其計算結果示於表2。

進而，根據表1及表2之結果，計算出Re×(1-Γ)作為加入了空氣/樹脂之界面上之反射之影響的上方反射率Ru。將其結果示於表3及圖20。於表3中，例如，(n₁、Cr)=(1.35、3.43)之Ru=83%之值係使表1中之(n₁、Cr)=(1.35、3.43)之R 的值即88%、與表2中之n₁=1.35時之(1-Γ)之值0.9376相乘所得的值。

(光學體之評價)

作為光學體之上方反射率Ru，較佳為確保70%以上。又，根據本發明之發明者等人之經驗，起因於製造步驟之自理想形狀之變形Cr即便較大，亦為約6.5μm左右。根據以上所述，作為包埋反射層之樹脂之折射率，較佳為設定成1.1以上、1.9以下。此時之自理想形狀之變形Cr成為角隅稜鏡之間距P之6.5%。

若相對於配置間距之自理想形狀之變形Cr超過10%，則光學體之性能之惡化亦變得顯著。於圖20中，若Cr著眼於10.0以下之範圍，且n₁為1.4以上、1.6以下之範圍，則Ru之值之變化較小，可使Ru大於65%。

表4及圖21係針對各樣品，表示以Cr=0.00時之上方反射率為基準時之損失部分D者。於表4中，例如，(n₁、Cr)=(1.35、3.43)之D=11%之值係自表3中之(n₁、Cr)=(1.35、 3.43)之Ru的值即94%，減去(n₁、Cr)=(1.35、3.43)之Ru=83%所得的值。

表5及圖22係針對各樣品，表示以Cr=0.00時之上方反射率為基準時之比Ra者。於表5中，例如，(n₁、Cr)=(1.35、3.43)之Ra=88%之值係自表3中之(n₁、Cr)=(1.35、3.43)之Ru的值即83%，除以(n₁、Cr)=(1.35、0.00)之Ru=94%所得的值。

於圖21中，D之值越小，表示光學體之性能越佳，若Cr 著眼於10.0以下之範圍，且n₁為1.49以上，則可使D變成25%以下。又，於圖22中，Ra之值越大，表示光學體之性能越佳，若Cr著眼於10.0以下之範圍，且n₁為1.49以上，則可使Ra變成70%以上。

又，根據圖20，存在隨著n₁變大，Ru之值變小之傾向，自理想形狀之變形Cr越小，該傾向越強。此處，可知若n₁為1.55以下，則即便於自理想形狀之變形Cr較小之情形時，亦可確保較高之性能(例如，完全之理想形狀之情形，即Cr=0.00且Ru為90%以上)。因此，即便於難以預測由步驟所引起之構造前端之形狀之變形量的情形時，亦可選定具有穩定性之材料。

如上所述，藉由控制包埋反射層之樹脂之折射率，即便產生構造前端之自理想形狀之變形，亦可抑制光學體之指向性反射性能之下降。即，於構造體之自理想形狀之變形Cr為角隅稜鏡之間距P的6.5%以下時，若將包埋反射層而成之第2光學體之樹脂的折射率設定為1.1以上、1.9以下，則可確保70%以上之上方反射率。

<變形例>

以下，對上述實施形態之變形例進行說明。

[第1變形例]

圖23係表示本發明之第1實施形態之第1變形例的立體圖。再者，於該圖中，未圖示第2光學層。如圖23所示，本例中，設置有將四角錐形狀之凹部作為一單位之大致週期性的構造作為形成於第1光學層4之構造體4c。如此，亦可採用角隅稜鏡以外之形狀。

[第2變形例]

圖24A係表示本發明之第1實施形態之第2變形例的剖面圖。如圖24A所示，第1光學層4包含樹脂與微粒子81。微粒子81具有與作為第1光學層4之主構成材料之樹脂不同的折射率。作為微粒子81，例如可使用有機微粒子及無機微粒子之至少一種。又，作為微粒子81，可使用中空微粒子。作為微粒子81，例如可列舉：二氧化矽、氧化鋁等無機微粒子，苯乙烯、丙烯酸、或該等之共聚物等有機微粒子，特佳為二氧化矽微粒子。

[第3變形例]

圖24B係表示本發明之第1實施形態之第3變形例的剖面圖。如圖24B所示，光學體1於第1光學層4之表面進而具備光擴散層82。光擴散層82例如含有樹脂與微粒子。作為微粒子，可使用與圖24A之例相同者。

[第4變形例]

圖24C係表示本發明之第1實施形態之第4變形例的剖面圖。如圖24C所示，光學體1在反射層3與第1光學層4之間進而具備光擴散層82。光擴散層82例如含有樹脂與微粒子。作為微粒子，可使用與圖24A之例相同者。

根據第2至第4變形例，可使紅外線等特定波長帶之光指向反射，使可見光等特定波長帶以外之光散射。因此，可使光學體1模糊，而對光學體1賦予設計性。

[第5變形例]

圖25係表示本發明之第1實施形態之第5變形例的剖面圖。第5變形例係在與光學體1之入射面S1及出射面S2之中貼合於被黏附體之面為相反側之露出面上，具備顯現清洗效果之自我清洗效果層83。自我清洗效果層83例如含有光觸媒。作為光觸媒，例如可使用TiO₂。

如上所述，光學體1於使入射光半透過方面具有特徵。當在屋外或污垢較多之房間等使用光學體1時，因表面所附著之污垢而導致光散射，從而失去透過性及反射性，因此較佳為表面於光學上始終透明。因此，較佳為表面之斥水性或親水性等優異，且表面自動地顯現清洗效果。

根據第5變形例，由於光學體1具備自我清洗效果層，因此可對入射面賦予斥水性或親水性等。因此，可抑制相對於入射面之污垢等之附著，從而抑制指向反射特性之下降。

[第6之變形例]

圖26A及圖26B係表示形成於第1光學層上之構造體之形狀例的立體圖。再者，於該等圖中，未圖示第2光學層。構造體4c係於一個方向上延伸之柱狀之凸部或凹部，且該柱狀之構造體4c朝一個方向一維地排列。為了使反射層3於該構造體4c上成膜，而使反射層3之形狀具有與構造體4c之表面形狀相同之形狀。

作為構造體4c之形狀，例如可列舉：圖26A所示之稜鏡形狀、圖26B所示之凸鏡形狀之反轉形狀、或者該等之反轉形狀。此處，所謂凸鏡形狀，係指垂直於凸部之脊線之剖面形狀成為圓弧狀或大致圓弧狀、橢圓弧狀或大致橢圓弧、或者抛物線狀或大致抛物線狀之一部分者。因此，圓柱形狀亦包含於凸鏡形狀內。又，構造體4c之形狀並不限定於圖26A及圖26B所示之形狀、或該等之反轉形狀，亦可設定為環狀、雙曲柱狀、橢圓柱狀、多角柱狀、自由曲面狀。又，亦可將稜鏡形狀、及凸鏡形狀之頂部設定為多角形狀(例如五角形狀)之形狀。於將構造體4c設定為稜鏡形狀之情形時，稜鏡形狀之構造體4c之傾斜角度θ例如為45°。構造體4c於應用於窗材10之情形時，就使自上空所入射之光反射而大量地返回至上空之觀點而言，較佳為具有傾斜角傾斜45°以上之平面或曲面。其原因在於：藉由設定為此種形狀，入射光藉由大致一次之反射而返回至上空，因此即便反射層3之反射率並不那麼高，亦可有效地使入射光朝上空方向反射，並且可減少反射層3中之光之吸收。

如此，作為形成大致週期性之構造之多個構造體，亦可採用經一維地排列之構造體。

[第7變形例]

又，如圖27A所示，亦可將構造體4c之形狀設定為相對於垂直於光學膜1之入射面S1或出射面S2之垂線l₁不對稱的形狀。於此情形時，構造體4c之主軸l_m以垂線l₁為基準朝構造體4c之排列方向a傾斜。此處，所謂構造體4c之主軸l_m，係指通過構造體剖面之底邊之中點與構造體之頂點的直線。於將光學膜1貼在相對於地面大致垂直地配置之窗材10上之情形時，如圖27B所示，較佳為構造體4c之主軸l_m以垂線l₁為基準朝窗材10之下方(地面側)傾斜。其原因在於：通常經由窗之熱量之流入較多係過中午前後之時間帶，太陽之高度高於45°之情況較多，因此藉由採用上述形狀，可有效地使自該等高角度所入射之光朝上方反射。於圖27A及圖27B中，表示將稜鏡形狀之構造體4c設定為相對於垂線l₁不對稱之形狀之例。再者，亦可將稜鏡形狀以外之構造體4c設定為相對於垂線l₁不對稱之形狀。例如，亦可將角隅稜鏡體設定為相對於垂線l₁不對稱之形狀。

<2.　第2實施形態>

於上述第1實施形態中，以將本發明應用於窗材等之情形為例進行了說明，但本發明並不限定於該例，亦可應用於窗材以外之內裝構件或外裝構件等。又，本發明不僅可應用於如牆壁或屋頂等經固定之不動之內裝構件及外裝構件，亦可應用於如下裝置：對應於由季節或時間變動等所引起之太陽光之光量變化，移動內裝構件或外裝構件而調整太陽光之透過量及/或反射量，從而可將其引入至屋內等空間。於第2實施形態中，作為此種裝置之一例，對藉由變更包含複數個日照遮蔽構件之日照遮蔽構件群之角度，而可調整取決於日照遮蔽構件群之入射光線之遮蔽量的日照遮蔽裝置(百葉窗裝置)進行說明。

圖28係表示本發明之第2實施形態之百葉窗裝置之一構成例的立體圖。如圖28所示，作為日照遮蔽裝置之百葉窗裝置包括：頭箱203、包含複數個板條(葉片)202a之板條群(日照遮蔽構件群)202、以及底軌204。頭箱203係設置於包含複數個板條202a之板條群202之上方。梯繩206、及升降繩205自頭箱203向下方延伸，於該等繩之下端懸掛有底軌204。作為日照遮蔽構件之板條202a具有例如細長之矩形狀，且藉由自頭箱203向下方延伸之梯繩206而以特定間隔得到懸掛支撐。又，於頭箱203處設置有用以調整包含複數個板條202a之板條群202之角度的棒等操作機構(省略圖示)。

頭箱203係如下之驅動機構：對應於棒等操作機構之操作而使包含複數個板條202a之板條群202旋轉驅動，藉此調整被引入至室內等空間之光量。又，頭箱203亦具有作為對應於升降操作繩207等操作機構之適當操作，使板條群202升降之驅動機構(升降機構)的功能。

圖29A係表示板條之第1構成例之剖面圖。如圖29A所示，板條202具備基材211與光學體1。光學體1較佳為設置於基材211之兩主面之中，在關閉了板條群202之狀態下外部光線所入射之入射面側(例如與窗材對向之面側)。光學體1與基材211係藉由例如貼合層而貼合。

作為基材211之形狀，例如可列舉片材狀、膜狀、及板狀等。作為基材211之材料，可使用玻璃、樹脂材料、紙材、及布材等，若考慮將可見光引入至室內等特定之空間，則較佳為使用具有透明性之樹脂材料。作為玻璃、樹脂材料、紙材、及布材，可使用先前作為捲簾而公知者。作為光學體1，可使用上述實施形態之光學體1中之一種、或者組合兩種以上來使用。

圖29B係表示板條之第2構成例之剖面圖。如圖29B所示，第2構成例係使用光學體1作為板條202a者。光學體1較佳為可藉由梯繩206支撐，並且具有可於經支撐之狀態下維持形狀之程度的剛性。

圖29C係自關閉了板條群之狀態下外部光線所入射之入射面側所觀察到之板條的平面圖。如圖29C所示，較佳為板條202a之短邊方向D_W與角隅稜鏡之脊線方向c大致一致。其係為了提昇朝向上方之反射效率。

<3.　第3實施形態>

於第3實施形態中，對作為藉由捲取或捲出日照遮蔽構件，而可調整取決於日照遮蔽構件之入射光線之遮蔽量之日照遮蔽裝置之一例的捲簾裝置進行說明。

圖30A係表示本發明之第3實施形態之捲簾裝置之一構成例的立體圖。如圖30A所示，作為日照遮蔽裝置之捲簾裝置301具備簾幕302、頭箱303、及芯材304。頭箱303係以藉由操作鏈繩305等操作部而可使簾幕302升降之方式構成。頭箱303於其內部具有用以捲取或捲出簾幕之捲軸，簾幕302之一端與該捲軸結合。又，簾幕302之另一端與芯材304結合。簾幕302具有可撓性，其形狀並無特別限定，較佳為對應於應用捲簾裝置301之窗材等之形狀而選擇，例如選擇為矩形狀。

如圖30A所示，較佳為簾幕302之捲出或捲取方向D_C與角隅稜鏡之脊線方向c大致一致。其係為了提昇朝向上方之反射效率。

圖30B係表示簾幕302之一構成例之剖面圖。如圖30B所示，較佳為簾幕302具備基材311與光學體1，且具有可撓性。光學體1較佳為設置於基材311之兩主面之中使外部光線入射的入射面側(與窗材對向之面側)。光學體1與基材311係藉由例如貼合層而貼合。再者，簾幕302之構成並不限定於該例，亦可將光學體1用作簾幕302。

作為基材311之形狀，例如可列舉：片材狀、膜狀、及板狀等。作為基材311，可使用玻璃、樹脂材料、紙材、及布材等，若考慮將可見光引入至室內等特定之空間，則較佳為使用具有透明性之樹脂材料。作為玻璃、樹脂材料、紙材、及布材，可使用先前作為捲簾而公知者。作為光學體1，可使用上述實施形態之光學體1中之一種、或者組合兩種以上來使用。

<4.　第4實施形態>

於第4實施形態中，對將本發明應用於具有指向反射性能之光學體中具備採光部之建具(內裝構件或外裝構件)的例進行說明。

圖31A係表示本發明之第4實施形態之建具之一構成例的立體圖。如圖31A所示，建具401具有其採光部404中具備光學體402之構成。具體而言，建具401具備光學體402、及設置於光學體402之周緣部之框材403。光學體402係可藉由框材403而固定，且可視需要分解框材403而拆下光學體402。作為建具401，例如可列舉拉門，但本發明並不限定於該例，可應用於具有採光部之各種建具。

如圖31A所示，較佳為光學體402之高度方向D_H與角隅稜鏡之脊線方向c大致一致。其係為了提昇朝向上方之反射效率。

圖31B係表示光學體之一構成例之剖面圖。如圖31B所示，光學體402具備基材411與光學體1。光學體1係設置於基材411之兩主面之中使外部光線入射的入射面側(與窗材對向之面側)。光學體1與基材411係藉由貼合層等而貼合。再者，拉門402之構成並不限定於該例，亦可將光學體1用作光學體402。

基材411例如為具有可撓性之片材、膜、或基板。作為基材411，可使用玻璃、樹脂材料、紙材、及布材等，若考慮將可見光引入至室內等特定之空間，則較佳為使用具有透明性之樹脂材料。作為玻璃、樹脂材料、紙材、及布材，可使用先前作為建具之光學體而公知者。作為光學體1，可使用上述實施形態之光學體1中之一種、或者組合兩種以上來使用。

以上，對本發明之實施形態及實施例進行了具體說明，但本發明並不限定於上述實施形態，亦可進行基於本發明之技術思想之各種變形。

例如，上述實施形態及實施例中所列舉之構成、形狀、材料及數值等始終僅為例子，亦可視需要而使用與其不同之構成、形狀、材料及數值等。

又，上述實施形態之各構成只要不脫離本發明之主旨，則可相互組合。

又，於上述實施形態中，以百葉窗裝置、及捲簾裝置之驅動方式為手動式之情形為例進行了說明，但亦可將百葉窗裝置、及捲簾裝置之驅動方式設定為電動式。

又，於上述實施形態中，以將光學膜貼合於窗材等被黏附體上之構成為例進行了說明，但亦可採用將窗材等被黏附體設定為光學膜之第1光學層、或第2光學層本身之構成。藉此，可預先對窗材等之光學體賦予指向反射之功能。

於上述實施形態中，以將本發明應用於窗材、建具、百葉窗裝置之板條、及捲簾裝置之簾幕等內裝構件或外裝構件之情形為例進行了說明，但本發明並不限定於該例，亦可應用於上述以外之內裝構件及外裝構件。

作為應用本發明之光學體之內裝構件或外裝構件，例如可列舉：由光學體本身所構成之內裝構件或外裝構件、由貼合有指向反射體之透明基材等所構成之內裝構件或外裝構件等。藉由將此種內裝構件或外裝構件設置於室內之窗附近，例如可僅使紅外線朝屋外指向反射，而將可見光線引入至室內。因此，即便於設置有內裝構件或外裝構件之情形時，亦減少室內照明之必要性。又，由內裝構件或外裝構件所引起之朝室內側之散射反射亦幾乎不存在，因此亦可抑制周圍之溫度上升。又，亦可對應於控制目視確認性或提昇強度等所需之目的，而應用於透明基材以外之貼合構件。

又，於上述實施形態中，對將本發明應用於百葉窗裝置、及捲簾裝置之例進行了說明，但本發明並不限定於該例，亦可應用於設置在室內或屋內之各種日照遮蔽裝置。

又，於上述實施形態中，對將本發明應用於藉由捲取、或捲出日照遮蔽構件而可調整取決於日照遮蔽構件之入射光線之遮蔽量的日照遮蔽裝置(例如捲簾裝置)之例進行了說明，但本發明並不限定於該例。例如，本發明亦可應用於藉由摺疊日照遮蔽構件而可調整取決於日照遮蔽構件之入射光線之遮蔽量的日照遮蔽裝置。作為此種日照遮蔽裝置，例如可列舉藉由將作為日照遮蔽構件之簾幕摺疊成蛇腹狀而調整入射光線之遮蔽量的摺疊簾幕裝置。

又，於上述實施形態中，對將本發明應用於橫型百葉窗裝置(軟百葉窗裝置)之例進行了說明，但亦可將本發明應用於縱型百葉窗裝置(垂直百葉窗裝置)。

1、402．．．光學體

2．．．光學層

3．．．反射層

4．．．第1光學層

4a．．．第1基材

4b．．．第1樹脂層

4c、5c．．．構造體

5．．．第2光學層

5a．．．第2基材

5b．．．第2樹脂層

6．．．貼合層

7．．．剝離層

8．．．硬塗層

10．．．窗材

10a、10b．．．短邊

21．．．模具(複製品)

22．．．樹脂

31．．．退火處理

32．．．能量線(加熱)

33．．．壓力

43．．．輥狀母盤

43a、43c．．．凸部之構造體

51．．．基材供給輥

52．．．光學層供給輥

53．．．捲取輥

54、55．．．層壓輥

56~60．．．導向輥

61．．．塗佈裝置

62．．．照射裝置

71．．．底面

72．．．傾斜面

73a、73b、73c．．．脊線部

81．．．微粒子(底面)

82．．．光擴散層(傾斜面)

83．．．自我清洗效果層

83a、83b、83c．．．槽部

201．．．百葉窗裝置

202．．．板條群

202a．．．板條(葉片)

203、303．．．頭箱

204．．．底軌

205．．．升降繩

206．．．梯繩

207．．．升降操作繩

211、311、411．．．基材

301．．．捲簾裝置

302．．．簾幕

304．．．芯材

305．．．操作鏈繩

401．．．建具

403．．．框材

404．．．採光部

a、b、c．．．脊線方向

A、K、R．．．區域

Cr．．．變形(半徑)

D．．．損失部分

D_C．．．捲取方向

D_L．．．長邊方向

D_W．．．短邊方向

D_H．．．高度方向

D_R．．．徑向

Ic．．．圓

l₁．．．垂線

l₂．．．特定之直線

La．．．長邊

Lb．．．短邊

lc．．．角隅稜鏡之脊線

l_m．．．主軸

L．．．光

L₁．．．特定波長帶之光

L₂．．．特定波長帶以外之光

Ld．．．不進行上空反射之成分

Lu．．．出射光(進行上空反射之成分)

P．．．光源(構造體之配置間距)

PL1、PL2．．．輪廓線

Ra．．．比

Rd．．．下方反射率

S_CCP．．．指向反射面

S1‧‧‧入射面

S2‧‧‧出射面

T‧‧‧點

θ₀‧‧‧入射角

θ₁‧‧‧折射角

θu‧‧‧出射角度

θ、-θ、‧‧‧角度

圖1係表示本發明之第1實施形態之光學體之概觀的立體圖。

圖2A係表示本發明之第1實施形態之光學體之一構成例的剖面圖。圖2B係表示將本發明之第1實施形態之光學體貼合於被黏附體之例的剖面圖。

圖3係表示對光學體1所入射之入射光與由光學體1所反射之反射光之關係的立體圖。

圖4A係表示第1光學層之凹凸面之形狀之一例的平面圖。圖4B係沿圖4A所示之第1光學層之B-B線的剖面圖。

圖5係將圖4A所示之第1光學層之凹凸面之一部分放大表示的放大平面圖。

圖7係表示菲涅耳反射率Γ與第2光學層之折射率n₁之關係的圖。

圖8A、圖8B係用於說明光學體之功能之一例的剖面圖。

圖9A係示意性地表示形成有角隅稜鏡之第1光學層4之一部分的立體圖。圖9B係於第1光學層4上形成有角隅稜鏡之光學體1之剖面示意圖。

圖10A係示意性地表示形成有具有自理想形狀之變形之角隅稜鏡之第1光學層4之一部分的立體圖。圖10B係於第1光學層4上形成有具有自理想形狀之變形之角隅稜鏡之光學體1的剖面示意圖。

圖11A、圖11B係用於說明本發明之第1實施形態之光學體之貼合方法之一例的略線圖。

圖12係表示用於製造本發明之第1實施形態之光學體之製造裝置之一構成例的概略圖。

圖13係將圖12中之K部放大表示之圖。

圖14A~圖14C係用於說明本發明之第1實施形態之光學體之製造方法之一例的步驟圖。

圖15A~圖15C係用於說明本發明之第1實施形態之光學體之製造方法之一例的步驟圖。

圖16A~圖16C係用於說明本發明之第1實施形態之光學體之製造方法之一例的步驟圖。

圖17A係表示輥狀母盤之概觀之立體圖。圖17B係將圖17A所示之區域R放大表示之放大平面圖。圖17C係沿圖17B所示之C-C線的剖面圖。

圖18A、圖18B係用於說明試驗例1之模擬條件之略線圖。

圖19A係表示根據試驗例1之模擬所求出之上方反射率之圖表。圖19B係表示根據試驗例2之模擬所求出之上方反射率之圖表。

圖20係表示加入了空氣/樹脂之界面上之反射之影響之上方反射率Ru的圖表。

圖21係針對各樣品，表示以Cr=0.00時之上方反射率為基準時之損失部分D的圖表。

圖22係針對各樣品，表示以Cr=0.00時之上方反射率為基準時之比Ra的圖表。

圖23係表示本發明之第1實施形態之第1變形例的立體圖。

圖24A係表示本發明之第1實施形態之第2變形例的剖面圖。圖24B係表示本發明之第1實施形態之第3變形例的剖面圖。圖24C係表示本發明之第1實施形態之第4變形例的剖面圖。

圖25係表示本發明之第1實施形態之第5變形例的剖面圖。

圖26A及圖26B係表示形成於第1光學層上之構造體之形狀例的立體圖。

圖27A、圖27B係表示將稜鏡形狀之構造體4c設定為相對於垂線l₁不對稱之形狀之例的略線圖。

圖28係表示本發明之第2實施形態之百葉窗裝置之一構成例的立體圖。

圖29A係表示板條之第1構成例之剖面圖。圖29B係表示板條之第2構成例之剖面圖。圖29C係自關閉了板條群之狀態下外部光線所入射之入射面側所觀察到之板條的平面圖。

圖30A係表示本發明之第3實施形態之捲簾裝置之一構成例的立體圖。圖30B係表示簾幕302之一構成例之剖面圖。

圖31A係表示本發明之第4實施形態之建具之一構成例的立體圖。圖31B係表示光學體之一構成例之剖面圖。

圖32A係用於說明自理想形狀之變形之大小之決定方法的圖。圖32B係將圖32A中之A部放大表示之圖。

1．．．光學體