TWI541387B - Plated steel - Google Patents

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TWI541387B TW104105814A TW104105814A TWI541387B TW I541387 B TWI541387 B TW I541387B TW 104105814 A TW104105814 A TW 104105814A TW 104105814 A TW104105814 A TW 104105814A TW I541387 B TWI541387 B TW I541387B
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Yasuto Goto
Takashi FUTABA
Akinobu Kobayashi
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Nippon Steel & Sumitomo Metal Corp
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Description

鍍敷鋼材 技術領域
本發明係有關於一種具優異之耐蝕性，並且無彩色且具優異之光澤性的鍍敷鋼材。
背景技術
鋅於大氣環境下之耐蝕性(犧牲性防蝕能力等)良好，並可抑制鋼材之腐蝕，故正廣泛地作為鋼材之鍍敷使用。例如，於屋內家電製品之領域中，正廣泛地使用電鍍鋅鋼材。
許多如此之含鋅的鍍敷鋼材係眾所周知(參照例如，日本專利特開昭63-14890號公報)。日本專利特開昭63-14890號公報中，揭示了一種於鋼材上以特定目標量形成鋅鍍敷或鋅合金鍍敷被膜，更於其表面形成有特定目標量之光澤鋅或光澤鋅合金鍍敷被膜的裝飾鋅鍍敷鋼材。
發明概要
前述裝飾鋅鍍敷鋼材因於其鍍敷層中含有許多η 相(Zn)，故帶有色調。於鍍敷鋼材帶有色調時，即呈現彩色時，於塗布有透明塗料下使用時，有所使用之工業製品缺少清潔感或高級感的缺點。
又，前述裝飾鋅鍍敷鋼材因未適當地控制其鍍敷層之平均結晶粒徑或表面粗度，故其表面光澤性，以60°鏡面光澤法所得之表面光澤度Gs60°係60左右。
近年來，特別是於施行透明塗料塗布之家電製品用途上，因具有清潔感或高級感之理由，對於未帶有色調，即無彩色且具優異之光澤性的表面外觀之鋅鍍敷鋼材的需求正在提升。
(是否為無彩色之評價法)
然而，為評價鍍敷鋼材表面係無彩色，於後述之CIELAB表色系中，需滿足{(2a＊)2+(b＊)2}0.5≦5.0。
通常，物體之顏色係因光源(太陽光、螢光燈、LED等)而改變。將光源作為測色用標準光源D65，使用視野角度10°時，可再現日光照射下之物體顏色。該測定條件下，於以後述之SCI方式檢測經含鋅之鍍敷被覆的鍍敷鋼材表面顏色時，若CIELAB表色系中為{(2a＊)2+(b＊)2}0.5≦5.0，則可作為無彩色。
光源記載於JIS Z8720「測色標準光源(標準光)及標準光源」(對應外國規格ISO/CIE 10526)。此處，CIE係「Commission Internationale de l’Eclairage(法)，國際照明委員會」之簡稱，CIE對於光與照明領域之科學．技術及工藝相關之所有事項，進行標準與測定方法的開發，作為國 際規格及各國工業規格作成之方針，並期待與其他國際團體合作．交流。
測色用標準光源D65於顯示以日光照明物體顏色時使用。視野角度(視角10°)係以JIS Z8723「表面顏色之視覺比較方法」(對應外國規格ISO/DIS 3668)來定義。
測定顏色時，將去除正反射光後測定顏色之方法稱作SCE(去除正反射光)方式，將無光阱且未去除正反射光地測定顏色之方法稱作SCI(包含正反射光)。SCI方式因包含正反射光地進行測定，故可與表面狀態無關地評價素材本身之顏色。此係以JIS Z8722「顏色之測定方法-反射．透射物體顏色」為依據。
CIELAB標記色因藉由知覺與裝置之差異測定色差而於1976年提出，日本係JIS Z8729「顏色之表示方法-L＊a＊b＊表色系及L＊u＊v＊表色系」所規定之均等色空間。
CIELAB之3個座標係對應於顏色之亮度(標記為L＊，該值為0時係黑、為100時係白之擴散色之意)、紅色與綠色間之位置(標記為a＊，該值為負時係靠近綠色、為正時係靠近紅色之意)、及黃色與藍色間之位置(標記為b＊，該值為負時係靠近藍色、為正時係靠近黃色之意)。
(光澤性之評價法)
接著，光澤性可藉由經鏡面光澤法測定之表面光澤度進行評價。該表面光澤度係相對於經規定之入射角(本說明書中係60°)，測定來自鍍敷鋼材表面之鏡面反射光束α，並以相同條件中折射率n=1.567之玻璃表面的鏡面反射光束β 作為基準之比α/β算出，標記為Gs60°。
近年來，適合使用於施行透明塗料塗布之家電製品的鍍敷鋼之表面光澤度Gs60°係80以上，只要具有該值之表面光澤度的話，可評價為設計性優異者。
如以上所示，由無彩色之定義、及光澤性之定義來看，期待鍍敷鋼材之表面滿足{(2a＊)2+(b＊)2}0.5≦5.0(以≦3.5為佳)，且表面光澤度Gs60°為80以上(以85以上為佳)。
本發明係有鑑於前述情事而完成者，目的係提供一種具優異之耐蝕性(犧牲性防蝕能力)，並且為無彩色(滿足{(2a＊)2+(b＊)2}0.5≦5.0(以≦3.5為佳))且具優異之光澤性(表面光澤度Gs60°為80以上(以85以上為佳))的鍍敷鋼材。
本發明人等藉由形成以鋅為基質之層，作為鍍敷鋼材之最表面鍍敷層的第1鍍敷層，以使該鍍敷層發揮優異之耐蝕性(犧牲性防蝕能力)為前提，針對如何提高該鍍敷層外觀的設計性致力地反覆研究。結果，本發明人等得到如下之觀察所得知識：藉由限定第1鍍敷層所含之鋅以外的元素比例，特別是，使該鍍敷層含有特定之金屬間化合物相，可使該鍍敷層之表面外觀為無彩色，且具有優異之光澤性，而完成本發明。其要旨係如以下所述。
[1]一種鍍敷鋼材，具有鋼材，及直接或間接形成於前述鋼材表面之第1鍍敷層；該鍍敷鋼材之特徵在於：前述第1鍍敷層含有合計含有率5.0~20質量%之Fe、Ni、Co中之至少1種元素，0.1~20質量%之碳，及Zn； 前述第1鍍敷層中，δ相(FeZn10)、Γ相(Fe3Zn7)及Γ1相(FeZn4)之合計量係50%以上；於光源D65光、10°視野的分光測色時，前述第1鍍敷層之表面在SCI方式下滿足{(2a＊)2+(b＊)2}0.5≦5.0；且利用60°鏡面光澤法Gs60°所得之鍍敷表面光澤度係80以上。
[2]如前述[1]記載之鍍敷鋼板，其中前述第1鍍敷層中，δ相(Ni3Zn22)、γ相(Ni5Zn21)及γ相(Co5Zn21)之合計量係30%以上；且於光源D65光、10°視野之分光測色時，前述第1鍍敷層之表面在SCI方式下更滿足{(a＊)2+(b＊)2}0.5≦3.5。
[3]如前述[1]或[2]記載之鍍敷鋼材，其於前述鋼材與前述第1鍍敷層之間具有第2鍍敷層；且前述第2鍍敷層含有含有率0~20質量%之Mg、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Co、Ni、Cu、Sn、Fe中之至少1種元素，及Zn。
[4]如前述[1]記載之鍍敷鋼材，其中前述第1鍍敷層更含有0.01~3質量%之氮與0.01~3質量%之硫。
[5]如前述[1]記載之鍍敷鋼材，其中相對於前述鋼材，前述第1鍍敷層的附著量係每單面5~50g/m2。
[6]如前述[3]記載之鍍敷鋼材，其中相對於前述第2鍍敷層，前述第1鍍敷層的附著量係每單面2~10g/m2。
[7]如前述[3]記載之鍍敷鋼材，其中相對於前述鋼材，前述第2鍍敷層的附著量係每單面5~50g/m2。
[8]如前述[1]或[2]記載之鍍敷鋼材，其中前述第1 鍍敷層之平均結晶粒徑係5~80nm。
[9]如前述[1]或[2]記載之鍍敷鋼材，其中前述第1鍍敷層之表面粗度係Ra80nm以下。
[10]如前述[1]或[2]記載之鍍敷鋼材，其中前述第1鍍敷層中之Fe含量僅次於Zn；且前述金屬間化合物相中，δ相(FeZn10)、Γ相(Fe3Zn7)及Γ1相(FeZn4)中任一者係主層。
本發明之鍍敷鋼材中，藉於鍍敷鋼材之最表面鍍敷層(第1鍍敷層)使用基質為鋅之層，以賦與該鍍敷層優異之耐蝕性(犧牲性防蝕能力)為前提，更針對該鍍敷層所含之鋅以外之元素的比例，特別是該鍍敷層所含之金屬間化合物相的種類，進行改良。結果，依據本發明之鍍敷鋼材，可實現優異之耐蝕性，並且無彩色且顯示優異光澤性的外觀。
用以實施發明之形態
以下，詳細地說明本發明之鍍敷鋼材(及其製造方法)。另，本發明並未受該等實施形態所限定。又，前述實施形態之構成要素，包含發明所屬技術領域中具通常知識者可輕易取代者、或實質上係相同者。此外，前述實施形態所含之各種形態係發明所屬技術領域中具通常知識者可於自身明瞭之範圍內任意組合。
<鍍敷鋼材>
本發明之鍍敷鋼材具有鋼材，及直接或間接形成於前述鋼材表面之第1鍍敷層。並未特別限定鋼材，可使用例如，熱軋鋼板或冷軋鋼板。另，亦並未特別限制鋼之種類。
第1鍍敷層含有合計含有率5.0~20質量%之Fe、Ni、Co中之至少1種元素，0.1~20質量%之碳，及Zn。此處，前述合計含有率係合計有Fe、Ni、Co之含有率者之意。又，第1鍍敷層之δ相(FeZn10)、Γ相(Fe3Zn7)及Γ1相(FeZn4)的合計量係50%以上。此處，前述合計量係指面積率。
此處所稱之碳，推測係利用電鍍法形成第1鍍敷層時，來自添加於鍍敷浴中之二烯丙基胺聚合物及二烯丙基二烷基銨鹽聚合物中至少1種(以下，僅稱「添加劑」)的碳。
另外，第1鍍敷層之成分除了Fe、Ni、Co中之至少一種元素、碳及Zn以外，亦可含有不純物。此處，不純物係並非有意地添加作為第1鍍敷層成分者，而於原料中、或於製造步驟中混入者，係Al、Mg、Si、Ti、V、Cr、Mn、Cu、Sn、Nb、Pb、Cd、Ca、Pb、Y、La、Ce、Sr、Sb、氧、磷等之意。該等作為不純物之元素，即使含有合計1%左右，仍未損及本發明效果。
(作用等)
第1鍍敷層藉以鋅作為基質，可使該鍍敷層發揮優異之耐蝕性(犧牲性防蝕能力)。
此外，藉使第1鍍敷層之Fe、Ni、Co的合計含有 率為20質量%以下，可滿足不等式{(2a＊)2+(b＊)2}0.5≦5.0，並評價鍍敷層呈現無彩色。另，藉使前述合計含有率為17質量%以下，可更高度地達到前述效果(前述不等式之左邊≦4.5)，為15質量%以下時將極為高度地達到前述效果(前述不等式之左邊≦3.5)。
另一方面，藉使第1鍍敷層之Fe、Ni、Co的合計含有率為5.0質量%以上，且碳含量為0.1~20質量%，可縮小第1鍍敷層之結晶粒徑，以期待微細化。又，藉使第1鍍敷層含有0.1~20質量%之碳，可使第1鍍敷層之表面更為平滑。藉由該等作用，利用60°鏡面光澤法Gs60°所得之鍍敷表面光澤度為80以上，使第1鍍敷層之表面具有優異之光澤性。
另外，藉使Fe、Ni、Co之合計含有率為6.0質量%以上，可更高度地達到前述效果(前述鍍敷表面光澤度為85以上)，為7.0質量%以上時可極為高度地達到前述效果(前述鍍敷表面光澤度為90以上)。
又，第1鍍敷層中之碳小於0.1質量%時，平滑性變得不充分，產生未能得到光澤性之不良情況，於該碳大於20質量%時，將產生過度吸附有添加劑之部分，形成微細之凹凸，使光澤性受損，甚至是產生非無彩色的不良情況。第1鍍敷層中碳之含有率為0.5~10質量%時，將更高度地達到前述效果，為0.2~5質量%時將更加高度地達到前述效果，為0.3~3質量%時可極為高度地達到前述效果。另，第1鍍敷層中碳之含有率可使用可高頻分析該鍍敷層之輝光放電發光分析(GDS：Grow Discharge emission atomic Spectrometry)測定。
又，第1鍍敷層之相形態，藉使δ相(FeZn10)、Γ相(Fe3Zn7)及Γ1相(FeZn4)之合計量為50%以上，可使第1鍍敷層的結晶粒變細。換言之，因前述各種金屬間化合物相相較於鋅單體(η相)可加大結晶化過電位，故結晶核之生成較結晶成長早進行。藉此，前述Fe、Ni、Co之合計含有率及碳含有率之前述下限值一同高度地實現了第1鍍敷層的微細化，第1鍍敷層之表面實現了優異之光澤性。
如以上所示，本發明之鍍敷鋼材藉以最外鍍敷層作為鋅基質，以實現優異之耐蝕性(犧牲性防蝕能力)為前提，並針對該鍍敷層所含之鋅以外的元素之比例，特別是，該鍍敷層所含之金屬間化合物相的種類，進行改良。結果，依據本發明之鍍敷鋼材，可實現具優異之耐蝕性，並且無彩色且顯示優異之光澤性的外觀。
(較佳例)
以上所示之鍍敷鋼板中，前述第1鍍敷層的δ相(Ni3Zn22)、γ相(Ni5Zn21)及γ相(Co5Zn21)之合計量為30%以上，且於光源D65光、10°視野之分光測色時，前述第1鍍敷層之表面在SCI方式下更滿足的{(a＊)2+(b＊)2}0.5≦3.5為佳。此處，前述合計量係指面積率。藉由更滿足前述不等式，可評價鍍敷層呈現更高之無彩色。另，藉使前述δ相(Ni3Zn22)、γ相(Ni5Zn21)及γ相(Co5Zn21)之合計量為35%以上，可更高度地達到前述效果(前述不等式之左邊≦2.5)，為40%以上時將極為高度地達到前述效果(前述不等式之左邊≦2.0)。
又，前述鍍敷鋼板中，於前述鋼材與前述第1鍍敷層之間具有第2鍍敷層，前述第2鍍敷層以含有含有率為0~20質量%之Mg、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Co、Ni、Cu、Sn、Fe中之至少1種元素、及Zn為佳。此處，前述含有率係Mg、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Co、Ni、Cu、Sn、Fe個別的含有率之意。
第2鍍敷層於腐蝕環境(例如35℃之5mass%NaCl溶液中)下去除表面氧化膜層影響後的自然浸漬電位較第1鍍敷層差，藉此，可更加提高犧牲性防蝕能力。
另，第2鍍敷層所含之鋅以外的元素，可舉如前述之Mg、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Co、Ni、Cu、Sn、Fe為例，但由耐蝕性之觀點來看，以Mg、Al、Si、Mn、Ni、Co為佳。又，第2鍍敷層之金屬元素方面，除了前述以外，亦可含有於原料中、或製造步驟中混入之不純物。
又，前述鍍敷鋼板中，前述第1鍍敷層以更包含0.01~3質量%之氮、0.01~3質量%之硫中至少1種為佳，以包含0.03~1質量%之氮、0.03~1質量%之硫中至少1種更佳。推測氮及硫係藉由電鍍法形成第1鍍敷層時，來自於添加至鍍敷浴中的添加劑之元素。藉使用含有添加劑之鋅鍍敷浴使形成於鋼材之第1鍍敷層，含有0.01~3質量%之氮、0.01~3質量%之硫中至少1種，可使第1鍍敷層之表面更為平滑，顯示出極高之光澤性。又，該等氮、硫亦可與碳同樣地以GDS測定。
此外，前述鍍敷鋼板中，相對於前述鋼材之前述 第1鍍敷層的附著量，以每單面5~50g/m2為佳。另，本形態係未含第2鍍敷層時的鍍敷鋼板之形態。藉使前述附著量為每單面5g/m2以上，可更發揮優異之耐蝕性(犧牲性防蝕能力)。另一方面，即使前述附著量為每單面大於50g/m2，仍未能更加提升該耐蝕性，故設為50g/m2以下，可期待節省鍍敷材料。另，前述附著量之更佳範圍係每單面10~20g/m2，藉此將更高度地達到各前述效果。
相對於此，前述鍍敷鋼板中，相對於前述第2鍍敷層之前述第1鍍敷層的附著量，以每單面2~10g/m2為佳。另，本形態係包含第2鍍敷層的鍍敷鋼板之形態。於設置第2鍍敷層時，藉使前述附著量為每單面2g/m2以上，將遮蔽第2層之鍍敷產生的花樣或色調，而成為無彩色，可發揮優異之光澤。另一方面，即使前述附著量為每單面大於10g/m2，仍未能更加提升無彩色化或光澤，故設為10g/m2以下，可期待節省鍍敷材料。另，前述附著量上限值之更佳範圍係每單面6g/m2，藉此，可更高度地達到前述效果。
接著，前述鍍敷鋼板中，前述第1鍍敷層之平均結晶粒徑以5~80nm為佳。第1鍍敷層之平均結晶粒徑亦會對鍍敷鋼板表層之光學特性造成影響。一般而言，第1鍍敷層之平均結晶粒徑過大時，未能實現充分之光澤性。因此，鍍敷層之平均結晶粒徑以80nm以下為佳，以30nm以下較佳。相對於此，並未特別規定前述平均結晶粒徑之下限值，但為5nm以上的話將容易工業上生產。
第1鍍敷層之平均結晶粒徑，可由透射顯微鏡影 像直接求得結晶粒徑之平均值，亦可藉由X射線繞射峰值之形狀分析求得。抑或，可使用下述式(Sherre之式)簡單地求得結晶粒徑(D)。
D=(0.9λ)/(βcosθ)
另外，前述式中，λ係測定X射線波長、β係半值寬度(rad)、θ係繞射線之布拉格角度。
此外，前述鍍敷鋼板中，以SPM(掃描型探針顯微鏡)測定前述第1鍍敷層之表面粗度時，Ra(算術平均粗度)以80nm以下為佳。鍍敷鋼板之第1鍍敷層之表面粗度將對鍍敷鋼板之光學特性造成影響。換言之，一般而言，鍍敷層之表面粗度越低，鍍敷鋼材之光澤度將越高。因此，於第1鍍敷層之表面粗度過高時，該表面將無法成為鏡面，而鍍敷鋼板之最表面將未能具有優異之光澤性。
這可由上述第1鍍敷層之平均結晶粒徑與第1鍍敷層之表面粗度的互相關係而輕易地理解。換言之，藉使第1鍍敷層之組織微細化(縮小平均結晶粒徑)，可降低該鍍敷層之粗度(平滑化)，甚至可增加第1鍍敷層表面之光澤度。
又，第1鍍敷層之表面粗度係與人類可見光區域之波長(380nm~810nm)密切地相關。換言之，只要為該可見光區域波長約10分之1的粗度的話，可大致正反射該可見光區域之全波長的光，結果，鍍敷鋼板之色調呈現物體顏色，且呈現光澤度高之外觀。此外，第1鍍敷層之表面粗度亦受鍍敷前之鋼材細線(以製品之美觀為目的利用研磨所賦與 之長線條)、或浮雕(對鋼材施以浮雕文字或圖案等之加工)等的圖案化影響，但由微小之圖案並未對光澤感之認知造成影響的理由來看，測定粗度之處可為圖案之凸部。另，不需特別限定第1鍍敷層之粗度下限值，但若該鍍敷層表面過度平滑時，將成為擦痕、或擦撞之原因，故以將Ra(算術平均粗度)設為5nm以上為佳。
另外，第1鍍敷層之光澤度不僅受上述該鍍敷層本身之平均結晶粒徑或表面粗度影響，亦受鍍敷原始材料之粗度影響。一般而言，鍍敷原始材料之粗度越低，鍍敷鋼材之光澤度越高。由鍍敷鋼材之光澤度以外的觀點(例如，壓製成時之潤滑性)來看，亦需控制鍍敷原始材料之粗度。又，只要第1鍍敷層之厚度充分，鍍敷原始材料之粗度對前述光澤度之影響將變小。藉由以上，本發明中反倒未限定鍍敷原始材料的粗度。
第1鍍敷層之鍍敷原始材料的粗度可以各種方法來調整。具體之調整方法，可舉利用輥軋延之轉印、珠粒噴擊、研磨等為例，但不限於該等亦可使用其他眾所周知的方法。
此外，前述鍍敷鋼板中，前述第1鍍敷層中Fe含量之多僅次於Zn，前述金屬間化合物相則以δ相(FeZn10)、Γ相(Fe3Zn7)、Γ1相(FeZn4)中任一者作為主層(面積率最大之相)為佳。換言之，藉使Fe含量之多僅次於Zn，η相(Zn相)之生成受到抑制，結晶化過電位之大小大於η相(Zn相)的前述金屬間化合物相成為主相，藉由微細析出，利用60°鏡面 光澤法Gs60°所得之鍍敷表面光澤度為80以上，鍍敷層之表面將具有更優異之光澤性。
如此之鍍敷相的構造可直接自透射電子顯微鏡之繞射影像求得，亦可由X射線繞射強度求得。因電鍍所形成之鍍敷層的應變多，並受基板之配向性等影響，與通常之文獻值等相異的情形多。但，本發明中η相之有無可使用Co作為靶材，以2θ/θ法藉由比較45.1°~46.1°之峰值強度的最大值與48.0°~52.0°之峰值強度的最大值來判定。若45.1°~46.1°之尖峰強度的最大值為48.0°~52.0°之尖峰強度的最大值之20%以下的話，將不會存在對光澤性產生不良影響之量的η相(Zn)，而為10%以下的話，將不會有實質上的影響。又，於存在第2鍍敷層時，可藉由改變X射線之入射角，來去除第2鍍敷層之影響。
<鍍敷鋼材之製造方法>
以下，詳細地說明本發明之鍍敷鋼板的製造方法。
(第1鍍敷層之形成方法)
本發明之鍍敷鋼材於形成前述第1鍍敷層(最表面鍍敷層)時，係使用包含硫酸鋅、硫酸鈉、及硫酸，以及添加有二烯丙基胺聚合物及二烯丙基二烷基銨鹽聚合物中至少1種的鍍鋅浴，藉由於鋼材(或後述之第2鍍敷層)進行電鍍鋅來製造。又，電鍍鋅浴中，除了Zn以外，藉由添加Fe、Co、Ni中至少1種元素，於鋼材直接或間接地形成包含Fe、Co、Ni中至少1種元素與Zn的鋅合金鍍敷層。
如上述，電鍍鋅浴中除了Zn以外，亦添加Fe、 Co、Ni中至少1種元素(元素X)。鍍敷浴中元素X與Zn之莫耳濃度比率及莫耳濃度，係調整成均滿足下述2個式。如此，藉由調整鍍敷浴之組成等，可抑制結晶粒之粗大化，並形成具優異之耐蝕性(犧牲性防蝕能力)，並且無彩色且具優異之光澤性的第1鍍敷層。
0.70≧X2+/(Zn2++X2+)≧0.50
Zn2++X2+≧0.7mol/l
鍍敷浴中之莫耳濃度比率及莫耳濃度於前述2個式中至少1個的範圍外時，除了第1鍍敷層之光澤性下降，亦有該鍍敷層之色調非無彩色且無法滿足{(2a＊)2+(b＊)2}0.5≦5.0的疑慮。又，藉由使用均滿足前述2個式之鍍敷浴，可促進所得之第1鍍敷層之結晶粒的微細化。另，電鍍鋅浴亦可不可避免地於浴中混入為鍍敷浴中之金屬離子(Zn2+、Fe2+、Co2+、Ni2+)之相對離子的SO42-、Cl-。
又，於合金鍍敷化第1鍍敷層時，為形成Zn-Ni系鍍敷層而於鍍敷液中添加硫酸鎳或氯化鎳，為形成Zn-Fe系鍍敷層而於鍍敷液中添加硫酸鐵或氯化鐵，為形成Zn-Co系鍍敷層而於鍍敷液中添加硫酸鈷或氯化鈷即可。
前述電鍍中，藉將電流密度設為5~15kA/m2，來控制電流密度與通電時間之積即庫侖數，可實現目的之鍍敷附著量。藉將電流密度設為5kA/m2以上，製膜速度將變得充分，且變得不易形成粗大之結晶粒，第1鍍敷表面將成為更平滑之狀態。又，藉將電流密度設為5kA/m2以上，可抑制η相之生成，變成無彩色。另一方面，藉將電流密度設 為15kA/m2以下，將順利地進行對鋼材表面(或第2鍍敷層表面)供給Zn、Fe、Co、Ni等金屬元素，可得均一且密著性良好之第1鍍敷層。於將該電流密度設為7kA/m2以上12kA/m2以下時，可更高度地達到前述各效果，故為佳。
又，控制浴溫、或作為被鍍敷材之鋼材(或第2鍍敷層)與鍍敷液間的相對流速等方面，則可使用眾所周知的技術。具體而言，電鍍時之鍍敷浴與被鍍敷材(鋼材或第2鍍敷層)間的相對液流速，以設為0.5m/sec以上為佳。相對液流速越大，被鍍敷材與鍍敷液間之擴散層將越薄，而容易供給金屬離子。此特別於以高電流密度進行鍍敷處理時有效。賦與相對液流速之方法存在有許多種，但於被鍍敷材為鋼板時，有高速通過之方法、或賦與對向流之方法。另，並未特別限定相對液流速之上限，但為5m/sec以上時，對於鍍敷液之取出、或產生對向流之泵的能力方面將產生問題而不佳。
鍍敷浴之pH以1~3的範圍為佳。藉將鍍敷浴之pH設為1以上，可抑制於電鍍時產生競爭反應之氫，並抑制電流效率顯著下降。又，藉將鍍敷浴之pH設為3以下，可維持鍍敷浴中之金屬元素(Zn、Fe、Co、Ni)為穩定溶解狀態。另，於將pH設為1.5~2.5之範圍時，將更高度地達到前述各效果。
由電流效率與鍍敷液蒸發之觀點來看，鍍敷浴溫度以設為40~60℃為佳。換言之，藉將鍍敷浴溫度設為40℃以上，可實現優異之電流效率，且另一方面藉由設為60° 以下，可抑制鍍敷液蒸發。
鍍敷浴中，以含有包含二烯丙基胺聚合物及二烯丙基二烷基銨鹽聚合物中至少1種的光澤添加劑(以下，簡稱「添加劑」。)0.1g/l~10g/l為佳。使用該等添加劑之用意是：為不使第1鍍敷層析出η相(Zn相)，而僅析出並成長特定之金屬間化合物相(δ相(FeZn10)、Γ相(Fe3Zn7)、Γ1相(FeZn4)、δ相(Ni3Zn22)、γ相(Ni5Zn21)、及γ相(Co5Zn21))，甚至是為使第1鍍敷層之結晶粒徑微細化。
具體而言，二烯丙基胺聚合物之例，可舉例如：二烯丙基胺鹽酸鹽聚合物、二烯丙基胺聚合物、甲基二烯丙基胺鹽酸鹽聚合物、甲基二烯丙基胺醯胺硫酸鹽聚合物、甲基二烯丙基胺乙烯酯聚合物、二烯丙基胺鹽酸鹽．二氧化硫共聚物、二烯丙基胺乙烯酯．二氧化硫共聚物、甲基二烯丙基胺鹽酸鹽．二氧化硫共聚物。二烯丙基胺聚合物可單獨使用該等，亦可使用混合有該等中至少2種者。
又，二烯丙基二烷基銨鹽聚合物之例，可舉例如：二烯丙基二甲基銨氯聚合物、二烯丙基甲基乙基銨乙基硫酸聚合物、二烯丙基甲基乙基銨乙基硫酸．二氧化硫共聚物、二烯丙基二甲基銨氯．二氧化硫共聚物、二烯丙基二甲基銨氯．丙烯醯胺共聚物、部分3-氯-2-羥丙基化二烯丙基胺鹽酸鹽．二烯丙基二甲基銨氯共聚物。二烯丙基二烷基銨鹽聚合物，可單獨使用該等，亦可使用混合有該等中至少2種者。
此外，亦可使用混合有二烯丙基胺聚合物與二烯 丙基二烷基銨鹽聚合物者作為添加劑。混合態樣並未受限為2種，亦可混合3種以上之聚合物。
特別是，二烯丙基胺聚合物及二烯丙基二烷基銨鹽聚合物中以具有5員環構造之聚合物為佳。藉使前述聚合物具有5員環構造，可使第1鍍敷層中有效地析出、成長特定之金屬間化合物相(δ相(FeZn10)、Γ相(Fe3Zn7)、Γ1相(FeZn4)、δ相(Ni3Zn22)、γ相(Ni5Zn21)、及γ相(Co5Zn21))，並可高度微細化第1鍍敷層之結晶粒徑。另，該等現象該依據如何之機制來限定，並未特別規定，而該現象係藉由本發明人等之經驗來判斷。
前述聚合物是否含有5員環構造之評價方法，可如以下地進行。換言之，溶解第1鍍敷層使有機物不會共沉澱地去除金屬離子，並於不破壞構造之情況下純化，來特定5員環構造。具體而言，可藉由各種核磁共振(NMR：Nuclear Magnetic Resonance)分光法特定5員環構造。
鍍敷浴中將添加劑之量設為0.1g/l~10g/l之範圍。使鍍敷浴中含有上述添加劑後進行電鍍時，於形成第1鍍敷層時，添加劑將配位於電流集中之部位，阻礙該部分之鍍敷成長，但於添加劑未配位之部分，第1鍍敷層之成長受到促進，所形成之該鍍敷層之表面變得平滑，可實現高之光澤性。鍍敷浴中添加劑之量小於0.1g/l時，前述添加劑配位之量將變得不充分，故未能得到前述效果。另一方面，鍍敷浴中添加劑之量大於10g/l時，因添加劑配位之量過多反倒變得不均一，故未能得到前述效果。另，將添加劑之量 設為0.2g/l~4g/l時，將分別高度地達到前述效果。
又，本發明之添加劑的平均分子量，以設為1000~10000之範圍為佳。藉將添加劑之平均分子量設為1000以上，可抑制第1鍍敷層過度地成長。另一方面，藉將該平均分子量設為10000以下，可避免鍍敷浴中之添加劑不易溶解。於將添加劑之平均分子量設為2000~6000之範圍時，將分別高度地達到前述效果。
以上係關於第1鍍敷層之形成方法的記載，但該等記載無論是於鋼材直接形成鍍敷層、抑或是相對於後述之第2鍍敷層形成第1鍍敷層的情形中均同等適用。
(第2鍍敷層之形成方法)
接著，本發明之鍍敷鋼板中，於鋼材與第1鍍敷層之間亦可中介第2鍍敷層。藉此，可更加提升鍍敷鋼材之耐蝕性(犧牲性防蝕能力)。第2鍍敷層可藉由使用包含硫酸鋅、硫酸鈉、及硫酸之鋅鍍敷浴，於鋼材進行電鍍鋅來形成。又，電鍍鋅浴中，除了Zn以外，亦可添加Mg、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Co、Ni、Cu、Sn、Fe中至少1種元素。
第2鍍敷層之形成條件，係藉將電流密度設為1~20kA/m2(較佳者是5~15kA/m2)，可實現所期之鍍敷附著量。又，藉將電鍍時之鍍敷浴與被鍍敷材(鋼材)間之相對液流速設為0.5m/sec以上，可輕易地供給金屬離子。此外，藉將鍍敷浴之pH設為1以上，可抑制於電鍍時產生競爭反應之氫，並抑制電流效率顯著下降，且另一方面，藉將該pH設為3以下，可維持鍍敷浴中之元素(Zn、Mg、Al、Si、Ti、V、 Cr、Mn、Co、Ni、Cu、Sn、Fe)為穩定溶解狀態。另，於將pH設為2以下之範圍時，將更高度地達到前述各效果。
此外，於形成第2鍍敷層時，由電流效率與鍍敷液蒸發之觀點來看，亦可將鍍敷浴溫度設為40~60℃，並於鍍敷浴中適當地添加添加劑。
又，第2鍍敷層亦可藉由使用包含鋅之熔融鍍敷浴，於鋼材進行熔融鍍敷來形成。又，熔融鋅鍍敷浴中，除了Zn以外，亦可添加Mg、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Co、Ni、Cu、Sn中至少1種元素。
使用熔融鍍敷浴時之第2鍍敷層的形成條件，係將經施行還原退火之鋼材浸漬於經加熱至400℃~650℃之鍍敷浴，於預定時間後撈出即可，藉由進行擦拭可控制鍍敷附著量。又，於鍍敷皮膜含有Fe時自鍍敷浴撈出後加熱至450℃以上，進行合金化即可。
(第1鍍敷層之表面處理方法)
此外，本發明之鍍敷鋼材以提升各種特性為目的，可對作為最表面鍍敷層之第1鍍敷層的表面更加進行各種處理。
為了防止第1鍍敷層變色以及改善後述塗料之密著性，藉於第1鍍敷層上施行鉻酸鹽處理或無鉻酸鹽處理(非鉻酸鹽處理)，可進行形成防鏽被膜層之一次防鏽處理。鉻酸鹽處理時，例如，可使用以鉻酸與反應促進劑作為主成分之鉻酸鹽處理液，使鉻酸鹽附著量為1~200mg/m2。鉻酸鹽附著量小於1mg/m2時未能得到充分之防鏽效果，又， 大於200mg/m2時防鏽效果達到飽和。
另一方面，無鉻酸鹽處理時，可使用於處理液中未含有有害之六價鉻而含有Zr、Ti之鹽等之處理液、或包含矽烷耦合劑之處理液等。無鉻酸鹽處理中，係形成以Ti、Zr、P、Ce、Si、Al、Li等為主成分且不含鉻的無鉻酸鹽處理層。無鉻酸鹽處理層之附著量以1~1000mg/m2為佳。無鉻酸鹽處理層之附著量小於1mg/m2時，未能得到充分之防鏽效果，且另一方面，大於1000mg/m2時，防鏽效果達到飽和。
又，為更高度地發揮鍍敷鋼材之防變色性、及耐瑕疵性，以於鉻酸鹽處理等後形成厚度0.5~100μm之塗膜為佳。可以眾所周知的塗裝方法形成塗膜。塗膜材料可舉例如：丙烯酸系燒附塗料、胺甲酸乙酯系塗料、環氧系塗料、聚酯系塗料、聚醚碸系塗料、三聚氰胺醇酸系塗料等。塗膜之形成可單獨使用該等塗料，亦可使用該等塗料之混合物。塗裝方法可舉輥塗法、簾幕式塗布法、噴槍法、靜電法等為例。該等塗裝方法中，由生產性與均一性之觀點來看，以輥塗法、簾幕式塗布法為佳。另，為發揮本發明之鍍敷鋼板的高光澤度並避免光之散射或吸收，以使用未添加著色顏料之透明塗料為佳。
如以上所示，依據本發明之鍍敷鋼材之製造方法，於形成作為最表面之鍍敷層的第1鍍敷層(第1鍍敷層)時，藉於鋅鍍敷浴添加特定量之二烯丙基胺聚合物及二烯丙基二烷基銨鹽聚合物中至少1種，且調整鍍敷浴之組成後，進行電鍍鋅，可得具優異之耐蝕性(犧牲性防蝕能力)，並且無彩 色且具優異之光澤性的鍍敷鋼材。
實施例
以下，藉由發明例具體地說明本發明之效果。另，本發明並未受以下發明例中使用之條件所限定。又，表1~6-2中之底線部係超出本發明範圍之意。
將厚度0.6mm之經退火．調壓的鋼板(成分組成分別包含C：0.001%、Si：0.01%、Mn：0.1%、P：0.008%、S：0.004%)使用濃度30g/L之Na4SiO4處理液，以處理液60℃、電流密度20A/dm2、處理時間10秒之條件電解脫脂並水洗。接著，將經電解脫脂之鋼材浸漬濃度50g/L之60℃ H2SO4水溶液10秒鐘，並且水洗，以進行鍍敷前處理。另，鋼板之L方向(與軋延方向平行之方向)的Ra(算術平均粗度)係0.6μm。
然後，使用具有表1所示之組成，且含有表2、表3-1、及表3-2所示之添加劑的鍍敷浴，以表2、表3-1、及表3-2所示之諸條件進行電鍍，於鋼板上形成第1鍍敷層，得到顯示表4、表5-1及表5-2所示之各特性的試驗例1~74。
緊接著，得到具有與表4所示之特定試驗例(試驗例1、3、8、9、12、19)相同的鋼板及第1鍍敷層，且於該等之間具有表6-1及表6-2所示之組成的第2鍍敷層之試驗例75~125。第2鍍敷層之形成態樣係以第1鍍敷層之形成態樣為準。
另外，表4~表6-2中，對於金屬間化合物相之存在形態，係將以δ相(FeZn10)、Γ相(Fe3Zn7)、Γ1相(FeZn4)中 任一者作為主相者標記為「A」，將包含δ相(FeZn10)、Γ相(Fe3Zn7)、Γ1相(FeZn4)、δ相(Ni3Zn22)、γ相(Ni5Zn21)、及γ相(Co5Zn21)中之至少1種金屬間化合物相者標記為「B」，將不屬於前述A、B者標記為「C」。又，該等表中，對於X射線繞射強度，係將45.1°~46.1°之尖峰強度的最大值為48.0°~52.0°之尖峰強度的最大值之10%以下者標記為「A」，大於10%~20%以下者標記為「B」，大於20%者標記為「C。
鍍敷後，將第1鍍敷層之附著量如表4、表5-1及表5-2所示的各鍍敷鋼板，或第1及第2鍍敷層之附著量如表6-1及表6-2所示的鍍敷鋼板水洗．乾燥。接著，使用KONICA MINOLTA製CM-2500d作為測定機器，於光源D65、10°視野下，以SCI方式測定「a＊」及「b＊」。又，以光澤度計依據L方向(軋延方向)及C方向(與軋延方向垂直之方向)之各Ra(算術平均粗度)測定Gs60°。表4~表6-2所示之「Gs60°」係依據L方向、C方向之各Ra所測定的值之平均值。此外，第1鍍敷層所含之碳含有率(質量%)係藉由使用HORIBA製高頻輝光放電發光表面分析裝置，利用X射線繞射峰值之形狀分析求得鍍敷層之平均結晶粒徑(nm)後算出。另，於求得平均結晶粒徑時，係使用Sherre之式{(D=(0.9λ)/(βcosθ))}。X射線繞射測定係使用Co作為靶材，以加速電壓30kV、電流100mA、掃描速率：1°/min、掃描軸：2θ進行測定。於表4~表6-2一併紀錄以上之評價結果。
第1及第2鍍敷層之分析方法係如下述。換言之，各元素之含有率係自表面朝深度方向進行輝光放電發光分析(GDS：Grow Discharge emission atomic Spectrometry)來分析。
又，此時鍍敷層/鋼基材等之界面係如以下地決定。換言之，於自表面分析時，判斷金屬元素之合計大於70質量%為第1鍍敷層的最表面，並將Fe、Ni、Co之合計為5~20質量%，且碳為0.1~20質量%之區域判斷為第1鍍敷層，從那處開始至來自鋼基材之Fe大於50質量%的深度判斷為 第2鍍敷層。又，於無第2鍍敷層時將自金屬元素之合計大於70質量%起至來自鋼基材之Fe大於50質量%的深度判斷為第1鍍敷層。
依據表4~表6-2，(已針對鍍敷層所含之鋅除外之元素的比例以及特別是該鍍敷層所含之金屬間化合物相的種類進行改良之)發明例中{(2a＊)2+(b＊)2}0.5均係5.0以下、Gs60°為80以上。因此，可說發明例之鍍敷鋼材均具優異之耐蝕性，並且無彩色且具優異之光澤性。
相對於此，(未對鍍敷層所含之鋅除外之元素的比例以及特別是該鍍敷層所含之金屬間化合物相的種類中至少1者進行改良之)比較例並未滿足{(2a＊)2+(b＊)2}0.5≦5.0、及Gs60°≧80中至少1者。因此，無法說比較例之鍍敷鋼材中任一者具優異之耐蝕性，並且無彩色且具優異之光澤性。

Claims (10)

  1. 一種鍍敷鋼材，具有鋼材，及直接或間接形成於前述鋼材表面之第1鍍敷層；該鍍敷鋼材之特徵在於：前述第1鍍敷層含有合計含有率5.0~20質量%之Fe、Ni、Co中之至少1種元素，0.1~20質量%之碳，及Zn；前述第1鍍敷層中，δ相(FeZn10)、Γ相(Fe3Zn7)及Γ1相(FeZn4)之合計量係50%以上；於光源D65光、10°視野的分光測色時，前述第1鍍敷層之表面在SCI方式下滿足{(2a*)2+(b*)2}0.5≦5.0；且利用60°鏡面光澤法Gs60°所得之鍍敷表面光澤度係80以上。
  2. 如請求項1之鍍敷鋼材，其中前述第1鍍敷層中，δ相(Ni3Zn22)、γ相(Ni5Zn21)及γ相(Co5Zn21)之合計量係30%以上；且於光源D65光、10°視野之分光測色時，前述第1鍍敷層之表面在SCI方式下更滿足{(a*)2+(b*)2}0.5≦3.0。
  3. 如請求項1或2之鍍敷鋼材，其於前述鋼材與前述第1鍍敷層之間具有第2鍍敷層；且前述第2鍍敷層含有含有率0~20質量%之Mg、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Co、Ni、Cu、Sn、Fe中之至少1種元素，及Zn。
  4. 如請求項1或2之鍍敷鋼材，其中前述第1鍍敷層更含有0.01~3質量%之氮與0.01~3質量%之硫中至少1種。
  5. 如請求項1或2之鍍敷鋼材，其中相對於前述鋼材，前述第1鍍敷層的附著量係每單面5~50g/m2。
  6. 如請求項3之鍍敷鋼材，其中相對於前述第2鍍敷層，前述第1鍍敷層的附著量係每單面2~10g/m2。
  7. 如請求項3之鍍敷鋼材，其中相對於前述鋼材，前述第2鍍敷層的附著量係每單面5~50g/m2。
  8. 如請求項1或2之鍍敷鋼材，其中前述第1鍍敷層之平均結晶粒徑係5~80nm。
  9. 如請求項1或2之鍍敷鋼材，其中前述第1鍍敷層之表面粗度係Ra80nm以下。
  10. 如請求項1或2之鍍敷鋼材，其中前述第1鍍敷層中之Fe含量僅次於Zn；且前述金屬間化合物相中，δ相(FeZn10)、Γ相(Fe3Zn7)及Γ1相(FeZn4)中任一者係主層。
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6751924B2 (ja) * 2016-05-24 2020-09-09 国立大学法人広島大学 耐食性の評価方法およびめっき製品の修復方法
WO2018143267A1 (ja) * 2017-01-31 2018-08-09 アベル株式会社 発色ステンレス鋼板、発色ステンレス鋼コイル及びその製造方法
MX2019014567A (es) 2017-10-12 2020-02-07 Nippon Steel Corp Lamina de acero recubierta con recubrimiento electrolitico de zinc o aleacion de zinc.
JP6733839B2 (ja) * 2018-04-03 2020-08-05 日本製鉄株式会社 亜鉛系電気めっき鋼板
JP7168394B2 (ja) * 2018-09-21 2022-11-09 トヨタ自動車株式会社 希土類磁石及びその製造方法
KR102218449B1 (ko) * 2018-12-19 2021-02-19 주식회사 포스코 표면외관이 우수한 전기도금강판 및 그 제조방법
KR102209546B1 (ko) 2018-12-19 2021-01-29 주식회사 포스코 광택도 및 표면특성이 우수한 도금강판 및 그 제조방법
WO2020213690A1 (ja) * 2019-04-17 2020-10-22 日本製鉄株式会社 亜鉛系めっき鋼板
CN113631744B (zh) * 2019-05-31 2022-07-19 日本制铁株式会社 热冲压用镀覆钢板
CN113924376A (zh) * 2019-05-31 2022-01-11 日本制铁株式会社 热冲压用镀覆钢板

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6314890A (ja) * 1986-07-05 1988-01-22 Nippon Steel Corp 装飾亜鉛メツキ鋼板およびその製造方法
JPS63162895A (ja) * 1986-12-25 1988-07-06 Kawasaki Steel Corp 灰色表面処理鋼材の製造法
JP2790319B2 (ja) * 1989-06-28 1998-08-27 川崎製鉄株式会社 Ｚｎ―Ｎｉ合金電気めっき鋼板の製造方法
ES2215607T3 (es) * 1999-02-25 2004-10-16 Macdermid Plc Adyuvantes utiles para la electrodeposicion de zinc y aleaciones de zinc y procedimientos de electrodeposicion.
JP3917951B2 (ja) * 2003-05-21 2007-05-23 新日本製鐵株式会社 ゴールドメタリック調意匠性めっき鋼板及びその製造方法
CN101273157A (zh) * 2005-06-20 2008-09-24 百富可公司 锌镍合金电镀系统
US9133536B2 (en) * 2009-10-26 2015-09-15 Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation Galvannealed steel sheet and producing method thereof
JP5381902B2 (ja) * 2010-05-31 2014-01-08 新日鐵住金株式会社 表面処理鋼板及びその製造方法

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Publication number Publication date
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TW201536965A (zh) 2015-10-01
WO2015125887A1 (ja) 2015-08-27
JPWO2015125887A1 (ja) 2017-03-30
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