TWI523890B - 含有全氟聚醚基之矽烷化合物及表面處理劑 - Google Patents

含有全氟聚醚基之矽烷化合物及表面處理劑 Download PDF

Info

Publication number
TWI523890B
TWI523890B TW102120867A TW102120867A TWI523890B TW I523890 B TWI523890 B TW I523890B TW 102120867 A TW102120867 A TW 102120867A TW 102120867 A TW102120867 A TW 102120867A TW I523890 B TWI523890 B TW I523890B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
fluorine
surface treatment
alkyl group
treatment agent
less
Prior art date
Application number
TW102120867A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201414769A (zh
Inventor
三橋尙志
杉山明平
Original Assignee
大金工業股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 大金工業股份有限公司 filed Critical 大金工業股份有限公司
Publication of TW201414769A publication Critical patent/TW201414769A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI523890B publication Critical patent/TWI523890B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/336—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/002—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds
    • C08G65/005—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens
    • C08G65/007—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens containing fluorine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/331—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen
    • C08G65/332—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing carboxyl groups, or halides, or esters thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L71/00—Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L71/02—Polyalkylene oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D171/00—Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D171/02—Polyalkylene oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
    • C09D5/1606—Antifouling paints; Underwater paints characterised by the anti-fouling agent
    • C09D5/1612—Non-macromolecular compounds
    • C09D5/1625—Non-macromolecular compounds organic
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • Y10T428/31609—Particulate metal or metal compound-containing
    • Y10T428/31612—As silicone, silane or siloxane
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652—Of asbestos
    • Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane

Description

含有全氟聚醚基之矽烷化合物及表面處理劑
本發明係關於含有全氟聚醚基之矽烷化合物。又，本發明係關於使用該含有全氟聚醚基之矽烷化合物之表面處理劑等。
已知將某種含氟矽烷化合物用於基材之表面處理，即能夠提供優異撥水性、撥油性、防污性等。得自包含含氟矽烷化合物之表面處理劑之層(以下亦稱為「表面處理層」)，係作為所謂的功能性薄膜而施用於例如：玻璃、塑膠、纖維、建築資材等各式各樣的基材。
作為該種含氟矽烷化合物，已知一種含有全氟聚醚基的矽烷化合物，其於分子主鏈具有全氟聚醚基、且於分子末端或末端部具有鍵結於Si原子之可水解之基(參照專利文獻1至2)。若將該包含含有全氟聚醚基的矽烷化合物之表面處理劑適用於基材，則鍵結於Si原子之可水解之基會藉由在基材間及化合物間進行反應而鍵結，而得以形成表面處理層。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]國際公開第97/07155號
[專利文獻2]日本特表2008-534696號公報
就表面處理層而言，係需能對基材長期提供所期望之功能，而要求高耐久性。因為得自包含含有全氟聚醚基的矽烷化合物之表面處理劑之層，即使是薄膜也能發揮如上述之功能，故適合利用在要求光穿透性乃至透明性之眼鏡和觸控面板等光學構件，而尤其要求在該等用途方面進一步提升磨擦耐久性。
然而，以往之得自包含含有全氟聚醚基的矽烷化合物之表面處理劑之層，係未必能謂之係充分滿足日益增加之提高磨擦耐久性之要求者。
本發明之目的為提供一種新穎的含有全氟聚醚基之矽烷化合物，其可形成具有撥水性、撥油性、防污性，且具有高磨擦耐久性之層。本發明之又一目的為提供使用該含有全氟聚醚基之矽烷化合物而得之表面處理劑等。
依據本發明的要旨之一，可提供一種含有全氟聚醚基之矽烷化合物，其係下述通式(1a)及(1b)之任一者所示者，數量平均分子量為6×103至1×105； (該等式中，Rf1表示可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至16之烷基，a、b、c及s分別獨立地為0以上200以下之整數，a、b、c及s之和至少為1，附有a、b、c或s之括號中的各重複單元於式中可為任意的存在順序，d及f為0或1，e及g為0以上2以下之整數，m及l為1以上10以下之整數，X表示氫原子或鹵原子，Y表示氫原子或低級烷基，Z表示氟原子或低級氟烷基，T表示羥基或可水解之基，R1表示氫原子或碳數1至22之烷基，n為1以上3以下之整數)。
又，經由本發明，該通式中存在複數個相同記號時，該等係可互為獨立地進行選擇。
依據本發明另一要旨，係可提供一種含有全氟聚醚基之矽烷化合物，其係下述通式(2a)及(2b)之任一者所示者，數量平均分子量為6×103至1×105； (該等式中，Rf2表示可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至16之烷基，a、b、c及s分別獨立地為0以上200以下之整數，a、b、c及s之和至少為1，附有a、b、c或s之括號中的各重複單元於式中可為任意的存在順序，d及f為0或1，h及j為1或2，i及k為2以上20以下之整數，Z表示氟原子或低級氟烷基，T表示羥基或可水解之基，R2表示氫原子或碳數1至22之烷基，n為1以上3以下之整數)。
依據本發明之又另一要旨，係進一步提供一種表面處理劑，其包含：至少一種之數量平均分子量為6×103至1×105之上述通式(1a)、(1b)、(2a)及(2b)所示之含有全氟聚醚基之矽烷化合物(以下亦代表該等而單稱為「本發明之含氟矽烷化合物」)，或該等之混合物。
該本發明之表面處理劑可對基材賦予撥水性、撥油 性、防污性、磨擦耐久性，雖無特別限定，惟可適合使用作為防污性塗佈劑。
依據本發明之又另一要旨，亦提供一種物品，其係包含基材、與於該基材之表面藉由上述含有全氟聚醚基之矽烷化合物或上述表面處理劑所形成之層(表面處理層)者。該物品之層係具有撥水性、撥油性、防污性，且具有高磨擦耐久性。
依本發明而得之物品並無特別限定，例如可為光學構件。光學構件對於提高磨擦耐久性之需求高，而可適合利用本發明。上述基材可為例如玻璃或透明塑膠。又，本發明中之「透明」只要是一般所謂之透明即可，例如意指霧度(haze)值為5%以下者。
依據本發明，可提供一種新穎的含有全氟聚醚基之矽烷化合物，該化合物之特徵係數量平均分子量為6×103至1×105，藉此可形成具有撥水性、撥油性、防污性，且具有高磨擦耐久性之層。此外，依據本發明，尚可提供一種使用本發明之含氟矽烷化合物而得之表面處理劑及適用該等之物品。
第1圖係表示本發明之實施例1至6及比較例1至3所製作之表面處理層的磨擦耐久性之圖表。
以下詳述本發明之含氟矽烷化合物、表面處理劑、及適用該等者而得之物品，惟本發明並不限定為該等者。
-數量平均分子量為6×103至1×105之含有全氟聚醚基之矽烷化合物
本發明之一態樣中，本發明之含氟矽烷化合物係下述通式(1a)及(1b)之任一者所示者，其數量平均分子量為6×103至1×105；
本發明之另一態樣中，本發明之含氟矽烷化合物係下述通式(2a)及(2b)之任一者所示者，其數量平均分子量為6×103至1×105；
該等式中，Rf1及Rf2表示可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至16(例如為直鏈狀或分枝狀)之烷基，較佳為可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至3的直鏈狀或分枝狀之烷基。較佳係上述之可經1個或1個以上的氟原子取代之烷基中，末端碳原子為CF2H-，其餘全部之碳原子為全部經氟取代之氟烷基、或全氟烷基，更佳為全氟烷基，具體而言為-CF3、 -CF2CF3、或-CF2CF2CF3。
上述式中之全氟聚醚基，係：-(OC4F8)s-(OC3F6)a-(OC2F4)b-(OCF2)c-所示之部分。a、b、c及s分別表示構成聚合物之主骨架的全氟聚醚的4種重複單元的數目，係互相獨立地為0以上200以下之整數，例如1以上200以下之整數，a、b、c及s之和至少為1，較佳為20至100，更佳為30至50，代表性者為約40。添附有文字a、b、c或s之括號中的各重複單元，於式中可為任意的存在順序。該等重複單元之中，-(OC4F8)-可為-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-及-(OCF(CF3)CF(CF3))-之任一者，惟較佳係-(OCF2CF2CF2CF2)-。-(OC3F6)-可為-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-及-(OCF2CF(CF3))-之任一者，較佳係-(OCF2CF2CF2)-。-(OC2F4)-可為-(OCF2CF2)-及-(OCF(CF3))-之任一者，惟較佳係-(OCF2CF2)-。
該具有全氟聚醚基之化合物，係可表現優異的撥水性、撥油性以及防污性(例如防止指紋等污物附著)。
上述式中，d及f為0或1。e及g為0以上2以下之整數。
上述式中，h及j為1或2。i及k為2以上20以下之整數。
X表示氫原子或鹵原子。鹵原子較佳為碘原子、氯原子、氟原子，又更佳為碘原子。
Y表示氫原子或低級烷基。低級烷基較佳為碳數1至20之烷 基。
Z表示氟原子或低級氟烷基。低級氟烷基係例如碳數1至3之氟烷基，較佳為碳數1至3之全氟烷基，更佳為三氟甲基、五氟乙基，又更佳為三氟甲基。
雖非用以限定本發明，惟Rf1及Rf2係以碳數1至3之全氟烷基，b=0、c=0、d=1、f=1，Z為氟原子者為宜。於該情形下，可得到適合的磨擦耐久性。又，以括弧括起並添附標註文字a之重複單元-(OC3F6)-，係以-(OCF2CF2CF2)-、a=40者更為宜。於該情形下，全氟聚醚基係具有直鏈狀構造，有可得到較具有分枝狀構造者更高之磨擦耐久性，而且有容易合成之優點。
T、R1及R2為鍵結於Si之基。n為1以上3以下之整數。
R1及R2表示碳數1至22之烷基、碳數1至22之烷氧基或羥基，較佳為碳數1至22之烷基或碳數1至22之烷氧基，更佳為碳數1至3之烷基或碳數1至3之烷氧基。羥基並無特別限定，只要是碳數1至22之烷氧基水解而生成者即可。
T表示羥基或可水解之基，作為可水解之基之例，可列舉：-OA、-OCOA、-O-N=C(A)2、-N(A)2、-NHA、鹵素(該等式中，A表示取代或非取代之碳數1至3之烷基)等。
m及l為1以上10以下之整數。m及l較佳為2以上6以下之整數。
上述通式(1a)及(1b)以及通式(2a)及(2b)所示之本發明之含氟矽烷化合物，數量平均分子量若過低，則無法得到高磨擦耐久性，若過高則處理基材之方法會受限，因此係具有6×103 至1×105之數量平均分子量(以下亦單稱為「平均分子量」)，較佳為6×103至3×104，更佳為7×103至3×104，又更佳為7×103至1×104，具體而言，係具有約8000之數量平均分子量。藉由具有該數量平均分子量，本發明之含氟矽烷化合物可得到高磨擦耐久性，而且較容易處理基材。
上述通式(1a)、(1b)、(2a)及(2b)所示之本發明之含氟矽烷化合物亦可為1種或2種以上之混合物。混合物中，係可存在1至99重量%之各化合物，但不限於此。
上述本發明之含氟矽烷化合物係可藉由任意之適合的方法進行製造。例如可藉由下述方法進行製造，但不限定於此。
關於上述通式(1a)及(1b)之任一者所示之本發明的含氟矽烷化合物，首先，準備作為原料之以下通式(1a-ii)及(1b-ii)之任一者： (式中，X’表示鹵原子，較佳為碘，其他記號如上所述)所示之至少1種化合物。該化合物係例如將以下通式(1a-i)及(1b-i)之任一者： (式中，各記號如上所述)所示之至少1種化合物予以進行鹵化(例如碘化)反應而可得到，但不限於此。
使該通式(1a-ii)及(1b-ii)之任一者所示之至少1種化合物與CH2=CY-(CH2)e-SiX”nR1 3-n及T-H或是CH2=CY-(CH2)e-SiTnR1 3-n(式中，X”為鹵原子，其他記號如上所述。)進行反應，藉此得到至少1種上述通式(1a)及(1b)之任一者所示之化合物。
關於上述通式(2a)及(2b)之任一者所示之本發明之含氟矽烷化合物，首先，於過渡金屬、較佳為於鉑或銠之存在下，使用HSiX1 nR2 3-n(式中，X1為鹵原子、較佳為氯，其他記號如上所述)，使作為原料之以下通式(2a-i)及(2b-i)之任一者： 所示之至少1種化合物進行矽氫化反應，而得到至少1種以下通式(2a-ii)及(2b-ii)之任一者： 所示之化合物。
以TH(式中，T係如上所述。惟羥基除外)使該通式(2a-ii)及(2b-ii)之任一者所示之至少1種化合物進行脫鹵化，藉此得到至少1種上述通式(2a)及(2b)之任一者所示之化合物。
以上係說明本發明之含氟矽烷化合物，惟本發明之含氟矽烷化合物並不限於以該等例製造者。
本發明之化合物係有用於下述之表面處理劑，惟並不限於此，可例如使用作為潤滑劑、增溶劑。
．表面處理劑
本發明之表面處理劑只要是包含上述之本發明的含氟矽烷化合物者即可。亦即，包含上述通式(1a)所示之本發明的含氟矽烷化合物及上述通式(1b)所示之本發明的含氟矽烷化合物之至少一者，亦可包含該等雙方。將該等組合使用時，通式(1a)所示之化合物與通式(1b)所示之化合物係例如可以10：1至1：1之質量比存在，但並不限於此。
又，本發明之表面處理劑係包含上述通式(2a)所示之本發明之含氟矽烷化合物及上述通式(2b)所示之本發明之含氟矽烷化合物中之至少一者，亦可包含該等雙方。將該等組合使用時，通式(2a)所示之化合物與通式(2b)所示之化合物係例如可以10：1 至1：1之質量比存在，但並不限於此。
此外，本發明之表面處理劑亦可包含1種上述通式(1a)、(1b)、(2a)及(2b)所示之本發明之含氟矽烷化合物，或包含其之2種以上的混合物。含有混合物時，相對於本發明之含氟矽烷化合物總量，可存在各化合物1至99重量%，較佳為10至90重量%，但不限於此。
表面處理劑只要包含本發明之含氟矽烷化合物作為主成分或有效成分即可。其中，「主成分」係指表面處理劑中之含量為超過50重量%之成分，「有效成分」係意指殘留於需表面處理之基材上而形成表面處理層，使其表現某種功能(撥水性、撥油性、防污性、表面光滑性、磨擦耐久性等)之成分。
本發明之表面處理劑係包含本發明之含氟矽烷化合物，其可形成具有撥水性、撥油性、防污性、且具有高磨擦耐久性及表面光滑性之表面處理層，故適合利用作為防污性塗佈劑。
本發明之表面處理劑(或表面處理組成物)之組成只要視表面處理層所期望之功能而適宜選擇即可。
本發明之表面處理劑除了包含本發明之含氟矽烷化合物以外，亦可包含數量平均分子量為1×103至5×103之上述式(1a)、(1b)、(2a)及/或(2b)所示之含有全氟聚醚基之矽烷化合物。藉由組合使用高分子量之含氟矽烷化合物與低分子量之含氟矽烷化合物，可得到較單獨使用高分子量含氟矽烷化合物者更為優異之磨擦耐久性。將該等組合使用時，本發明之含氟矽烷化合物與數量平均分子量為1×103至5×103之含氟矽烷化合物可以質量比為10：1至1：10、較佳為5：1至1：5、更佳為1：1至1：2之方 式存在，但不限於此。就數量平均分子量為1×103至5×103之含氟矽烷化合物而言，較佳為具有2×103至5×103、更較佳為具有約4000之數量平均分子量。
又，本發明之表面處理劑除了包含本發明之含氟矽烷化合物以外，亦可包含可視為含氟油之氟聚醚化合物，較佳為包含全氟聚醚化合物(以下，為了與本發明之含氟矽烷化合物有所區別，係稱為「含氟油」)。含氟油係不具能與基材反應之部位(例如矽基)。含氟油係用於提高表面處理層之表面光滑性。
表面處理劑中，相對於含有全氟聚醚基之矽烷化合物100質量份(為2種以上時，係該等之合計，以下亦同)，係可例如包含0至300質量份、較佳為包含50至200質量份之含氟油。
作為該含氟油，可列舉以下之通式(3)所示之化合物(全氟聚醚化合物)：R21-(OC4F8)s’-(OC3F6)a’-(OC2F4)b’-(OCF2)c’-R22…(3)。式中，R21表示可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至16之烷基，較佳為可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至3之烷基。較佳之情形為上述可經1個或1個以上的氟原子取代之烷基係：末端碳原子為CF2H-，其餘全部之碳原子為全部經氟取代之氟烷基或全氟烷基者；更佳為全氟烷基。
R22表示氫原子、氟原子、或可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至16之烷基，較佳為可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至3之烷基。較佳之情形為上述可經1個或1個以上的氟原子取代之烷基係：末端碳原子為CF2H-，而其餘之全部碳原子為全部經氟取代之氟烷基、或全氟烷基者；更佳為全氟烷基。
a’、b’、c’及s’分別表示構成聚合物之主骨架的全氟聚醚的4種重複單元之數目，其互為獨立地為0以上300以下之整數，例如：為1以上300以下之整數，而a’、b’、c’及s’之和至少為1；較佳為1至100。附有a’、b’、c’或s’並以括號括起之括號中之各重複單元，於式中可為任意的存在順序。該等重複單元之中，-(OC4F8)-可為-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-及-(OCF2CF(C2F5))-之任一者，較佳為-(OCF2CF2CF2CF2)-。-(OC3F6)-可為-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-及-(OCF2CF(CF3))-之任一者，較佳為-(OCF2CF2CF2)-。-(OC2F4)-可為-(OCF2CF2)-及-(OCF(CF3))-之任一者，較佳為-(OCF2CF2)-。
作為上述通式(3)所示之全氟聚醚化合物之例，可列舉以下通式(3a)及(3b)之任一者所示之化合物(可為1種或2種以上之混合物)。
R21-(OCF2CF2CF2)a”-R22…(3a)
R21-(OCF2CF2CF2CF2)s”-(OCF2CF2CF2)a”-(OCF2CF2)b”-(OCF2)c”-R22…(3b)
該等式中，R21及R22如上所述；式(3a)中，a”為1以上100以下之整數；式(3b)中，b”及c”分別獨立地為1以上300以下之整數，a”及s”分別獨立地為1以上30以下之整數。以括弧括起並添附標註文字a”、b”、c”及s”之各重複單元於式中可為任意的存在順序。
通式(3a)所示之化合物及通式(3b)所示之化合物係可分別單獨使用，亦可組合使用。將該等組合使用時，所使用之 通式(3a)所示之化合物與通式(3b)所示之化合物的質量比以1：1至1：30為宜。只要為該質量比，即可得到表面光滑性與磨擦耐久性之平衡優異的表面處理劑。
又，由另一觀點來看，含氟油可為通式Rf1-F(式中之Rf1如上所述)所示之化合物。Rf1-F所示之化合物就可得到與上述通式(1a)、(1b)、(2a)及(2b)之任一者所示之化合物的高親和性之點而言，係為佳。
含氟油可具有1000至30000、更佳為3000至30000之平均分子量。藉此，可得到高表面光滑性。
又，本發明之表面處理劑除了本發明之含氟矽烷化合物之外，亦可包含可視為聚矽氧油(silicone oil)之聚矽氧化合物(以下亦稱為「聚矽氧油」)。聚矽氧油係用於提高表面處理層之表面光滑性。
表面處理劑中，相對於含有全氟聚醚基之矽烷化合物100質量份，聚矽氧油係例如可包含0至300質量份，較佳為50至200質量份。
作為該聚矽氧油，可使用例如矽氧烷鍵為2000以下的直鏈狀或環狀之聚矽氧油。直鏈狀的聚矽氧油可為所謂的直接聚矽氧油(straight siliconeoil)及改質聚矽氧油。直接聚矽氧油可列舉：二甲基聚矽氧油、甲基苯基聚矽氧油、甲基氫聚矽氧油。改質聚矽氧油可列舉將直接聚矽氧油以烷基、芳烷基、聚醚、高級脂肪酸酯、氟烷基、胺基、環氧基、羧基、醇等改質者。環狀的聚矽氧油，可列舉例如環狀二甲基矽氧烷油等。
．物品
其次，說明使用該表面處理劑而得之物品。本發明之物品係包含：基材、於該基材表面之藉由本發明之含氟矽烷化合物或表面處理劑(以下，代表該等而單稱為「表面處理劑」)所形成之層(表面處理層)。該物品可例如以下述方式進行製造。
首先，準備基材。本發明可使用之基材，係例如可以是由：玻璃、樹脂(天然或合成樹脂，例如可為一般的塑膠材料，且可為板狀、膜、其他的形態)、金屬(可為鋁、銅、鐵等金屬單體或合金等複合體)、陶瓷、半導體(矽(Silicon)、鍺等)、纖維(織物、不織布等)、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等任意之適合的材料所構成。
例如，需製造之物品為光學構件時，構成基材表面的材料係光學構件用材料，例如可為玻璃或透明塑膠等。又，需製造之物品為光學構件時，可在基材表面(最外層)形成某種層(或膜)，例如形成硬塗層或抗反射層等。抗反射層亦可使用單層抗反射層及多層抗反射層之任一者。抗反射層可使用的無機物之例，可列舉：SiO2、SiO、ZrO2、TiO2、TiO、Ti2O3、Ti2O5、Al2O3、Ta2O5、CeO2、MgO、Y2O3、SnO2、MgF2、WO3等。該等無機物係可單獨使用、或將該等的2種以上組合(例如混合物)使用。為多層抗反射層時，其最外層以使用SiO2及/或SiO為宜。需製造之物品為觸控面板用之光學玻璃零件時，透明電極亦可於基材(玻璃)的表面之一部分具有例如採用銦錫氧化物(ITO)或銦鋅氧化物等之薄膜。又，基材亦可依其具體的態樣等而具有絕緣層、黏著層、保護層、飾框層(I-CON)、霧化膜層、硬塗佈膜層、偏光膜、相位差膜、及液晶顯示模組等。
基材的形狀並無特別限定。又，需形成表面處理層之基材的表面領域只要基材表面的至少一部分即可，可視需製造之物品的用途及具體的態樣等而適宜決定。
該基材可為至少其表面部分為由本身具有羥基之材料所構成者。該材料可列舉如玻璃，又可列舉於表面形成自然氧化膜或熱氧化膜之金屬(特別是卑金屬)、陶瓷、半導體等。或者，當樹脂等雖具有羥基但並不足夠、或本身不具有羥基時，可藉由對基材施予某種前處理，而於基材表面導入、增加羥基。該前處理之例可列舉：電漿處理(例如電暈放電)、照射離子射線(ion beam)。以可使基材表面導入或增加羥基，同時使基材表面潔淨化(除去異物等)方面而言，係可適合利用電漿處理。又，該前處理之另一例，可列舉：將具有碳碳不飽和鍵結基之界面吸附劑藉由LB法(朗謬-布洛傑(Langmuir-Blodgett)法)或化學吸附法等，以單分子膜之形態預先形成於基材表面，之後，在包含氧或氮等之氣體環境下使不飽和鍵結斷開之方法。
又或者，做為該基材，可為至少其表面部分為由包含：具有1個以上例如Si-H基之別的反應性基之聚矽氧化合物、或烷氧矽烷之材料所製成者。
其次，於該基材之表面形成上述表面處理劑之膜，並視所需對該膜進行後處理，藉此，由表面處理劑形成表面處理層。
表面處理劑的膜之形成，可藉由適用對基材表面以上述表面處理劑被覆該表面之方式進行實施。被覆方法並無特別限定。可使用例如濕潤被覆法及乾燥被覆法。
濕潤被覆法之例可列舉：浸漬塗佈、旋塗、淋塗(flow coating)、噴塗、輥塗、凹版塗佈及類似之方法。
乾燥被覆法之例，可列舉：真空蒸鍍、濺鍍、CVD及類似的方法。真空蒸鍍法之具體例可列舉：電阻加熱、電子射線、高周波加熱、離子射線及類似的方法。CVD方法之具體例可列舉：電漿CVD、光學CVD、熱CVD及類似的方法。
此外，亦可以常壓電漿法進行被覆。
使用濕潤被覆法時，表面處理劑係可以溶劑進行稀釋後適用於基材表面。由表面處理劑之安定性及溶劑的揮發性之觀點來看，較佳係使用下述的溶劑：碳數5至12之全氟脂肪族烴(例如：全氟己烷、全氟甲基環己烷及全氟-1,3-二甲基環己烷)；聚氟芳香族烴(例如：雙(三氟甲基)苯)；聚氟脂肪族烴；氫氟醚(HFE)(例如：全氟丙基甲基醚(C3F7OCH3)、全氟丁基甲基醚(C4F9OCH3)、全氟丁基乙基醚(C4F9OC2H5)、全氟己基甲基醚(C2F5CF(OCH3)C3F7)等烷基全氟烷基醚(全氟烷基及烷基可為直鏈或分枝狀))等。該等溶劑可單獨使用，或使用2種以上之混合物。其中，較佳為氫氟醚，特佳為全氟丁基甲基醚(C4F9OCH3)及/或全氟丁基乙基醚(C4F9OC2H5)。
就膜形成而言，係以膜中之表面處理劑與用以水解及脫水縮合之觸媒一同存在而實施為宜。簡單來說，當藉由濕潤被覆法進行時，可在以溶劑稀釋表面處理劑後，在用至基材表面前之當下，於表面處理劑之稀釋液中添加觸媒。當藉由乾燥被覆法進行時，可將添加有觸媒之表面處理劑直接進行真空蒸鍍處理，或是亦可使用對鐵或銅等金屬多孔體含浸添加有觸媒之表面 處理劑之錠(pellet)狀物質，而進行真空蒸鍍處理。
觸媒可使用任意之適合的酸或鹼。可使用例如乙酸、甲酸、三氟乙酸等作為酸觸媒。而且，可使用例如氨、有機胺類等作為鹼觸媒。
其次，視所需而將膜進行後處理。該後處理並無特別限定，例如可依序實施水分供給及乾燥加熱，更係而言，係以下述方式實施。
以上述之方式，將表面處理劑於基材表面形成膜之後，對該膜(以下亦稱為前驅物膜」)供給水分。水分之供給方法並無特別限定，可使用例如：藉由前驅物膜(及基材)與周圍環境之溫度差而凝結，或吹附水蒸氣(蒸汽(steam))等方法。
若對前驅物膜供給水分，則認為水會對表面處理劑中之含有全氟聚醚基之矽烷化合物之鍵結於Si之取代胺基(以及存在時之含有全氟聚醚基之矽烷化合物之鍵結於Si之可水解之基)作用，而該化合物可快速地水解。
水分之供給係可例如於0至500℃、較佳為100℃以上且300℃以下之氣體環境下實施。藉由於該種溫度範圍供給水分，可使水解進行。該情形下之壓力並無特別限定，就簡便而言可為常壓。
其次，將該前驅物膜於該基材之表面在超過60℃之乾燥氣體環境下進行加熱。乾燥加熱方法並無特別限定，前驅物膜與基材之溫度同為超過60℃、較佳為超過100℃。可配置為例如：以於500℃以下，較佳為於300℃以下之溫度，且為不飽和水蒸氣壓之氣體環境下。該情形下之壓力並無特別限定，就簡便而 言，可為常壓。
在該種氣體環境下，於本發明之含氟矽烷化合物(以及存在時之平均分子量為1×103至5×103之含有全氟聚醚基之矽烷化合物)間，水解後之鍵結於Si之基彼此會快速地脫水縮合。又，在該化合物與基材之間，該化合物水解後之鍵結於Si之基與存在於基材表面之反應性基之間會快速地反應，而存在於基材表面之反應性基為羥基時，係進行脫水縮合。(又，在以該方式鍵結的化合物間存在有含氟油及/或聚矽氧油時，含氟油及/或聚矽氧油係混合存在。)該結果係於本發明之含氟矽烷化合物(以及存在時之平均分子量為1×103至5×103之含有全氟聚醚基之矽烷化合物)間形成鍵結，而且，該化合物與基材之間係形成鍵結(以及存在含氟油及/或聚矽氧油時，含氟油及/或聚矽氧油係因對本發明之含氟矽烷化合物(以及存在時之平均分子量為1×103至5×103之含有全氟聚醚基之矽烷化合物)之親和性而保持或被捕捉)。
上述之水分供給及乾燥加熱，亦可藉由使用過熱水蒸氣而連續實施。
過熱水蒸氣係將飽和水蒸氣加熱至較沸點高的溫度而得之氣體，在常壓下係超過100℃，一般而言為500℃以下，例如：以300℃以下之溫度加熱，且加熱至超過沸點之溫度，而成為不飽和水蒸氣壓之氣體。若將形成有前驅物膜之基材曝露於過熱水蒸氣，則首先，會因為過熱水蒸氣與相對較低溫之前驅物膜之間的溫度差，而於前驅物膜表面發生凝結，藉此將水分供給至前驅物膜。不久後，隨著過熱水蒸氣與前驅物膜之間的溫度差變小，則前驅物膜表面之水分會因過熱水蒸氣而於乾燥氣體環境中 氣化，前驅物膜表面之水分量會逐漸降低。前驅物膜表面之水分量降低時，亦即，前驅物膜於乾燥氣體環境下時，基材表面之前驅物膜會因為與過熱水蒸氣接觸，而被該過熱水蒸氣的溫度(常壓下為超過100℃之溫度)加熱。因此，若使用過熱水蒸氣，則只要將形成有前驅物膜之基材曝露於過熱水蒸氣，便可連續實施供給水分與乾燥加熱。
後處理係可以上述方式實施。該後處理係用以進一步提高磨擦耐久性而實施，惟需留意其非製造本發明之物品所必須者。例如，於基材表面適用表面處理劑後，亦可僅直接予以靜置。
以上述之方式，於基材之表面形成源自表面處理劑之膜的表面處理層，製造本發明之物品。藉此而得之表面處理層，係能夠具有撥水性、撥油性、防污性(例如防止指紋等污物附著)、表面光滑性(或是潤滑性，例如指紋等污物之拭除性、對於手指之優異觸感)、磨擦耐久性等，而可適合利用作為功能性薄膜。
藉此而得之具有表面處理層之物品係無特別限定，可為光學構件。光學構件之例可列舉下述者：眼鏡等之鏡片；PDP、LCD等顯示器之前面保護板；抗反射板、偏光板、防眩光(anti-glare)板；行動電話、攜帶式情報終端等機器的觸控面板薄片(sheet)；藍光(Blu-ray(註冊商標))碟片、DVD碟片、CD-R、MO等光碟片的碟面；光纖等。
表面處理層的厚度並無特別限定。為光學構件時，就光學性能、表面光滑性、磨擦耐久性及防污性之點而言，以表面處理層之厚度為1至30nm，較佳為於1至15nm之範圍為宜。
以上係詳述使用本發明之表面處理劑而得之物品。又，本發明之表面處理劑之用途、使用方法乃至物品之製造方法等，並不限定於上述例示者。
(實施例)
以下係通過實施例來具體說明本發明之含氟矽烷化合物、表面處理劑及使用該等而得之物品，惟本發明並不限定於該等實施例。又，本實施例中，構成全氟聚醚之4種重複單元(CF2O)、(CF2CF2O)、(CF2CF2CF2O)及(CF2CF2CF2CF2O)為任意的存在順序。
．合成例1
在裝設有回流冷卻器、溫度計及攪拌機之200mL的4口燒瓶中，裝入平均組成CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)43CF2CF2-I所示之全氟聚醚改質碘體45g、六氟化間二甲苯(m-xylene hexafluoride)45g、乙烯三氯矽烷3.85g，在氮氣流下，於室溫攪拌30分鐘。接著，加入二-第三丁基過氧化物0.68g，使其昇溫至120℃為止，並於該溫度攪拌12小時。之後，在減壓下餾除揮發成分，藉此得到於末端具有碘之下述含有全氟聚醚基之矽烷化合物46g。
(式中，n為43，m為1至6之整數)。
．合成例2
在裝設有回流冷卻器、溫度計及攪拌機之200mL之4口燒瓶中，裝入合成例1所合成的於末端具有碘之含有全氟聚醚基之矽烷化合物46g、全氟己烷45g、鋅粉末1.8g，並在氮氣流下以5℃ 攪拌30分鐘。其次，於5℃至10℃滴下甲醇20g後，使之昇溫，並於45℃攪拌7小時。之後，加入全氟己烷25g並靜置進行分液，分離取出下層後，於減壓下餾除揮發成分，藉此得到下述含有全氟聚醚基之矽烷化合物(A)40g。
(式中，n為43，m為1至6之整數)。
(實施例1)
．表面處理劑之調製
混合下述式(A)所示之化合物(分子量約8000)20重量份與氫氟醚(3M公司製之Novec HFE7200(全氟丁基乙基醚))80重量份，調製表面處理劑A。
(式中，n為43，m為1至6之整數)。
．基材
使用化學強化玻璃(康寧公司製之「Gorilla」玻璃，厚度0.55mm、平面尺寸55mm×100mm)作為基材。對基材不進行前處理。
．表面處理層之形成
使用表面處理劑A，於每一片上述化學強化玻璃、真空蒸鍍(處理條件為壓力：3.0×10-3Pa)2mg表面處理劑，並於20℃、濕度65%之氣體環境下靜置24小時，形成硬化皮膜。藉此，於基材表 面形成表面處理層。
(實施例2)
除了使用混合下述式(B)所示之化合物(分子量約8000)20重量份與氫氟醚(3M公司製之Novec HFE7200)80重量份而調製之表面處理劑B以外，與實施例1進行相同操作，於基材表面形成表面處理層。
(CH3O)3-Si-CH2CH2CH2-O-CH2-CF2-* *-O-(CF2-CF2-O-)p-(CF2-O-)q-CF2-CH2-O-CH2CH2CH2-Si-(OCH3)3...(B)(式中，p為40，q為40)。
(實施例3)
除了使用混合下述式(C)所示之化合物(分子量約8000)20重量份與氫氟醚(3M公司製之Novec HFE7200)80重量份而調製之表面處理劑C以外，與實施例1進行相同操作，於基材表面形成表面處理層。
CF3-CF2-CF2-O-(CF2-CF2-CF2-O-)n-CF2-CF2-CH2-O-CH2CH2CH2-Si-(OCH3)3...(C)(式中，n為45)。
(實施例4)
除了使用混合實施例1所述之式(A)所示之化合物(分子量約8000)6.6重量份、以與式(A)相同之方式表現，但n為20之化合物(分子量約4000)13.4重量份、與氫氟醚(3M公司製之Novec HFE7200)80重量份而調製之表面處理劑D以外，與實施例1進行相同操作，於基材表面形成表面處理層。
(實施例5)
除了將化合物(A)及下述平均分子量為約25,000之全氟聚醚化合物(E)(Solvay公司製之FOMBLIN(型號)M60)用質量比2：1之比例，並以成為濃度20wt%(化合物(A)及化合物(E)之總計)之方式溶解於氫氟醚(3M公司製之Novec HFE7200)中，而調製表面處理劑以外，係與實施例1進行相同操作，形成表面處理層。
．全氟聚醚化合物(E)
CF3O(CF2CF2O)139(CF2O)122(CF2CF2CF2O)4(CF2CF2CF2CF2O)4CF3…(E)
(實施例6)
除了將化合物(A)及上述平均分子量為約25,000之全氟聚醚化合物(E)用質量比1：1之比例，並以成為濃度20wt%(化合物(A)及化合物(E)之總計)之方式溶解於氫氟醚(3M公司製之Novec HFE7200)，而調製表面處理劑以外，係實施例1與進行相同操作，形成表面處理層。
(比較例1)
除了使用以與上述式(A)相同之方式表現，但分子量為約4000之化合物(式中，n為20，m為1至6之整數)，以取代實施例1所使用之分子量約8000之化合物以外，係與實施例1進行相同操作，於基材表面形成表面處理層。
(比較例2)
除了使用以與上述式(B)相同之方式表現，但分子量為約4000之化合物(式中，p為20，q為20)，以取代實施例2所使用之分子量約8000之化合物以外，與實施例2進行相同操作，於基材表面形成表面處理層。
(比較例3)
除了使用以與上述式(C)相同之方式表現，但分子量為約4000之化合物(式中，n為22)，以取代實施例3所使用之分子量約8000之化合物以外，與實施例3進行相同操作，於基材表面形成表面處理層。
(評估)
對於藉由以上實施例及比較例而形成於基材表面之表面處理層進行測定水的靜態接觸角。水的靜態接觸角，係使用接觸角測定裝置(協和界面科學公司製)而以1μL水實施測定。
首先，初期評估係在形成表面處理層後，於膜表面未進行任何接觸之狀態下，測定水的靜態接觸角(磨擦次數零回)。
之後，作為磨擦耐久性評估，係實施鋼絲絨(steel wool)磨擦耐久性評估。具體而言，係將形成有表面處理層之基材水平配置，使鋼絲絨(編號# 0000，尺寸5mm×10mm×10mm)接觸含氟矽烷系膜露出之上面，於其上施加1000gf之負重，之後，將經施加負重的狀態之鋼絲絨以140mm/秒的速度來回移動。於來回移動次數每1000次時測定水的靜態接觸角(度)(惟，在接觸角之測定值未達100度時停止評估。
結果係示於表1及第1圖(表中，記號「-」為未測定)。
由表1及第1圖可知，使用分子量約8000之含氟矽烷化合物之實施例1至3與使用分子量約4000之含氟矽烷化合物之比較例1至3相比，可確認磨擦耐久性係顯著提高。又，由實施例4可確認到混合有分子量約8000之含氟矽烷化合物與分子量約4000之含氟矽烷化合物之實施例4的磨擦耐久性係顯著提高。此外，由實施例5至6之結果，可知混合有分子量約8,000之含氟矽烷化合物與分子量25,000之含氟油之實施例5至6，可確認到其磨擦耐久性係顯著提高。
(產業上之可利用性)
本發明可適合利用於各式各樣的基材，尤其適合在要求穿透性之光學構件之表面形成表面處理層。
本案圖式為表示實施例之摩擦力結果之圖表，不足以代表本案技術特徵，故本案無指定代表圖。

Claims (17)

  1. 一種含有全氟聚醚基之矽烷化合物，其係以下述通式(1a)及(1b)之任一者所示之數量平均分子量為6×103至1×104者； 該等式中，Rf1表示可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至16之烷基，a、b、c及s分別獨立地為0以上200以下之整數，a、b、c及s之和至少為1，附有a、b、c或s之括號中的各重複單元於式中可為任意的存在順序，d及f為0或1，e及g為0以上2以下之整數，m及l為1以上10以下之整數，X表示氫原子或鹵原子，Y表示氫原子或低級烷基，Z表示氟原子或低級氟烷基，T表示羥基或可水解之基，R1表示氫原子或碳數1至22之烷基，n為1以上3以下之整數。
  2. 一種含有全氟聚醚基之矽烷化合物，其係以下述通式(2a)及 (2b)之任一者所示之數量平均分子量為6×103至1×105者； 該等式中，Rf2表示可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至16之烷基，a、b、c及s分別獨立地為0以上200以下之整數，a、b、c及s之和至少為1，附有a、b、c或s之括號中的各重複單元於式中可為任意的存在順序；d及f為0或1，h及j為1或2，i及k為2以上20以下之整數，Z表示氟原子或低級氟烷基，T表示羥基或可水解之基，R2表示氫原子或碳數1至22之烷基，n為1以上3以下之整數。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之含有全氟聚醚基之矽烷化合物，其數量平均分子量為6×103至3×104。
  4. 如申請專利範圍第2項所述之含有全氟聚醚基之矽烷化合物，其數量平均分子量為6×103至1×104。
  5. 一種混合物，其係2種以上之申請專利範圍第1項至第4項中 任一項所述之含有全氟聚醚基之矽烷化合物的混合物。
  6. 一種表面處理劑，其係包含申請專利範圍第1至4項中任一項所述之含全氟聚醚基之矽烷化合物。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之表面處理劑，其復包含以下述通式(1a)、(1b)、(2a)及(2b)之任一者所示之數量平均分子量為1×103至5×103的含有全氟聚醚基之矽烷化合物； Rf1及Rf2表示可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至16之烷基，a、b、c及s分別獨立地為0以上200以下之整數，a、b、c及s之和至少為1，附有a、b、c或s之括號中的各重複單元於式中可為任意的存在順序，d及f為0或1，e及g為0以上2以下之整數， h及j為1或2，i及k為2以上20以下之整數，m及l為1以上10以下之整數，X表示氫原子或鹵原子，Y表示氫原子或低級烷基，Z表示氟原子或低級氟烷基，T表示羥基或可水解之基，R1及R2表示氫原子或碳數1至22之烷基，n為1以上3以下之整數。
  8. 如申請專利範圍第6或7項所述之表面處理劑，其復含有含氟油。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之表面處理劑，其中，含氟油為以下述通式(3)所示之化合物；R21-(OC4F8)s’-(OC3F6)a’-(OC2F4)b’-(OCF2)c’-R22…(3)式中，R21表示可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至16之烷基；R22表示氫原子、氟原子、或可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至16之烷基；a’、b’、c’及s’分別獨立地為0以上300以下之整數，a’、b’、c’及s’之和至少為1，附有a’、b’、c’或s’之括號中的各重複單元於式中可為任意的存在順序。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之表面處理劑，其中，含氟油為以下述通式(3b)所示之化合物；R21-(OCF2CF2CF2CF2)s”-(OCF2CF2CF2)a”-(OCF2CF2)b”-(OCF2)c”-R22 …(3b)式中，R21表示可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至16之烷基；R22表示氫原子、氟原子、或可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至16之烷基；b”及c”分別獨立地為1以上300以下之整數，a”及s”分別獨立地為1以上30以下之整數，附有a”、b”、c”或s’’之括號中的各重複單元於式中可為任意的存在順序。
  11. 如申請專利範圍第6或7項所述之表面處理劑，係作為防污性塗佈劑使用者。
  12. 如申請專利範圍第8項所述之表面處理劑，係作為防污性塗佈劑使用者。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之表面處理劑，其中，含氟油為以下述通式(3)所示之化合物；R21-(OC4F8)s’-(OC3F6)a’-(OC2F4)b’-(OCF2)c’-R22…(3)式中，R21表示可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至16之烷基；R22表示氫原子、氟原子、或可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至16之烷基；a’、b’、c’及s’分別獨立地為0以上300以下之整數，而a’、b’、c’及s’之和至少為1，附有a’、b’、c’或s’並以括號括起之括號中之各重複單元於式中可為任意的存在順序。
  14. 如申請專利範圍第12項所述之表面處理劑，其中，含氟油為 以下述通式(3b)所示之化合物；R21-(OCF2CF2CF2CF2)s”-(OCF2CF2CF2)a”-(OCF2CF2)b”-(OCF2)c”-R22…(3b)式中，R21表示可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至16之烷基；R22表示氫原子、氟原子、或可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至16之烷基；b”及c”分別獨立地為1以上300以下之整數，a”及s”分別獨立地為1以上30以下之整數，以括弧括起並添附標註文字a”、b”、c”及s”之各重複單元於式中可為任意的存在順序。
  15. 一種物品，其係包含：基材、與藉由申請專利範圍第1至4項中任一項所述之含有全氟聚醚基之矽烷化合物或申請專利範圍第6至14項中任一項所述之表面處理劑而形成於該基材之表面之層。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之物品，其中，前述物品為光學構件。
  17. 如申請專利範圍第15或16項所述之物品，其中，前述基材為玻璃或透明塑膠。
TW102120867A 2012-06-13 2013-06-13 含有全氟聚醚基之矽烷化合物及表面處理劑 TWI523890B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012133683 2012-06-13

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201414769A TW201414769A (zh) 2014-04-16
TWI523890B true TWI523890B (zh) 2016-03-01

Family

ID=49758252

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW102120867A TWI523890B (zh) 2012-06-13 2013-06-13 含有全氟聚醚基之矽烷化合物及表面處理劑

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20150118502A1 (zh)
JP (2) JP5482940B2 (zh)
KR (1) KR101671089B1 (zh)
TW (1) TWI523890B (zh)
WO (1) WO2013187432A1 (zh)

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6127987B2 (ja) * 2012-02-17 2017-05-17 旭硝子株式会社 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、ならびに表面処理層を有する基材およびその製造方法
TW201546115A (zh) 2013-12-26 2015-12-16 Daikin Ind Ltd 含有含全氟（聚）醚基之矽烷化合物的表面處理劑
TWI689533B (zh) * 2014-03-28 2020-04-01 美商道康寧公司 包含與多氟聚醚矽烷反應的固化聚有機矽氧烷中間物之共聚物組成物及其相關形成方法
CN106232675B (zh) * 2014-04-30 2019-05-14 大金工业株式会社 含全氟(聚)醚基的硅烷化合物
KR102553617B1 (ko) 2014-10-31 2023-07-07 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 투명 피막
CN107109124B (zh) 2014-10-31 2021-07-09 住友化学株式会社 透明被膜
KR102500899B1 (ko) 2014-10-31 2023-02-16 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 발수 발유 코팅 조성물
US10400137B2 (en) 2014-11-12 2019-09-03 Sumitomo Chemical Company, Limited Water-repellant and oil-repellant coating composition and transparent film
KR102478715B1 (ko) 2014-11-12 2022-12-16 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 투명 피막
WO2016084746A1 (ja) 2014-11-28 2016-06-02 ダイキン工業株式会社 フルオロオキシメチレン基含有パーフルオロポリエーテル変性体
JP6435871B2 (ja) * 2015-01-19 2018-12-12 ダイキン工業株式会社 パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤
KR101972244B1 (ko) * 2015-01-29 2019-04-24 다이킨 고교 가부시키가이샤 표면 처리제
JP6365328B2 (ja) 2015-01-30 2018-08-01 信越化学工業株式会社 含フッ素コーティング剤及び該コーティング剤で処理された物品
EP3085749B1 (en) * 2015-04-20 2017-06-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Fluoropolyether-containing polymer-modified silane, surface treating agent, and treated article
JP6107891B2 (ja) * 2015-06-25 2017-04-05 ダイキン工業株式会社 パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤
KR101992582B1 (ko) * 2015-07-31 2019-06-24 다이킨 고교 가부시키가이샤 퍼플루오로(폴리)에테르기 함유 실란 화합물
JP6808913B2 (ja) * 2015-08-04 2021-01-06 Dic株式会社 コーティング組成物及び物品
WO2017038305A1 (ja) * 2015-08-31 2017-03-09 ダイキン工業株式会社 パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物
JP6710049B2 (ja) * 2016-01-12 2020-06-17 住友化学株式会社 含フッ素皮膜及び撥水撥油コーティング組成物
JP6172410B2 (ja) * 2016-01-26 2017-08-02 ダイキン工業株式会社 表面処理剤
JP6914711B2 (ja) * 2016-04-28 2021-08-04 住友化学株式会社 組成物
JP6887297B2 (ja) * 2016-04-28 2021-06-16 住友化学株式会社 噴霧塗布用組成物
EP3458494A1 (en) * 2016-05-16 2019-03-27 Solvay Specialty Polymers Italy S.p.A. (per)fluoropolyether derivatives
KR101945712B1 (ko) 2016-07-27 2019-02-08 제이에스아이실리콘주식회사 지문 방지용 플로오로실리콘 화합물 및 이의 제조 방법
JP6658449B2 (ja) * 2016-10-25 2020-03-04 信越化学工業株式会社 含フッ素アクリル化合物及びその製造方法並びに硬化性組成物及び物品
WO2018079743A1 (ja) * 2016-10-27 2018-05-03 ダイキン工業株式会社 パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物
JP6882998B2 (ja) * 2017-02-22 2021-06-02 住友化学株式会社 積層体
CN107082879B (zh) * 2017-05-04 2020-08-28 龙岩思康新材料有限公司 一种抗指纹剂及其制备方法
JP7056462B2 (ja) * 2017-08-31 2022-04-19 Ａｇｃ株式会社 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法
US11709156B2 (en) 2017-09-18 2023-07-25 Waters Technologies Corporation Use of vapor deposition coated flow paths for improved analytical analysis
US11709155B2 (en) 2017-09-18 2023-07-25 Waters Technologies Corporation Use of vapor deposition coated flow paths for improved chromatography of metal interacting analytes
JP6838614B2 (ja) * 2018-02-02 2021-03-03 ダイキン工業株式会社 フルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物
KR102167381B1 (ko) * 2019-01-04 2020-10-20 계명대학교 산학협력단 실리카 졸을 이용한 저가형 초발수 코팅액 제조방법
CN113840729A (zh) 2019-04-26 2021-12-24 株式会社尼康依视路 层叠体和其制造方法
JPWO2020241751A1 (zh) * 2019-05-31 2020-12-03
KR20220016216A (ko) * 2019-07-05 2022-02-08 다이킨 고교 가부시키가이샤 표면 처리제
JP7330883B2 (ja) * 2019-12-27 2023-08-22 株式会社ネオス コーティング組成物及びコーティングを備えた物品
US11918936B2 (en) 2020-01-17 2024-03-05 Waters Technologies Corporation Performance and dynamic range for oligonucleotide bioanalysis through reduction of non specific binding
CN116507682A (zh) * 2021-01-28 2023-07-28 大金工业株式会社 表面处理用液态组合物

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BR7105885D0 (pt) * 1970-09-08 1973-03-13 Minnesota Mining & Mfg Processo para preparar alfa omegadi-(s-triazinil-dissubstituido)-n-perfluor polioxa-alcanos
CN1082079C (zh) * 1993-12-29 2002-04-03 大金工业株式会社 水包氟化油型乳液及表面处理剂组合物
JP3758247B2 (ja) * 1995-08-11 2006-03-22 ダイキン工業株式会社 防汚性基材
JPH10237383A (ja) * 1996-12-25 1998-09-08 Daikin Ind Ltd 液だれ防止用組成物及び液体用容器
JP2005290323A (ja) * 2004-04-05 2005-10-20 Shin Etsu Chem Co Ltd 表面処理剤組成物
JP2006113134A (ja) * 2004-10-12 2006-04-27 Seiko Epson Corp 定着装置および画像形成装置
CN103551075B (zh) * 2005-04-01 2016-07-06 大金工业株式会社 表面改性剂
JP2011063669A (ja) * 2009-09-16 2011-03-31 Kaneka Corp 硬化性組成物
JP5857942B2 (ja) * 2011-11-30 2016-02-10 信越化学工業株式会社 蒸着用フッ素系表面処理剤及び該表面処理剤で蒸着処理された物品

Also Published As

Publication number Publication date
KR20150013736A (ko) 2015-02-05
US20150118502A1 (en) 2015-04-30
TW201414769A (zh) 2014-04-16
JP2014037548A (ja) 2014-02-27
JP2014015609A (ja) 2014-01-30
WO2013187432A1 (ja) 2013-12-19
JP5482940B2 (ja) 2014-05-07
KR101671089B1 (ko) 2016-10-31
JP5713079B2 (ja) 2015-05-07
CN104364294A (zh) 2015-02-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI523890B (zh) 含有全氟聚醚基之矽烷化合物及表面處理劑
JP7425351B2 (ja) パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物
JP5835512B2 (ja) パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物
JP5376082B2 (ja) フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物
JP6156274B2 (ja) 表面処理組成物およびそれを使用して得られる物品
TWI605053B (zh) 表面處理劑
JP5621864B2 (ja) フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物
JP2015511174A (ja) 含フッ素シラン系膜を有する物品の製造方法
JP6163796B2 (ja) パーフルオロポリエーテル基含有シラザン化合物
JP5397561B2 (ja) フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物
JP5354125B1 (ja) 光学部材用表面処理剤および光学部材
JP5472503B2 (ja) フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物