TWI504707B - 光學用黏著劑、光學用黏著片及附有黏著劑層之光學構件 - Google Patents

光學用黏著劑、光學用黏著片及附有黏著劑層之光學構件 Download PDF

Info

Publication number
TWI504707B
TWI504707B TW100108852A TW100108852A TWI504707B TW I504707 B TWI504707 B TW I504707B TW 100108852 A TW100108852 A TW 100108852A TW 100108852 A TW100108852 A TW 100108852A TW I504707 B TWI504707 B TW I504707B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
meth
adhesive
acrylate
optical
cation
Prior art date
Application number
TW100108852A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201137068A (en
Inventor
Atsushi Kurokawa
Takayuki Arai
Tadashi Matano
yuuki Ozawa
Original Assignee
Lintec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lintec Corp filed Critical Lintec Corp
Publication of TW201137068A publication Critical patent/TW201137068A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI504707B publication Critical patent/TWI504707B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00—Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02—Non-macromolecular additives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09J133/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22—Plastics; Metallised plastics
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/29—Laminated material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38—Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38—Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • C09J7/381—Pressure-sensitive adhesives [PSA] based on macromolecular compounds obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09J7/385—Acrylic polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/318—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for the production of liquid crystal displays
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/30—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
    • C09J2301/302—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier the adhesive being pressure-sensitive, i.e. tacky at temperatures inferior to 30°C
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/40—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components
    • C09J2301/408—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components additives as essential feature of the adhesive layer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

光學用黏著劑、光學用黏著片及附有黏著劑層之光學構件
本發明關於光學用黏著劑、光學用黏著片和具有黏著劑層的光學構件。更詳細地說，本發明關於光學用黏著劑、具備剝離薄膜的光學用黏著片、以及將上述光學用黏著劑構成的層設置在偏光板等光學構件上而構成的具備黏著劑層的光學構件，該光學用黏著劑於黏附體上積層偏光板等光學構件時使用，具有抗靜電性能、同時具有良好的黏著力、再剝離性(再加工性)和耐久性，且還兼具有抗靜電劑的防洩漏性。
在液晶顯示器等中使用的偏光板、相位差板、光學補償膜、反射片、輝度提高薄膜等的光學構件，藉由黏著劑層貼合在液晶胞等上。
液晶胞通常具有如下結構：設置形成了配向層的兩張透明電極基板，使該配向層為內側，藉由墊片形成規定的間隙，將其周邊密封，在該間隙內挾持液晶材料，以及在上述兩張透明電極基板的外側表面分別藉由黏著劑層設置偏光板。
圖1為表示上述偏光板一個例子結構的立體圖。如該圖所示，該偏光板10通常具有這樣的3層結構：在聚乙烯醇類偏光鏡1的兩面上貼合三乙醯基纖維素(TAC)薄膜2和2’，此外，在其一面上形成用於貼付液晶胞等光學構件的黏著劑層3，再在該黏著劑層3上貼付剝離片4。此外，在該偏光板與該黏著劑層3相反側的面上，通常設置有表面保護薄膜5。
在上述液晶胞貼付該偏光板的情況下，首先剝離剝離片4，藉由露出的黏著劑層3貼付在液晶胞上，然後剝離表面保護薄膜5。
在剝離上述剝離片4或表面保護薄膜5時，這些片或薄膜以及偏光板藉由塑膠材料構成，因此電絕緣性高，會產生靜電。此時，如果在殘留有產生的靜電的狀態下貼合液晶胞，則恐怕會在液晶分子的配向中產生紊亂。由此產生的液晶分子的配向紊亂有不會恢復的危險，而且，即使在恢復的情況下，在液晶顯示器的製造步驟中，被指出有直至恢復才能進行下一步驟，製造步驟被延緩的問題。此外，存在靜電會引起吸引粉塵或灰塵等問題。
為了處理該問題，目前提出了在剝離片的基材上混合抗靜電劑等對策，但僅藉由該對策無法獲得充分的效果，要求在黏著劑層中也賦予抗靜電性能。
就具有抗靜電性能的黏著劑組合物而言，已知有混合界面活性劑等抗靜電劑的黏著劑組合物。由此，在黏著劑組合物中混合界面活性劑等防電劑的情況下，能賦予抗靜電性能，但界面活性劑與黏著劑聚合物的相溶性惡化，因此在形成黏著劑層時，隨時間、或在熱、濕熱的條件下，存在該界面活性劑洩漏，黏附體被污染，黏著力下降等問題。
對此，揭示有為了改善抗靜電劑和黏著劑聚合物的相溶性，混合了具有聚氧化烯結構的有機鹽作為抗靜電劑的抗靜電性壓敏黏著劑(例如參見專利文獻1)。
然而，具有該聚氧化烯結構的有機鹽與在偏光板的貼付等中，主要使用的丙烯酸類聚合物的相溶性並未達夠，因此，藉由耐熱試驗，尤其是冷熱迴圈試驗，該有機鹽恐怕會洩漏，產生剝離。此外，如果使用有機鹽，則還存在有時會殘留臭氣的問題。
另外，還揭示有如下黏著劑組合物：在包含具有碳原子數為6~14的烷基的(甲基)丙烯酸類單體為主成分的(甲基)丙烯酸類聚合物以及聚醚多元醇化合物和鹼金屬鹽的黏著劑組合物中，上述(甲基)丙烯酸類聚合物的酸價為1.0以下，相對於100重量份上述(甲基)丙烯酸類聚合物，含有未達0.1重量份的上述鹼金屬鹽(例如參見專利文獻2)。
然而，該黏著劑組合物使用了聚醚多元醇化合物和鹼金屬鹽的組合作為導電劑，無法全部充分滿足防剝離帶電性、黏著性和耐久性等。
就經賦予了抗靜電性能的光學用黏著劑而言，通常要求能形成表面電阻率為5×1010 Ω/□以下程度的黏著劑層。
另一方面，在作為液晶顯示器構件的偏光板，尤其是與視角度擴大薄膜等一體化而得到的偏光板與液晶胞的貼合，偏光板與相位差板的貼合、相位差板彼此的貼合和相位差板與液晶胞的貼合中，要求具有“耐久性”、耐受性(以下為“耐漏光性”)的黏著劑層的光學用黏著片(例如參見專利文獻3)，該“耐久性”為在各種環境下均不會產生鼓脹剝落，該耐受性為對於伴隨薄膜的收縮、膨脹這樣的尺寸變化而導致應力變化所引起的漏光的耐受性。
然而，現狀是能形成具有表面電阻率為5×1010 Ω/□以下程度的優異的抗靜電性，且兼具充分的耐久性和耐漏光性的黏著劑層的光學用黏著劑迄今尚未發現。
就本發明相關的現有文獻而言，例如，揭示有具有氧化烯基團(oxyalkylene group)的反應性單體作為單體成分的(甲基)丙烯酸類聚合物與含有鹼金屬鹽的黏著劑組合物(例如參見專利文獻4)，或在玻璃轉移溫度不同的兩種聚合物中含有鋰鹽的黏著劑組合物(例如參見專利文獻5)。
為了在任意的黏著劑組合物中均能發揮出抗靜電性，作為構成聚合物的單體，多為使用親水性單體的組成。因此，就最終剝離丟棄的表面保護薄膜而言，認為在藉由上述揭示的黏著劑組合物形成的黏著劑層具有足夠的性能，但如本發明，在形成液晶顯示器的部分結構體時，充分設想耐久性和耐漏光性存在問題。
就本發明最接近的現有文獻而言，提出了專利文獻6，在該專利文獻6中，揭示了在含有將包含羥基的單體共聚的丙烯酸類共聚物、將丙烯酸共聚的丙烯酸類共聚物、多官能團丙烯酸酯類單體的黏著劑組合物中含有各種抗靜電劑的黏著劑組合物。
現有技術文獻 專利文獻
專利文獻1　日本特表2004-536940號公報
專利文獻2　日本特開2005-325255號公報
專利文獻3　日本專利第3272921(日本特開平9-87593)號公報
專利文獻4　日本特開2007-92056號公報
專利文獻5　日本特開2008-248223號公報
專利文獻6　日本特開2008-32852號公報
藉由上述專利文獻6公開的黏著劑組合物形成的黏著劑層，具有耐久性和耐漏光性，且具有一定的抗靜電性，然而，在該文獻的黏著劑組合物中，研究了添加各種抗靜電劑，但無法在具有足夠的耐久性和耐漏光性的基礎上，發揮表面電阻率為5×1010 Ω/□以下程度的優異的抗靜電性。
本發明是鑒於這樣的狀況而完成者，其目的在於提供一種光學用黏著劑、具備使用其的剝離膜的光學用黏著片和具備黏著劑層的光學構件，該光學用黏著劑在黏附體上積層偏光板等光學構件時使用，具有表面電阻率為5×1010 Ω/□以下程度的抗靜電性能，同時具有良好的黏附力、再剝離性、耐漏光性和耐久性，且還兼具抗靜電劑的防洩漏性(非析出性)。
本發明人為了實現上述目的，進行了多次精心的研究，結果發現根據下述黏著劑能實現該目的，該黏著劑由黏著劑形成材料交聯而得到，該黏著劑形成材料含有：(A)(甲基)丙烯酸酯共聚物，其具有以下三者作為結構單元：特定量的包含氧化烯基團的(甲基)丙烯酸類單體、特定量的包含反應性基團的(甲基)丙烯酸類單體和(甲基)丙烯酸烷酯；(B)具有包含反應性基團的(甲基)丙烯酸類單體作為結構單元的(甲基)丙烯酸酯共聚物；(C)活性能量線固化型化合物和(D)抗靜電劑，且上述(A)成分和(B)成分的含有比例在特定範圍內。
本發明是基於該發現完成的。
即，本發明提供如下：
[1]一種光學用黏著劑，其特徵在於由黏著劑形成材料交聯而得到，該黏著劑形成材料含有：(A)(甲基)丙烯酸酯共聚物，其具有以下三者作為結構單元：5~90質量%(a-1)包含氧化烯基團的(甲基)丙烯酸類單體、未達10質量%(a-2)包含反應性基團的(甲基)丙烯酸類單體、(a-3)(甲基)丙烯酸烷酯；(B)具有包含反應性基團的(甲基)丙烯酸類單體作為結構單元的(甲基)丙烯酸酯共聚物；(C)活性能量線固化型化合物和(D)抗靜電劑，且上述(A)成分和(B)成分的含有比例以質量比計為100:1~100:50，
[2]如上述[1]所述的光學用黏著劑，其中，相對於總計100質量份的(A)成分和(B)成分，(C)活性能量線固化型化合物的含量為1~50質量份，
[3]如上述[1]或[2]所述的光學用黏著劑，其中，在(a-1)包含氧化烯基團的(甲基)丙烯酸類單體中，氧化烯基團的碳原子數為2~4，且該氧化烯基團的個數為1~10，
[4]如上述[1]~[3]任一項所述的光學用黏著劑，其中，(a-2)包含反應性基團的(甲基)丙烯酸類單體為包含羥基的(甲基)丙烯酸類單體，
[5]如上述[1]~[4]任一項所述的光學用黏著劑，其中，作為(B)成分的結構單元的包含反應性基團的(甲基)丙烯酸類單體為包含羧基的(甲基)丙烯酸類單體，
[6]如上述[1]~[5]任一項所述的光學用黏著劑，其中，相對於總計100質量份的(A)成分和(B)成分和(C)成分，(D)抗靜電劑的含量為0.1~10質量份，
[7]如上述[1]~[6]任一項所述的光學用黏著劑，其中，黏著劑形成材料還含有(E)交聯劑，
[8]一種具有剝離薄膜的光學用黏著片，其藉由如上述[1]~[7]任意一項所述的光學用黏著劑形成，
[9]一種具有黏著劑層的光學構件，其中，在光學構件上具備由如上述[1]~[7]任意一項所述的光學用黏著劑形成的層，
[10]如上述[9]所述的具備黏著劑層的光學構件，其中，光學構件是偏光板。
此外，就本發明的較佳方式而言，可以列舉
(a)一種光學用黏著劑，其中，上述(C)活性能量線固化型化合物為多官能團(甲基)丙烯酸酯類單體，
(b)一種光學用黏著劑，其中，上述(D)抗靜電劑包含由通式(1)表示的固體狀或液體狀的離子性化合物，
(Za+ )m ‧(Ab- )n 　…(1)
[式中，Za+ 為陽離子，Ab- 為陰離子，a、b、m和n各自為1~3的整數，滿足a×m=b×n的關係。當Za+ 存在多個時，多個Za+ 可以相同，也可以不同，當Ab- 存在多個時，多個Ab- 可以相同，也可以不同]，
(c)一種光學用黏著劑，其中，上述黏著劑形成材料還包含矽烷偶合劑，
(d)一種光學用黏著劑，其中，上述(E)交聯劑為異氰酸酯類交聯劑，
(e)一種光學用黏著劑，其中，上述(a-1)含有氧化烯基團的(甲基)丙烯酸類單體為丙烯酸2-(甲氧基)乙酯或丙烯酸乙基卡畢醇酯，
(f)一種光學用黏著劑，其中，上述黏著劑形成材料的交聯化藉由加熱處理和活性能量線照射處理進行，
(g)一種黏著片，其挾持光學用黏著劑，使得上述具有剝離薄膜的光學用黏著片與兩張剝離薄膜的剝離層側相接。
根據本發明，能提供一種光學用黏著劑、光學用黏著片和帶黏著劑層的光學構件，該光學用黏著劑在黏附體上積層偏光板等光學構件時使用，具有表面電阻率為5×1010 Ω/□以下程度的抗靜電性能，同時具有良好的黏附力，再剝離性、以及耐漏光性和耐久性，且還兼具抗靜電劑的防洩漏性(非析出性)，該光學用黏著片具備採用光學用黏著劑而得到之剝離膜，該具備黏著劑層的光學構件係將由上述光學用黏著劑構成的層設置於偏光板等的光學構件上而構成。
首先，對本發明的光學用黏著劑進行說明。
本發明的光學用黏著劑的特徵在於，由黏著劑形成材料交聯而得到，該黏著劑形成材料含有：(A)具有以下所示各成分作為結構單元的(甲基)丙烯酸酯共聚物、(B)具有包含反應性基團的(甲基)丙烯類單體作為結構單元的(甲基)丙烯酸酯共聚物、(C)活性能量線固化型化合物和(D)抗靜電劑，且上述(A)成分和(B)成分的含有比例以質量比計為100:1~100:50。
[黏著劑形成材料]
在本發明的光學用黏著劑中使用的黏著劑形成材料含有(A)具有下述(a-1)成分、(a-2)成分和(a-3)成分作為結構單元的(甲基)丙烯酸酯共聚物、(B)具有包含反應性基團的(甲基)丙烯酸類單體作為結構單元的(甲基)丙烯酸酯共聚物、(C)活性能量線固化型化合物和(D)抗靜電劑以及根據需要使用的(E)交聯劑。另外，所謂上述(C)活性能量線固化型化合物中的活性能量線，是指電磁波或電荷粒子束中具有能量量子的能量線，即，是指紫外線或電子束等。
((A)(甲基)丙烯酸酯共聚物)
該黏著劑形成材料中(A)成分的(甲基)丙烯酸酯共聚物，具有5~90質量%(a-1)包含氧化烯基團的(甲基)丙烯酸類單體、未達10質量%(a-2)包含反應性基團的(甲基)丙烯酸類單體、(a-3)(甲基)丙烯酸烷酯作為必須結構單元。
在本發明中，(甲基)丙烯酸酯，是指丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯兩種。其他類似用語也是同樣的。
為了得到下述黏結劑：使本發明的光學用黏著劑是在黏附體上積層偏光板等光學構件時使用，具有表面電阻率為5×1010 Ω/□以下左右的抗靜電性能，同時具有良好的黏附力、再剝離性、耐漏光性和耐久性，且還兼具抗靜電劑的防洩漏性(非析出性)，(A)成分的(甲基)丙烯酸酯共聚物要使上述(a-1)成分、(a-2)成分和(a-3)成分為必須結構單元。
該(A)成分的(甲基)丙烯酸酯共聚物較佳係重量平均分子量為100萬以上。如果該重量平均分子量未達100萬，則在高溫、高濕下的黏著耐久性未達，有時容易產生鼓脹或剝離等。如果考慮黏著耐久性等，則該重量平均分子量更佳為120萬~220萬，特佳為130萬~200萬。此外，表示重量平均分子量(Mw)和數量平均分子量(Mn)比例的分子量分佈(Mw/Mn)較佳為20以下。如果分子量分佈在20以下，則能獲得足夠的黏著耐久性。
另外，上述重量平均分子量和數量平均分子量是藉由凝膠滲透層析(GPC)法測定的以聚苯乙烯換算的值。
<(a-1)含有氧化烯基團的(甲基)丙烯酸類單體>
在(A)成分的(甲基)丙烯酸酯共聚物中，作為必須結構單元而導入的(a-1)含有氧化烯基團的(甲基)丙烯酸類單體成分，在濕熱條件下，不會使耐久性或再加工性降低，能提高抗靜電性。
通常，為了使抗靜電劑在黏著劑中發揮其功能，必須使抗靜電劑的電離狀態穩定。因此，被設計成在主劑聚合物中導入羥基或羧基，從而設置成能輔助抗靜電劑的電離狀態。然而，為了獲得表面電阻率為5×1010 Ω/□以下程度的抗靜電性，如果增加主劑聚合物中的羥基含量，則黏著劑的親水性過高，在濕熱條件下的耐久性惡化。此外，如果增加聚合物中的羧基含量，則再加工性惡化。而在如本發明導入(a-1)成分的情況下，不會產生羥基或羧基的含量增大的問題，能使抗靜電劑的電離狀態更穩定。此外，來自該單體的氧化烯基團的氧原子，與抗靜電劑有輕微的共同作用，從而還能有助形成Li+ 等陽離子物種在黏著劑中以電離的狀態自由移動的環境。因此，作為主劑聚合物中的官能團，與僅藉由羥基或羧基發揮抗靜電劑的功能相比，能有效發揮其功能。
該(a-1)含有氧化烯基團的(甲基)丙烯酸類單體成分中，氧化烯基團較佳係碳原子數為2~4。碳原子數為2~4的氧化烯基團可以是直鏈狀、支鏈狀的任意一種，具體地說，可以列舉氧化乙烯、氧化丙烯(支鏈狀)、氧化三亞甲基、氧化丁烯(支鏈狀)、氧化四亞甲基等。
此外，該氧化烯基團的個數為1個以上，為了獲得具有上述重量平均分子量的(A)成分的(甲基)丙烯酸酯共聚物，其上限較佳為10個左右，更佳為5個左右，進一步較佳為3個左右。另外，就氧化烯基團而言，較佳為烷基氧化烯基團。此外，從不損害黏著劑的抗靜電性的觀點來看，烷基氧化烯基團的烷基較佳係碳原子數為1~14。此外，出於同樣的觀點，特佳係碳原子數為1~4的烷基。針對該觀點，從上述本發明光學用黏著劑性能的觀點來看，就(a-1)含有氧化烯基團的(甲基)丙烯酸類單體而言，較佳係丙烯酸2-(甲氧基)乙酯或丙烯酸乙基卡畢醇酯。
該(a-1)含有氧化烯基團的(甲基)丙烯酸類單體單元，可以導入一種，也可以導入兩種，以上從上述本發明光學用黏著劑性能的觀點來看，該(甲基)丙烯酸酯共聚物中的含量需要為5~90質量%，較佳為10~50質量%，更佳為15~25質量%。
<(a-2)含有反應性基團的(甲基)丙烯酸類單體>
在(A)成分的(甲基)丙烯酸酯共聚物中，作為必須結構單元導入的(a-2)含有反應性基團的(甲基)丙烯酸類單體成分中的反應性基團，是使黏著劑形成材料交聯化時的作為交聯點的官能團，因此可以列舉羥基、羧基、按基、環氧基等，在本發明中，較佳係羥基。
就該(a-2)成分中含有羥基的(甲基)丙烯酸類單體的具體例而言，可以列舉(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯等的(甲基)丙烯酸羥基烷酯等。這些物質可以單獨使用，也可以將兩種以上組合使用，其中，從容易製造重量平均分子量100萬以上的(A)(甲基)丙烯酸酯共聚物的觀點來看，特佳係(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯。
該(A)成分(甲基)丙烯酸酯共聚物中，(a-2)含有反應性基團的(甲基)丙烯酸類單體的含量，從賦予所得黏著劑的抗靜電性和在濕熱條件下的耐久性的觀點來看，需要未達10質量%，較佳為0.1質量%以上。此外，從所得黏著劑的再加工性的觀點來看，該含有反應性基團的(甲基)丙烯酸類單體單元的含量特佳為1~5質量%。
<(a-3)(甲基)丙烯酸烷酯>
在(A)成分的(甲基)丙烯酸酯共聚物中，作為以必須結構單元而導入的(a-3)(甲基)丙烯酸烷酯成分，沒有特別的限制，較佳係可以列舉例如酯部分的烷基的碳原子數為1~20的(甲基)丙烯酸酯。其中，就酯部分的烷基的碳原子數為1~20的(甲基)丙烯酸酯的例子而言，可以列舉(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十二烷酯、(甲基)丙烯酸十四烷酯、(甲基)丙烯酸十六烷酯、(甲基)丙烯酸十八烷酯等。這些物質可以單獨使用，也可以將兩種以上組合使用。
在這些化合物中，從可以獲得適當的黏著性能，且容易製造重量平均分子量為100萬以上的(甲基)丙烯酸酯共聚物的觀點來看，特佳係(甲基)丙烯酸丁酯。另外，(A)(甲基)丙烯酸酯共聚物中，作為結構成分的(a-3)(甲基)丙烯酸烷酯的含量，可以根據上述成分(a-1)和成分(a-2)的關係適當選擇，通常為0.1質量%以上。從提高(B)(甲基)丙烯酸酯共聚物和(C)活性能量線固化型化合物相溶性的觀點來看，上述含量較佳為40~89.9質量%，特佳為70~84質量%。
((B)(甲基)丙烯酸酯共聚物)
該黏著劑形成材料中的(B)成分的(甲基)丙烯酸酯共聚物與上述(A)成分(甲基)丙烯酸酯共聚物同樣，較佳係重量平均分子量為100萬以上。如果該重量平均分子量未達100萬，則在高溫、高濕下的黏著耐久性未達，有時會產生鼓脹或剝落等。如果考慮黏著耐久性等，則該重量平均分子量更佳為120萬~220萬，特佳為130萬~200萬。此外，表示重量平均分子量(Mw)和數量平均分子量(Mn)比例的分子量分佈(Mw/Mn)較佳為20以下。如果分子量分佈為20以下，則獲得足夠的黏合耐久性。
另外，上述重量平均分子量和數量平均分子量是藉由凝膠滲透層析(GPC)法測定的以聚苯乙烯換算的值。
該(B)成分的(甲基)丙烯酸酯共聚物，是作為必須結構單元，具有包含反應性基團的(甲基)丙烯酸類單體成分(以下，為(b-1))的共聚物，就上述反應性基團而言，是使該黏著劑形成材料交聯時作為交聯點的官能團，因此可以列舉羥基、羧基、胺基、環氧基等，在本發明中，較佳係羧基。
就該(B)成分中含有羧基單體的具體例而言，可以列舉(甲基)丙烯酸、巴豆酸、馬來酸、衣康酸、檸康酸等。這些物質可以單獨使用一種，也可以將兩種以上組合使用，其中，從容易製造重量平均分子量為100萬以上的(甲基)丙烯酸酯共聚物的觀點來看，較佳係(甲基)丙烯酸。
該(B)成分的(甲基)丙烯酸酯共聚物，通常具有無反應性基團的(甲基)丙烯酸烷酯成分(以下，為(b-2))作為結構單元。
就(b-2)無反應性基團的(甲基)丙烯酸烷酯成分而言，沒有特別的限制，較佳係可以列舉與上述(a-3)成分中使用相同的物質，即，酯部分烷基的碳原子數為1~20的(甲基)丙烯酸酯。這些物質可以單獨使用，也可以將兩種以上組合使用。
在這些化合物中，與(a-3)成分的情況相同，從可以獲得適當的黏著性能，且容易製造重量平均分子量為100萬以上的(B)成分(甲基)丙烯酸酯聚合物的觀點來看，特佳係(甲基)丙烯酸丁酯。
該(B)成分的(甲基)丙烯酸酯共聚物中，含有羧基的單體成分的含量較佳為5~20質量%。如果該含量超過20質量%，則與液晶胞的黏著強度增大，有時會損害再剝離性(再加工性)，另一方面，未達5質量%的話，高溫下的耐久性容易降低。由該觀點來看，該含量更佳為5~15質量%。另外，作為結構成分的(b-2)成分的含量較佳為80~95質量%，特佳為85~95質量%。
在該黏著劑形成材料中，上述(A)成分的(甲基)丙烯酸酯共聚物與(B)成分的(甲基)丙烯酸酯共聚物的含有比例，從所得光學用黏著劑的性能的觀點來看，以質量比計需要為100:1~100:50，較佳為10:2.5~100:30，更佳為100:5~100:20。
((C)活性能量線固化型化合物)
就該黏著劑形成材料中的(C)成分的活性能量線固化型化合物而言，可以較佳列舉分子量未達1000的多官能(甲基)丙烯酸酯類單體。
就該分子量未達1000的多官能(甲基)丙烯酸酯類單體而言，可以列舉例如1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇己二酸二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二環戊基二(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二環戊烯基二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、二(丙烯醯氧基乙基)異氰脲酸酯、烯丙基化環己基二(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基二環戊烷二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性氫化鄰苯二甲酸二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇改性三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、金剛烷二(甲基)丙烯酸酯、9,9-雙[4-(2-丙烯醯基氧基乙氧基)苯基]芴等的2官能團型；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性二新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、參(丙烯醯基氧基乙基)異氰脲酸酯等的3官能團型；二甘油四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等的4官能團型；丙酸改性二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯等的5官能團型；二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等的6官能型等。
在本發明中，這些多官能(甲基)丙烯酸酯類單體，可以僅單獨使用一種，也可以將兩種以上組合使用，其中，較佳係在骨架結構中具有環狀結構的單體。環狀結構可以是碳環結構、也可以是雜環結構，此外，可以是單環結構，也可以是多環結構。就該多官能團(甲基)丙烯酸酯類單體而言，較佳係例如二(丙烯醯基氧基)異氰脲酸酯、參(丙烯醯基氧基)異氰脲酸酯等具有異氰尿素酸酯結構的物質、二羥甲基二環戊烷二丙烯酸酯、環氧乙烷改性六氫鄰苯二甲酸二丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇丙烯酸酯、新戊二醇改性三羥甲基丙烷二丙烯酸酯、金剛烷二丙烯酸酯等。
此外，作為(C)成分，可以使用活性能量線固化型丙烯酸酯類寡聚物。就該丙烯酸酯類寡聚物的例子而言，可以列舉聚酯丙烯酸酯類、環氧丙烯酸酯類、聚胺基甲酸酯丙烯酸酯類、聚醚丙烯酸酯類、聚丁二烯丙烯酸酯類、聚矽氧丙烯酸酯類等。
其中，就聚酯丙烯酸酯類寡聚物而言，例如，可將由多元酸和多元醇縮合得到的在兩末端具有羥基的聚酯寡聚物的羥基，(甲基)丙烯酸酯化，或將在多元羧酸中加成環氧烷得到的寡聚物的末端羥基，(甲基)丙烯酸酯化而得到。環氧丙烯酸酯類寡聚物，例如可以將較低分子量的雙酚型環氧樹脂或酚醛型環氧樹脂的環氧烷環與(甲基)丙烯酸反應，進行酯化而得到。此外，還可使用羧基改性型環氧丙烯酸酯寡聚物，其是將該環氧丙烯酸酯類寡聚物的一部分，用二元鹼性羧酸酐改性得到的。聚胺基甲酸酯丙烯酸酯類寡聚物，例如，可以藉由將聚醚多元醇或聚酯多元醇與聚異氰酸酯反應得到的聚胺基甲酸酯寡聚物，(甲基)丙烯酸酯化而得到，多元醇丙烯酸酯類寡聚物，可以將聚醚多元醇的羥基用(甲基)丙烯酸酯化而得到。
上述丙烯酸酯類寡聚物的重量平均分子量以藉由GPC法測定的標準聚甲基丙烯酸甲酯換算的值計，較佳為50,000以下，更佳為1,000~50,000，進一步較佳係在3,000~40,000的範圍內選擇。
這些丙烯酸酯類寡聚物可以單獨使用一種，也可以將兩種以上組合使用。
在本發明中，作為(C)成分，可使用含有(甲基)丙烯醯基的基團被導入側鏈的加合丙烯酸類聚合物。這樣的加合丙烯酸類聚合物採用下述共聚物，該共聚物為上述(A)成分的(甲基)丙烯酸酯共聚物中描述的(甲基)丙烯酸烷酯、與在分子內具有反應性基團的交聯性官能基團的單體的共聚物，在該共聚物的交聯性官能基團的一部分上與化合物反應而得到該加合丙烯酸類聚合物，該化合物具有(甲基)丙烯醯基以及與交聯性官能基團反應的基團。該加合丙烯酸類聚合物的重量平均分子量以聚苯乙烯換算，通常為50萬~200萬。
在本發明中，作為(C)成分，可以從上述多官能團丙烯酸酯類單體、丙烯酸酯類寡聚物和金剛烷丙烯酸酯類聚合物中適當選擇一種使用，也可以選擇兩種以上聯用，較佳係分子量未達1000的多官能團(甲基)丙烯酸酯類單體。
該黏著劑形成材料中的上述(C)活性能量線固化型化合物的含量，從所得光學用黏著劑性能的觀點來看，相對於100質量份上述(A)成分合(B)成分的總量，較佳為1~50質量份，更佳為2~30質量分，進一步較佳為4~25質量份。
((D)抗靜電劑)
在該黏著劑形成材料中，為了在所得光學用黏著劑中賦予表面電阻率為5×1010 Ω/□以下程度的抗靜電性能，作為(D)成分，可以使用抗靜電劑。
就該抗靜電劑而言，沒有特別的限制，可以從目前用於在光學用黏著劑中賦予抗靜電性能的公知的抗靜電劑中適當選擇使用。例如可以使用包含離子性化合物的物質。
<離子性化合物>
就離子性化合物而言，可以列舉例如通式(1)表示的化合物。
(Za+ )m ‧(Ab- )n 　...(1)
[式中，Za+ 為陽離子，Ab- 為陰離子，a、b、m和n各自為1~3的整數，滿足a×m=b×n的關係。當存在多個Za+ 時，多個Za+ 可以相同，也可以不同，當存在多個Ab- 時，多個Ab- 可以相同，也可以不同。]
該離子性化合物可以是固體狀或液體狀的任意一種，此外，Za+ 表示的陽離子可以是無機類陽離子，也可以是有機類陽離子。
《Za+ 表示的陽離子》
在通式(1)中，Za+ 表示的陽離子中，就無機類陽離子而言，可以列舉例如作為鹼金屬陽離子的Li+ 、Na+ 和K+ 等，其中，從賦予優異的抗靜電性能的觀點來看，特佳係Li+ 或K+ 。
另一方面，就有機類陽離子而言，例如可以列舉以下記載的陽離子。
可以列舉例如吡啶鎓類陽離子、哌啶鎓類陽離子、吡咯啶鎓類陽離子、具有吡咯啉骨架的陽離子、具有吡咯骨架的陽離子等。就具體例而言，可以列舉1-乙基吡啶鎓陽離子、1-丁基吡啶鎓陽離子、1-己基吡啶鎓陽離子、1-丁基-3-甲基吡啶鎓陽離子、1-丁基-4-甲基吡啶鎓陽離子、1-己基-3-甲基吡啶鎓陽離子、1-丁基-3,4-二甲基吡啶鎓陽離子、1-辛基-4-甲基吡啶鎓陽離子、1,1-二甲基吡咯啶鎓陽離子、1-乙基-1-甲基吡咯啶鎓陽離子、1-甲基-1-丙基吡咯啶鎓陽離子、2-甲基-1-吡咯啉陽離子、1-乙基-2-苯基吲哚陽離子、1,2-二甲基吲哚陽離子、1-乙基咔唑陽離子等。
可以列舉例如咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子等。就具體例而言，可以列舉1,3-二甲基咪唑鎓陽離子、1,3-二乙基咪唑鎓陽離子、1-乙基-3-甲基咪唑鎓陽離子、1-丁基-3-甲基咪唑鎓陽離子、1-己基-3-甲基咪唑鎓陽離子、1-辛基-3-甲基咪唑鎓陽離子、1-癸基-3-甲基咪唑鎓陽離子、1-十二烷基-3-甲基咪唑鎓陽離子、1-十四烷基-3-甲基咪唑鎓陽離子、1,2-二甲基-3-丙基咪唑鎓陽離子、1-乙基-2,3-二甲基咪唑鎓陽離子、1-丁基-2,3-二甲基咪唑鎓陽離子、1-己基-2,3-二甲基咪唑鎓陽離子、1,3-二甲基-1,4,5,6-四氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3-三甲基-1,4,5,6-四氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3,4-四甲基-1,4,5,6-四氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3,5-四甲基-1,4,5,6-四氫嘧啶鎓陽離子、1,3-二甲基-1,4-二氫嘧啶鎓陽離子、1,3-二甲基-1,6-二氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3-三甲基-1,4-二氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3-三甲基-1,6-二氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3,4-四甲基-1,4-二氫嘧啶鎓陽離子、1,2,3,4-四甲基-1,6-二氫嘧啶鎓陽離子等。
可以列舉例如吡唑鎓陽離子、吡唑烷鎓陽離子等。就具體例而言，可以列舉1-甲基吡唑鎓陽離子、3-甲基吡唑鎓陽離子、1-乙基-2-甲基吡唑啉鎓陽離子等。
可以列舉例如四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子、上述烷基的一部分被烯基、烷氧基以及環氧基取代的陽離子等。就具體例而言，可以列舉四甲基銨陽離子、四乙基銨陽離子、四丁基銨陽離子、四己基銨陽離子、三乙基甲基銨陽離子、三丁基乙基銨陽離子、三甲基己基銨陽離子、三甲基癸基銨陽離子、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨陽離子、縮水甘油基三甲基銨陽離子、N,N-二甲基-N,N-二丙基銨陽離子、N,N-二甲基-N,N-二己基銨陽離子、N,N-二丙基-N,N-二己基銨陽離子、三甲基鋶陽離子、三乙基鋶陽離子、三丁基鋶陽離子、三己基鋶陽離子、二乙基甲基鋶陽離子、二丁基乙基鋶陽離子、二甲基癸基鋶陽離子、四甲基鏻陽離子、四乙基鏻陽離子、四丁基鏻陽離子、四己基鏻陽離子、三乙基甲基鏻陽離子、三丁基乙基鏻陽離子、三甲基癸基鏻陽離子、二烯丙基二甲基鏻陽離子等。
《Ab- 表示的陰離子》
另一方面，在上述通式(1)中，作為Ab- 表示的陰離子，只要能與上述陽離子鍵結，形成離子性化合物，就沒有特別的限制，可以列舉例如F- 、Cl- 、Br- 、I- 、AlCl4 - 、Al2 Cl7 - 、BF4 - 、PF6 - 、SCN- 、ClO4 - 、NO3 - 、CH3 COO- 、CF3 COO- 、CH3 SO3 - 、CF3 SO3 - 、(CF3 SO2 )2 N- 、(F2 SO2 )2 N- 、(CF3 SO2 )3 C- 、ASF6 - 、SbF6 - 、NbF6 - 、TaF6 - 、F(HF)n - 、(CN)2 N- 、C4 F9 SO3 - 、(C2 F5 SO2 )2 N- 、C3 F7 COO- 、(CF3 SO2 )(CF3 CO)N- 等。其中，含氟原子的陰離子由於能得到低熔點的離子性化合物，因此是較佳的，特佳係(F2 SO2 )2 N- 或(CF3 SO2 )2 N- 。
在上述Za+ 表示的陽離子是Li+ 的情況下，就離子性化合物而言，可以列舉例如LiBr、LiI、LiBF4 、LiPF6 、LiSCN、LiClO4 、LiCF3 SO3 、Li(CF3 SO2 )2 N、Li(F2 SO2 )2 N、Li(CF3 SO2 )3 C，以及辛基苯磺酸鋰、十二烷基苯磺酸鋰、二丁基萘磺酸鋰等化合物，其中，特佳係Li(CF3 SO2 )2 N[雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺鋰]、Li(CF3 SO2 )2 C[參(三氟甲烷磺醯基)甲烷鋰]，或Li(F2 SO2 )2 N[雙(二氟磺醯基)醯亞胺鋰]。
此外，在Za+ 表示的陽離子是K+ 的情況下，就離子性化合物而言，較佳係K(F2 SO2 )2 N[雙(二氟磺醯基)醯亞胺鉀]或K(CF3 SO2 )2 N[雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺鉀]。
此外，在Za+ 表示的陽離子是吡啶鎓類陽離子的情況下，就離子性化合物而言，較佳係1-乙基吡啶鎓六氟磷酸鹽、1-丁基吡啶鎓六氟磷酸鹽、1-己基-4-甲基六氟磷酸鹽、1-辛基-4-甲基六氟磷酸鹽等。
上述通式(1)表示的離子性化合物可以單獨使用一種，也可以將兩種以上組合使用。
此外，還可以較佳列舉含有反應性四級銨鹽的化合物作為滿足通式(1)的例子。
<含有反應性四級銨鹽的化合物>
就含有反應性四級銨鹽的化合物而言，可以列舉通式(2)表示的化合物等。
(式中，R表示氫原子或甲基。)
在本發明中，該含有四級銨鹽的單體可以使用一種，也可以將兩種以上組合使用，還可以與上述離子性化合物併用。
在該黏著劑形成材料中，藉由含有含四級銨鹽的單體，從而在照射活性能量線進行交聯時，該材料中存在的活性能量線固化型化合物與上述含有四級銨鹽的單體共聚，從而在所得光學用黏著劑中導入四級銨鹽，賦予抗靜電性能。
該黏著劑形成材料中(D)成分的抗靜電劑的含量，根據抗靜電劑的種類有所不同，從在所得光學用黏著劑中賦予表面電阻率為5×1010 Ω/□以下程度的抗靜電性能，以及該抗靜電劑的防洩漏性和防析出性的觀點來看，相對於總計100質量分的上述(A)成分、(B)成分和(C)成分，通常為0.1~10質量份左右，較佳為0.5~5質量份，更佳為0.5~3質量份。
在該黏著劑形成材料中，作為任意的材料，根據需要，還可以含有(E)交聯劑、矽烷偶合劑、光聚合引發劑、以及各種添加劑、例如抗氧化劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、均塗劑、消泡劑等。
((E)交聯劑)
在該黏著劑材料中，根據需要，可以含有交聯劑作為(E)成分。就該交聯劑而言，沒有特別的限制，可以從目前的丙烯酸類黏著劑中，慣用作為交聯劑的物質中任意選擇適當的物質。就這樣的交聯劑而言，可以列舉例如聚異氰酸酯化合物、環氧樹脂、三聚氰胺樹脂、脲樹脂、二醛類、羥甲基聚合物、吖丙烷類化合物、金屬螯合化合物、金屬烷氧化物、金屬鹽等，較佳係聚異氰酸酯化合物。
其中，就聚異氰酸酯化合物而言，可以列舉甲伸苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯等芳香族聚異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等脂肪族聚異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯等脂環式聚異氰酸酯等，以及它們的二縮脲體、異三聚氰酸酯體、以及與乙二醇、丙二醇、新戊二醇、三羥甲基丙烷、蓖麻油等低分子含活潑氫化合物的反應物的加合物等。
在本發明中，該交聯劑可以單獨使用一種，也可以將兩種以上組合使用。此外，其使用量根據交聯劑的種類有所不同，相對於總計100質量份的上述(A)成分和(B)成分，通常為0.01~20質量份，較佳為0.1~10質量份。
(矽烷偶合體)
在該黏著劑形成材料中，根據需要，可以含有矽烷偶合劑，從而再使用所得光學用黏著劑，例如，將偏光板等光學構件與玻璃胞貼合的情況下，該黏著劑與玻璃胞之間的黏著性會更加良好。就該矽烷偶合劑而言，是在分子內具有至少一個烷氧基矽烷基的有機矽化合物，較佳係與黏著劑成分的相溶性良好，且具有光透過性的化合物，例如實質上透明的化合物。該矽烷偶合劑的添加量相對於總計100質量份的上述(A)成分、(B)成分和(C)成分，較佳為0.001~10質量份的範圍，特佳為0.005~5質量份的範圍。
就上述矽烷偶合劑的具體例而言，可以列舉乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等含有聚合性不飽和基團的矽化合物，3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷等具有環氧基結構的矽化合物，3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷等含有胺基的矽化合物，3-氯丙基三甲氧基矽烷等。這些物質可以單獨使用一種，也可以將兩種以上組合使用。
(光聚合引發劑)
向該黏著劑形成材料照射紫外線等活性能量線，從而使其中所含的(C)成分的活性能量線固化型化合物交聯時，根據需要，可以含有光聚合引發劑。另外，在使用電子束作為活性能量線時，也可以不使用光聚合引發劑。
就該光聚合引發劑而言，可以列舉例如苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻丙基醚、苯偶姻正丁基醚、苯偶姻異丁基醚、乙醯苯、二甲基胺基乙醯苯、2,2-二甲氧基-2-苯基乙醯苯、2,2-二乙氧基-2-苯基乙醯苯、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲基硫基)苯基]-2-味啉丙烷-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)苯基-2-(羥基-2-丙基)酮、二苯酮、對苯基二苯酮、4,4’-二乙基胺基二苯酮、二氯二苯酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-第三丁基蒽困、2-胺基蒽醌、2-甲基噻噸酮、2-乙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2,4-二甲基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、苄基二甲基縮酮、乙醯苯二甲基縮酮、對二甲基胺基苯甲酸酯、寡聚[2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙酮]、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基膦氧化物等。這些物質可以單獨使用一種，也可以將兩種以上組合使用，此外，其混合量相對於100質量份全部活性能量線固化型化合物，通常為0.2~20質量份，較佳為1~15質量份。
(包含黏著劑形成材料的塗布液的製備)
對含有該黏著劑形成材料的塗布液的製備方法沒有特別的限制，例如，在溶劑中，包含上述(A)成分的(甲基)丙烯酸酯共聚物、(B)成分的(甲基)丙烯酸酯共聚物、(C)成分的活性能量線固化型化合物和(D)成分的抗靜電劑，並加入根據需要使用的(E)成分的交聯劑和/或矽烷偶合劑、光聚合引發劑、以及各種添加劑，例如抗氧化劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、均塗劑、消泡劑等，攪拌混合，從而製備包含該黏著劑形成材料的塗布液。
就上述溶劑而言，可以列舉例如己烷、庚烷等的脂肪族烴，甲苯、二甲苯等芳香族烴，二氯甲烷、二氯乙烷等鹵代烴，甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等醇，丙酮、甲乙酮、2-戊酮、異佛爾酮、環己酮等酮，乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯，乙基溶纖素等之溶纖素類溶劑、丙二醇單甲醚等二醇醚類溶劑等。這些溶劑可以單獨使用一種，也可以將兩種以上混合使用。
就該塗布液的黏著性材料的濃度而言，只要該塗布液為適合塗布的黏度，則沒有特別的限制。
[光學用黏著劑]
本.發明的光學用黏著劑，使用如上述得到的包含黏著劑形成材料的塗布液，在剝離薄膜或光學構件等黏附體上，藉由習知的方法進行塗布，進行交聯化反應，從而形成由本發明的光學用黏著劑形成的層。
該交聯藉由對在上述黏附體上設置的濕塗膜在40~150℃左右的溫度下進行加熱處理10秒~10分鐘左右，從而使(E)成分的交聯劑、(A)成分的(甲基)丙烯酸酯共聚物中的交聯性官能基團和(B)成分的(甲基)丙烯酸酯共聚物中的交聯性官能基團發生反應，進行交聯。
另一方面，如此進行加熱處理，對部分交聯化的黏附體上的塗膜照射活性能量線，從而進行該塗膜中活性能量線固化型化合物的交聯。
就上述活性能量線而言，在使用紫外線時，該紫外線可以由高壓水銀燈、無電極燈、氙燈等獲得，另一方面，電子束藉由電子束加速器等獲得。在該活性能量線中，特佳係紫外線。另外，在使用電子束的情況下，無需添加光聚合引發劑，就能形成黏著劑。
就活性能量線對該黏著劑形成材料的照射量而言，可以進行適當選擇，從而獲得具有優良的貯藏彈性率、對無鹼玻璃黏附力的黏著劑，在紫外線的情況下，照度為50~1000mW/cm2 ，光量為50~1000mJ/cm2 ，在電子束的情況下，較佳為10~1000krad的範圍。
以下，對本發明具有剝離薄膜的光學用黏著片進行說明。
[具有剝離薄膜的光學用黏著片]
本發明具有剝離薄膜的光學用黏著片，是使用上述本發明光學用黏著劑形成的具有剝離薄膜的光學用黏著片。
就該具有剝離薄膜的光學用黏著片的具體例而言，可以列舉挾持上述本發明的光學用黏著劑，使兩張剝離薄膜的剝離層側相接的光學用黏著片。該具有剝離薄膜的光學用黏著片，例如可以如下述般製造。
首先，在剝離薄膜的剝離層上，使用例如棒塗布法、刀塗布法、輥塗布法、刮板塗布法、縫模塗布法、凹版印刷法等，塗布含有上述黏著劑形成材料的塗布液，進行乾燥，從而形成黏著劑形成材料層。然後，在該黏著劑形成材料層上，貼付與上述剝離薄膜的剝離強度不同的其他剝離薄膜，使其剝離層相接，然後照射活性能量線，從而製備具有剝離薄膜的光學用黏著片。或是在另一張剝離薄膜的剝離層上設置黏著劑形成材料層，進行乾燥，然後照射活性能量線，之後在其上貼附其他剝離薄膜，使剝離層面相接，從而製備具有剝離薄膜的光學用黏著片。
另外，該光學用黏著片的厚度(不包括剝離薄膜)通常為5~100μm左右，較佳為10~50μm。
就上述剝離薄膜而言，可以列舉在聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯薄膜、聚丙烯或聚乙烯等的聚烯烴薄膜等塑膠薄膜上，塗布聚矽氧樹脂等脫模劑，設置剝離層的薄膜等。對該剝離薄膜的厚度沒有特別的限制，通常為19~150μm左右。
[具備黏著劑層的光學構件]
進而，本發明還提供了一種在光學構件上，具有由上述本發明的光學用黏著劑形成的層的具備黏著劑層的光學構件。
就上述光學構件而言，可以列舉例如偏光板、相位差板、光學補償薄膜、反射片、輝度提高薄膜等，其中，較佳使用偏光板和相位差板。此外，由本發明的光學用黏著劑形成的黏著劑層的厚度通常為5~100μm左右，較佳為10~50μm，更佳為10~30μm。
該具備黏著劑層的光學構件例如可以如下製備。
在剝離薄膜的剝離層上，根據上述方法設置黏著劑形成材料層，在其上貼合光學構件，然後除去該剝離薄膜，由黏著劑形成材料層露出面的一側，或不除去該剝離薄膜，由該剝離薄膜側照射活性能量線，從而製備具有黏著劑層的光學構件。
本發明具有黏著劑層的光學構件，例如，在將光學構件作為偏光板時，形成具備黏著劑層的偏光板。該具備黏著劑層的偏光板可以用於在例如液晶玻璃胞上黏附。就該偏光板而言，可以較佳使用僅由偏光薄膜構成的偏光板，特佳係使用將偏光薄膜與視角擴大薄膜一體化的偏光板。
就上述偏光薄膜與視角擴大薄膜一體化的偏光板而言，可以列舉例如在聚乙烯醇類偏振器的兩面上，分別貼合三乙醯基纖維素(TAC)薄膜而成的偏光薄膜的一個面上，塗布例如由盤狀液晶構成的視角擴大功能層而設置的偏光板，或用黏著劑貼付視角擴大薄膜的偏光板。在該情況下，本發明的光學用黏著劑較佳係在上述視角擴大功能層或視角擴大薄膜側設置。
藉由在液晶玻璃胞上黏著具有上述黏著劑層的偏光板而製備的液晶顯示裝置，即使在高溫高濕環境下也不會產生漏光，因此偏光板與液晶玻璃胞的黏著耐久性優異。
此外，上述具備黏著劑層的偏光板由於能改善液晶顯示裝置的視角特性，因此在藉由相位差板在液晶胞上設置的情況下，也較佳使用。即，在僅由偏光薄膜構成的偏光板上使用本發明的光學用黏著劑，獲得具備黏著劑層的偏光板，將其與相位差板貼合，從而製造新的光學構件。另外，就上述其他的方法而言，還可以在相位差板上使用本發明的光學用黏著劑，獲得具有黏著劑層的相位差板，將其與偏光板貼合。新得到的光學構件只要藉由黏著劑與液晶玻璃單元貼合，與相位差板側相接即可。其中，作為將相位差板與液晶玻璃單元貼合的黏著劑，沒有特別的限定，可以使用通常在偏光板和液晶玻璃單元的貼合中使用的黏著劑。另外，較佳係在該新的光學構件中也使用本發明的光學用黏著劑，獲得新的帶黏著劑層的光學構件，將其與液晶玻璃單元貼合。
(具有黏著劑層的光學構件黏著劑層的性狀)
由此得到的本發明的具有黏著劑層的光學構件的黏著力、再加工性、重剝離化、耐漏光性、抗靜電性能和抗靜電劑的非析出性可以藉由下述方法進行評價。
<再加工性>
再加工性，是指將光學構件藉由黏著劑層與液晶胞貼合，即使經過規定的時間，黏著劑也不會附著在液晶胞表面，能容易地從液晶胞將具有黏著劑層的光學構件剝離。
在本發明中，藉由將具有黏著劑層的偏光板的黏著劑層貼合在玻璃表面，以經過21天後的黏著力是否在規定值內來判斷再加工性。即，經過21天後的黏著力如果為30N/25mm以下，則能判斷為具有通常的再加工性。進而，如果在20N/25mm以下，則再加工性優異，如果為15N/25mm以下，則是特佳的。
本發明的光學用黏著劑，以貼合由以上形成的具備黏著劑層的光學構件21天後的黏著力為條件，可以達到20N/25mm以下。另外，對於試驗方法，在後詳述。
<耐漏光性>
本發明的具備黏著劑層的偏光板，在後面詳述的耐漏光性的測定中，ΔL*可以未達1.0，或在1.0~2.0的範圍內，耐漏光性優異。
<重剝離化>
本發明中的重剝離化是指下述現象，在黏著劑層上設置了剝離薄膜的具備黏著劑層的光學構件被放置固定時間後，將該剝離薄膜剝離時，剝離薄膜的剝離力隨時間上升。在本發明中，是指對於經過風乾後的具備黏著劑層的偏光板，風乾後黏著層上剝離薄膜的剝離力、與風乾後再在70℃下放置21天後的剝離力的差，在規定值以上的現象。從耐重剝離化性的觀點來看，具體地說，該剝離力差較佳為30mN/25mm以下，更佳為20mN/25mm以下，特佳為10mN/25mm以下。
具備黏著劑層的偏光板，直至貼付於液晶胞之前，在用剝離薄膜保護黏著劑層的狀態下被保管。當保管期較長時，該剝離薄膜剝落的剝離力上升，將剝離薄膜剝落時，會損傷黏著劑層表面。因此，要求不發生重剝離化。
《測定方法》
將設置了剝離薄膜(厚度38μm)的具備黏著劑層的偏光板裁剪成寬25mm×長100mm的尺寸。將裁剪過的具備黏著劑層的偏光板在23℃，相對濕度50%RH的條件下放置7天(風乾處理)。然後在結束風乾處理後的具備黏著劑層的偏光板的偏光板面上積層強黏著力的黏著劑，固定在玻璃基板上，然後，按照以下條件測定剝離力(剝離力α)。
剝離速度：300mm/分
剝離角度：180°
另一方面，對於上述結束風乾處理後的具備黏著劑層的偏光板，在70℃下放置21天。然後同樣將具備黏著劑層的偏光板固定在玻璃基板上，測定剝離力(剝離力β)。
計算出“剝離力β-剝離力α”，從而對重剝離化的程度進行評價。
本發明的光學用黏著劑根據條件，可以將“剝離力β-剝離力α”的值控制在5mN/25mm左右，能夠抑制重剝離化。
<抗靜電性能>
將在黏著劑層面上積層剝離薄膜的具備黏著劑層的偏光板，裁剪成縱橫50mm，形成測定試樣。該測定試樣在23℃、相對濕度50%RH的條件下加濕24小時，將剝離薄膜剝落，根據JIS K 6911，藉由表面電阻率測定裝置，在施加電壓100V下測定露出的黏著劑層的表面，對抗靜電性能進行評價。本發明具備黏著劑層的偏光板的黏著劑層的表面電阻率未達5×1010 Ω/□，具有良好的抗靜電性能。
<抗靜電劑的非析出性>
將具備黏著劑層的偏光板的黏著劑層上的剝離薄膜剝落，將露出的黏著劑層側貼附在玻璃板上，從而獲得測定試樣。
將該測定試樣在60℃，相對濕度90%RH的濕熱條件下放置24小時，然後冷卻至23℃、相對濕度50%RH的濕熱條件，透過玻璃目視觀察，從而對抗靜電劑的非析出性進行評價。本發明的光學用黏著劑即使在上述條件後，也是無色透明的，抗靜電劑的非析出性良好。
實施例
以下，藉由實施例對本發明進行更詳細的說明，但本發明並不受到這些例子的任何限定。
另外，按照以下要領求出各例得到的光學用黏著劑的性能、具備黏著劑層的偏光板的性能。
<具備黏著劑層的偏光板的性能> (1)黏著力(對於無鹼玻璃的黏著力)
將具備黏著劑層的偏光板在23℃、相對濕度50%RH的條件下放置7天。然後使用裁剪裝置[荻野製作所(股)製造，“SUPERCUTTER”]，將所得具備黏著劑層的偏光板裁剪成寬度25mm×長度100mm的尺寸，獲得測定試樣。
然後，由所得測定試樣將剝離薄膜剝落後，貼合在無鹼玻璃[CORNING公司製造，“EAGLEXG”]上。
然後，將貼合了測定試樣的無鹼玻璃投入高壓釜[栗原製作所(股)製造]，在0.5MPa、50℃的條件下加壓20分鐘，然後在23℃、相對濕度50%RH的條件下放置1天和21天。
然後，對於測定試樣，使用拉伸試驗機[ORIENTEC(股)製造，“TENSILON”]，在下述條件下測定黏著力。
剝離速度：300mm/分
剝離角度：180°
如果貼付經過21天後的黏著力為30N/25mm以下，則通常判斷為具有再加工性。此外，如果為20N/25mm以下，則再加工性優異，如果為15N/25mm以下，則可認為是特佳的。
(2)表面電阻率
將具備黏著劑層的偏光板裁剪成縱橫50mm，獲得測定試樣。將該測定試樣在23℃，相對濕度50%RH的條件下加濕24小時，然後，將剝離薄膜剝落，根據JIS K 6911，藉由[三菱化學公司製造，“Hiresta UP MCP-HT450”]，在施加電壓100V下測定露出的黏著劑層的表面，求出表面電阻率。
如果表面電阻率為5×1010 Ω/□以下，則抗靜電性能良好。
(3)抗靜電劑的非析出性
將具備黏著劑層的偏光板的黏著劑層上的剝離薄膜剝落，將露出的黏著劑層側貼付在玻璃板上，從而獲得測定試樣。
將該測定試樣在60℃，相對濕度90%RH的濕熱條件下放置24小時，然後冷卻至23℃，相對濕度50%RH的濕熱條件，透過玻璃目視觀察，根據下述標準進行評價。
○：無色透明
△：僅略微起霧
×：在整面上發現凝集物
(4)剝離力
將設置了剝離薄膜[LINTEC(股)製造，“SP-PET3811”，厚度38μm]的具備黏著劑層的偏光板裁剪成寬25mm×長100mm的尺寸。將裁剪過的具備黏著劑層的偏光板在23℃，相對濕度50%RH的條件下放置7天(風乾處理)。然後，在結束風乾處理後的具備黏著劑層的偏光板的偏光板面上，積層強黏著力的黏著劑，固定在玻璃基板上，然後，按照以下條件測定剝離力(剝離力α)。
剝離速度：300mm/分
剝離角度：180°
另一方面，對於上述結束風乾處理後的具備黏著劑層的偏光板，在70℃下放置21天。然後同樣將具備黏著劑層的偏光板固定在玻璃基板上，測定剝離力(剝離力β)。
計算出“剝離力β-剝離力α”，從而對重剝離化的程度進行評價。
從防重剝離化性的觀點來看，“剝離力β-剝離力α”的值較佳為30mN/25mm以下，更佳為20mN/25mm以下，特佳為10mN/25mm以下。
(5)耐漏光性
將具備黏著劑層的偏光板(具備盤型液晶層)藉由裁剪裝置[荻野精機製作所(股)製造，SUPERCUTTER“PN1-600”]，調整為233mm×309mm的尺寸，然後貼合在無鹼玻璃[CORNING公司製造，“1737”]上，之後藉由栗原製作所製造的高壓釜，在0.5MPa，50℃的條件下加壓20分鐘。另外，上述貼合在無鹼玻璃的內外側進行，使得具備黏著劑層的偏光板形成偏光軸為正交偏振的狀態。在該狀態下以80℃放置200小時。然後，在23℃，相對濕度50%RH的狀態下放置2小時，從而在同一環境下，按照下示的方法評價防漏光性。
使用[大塚電子公司製造，“MCPD-2000”]，測定圖2中所示各領域的亮度，亮度差△L*按照下式求出：
△L*=[(b+c+d+e)/4]-a
(其中，a、b、c、d和e分別為在A區域、B區域、C區域、D區域和E區域中預先測定的點(各區域中央部分一個部位)中的亮度)，作為漏光性，按照下述判斷標準評價耐漏光性。
◎：△L*<1.0
○：1.0≦△L*≦2.0
×：△L*>2.0
(6)具備黏著劑層的偏光板的耐久性(15英寸大小)
將具備黏著劑層的偏光板藉由裁剪裝置[荻野精機製作所(股)製造，SUPERCUTTER“PN1-600”]，調整為233mm×309mm的尺寸，然後貼合在無鹼玻璃[CORNING公司製造，“1737”]上，之後藉由栗原製作所公司製造的高壓釜，在0.5MPa，50℃的條件下加壓20分鐘。然後放入到下述各耐久條件的環境下，在200小時後，使用10倍的放大鏡觀察，按照以下判斷標準評價耐久性。
○：從頂端部分至0.3mm以上的位置完全沒有缺陷點(鼓脹、分開、發泡等)。
△：從頂端部分至0.3~0.7mm的位置存在缺陷點。從頂端部分至超過0.7mm的位置沒有缺陷點。
×：從頂端部分至0.7mm以上的位置存在缺陷點。
<耐久條件>
在60℃、相對濕度90%RH的環境、80℃的乾式環境
進行-35℃~70℃的各30分鐘的熱衝擊試驗，迴圈200次
實施例1~9和比較例1~6
製備表1所示組成(換算成固體成分)的黏著劑形成材料，再加入甲苯作為溶劑，獲得固體成分調整為20質量%的塗布液。使用該塗布液，在作為剝離薄膜的厚度38μm的聚對苯二甲酸乙二酯製的剝離薄膜[LINTEC公司製造，“SP-PET3811”]的剝離層上，用刀式塗布機進行塗布，以使乾燥後的厚度為20μm，然後在90℃下乾燥處理1分鐘，從而形成黏著劑形成材料層。
然後，將由具備盤型液晶層(視角擴大功能層)的偏光薄膜構成的偏光板進行貼合，使黏著劑形成材料層與盤型液晶層相接。從貼合30分鐘後，由剝離薄膜側按照下述條件照射紫外線(UV)，製備具備黏著劑層的偏光板。黏著劑層的厚度為25μm。
<UV照射條件>
‧FUSION公司製的無電極燈，使用H燈泡
‧照度600mW/cm2 ，光量150mJ/cm2
UV照度光量計使用[EYE GRAPHICS公司製造，“UVPF-36”]。
黏著劑的性能、具備黏著劑層的偏光板的性能和抗靜電劑的非析出性的評價結果在表2中示出。
此外，將實施例1的上述黏著劑形成材料層與其他聚對苯二甲酸乙二酯製造的剝離薄膜[LINTEC公司製造，“SP-PET3801”]貼合來代替與上述偏光板貼合。
然後，在與偏光板貼合的情況同樣的條件下照射紫外線，從而獲得剝離薄膜/黏著劑層/剝離薄膜的結構的光學用黏著片。
然後，將剝離薄膜[LINTEC公司製造，“SP-PET3801”]剝落，對露出的黏著劑層表面和與上述偏光板的黏著劑層貼合側的表面進行電暈處理，然後將它們貼合，從而獲得具備黏著劑層的偏光板。
所得具備黏著劑層的偏光板具有與實施例1的具備黏著劑層的偏光板相同的性能。
註：
1)MEA：丙烯酸2-(甲氧基)乙酯
2)ECA：丙烯酸乙基卡比醇酯
3)HEA：丙烯酸2-羥基乙酯
4)BA：丙烯酸丁酯
5)AA：丙烯酸
6)M-315：參(丙烯醯氧基乙基)異氰脲酸酯[東亞合成公司製造，商品名]
另外，(a-1)、(a-2)、(a-3)和其他欄的數值，表示(A)丙烯酸酯共聚物中的各成分(結構單元)的含量(質量%)，(b-1)和(b-2)欄的數值表示(B)丙烯酸酯共聚物中各成分(結構單元)的含量(質量%)。
此外，丙烯酸酯共聚物(A)和(B)的重量平均分子量(Mw)均為140萬。測定條件如下所述。
<GPC測定條件>
GPC測定裝置：TOSOH(股)公司製造，“HLC-8020”
GPC管柱(按以下順序藉由)：TOSOH(股)公司製造
TSK保護管柱“HXL-H”
TSK矽膠管柱“GMHXL”(×2)
TSK矽膠管柱“G2000HXL”
測定溶劑：四氫呋喃
檢測線：聚苯乙烯
測定溫度：40℃
註：
7)光聚合引發劑：二苯酮與1-羥基環己基苯基酮的質量比為1:1的混合物[Ciba Specialty Chemicals公司製造，“IRGACURE500”]
8)TDI：甲苯二異氰酸酯：三羥甲基丙烷=3:1(莫耳比)的加成物
9)KBM-403：3-縮水甘油基丙基三甲氧基矽烷[信越化學(股)製造，商品名]
10)PyPF6 ：1-辛基-4-甲基吡啶鎓六氟膦酸鹽
11)KFSI：雙(二氟磺醯基)醯亞胺鉀
12)LiTFSI：雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺鉀
13)四甘醇二甲醚：四乙二醇二甲醚
註：
14)WV：具備盤型液晶層的偏光板
工業上的可利用性
本發明的光學用黏著劑，在黏著劑上積層偏光板等光學構件時使用，具有抗靜電性能，具有良好的黏附力、再剝離性(再加工性)和耐久性，且還兼具抗靜電劑的防洩漏性，較佳係用於偏光板等光學構件的貼附。
1．．．聚乙烯醇系偏光鏡
2．．．TAC薄膜I
2’．．．TAC薄膜II
3．．．黏著劑層
4．．．剝離片
5．．．表面保護薄膜
10．．．偏光板
圖1是表示偏光板一個例子結構的立體圖。
圖2是表示對實施例、比較例所得具備黏著劑層的偏光板的耐漏光性進行評價的方法的說明圖。

Claims (9)

  1. 一種光學用黏著劑，其特徵在於由黏著劑形成材料交聯而得到，該黏著劑形成材料含有：(A)(甲基)丙烯酸酯共聚物，其具有以下三者作為結構單元：5~90質量%的(a-1)氧化烯基團(oxyalkylene group)的碳原子數為2~4，且該氧化烯基團的個數為1~10之包含氧化烯基團的(甲基)丙烯酸類單體、0.1質量%以上且未達10質量%的(a-2)包含反應性基團的(甲基)丙烯酸類單體、(a-3)(甲基)丙烯酸烷酯；(B)(甲基)丙烯酸酯共聚物，其具有包含反應性基團的(甲基)丙烯酸類單體作為結構單元；(C)活性能量線固化型化合物和(D)抗靜電劑，且該(A)成分和(B)成分的含有比例以質量比計為100：1~100：50。
  2. 如申請專利範圍第1項的光學用黏著劑，其中，相對於總計100質量份的(A)成分和(B)成分，(C)活性能量線固化型化合物的含量為1~50質量份。
  3. 如申請專利範圍第1或2項的光學用黏著劑，其中，(a-2)包含反應性基團的(甲基)丙烯酸類單體為包含羥基的(甲基)丙烯酸類單體。
  4. 如申請專利範圍第1或2項的光學用黏著劑，其中，(B)成分的結構單元的包含反應性基團的(甲基)丙烯酸類單體為包含羧基的(甲基)丙烯酸類單體。
  5. 如申請專利範圍第1或2項的光學用黏著劑，其中，相對於總計100質量份的(A)成分和(B)成分和(C)成分，(D) 抗靜電劑的含量為0.1~10質量份。
  6. 如申請專利範圍第1或2項的光學用黏著劑，其中，黏著劑形成材料還含有(E)交聯劑。
  7. 一種具備剝離薄膜的光學用黏著片，其係使用如申請專利範圍第1至6項中任一項的光學用黏著劑而形成。
  8. 一種具備黏著劑層的光學構件，其中，在光學構件上具有由如申請專利範圍第1至6項中任一項的光學用黏著劑形成的層。
  9. 如申請專利範圍第8項的具備黏著劑層的光學構件，其中，光學構件係偏光板。
TW100108852A 2010-03-18 2011-03-16 光學用黏著劑、光學用黏著片及附有黏著劑層之光學構件 TWI504707B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010062487A JP5587645B2 (ja) 2010-03-18 2010-03-18 光学用粘着剤、光学用粘着シート及び粘着剤層付き光学部材

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201137068A TW201137068A (en) 2011-11-01
TWI504707B true TWI504707B (zh) 2015-10-21

Family

ID=44599870

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW100108852A TWI504707B (zh) 2010-03-18 2011-03-16 光學用黏著劑、光學用黏著片及附有黏著劑層之光學構件

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5587645B2 (zh)
KR (1) KR101841768B1 (zh)
CN (1) CN102190967B (zh)
TW (1) TWI504707B (zh)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103764777B (zh) 2011-08-25 2016-08-17 Lg化学株式会社 压敏粘合剂
JP5826105B2 (ja) * 2012-05-02 2015-12-02 藤森工業株式会社 表面保護フィルム、及びそれが貼合された光学部品
JP5658711B2 (ja) * 2012-05-25 2015-01-28 藤森工業株式会社 粘着フィルム用剥離フィルム、及びそれを用いた粘着フィルム
JP5977582B2 (ja) * 2012-05-25 2016-08-24 藤森工業株式会社 表面保護フィルム、及びそれが貼合された光学部品
TWI609201B (zh) * 2012-08-27 2017-12-21 Ｌｇ化學股份有限公司 偏光板
KR101590676B1 (ko) * 2013-02-07 2016-02-01 (주)엘지하우시스 하이브리드 언더코팅층 조성물 및 이를 포함하는 투명 도전성 필름
JP5852995B2 (ja) * 2013-07-18 2016-02-09 藤森工業株式会社 帯電防止表面保護フィルムの製造方法、及び帯電防止表面保護フィルム
JP5882266B2 (ja) * 2013-08-20 2016-03-09 藤森工業株式会社 表面保護フィルム、及びそれが貼合された光学部品
KR102006421B1 (ko) * 2014-06-18 2019-08-01 주식회사 엘지화학 이온성 화합물의 선택 방법
JP6224547B2 (ja) * 2014-08-26 2017-11-01 藤森工業株式会社 表面保護フィルム、及びそれが貼合された光学部品
JP6707807B2 (ja) * 2014-12-24 2020-06-10 住友化学株式会社 偏光板及び液晶表示装置
JP6554377B2 (ja) * 2015-09-30 2019-07-31 リンテック株式会社 粘着剤組成物及び粘着シート
JP2017144608A (ja) * 2016-02-16 2017-08-24 藤森工業株式会社 表面保護フィルム、及びそれが貼合された光学部品
JP6382873B2 (ja) * 2016-03-11 2018-08-29 住友化学株式会社 粘着剤層付光学部材
CN108776363B (zh) * 2018-04-23 2020-09-08 深圳市运宝莱光电科技有限公司 一种防蓝光偏光片的制备方法
CN110157364B (zh) * 2019-04-30 2022-02-11 青岛光电医疗科技有限公司 一种医用导电压敏胶及其制备方法和所得的电极片
US20230044139A1 (en) * 2020-01-09 2023-02-09 Lg Innotek Co., Ltd. Light route control member and display device comprising same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200619341A (en) * 2004-09-16 2006-06-16 Nitto Denko Corp Adhesive composition, adhesive sheets and surface protecting film
TW200815558A (en) * 2006-07-26 2008-04-01 Lintec Corp Pressure-sensitive adhesive for applying optically functional film, optically functional film and production process for the same

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5422091B2 (ja) * 2003-12-26 2014-02-19 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 帯電防止アクリル粘着剤
JP2005314579A (ja) * 2004-04-30 2005-11-10 Nitto Denko Corp 粘着剤組成物、および粘着シート類
JP4917267B2 (ja) * 2004-09-16 2012-04-18 日東電工株式会社 粘着剤組成物、粘着シート類、および表面保護フィルム
JP5259940B2 (ja) * 2005-09-05 2013-08-07 日東電工株式会社 粘着剤組成物、粘着シートおよび表面保護フィルム
JP4942171B2 (ja) * 2006-09-14 2012-05-30 綜研化学株式会社 粘着剤組成物および粘着シート

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200619341A (en) * 2004-09-16 2006-06-16 Nitto Denko Corp Adhesive composition, adhesive sheets and surface protecting film
TW200815558A (en) * 2006-07-26 2008-04-01 Lintec Corp Pressure-sensitive adhesive for applying optically functional film, optically functional film and production process for the same

Also Published As

Publication number Publication date
CN102190967A (zh) 2011-09-21
TW201137068A (en) 2011-11-01
KR20110105335A (ko) 2011-09-26
KR101841768B1 (ko) 2018-03-23
JP2011195666A (ja) 2011-10-06
CN102190967B (zh) 2015-04-15
JP5587645B2 (ja) 2014-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI504707B (zh) 光學用黏著劑、光學用黏著片及附有黏著劑層之光學構件
TWI428414B (zh) 光學機能性薄膜貼合用黏著劑、光學機能性薄膜及其製法
JP5047557B2 (ja) 粘着剤組成物及びそれを用いた粘着シートと粘着性光学部材
TWI582190B (zh) 接著劑組成物、接著膜、光學構件及接著片
KR101201102B1 (ko) 점착제 조성물 및 점착 시트
KR101686666B1 (ko) 편광판, 광학 부재 및 액정 표시 장치
US20140011022A1 (en) Pressure-sensitive adhesive sheet and use thereof
TWI640597B (zh) 光擴散黏著劑層和光擴散黏著膜
JP2009242633A (ja) 光学用粘着剤シート、粘着剤付き光学部材及びその製造方法
KR20100016163A (ko) 정전기 방지성의 광학적으로 투명한 감압 접착제
JP6469869B2 (ja) 粘着剤組成物
TWI485216B (zh) 黏合劑組合物、黏合劑及黏合片材
TW201518452A (zh) 黏著劑組成物、黏著薄膜及表面保護膜
JP2019147865A (ja) 活性エネルギー線硬化型接着剤組成物、偏光フィルムおよびその製造方法、光学フィルム、ならびに画像表示装置
KR20130138121A (ko) 점착제층이 형성된 광학 필름의 제조 방법
KR20240015703A (ko) 표면 보호 필름 및 그것이 첩합된 광학 부품
JP2010229342A (ja) 光学用粘着剤、光学用粘着シート及び粘着剤付き光学部材
JP4578991B2 (ja) 帯電防止性粘着型光学フィルム及び画像表示装置
KR100972733B1 (ko) 대전방지 성능과 내구성이 우수한 점착필름
KR20110012042A (ko) 대전방지성 점착제 조성물, 이를 이용한 편광판 및 표면보호필름
KR20080087972A (ko) 대전방지성 점착제 조성물 및 이를 포함하는 편광판
KR20090110661A (ko) 대전방지성 편광판 및 이를 구비한 액정표시장치
KR20150109684A (ko) 광학 필름
KR100768745B1 (ko) 점착 필름 및 이를 구비한 편광판
JP7362882B2 (ja) 帯電防止表面保護フィルム