TWI502038B - Adhesive layer for optical film, adhesive type optical film, manufacturing method thereof, and image display device - Google Patents

Adhesive layer for optical film, adhesive type optical film, manufacturing method thereof, and image display device Download PDF

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TWI502038B TW099137766A TW99137766A TWI502038B TW I502038 B TWI502038 B TW I502038B TW 099137766 A TW099137766 A TW 099137766A TW 99137766 A TW99137766 A TW 99137766A TW I502038 B TWI502038 B TW I502038B
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Kunihiro Inui
Takaaki Ishii
Masayuki Satake
Kenichi Okada
Toshitaka Takahashi
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Description

光學薄膜用黏著劑層、黏著型光學薄膜、其製造方法及影像顯示裝置 發明領域
本發明係關於由水分散型黏著劑形成之光學薄膜用黏著劑層。另外，本發明係關於在光學薄膜上具有該黏著劑層之黏著劑型光學薄膜及其製造方法。進一步地，本發明係關於使用了前述黏著型光學薄膜之液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、PDP等的影像顯示裝置。前述光學薄膜可以應用偏光板、相位差板、光學補償薄膜、增亮薄膜，還有該等之積層而成者。
 發明背景
液晶顯示裝置等從其影像形成方式來看，在液晶單元的兩側配置偏光元件是必不可少的，一般而言係貼附偏光板。另外，為提高顯示器的顯示質量，液晶面板中除了偏光板以外，各種光學元件愈發受到應用。例如，為防止著色的相位差板、用以改善液晶顯示器的視場角之視場角擴大薄膜，以及用以提高顯示器之對比度的增亮薄膜等受到應用。該等之薄膜統稱為光學薄膜。
在液晶單元貼附前述光學薄膜之際，通常係使用黏著劑。另外，光學薄膜與液晶單元，或者光學薄膜間的附著，通常為了降低光損失，各自的材料係使用黏著劑進行密合。這種情形下，由於具有在固定光學薄膜時不需要乾燥步驟等的優點，所以黏著劑在光學薄膜的單側預先設有黏著劑層之黏著型光學薄膜一般會受到應用。
因為用於前述黏著型光學薄膜之光學薄膜在加熱或加濕之條件下容易收縮、膨脹，所以將前述黏著型光學薄膜貼合到液晶單元之後容易產生浮起或剝離。因此，要求前述黏著劑層對於加熱以及加濕等之耐久性。另外，前述黏著劑層要求可加工性，在光學薄膜形成黏著劑層後黏著劑不會產生污染或脫落等。
自過去以來，從加熱或加濕熱環境下耐久性優異的點上來看，用於形成上述黏著型光學薄膜之黏著劑層的黏著劑主要是使用有機溶劑型黏著劑。但是，近年來從降低地球環境負荷，提高作業安定性之觀點來看，正在積極開發不使用有機溶劑之無溶劑型黏著劑。
無溶劑型黏著劑提出了例如用紫外線照射含有高分子量聚合物與指定量的單體之黏著劑組成物，發生光聚合以使殘存單體達到指定量以下來形成黏著劑層之方法(專利文獻1)。另外，提出了作為無溶劑型黏著劑係使用水作為分散媒介，在水中分散黏著劑聚合物成分而成之水分散型黏著劑。從耐濕性之觀點出發提出了水分散型黏著劑係例如使用了含磷酸基單體的水分散型丙烯酸系黏著劑(專利文獻2)。另外，提出了水分散型黏著劑係在水分散型丙烯酸系聚合物中混合氧化還原系起始劑，降低水分散型黏著劑中之殘存單體量的方法(專利文獻3)。特別地，從生產性、外觀、不使用蓋分離器等的輔助材料之經濟性方面，期待水分散型黏著劑之實用化。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：特開2002-241707號公報
專利文獻2：特開2007-186661號公報
專利文獻3：特開2006-169293號公報
 發明概要 用以欲解決課題之手段
但是，使用水分散型黏著劑形成黏著劑層之黏著型光學薄膜在耐久性上存在問題，其在加熱、加濕熱等之嚴酷環境下會產生發泡和剝離。專利文獻3中係令用於形成黏著劑層之水分散型黏著劑之殘存單體降低，不過單單降低水分散型黏著劑之殘存單體難以獲得可以滿足耐久性之黏著型光學薄膜。
本發明之目的在於提供一種應用於光學薄膜的，利用水分散型黏著劑形成之黏著劑層，該光學薄膜用黏著劑層即使在高熱、高濕度環境下依然具有可以抑制發泡、剝離之高耐久性。
另外，本發明之目的在於提供一種黏著型光學薄膜及其製造方法，該黏著型光學薄膜係在光學薄膜的至少單側積層前述光學薄膜用黏著劑層。進一步地，發明之目的在於提供一種應用了前述黏著型光學薄膜之影像顯示裝置。
用以欲解決課題之手段
本發明人等為解決前述課題反復悉心研究之結果，發現利用下述之光學薄膜用黏著劑層可以解決前述課題，終而完成本發明。
亦即，本發明係關於一種光學薄膜用黏著劑層，其特徵在於：前述黏著劑層係藉由塗佈水分散型黏著劑後進行乾燥而形成者，該水分散型黏著劑含有水分散液，水分散液在水中至少分散含有原料聚合物，而且，該黏著劑層中之殘存單體量相對於1g黏著劑層之固體含量為5～100ppm。
在前述光學薄膜用黏著劑層中，前述水分散型黏著劑之原料聚合物以(甲基)丙烯酸系聚合物為合適。另外，前述原料聚合物之(甲基)丙烯酸系聚合物宜為利用乳化聚合製得者。
另外，本發明係關於一種黏著型光學薄膜，特徵在於，其係在光學薄膜的至少單側積層前述光學薄膜用黏著劑層者。
另外，本發明係關於一種黏著型光學薄膜之製造方法，係前述黏著型光學薄膜之製造方法，其特徵在於具有步驟(1)以及步驟(2A)：步驟(1)：係在光學薄膜之單面或兩面塗佈水分散型黏著劑，該水分散型黏著劑係由在水中至少分散含有原料聚合物之水分散液所構成，而且，相對於1g該水分散液之固體含量含有1500～25000ppm之殘存單體；以及步驟(2A)：係在80～170℃之乾燥溫度下，將經塗佈之水分散型黏著劑進行乾燥，使黏著劑層中之殘存單體量相對於1g黏著劑層之固體含量成為5～100ppm，而形成黏著劑層。
另外，本發明係關於一種黏著型光學薄膜之製造方法，係前述黏著型光學薄膜之製造方法，其特徵在於具有步驟(1)、步驟(2B)以及步驟(3)，：步驟(1)：係在離型薄膜之單面或兩面塗佈水分散型黏著劑，該水分散型黏著劑係由在水中至少分散含有原料聚合物之水分散液所構成，而且，相對於1g該水分散液之固體含量含有1500～25000ppm之殘存單體；步驟(2B)：係在80～170℃之乾燥溫度下，將經塗佈之水分散型黏著劑進行乾燥，使黏著劑層中之殘存單體量相對於1g黏著劑層之固體含量成為5～100ppm，而形成黏著劑層；以及步驟(3)：係將形成於離型薄膜之黏著劑層貼合到光學薄膜上。
另外，本發明係關於一種影像顯示裝置，其特徵在於應用了至少1片前述黏著型光學薄膜。
發明效果
本發明之光學薄膜用黏著劑層係利用水分散型黏著劑形成黏著劑層，透過將該黏著劑層之殘存單體量控制在上述指定範圍(5～100ppm)來滿足高耐久性，適合用於黏著型光學薄膜。另外，本發明之光學薄膜用黏著劑層外觀良好。
本發明之黏著型光學薄膜係利用將塗佈前之水分散型黏著劑中之殘存單體量控制在上述指定範圍(1500～25000ppm)者，而且，可以透過在指定之乾燥條件(80～170℃)乾燥來形成黏著劑層以製得。這樣處理製得之黏著型光學薄膜具有進一步優異之耐久性。另外，若依據該黏著型光學薄膜之製造方法，由於塗佈前之水分散型黏著劑中殘存單體量含有指定量以上之殘存單體，水分散型黏著劑之保存安定性就會良好，可以防止水分散型黏著劑之腐敗。
 用以實施發明之形態
本發明之光學薄膜用黏著劑層係透過塗佈水分散型黏著劑後進行乾燥而形成者，該黏著劑層之殘存單體量係控制在5～100ppm。
當前述黏著劑層中之殘存單體量超過100ppm時，因殘留單體自身的影響，會促進加熱下的發泡或加濕下的水分吸收，黏著劑層會產生發泡、剝離等耐久性上的不良。另外，當殘留單體量多時，黏著劑層之塗膜強度就會變弱，容易產生發泡、剝離等的不良。另一方面，當前述黏著劑層中之殘存單體量少於5ppm時，在黏著劑層之形成步驟中的乾燥步驟就必須經歷較多的熱歷程，容易對形成之黏著劑層給予損傷。另外，雖然原因尚不明確，不過令黏著劑層中存在前述指定量之少量殘存單體之作法會對剝離等發揮有效作用。前述黏著劑層中的殘留單體量以5～50ppm為佳，5～30ppm特別合適。
再者，黏著劑層中之殘存單體量的定量化係在實施例中記載之氣相層析術中進行。另外，當含有高沸點之單體(沸點250℃以上)時，係一併使用液相層析術進行殘存單體量之定量化。氣相層析術與液相層析術的測定值之和就是殘存單體量。
水分散型黏著劑是在水中至少分散含有原料聚合物之水分散液。該水分散液通常係使用在界面活性劑之存在下分散有原料聚合物者，若為水中分散含有原料聚合物者，因自分散性原料聚合物之自分散，就可以使用成為水分散液者。
另外，水分散液中之原料聚合物可舉將單體在乳化劑之存在下乳化聚合，或者在界面活性劑之存在下分散聚合，利用聚合製得者。
另外，水分散液可以將額外製造成之原料聚合物在乳化劑之存在下於水中利用乳化分散來製造。乳化方法可舉預先將聚合物與乳化劑加熱熔融，或者不加熱熔融，利用例如加壓捏揉機、膠體研磨機、高速攪拌軸等的混合機施加高剪切以令該等與水均勻地乳化分散後，進行冷卻使分散粒子不會熔著凝集，以製得所需之水分散體之方法(高壓乳化法)或，預先將聚合物溶解於苯、甲苯、乙酸乙酯等的有機溶劑後，添加前述乳化劑以及水，再利用例如高速乳化機施加高剪切使其均勻地乳化分散後，利用減壓-加熱處理等除去有機溶劑，以得到所需之水分散體之方法(溶劑溶解法)等。
水分散型黏著劑可以使用各種黏著劑，可舉例如橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、矽系黏著劑、聚胺甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯基醇系黏著劑、聚乙烯基吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯酸醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑、聚酯系黏著劑、氟系黏著劑等。依據前述黏著劑之種類選擇黏著性的原料聚合物或分散手段。
前述黏著劑之中，本發明之光學透明性優異，且顯示出適當的濕潤性與凝集性與黏著特性，從耐候性和耐熱性等優異的點上適合使用水分散型之丙烯酸系黏著劑。
水分散型丙烯酸系黏著劑之原料聚合物的(甲基)丙烯酸系聚合物係例如，將以(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分之單體成分在乳化劑、自由基聚合起始劑之存在下透過乳化聚合以共聚物乳膠之形式製得。再者，(甲基)丙烯酸烷基酯稱為丙烯酸烷基酯及/或甲基丙烯酸烷基酯，與本發明之(甲基)為同樣的意義。
構成(甲基)丙烯酸系聚合物之主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯可以例示直鏈狀或支鏈狀之烷基的碳數1～20者。例如，前述烷基可以例示甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、新戊基、異戊基、己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、異壬基、癸基、異癸基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基、二十烷基等。該等可以單獨或組合使用。該等烷基之平均碳數以3～9為佳。特別是在本發明中，上述(甲基)丙烯酸烷基酯特別適合使用丙烯酸丁酯之類的沸點比水高的單體。
前述(甲基)丙烯酸系聚合物中，在(甲基)丙烯酸烷基酯以外，以水分散液之安定化，提高對於黏著劑層之光學薄膜等的基材之密合性，還有提高對於被覆體之初期附著性等為目的，可以利用共聚合導入1種以上的共聚合單體，該共聚合單體具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等的不飽和雙鍵相關之聚合性官能基。
前述共聚合單體之具體例不作特殊限制，可舉例如，(甲基)丙烯酸、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、巴豆酸、丙烯酸羧乙酯、丙烯酸羧戊酯(carboxypentyl acrylate)等的含羧基單體；例如，順丁烯二酸酐、伊康酸酐等的含酸酐基單體；例如，(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸冰片酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯等的(甲基)丙烯酸脂環式烴酯；例如，(甲基)丙烯酸苯酯等的(甲基)丙烯酸芳酯，例如，乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等的乙烯酯類；例如，苯乙烯等的苯乙烯系單體；例如，(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基縮水甘油酯等的含環氧基單體；例如，丙烯酸-2-羥乙酯、丙烯酸-2-羥丙酯等的含羥基單體；例如，(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯基嗎福林、(甲基)丙烯酸胺乙酯、(甲基)丙烯酸-N,N-二甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸-叔丁基胺乙酯等的含氮原子之單體；例如，(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲 基)丙烯酸乙氧基乙酯等的含烷氧基單體；例如，丙烯腈、甲基丙烯腈等的含氰基單體；例如，2-甲基丙烯醯氧基乙基異氰酸酯等的官能性單體；例如，乙烯、丙烯、異戊二烯、丁二烯、異丁烯等的烯烴系單體；例如，乙烯醚等的乙烯醚系單體；例如，氯化乙烯等的含鹵原子單體；除此以外，例如N-乙烯吡咯啶酮、N-(1-甲基乙烯)吡咯啶酮、N-乙烯吡啶、N-乙烯哌啶酮、N-乙烯嘧啶、N-乙烯哌啶、N-乙烯吡嗪、N-乙烯吡咯、N-乙烯咪唑、N-乙烯噁唑、N-乙烯嗎福林等的含乙烯基雜環化合物或N-乙烯羧酸醯胺類等。
另外，共聚合性單體可舉例如N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-異丙基順丁烯二醯亞胺、N-月桂基順丁烯二醯亞胺、N-苯基順丁烯二醯亞胺等的順丁烯二醯亞胺系單體；例如，N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等的伊康醯亞胺系單體；例如，N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等的琥珀醯亞胺系單體；例如苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸(allyl sulfonic acid)、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、磺丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等的含磺酸基單體。
另外，共聚合性單體可舉含磷酸基單體。含磷酸基單 體可舉例如具有由下述一般式(1)所表示之磷酸基或其鹽的含磷酸基單體：
(一般式(1)中，R1 表示氫原子或甲基，R2 表示碳數1~4的伸烷基、m表示2以上的整數，M1 以及M2 分別獨立表示氫原子或陽離子。)。
再者，一般式(1)中，m為2以上，合適的是4以上，通常為40以下，m表示氧伸烷基之聚合度。另外，聚氧伸烷基可舉例如聚氧伸乙基、聚氧伸丙基等，該等聚氧伸烷基亦可為該等之無規、嵌段或接枝單元等。另外，涉及磷酸基的鹽之陽離子不作特殊限制，可舉例如鈉、鉀等的鹼金屬，例如鈣、鎂等的鹼土類金屬等之無機陽離子，例如4級胺類等的有機陽離子等。
另外，共聚合性單體可舉例如，(甲基)丙烯酸聚乙二醇、(甲基)丙烯酸聚丙二醇、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇等的二元醇系丙烯酯單體；除此以外例如，(甲基)丙烯酸四氫糠基酯或氟化(甲基)丙烯酸酯等的雜環或含有鹵原子之丙烯酸酯系單體等。
此外，共聚合性單體可舉矽系不飽和單體。矽系不飽和單體中含有矽系(甲基)丙烯酸酯單體，或矽系乙烯單體 等。矽系(甲基)丙烯酸單體可舉例如，(甲基)丙烯醯氧基甲基-三甲氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基-三乙氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-三甲氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三丁氧基矽烷等的(甲基)丙烯醯氧基烷基-三烷氧基矽烷；例如，(甲基)丙烯醯氧基甲基-甲基二甲氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基-甲基二乙氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-甲基二甲氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-甲基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二丁氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二丁氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-丙基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-丙基二乙氧基矽烷等的(甲基)丙烯醯氧基烷基-烷基二烷氧基矽烷或，對應該等之(甲基)丙烯醯氧基烷基-二烷基(單)烷氧基矽烷等。另外，矽系乙烯單體可舉例如，乙烯三甲氧基矽烷、乙烯三乙氧基矽烷、乙烯三丙氧基矽烷、乙烯三異丙氧基矽烷、乙烯三丁氧基矽烷等的乙烯三烷氧基矽烷，此外還有對應該等之乙烯烷基二烷氧基矽烷或，乙烯二烷基烷氧基矽烷，例如乙烯甲基三甲氧基矽烷、乙烯甲基三乙氧基矽烷、β-乙烯乙基三甲氧基矽烷、β-乙烯乙基三乙氧基矽烷、γ-乙烯丙基三甲氧基矽烷、γ-乙烯丙基三乙氧基矽烷、γ-乙烯丙基三丙氧基矽烷、γ-乙烯丙基三異丙氧基矽烷、γ-乙烯丙基三丁氧基矽烷等的乙烯烷基三烷氧基矽烷，此外還有對應該等之(乙烯烷基)烷基二烷氧基矽烷或(乙烯烷基)二烷基(單)烷氧基矽烷等。
此外，為調整水分散型黏著劑之凝膠分率等，可以使用多官能性單體作為共聚合性單體。多官能單體可舉具有2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等的不飽和雙鍵之化合物等。可舉例如，乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等的(單或聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯或，丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等的(單或聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等的(單或聚)伸烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯，除此之外還有新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等的(甲基)丙烯酸與多元醇的酯化物；二乙烯苯等的多官能乙烯化合物；(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯等的具有反應性不飽和雙鍵之化合物等。另外，多官能性單體亦可使用在聚酯、環氧、胺甲酸酯等的骨架上加成了2個以上作為與單體成分相同之官能基是(甲基)丙烯醯基、乙烯基等的不飽和雙鍵之聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等。
該等之共聚合單體之中，從水分散液(乳膠等)的安定化，或確保對於玻璃面板之密合性之觀點來看，適合使用丙烯酸等的含羧基單體、含磷酸基單體、含矽系不飽和單體，其中玻璃面板係由該水分散液形成之黏著劑層的被覆體。
(甲基)丙烯酸系聚合物係以(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分者，其混合比例相對於單體成分總量為50重量%以上，以60重量%以上為佳，70重量%以上更佳。另外，其上限不作特殊限制，為例如100重量%，以99重量%為佳，98重量%更佳。(甲基)丙烯酸烷基酯的混合比例若低於50重量%，有時黏著劑層之附著力等的黏著特性就會降低。
另外，共聚合性單體之混合比例相對於單體成分總量為例如低於50重量%，以低於40重量%為佳，低於30重量%更佳。共聚合性單體可以依據各共聚合性單體之種類適當選擇混合比例。例如，當共聚合性單體為含羧基單體之情形，其比例相對於單體成分總量以0.1～6重量%為佳，含磷酸基單體之情形，其比例以0.5～5重量%為佳，矽系不飽和單體之情形其比例係以0.005～0.2重量%為佳。
前述單體成分之乳化聚合係以常法令單體成分在水中發生乳化後進行乳化聚合。藉此製備(甲基)丙烯酸系聚合物之水分散液。乳化聚合中，例如與上述單體成分一起，可以在水中適當混合乳化劑、自由基聚合起始劑，依需要還有鏈轉移劑等。較具體地說，可以採用例如整體混入法(整體聚合法)、單體滴液法、單體乳膠滴液法等的公知乳化聚合法。再者，單體滴液法中，可以適當選擇連續滴液或分割滴液。該等之方法可以適當組合。反應條件等可以適當選擇，聚合溫度在例如0～150℃左右，聚合時間在2～15小時左右。
乳化劑不作特殊限制，可以使用乳化聚合所常用之各種乳化劑。可舉例如月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二烷基苯磺酸鈉、聚氧伸乙基月桂基硫酸鈉、聚氧伸乙基烷基醚硫酸鈉、聚氧伸乙基烷基苯基醚硫酸銨、聚氧伸乙基烷基苯基醚硫酸鈉、聚氧伸乙基烷基磺酸琥珀酸鈉等的陰離子系乳化劑；例如，聚氧伸乙基烷基醚、聚氧伸乙基烷基苯基醚、聚氧伸乙基脂肪酸酯、聚氧伸乙基‧聚氧伸丙基‧嵌段聚合物等的非離子系乳化劑等。另外，可舉在該等陰離子系乳化劑或非離子系乳化劑中導入丙烯基或烯丙醚基等的自由基聚合性官能基(自由基反應性基)而成之自由基聚合性乳化劑等。該等乳化劑適合單獨或一併使用。在該等之乳化劑之中，從水分散液(乳膠)之安定性、黏著劑層之耐久性的觀點來看，適合使用具有自由基聚合性官能基之自由基聚合性乳化劑。
前述乳化劑之混合比例相對於前述(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分之單體成分100重量份為例如0.1～5重量份，以0.4～3重量份為佳。乳化劑之混合比例若在該範圍，就可以嘗試獲得耐水性、黏著特性、還有聚合安定性、機械安定性等的提高。
自由基聚合起始劑不作特殊限制，可以使用乳化聚合所常用之公知自由基聚合起始劑。可舉例如，2,2’-偶單雙異丁腈、2,2’-偶單雙異丁脒二硫酸鹽、2,2’-偶單二異丁脒二鹽酸鹽、2,2’-偶單雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2’-偶單雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽等的偶氮系起始劑；例如，過硫酸鉀、過硫酸銨等的過硫酸鹽系起始劑；例如過氧化苯甲醯、叔丁基過氧化氫、過氧化氫等的過氧化物系起始劑；例如，苯基取代乙烷等的取代乙烷系起始劑；例如，芳香族羰基化合物等的羰基系起始劑等。該等聚合起始劑適合單獨或一併使用。另外，自由基聚合起始劑之混合比例係適當選擇，相對於100重量份單體成分，在例如0.02～0.5重量份左右，合適的是0.08～0.3重量份。若低於0.02重量份，有時作為自由基聚合起始劑之效果就會降低，若超過0.5重量份，有時水分散型之(甲基)丙烯酸系聚合物之分子量就會降低，且水分散型黏著劑組成物之黏著性會降低。
鏈轉移劑為依需要調節水分散型的(甲基)丙烯酸系聚合物之分子量者，通常係使用乳化聚合所常用之鏈轉移劑。例如，1-十二烷硫醇、巰基乙酸、2-巰基乙醇、硫乙醇酸-2-乙基己酯、2,3-二巰基-1-丙醇、巰基丙酸酯類等的硫醇類等。該等鏈轉移劑適合單獨或一併使用。另外，鏈轉移劑之混合比例相對於100重量份單體成分為例如0.001～0.3重量份。
利用這種乳化聚合可以將水分散型之(甲基)丙烯酸系聚合物製備成水分散液(乳膠)形式。這種水分散型之(甲基)丙烯酸系聚合物，其平均粒徑係調整到例如0.05～3μm，合適的是0.05～1μm。平均粒徑若小於0.05μm，有時水分散型黏著劑之黏度就會上升，若大於1μm，有時粒子間之熔著性就會降低，凝集力會降低。
另外，為保持前述水分散液之分散安定性，前述水分散液之(甲基)丙烯酸系聚合物在含有含羧基單體等作為共聚合性單體之情形，宜中和該含羧基單體等。中和可以利用氨、氫氧化鹼金屬等進行。
本發明之水分散型(甲基)丙烯酸系聚合物通常宜為重量平均分子量在100萬以上者。特別是重量平均分子量在100萬～400萬者在耐熱性、耐濕性的點上是合適的。重量平均分子量若低於100萬，耐熱性、耐濕性就會降低因而不合適。另外，乳化聚合中製得之黏著劑因其聚合機制而使分子量成為非常高分子量因而合適。只是，由於乳化聚合中製得之黏著劑一般凝膠成分多，用GPC(凝膠滲透層析法)無法測定，所以大多難以獲得關於分子量在實際測定中的依據。
本發明之水分散型黏著劑在上述之原料聚合物之外可以含有交聯劑。水分散型黏著劑為水分散型丙烯酸系黏著劑時所用之交聯劑可以使用異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、噁唑啉(oxazoline)系交聯劑、吖丙啶(aziridine)系交聯劑、碳二亞胺系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑等的一般所使用者。該等交聯劑具有交聯效果，透過利用含官能基單體與導入到(甲基)丙烯酸系聚合物中之官能基反應。
原料聚合物與交聯劑之混合比例不作特殊限定，通常相對於100重量份原料聚合物(固體含量)係混合交聯劑(固體含量)10重量份左右以下之比例。前述交聯劑之混合比例以0.001～10重量份為佳，進一步以0.01～5重量份左右為佳。
此外，本發明之水分散型黏著劑中依需要在不脫離本發明之目的的範圍內亦可適當使用各種添加劑，其係由黏度調整劑、剝離調整劑、增黏劑、可塑劑、軟化劑、玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、其他無機粉末等組成之填充劑、顏料、著色劑(顏料、染料等)、pH調整劑(酸或鹼)、抗氧化劑、紫外線吸收劑、矽烷偶合劑等。另外，含有微粒子且顯示光擴散性之黏著劑層等亦佳。該等添加劑亦可以乳膠形式混合。
本發明之光學薄膜用黏著劑層係利用上述水分散型黏著劑形成。黏著劑層之形成可以在支持基材(光學薄膜或離型薄膜)塗佈上述水分散型黏著劑後進行乾燥以形成。本發明之光學薄膜用黏著劑係如此形成之黏著劑層，黏著劑層中的殘存單體量係控制在5～100ppm。
本發明之黏著劑型光學薄膜係在光學薄膜單面或兩面積層前述黏著劑層而成者。本發明之黏著型光學薄膜可以利用例如製法(A)或者製法(B)加以製造，製法(A)：施行步驟(1)以及步驟(2A)之方法，其中，步驟(1)：係在光學薄膜之單面或兩面塗佈水分散型黏著劑，該水分散型黏著劑係由在水中至少分散含有原料聚合物之水分散液所構成，而且，相對於1g該水分散液之固體含量含有1500～25000ppm之殘存單體；以及步驟(2A)：係在80～170℃之乾燥溫度下，將經塗佈之水分散型黏著劑進行乾燥，使黏著劑層中之殘存單體量相對於1g黏著劑層之固體含量成為5～100ppm，而形成黏著劑層；製法(B)：施行步驟(1)、步驟(2B)以及步驟(3)之方法，其中，步驟(1)：係在離型薄膜之單面或兩面塗佈水分散型黏著劑，該水分散型黏著劑係由在水中至少分散含有原料聚合物之水分散液所構成，而且，相對於1g該水分散液之固體含量含有1500～25000ppm之殘存單體；步驟(2B)：係在80～170℃之乾燥溫度下，將經塗佈之水分散型黏著劑進行乾燥，使黏著劑層中之殘存單體量相對於1g黏著劑層之固體含量成為5～100ppm，而形成黏著劑層；以及步驟(3)：係將形成於離型薄膜之黏著劑層貼合到光學薄膜上。
在前述塗佈步驟(1)中宜將上述水分散型黏著劑中之殘存單體量調整到指定量。透過將用於塗佈步驟(1)中之，水分散型黏著劑中之殘存單體量的水分散型黏著劑中的殘存單體量控制在前述範圍，就可以確保乾燥時之製膜性，形成均勻性好，強度高的皮膜，所製得之黏著劑層之耐久性良好。水分散型黏著劑(塗佈液)中殘存單體之作用效果尚不明確，推測或許是在黏著劑層之形成步驟(2A)或(2B)中，在水分之乾燥階段因揮發比水慢的單體之作用，會促進採用水分散型黏著劑之塗膜之製膜性。水分散型黏著劑中之殘存單體量若低於1500ppm，製膜性就會不充分，從耐久性的點上來看並不合適。另一方面，當前述殘存單體量超過25000ppm時，在黏著劑層之形成步驟(2A)或(2B)中，就會難以將黏著劑層中之殘存單體量乾燥直到100ppm以下。
另外，用於上述塗佈步驟(1)之，水分散型黏著劑中含有上述指定量以上之殘存單體，從水分散型黏著劑之保存時防止腐敗方面亦佳。當水分散型黏著劑中之殘存單體量少時，保存時就容易引起腐敗，具有將其塗佈所形成之黏著劑層的黏著型光學薄膜之外觀有時會受損。關於這種腐敗係作為水分散液(乳膠)之獨特課題受到認識，主要是因環境中(各種之土壤菌類)或來自人的菌類、細菌的混入所引起的。關於腐敗，一部分可以利用添加防腐劑之類的藥劑來抑制，不過在黏著型光學薄膜中添加藥劑多會引起耐久性之劣化，其應用困難。在本發明中，提供到塗佈步驟(1)之水分散型黏著劑(水分散液)中，透過以適當比例含有殘存單體之作法，可以抑制水分散型黏著劑(水分散液)之腐敗，由此確保保存安定性，進一步地有助於提高黏著劑層之耐久性。
從上述觀點來看，用於上述塗佈步驟(1)之，水分散型黏著劑中的殘存單體量以5000～25000ppm之範圍較佳，7000～25000ppm之範圍進一步合適，10000～25000ppm之範圍更進一步合適。
用於上述塗佈步驟(1)之，水分散型黏著劑中的殘存單體量的調整可以透過例如，將原料聚合物聚合製備之際，調整聚合終點來進行。例如，利用上述乳化聚合，將水分散型之(甲基)丙烯酸系聚合物製備成水分散液(乳膠)形式之情形，透過控制聚合時間與溫度，可以將水分散型黏著劑中之殘存單體量調整到前述範圍。詳細地說，可以調整使用之聚合起始劑之種類與聚合溫度，以及聚合時間之關係。例如，當使用自由基聚合起始劑時，求得各起始劑中10小時半衰期溫度，在該溫度與實際之聚合溫度之關係上，可以控制聚合度(聚合返還率)。另外，水分散型黏著劑中之殘存單體之調整亦可如前述之專利文獻3中記載地，添加促進聚合反應之氧化還原系添加劑來調整殘存單體量。只是，本發明之水分散液中之殘存單體量與用以獲得通常的水分散型黏著劑之聚合條件相比，重要的是調整到非常大量之殘存單體量。再者，水分散型黏著劑因基礎比較高且具有適當的黏度，所以可以將聚合後製得之水分散液保持不變地用於塗佈步驟(1)。
再者，水分散型黏著劑中的殘存單體量係指相對於水分散型黏著劑之1g水分散液中的固體含量之殘存單體量。再者，水分散型黏著劑之水分散液中殘存單體量之定量化係利用與黏著劑量中殘存單體量之定量化同樣的方法測定。
上述塗佈步驟(1)中可採用各種方法。具體地說，可舉例如輥塗、輕觸式輥塗、凹版塗佈、逆轉塗佈、輥刷、噴塗、浸漬輥塗、刮條塗佈、刮刀塗佈、氣刀塗佈、簾幕式塗佈、唇式塗佈、採用狹縫塗佈機之擠出的塗佈法等之方法。再者，製法(A)中係對光學薄膜，製法(B)中係對離型薄膜施行塗佈步驟(1)。
另外，在塗佈步驟(1)中，係控制其塗佈量使形成之黏著劑層達到指定之厚度(乾燥後厚度)。黏著劑層之厚度(乾燥後厚度)通常設定在1～100μm左右，合適的是5～50μm，進一步合適的是10～40μm之範圍。
接下來，在製法(A)、(B)中，施行黏著劑層之形成步驟(2A)、(2B)。在形成步驟(2A)、(2B)中，對於經塗佈之水分散型黏著劑，係在80～170℃之乾燥溫度下施行乾燥。乾燥溫度在本發明中，將黏著劑層中之殘存單體量控制在上述指定範圍是特別重要的控制因子。從而，在黏著劑層之形成步驟(2A)、(2B)中，為令水分散型黏著劑中之水、殘存單體有效揮發，宜設定在前述乾燥溫度。
乾燥溫度低於80℃時，黏著劑層中就容易殘存水分、殘存單體、使用於中和等的氨成分，其結果，黏著劑層之塗膜的強度就會不足，難以確保耐久性。另一方面，當乾燥溫度超過170℃時，因殘存單體之乾燥速度會過快，乾燥過程中之殘存單體造成之製膜促進就會不足，難以獲得具足夠強度之黏著劑層。另外，因殘存之自由基聚合起始劑之影響等會引起著色，或會對光學薄膜或離型薄膜給予熱損傷。(例如，在薄膜系離型薄膜上產生低聚物之析出等)。前述乾燥溫度以100～140℃為佳。另外，亦可將乾燥步驟分為不同的溫度條件之複數步驟來進行。例如，為有效揮發水分、殘留單體，希望有效地使用設定至少2個不同乾燥溫度之作法。在本發明中，亦可舉對指定之殘存單體量之水分散型黏著劑，依據上述步驟中經乾燥後之殘存單體量間接地判斷黏著劑層之塗膜的狀態。
伴隨前述乾燥溫度之乾燥時間係依據所使用之乾燥設備適當設定，希望用簡易地使用之熱風循環式烤爐等進行10分鐘以上之比較長的時間。另一方面，作為生產設備所使用之塗佈設備的烤爐，由於其乾燥能力、傳熱性經良好地設計，故可以在數分鐘左右之比較短的時間獲得本發明之黏著型光學薄膜。再者，如果乾燥時間過長，因會有黏著劑層之氧化劣化或著色之原因，故乾燥時間以60分鐘以下為佳。
另外，涉及乾燥溫度與乾燥時間之乾燥條件係依據乾燥設備適當設定，熱風循環式烤爐宜設定為例如，乾燥溫度在80～低於120℃時，係20～60分鐘，乾燥溫度在120～低於140℃時，係10～30分鐘，乾燥溫度在140～170℃時，係10～15分鐘，塗佈設備之烤爐宜設定為例如，乾燥溫度在80～低於120℃時，係5～20分鐘，乾燥溫度在120～低於140℃時，係2～10分鐘，乾燥溫度在140～170℃時，係1～5分鐘。
在製法(A)中，係利用上述黏著劑層之形成步驟(2A)直接在光學薄膜上形成黏著劑層，以製得黏著型光學薄膜。另一方面，在製法(B)中，係利用上述黏著劑層之形成步驟(2B)在離型薄膜上形成黏著劑層，接下來，利用在光學薄膜上貼合該黏著劑層之步驟(3)，在光學薄膜上轉印該黏著劑層，以製得黏著型光學薄膜。
離型薄膜之構成材料可舉例如，聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等的塑料薄膜、紙、布、不織布等的多孔質材料、網、發泡版、金屬箔以及該等之積層體等適當的薄片體等，從表面平滑性優異之點上來看適合使用塑料薄膜。
該塑料薄膜只要是可以保護前述黏著劑層之薄膜就不作特殊限定，可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯化乙烯薄膜、氯化乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸酯薄膜、乙烯-乙酸乙烯共聚物薄膜等。
前述離型薄膜之厚度通常為5～200μm，合適的是5～100μm左右。前述離型薄膜依需要亦可進行利用矽系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系的離型劑、矽石粉等之離型以及防污處理或，塗佈型、混入型、蒸鍍型等的抗靜電處理。特別地，透過在離型薄膜之表面適當實行矽處理、長鏈烷基處理、氟處理等的剝離處理，可以進一步提高從前述黏著劑層之剝離性。
當前述黏著劑層露出時，亦可直到供實際應用為止用離型薄膜保護黏著劑層。再者，上述之剝離薄膜可以保持不變地作為黏著型光學薄膜之分離薄膜使用，在步驟方面可以簡略化。
另外，為提高與黏著劑層之間的密合性，在光學薄膜之表面可以形成錨釘層，或在施行過電暈處理、電漿處理等的各種易附著處理後形成黏著劑層。另外，黏著劑層之表面亦可實行易附著處理。
上述錨釘層之形成材料可以合適地使用由聚胺甲酸酯、聚酯、分子中含有胺基之聚合物類、含有噁唑啉基之聚合物類選出之錨釘劑，特別合適的是分子中含有胺基之聚合物類、含有噁唑啉基之聚合物類。因為分子中含有胺基之聚合物類、含有噁唑啉基之聚合物類其分子中的胺基、噁唑啉基會與黏著劑中的羧基等發生反應或者顯示離子性相互作用等的相互作用，所以會確保良好的密合性。
分子中含有胺基之聚合物類可舉例如，聚乙亞胺、聚烯丙胺、聚乙烯胺、聚乙烯吡啶、聚乙烯吡咯啶、二甲基胺乙基丙烯酸酯等的含胺基單體之聚合物等。
光學薄膜係使用形成液晶顯示裝置等的影像顯示裝置所使用者，其種類不作特殊限制。例如，光學薄膜可舉偏光板。偏光板一般使用在偏光子之單面或兩面具有透明保護薄膜者。
偏光子不作特殊限定，可以使用各種偏光子。偏光子係例如在聚乙烯醇系薄膜、部分甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯.乙酸乙烯共聚物系部分鹼化薄膜等的親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料的二色性物質且經單軸延伸者，聚乙烯醇的脫水處理物或聚氯化乙烯的脫鹽酸處理物等多烯系配向薄膜等。該等之中以由聚乙烯醇系薄膜與碘等的二色性物質構成之偏光子為合適。該等之偏光子的厚度不作特殊限制，一般為5～80μm左右。
用碘染色聚乙烯醇系薄膜並經單軸延伸而成之偏光子係透過例如，在碘的水溶液浸漬聚乙烯醇來染色，且延伸至原長的3～7倍之作法製作成。依需要亦可浸漬於碘化鉀等的水溶液中，該碘化鉀等的水溶液亦可包含硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等。此外，依需要在染色前亦可在水中浸漬水洗聚乙烯醇系薄膜。透過水洗聚乙烯醇系薄膜在可以洗淨聚乙烯醇系薄膜表面之污染和防結塊劑之外，透過令聚乙烯醇系薄膜膨脹亦有防止染色之偏差等不均勻的效果。延伸可以在用碘染色之後進行，亦可邊染色邊延伸，還可以在延伸後用碘染色。亦可在硼酸或碘化鉀等的水溶液或水浴中延伸。
構成透明保護薄膜之材料係採用例如透明性、機械強度、熱安定性、阻水性、等方性等優異之熱可塑性樹脂。這種熱可塑性樹脂的具體例可舉三乙醯纖維素等的纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂以及該等之混合物。再者，在偏光子之單側，利用附著劑層貼合透明保護薄膜，在另一單側，作為透明保護薄膜可以使用(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、矽系等的熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂。透明保護薄膜中亦可選擇性含有1種以上適當的添加劑。添加劑可舉例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、可塑劑、離型劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中的上述熱可塑性樹脂之含量以50～100重量%為佳，50～99重量%較佳，60～98重量%更佳，70～97重量%特別合適。當透明保護薄膜中的上述熱可塑性樹脂之含量為50重量%以下時，熱可塑性樹脂本來具有的高透明性的就有無法充分體現之虞。
另外，光學薄膜可舉例如形成反射板或反透射板、相位差板(含1/2或1/4等的波長板)、視覺補償薄膜、增亮薄膜等的液晶顯示裝置等之形成所用的光學層者。該等可以單獨作為光學薄膜使用以外，前述偏光板在實際應用之際亦可積層1層或2層以上使用。
在偏光板積層前述光學層之光學薄膜在液晶顯示裝置等的製造過程中可以用依序分別積層之方式形成，而預先積層形成光學薄膜者因其品質安定性或組裝作業等優異，具有提高液晶顯示裝置等的製造步驟之優點。積層中係可以採用黏著層等的適當附著手段。前述偏光板與其他光學層附著之際，該等之光學軸可以依據希望得到的相位差特性等設置適當的配置角度。
本發明之黏著型光學薄膜可以合適地應用在液晶顯示裝置等的各種影像顯示裝置之形成等。液晶顯示裝置之形成可遵循習知進行。亦即液晶顯示裝置一般係透過將液晶單元等之顯示面板與黏著型光學薄膜，以及依需要的照明系統等之結構零件適當組裝且插入驅動電路等來形成，本發明中除了利用本發明之黏著型光學薄膜這點以外沒有特殊限定，可以遵循習知。關於液晶單元係可以使用例如TN型或STN型、π型、VA型、IPS型等之任意類型者。
可以形成在液晶單元等之顯示面板的單側或兩側配置有黏著型光學薄膜之液晶顯示裝置或，照明系統上利用背光源或反射板者等之適當的液晶顯示裝置。該情形下，本發明之光學薄膜可以設置在液晶單元等之顯示面板的單側或兩側。在兩側設置光學薄膜時，該等可以為相同者亦可為不同者。此外，在形成液晶顯示裝置之際，可以在適當的位置配置1層或2層以上之例如擴散板、抗眩光層、防反射膜、保護板、棱鏡陣列、光擴散板、背光源等的適當零件。
實施例
以下，將利用實施例具體說明本發明，惟本發明並不因該等實施例受到限定。再者，各例中的份以及%任一個均為重量基準。
＜殘存單體量之定量法＞
相對於涉及各例之水分散液的1g水分散型丙烯酸系黏著劑(乳膠)之固體含量，殘存單體量係利用氣相層析術以及液相層析術進行定量。當含有高沸點之單體(沸點250℃以上)時，液相層析術與頂空氣相層析術之測定值之和成為殘存單體量。另外，相對於1g黏著劑層之固體含量，殘存單體量也是利用與上述同樣之分析法進行定量。再者，在各例中，磷酸酯系單體、反應性乳化劑係適合高沸點之單體。
＜氣相層析術＞
在約0.2g試料中添加10ml乙酸乙酯後，在室溫(23℃)放置3日以提取出黏著劑(或者黏著劑層)中之單體。將該提取液1μL注入氣相層析儀(安捷倫科技公司(Agilent Technologies Inc.)製，7890A)進行分析。
測定條件係
管柱：HP-1
管柱溫度：40℃(1分鐘)→5℃/分鐘(上升)→60℃→10℃/分鐘(上升)→140℃→20℃/分鐘(上升)→300℃(5分鐘)
檢測器：FID
＜液相層析術＞
在約0.1g試料中添加10ml乙酸乙酯後，在室溫(23℃)放置3日以提取出黏著劑(或者黏著劑層)中之單體，進一步加入40ml乙腈以製得溶液。將該溶液1μL注入液相層析儀(東曹公司製，CCPM/UV8000)進行分析。
測定條件係
管柱：Intersil ODS-3
管柱溫度：40℃
檢測器：UV
＜平均粒徑＞
涉及各例之水分散液的水分散型丙烯酸系黏著劑(乳膠)中之(甲基)丙烯酸系聚合物之平均粒徑係利用貝克曼庫爾特公司(Beckman Coulter,Inc)製LS13320進行測定。
實施例1 (水分散型丙烯酸系黏著劑之製備)
在容器中作為原料加入1000份丙烯酸丁酯、50份丙烯酸、30份單[聚(環氧丙烷)甲基丙烯酸酯]磷酸酯(環氧丙烷之平均聚合度5.0)，以及0.1份3-甲基丙烯醯氧基丙基-三乙氧基矽烷(信越化學工業(株)製，KBM-503)並混合，以製得單體混合物。接下來，相對於600份以上述比例製備成之單體混合物，作為反應性乳化劑係加入13份Aqualon HS-10(第一工業製藥(株)製)、360份離子交換水，利用均質機(特殊機化工業(株)製)，以7000rpm攪拌3分鐘，製備成單體乳膠。
接著，在具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計、滴液漏斗以及攪拌翼之反應容器中混入上述製備成之單體乳膠之中的200份以及離子交換水350份，接下來，將反應容器充分取代氮氣後，添加0.1份過硫酸銨，在60℃聚合1小時(初期聚合)。接下來，用3小時在反應容器中滴液剩餘之單體乳膠，之後，聚合3小時(中間聚合)。再之後，邊取代氮氣邊在65℃聚合5小時(最終聚合)，以製得固體含量濃度45%之水分散型丙烯酸系黏著劑(乳膠)。接下來，將上述水分散型丙烯酸系黏著劑冷卻直到室溫後，在此添加30份的濃度10%之氨水，再加入蒸餾水，以調整為固體含量39%。該水分散型丙烯酸系黏著劑之殘存單體量係10300ppm。水分散型丙烯酸系黏著劑(乳膠)中之(甲基)丙烯酸系聚合物之平均粒徑為0.085μm。
(黏著劑層之形成以及黏著型偏光板的製作)
利用塗佈機(applicator)在離型薄膜(三菱化學聚酯(株)製，Diafoil MRF-38，聚對苯二甲酸乙二酯基材)上塗佈上述水分散型丙烯酸系黏著劑使乾燥後之厚度達到25μm，之後利用熱風循環式烤爐在120℃乾燥15分鐘以形成黏著劑層。將該黏著劑層與偏光板(日東電工(株)製，製品名SEG-DU)貼合，以製成黏著型偏光板。上述貼合前之黏著劑層的殘存單體量為7ppm。
實施例2 (水分散型丙烯酸系黏著劑之製備)
在實施例1中，製備水分散型丙烯酸系黏著劑(水分散液：乳膠)時，將最終聚合之條件變為65℃且2小時，除此以外與實施例1同樣地處理，製備成水分散型丙烯酸系黏著劑。該水分散型丙烯酸系黏著劑之殘存單體量為23500ppm。水分散型丙烯酸系黏著劑(乳膠)中之(甲基)丙烯酸系聚合物之平均粒徑為0.092μm。
(黏著劑層之形成以及黏著型偏光板的製作)
在實施例1中，形成黏著劑層時，使用以上述調整成之水分散型丙烯酸系黏著劑，將熱風循環式烤爐之乾燥條件變為140℃且15分鐘，除此以外與實施例1同樣地處理，形成黏著劑層。另外，與實施例1同樣地處理，製成黏著型偏光板。上述貼合前之黏著劑層的殘存單體量為28ppm。
實施例3 (水分散型丙烯酸系黏著劑之製備)
在實施例1中，製備水分散型丙烯酸系黏著劑(水分散液：乳膠)時，將最終聚合之條件變為75℃且5小時，除此以外與實施例1同樣地處理，製備成水分散型丙烯酸系黏著劑。該水分散型丙烯酸系黏著劑之殘存單體量為5100ppm。水分散型丙烯酸系黏著劑(乳膠)中之(甲基)丙烯酸系聚合物之平均粒徑為0.088μm。
(黏著劑層之形成以及黏著型偏光板的製作)
在實施例1中，形成黏著劑層時，使用以上述調整成之水分散型丙烯酸系黏著劑，將熱風循環式烤爐之乾燥條件變為100℃且30分鐘，除此以外與實施例1同樣地處理，形成黏著劑層。另外，與實施例1同樣地處理，製成黏著型偏光板。上述貼合前之黏著劑層的殘存單體量為48ppm。
實施例4 (黏著劑層之形成以及黏著型偏光板的製作)
在實施例1中，形成黏著劑層時，使用上述實施例3中調整成之水分散型丙烯酸系黏著劑作為水分散型丙烯酸系黏著劑，將熱風循環式烤爐之乾燥條件變為80℃且40分鐘，除此以外與實施例1同樣地處理，形成黏著劑層。另外，與實施例1同樣地處理，製成黏著型偏光板。上述貼合前之黏著劑層的殘存單體量為80ppm。
實施例5 (黏著劑層之形成以及黏著型偏光板的製作)
利用缺角輪塗佈法(comma coater)在離型薄膜(三菱化學聚酯公司製，Diafoil MRF-38，聚對苯二甲酸乙二酯基材)上連續塗佈實施例1中製備成之水分散型丙烯酸系黏著劑使乾燥後之厚度達到25μm，之後利用實驗塗佈機烤爐進行連續乾燥，以形成黏著劑層。採用實驗塗佈機烤爐之乾燥係在120℃且1分鐘與130℃且2分鐘的2階段進行。將該黏著劑層與偏光板(日東電工(株)製，製品名SEG-DU)貼合，以製成黏著型偏光板。上述貼合前之黏著劑層的殘存單體量為10ppm。
比較例1 (黏著劑層之形成以及黏著型偏光板的製作)
在實施例1中，形成黏著劑層時，將熱風循環式烤爐之乾燥條件變為100℃且2分鐘，除此以外與實施例1同樣地處理，形成黏著劑層。另外，與實施例1同樣地處理，製成黏著型偏光板。上述貼合前之黏著劑層的殘存單體量為250ppm。
比較例2 (黏著劑層之形成以及黏著型偏光板的製作)
在實施例1中，形成黏著劑層時，將熱風循環式烤爐之乾燥條件變為180℃且10分鐘，除此以外與實施例1同樣地處理，形成黏著劑層。另外，與實施例1同樣地處理，製成黏著型偏光板。上述貼合前之黏著劑層的殘存單體量為2ppm。再者，製得之黏著劑層稍微帶有褐色。
比較例3 (水分散型丙烯酸系黏著劑之製備)
在實施例1中，製備水分散型丙烯酸系黏著劑(水分散液：乳膠)時，不進行最終聚合，除此以外與實施例1同樣地處理，製備成水分散型丙烯酸系黏著劑。該水分散型丙烯酸系黏著劑之殘存單體量為28000ppm。水分散型丙烯酸系黏著劑(乳膠)中之(甲基)丙烯酸系聚合物之平均粒徑為0.085μm。
(黏著劑層之形成以及黏著型偏光板的製作)
在實施例1中，形成黏著劑層時，使用以上述調整成之水分散型丙烯酸系黏著劑，將熱風循環式烤爐之乾燥條件變為150℃且3分鐘，除此以外與實施例1同樣地處理，形成黏著劑層。另外，與實施例1同樣地處理，製成黏著型偏光板。上述貼合前之黏著劑層的殘存單體量為120ppm。
比較例4 (水分散型丙烯酸系黏著劑之製備)
在實施例1中，相對於利用最終聚合製得之，固體含量濃度45%之水分散型丙烯酸系黏著劑(水分散液：乳膠)100份(固體含量)，加入0.3份30%雙氧水、0.6份抗壞血酸，在75℃加熱3小時。之後，將該水分散型丙烯酸系黏著劑冷卻直到室溫後，添加30份的濃度10%之氨水，再加入蒸餾水以調整到固體含量39%。該水分散型丙烯酸系黏著劑之殘存單體量為1200ppm。水分散型丙烯酸系黏著劑(乳膠)中之(甲基)丙烯酸系聚合物之平均粒徑為0.082μm。
(黏著劑層之形成以及黏著型偏光板的製作)
在實施例1中，形成黏著劑層時，使用以上述調整成之水分散型丙烯酸系黏著劑，將熱風循環式烤爐之乾燥條件變為140℃且15分鐘，除此以外與實施例1同樣地處理，形成黏著劑層。另外，與實施例1同樣地處理，製成黏著型偏光板。上述貼合前之黏著劑層的殘存單體量為4ppm。
針對上述實施例以及比較例中製得之黏著型偏光板進行以下之評估。評估結果示於表1。
[黏著型光學薄膜之耐久性評估]
將各實施例以及各比較例之黏著型偏光板切斷成235mm×310mm之大小，將其貼附到厚度0.7mm的玻璃板(康寧#1737，康寧(株)製)，在50℃、0.5MPa之熱壓釜中放置15分鐘。之後，在80℃的氛圍下(加熱)，以及，在60℃/90%RH之氛圍下(加濕)，進行500小時加熱，利用放大鏡來目視觀察以確認黏著型偏光板有無發泡、剝離。再者，針對黏著型偏光板有無剝離進行確認係以下述基準作判斷。
＜加熱耐久性＞
4：在1cm2 中沒有100μm以上的氣泡。
3：在1cm2 中有1～5個100μm以上的氣泡。
2：在1cm2 中有6～10個100μm以上的氣泡。
1：在1cm2 中有11個以上100μm以上的氣泡。
＜加濕耐久性＞
4：黏著型偏光板之端部未發生剝離。
3：距黏著型偏光板之端部0.1mm以內的位置發生剝離。
2：距黏著型偏光板之端部超過0.1mm且1mm以內的位置發生剝離。
1：距黏著型偏光板之端部超過1mm的位置發生剝離。
[聚合液之腐敗試驗]
將容量900ml之空蛋黃醬瓶在開蓋狀態下放置約1週，之後在其中投入850g的各實施例以及比較例中之水分散型丙烯酸系黏著劑(測定殘存單體量之乳膠)並蓋嚴。在該狀態下，於室溫且冷暗處放置3個月，從顏色以及氣味之觀點出發以下述基準判定有無腐敗。
○：顏色、氣味方面不會發現與初期之差別。
×：液體上部浮游茶褐色之腐敗物，且產生酸臭味。

Claims (5)

  1. 一種光學薄膜用黏著劑層，其特徵在於：前述黏著劑層係藉由塗佈水分散型黏著劑後進行乾燥而形成者，該水分散型黏著劑含有水分散液，該水分散液在水中至少分散含有原料聚合物，而且，該黏著劑層中之殘存單體量相對於1g黏著劑層之固體含量為5~100ppm，其中，該原料聚合物係使用(甲基)丙烯酸系聚合物，且該(甲基)丙烯酸系聚合物係藉由乳化聚合含有烷基之平均碳數為3~9的(甲基)丙烯酸烷基酯、含有羧基單體、具有由下述一般式(1)所表示之磷酸基或其鹽之含磷酸基單體及矽系(甲基)丙烯酸酯單體而製得， (一般式(1)中，R1 表示氫原子或甲基，R2 表示碳數1~4的伸烷基、m表示2以上的整數，M1 以及M2 分別獨立表示氫原子或陽離子)。
  2. 一種黏著型光學薄膜，其特徵在於，係在光學薄膜的至少單側積層有如申請專利範圍第1項之光學薄膜用黏著劑層者。
  3. 一種黏著型光學薄膜之製造方法，係如申請專利範圍第2項之黏著型光學薄膜之製造方法，其特徵在於具有步 驟(1)以及步驟(2A)：步驟(1)：係在光學薄膜之單面或兩面塗佈水分散型黏著劑，該水分散型黏著劑係由在水中至少分散含有原料聚合物之水分散液所構成，而且，相對於1g該水分散液之固體含量含有1500~25000ppm之殘存單體；以及步驟(2A)：係在80~170℃之乾燥溫度下，將經塗佈之水分散型黏著劑進行乾燥，使黏著劑層中之殘存單體量相對於1g黏著劑層之固體含量成為5~100ppm，而形成黏著劑層。
  4. 一種黏著型光學薄膜之製造方法，係如申請專利範圍第2項之黏著型光學薄膜之製造方法，其特徵在於具有步驟(1)、步驟(2B)以及步驟(3)：步驟(1)：係在離型薄膜之單面或兩面塗佈水分散型黏著劑，該水分散型黏著劑係由在水中至少分散含有原料聚合物之水分散液所構成，而且，相對於1g該水分散液之固體含量含有1500~25000ppm之殘存單體；步驟(2B)：係在80~170℃之乾燥溫度下，將經塗佈之水分散型黏著劑進行乾燥，使黏著劑層中之殘存單體量相對於1g黏著劑層之固體含量成為5~100ppm，而形成黏著劑層；以及步驟(3)：係將形成於離型薄膜之黏著劑層貼合到光學薄膜上。
  5. 一種影像顯示裝置，其特徵在於應用了至少1片如申請專利範圍第2項之黏著型光學薄膜。
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