KR20130033324A

KR20130033324A - 광학 필름용 점착제층의 제조 방법, 광학 필름용 점착제층, 점착형 광학 필름 및 화상 표시 장치

Info

Publication number: KR20130033324A
Application number: KR1020120106346A
Authority: KR
Inventors: 다이키 시모쿠리; 구니히로 이누이; 도시타카 다카하시; 요스케 마키하타; 도시츠구 호소카와; 다카아키 이시이
Original assignee: 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2011-09-26
Filing date: 2012-09-25
Publication date: 2013-04-03
Also published as: US9181458B2; JP5893881B2; JP2013067764A; CN103013362A; KR101426146B1; US20130078407A1; TW201323566A

Abstract

본 발명은, 도포 시공 속도의 저감 등의 생산성을 손상시키지 않고 시인성의 문제를 저감시킬 수 있는 광학 필름용 점착제층의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 광학 필름용 점착제층의 제조 방법은, 수분산형의 (메트)아크릴계 중합체를 함유하는 수분산액을 함유하는 수분산형 점착제를 이형 필름에 도포 시공하는 공정 (1) 및 도포 시공된 수분산형 점착제를 건조하는 공정 (2)를 갖는 광학 필름용 점착제층의 제조 방법이며, 상기 수분산형 점착제는 전단 속도 4000(1/s)에서의 점도가 0.01 내지 0.1Pa·s이며, 상기 이형 필름 상에 형성되는 상기 광학 필름용 점착제층의 표면의 표면 거칠기(Ra)가 10 내지 40nm이며, 또한 상기 광학 필름용 점착제층의 헤이즈가 1% 이하이다.

Description

광학 필름용 점착제층의 제조 방법, 광학 필름용 점착제층, 점착형 광학 필름 및 화상 표시 장치{METHOD FOR PRODUCING PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE LAYER FOR OPTICAL FILM, PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE LAYER FOR OPTICAL FILM, PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE TYPE OPTICAL FILM AND IMAGE DISPLAY DEVICE}

본 발명은 수분산형 점착제를 사용한 광학 필름용 점착제층의 제조 방법에 관한 것이다. 또, 본 발명은 상기 제조 방법에 의해 얻어진 광학 필름용 점착제층, 및 상기 점착제층이 광학 필름에 적층된 점착형 광학 필름에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 상기 점착형 광학 필름을 사용한 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, CRT, PDP 등의 화상 표시 장치 및 전방면판 등의 화상 표시 장치와 함께 사용되는 부재에 관한 것이다. 상기 광학 필름으로서는 편광판, 위상차판, 광학 보상 필름, 휘도 향상 필름이나 반사 방지 필름 등의 표면 처리 필름, 또한 이것들이 적층되어 있는 것을 사용할 수 있다.

액정 표시 장치 및 유기 EL 표시 장치 등은, 그 화상 형성 방식으로부터, 예를 들어, 액정 표시 장치에서는 액정 셀의 양측에 편광 소자를 배치하는 것이 필요 불가결하며, 일반적으로는 편광판이 부착되어 있다. 또, 액정 패널 및 유기 EL 패널 등의 표시 패널에는 편광판의 이외에 디스플레이의 표시 품위를 향상시키기 위해서 여러가지 광학 소자가 사용되게 되어 오고 있다. 또, 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치, CRT, PDP 등의 화상 표시 장치를 보호하거나, 고급감을 부여하거나, 디자인을 차별화하기 위해서 전방면판이 사용되고 있다. 이들 액정 표시 장치 및 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치나 전방면판 등의 화상 표시 장치와 함께 사용되는 부재에는, 예를 들어, 착색 방지로서의 위상차판, 액정 디스플레이의 시야각을 개선하기 위한 시야각 확대 필름, 또한 디스플레이의 콘트라스트를 높이기 위한 휘도 향상 필름, 표면의 내마찰 손상성을 부여하기 위해서 사용되는 하드 코트 필름, 화상 표시 장치에 대한 다중 영상을 방지하기 위한 안티글레어 처리 필름, 안티리플렉티브 필름, 로우리플렉티브 필름 등의 반사 방지 필름 등의 표면 처리 필름이 사용되고 있다. 이들의 필름은 총칭해서 광학 필름이라고 불린다.

상기 광학 필름을 액정 셀 및 유기 EL 패널 등의 표시 패널, 또는 전방면판에 부착할 때는 통상 점착제가 사용된다. 또한, 광학 필름과 액정 셀 및 유기 EL 패널 등의 표시 패널, 또는 전방면판, 또는 광학 필름간의 접착은 통상 광의 손실을 저감시키므로, 각각의 재료는 점착제를 사용하여 밀착되어 있다. 이러한 경우에 광학 필름을 고착시키는데도 건조 공정을 필요로 하지 않는 등의 장점을 갖고 있는 점에서, 광학 필름의 편측에 미리 점착제층으로서 설치된 점착형 광학 필름이 일반적으로 사용된다.

종래부터, 상기 점착형 광학 필름의 점착제층의 형성에 사용하는 점착제로서는, 가열 또는 가습열 환경에서 내구성이 우수한 점에서, 유기 용제형 점착제가 주로 사용되어 왔다. 유기 용제형 점착제로서는, 무색 투명으로 액정 셀 및 유기 EL 패널 등의 표시 패널, 또는 전방면판과의 접착성이 양호한 아크릴계 점착제가 일반적으로는 사용된다. 상기 점착제층은 여러 가지 관점에서 점착제층의 표면 상태를 제어하는 것이 제안되고 있다.

상기 유기 용제형 점착제는 고형분 농도가 낮은(보통 10 내지 15 중량% 정도) 용액이므로, 건조 불균일이나 바람 불균일에 의해 도포 시공면의 평활성이 저하되기 쉬워, 당해 용액으로 형성되는 점착제층의 시인성에 영향을 미치는 경우가 있다. 예를 들어, 점착제층의 도포 시공 두께, 표면 거칠기를 제어함으로써 점착제층의 불균일을 억제하여 시인성을 개선할 수 있는 것이 제안되고 있다(특허문헌 1). 그러나, 특허문헌 1에서는, 상기 개선을 위해서 건조 온도, 도포 시공 속도를 저감시키는 등 생산성의 저하를 수반하는 것이 문제점이었다.

최근, 지구 환경 부하의 저감, 작업 안정성의 향상의 관점에서 유기 용제를 사용하지 않는 무용제형 점착제의 개발이 한창 이루어지고 있다. 무용제형 점착제로서는, 분산매로서 물을 사용하여 수중에 점착제 성분을 분산시킨 수분산형 점착제가 제안되고 있다. 예를 들어, 수분산형 점착제의 표면 장력을 제어함으로써 평활한 점착제층을 형성하는 것이 제안되고 있다(특허문헌 2). 특허문헌 2의 방법에 따르면, 수분산형 점착제에 의해 평활한 점착제층의 형성이 가능하지만, 광학 필름용의 점착제층에는 한층 더 평활성을 좋게 하여 시인성을 향상하는 것이 요구되고 있다. 또한, 고형분 농도, 평균 입자 직경, 점도를 제어한 아크릴계 공중합체의 에멀션으로 이루어지는 수분산형 아크릴계 점착제 조성물이 제안되고 있다(특허문헌 3). 특허문헌 3에 따르면, 일본 종이 테이프 용도로 요구되는 탄성이나 오그라들지 않고 평활한 도포 시공면을 얻을 수 있는 것이 개시되어 있지만, 광학 필름 용도에 있어서는 특허문헌 3에 기재된 평활성의 정도로는 불충분하여 광학 필름용의 점착제층에는 요구되는 평활성을 만족할 수 없다.

일본 특허 출원 공개 제2008-302580호 공보 일본 특허 출원 공개 제2005-320487호 공보 일본 특허 출원 공개 평8-218047호 공보

본 발명은, 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 적용되는 수분산형 점착제를 사용하여 형성된 광학 필름용 점착제층이며, 도포 시공 속도의 저감 등의 생산성을 손상시키지 않고 시인성의 문제를 저감시킬 수 있는 광학 필름용 점착제층의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 본 발명은 상기 제조 방법에 의해 얻어진 광학 필름용 점착제층을 제공하는 것을 목적으로 한다.

또한, 본 발명은 광학 필름의 적어도 한쪽 면에 상기 광학 필름용 점착제층이 적층되어 있는 점착형 광학 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 발명은 상기 점착형 광학 필름을 사용한 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토를 거듭한 결과, 하기의 광학 필름용 점착제층의 제조 방법 등에 의해 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하게 되었다.

즉, 본 발명은, 수분산형의 (메트)아크릴계 중합체를 함유하는 수분산액을 함유하는 수분산형 점착제를 이형 필름에 도포 시공하는 공정 (1) 및 도포 시공된 수분산형 점착제를 건조하는 공정 (2)를 갖는 광학 필름용 점착제층의 제조 방법이며,

상기 수분산형 점착제는 전단 속도 4000(1/s)에서의 점도가 0.01 내지 0.1Pa·s이며,

상기 이형 필름 상에 형성되는 상기 광학 필름용 점착제층의 표면의 표면 거칠기(Ra)가 10 내지 40nm이며, 또한,

상기 광학 필름용 점착제층의 두께가 23㎛인 경우의 헤이즈가 1% 이하인 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층의 제조 방법에 관한 것이다.

상기 광학 필름용 점착제층의 제조 방법에 있어서, 상기 건조 공정 (2)는 온도 40℃ 내지 110℃의 제1 건조 공정 (21)과, 온도 100℃ 내지 160℃의 제2 건조 공정 (22)를 갖는 것이 바람직하다.

상기 광학 필름용 점착제층의 제조 방법에 있어서, 상기 수분산형 점착제의 (메트)아크릴계 중합체의 체적 평균 입자 직경이 180nm 이하인 것이 바람직하다.

상기 광학 필름용 점착제층의 제조 방법에 있어서, 도포 시공 공정 (1)의 도포 시공 속도는 10 내지 100m/min인 것이 바람직하다.

상기 광학 필름용 점착제층의 제조 방법에 있어서, 상기 수분산형 점착제는 고형분 농도가 5 내지 45 중량%인 수분산액인 것이 바람직하다.

상기 광학 필름용 점착제층의 제조 방법에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 중합체가 총 단량체 단위에 대하여 (메트)아크릴산 알킬에스테르 60 내지 99.9 중량% 및 카르복실기 함유 단량체 0.1 내지 10 중량%를 단량체 단위로서 함유하는 것이 바람직하다.

상기 광학 필름용 점착제층의 제조 방법에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 중합체가 단량체 단위로서, 또한 인산기 함유 단량체를 함유하는 것이 바람직하다. 상기 인산기 함유 단량체의 비율은 (메트)아크릴계 중합체의 총 단량체 단위의 0.1 내지 20 중량%인 것이 바람직하다.

상기 광학 필름용 점착제층의 제조 방법에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 중합체가 단량체 단위로서, 또한 알콕시실릴기 함유 단량체를 함유하는 것이 바람직하다. 상기 알콕시실릴기 함유 단량체의 비율은 (메트)아크릴계 중합체의 총 단량체 단위의 0.001 내지 1 중량%인 것이 바람직하다.

상기 광학 필름용 점착제층의 제조 방법에 있어서, (메트)아크릴산 알킬에스테르 60 내지 99.9 중량%에 관한 단량체 단위가, 아크릴산 알킬에스테르 60 내지 99.8 중량% 및 메타크릴산 알킬에스테르 0.1 내지 39.9 중량%에 관한 단량체 단위인 것이 바람직하다. 또한, 아크릴산 알킬에스테르로서는 탄소수가 3 내지 9인 아크릴산 알킬에스테르가 바람직하고, 메타크릴산 알킬에스테르가 메타크릴산 메틸, 메타크릴산 에틸 및 메타크릴산 시클로헥실로부터 선택되는 어느 쪽이든 적어도 하나인 것이 바람직하다.

또, 본 발명은 상기 제조 방법에 의해 얻어진 것임을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층에 관한 것이다.

또, 본 발명은 광학 필름의 적어도 편측에 상기 광학 필름용 점착제층이 적층되어 있는 것을 특징으로 하는 점착형 광학 필름에 관한 것이다.

또, 본 발명은 상기 점착형 광학 필름을 적어도 1장 사용하고 있는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.

본 발명의 광학 필름용 점착제층의 제조 방법에서는, 수분산형 점착제의 도포 시공 공정 (1)에 있어서, 저점도(전단 속도 4000(1/s)에 있어서의 점도가 0.01 내지 0.1Pa·s)의 수분산형 점착제를 사용하고 있다. 본 발명에서는, 상기한 저점도로 도포 시공된 수분산형 점착제의 도포 시공막에 대하여 건조 공정 (2)를 실시함으로써, 도포 시공막 중에서의 수분산형 점착제의 액 유동이 균일하게 행해지면서 도포 시공막의 건조가 진행함으로써, 도포 시공 속도의 저감 등의 생산성을 손상시키지 않고 표면 거칠기(Ra)가 10 내지 40nm의 균일하고 평활한 표면을 갖는 점착제층을 형성할 수 있었던 것으로 추측된다. 이렇게 해서 얻어지는 본 발명의 점착제층은 표면의 평활성이 좋고, 시인성의 문제를 저감시킬 수 있다.

또한, 본 발명의 광학 필름용 점착제층의 제조 방법에서는, 수분산형 점착제의 도포 시공 공정 (1) 후에 점착제층을 형성하는 건조 공정 (2)를 실시하지만, 당해 건조 공정 (2)에 있어서, 예를 들어, 도포 시공된 수분산형 점착제에 열풍을 분사하여 건조하는 데에 있어서는 소정 온도 범위로 제어된 제1 건조 공정 (21)과 제2 건조 공정 (22)를 채용하는 것이 바람직하다. 제1 건조 공정 (21)에서는, 저점도로 도포 시공된 수분산형 점착제의 도포 시공막에 대하여 온도 40℃ 내지 110℃에서 건조를 실시함으로써, 도포 시공막 중에서의 수분산형 점착제의 액 유동이 균일하게 행해지면서 도포 시공막의 건조가 진행되고, 이어서 제2 건조 공정 (22)를 실시하여 건조를 완료한다. 이와 같이, 건조 공정 (2)에 있어서 도포 시공막의 건조 처리가 단계적으로 실시되는 것은, 도포 시공 속도의 저감 등의 생산성을 손상시키지 않고 표면 거칠기(Ra)가 10 내지 40nm의 균일하고 평활한 표면을 갖는 점착제층이 형성하는데 유효하다고 추측된다.

종래, 점착제층의 형성시에, 유기 용제형 점착제와 같이 점착제 용액의 고형분 농도가 낮으면(통상, 10 내지 15 중량% 정도), 도포 시공막에 열풍을 분사하여 건조시킬 때에, 바람 불균일이나 도포 시공면에서의 용매의 증발 속도가 불균일해져서 불균일이 생기거나, 대류에 의해 도포 시공면에서의 용매의 증발 속도가 불균일해지거나 했다. 그 때문에, 유기 용제형 점착제에 의해 형성된 점착제층에서는 균일한 도포 시공면을 얻을 수 없어 점착제층 표면의 평활성은 손상되기 쉬웠다. 한편, 수분산형 점착제의 경우에는 광범위한 고형분 농도(5 내지 45 중량%)를 채용할 수 있고, 예를 들어, 고 고형분 농도(35 내지 40 중량%)로 도포 시공 가능하다. 상기 저점도의 수분산형 점착제를 사용하는 본 발명의 제조 방법에 있어서, 고 고형분 농도를 만족하는 수분산형 점착제를 사용한 경우에는, 도포 시공막에서의 용매(물)의 양이 적고, 송풍 불균일이나 도포 시공면에서의 용매의 증발 속도의 불균일화를 저감시킬 수 있으며, 열 불균일에 의한 대류를 억제하여 보다 높은 평활성의 표면을 갖는 점착제층을 형성할 수 있다.

또한, 유기 용제형 점착제를 사용한 경우에 있어서, 평활한 표면을 갖는 점착제층을 형성하는 경우에는, 건조 온도, 도포 시공 속도를 저감시키는 등의 생산성을 손상시키고 있지만, 상기 수분산형 점착제에 관한 본 발명의 제조 방법에 따르면, 도포 시공 속도의 저감 등의 생산성을 손상시키지 않고 점착제층의 표면의 평활성을 향상시킬 수 있다. 또, 본 발명의 점착제층은 투명성이 양호하고, 점착제층의 헤이즈값은 1% 이하를 만족할 수 있어 광학 특성에 영향을 미치지 않는다.

본 발명의 제조 방법에서는, 수분산형 점착제에 의해 광학 필름용 점착제층을 형성한다. 당해 수분산형 점착제물은 수분산형의 (메트)아크릴계 중합체를 함유하는 수분산액이다. 이하, 수분산형의 (메트)아크릴계 중합체는 단순히 (메트)아크릴계 중합체라고도 한다.

상기 (메트)아크릴계 중합체는 (메트)아크릴산 알킬에스테르를 주요 단량체 단위로서 함유한다. 또한, (메트)아크릴산 알킬에스테르는 아크릴산 알킬에스테르 및/또는 메타크릴산 알킬에스테르를 말하며, 본 발명의 (메트)와는 같은 의미이다.

수분산형의 (메트)아크릴계 중합체는, 예를 들어, (메트)아크릴산 알킬에스테르를 주성분으로 하는 단량체 성분을 라디칼 중합 개시제 및 계면활성제의 존재 하에 수중에서 유화 중합함으로써 얻어진다.

상기 단량체 성분으로서는, 예를 들어, 탄소수 4 내지 14의 직쇄 또는 분기쇄의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 알킬에스테르를 60 내지 99.9 중량% 및 카르복실기 함유 단량체를 0.1 내지 10 중량%를 함유하는 단량체 성분이 적합하다.

상기 (메트)아크릴계 중합체에 사용하는 (메트)아크릴산 알킬에스테르로서는, 유화 중합의 반응성의 관점에서 물에 대한 용해도가 일정한 범위의 것이 바람직하고, 또한 알킬기의 탄소수가 1 내지 18의 (메트)아크릴산 알킬에스테르를 주성분으로 하는 것이 바람직하다. (메트)아크릴산 알킬에스테르의 구체예로서는, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 프로필, (메트)아크릴산 n-부틸, (메트)아크릴산 t-부틸, (메트)아크릴산 n-헥실, (메트)아크릴산 시클로헥실, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 n-옥틸, (메트)아크릴산 라우릴, (메트)아크릴산 트리데실, (메트)아크릴산 스테아릴 등의 (메트)아크릴산 알킬에스테르를 들 수 있다. 이들은 단독으로, 또는 2종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도 (메트)아크릴산 프로필, (메트)아크릴산 n-부틸, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 n-옥틸 등의 알킬기의 탄소수가 3 내지 9의 (메트)아크릴산 알킬에스테르가 바람직하다. (메트)아크릴산 알킬에스테르는 총 단량체 단위의 60 내지 99.9 중량%로 함유되는 것이 바람직하며, 또 70 내지 99.5 중량%, 또한 80 내지 99 중량%, 또한 80 내지 97 중량%, 또한 80 내지 95 중량%인 것이 바람직하다.

또한, 상기 (메트)아크릴계 중합체에 사용하는 (메트)아크릴산 알킬에스테르로서는 아크릴산 알킬에스테르를 주성분으로 하는 것이 바람직하며, 그 중에서도 아크릴산 프로필, 아크릴산 n-부틸, 아크릴산 2-에틸헥실, 아크릴산 n-옥틸 등의 알킬기의 탄소수가 3 내지 9의 아크릴산 알킬에스테르가 바람직하다. 이들 아크릴산 알킬에스테르는 총 단량체 단위의 60 내지 99.8 중량% 함유하는 것이 바람직하며, 또한 70 내지 99.5 중량%, 또한 80 내지 99 중량%, 또한 80 내지 97 중량%, 또한 80 내지 95 중량%인 것이 바람직하다.

한편, 내구성 향상의 관점에서 상기 (메트)아크릴계 중합체에 (메트)아크릴산 알킬에스테르로서는 아크릴산 알킬에스테르와 함께 메타크릴산 알킬에스테르를 사용하는 것이 바람직하다. 이들 중에서도 메타크릴산 메틸, 메타크릴산 에틸, 메타크릴산 시클로헥실 등이 바람직하다. 메타아크릴산 알킬에스테르는 총 단량체 단위의 0.1 내지 39.9 중량%인 것이 바람직하며, 또한 0.1 내지 30 중량%, 또한 1 내지 20 중량%, 또한 1 내지 15 중량%, 또한 1 내지 10 중량%인 것이 바람직하다.

상기 (메트)아크릴계 중합체에는 점착제의 접착성 향상과 수분산액의 안정성 부여를 위해서 공중합 단량체로서 카르복실기 함유 단량체를 단량체 단위로서 함유한다. 카르복실기 함유 단량체로서는 카르복실기 및 (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 라디칼 중합성의 불포화 이중 결합을 갖는 것을 예시할 수 있고, 예를 들어, (메트)아크릴산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 크로톤산, 카르복시에틸 아크릴레이트, 카르복시펜틸 아크릴레이트 등을 들 수 있다. 카르복실기 함유 단량체는 (메트)아크릴계 중합체의 총 단량체 단위의 0.1 내지 10 중량% 함유하는 것이 바람직하며, 또한 0.5 내지 7 중량%, 또한 1 내지 5 중량%인 것이 바람직하다.

상기 (메트)아크릴계 중합체에는, 상기 (메트)아크릴산 알킬에스테르 및 카르복실기 함유 단량체에 가하여 수분산액의 안정화, 점착제층의 광학 필름 등의 기재에 대한 밀착성의 향상, 또한 피착체에 대한 초기 접착성의 향상 등을 목적으로 하여 (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합에 관한 중합성의 관능기를 갖는 1종류 이상의 공중합 단량체를 공중합에 의해 도입할 수 있다.

또한, 공중합 단량체로서는 인산기 함유 단량체를 들 수 있다. 인산기 함유 단량체는 유리로의 밀착성을 향상시키는 효과가 있다.

인산기 함유 단량체로서는, 예를 들어, 하기 화학식 1(인산기 또는 그 염을 나타냄)로 나타내는 인산기 함유 단량체를 들 수 있다:

(화학식 1 중 R¹은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R²는 탄소수 1 내지 4의 알킬렌기, m은 2 이상의 정수를 나타내고, M¹ 및 M²는 각각 독립으로, 수소 원자 또는 양이온을 나타낸다.)

또한, 화학식 1 중 m은 2 이상, 바람직하게는 4 이상, 통상 40 이하이며, m은 옥시알킬렌기의 중합도를 나타낸다. 또, 폴리옥시알킬렌기로서는, 예를 들어, 폴리옥시에틸렌기, 폴리옥시프로필렌기 등을 들 수 있으며, 이들 폴리옥시알킬렌 기는 이들의 랜덤, 블록 또는 그래프트 단위 등이어도 된다. 또한, 인산기의 염에 관한 양이온은 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 나트륨, 칼륨 등의 알칼리 금속, 예를 들어, 칼슘, 마그네슘 등의 알칼리토류 금속 등의 무기 양이온, 예를 들어, 4급 아민류 등의 유기 양이온 등을 들 수 있다.

인산기 함유 단량체의 비율은 (메트)아크릴계 중합체의 총 단량체 단위의 0.1 내지 20 중량%인 것이 바람직하다. 0.1 중량% 미만에서는 인산기 함유 단량체를 사용하는 효과(선 형상 기포 발생의 억제)를 충분히는 얻을 수 없고, 한편 20 중량%를 초과하면 중합 안정성, 점착 특성의 점에서 바람직하지 않다.

또, 상기 (메트)아크릴계 중합체는 공중합 단량체 단위로서 알콕시실릴기 함유 단량체를 함유하는 것이 바람직하다. 알콕시실릴기 함유 단량체는 (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 1개 이상 갖고, 또한 알콕시실릴기를 갖는 실란 커플링제계 불포화 단량체이다. 알콕시실릴기 함유 단량체는 알칼리 규산염(B)과의 친화성을 향상시키고, 또는 결합을 형성하며, 또 유리로의 밀착성을 향상시킨 다음에 바람직하다.

상기 알콕시실릴기 함유 단량체로서는 알콕시실릴기 함유 (메트)아크릴레이트 단량체나, 알콕시실릴기 함유 비닐 단량체 등이 포함된다. 알콕시실릴기 함유 (메트)아크릴레이트 단량체로서는, 예를 들어, (메트)아크릴로일옥시메틸-트리메톡시실란, (메트)아크릴로일옥시메틸-트리에톡시실란, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸-트리메톡시실란, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸-트리에톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-트리메톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-트리에톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-트리프로폭시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-트리이소프로폭시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-트리부톡시실란 등의 (메트)아크릴로일옥시알킬-트리알콕시실란; 예를 들어, (메트)아크릴로일옥시메틸-메틸디메톡시실란, (메트)아크릴로일옥시메틸-메틸디에톡시실란, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸-메틸디메톡시실란, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸-메틸디에톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-메틸디메톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-메틸디에톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-메틸디프로폭시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-메틸디이소프로폭시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-메틸디부톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-에틸디메톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-에틸디에톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-에틸디프로폭시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-에틸디이소프로폭시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-에틸디부톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-프로필디메톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-프로필디에톡시실란 등의 (메트)아크릴로일옥시알킬-알킬디알콕시실란이나, 이들에 대응하는 (메트)아크릴로일옥시알킬-디알킬(모노)알콕시실란 등을 들 수 있다. 또한, 알콕시실릴기 함유 비닐 단량체로서는, 예를 들어, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리프로폭시실란, 비닐트리이소프로폭시실란, 비닐트리부톡시실란 등의 비닐트리알콕시실란 외에, 이들에 대응하는 비닐알킬디알콕시실란이나, 비닐디알킬알콕시실란, 예를 들어, 비닐메틸트리메톡시실란, 비닐메틸트리에톡시실란, β-비닐에틸트리메톡시실란, β-비닐에틸트리에톡시실란, γ-비닐프로필트리메톡시실란, γ-비닐프로필트리에톡시실란, γ-비닐프로필트리프로폭시실란, γ-비닐프로필트리이소프로폭시실란, γ-비닐프로필트리부톡시실란 등의 비닐알킬트리알콕시실란 외에, 이들에 대응하는 (비닐알킬)알킬디알콕시실란이나 (비닐알킬)디알킬(모노)알콕시실란 등을 들 수 있다.

알콕시실릴기 함유 단량체의 비율은 (메트)아크릴계 중합체의 총 단량체 단위의 0.001 내지 1 중량%인 것이 바람직하고, 또한 0.01 내지 0.5 중량%, 또한 0.03 내지 0.1 중량%인 것이 바람직하다. 0.001 중량% 미만에서는 알콕시실릴기 함유 단량체를 사용하는 효과(알칼리 규산염(B)의 친화성을 향상 또는 결합을 형성하고, 유리로의 밀착성 향상에 의한 내구성의 향상)를 충분히는 얻을 수 없고, 한편 1 중량%를 초과하면 점착제층의 가교도가 지나치게 높아져서 경시에서의 점착제층의 균열 등이 발생하거나, (메트)아크릴계 중합체의 제조시에 겔화 등의 문제가 발생하거나 할 우려가 있다.

상기 알콕시실릴기 함유 단량체, 인산기 함유 단량체 이외의 공중합 단량체의 구체예로서는, 예를 들어, 무수말레인산, 무수이타콘산 등의 산무수물기 함유 단량체; 예를 들어, (메트)아크릴산 페닐 등의 (메트)아크릴산아릴에스테르, 예를 들어, 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐 등의 비닐에스테르류; 예를 들어, 스티렌이나 α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체; 예를 들어, (메트)아크릴산 글리시딜, (메트)아크릴산 메틸글리시딜 등의 에폭시기 함유 단량체; 예를 들어, (메트)아크릴산 2-히드록시에틸, (메트)아크릴산 2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 4-히드록시부틸, (메트)아크릴산 6-히드록시헥실, (메트)아크릴산 8-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 12-히드록시라우릴, (4-히드록시메틸시클로헥실)-메틸(메트)아크릴레이트 등의 히드록실기 함유 단량체; 예를 들어, (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴 아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N-부틸(메트)아크릴아미드, N-메티롤(메트)아크릴아미드, N-메티롤프로판(메트)아크릴아미드, (메트)아크릴로일모르폴린, (메트)아크릴산 아미노에틸, (메트)아크릴산 N,N-디메틸아미노에틸, (메트)아크릴산 t-부틸아미노에틸 등의 질소 원자 함유 단량체; 예를 들어, (메트)아크릴산 메톡시에틸, (메트)아크릴산 에톡시에틸 등의 알콕시기 함유 단량체; 예를 들어, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시아노 기 함유 단량체; 예를 들어, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트 등의 관능성 단량체; 예를 들어, 에틸렌, 프로필렌, 이소프렌, 부타디엔, 이소부틸렌 등의 올레핀계 단량체; 예를 들어, 비닐에테르 등의 비닐에테르계 단량체; 예를 들어, 염화 비닐 등의 할로겐 원자 함유 단량체; 그 밖에, 예를 들어, N-비닐피롤리돈, N-(1-메틸비닐)피롤리돈, N-비닐피리딘, N-비닐피페리돈, N-비닐피리미딘, N-비닐피페라딘, N-비닐피라딘, N-비닐피롤, N-비닐이미다졸, N-비닐옥사졸, N-비닐모르폴린 등의 비닐기 함유 복소환 화합물이나 N-비닐카르복실산 아미드류 등을 들 수 있다.

또한, 공중합성 단량체로서, 예를 들어, N-시클로헥실말레이미드, N-이소프로필말레이미드, N-라우릴말레이미드, N-페닐말레이미드 등의 말레이미드계 단량체; 예를 들어, N-메틸이타콘이미드, N-에틸이타콘이미드, N-부틸이타콘이미드, N-옥틸이타콘이미드, N-2-에틸헥실이타콘이미드, N-시클로헥실이타콘이미드, N-라우릴이타콘이미드 등의 이타콘이미드계 단량체; 예를 들어, N-(메트)아크릴로일옥시메틸렌숙신산 이미드, N-(메트)아크릴로일-6-옥시헥사메틸렌숙신산 이미드, N-(메트)아크릴로일-8-옥시옥타메틸렌숙신산 이미드 등의 숙신산 이미드계 단량체; 예를 들어, 스티렌술폰산, 아릴술폰산, 2-(메트)아크릴아미드 2-메틸프로판술폰산, (메트)아크릴아미드프로판술폰산, 술포프로필(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴로일옥시나프탈렌술폰산 등의 술폰산기 함유 단량체를 들 수 있다.

또한, 공중합성 단량체로서, 예를 들어, (메트)아크릴산 폴리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산 폴리프로필렌글리콜, (메트)아크릴산 메톡시에틸렌글리콜, (메트)아크릴산 메톡시폴리프로필렌글리콜 등의 글리콜계 아크릴 에스테르 단량체; 그 밖에, 예를 들어, (메트)아크릴산 테트라히드로푸르푸릴이나, 불소 (메트)아크릴레이트 등의 복소환이나, 할로겐 원자를 함유하는 아크릴산 에스테르계 단량체 등을 들 수 있다.

또한, 공중합성 단량체로서, 수분산형 점착제의 겔 분율의 조정 등을 위해서 상기 알콕시실릴기 함유 단량체 이외의 다관능성 단량체를 사용할 수 있다. 다관능 단량체로서는 (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 2개 이상 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 예를 들어, 에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸롤프로판 트리(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트 등의 (모노 또는 폴리)프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트 또는 프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트 등의 (모노 또는 폴리)프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트 등의 (모노 또는 폴리)알킬렌글리콜 디(메트)아크릴레이트 외에, 네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산과 다가 알코올의 에스테르화물; 디비닐벤젠 등의 다관능 비닐 화합물; 다이아세톤아크릴아미드; (메트)아크릴산 알릴, (메트)아크릴산 비닐 등의 반응성이 다른 불포화 이중 결합을 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 다관능성 단량체로서는 폴리에스테르, 에폭시, 우레탄 등의 골격에 단량체 성분과 마찬가지의 관능기로서 (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 2개 이상 부가한 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트 등을 사용하는 것도 가능하다.

상기 알콕시실릴기 함유 단량체, 인산기 함유 단량체 이외의 공중합성 단량체가 일관능성 단량체인 경우에는, 그 비율은 수분산액의 점도가 지나치게 높지 않고, 또 수분산액의 안정성의 점에서 (메트)아크릴계 중합체의 총 단량체 단위의 20 중량% 이하인 것이 바람직하고, 또한 10 중량% 이하, 또한 5 중량% 이하인 것이 바람직하다. 공중합성 단량체가 다관능성 단량체인 경우에는, 그 비율은 수분산액의 안정성의 관점에서 (메트)아크릴계 중합체의 총 단량체 단위의 5 중량% 이하인 것이 바람직하고, 또한 3 중량% 이하, 또한 1 중량% 이하인 것이 바람직하다.

상기 (메트)아크릴계 중합체는, (메트)아크릴산 알킬에스테르를 함유하는 단량체 성분을 계면활성제 및 라디칼 중합 개시제의 존재 하에 수중에서 중합함으로써 이들을 함유하는 수분산액으로서 얻어진다. 상기 중합의 형태로서는 유화 중합 또는 현탁 중합, 분산 중합을 들 수 있으며, 유화 중합의 경우에는 중합체 유화액이, 현탁 중합의 경우에는 중합체 현탁액, 분산 중합의 경우에는 중합체 분산액을 얻을 수 있다. 상기 점착제의 종류에 따라서 점착성의 폴리머의 종류나 중합 수단이 선택된다. 또한, 계면활성제는 유화 중합의 경우에는 유화제가, 현탁 중합의 경우에는 분산제가, 각 중합 형태에 따라서 적절하게 선택된다.

본 발명의 수분산형 점착제에 사용되는 상기 아크릴계 공중합체(A)를 함유하는 수분산액으로서는 유화 중합에 의해 얻어진 중합체 유화액이 바람직하다. 즉, 본 발명의 수분산형 점착제는 에멀션형 점착제가 바람직하다.

상기 단량체 성분의 유화 중합은 상법에 의해 단량체 성분을 물에 유화시킨 후에 유화 중합함으로써 행한다. 이에 의해 (메트)아크릴계 중합체를 (메트)아크릴계 중합체(A)로서 함유하는 수분산액(폴리머 에멀션)을 조제한다. 유화 중합에서는, 예를 들어, 상기한 단량체 성분과 함께 계면활성제(유화제), 라디칼 중합 개시제, 필요에 따라서 연쇄 이동제 등이 적절하게 배합된다. 보다 구체적으로는, 예를 들어, 일괄 투입법(일괄 중합법), 단량체 적하법, 단량체 에멀션 적하법 등의 공지된 유화 중합법을 채용할 수 있다. 또한, 단량체 적하법, 단량체 에멀션 적하법에서는 연속 적하 또는 분할 적하가 적절하게 선택된다. 이들의 방법은 적절하게 조합시킬 수 있다. 반응 조건 등은 적절하게 선택되지만, 중합 온도는, 예를 들어, 40℃ 내지 95℃ 정도인 것이 바람직하고, 중합 시간은 30분간 내지 24시간 정도인 것이 바람직하다.

유화 중합에 사용되는 계면활성제(유화제)는 특별히 제한되지 않고 유화 중합에 보통 사용되는 각종 계면활성제가 사용된다. 계면활성제로서는, 예를 들어, 음이온계 계면활성제, 비이온계 계면활성제가 사용된다. 음이온계 계면활성제의 구체예로서는, 올레인산 나트륨 등의 고급 지방산 염류; 도데실벤젠술폰산 나트륨 등의 알킬아릴술폰산 염류; 라우릴 황산 나트륨, 라우릴 황산 암모늄 등의 알킬 황산 에스테르 염류; 폴리옥시에틸렌라우릴에테르 황산 나트륨 등의 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르 황산 에스테르 염류; 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 황산 나트륨 등의 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르 황산 에스테르 염류; 모노옥틸술포숙신산 나트륨, 디옥틸술포숙신산 나트륨, 폴리옥시에틸렌라우릴술포숙신산 나트륨 등의 알킬술포숙신산 에스테르염 및 그 유도체류; 폴리옥시에틸렌디스티렌화 페닐에테르 황산 에스테르염류; 나프탈렌술폰산 나트륨 포르말린 응축물 등을 예시할 수 있다. 비이온계 계면활성제의 구체예로서는, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌스테아릴에테르 등의 폴리옥시에틸렌알킬에테르류; 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 등의 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류; 소르비탄모노라우레이트, 소르비탄모노스테아레이트, 소르비탄트리올레에이트 등의 소르비탄 고급 지방산 에스테르류; 폴리옥시에틸렌소르비탄모노라우레이트 등의 폴리옥시에틸렌소르비탄 고급 지방산 에스테르류; 폴리옥시에틸렌모노라우레이트, 폴리옥시에틸렌모노스테아레이트 등의 폴리옥시에틸렌 고급 지방산 에스테르류; 올레산 모노글리세라이드, 스테아린산 모노글리세라이드 등의 글리세린 고급 지방산 에스테르류; 폴리옥시에틸렌·폴리옥시프로필렌·블록 공중합체, 폴리옥시에틸렌디스티렌화 페닐에테르 등을 예시할 수 있다.

또한, 상기 비반응성 계면활성제 이외에, 계면활성제로서는 에틸렌성 불포화 이중 결합에 관한 라디칼 중합성 관능기를 갖는 반응성 계면활성제를 사용할 수 있다. 반응성 계면활성제로서는, 상기 음이온계 계면활성제나 비이온계 계면활성제에 프로페닐기나 알릴에테르기 등의 라디칼 중합성 관능기(라디칼 반응성기)가 도입된 라디칼 중합성 계면활성제 등을 들 수 있다. 이들 계면활성제는 적절하게, 단독 또는 병용하여 사용된다. 이들의 계면활성제 중에서도 라디칼 중합성 관능기를 가진 라디칼 중합성 계면활성제는 수분산액의 안정성, 점착제층의 내구성의 관점에서 바람직하게 사용된다.

음이온계 반응성 계면활성제의 구체예로서는, 알킬에테르계(시판품으로서는, 예를 들어, 다이이치공업제약(주) 제조 아쿠아론 KH-05, KH-10, KH-20, 아사히덴카공업(주) 제조 아데카리아소프 SR-10N, SR-20N, 카오(주) 제조 라템루 PD-104 등); 술포 호박산 에스테르계(시판품으로서는, 예를 들어, 카오(주) 제조 라템루 S-120, S-120A, S-180P, S-180A, 산요카세이(주) 제조 에레미놀 JS-2 등); 알킬페닐에테르계 혹은 알킬페닐에스테르계(시판품으로서는, 예를 들어, 다이이치공업제약(주) 제조 아쿠아론 H-2855A, H-3855B, H-3855C, H-3856, HS-05, HS-10, HS-20, HS-30, BC-05, BC-10, BC-20, 아사히덴카공업(주) 제조 아데카리아소프 SDX-222, SDX-223, SDX-232, SDX-233, SDX-259, SE-10N, SE-20N); (메트)아크릴레이트 황산 에스테르계(시판품으로서는, 예를 들어, 일본유화제(주) 제조 안톡스 MS-60, MS-2N, 산요카세이공업(주) 제조 에레미놀 RS-30 등); 인산 에스테르계(시판품으로서는, 예를 들어, 다이이치공업제약(주) 제조 H-3330PL, 아사히덴카공업(주) 제조 아데카리아소프 PP-70 등)를 들 수 있다. 비이온계 반응성 계면활성제로서는, 예를 들어, 알킬에테르계(시판품으로서는, 예를 들어, 아사히덴카공업(주) 제조 아데카리아소프 ER-10, ER-20, ER-30, ER-40, 카오(주) 제조 라템루 PD-420, PD-430, PD-450 등); 알킬페닐에테르계 또는 알킬페닐에스테르계(시판품으로서는, 예를 들어, 다이이치공업제약(주) 제조 아쿠아론 RN-10, RN-20, RN-30, RN-50, 아사히덴카공업(주) 제조 아데카리아소프 NE-10, NE-20, NE-30, NE-40 등); (메트)아크릴레이트 황산 에스테르계(시판품으로서는, 예를 들어, 일본유화제(주) 제조 RMA-564, RMA-568, RMA-1114 등)를 들 수 있다.

상기 계면활성제의 배합 비율은, 상기 (메트)아크릴산 알킬에스테르를 함유하는 단량체 성분 100 중량부에 대하여 0.3 내지 5 중량부인 것이 바람직하다. 계면활성제의 배합 비율보다 점착 특성, 또한 중합 안정성, 기계적 안정성 등의 향상을 도모할 수 있다. 상기 계면활성제의 배합 비율은 0.3 내지 4 중량부가 보다 바람직하다.

라디칼 중합 개시제로서는 특별히 제한되지 않고 유화 중합에 보통 사용되는 공지된 라디칼 중합 개시제가 사용된다. 예를 들어, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘) 2황산염, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘) 2염산염, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판) 2염산염, 2,2'-아조비스[2-(2-이미다졸린-2-일)프로판] 2염산염 등의 아조계 개시제; 예를 들어, 과황산 칼륨, 과황산 암모늄 등의 과황산염계 개시제; 예를 들어, 벤조일파옥사이드, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 과산화수소 등의 과산화물계 개시제; 예를 들어, 페닐 치환 에탄 등의 치환 에탄계 개시제; 예를 들어, 방향족 카르보닐 화합물 등의 카르보닐계 개시제 등을 들 수 있다. 이들 중합 개시제는 적절하게, 단독 또는 병용하여 사용된다. 또한, 유화 중합을 행할 때, 소망에 따라 중합 개시제와 함께 환원제를 병용하는 산화환원계 개시제로 할 수 있다. 이에 의해, 유화 중합 속도를 촉진시키거나, 저온에서 유화 중합을 행하거나 하는 것이 용이해진다. 이러한 환원제로서는, 예를 들어, 아스코르빈산, 에리소르빈산, 주석산, 구연산, 포도당, 포름알데히드술폭시레이트 등의 금속염 등의 환원성 유기 화합물; 티오 황산 나트륨, 아황산 나트륨, 중아황산 나트륨, 메타 중아황산 나트륨 등의 환원성 무기 화합물; 염화 제1 철, 론갈리트, 이산화황 요소 등을 예시할 수 있다.

또한, 라디칼 중합 개시제의 배합 비율은 적절하게 선택되지만, 단량체 성분 100 중량부에 대하여, 예를 들어, 0.02 내지 1 중량부 정도이며, 바람직하게는 0.02 내지 0.5중량부, 보다 바람직하게는 0.08 내지 0.3 중량부이다. 0.02 중량부 미만이면 라디칼 중합 개시제로서의 효과가 저하되는 경우가 있으며, 1 중량부를 초과하면 수분산액(중합체 유화액)에 관한 (메트)아크릴계 중합체의 분자량이 저하되어 수분산형 점착제의 내구성이 저하되는 경우가 있다. 또한, 산화환원계 개시제의 경우에는, 환원제는 단량체 성분의 합계량 100 중량부에 대하여 0.01 내지 1 중량부의 범위에서 사용하는 것이 바람직하다.

연쇄 이동제는 필요에 따라 (메트)아크릴계 중합체의 분자량을 조절하는 것이며, 유화 중합에 보통 사용되는 연쇄 이동제가 사용된다. 예를 들어, 1-도데칸티올, 메르캅토 아세트산, 2-메르캅토 에탄올, 티오 글리콜산 2-에틸헥실, 2,3-디메르캅토-1-프로판올, 메르캅토 프로피온산 에스테르류 등의 메르캅탄류 등을 들 수 있다. 이들 연쇄 이동제는 적절하게, 단독 또는 병용하여 사용된다. 또한, 연쇄 이동제의 배합 비율은 단량체 성분 100 중량부에 대하여, 예를 들어, 0.001 내지 0.3 중량부이다.

이와 같은 유화 중합에 의해 (메트)아크릴계 중합체를 수분산액(에멀션)으로서 조제할 수 있다. 이러한 (메트)아크릴계 중합체의 체적 평균 입자 직경은 180nm 이하인 것이 바람직하고, 또한 10 내지 180nm인 것이 바람직하고, 또한 10 내지 150nm인 것이 바람직하다. 광학 용도로 수분산형 점착제를 사용하는 경우에는 (메트)아크릴계 중합체의 체적 평균 입자 직경은 작으면 작을수록 좋다. 가시광의 영역보다도 입자 직경이 작아지면, 입자에 의한 편광의 산란 등은 일어나지 않아 광학 특성이 저하되지 않는다. 단, 유화 중합에 의해 제작 가능한 입자 직경의 하한은 일반적으로 10nm 정도이다.

또한, 상기 수분산액의 분산 안정성을 유지하기 위해서 상기 (메트)아크릴계 중합체가 단량체 단위로서 함유하는 카르복실기 함유 단량체는 당해 카르복실기 함유 단량체 등을 중화하는 것이 바람직하다. 중화는, 예를 들어, 암모니아, 수산화 알칼리 금속 등에 의해 행할 수 있다.

본 발명의 (메트)아크릴계 중합체는, 통상, 중량 평균 분자량은 100만 이상인 것이 바람직하다. 특히 중량 평균 분자량으로 100만 내지 400만인 것이 내열성, 내습성의 관점에서 바람직하다. 중량 평균 분자량이 100만 미만이면 내열성, 내습성이 저하되어 바람직하지 않다. 또, 유화 중합으로 얻어지는 점착제는 그 중합 메카니즘보다 분자량이 매우 고분자량이 되므로 바람직하다. 단, 유화 중합으로 얻어지는 점착제는 일반적으로는 겔 함량이 많아 GPC(겔 투과 크로마토그래피)로 측정할 수 없으므로 분자량에 관한 실측정으로의 증명은 어려운 점이 많다.

또한, 본 발명의 수분산형 점착제는 상기 성분을 함유하지만, 이들 각 성분의 고형분 중량의 합계는 수분산형 점착제에 관한 수분산액의 고형분 중량의 80 중량% 이상, 또한 90 중량% 이상, 또한 95 중량% 이상이 되도록, 또한 100%가 되도록 사용하는 것이 바람직하다. 즉, 수분산형 점착제에 관한 수분산액에는 상기 성분 이외에 다른 성분을 사용할 수 있다. 다른 성분의 비율은 10 중량% 이하의 비율로 사용하는 것이 점착제층의 헤이즈의 악화를 억제하는 점에서 바람직하다.

또한, 상기 다른 성분으로서는 필요에 따라서 가교제를 함유할 수 있다. 또한, 가교제에 의해 점착제층에 응집력을 부여할 수 있지만, 가교제를 사용하면 밀착성이 나빠져서 가습 박리가 발생하기 쉬워지는 경향이 있어, 본 발명에서는 가교제는 특히 필요하지 않다.

또한, 본 발명의 수분산형 점착제는 필요에 따라서 점도 조정제, 박리 조정제, 점착 부여제, 실란 커플링제, 가소제, 연화제, 유리 섬유, 유리 비드, 금속분, 그 밖의 무기 분말 등으로 이루어지는 충전제, 안료, 착색제(안료, 염료 등), pH 조정제(산 또는 염기), 산화 방지제, 자외선 흡수제 등을, 또 본 발명의 목적을 벗어나지 않는 범위에서 각종 첨가제를 적당하게 사용할 수도 있다. 또, 미립자를 함유하여 광확산성을 나타내는 점착제층 등으로 하여도 된다. 이들 첨가제도 에멀션으로서 배합할 수 있다.

본 발명의 제조 방법의 도포 시공 공정 (1)에서는, 전단 속도 4000(1/s)에서의 점도가 0.01 내지 0.1 Pa·s로 제어된 수분산형 점착제가 사용된다. 당해 점도는 0.02 내지 0.08 Pa·s인 것이 바람직하다. 상기 점도가 0.01 Pa·s 미만인 경우에는 건조 공정에서의 액 유동이 크므로 평활성이 손상되고, 0.1 Pa·s를 초과하는 경우에는 도포 시공시에 선이 발생하기 쉬워서 도포 시공 외관이 양호한 점착제층을 얻는 것이 어렵다.

또한, 상기 수분산형 점착제의 조제의 경우, 상기 수분산형 점착제는 상기 점도의 범위가 되도록 제어되지만, 그 조제 공정에 있어서, 상기 수분산형 점착제에 걸리는 전단 속도는 4000(1/s)으로 한정되지는 않는다. 상기 조제 공정에 있어서, 상기 수분산형 점착제에 걸리는 전단 속도는 도포 시공 공정 (1)에 있어서의 도포 시공 속도에 따라서 설정할 수 있고, 예를 들어, 1000 내지 10000(1/s)이 범위로 할 수 있으며, 2000 내지 10000(1/s)이 바람직하고, 또한 4000 내지 10000(1/s)이 바람직하다.

또한, 본 발명의 수분산형 점착제의 고형분 농도는 특별히 제한되지 않지만 5 내지 45 중량%인 것이 바람직하다. 상기 고형분 농도는 25 중량% 이상인 것 건조 속도나 도포 시공막 중에서의 액 유동의 관점에서 바람직하다. 상기 고형분 농도는 25 내지 45 중량%인 것이 바람직하고, 또한 30 내지 45 중량%인 것이 바람직하다.

본 발명의 광학 필름용 점착제층은, 수분산형 점착제를 이형 필름에 도포 시공하는 공정 (1)을 실시한 후에, 상기 공정 (1)에서 도포 시공된 수분산형 점착제를 건조하는 공정 (2)가 실시됨으로써 제조된다.

이형 필름의 구성 재료로서는, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에스테르 필름 등의 플라스틱 필름, 종이, 천, 부직포 등의 다공질 재료, 네트, 발포 시트, 금속박, 및 이들의 라미네이트체 등의 적당한 박엽체 등을 들 수 있지만, 표면 평활성이 우수한 점에서 플라스틱 필름이 적절하게 사용된다.

그 플라스틱 필름으로서는, 상기 점착제층을 보호할 수 있는 필름이라면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리우레탄 필름, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체 필름 등을 들 수 있다.

상기 이형 필름의 두께는 통상 5 내지 200㎛, 바람직하게는 5 내지 100㎛ 정도이다. 상기 이형 필름에는 필요에 따라서 실리콘계, 불소계, 장쇄 알킬계 또는 지방산 아미드계의 이형제, 실리카 분말 등에 의한 이형 및 방오 처리나, 도포 시공형, 내장형, 증착형 등의 대전 방지 처리도 할 수도 있다. 특히, 상기 이형 필름의 표면에 실리콘 처리, 장쇄 알킬 처리, 불소 처리 등의 박리 처리를 적절하게 행함으로써 상기 점착제층으로부터의 박리성을 보다 높일 수 있다.

상기 도포 시공 공정 (1)에는 각종 방법이 사용된다. 구체적으로는, 예를 들어, 롤 코트, 키스롤 코트, 그라비아 코트, 리버스 코트, 롤 브러시, 스프레이 코트, 딥롤 코트, 바 코트, 나이프 코트, 에어나이프 코트, 커튼 코트, 립 코트, 다이 코트 등에 의한 압출 코트법 등의 방법을 들 수 있다.

또한, 도포 시공 공정 (1)에서는, 형성되는 점착제층이 소정의 두께(건조 후 두께)가 되도록 그 도포 시공량이 제어된다. 점착제층의 두께(건조 후 두께)는, 이는 도포 시공막 중에서의 액 유동의 관점에서 도포층의 두께는 얇은 쪽이 균일하고 평활한 표면을 얻기 쉬우므로, 통상 5 내지 30㎛ 정도, 바람직하게는 10 내지 30㎛, 더욱 바람직하게는 20 내지 30㎛의 범위로 설정된다.

이어서, 도포 시공 공정 (1)에서 도포 시공된 수분산형 점착제에 대하여 건조 공정 (2)가 실시된다. 상기 건조 공정 (2)에서의 온도는 통상 40℃ 내지 160℃ 정도인 것이 바람직하며, 건조 시간은 통상 30초간 내지 5분간인 것이 바람직하다. 건조 공정 (2)를 1단계에서 행할 경우에는, 건조 온도를 60℃ 내지 160℃에서 행하는 것이 바람직하고, 또한 70℃ 내지 150℃이 바람직하고, 또한 80℃ 내지 140℃가 바람직하고, 건조 시간은 30초간 내지 5분간인 것이 바람직하고, 또한 60초간 내지 2분간인 것이 바람직하다.

상기 건조 공정 (2)는 제1 건조 공정 (21)과 제2 건조 공정 (22)를 갖는 것이 바람직하다. 제1 건조 공정 (21)의 건조 온도는 바람직하게는 40℃ 내지 110℃이며, 더욱 바람직하게는 50℃ 내지 100℃, 더욱 바람직하게는 55℃ 내지 100℃이다. 제1 건조 공정 (21)의 건조 온도를 40℃ 이상으로 하는 것은 건조 속도를 충분히 확보하여 도포 시공 속도를 빨리 한 다음에 바람직하다. 한편, 제1 건조 공정 (21)의 건조 온도를 110℃ 이하로 하는 것은 도포 시공막 중에서의 액 유동을 균일하게 행할 수 있고, 균일하고 평활한 표면을 갖는 점착제층을 얻은 다음에 바람직하다. 제1 건조 공정 (21)의 건조 시간은 통상 30초간 내지 2분간인 것이 바람직하고, 바람직하게는 30초간 내지 1분간인 것이 바람직하다. 또한, 제1 건조 공정 (21)에서의 풍속은 특별히 제한되지 않지만 통상 5 내지 15m/s의 범위를 채용할 수 있다.

상기 제1 건조 공정 (21)의 후에 제2 건조 공정 (22)가 실시된다. 제2 건조 공정 (22)의 건조 온도는 바람직하게는 100℃ 내지 160℃이며, 더욱 바람직하게는 110℃ 내지 160℃, 더욱 바람직하게는 130℃ 내지 150℃이다. 제2 건조 공정 (22)의 건조 온도를 100℃ 이상으로 하는 것은 건조의 속도가 충분히 확보되어 도포 시공 속도를 빨리 한 다음에 바람직하다. 한편, 제1 건조 공정 (21)의 건조 온도를 160℃ 이하로 하는 것은 건조를 지나치게 진행하는 것을 억제하여 균일하고 평활한 표면을 갖는 점착제층을 얻는데 바람직하다. 제2 건조 공정 (22)의 건조 시간은 통상 30초간 내지 2분간인 것이 바람직하고, 바람직하게는 30초간 내지 1분간인 것이 바람직하다. 또한, 제2 건조 공정 (22)에서의 풍속은 특별히 제한되지 않지만, 통상 10 내지 20m/s의 범위를 채용할 수 있다.

또한, 제2 건조 공정 (22)의 건조 온도는 평활성이 좋은 점착제층을 형성하는 관점에서 제1 건조 공정 (21)의 건조 온도보다도 높게 설정하는 것이 바람직하다. 제2 건조 공정 (22)의 건조 온도는, 제1 건조 공정 (21)의 건조 온도는 상기 관점에서 10℃ 내지 100℃ 높은 온도인 것이 바람직하고, 또한 20℃ 내지 80℃ 높은 온도인 것이 바람직하고, 또한 30℃ 내지 50℃ 높은 온도인 것이 바람직하다. 상기 제1 건조 공정 (21)과 제2 건조 공정 (22)는 각각의 공정 내에 있어서 상이한 건조 온도를 채용하여 건조 온도가 상이한 복수 공정으로 나누어서 행할 수도 있다.

도포 시공 공정 (1), 건조 공정 (2)는 통상 연속 공정으로서 마련되고, 본 발명의 광학 필름용 점착제층의 제조 방법에 따르면, 도포 시공 공정 (1)의 도포 시공 속도는 생산성과 균일하고 평활한 표면을 갖는 점착제층을 얻는 관점에서 10 내지 250m/min인 것이 바람직하다. 상기 도포 시공 속도는 150m/min 이하인 것이 보다 바람직하고, 100m/min 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상기 도포 시공 속도가 250m/min을 초과할 경우에는 평활한 표면을 갖는 점착제층을 얻는 관점에서 바람직하지 않다.

본 발명의 광학 필름용 점착제층은 이형 필름 상에 형성된다. 상기 이형 필름 상에 형성되는 점착제층의 표면의 표면 거칠기(Ra)는 10 내지 40nm이며, 당해 점착제층의 표면은 평활하고 균일하다. 상기 점착제층의 표면의 표면 거칠기(Ra)는 10 내지 30nm이 바람직하고, 10 내지 20nm인 것이 보다 바람직하다.

또한, 본 발명의 광학 필름용 점착제층은, 점착제층의 두께가 23㎛인 경우의 헤이즈값이 1% 이하인 것이 바람직하고, 광학 필름용 점착제층에 요구되는 투명성을 만족할 수 있다. 상기 헤이즈값은 0 내지 0.8%인 것이 바람직하고, 또한 0 내지 0.5%인 것이 바람직하다. 또한, 헤이즈값은 1% 이하이면 광학 용도로서 만족할 수 있다. 상기 헤이즈값이 1%를 초과하면 백탁이 생겨서 광학 필름 용도로서 바람직하지 않다.

이형 필름 위로 형성된 점착제층은, 당해 점착제층의 표면측을 광학 필름에 접합함으로써 당해 점착제층이 광학 필름에 전사되어 점착형 광학 필름을 얻을 수 있다. 또한, 상기 점착제층이 노출되는 경우에는, 실용으로 제공될 때까지 이형 필름으로 점착제층을 보호해도 된다. 또한, 상기의 박리 필름은 그대로 점착형 광학 필름의 분리기로서 사용할 수 있고, 공정면에 있어서의 간략화가 가능하다.

또한, 광학 필름의 표면에, 점착제층과의 사이의 밀착성을 향상시키기 위해서 앵커층을 형성하거나, 코로나 처리, 플라즈마 처리 등의 각종 이접착(易接着) 처리를 실시한 후에 점착제층을 형성할 수 있다. 또한, 점착제층의 표면에는 이접착(易接着) 처리를 행해도 된다.

상기 앵커층의 형성재로서는 바람직하게는 폴리우레탄, 폴리에스테르, 분자 중에 아미노기를 포함하는 중합체류, 옥사졸리닐기를 포함하는 중합체류로부터 선택되는 앵커제가 사용되고, 특히 바람직하게는 분자 중에 아미노기를 포함한 중합체류, 옥사졸리닐기를 포함하는 중합체류이다. 분자 중에 아미노기를 포함하는 중합체류, 옥사졸리닐기를 포함하는 중합체류는 분자 중의 아미노기, 옥사졸리닐기가 점착제 중의 카르복실기 등과 반응 또는 이온성 상호 작용 등의 상호 작용을 나타내므로 양호한 밀착성이 확보된다.

분자 중에 아미노기를 포함하는 중합체류로서는, 예를 들어, 폴리에틸렌이민, 폴리아릴아민, 폴리비닐아민, 폴리비닐피리딘, 폴리비닐피롤리딘, 디메틸아미노에틸아크릴레이트 등을 포함하는 아미노기 함유 단량체의 중합체 등을 들 수 있다.

광학 필름으로서는 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치의 형성에 사용되는 것이 사용되며, 그 종류는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 광학 필름으로서는 편광판을 들 수 있다. 편광판은 편광자의 편면 또는 양면에는 투명 보호 필름을 갖는 것이 일반적으로 사용된다.

편광자는 특별히 한정되지 않으며 각종의 것을 사용할 수 있다. 편광자로서는, 예를 들어, 폴리비닐알코올계 필름, 부분 포르밀화 폴리비닐알코올계 필름, 에틸렌·아세트산 비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 2색성 염료의 2색성 물질을 흡착시켜서 일축 연신한 것, 폴리비닐알코올의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 폴리비닐알코올계 필름과 요오드 등의 2색성 물질로 이루어지는 편광자가 적합하다. 이들의 편광자의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 일반적으로 5 내지 80㎛ 정도이다.

폴리비닐알코올계 필름을 요오드로 염색하여 일축 연신한 편광자는, 예를 들어, 폴리비닐알코올을 요오드의 수용액에 침지함으로써 염색하고, 원래 길이의 3 내지 7배로 연신함으로써 작성할 수 있다. 필요에 따라서 붕산이나 황산 아연, 염화 아연 등을 포함하고 있어도 되는 요오드화 칼륨 등의 수용액에 침지할 수도 있다. 또한 필요에 따라서 염색 전에 폴리비닐알코올계 필름을 물에 침지시켜 수세해도 된다. 폴리비닐알코올계 필름을 수세함으로써 폴리비닐알코올계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있는 것 이외에, 폴리비닐알코올계 필름을 팽윤시킴으로써 염색의 불균일 등의 불균일을 방지하는 효과도 있다. 연신은 요오드로 염색한 후에 행해도 되고, 염색하면서 연신하여도 되고, 또 연신한 후 요오드로 염색해도 된다. 붕산이나 요오드화 칼륨 등의 수용액이나 수욕 중에서도 연신할 수 있다.

투명 보호 필름을 구성하는 재료로서는, 예를 들어, 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분 차단성, 등방성 등이 우수한 열가소성 수지가 사용된다. 이러한 열가소성 수지의 구체예로서는 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리술폰 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리올레핀 수지, (메트)아크릴 수지, 환형상 폴리올레핀 수지(노르보르넨계 수지), 폴리아릴레이트 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리비닐알코올 수지 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 또한, 편광자의 편측에는 투명 보호 필름이 접착제층에 의해 접합되지만, 다른 편측에는 투명 보호 필름으로서 (메트)아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화성 수지 또는 자외선 경화형 수지를 사용할 수 있다. 투명 보호 필름 중에는 임의의 적절한 첨가제가 1종류 이상 포함되어 있어도 된다. 첨가제로서는, 예를 들어, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 윤활제, 가소제, 이형제, 착색 방지제, 난연제, 핵제, 대전 방지제, 안료, 착색제 등을 들 수 있다. 투명 보호 필름 중의 상기 열가소성 수지의 함유량은 바람직하게는 50 내지 100 중량%, 보다 바람직하게는 50 내지 99 중량%, 더욱 바람직하게는 60 내지 98 중량%, 특히 바람직하게는 70 내지 97 중량%이다. 투명 보호 필름 중의 상기 열가소성 수지의 함유량이 50 중량% 이하인 경우, 열가소성 수지가 원래 갖는 고투명성 등이 충분히 발현되지 못할 우려가 있다.

또 광학 필름으로서는, 예를 들어, 반사판이나 반투과판, 위상차판(1/2이나 1/4 등의 파장판을 포함한다), 시각 보상 필름, 휘도 향상 필름, 표면 처리 필름 등의 액정 표시 장치 등의 형성에 사용되는 것이 있는 광학층이 되는 것을 들 수 있다. 이들은 단독으로 광학 필름으로서 사용할 수 있는 것 외에, 상기 편광판에 실용에 있어서 적층하여 1층 또는 2층 이상 사용할 수 있다.

표면 처리 필름은 전방면판에 접합시켜도 설치된다. 표면 처리 필름으로서는, 표면의 내마찰 손상성을 부여하기 위해서 사용되는 하드 코트 필름, 화상 표시 장치에 대한 다중 영상을 방지하기 위한 안티글레어 처리 필름, 안티리플렉티브 필름, 로우리플렉티브 필름 등의 반사 방지 필름 등을 들 수 있다. 전방면판은 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치, CRT, PDP 등의 화상 표시 장치를 보호하거나, 고급감을 부여하거나, 디자인에 따라 차별화하거나 하기 위해서 상기 화상 표시 장치의 표면에 접합시켜서 설치된다. 또 전방면판은 3D-TV에 있어서의 λ/4판의 지지체로서 사용된다. 예를 들어, 액정 표시 장치에서는 시인측의 편광판의 상측에 설치된다. 본 발명의 점착제층을 사용한 경우에는, 전방면판으로서 유리 기재의 이외에 폴리카보네이트 기재, 폴리메틸메타크릴레이트 기재 등의 플라스틱 기재에 있어서도 유리 기재와 마찬가지의 효과를 발휘한다.

편광판에 상기 광학층을 적층한 광학 필름은 액정 표시 장치 등의 제조 과정에서 순차 별개로 적층하는 방식으로도 형성할 수 있지만, 미리 적층하여 광학 필름으로 한 것은 품질의 안정성이나 조립 작업 등이 우수하여 액정 표시 장치 등의 제조 공정을 향상시킬 수 있는 이점이 있다. 적층에는 점착층 등의 적당한 접착 수단을 이용할 수 있다. 상기한 편광판과 다른 광학층의 접착시에 그것들의 광학축은 목적으로 하는 위상차 특성 등에 따라서 적당한 배치 각도로 할 수 있다.

본 발명의 점착형 광학 필름은 액정 표시 장치 등의 각종 화상 표시 장치의 형성 등에 바람직하게 사용할 수 있다. 액정 표시 장치의 형성은 종래에 준하여 행할 수 있다. 즉, 액정 표시 장치는 일반적으로 액정 셀 등의 표시 패널과 점착형 광학 필름, 및 필요에 따른 조명 시스템 등의 구성 부품을 적당하게 조립하여 구동 회로를 내장하는 것 등에 의해 형성되지만, 본 발명에 있어서는 본 발명에 의한 점착형 광학 필름을 사용하는 점을 제외하고 특별히 한정은 없어 종래에 준할 수 있다. 액정 셀에 대해서도, 예를 들어, TN형이나 STN형, π형, VA형, IPS형 등의 임의의 타입의 것을 사용할 수 있다.

액정 셀 등의 표시 패널의 편측 또는 양측에 점착형 광학 필름을 배치한 액정 표시 장치나, 조명 시스템에 백라이트 혹은 반사판을 사용한 것 등의 적당한 액정 표시 장치를 형성할 수 있다. 그 경우, 본 발명에 의한 광학 필름은 액정 셀 등의 표시 패널의 편측 또는 양측에 설치할 수 있다. 양측에 광학 필름을 설치할 경우, 그것들은 동일한 것이어도 되고, 다른 것이어도 된다. 또한, 액정 표시 장치의 형성에 있어서는, 예를 들어, 확산판, 안티글레어층, 반사 방지막, 보호판, 프리즘 어레이, 렌즈어레이시트, 광확산판, 백라이트 등의 적절한 부품을 적절한 위치에 1층 또는 2층 이상 배치할 수 있다.

이어서 유기 전계 발광 장치(유기 EL 표시 장치:OLED)에 대해서 설명한다. 일반적으로, 유기 EL 표시 장치는 투명 기판 상에 투명 전극과 유기 발광층과 금속 전극을 순서대로 적층하여 발광체(유기 전계 발광 발광체)를 형성하고 있다. 여기서, 유기 발광층은 가지가지의 유기 박막의 적층체이며, 예를 들어, 트리페닐아민 유도체 등으로 이루어지는 정공 주입층과, 안트라센 등의 형광성의 유기 고체로 이루어지는 발광층의 적층체나, 또는 이러한 발광층과 페릴렌 유도체 등으로 이루어지는 전자 주입층의 적층체나, 또는 또한 이들의 정공 주입층, 발광층, 및 전자 주입층의 적층체 등, 여러가지의 조합을 가진 구성이 알려져 있다.

유기 EL 표시 장치는, 투명 전극과 금속 전극에 전압을 인가함으로써 유기 발광층에 정공과 전자가 주입되고, 이들 정공과 전자의 재결합에 의해 발생하는 에너지가 형광물자를 여기하고, 여기된 형광 물질이 기저 상태로 복귀될 때에 광을 방사한다라는 원리로 발광한다. 도중의 재결합이라는 메커니즘은 일반의 다이오드와 마찬가지이고, 이 점으로부터도 예상할 수 있도록 전류와 발광 강도는 인가 전압에 대하여 정류성을 수반하는 강한 비선형성을 나타낸다.

유기 EL 표시 장치에 있어서는, 유기 발광층에서의 발광을 취출하기 위해서 적어도 한쪽의 전극이 투명하지 않으면 안되고, 통상 산화 인듐 주석(ITO) 등의 투명 도전체로 형성한 투명 전극을 양극으로서 사용하고 있다. 한편, 전자 주입을 쉽게 하여 발광 효율을 올리기 위해서는 음극에 일함수가 작은 물질을 사용하는 것이 중요하여 통상 Mg-Ag, Al-Li 등의 금속 전극을 사용하고 있다.

이와 같은 구성의 유기 EL 표시 장치에 있어서, 유기 발광층은 두께 10nm 정도로 지극히 얇은 막으로 형성되어 있다. 이 때문에, 유기 발광층도 투명 전극과 마찬가지로 광을 거의 완전하게 투과한다. 그 결과, 비발광시에 투명 기판의 표면으로부터 입사되고, 투명 전극과 유기 발광층을 투과하여 금속 전극에서 반사된 광이 다시 투명 기판의 표면측으로 나오므로, 외부로부터 시인했을 때, 유기 EL 표시 장치의 표시면이 거울면처럼 보인다.

전압의 인가에 의해 발광하는 유기 발광층의 표면측에 투명 전극을 구비함과 함께, 유기 발광층의 이면측에 금속 전극을 구비하여 이루어지는 유기 전계 발광 발광체를 포함하는 유기 EL 표시 장치에 있어서, 투명 전극의 표면측에 편광판을 설치함과 함께, 이들 투명 전극과 편광판의 사이에 위상차판을 설치할 수 있다.

위상차판 및 편광판은 외부로부터 입사되어 금속 전극에서 반사되어 온 광을 편광하는 작용을 가지므로, 그 편광 작용에 의해 금속 전극의 거울면을 외부로부터 시인시키지 않는다는 효과가 있다. 특히, 위상차판을 1/4 파장판으로 구성하고, 또한 편광판과 위상차판의 편광 방향이 이루는 각을 π/4로 조정하면, 금속 전극의 거울면을 완전하게 차폐할 수 있다.

즉, 이 유기 EL 표시 장치에 입사되는 외부 광은 편광판에 의해 직선 편광 성분만이 투과된다. 이 직선 편광은 위상차판에 의해 일반적으로 타원 편광이 되지만, 특히 위상차판이 1/4 파장판으로 게다가 편광판과 위상차판의 편광 방향이 이루는 각이 π/4일 때에는 원편광이 된다.

이 원편광은 투명 기판, 투명 전극, 유기 박막을 투과하고, 금속 전극에서 반사되어 다시 유기 박막, 투명 전극, 투명 기판을 투과하여 위상차판에 다시 직선 편광이 된다. 그리고, 이 직선 편광은 편광판의 편광 방향과 직교하므로 편광판을 투과할 수 없다. 그 결과, 금속 전극의 거울면을 완전하게 차폐할 수 있다.

상기와 같이 유기 EL 표시 장치에서는, 거울면 반사를 차단하기 위해서 유기 EL 패널에 위상차판 및 편광판을 조합한 타원 편광판 또는 원편광판을 점착제층을 개재하여 사용할 수 있지만, 그 밖에 타원 편광판 또는 원편광판을 유기 EL 패널에 직접 접합시키지 않고 타원 편광판 또는 원편광판을 터치 패널에 점착제층을 개재하여 접합시킨 것을 유기 EL 패널에 적용할 수 있다.

본 발명에 있어서 적용되는 터치 패널로서는 광학 방식, 초음파 방식, 정전 용량 방식, 저항막 방식 등의 각종 방식을 채용할 수 있다. 저항막 방식의 터치 패널은 투명 도전성 박막을 갖는 터치측의 터치 패널용 전극판과 투명 도전성 박막을 갖는 디스플레이측의 터치 패널용 전극판을, 투명 도전성 박막끼리 대향하도록 스페이서를 개재하여 대향 배치하여 이루어지는 것이다. 한편, 정전 용량 방식의 터치 패널은, 통상, 소정의 패턴 형상을 갖는 투명 도전성 박막을 구비한 투명 도전성 필름이 디스플레이 표시부의 전체면에 형성되어 있다. 본 발명의 점착형 광학 필름은 터치측, 디스플레이측 중 어느 하나의 측에도 적용된다.

[실시예]

이하에, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되지는 않는다. 또한, 각 예들 중의 부 및 %는 모두 중량 기준이다.

<점도의 측정>

수분산형 점착제의 점도(Pa·s)는 HAAKE사제 Rheowin을 이용하여 다음 조건으로 측정했다.

콘: 직경 35mm

측정 온도: 30℃

전단 조건: 0.1 내지 14000(1/s)을 20초에 걸쳐 측정. 얻어진 데이터로부터 근사값을 산출하고, 전단 속도(1/s)=4000의 값을 점도로서 나타냈다.

<체적 평균 입자 직경의 측정>

(메트)아크릴계 중합체의 체적 평균 입자 직경은, 조제한 수분산형의 (메트)아크릴계 중합체를 함유하는 수분산액을 증류수에 의해 고형분 농도가 약 1 중량%가 되도록 희석한 것을 사용하여 하기 장치로 측정했다.

장치: 베크만 쿨터제의 LS13 320 PIDS 모드

분산질의 굴절률: 1.48 폴리n-부틸아크릴레이트를 사용

분산매의 굴절률: 1.333

[실시예 1]

(단량체 에멀션의 제조)

용기에 원료 단량체로서 아크릴산 부틸 880부, 아크릴산 50부, 메타크릴산 시클로헥실 50부, 모노[폴리(프로필렌옥사이드)메타크릴레이트]인산 에스테르(프로필렌옥사이드의 평균 중합도 약 5.0) 20부, 및 3-메타크릴로일옥시프로필-트리에톡시실란(신에츠화학공업(주) 제조, KBM-503) 0.3부를 가하여 혼합하고, 단량체 성분을 조제했다. 이어서, 조제한 단량체 성분 400부에 반응성 유화제인 아쿠아론 HS-10(다이이치공업제약(주) 제조) 4부, 이온 교환수 268부를 가하고, 호모 믹서를 사용하여 5분간, 6000rpm로 교반하고, 강제 유화하여 단량체 에멀션을 조제했다.

(수분산형 아크릴계 점착제의 조제)

다음에, 냉각관, 질소 도입관, 온도계, 적하 로트 및 교반 날개를 구비한 반응 용기에, 상기에서 조제한 단량체 에멀션 중의 136부, 반응성 유화제인 아쿠아론 HS-10(다이이치공업제약(주) 제조) 8부 및 이온 교환수 308부를 함유시키고, 이어서, 반응 용기를 충분히 질소로 치환한 후, 과황산 암모늄 0.1부를 첨가하여 65℃에서 1시간 중합했다. 이어서, 과황산 암모늄 0.3부를 가하고, 나머지의 단량체 에멀션 536부를 반응 용기에 3시간 걸려서 적하하고, 그 후에 3시간 중합했다. 또한 그 후, 질소 치환하면서 75℃에서 3시간 중합하여 고형분 농도 40%의 수분산형의 (메트)아크릴계 중합체를 함유하는 수분산액(에멀션)을 얻었다. 이어서, 상기 수분산액을 실온까지 냉각한 후, 이것에 농도 10%의 암모니아수를 첨가하여 pH를 8로 조정하여 수분산형 아크릴계 점착제를 얻었다(고형분 농도 38%). 당해 수분산형 아크릴계 점착제의 점도는 0.066Pa·s, 체적 평균 입자 직경은 88nm이었다.

(점착제층의 형성 및 점착형 편광판의 작성)

상기 수분산형 아크릴계 점착제를 건조 후의 두께가 23㎛이 되도록, 이형 필름(미츠비시화학 폴리에스테르(주) 제조, 다이어호일 MRF-38, 폴리에틸렌테레프탈레이트 기재) 상에 립 코터에 의해 도포 시공 속도 20m/min으로 도포 시공한 후, 열풍 순환식 오븐(풍속 10m/s)에 의해 건조 온도 100℃에서 1분간의 제1 건조 공정과, 열풍 순환식 오븐(풍속 20m/s)에 의해 건조 온도 130℃에서 1분간의 제2 건조 공정을 실시하여 점착제층을 형성했다. 당해 점착제층을 편광판(니토덴코(주) 제조, 제품명 VEGQ)과 접합시켜서 2종류의 점착형 편광판을 작성했다.

[실시예 2]

실시예 1의 (점착제층의 형성 및 점착형 편광판의 제조)에 있어서, 도포 시공 속도를 50m/min으로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착제층을 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착형 편광판을 제조했다.

[실시예 3]

실시예 1의 (점착제층의 형성 및 점착형 편광판의 제조)에 있어서, 제1 건조 공정의 건조 온도를 80℃로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착제층을 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착형 편광판을 제조했다.

[실시예 4]

실시예 1의 (점착제층의 형성 및 점착형 편광판의 제조)에 있어서, 제1 건조 공정의 건조 온도를 60℃로 바꾼 것, 도포 시공 속도를 25m/min으로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착제층을 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착형 편광판을 제조했다.

[실시예 5]

실시예 1의 (수분산형 아크릴계 점착제의 제조)에 있어서, 농도 10%의 암모니아수를 첨가하여 pH를 7로 조정한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 수분산형 아크릴계 점착제를 얻었다(고형분 농도 38%). 당해 수분산형 아크릴계 점착제의 점도는 0.044Pa·s, 체적 평균 입자 직경은 86nm이었다. 또한, 당해 수분산형 아크릴계 점착제를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착제층을 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착형 편광판을 작성했다.

[실시예 6]

실시예 1의 (단량체 에멀션의 제조)에 있어서, 아크릴산의 배합 부수를 50부에서 10부로 바꾼 것, 실시예 1의 (수분산형 아크릴계 점착제의 조제)에 있어서, 얻어지는 수분산형 아크릴계 점착제의 고형분 농도가 50%가 되도록 조정한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 수분산형 아크릴계 점착제를 얻었다. 당해 수분산형 아크릴계 점착제의 점도는 0.070Pa·s, 체적 평균 입자 직경은 130nm이었다. 또한, 당해 수분산형 아크릴계 점착제를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착제층을 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착형 편광판을 제조했다.

[실시예 7]

실시예 1의 (수분산형 아크릴계 점착제의 제조)에 있어서, 농도 10%의 암모니아수를 첨가하여 pH를 6.8로 조정한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 수분산형 아크릴계 점착제를 얻었다(고형분 농도 38%). 당해 수분산형 아크릴계 점착제의 점도는 0.020Pa·s, 체적 평균 입자 직경은 88nm이었다. 또한, 당해 수분산형 아크릴계 점착제를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착제층을 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착형 편광판을 제조했다.

[비교예 1]

(단량체 에멀션의 제조)

용기에 원료 단량체로서 아크릴산-2-에틸헥실 80부, 메타크릴산 메틸 20부, 도데실메르캅탄 0.1부, N-메티롤아크릴아미드 0.1부 및 아크릴산 2부, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르 황산 나트륨(카오(주) 제조의 상품명 레베놀 WZ) 1.5부 및 물 27부를 가하여 단량체 에멀션을 조제했다.

(수분산형 아크릴계 점착제의 조제)

다음에, 환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 구비한 반응기에 물 33부를 함유시켜 반응기 내를 질소 건조한 후, 80℃로 승온하고, 과황산 암모늄 0.5부를 가하고, 이어서 상기 단량체 에멀션의 전량의 0.2 중량%를 가하여 중합을 개시했다. 중합의 개시 확인 후, 79℃ 내지 81℃에서 단량체 에멀션의 잔량부(전량의 99.8 중량%)를 연속적으로 4시간에서 적하했다. 단량체 에멀션의 연속 적하 종료 후, 10 중량%의 과황산 암모늄 수용액 1.0부를 가하고, 또한 80℃로 2시간 유지 반응을 종료했다. 상기에 의해 얻은 아크릴계 공중합체의 에멀션을 25 중량%의 암모니아수로 중화하고, 아크릴계 증점제(동아합성(주) 제조의 B-300)를 첨가함으로써 수분산형 아크릴계 점착제 조성물을 얻었다. 당해 수분산형 아크릴계 점착제 조성물의 점도는 0.150Pa·s, 체적 평균 입자 직경은 1020nm이었다.

(점착제층의 형성 및 점착형 편광판의 제조)

실시예 1에 있어서, 수분산형 아크릴계 점착제로서 상기에서 얻어진 수분산형 아크릴계 점착제를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착제층을 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착형 편광판을 제조했다.

[비교예 2]

(용제형 아크릴계 점착제의 제조)

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비한 반응 용기에 아크릴산 부틸 965부, 아크릴산 3부, 2-히드록시에틸아크릴레이트 0.5부, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.15부 및 아세트산 에틸 100부를 함유시켜서 충분히 질소 치환한 후, 질소 기류하에서 교반하면서 60℃에서 8시간 반응하여 중량 평균 분자량이 165만인 아크릴계 중합체 용액을 얻었다. 상기 아크릴계 중합체 용액의 고형분 100부에 대하여 이소시아네이트계 가교제(일본폴리우레탄공업(주) 제조, 콜로네이트 L) 0.5부를 배합하여 고형분 12%의 용제형 아크릴계 점착제를 얻었다. 당해 용제형 아크릴계 점착제의 점도는 0.21Pa·s이었다.

(점착제층의 형성 및 점착형 편광판의 제조)

실시예 1에 있어서, 수분산형 아크릴계 점착제 대신에 상기 용제형 아크릴계 점착제를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착제층을 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착형 편광판을 제조했다.

[비교예 3]

비교예 2의 (점착제층의 형성 및 점착형 편광판의 제조)에 있어서, 도포 시공 속도를 10m/min으로 바꾼 것 이외에는, 비교예 2와 마찬가지로 하여 점착제층을 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착형 편광판을 제조했다.

[비교예 4]

실시예 1의 (수분산형 아크릴계 점착제의 제조)에 있어서, 얻어지는 수분산형 아크릴계 점착제의 고형분 농도가 20%가 되도록 조정하고, 또한, 우레탄 회합계 증점제의 아데카놀 UH541((주)ADEKA제)을 수분산형 아크릴계 점착제의 고형분 100부에 대하여 2 중량부 첨가한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 수분산형 아크릴계 점착제를 얻었다. 당해 수분산형 아크릴계 점착제의 점도는 0.23Pa·s, 체적 평균 입자 직경은 92nm이었다. 또한, 당해 수분산형 아크릴계 점착제를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착제층을 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착형 편광판을 작성했다.

상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 점착제층 및 점착형 편광판에 대해서 이하의 평가를 행했다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다.

<헤이즈>

각 예에서 얻어진 이형 필름에 설치한 두께 23㎛의 점착제층을 슬라이드 유리판(마이크로 슬라이드 글래스, 마츠나미 글래스제, 두께 1.3mm) 상에 부착시킨 것에 대해서, 헤이즈 미터(HM-150형,(주)무라카미색채기술연구소사제)로 헤이즈값을 측정했다. 또한, 헤이즈 측정시에는 이형 필름을 박리하여 측정했다.

<점착제층의 표면의 평활성>

점착제층의 표면에 대해서, 후지샤신고우키사제의 「레이저 간섭계 F601」을 이용하여 후지 스캔법에 따라 Φ60mm의 시야의 표면 거칠기(Ra)(요철)를 측정했다(단위 nm). 점착제층의 표면의 측정은 이형 필름(미츠비시화학 폴리에스테르(주) 제조, 다이어호일 MRF-38, 폴리에틸렌테레프탈레이트 기재) 상에 형성한 두께 23㎛(건조 후)의 점착제층의 표면에 대해서 행했다. 이형 필름을 박리한 상태에서 측정하면, 박리시에 점착제층 표면이 흐트러져서 평활성에 영향을 주기 때문이다. 또한, 점착제층을 설치한 이형 필름의 표면의 Ra는 6nm이다.

<시인성>

얻어진 점착형 편광판으로부터 이형 필름을 박리하여 점착제층측을 유리 기판에 접합시킨 것을 샘플로 했다. 당해 샘플에 대해서 형광등 아래에서 육안으로 하기 기준에 따라 정면 및 기울기 45°의 2방향에서 시인성의 관찰을 행했다.

○: 시인성에 영향을 미치는 불균일 없음.

△: 다소 불균일을 확인할 수 있다.

×: 시인성에 문제 있음.

Claims

수분산형의 (메트)아크릴계 중합체를 함유하는 수분산액을 함유하는 수분산형 점착제를 이형 필름에 도포 시공하는 공정 (1) 및 도포 시공된 수분산형 점착제를 건조하는 공정 (2)를 갖는 광학 필름용 점착제층의 제조 방법이며,
상기 수분산형 점착제는 전단 속도 4000(1/s)에서의 점도가 0.01 내지 0.1Pa·s이며,
상기 이형 필름 상에 형성되는 상기 광학 필름용 점착제층의 표면의 표면 거칠기(Ra)가 10 내지 40nm이며, 또한,
상기 광학 필름용 점착제층의 두께가 23㎛인 경우의 헤이즈가 1% 이하인 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층의 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 건조 공정 (2)는 온도 40℃ 내지 110℃의 제1 건조 공정 (21)과, 온도 100℃ 내지 160℃의 제2 건조 공정 (22)를 갖는 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층의 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 수분산형 점착제의 (메트)아크릴계 중합체의 체적 평균 입자 직경이 180nm 이하인 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층의 제조 방법.
제1항에 있어서, 도포 시공 공정 (1)의 도포 시공 속도는 10 내지 100m/min인 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층의 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 수분산형 점착제는 고형분 농도가 5 내지 45 중량%인 수분산액인 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층의 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 중합체가 총 단량체 단위에 대하여 (메트)아크릴산 알킬에스테르 60 내지 99.9 중량% 및 카르복실기 함유 단량체 0.1 내지 10 중량%를 단량체 단위로서 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층의 제조 방법.
제6항에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 중합체가 단량체 단위로서 인산기 함유 단량체를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층의 제조 방법.
제7항에 있어서, 상기 인산기 함유 단량체의 비율이 (메트)아크릴계 중합체의 총 단량체 단위의 0.1 내지 20 중량%인 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층의 제조 방법.
제6항에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 중합체가 단량체 단위로서 알콕시실릴기 함유 단량체를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층의 제조 방법.
제9항에 있어서, 상기 알콕시실릴기 함유 단량체의 비율이 (메트)아크릴계 중합체의 총 단량체 단위의 0.001 내지 1 중량%인 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층의 제조 방법.
제6항에 있어서, (메트)아크릴산 알킬에스테르 60 내지 99.9 중량%에 관한 단량체 단위가, 아크릴산 알킬에스테르 60 내지 99.8 중량% 및 메타크릴산 알킬에스테르 0.1 내지 39.9 중량%에 관한 단량체 단위인 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층의 제조 방법.
제11항에 있어서, 아크릴산 알킬에스테르가, 탄소수가 3 내지 9인 아크릴산 알킬에스테르이고, 메타크릴산 알킬에스테르가 메타크릴산 메틸, 메타크릴산 에틸 및 메타크릴산 시클로헥실로부터 선택되는 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층의 제조 방법.
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법에 의해 얻어진 것임을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층.
광학 필름의 적어도 한쪽 면에 제13항에 기재된 광학 필름용 점착제층이 적층되어 있는 것을 특징으로 하는 점착형 광학 필름.
제14항에 기재된 점착형 광학 필름이 적어도 1장 사용되는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.