TW201323566A - 光學薄膜用黏著劑層之製造方法、光學薄膜用黏著劑層、黏著型光學薄膜及影像顯示裝置 - Google Patents

光學薄膜用黏著劑層之製造方法、光學薄膜用黏著劑層、黏著型光學薄膜及影像顯示裝置 Download PDF

Info

Publication number
TW201323566A
TW201323566A TW101134710A TW101134710A TW201323566A TW 201323566 A TW201323566 A TW 201323566A TW 101134710 A TW101134710 A TW 101134710A TW 101134710 A TW101134710 A TW 101134710A TW 201323566 A TW201323566 A TW 201323566A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
optical film
adhesive layer
meth
adhesive
weight
Prior art date
Application number
TW101134710A
Other languages
English (en)
Inventor
Taiki Shimokuri
Kunihiro Inui
Toshitaka Takahashi
Yousuke Makihata
Toshitsugu Hosokawa
Takaaki Ishii
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Publication of TW201323566A publication Critical patent/TW201323566A/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38—Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • C09J7/381—Pressure-sensitive adhesives [PSA] based on macromolecular compounds obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09J7/385—Acrylic polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09J133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09J133/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/30—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
    • C09J2301/312—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier parameters being the characterizing feature
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/14—Layer or component removable to expose adhesive
    • Y10T428/1476—Release layer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

本發明係提供一種不會發生塗佈速度低減等生產性減損，且可減低視認性問題之光學薄膜用黏著劑層之製造方法。本發明係一種光學薄膜用黏著劑層之製造方法，包含有將含有水分散液之水分散型黏著劑塗佈於脫模薄膜之步驟(1)以及將經塗佈之水分散型黏著劑乾燥之步驟(2)，而該水分散液含有水分散型(甲基)丙烯酸系聚合物，，該製造方法中，前述水分散型黏著劑在剪力速度4000(1/s)下之黏度為0.01~0.1Pa．s，形成於前述脫模薄膜上之前述光學薄膜用黏著劑層之表面的表面粗度(Ra)為10~40nm，且前述光學薄膜用黏著劑層之霧度(haze)為1%以下。

Description

光學薄膜用黏著劑層之製造方法、光學薄膜用黏著劑層、黏著型光學薄膜及影像顯示裝置 發明領域
本發明係有關於一種使用水分散型黏著劑之光學薄膜用黏著劑層之製造方法。另外，本發明係有關於一種藉由前述製造方法獲得之光學薄膜用黏著劑層、以及在光學薄膜上積層有該黏著劑層之黏著型光學薄膜。進一步來說，本發明係有關於一種採用了前述黏著型光學薄膜之液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、CRT、PDP等的影像顯示裝置、以及前面板等與影像顯示裝置一併使用之零件。前述光學薄膜可以利用偏光板、相位差板、光學補償薄膜、增亮薄膜、防反射薄膜等表面處理薄膜，此外還有該等積層而成者。
發明背景
液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等從其影像形成方式來看，例如液晶顯示裝置，在液晶單元之兩側配置偏光元件是必不可少的，一般係貼附偏光板。另外，液晶面板及有機EL面板等顯示面板在偏光板以外，為提高顯示器之顯示品質，開始應用各種的光學元件。另外，為了液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置、CRT、PDP等的影像顯示裝置之保護、賦予高級感、或設計個別化而使用前面板。該等液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等影像顯示裝置及前面板等與影像顯示裝置一併使用之零件，係使用例如防止 著色之相位差板、用以改善液晶顯示器之視野角的視野角擴大薄膜、此外還有用以提高顯示器之對比度的增亮薄膜、用於賦予表面之耐擦傷性之硬塗佈薄膜、防止對於影像顯示裝置之疊影之抗炫光處理薄膜、抗反射薄膜、低反射薄膜等防反射薄膜等等表面處理薄膜。該等薄膜總稱為光學薄膜。
在液晶單元及有機EL面板等顯示面板、或前面板上貼附前述光學薄膜之際，通常係使用黏著劑。另外，光學薄膜與液晶單元及有機EL面板等顯示面板、或前面板，或者與光學薄膜間的接著通常為了降低光之損失，各自之材料係利用黏著劑加以密合。這種情形下，由於具有令光學薄膜固定卻不需要乾燥步驟等的優點，所以一般係採用預先設在光學薄膜之單側作為黏著劑層之黏著型光學薄膜。
自過去以來，作為用於形成上述黏著型光學薄膜之黏著劑層的黏著劑，從加熱以及加濕熱環境下之耐久性優異之觀點來看，主要係使用有機溶劑型黏著劑。作為有機溶劑型黏著劑，一般使用無色透明且與液晶單元及有機EL面板等顯示面板、或與前面板之接著性良好之丙烯酸系黏著劑。關於前述黏著劑層，已有提案從各種觀點來控制黏著劑層之表面狀態。
前述有機溶劑型黏著劑係固體成份濃度低(通常10~15重量%左右)之溶液，因此乾燥不均勻或風不均勻造成塗佈面之平滑性容易降低，會有影響到由該溶液形成之黏 著劑層之視認性的情況。例如，已有提案藉由控制黏著劑層之塗佈厚度、表面粗度而可抑制黏著劑層之不均勻並改善視認性(專利文獻1)。然而，專利文獻1中為了前述改善而伴隨有降低乾燥溫度、塗佈速度等生產性降低是問題點。
近年來，從降低地球環境負荷、提高作業安定性之觀點來看，開始積極開發不使用有機溶劑之無溶劑型黏著劑。無溶劑型黏著劑中有例如，使用水作為分散媒介，在水中分散黏著劑成分而成之水分散型黏著劑已有提案。例如，已有提案藉由控制水分散型黏著劑之表面張力以形成平滑的黏著劑層(專利文獻2)。根據專利文獻2之方法，藉由水分散型黏著劑達成平滑黏著劑層之形成係屬可能，但光學薄膜用黏著劑層要求更進一步的平滑性改良並提昇視認性。另外，控制固體成份濃度、平均粒子徑、黏度之丙烯酸系共聚物之乳膠所構成的水分散型丙烯酸系黏著劑組成物已有提案(專利文獻3)。根據專利文獻3，揭示可獲得在和紙帶之用途上所要求的無凹陷及皺摺而平滑的塗佈面，但在光學薄膜之用途上，專利文獻3所記載的平滑性程度還不夠充分，不算是能滿足光學薄膜用黏著劑層所要求之平滑性。
先行技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開第2008-302580號公報
專利文獻2：日本專利特開第2005-320487號公報
專利文獻3：日本專利特開平8-218047號公報
發明概要
本發明之目的在於提供一種光學薄膜用黏著劑層之製造方法，該光學薄膜用黏著劑層係適用於液晶顯示裝置等影像顯示裝置，且使用水分散型黏著劑形成之光學薄膜用黏著劑層，還能夠使塗佈速度低減等生產性不減損，且可減低視認性問題。另外，本發明之目的在於提供一種藉由前述製造方法所獲得之光學薄膜用黏著劑層。
另外，本發明之目的在於提供一種黏著型光學薄膜，其係在光學薄膜的至少單側積層前述光學薄膜用黏著劑層。此外，本發明之目的在於提供一種影像顯示裝置，其係利用前述黏著型光學薄膜。
本發明人等為解決前述課題反復悉心檢討之結果，發現利用下述之光學薄膜用黏著劑層之製造方法等可以解決前述課題，終而完成本發明。
亦即，本發明係有關於一種光學薄膜用黏著劑層之製造方法，包含有將含有水分散液之水分散型黏著劑塗佈於脫模薄膜之步驟(1)以及將經塗佈之水分散型黏著劑乾燥之步驟(2)，其中該水分散液含有水分散型(甲基)丙烯酸系聚合物，，該方法之特徵在於：前述水分散型黏著劑在剪力速度4000(1/s)下之黏度為0.01~0.1Pa．s， 形成於前述脫模薄膜上之前述光學薄膜用黏著劑層之表面的表面粗度(Ra)為10~40nm，且前述光學薄膜用黏著劑層之厚度為23μm時的霧度(haze)為1%以下。
前述光學薄膜用黏著劑層之製造方法中，前述乾燥步驟(2)宜具有溫度40~110℃之第一乾燥步驟(21)與溫度100~160℃之第二乾燥步驟(22)。
前述光學薄膜用黏著劑層之製造方法中，前述水分散型黏著劑之(甲基)丙烯酸系聚合物之體積平均粒子徑宜為180nm以下。
前述光學薄膜用黏著劑層之製造方法中，塗佈步驟(1)之塗佈速度宜為10~100m/min。
前述光學薄膜用黏著劑層之製造方法中，前述水分散型黏著劑宜為固體成份濃度為5~45重量%之水分散液。
前述光學薄膜用黏著劑層之製造方法中，前述(甲基)丙烯酸系聚合物宜為相對於總單體單元，含有(甲基)丙烯酸烷基酯60~99.9重量%及含羧基單體0.1~10重量%作為單體單元者。
前述光學薄膜用黏著劑層之製造方法中，前述(甲基)丙烯酸系聚合物宜進一步含有含磷酸基單體作為單體單元。前述含磷酸基單體之比例宜為(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體單元的0.1~20重量%。
前述光學薄膜用黏著劑層之製造方法中，前述 (甲基)丙烯酸系聚合物宜進一步含有含烷氧基矽基(alkoxy silyl)單體作為單體單元。前述含烷氧基矽基單體之比例宜為(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體單元的0.001~1重量%。
前述光學薄膜用黏著劑層之製造方法中，(甲基)丙烯酸烷基酯60~99.9重量%相關之單體單元宜為丙烯酸烷基酯60~99.8重量%及甲基丙烯酸烷基酯0.1~39.9%之單體單元。另外，丙烯酸烷基酯宜為碳數3~9之丙烯酸烷基酯，而甲基丙烯酸烷基酯宜為選自於由甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯及甲基丙烯酸環己酯所構成群組之至少1者。
另外，本發明係有關於一種光學薄膜用黏著劑層，其特徵在於係藉由前述製造方法所獲得者。
另外，本發明係有關於一種黏著型光學薄膜，其係在光學薄膜的至少單側積層前述光學薄膜用黏著劑層。
另外，本發明之目的在於提供一種影像顯示裝置，其係使用至少1枚前述黏著型光學薄膜。
關於本發明之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，在水分散型黏著劑之塗佈步驟(1)中，係使用低黏度(在剪力速度4000(1/s)下之黏度為0.01~0.1Pa．s)之水分散型黏著劑。本發明中，藉由對於前述低黏度下經塗佈之水分散型黏著劑之塗佈膜進行乾燥步驟(2)，會使塗佈膜中的水分散型黏著劑之液流動均一地行進並同時進行塗佈膜之乾燥，因此察知不會導致塗佈速度低減等生產性之減損，且能形成具有表面粗度(Ra)為10~40nm之均一而平滑的表面 之黏著劑層。如此獲得的本發明之黏著劑層，其表面之平滑性佳，可減低視認性問題。
另外，關於本發明之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，會在水分散型黏著劑之塗佈步驟(1)之後施行形成黏著劑層的乾燥步驟(2)，在該乾燥步驟(2)中，例如在對經塗佈之水分散型黏著劑吹拂熱風來乾燥時，宜採用控制在特定溫度範圍之第一乾燥步驟(21)及第二乾燥步驟(22)。第一乾燥步驟(21)中，藉由對於低黏度下經塗佈之水分散型黏著劑之塗佈膜在溫度40~110℃下施行乾燥，會使塗佈膜中的水分散型黏著劑之液流動均一地行進並同時進行塗佈膜之乾燥，接著，施行第二乾燥步驟(22)並完成乾燥。可察知如此在乾燥步驟(2)中塗佈膜之乾燥處理係階段性地施行，不會導致降低塗佈速度等生產性之減損，有效地形成具有表面粗度(Ra)為10~40nm之均一而平滑的表面之黏著劑層。
以往，在形成黏著劑層時，若是像有機溶劑型黏著劑一般，黏著劑溶液之固體成份濃度低(通常10~15重量%左右)之情形，在對塗佈膜吹拂熱風來乾燥時，會發生風不均勻或塗佈面上的溶劑蒸發速度不均一而產生不均勻，或是因對流造成塗佈面上的溶劑蒸發速度不均一之狀況。因此，藉由有機溶劑型黏著劑形成之黏著劑層係無法得到均一塗佈面，且黏著劑層表面之平滑性易受損者。另一方面，在水分散型黏著劑之情況下，可採用廣範圍之固體成份濃度(5~45重量%)，例如可用高固體成份濃度(35~40重量%)來塗佈。使用上述低黏度之水分散型黏著劑的本發明之製 造方法中，在使用滿足高固體成份濃度之水分散型黏著劑時，塗佈膜上之溶劑(水)的量少，可減低風不均勻或塗佈面上的溶劑蒸發速度不均一化，並抑制熱不均勻造成的對流，可形成具有較高平滑性之表面的黏著劑層。
另外，在使用有機溶劑型黏著劑時，欲形成具有平滑表面之黏著劑層，會導致乾燥溫度、塗佈速度降低等等生產性損失，但若是藉由使用上述水分散型黏著劑之本發明之製造方法，塗佈速度降低等生產性損失之情事不會發生，而可提昇黏著劑層表面之平滑性。另外，本發明之黏著劑層係透明性良好，能滿足黏著劑層之霧度值為1%以下，不會影響到光學特性。
用以實施發明之形態
本發明之製造方法中，係以水分散型黏著劑形成光學薄膜用黏著劑層。該水分散型黏著劑物係含有水分散型之(甲基)丙烯酸系聚合物的水分散液。以下，水分散型之(甲基)丙烯酸系聚合物亦會只稱作(甲基)丙烯酸系聚合物。
前述(甲基)丙烯酸系聚合物係含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為主要單體單元。此外，(甲基)丙烯酸烷基酯意指丙烯酸烷基酯及/或甲基丙烯酸烷基酯，與本發明之(甲基)意義相同。
水分散型之(甲基)丙烯酸系聚合物係藉由例如將以(甲基)丙烯酸烷基酯為主成份之單體成份在自由基聚合起始劑及界面活性劑存在下於水中乳化聚合來獲得。
作為前述單體成份，較佳為例如具有碳數4~14直鏈或支鏈烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯60~99.9重量%及含有含羧基單體0.1~10重量%之單體成份。
作為前述(甲基)丙烯酸系聚合物所使用之(甲基)丙烯酸烷基酯，從乳化聚合之反應性的觀點來看，係以對於水之溶解度在一定範圍者為佳，另外，係以烷基的碳數為1~18之(甲基)丙烯酸烷基酯為主成份為佳。(甲基)丙烯酸烷基酯之具體例可舉出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸十二酯、(甲基)丙烯酸十三酯、(甲基)丙烯酸十八酯等(甲基)丙烯酸烷基酯。該等物質可單獨使用，亦可2種類以上組合使用。該等物質之中，係以(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯等烷基之碳數為3~9之(甲基)丙烯酸烷基酯為佳。以含有總單體單元之60~99.9重量%之(甲基)丙烯酸烷基酯為佳，依序以70~99.5重量%、80~99重量%、80~97重量%、80~95重量%為更佳。
此外，作為前述(甲基)丙烯酸系聚合物所使用之(甲基)丙烯酸烷基酯，係以丙烯酸烷基酯為主成份為佳，其中，係以丙烯酸丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正辛酯等烷基之碳數為3~9之丙烯酸烷基酯為佳。以含有總單體單元之60~99.8重量%之該等丙烯酸烷基酯為 佳，依序以70~99.5重量%、80~99重量%、80~97重量%、80~95重量%為更佳。
另一方面，從耐久性提昇的觀點來看，前述(甲基)丙烯酸系聚合物中，作為(甲基)丙烯酸烷基酯，係以丙烯酸烷基酯與甲基丙烯酸烷基酯共用為佳。該等之中，係以甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸環己酯等為佳。甲基丙烯酸烷基酯係以總單體單元之0.1~39.9重量%為佳，依序以0.1~30重量%、1~20重量%、1~15重量%、1~10重量%為更佳。
前述(甲基)丙烯酸系聚合物中，為了黏著劑之接著性提昇以及賦予水分散液之安定性，作為共聚合單體，係含有含羧基單體作為單體單元。作為含羧基單體，可例示如具有羧基及(甲基)丙烯醯基、乙烯基等自由基聚合性之不飽和雙鍵者，可舉例如(甲基)丙烯酸、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、巴豆酸、丙烯酸羧乙酯、丙烯酸羧戊酯(carboxypentyl acrylate)等。以含有(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體單元之0.1~10重量%之含羧基單體為佳，依序以0.5~7重量%、1~5重量%為更佳。
前述(甲基)丙烯酸系聚合物中，除了前述(甲基)丙烯酸烷基酯及含羧基單體，以水分散液之安定化、對於黏著劑層之光學薄膜等基材之密著度提昇、還有對於被附著體之初期接著性之提昇等為目的，還可加上藉由共聚合導入1種類以上之共聚合單體，其具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等相關於不飽和雙鍵之聚合性官能基。
另外，共聚合性單體可舉出含磷酸基單體。含磷酸基單體具有對玻璃之密著性提昇的效果。
含磷酸基單體可舉例如以下述一般式(1)：
(一般式(1)中，R1表示氫原子或甲基，R2表示碳數1~4的伸烷基、m表示2以上的整數，M1以及M2表示分別獨立的氫原子或陽離子。)表示之磷酸基或其鹽。)表示之含磷酸基單體。
再者，一般式(1)中，m為2以上，較佳是4以上，通常為40以下，m表示氧伸烷(oxyalkylene)基之聚合度。另外，聚氧伸烷基可舉例如聚氧伸乙基、聚氧伸丙基等，該等聚氧伸烷基亦可為該等之無規、嵌段或接枝單元等。另外，磷酸基的鹽相關之陽離子不作特殊限制，可舉例如鈉、鉀等的鹼金屬，例如鈣、鎂等的鹼土類金屬等之無機陽離子，例如4級胺類等的有機陽離子等。
含磷酸基單體之比例係以(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體單元之0.1~20重量%為佳。若是未滿0.1重量%，則不能充分獲得使用含磷酸基單體之效果(抑制線狀氣泡產生)，另一方面，若是超過20重量%，從聚合安定性、黏著特性之觀點來看係屬不佳。
另外，前述(甲基)丙烯酸系聚合物宜含有含烷氧基矽基單體作為共聚合單體單元。含烷氧基矽基單體具有1個以上之(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵，且係含有烷氧基矽基之矽烷偶合劑系不飽和單體。含烷氧基矽基單體會使與鹼矽酸鹽(B)之親和性提昇，或形成鍵結，且對於玻璃之密著性提昇，係屬較佳。
前述含烷氧基矽基單體係包含有含烷氧基矽基(甲基)丙烯酸單體、含烷氧基矽基乙烯基單體等。含烷氧基矽基(甲基)丙烯酸單體可舉例如(甲基)丙烯醯氧基甲基-三甲氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基-三乙氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-三甲氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三丁氧基矽烷等的(甲基)丙烯醯氧基烷基-三烷氧基矽烷；例如，(甲基)丙烯醯氧基甲基-甲基二甲氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基-甲基二乙氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-甲基二甲氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-甲基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二丁氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基 丙基-乙基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二丁氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-丙基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-丙基二乙氧基矽烷等的(甲基)丙烯醯氧基烷基-烷基二烷氧基矽烷或，對應該等之(甲基)丙烯醯氧基烷基-二烷基(單)烷氧基矽烷等。另外，含烷氧基矽基乙烯單體可舉例如，乙烯三甲氧基矽烷、乙烯三乙氧基矽烷、乙烯三丙氧基矽烷、乙烯三異丙氧基矽烷、乙烯三丁氧基矽烷等的乙烯三烷氧基矽烷，此外還有對應該等之乙烯烷基二烷氧基矽烷或，乙烯二烷基烷氧基矽烷，例如乙烯甲基三甲氧基矽烷、乙烯甲基三乙氧基矽烷、β-乙烯乙基三甲氧基矽烷、β-乙烯乙基三乙氧基矽烷、γ-乙烯丙基三甲氧基矽烷、γ-乙烯丙基三乙氧基矽烷、γ-乙烯丙基三丙氧基矽烷、γ-乙烯丙基三異丙氧基矽烷、γ-乙烯丙基三丁氧基矽烷等的乙烯烷基三烷氧基矽烷，此外還有對應該等之(乙烯烷基)烷基二烷氧基矽烷或(乙烯烷基)二烷基(單)烷氧基矽烷等。
含烷氧基矽基單體之比例係以(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體單元之0.001~1重量%為佳，依序以0.01~0.5重量%、0.03~0.1重量%為更佳。若是未滿0.001重量%，則不能充分獲得使用含烷氧基矽基單體之效果(與鹼矽酸鹽(B)之親和性提昇或形成鍵結，且對於玻璃之密著性提昇而造成耐久性提昇)，另一方面，若是超過1重量%，黏著劑層的交聯度會變得過高，恐有會發生隨時間經過之黏著劑層 裂開等，或在(甲基)丙烯酸系聚合物之製造時會發生膠化等缺陷之虞。
前述含烷氧基矽基單體、含磷酸基單體以外的共聚合單體之具體例為例如順丁烯二酸酐、伊康酸酐等的含酸酐基單體；例如，(甲基)丙烯酸苯酯等的(甲基)丙烯酸芳酯，例如，醋酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等的乙烯酯類；例如，苯乙烯或α-甲基苯乙烯等的苯乙烯系單體；例如，(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基縮水甘油酯等的含環氧基單體；例如，丙烯酸-2-羥乙酯、丙烯酸-2-羥丙酯、丙烯酸-4-羥丁酯、丙烯酸-6-羥己酯、丙烯酸-8-羥辛酯、丙烯酸-12-羥十二酯、(4-羥甲基環己基)-甲基(甲基)丙烯酸酯等的含羥基單體；例如，(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯基嗎福林、(甲基)丙烯酸胺乙酯、(甲基)丙烯酸-N,N-二甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸-叔丁基胺乙酯等的含氮原子之單體；例如，(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等的含烷氧基單體；例如，丙烯腈、甲基丙烯腈等的含氰基單體；例如，2-甲基丙烯醯氧基乙基異氰酸酯等的官能性單體；例如，乙烯、丙烯、異戊二烯、丁二烯、異丁烯等的烯烴系單體；例如，乙烯醚等的乙烯醚系單體；例如，氯化乙烯等的含鹵原子單體；除此以外，例如N-乙烯吡咯啶酮、N-(1-甲基乙烯)吡咯啶酮、N-乙烯吡啶、N-乙烯哌啶 酮、N-乙烯嘧啶、N-乙烯哌啶、N-乙烯吡嗪、N-乙烯吡咯、N-乙烯咪唑、N-乙烯唑、N-乙烯嗎福林等的含乙烯基雜環化合物或N-乙烯羧酸醯胺類等。
另外，共聚合性單體可舉例如N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-異丙基順丁烯二醯亞胺、N-月桂基順丁烯二醯亞胺、N-苯基順丁烯二醯亞胺等的順丁烯二醯亞胺系單體；例如，N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等的伊康醯亞胺系單體；例如，N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等的琥珀醯亞胺系單體；例如苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸(allyl sulfonic acid)、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、磺丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等的含磺酸基單體。
另外，共聚合性單體可舉例如(甲基)丙烯酸聚乙二醇、(甲基)丙烯酸聚丙二醇、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇等的二元醇系丙烯酯單體；除此以外例如，(甲基)丙烯酸四氫糠基酯或氟化(甲基)丙烯酸酯等的含有雜環或鹵原子之丙烯酸酯系單體等。
此外，為調整水分散型黏著劑之凝膠分率等，可以使用除了前述含烷氧基矽基單體以外的多官能性單體作為共聚合性單體。多官能單體可舉具有2個以上(甲基)丙烯 醯基、乙烯基等的不飽和雙鍵之化合物等。可舉例如，乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等的(單或聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯或，丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等的(單或聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等的(單或聚)伸烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯，除此之外還有新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等的(甲基)丙烯酸與多元醇的酯化物；二乙烯苯等的多官能乙烯化合物；雙丙酮丙烯醯胺；具有(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯等的反應性相異之不飽和雙鍵之化合物等。另外，多官能性單體亦可使用在聚酯、環氧、胺甲酸酯等的骨架上加成了2個以上作為與單體成分相同之官能基是(甲基)丙烯醯基、乙烯基等的不飽和雙鍵之聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等。
前述含烷氧基矽基單體、含磷酸基單體以外的共聚合性單體為單官能單體時，從水分散液之黏度不變得過高、與水分散液之安定性的觀點來看，其比例係以(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體單元之20重量%以下為佳，依序以10重量%以下、5重量%以下為佳。共聚合性單體為多官能單體時，從水分散液之安定性的觀點來看，其比例係以(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體單元之5重量%以下為佳， 依序以3重量%以下、1重量%以下為更佳。
前述(甲基)丙烯酸系聚合物係使含有(甲基)丙烯酸烷基酯為主成份之單體成份在界面活性劑及自由基聚合起始劑存在下於水中聚合而得到成為含有該等物質之水分散液。前述聚合之型態可舉出乳化聚合或懸濁聚合、分散聚合，乳化聚合時可獲得聚合物乳膠，懸濁聚合時可獲得聚合物懸浮液，分散聚合時可獲得聚合物分散液。可因應前述黏著劑之種類來選擇黏著性之聚合物的種類或聚合方法。另外，界面活性劑可因應各聚合型態來適宜選擇，乳化聚合時為乳化劑，懸濁聚合時為分散劑。
本發明之水分散型黏著劑所使用之含有前述丙烯酸系共聚物(A)之水分散液，係以藉由乳化聚合獲得之聚合物乳膠為佳。亦即，本發明之水分散型黏著劑係以乳膠型黏著劑為佳。
前述單體成分之乳化聚合係以常法將單體成分在水中乳化後進行乳化聚合。藉此製備含有(甲基)丙烯酸系聚合物作為(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的水分散液(聚合物乳膠)。乳化聚合中，例如與上述單體成分一起，可以適當混合界面活性劑(乳化劑)、自由基聚合起始劑，依需要還有鏈轉移劑等。較具體地說，可以採用例如整體混入法(整體聚合法)、單體滴液法、單體乳膠滴液法等的公知乳化聚合法。再者，單體滴液法、單體乳膠滴液法中，可以適當選擇連續滴液或分割滴液。該等之方法可以適當組合。反應條件等可以適當選擇，惟以聚合溫度在例如40~95℃左右為 佳，聚合時間以30分鐘~24小時左右為佳。
乳化聚合所用之界面活性劑(乳化劑)不作特殊限制，可以使用乳化聚合所常用之各種界面活性劑。界面活性劑一般係使用陰離子系界面活性劑性或非離子系界面活性劑。陰離子系界面活性劑之具體例可以例示油酸鈉等的高級脂肪酸鹽類；十二烷基苯磺酸鈉等的烷基芳基磺酸鹽類；月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨等的烷基硫酸酯鹽類；聚氧伸乙基月桂基醚硫酸鈉等的聚氧伸乙基烷基醚硫酸酯鹽類；聚氧伸乙基壬基苯醚硫酸鈉等的聚氧伸乙基烷基芳醚硫酸酯鹽類；單辛基磺酸基丁二酸鈉、二辛基磺酸基丁二酸鈉、聚氧伸乙基月桂基磺酸基丁二酸鈉等的烷基磺酸基丁二酸酯鹽以及其衍生物類；聚氧伸乙基二苯乙烯化苯醚硫酸酯鹽類等。非離子系界面活性劑之具體例可以例示聚氧伸乙基月桂基醚、聚氧伸乙基硬脂基醚等的聚氧伸乙基烷基醚類；聚氧伸乙基辛基苯醚、聚氧伸乙基壬基苯醚等的聚氧伸乙基烷基苯醚類；脫水山梨醇月桂酸酯、脫水山梨醇硬脂酸酯、脫水山梨醇三油酸酯等的脫水山梨醇高級脂肪酸酯類；聚氧伸乙基脫水山梨醇月桂酸酯等的聚氧伸乙基脫水山梨醇高級脂肪酸酯類；聚氧伸乙基月桂酸酯、聚氧伸乙基硬脂酸酯等的聚氧伸乙基高級脂肪酸酯類；油酸單酸甘油酯、硬脂酸單酸甘油酯等的甘油高級脂肪酸酯類；聚氧伸乙基．聚氧伸丙基．嵌段聚合物、聚氧伸乙基二苯乙烯化苯醚等。
另外，在上述非反應性界面活性劑之外，可使用 具有乙烯性不飽和雙鍵相關之自由基聚合性官能基之反應性界面活性劑作為界面活性劑。反應性界面活性劑可舉在前述陰離子系界面活性劑或非離子系界面活性劑中導入丙烯基或烯丙醚基等的自由基聚合性官能基(自由基反應性基)而成之自由基聚合性界面活性劑等。該等界面活性劑適合單獨或一併使用。在該等之界面活性劑之中，從水分散液之安定性、黏著劑層之耐久性的觀點來看，可以合適地使用具有自由基聚合性官能基之自由基聚合性界面活性劑。
陰離子系反應性界面活性劑之具體例中可舉烷基醚系(市售品係例如第一工業製藥株式會社製Aqualon KH-05、KH-10、KH-20、旭電化工業株式會社製ADEKA REASOAP SR-10N、SR-20N、花王株式會社製LATEMUL PD-104等)；磺酸化丁二酸酯系(市售品係例如花王株式會社製LATEMUL S-120、S-120A、S-180P、S-180A、三洋化成株式會社製ELEMINOL JS-2等)；烷基苯醚系或烷基苯酯系(市售品係例如第一工業製藥株式會社製Aqualon H-2855A、H-3855B、H-3855C、H-3856、HS-05、HS-10、HS-20、HS-30、BC-05、BC-10、BC-20、旭電化工業株式會社ADEKA REASOAP SDX-222、SDX-223、SDX-232、SDX-233、SDX-259、SE-10N、SE-20N)；(甲基)丙烯酸酯硫酸酯系(市售品係例如日本乳化劑株式會社製Antox MS-60、MS-2N、三洋化成工業株式會社製ELEMINOL RS-30等)；磷酸酯系(市售品係例如第一工業製藥株式會社 製H-3330PL，旭電化工業株式會社製ADEKA REASOAP PP-70等)。非離子系反應性界面活性劑可舉例如烷基醚系(市售品係例如旭電化工業株式會社ADEKA REASOAP ER-10、ER-20、ER-30、ER-40、花王株式會社製LATEMUL PD-420、PD-430、PD-450等)；烷基苯醚系或烷基苯酯系(市售品係例如第一工業製藥株式會社製Aqualon RN-10、RN-20、RN-30、RN-50、旭電化工業株式會社ADEKA REASOAP NE-10、NE-20、NE-30、NE-40等)；(甲基)丙烯酸酯硫酸酯系(市售品係例如日本乳化劑株式會社製RMA-564、RMA-568、RMA-1114等)。
前述界面活性劑之混合比例相對於含有前述(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分100重量份宜使用0.3~5重量份。可藉由前述界面活性劑之混合比例嘗試進行黏著特性、還有聚合安定性、機械安定性等的提高。前述界面活性劑之混合比例以0.3~4重量份較佳。
自由基聚合起始劑不作特殊限制，可以使用乳化聚合所常用之公知自由基聚合起始劑。可舉例如，2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙異丁脒二硫酸鹽、2,2’-偶氮二異丁脒二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽等的偶氮系起始劑；例如，過硫酸鉀、過硫酸銨等的過硫酸鹽系起始劑；例如過氧化苯甲醯、叔丁基過氧化氫、過氧化氫等的過氧化物系起始劑；例如，苯基取代乙烷等的取代乙烷系起始劑；例如，芳香族羰基化合物等的羰基系起始劑等。該等 聚合起始劑適合單獨或一併使用。另外，進行乳化聚合之際，依所需可以使用與聚合起始劑一起併用還原劑之氧化還原系起始劑。藉此，既促進了乳化聚合速度，又容易在低溫實行乳化聚合。這種還原劑可以例示抗壞血酸、異抗壞血酸、酒石酸、檸檬酸、葡萄糖、甲醛次硫酸鹽等的金屬鹽等之還原性有機化合物；硫代硫酸鈉、亞硫酸鈉、重亞硫酸鈉、偏重亞硫酸鈉(sodium metabisulfite)等的還原性無機化合物；二氯化鐵、保險粉、二氧化硫尿等。
另外，自由基聚合起始劑之混合比例係適當選擇，惟以相對於單體成分100重量份，在例如0.02~1重量份左右，合適的是0.02~0.5重量份，較佳的是0.08~0.3重量份。若不足0.02重量份，有時作為自由基聚合起始劑之效果就會降低，若超過1重量份，水分散液(聚合物乳膠)相關之(甲基)丙烯酸系聚合物之分子量就會降低，且水分散型黏著劑之耐久性會降低。再者，在氧化還原系起始劑之情形，還原劑相對於單體成分之合計量100重量份，宜使用0.01~1重量份之範圍。
鏈轉移劑為依需要調節(甲基)丙烯酸系聚合物之分子量者，通常係使用乳化聚合所常用之鏈轉移劑。例如，1-十二烷硫醇、巰基醋酸、2-巰基乙醇、硫乙醇酸-2-乙基己酯、2,3-二巰基-1-丙醇、巰基丙酸酯類等的硫醇類等。該等鏈轉移劑適合單獨或一併使用。另外，鏈轉移劑之混合比例相對於單體成分100重量份為例如0.001~0.3重量份。
利用這種乳化聚合可以將(甲基)丙烯酸系聚合物製備成水分散液(乳膠)。這種(甲基)丙烯酸系聚合物之體積平均粒徑宜為180nm以下，較佳為10~180nm，更佳為10~150nm。在光學用途上使用水分散型黏著劑時，(甲基)丙烯酸系聚合物之體積平均粒徑越小越好。若粒徑比可視光領域還小，就不會引起因粒子造成的偏光之散射，光學特性就不會降低。但是，能以乳化聚合製作的粒徑之下限一般在10nm左右。
另外，為保持前述水分散液之分散安定性，前述(甲基)丙烯酸系聚合物所含有作為單體單元之含羧基單體，宜中和該含羧基單體等。中和係可利用氨、氫氧化鹼金屬等進行。
本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物通常宜為重量平均分子量在100萬以上者。特別是重量平均分子量在100萬~400萬者在耐熱性、耐濕性的點上是合適的。重量平均分子量若不足100萬，耐熱性、耐濕性就會降低因而不合適。另外，乳化聚合中製得之黏著劑因利用其聚合機制而使分子量成為非常高分子量因而合適。只是，由於乳化聚合中製得之黏著劑一般凝膠成分多，用GPC(凝膠滲透層析法)無法測定，所以大多難以獲得關於分子量在實際測定中的依據。
此外，本發明之水分散型黏著劑係含有上述成份，且該等各成份之固體成份重量之合計係以成為水分散型黏著劑相關之水分散液的固體成份重量之80重量%以上 為佳，且更以90重量%以上、95重量%以上、更以100%以上來使用更佳。亦即，水分散型黏著劑相關之水分散液中，除了上述成份，還可使用其他成份。從抑制黏著劑層之霧度惡化之觀點來看，其他成份之比例係以10重量%以下之比例來使用較佳。
另外，前述其他成份可依需要來使用交聯劑。又，藉由交聯劑雖能對黏著劑層賦予凝集力，但若使用交聯劑，會有密著性變差或加濕剝離容易發生之傾向，於本發明中並不特別需要交聯劑。
此外，本發明之水分散型黏著劑中依需要可適當使用由黏度調整劑、剝離調整劑、增黏劑、矽烷偶合劑、可塑劑、軟化劑、玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、其他無機粉末等組成之填充劑、以及顏料、著色劑(顏料、染料等)、pH調整劑(酸或鹼)、防氧化劑、紫外線吸收劑等，或亦可在不脫離本發明之目的的範圍內適當使用各種添加劑。另外，含有微粒子作為表現出光擴散性之黏著劑層等亦佳。該等添加劑亦可以乳膠形式混合。
本發明之製造方法之塗佈步驟(1)中，係使用被控制成在剪力速度4000(1/s)下之黏度為0.01~0.1Pa．s之水分散型黏著劑。該黏度係以0.02~0.08Pa．s為佳。前述黏度若未滿0.01Pa．s則在乾燥步驟中的液流動大，故會損及平滑性，而若超過0.1Pa．s則塗佈時容易產生條紋，難以獲得塗佈外觀良好的黏著劑層。
此外，在前述水分散型黏著劑之調製時，會將前 述水分散型黏著劑控制在前述黏度之範圍內，關於該調製步驟，施加在前述水分散型黏著劑之剪力速度並非受限於4000(1/s)。關於前述調製步驟中，施加在前述水分散型黏著劑之剪力速度可因應塗佈步驟(1)之塗佈速度來設定，例如可設為1000~10000(1/s)之範圍，以2000~10000(1/s)為佳，更以4000~10000(1/s)為佳。
另外，本發明之水分散型黏著劑之固體成份濃度並無特別限制，係以5~45重量%為佳。在乾燥速度及塗佈膜中的液流動之觀點來看，前述固體成份濃度係以25重量%以上為佳。前述固體成份濃度係以25~45重量%為佳，更以30~45重量%為佳。
本發明之光學薄膜用黏著劑層係藉由施行將水分散型黏著劑塗佈於脫模薄膜之步驟(1)後，再施行在前述步驟(1)經塗佈之水分散型黏著劑乾燥之步驟(2)所製造。
離型薄膜之構成材料可舉例如，聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等的塑料薄膜、紙、布、不織布等的多孔質材料、網、發泡板、金屬箔以及該等之積層體等適當的薄片體等，從表面平滑性優異之點上來看可以合適地使用塑料薄膜。
該塑料薄膜只要是可以保護前述黏著劑層之薄膜就不作特殊限定，可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯化乙烯薄膜、氯化乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸酯薄膜、乙烯-醋酸乙 烯共聚物薄膜等。
前述脫模薄膜之厚度通常為5~200μm，合適的是5~100μm左右。前述離型薄膜依需要亦可進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系的脫模劑、矽石粉等之脫模以及防污處理或，塗佈型、混入型、蒸鍍型等的抗靜電處理。特別地，透過在脫模薄膜之表面適當實行聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等的剝離處理，可以進一步提高自前述黏著劑層之剝離性。
上述塗佈步驟(1)可採用各種方法。具體地說，可舉例如輥塗、輕觸式輥塗、凹版塗佈、逆轉塗佈、輥刷、噴塗、浸漬輥塗、刮條塗佈、刮刀塗佈、氣刀塗佈、簾幕式塗佈、唇式塗佈、採用狹縫塗佈機之擠出塗佈法等之方法。
另外，塗佈步驟(1)中係以所形成之黏著劑層成為特定厚度(乾燥後厚度)之方式來控制其塗佈量。在從塗佈膜中的液流動之觀點來看，因為塗佈層之厚度係以較薄者才容易獲得均一且平滑之表面，故黏著劑層之厚度(乾燥後厚度)通常設定為5~30μm左右，以10~30μm為佳，20~30μm的範圍更佳。
接著，對於塗佈步驟(1)所塗佈之水分散型黏著劑施行乾燥步驟(2)。前述乾燥步驟(2)之溫度通常為40~160℃左右，乾燥時間通常為30秒~5分鐘左右。乾燥步驟(2)若以1階段實行時，乾燥溫度通常為60~160℃下進行為佳，以70~150℃為較佳，更以80~140℃為佳，乾燥時間為30秒~5 分鐘為佳，以60秒~2分鐘為較佳。
前述乾燥步驟(2)係以具有第一乾燥步驟(21)及第二乾燥步驟(22)為佳。第一乾燥步驟(21)之乾燥溫度宜為40~110℃，以50~100℃為較佳，更以55~100℃為佳。第一乾燥步驟(21)之乾燥溫度設為40℃以上則能充分確保乾燥速度，且能使塗佈速度較快，係屬較佳。另一方面，第一乾燥步驟(21)之乾燥溫度設為110℃以下則能使塗佈膜中的液流動均一地進行，且能獲得具有均一且平滑之表面的黏著劑層，係屬較佳。第一乾燥步驟(21)之乾燥時間通常宜為30秒~2分鐘，以30秒~1分鐘為佳。此外，第一乾燥步驟(21)中之風速並無特別限制，通常可採用5~15m/s之範圍。
前述第一乾燥步驟(21)之後實施第二乾燥步驟(22)。第二乾燥步驟(22)之乾燥溫度宜為100~160℃，以110~160℃為較佳，更以130~150℃為佳。第二乾燥步驟(22)之乾燥溫度設為100℃以上則能充分確保乾燥速度，且能使塗佈速度較快，係屬較佳。另一方面，第一乾燥步驟(21)之乾燥溫度設為160℃以下則能抑制乾燥之進行過度，且能獲得具有均一且平滑之表面的黏著劑層，係屬較佳。第二乾燥步驟(22)之乾燥時間通常宜為30秒~2分鐘，以30秒~1分鐘為佳。此外，第二乾燥步驟(22)中之風速並無特別限制，通常可採用10~20m/s之範圍。
此外，從形成平滑性良好之黏著劑層的觀點來看，第二乾燥步驟(22)之乾燥溫度係以設為高於第一乾燥步驟(21)之乾燥溫度為佳。第二乾燥步驟(22)之乾燥溫度依前 述觀點來看，係以高於第一乾燥步驟(21)之乾燥溫度10~100℃之溫度為佳，以高20~80℃之溫度為較佳，以高30~50℃之溫度為更佳。前述第一乾燥步驟(21)與第二乾燥步驟(22)亦可分別於其步驟內採用相異之乾燥溫度，並分成乾燥溫度相異之複數步驟來進行。
塗佈步驟(1)、乾燥步驟(2)通常設為連續步驟，依據本發明之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，塗佈步驟(1)之塗佈速度係從生產性與獲得具有均一且平滑表面之黏著劑層的觀點來看，係以10~250m/min為佳。前述塗佈速度係以150m/min以下為較佳，更以100m/min以下為佳。前述塗佈速度若超過250m/min時，從獲得具有平滑表面之黏著劑層之觀點來看，係屬不佳。
本發明之光學薄膜用黏著劑層係形成於脫模薄膜上。形成於前述脫模薄膜上之黏著劑層表面之表面粗度(Ra)為10~40nm，該黏著劑層之表面平滑且均一。前述黏著劑層表面之表面粗度(Ra)宜為10~30nm，以10~20nm為更佳。
另外，本發明之光學薄膜用黏著劑層宜在黏著劑層厚度為23μm時的霧度值為1%以下，可滿足光學薄膜用黏著劑層所要求之透明性。前述霧度值宜為0~0.8%，更以0~0.5%為佳。此外，霧度值為1%以下時，在光學用途上即能滿足。前述霧度值超過1%時會產生白濁，在光學用途上係屬不佳。
形成於脫模薄膜上之黏著劑層係藉由將該黏著 劑層之表面側貼合於光學薄膜，使該黏著劑層轉印至光學薄膜，獲得黏著型光學薄膜。此外，當前述黏著劑層露出時，亦可用離型薄膜保護黏著劑層直到供實際應用為止。再者，上述之剝離薄膜可以就這樣作為黏著型光學薄膜之分離薄膜使用，在步驟方面可以簡略化。
另外，為提高與黏著劑層之間的密合性，在光學薄膜之表面可以形成錨釘層，或在施行過電暈處理、電漿處理等的各種易接著處理後形成黏著劑層。另外，黏著劑層之表面亦可實行易接著處理。
上述錨釘層之形成材料可以合適地使用由聚胺甲酸酯、聚酯、分子中含有胺基之聚合物類、含有唑基之聚合物類選出之錨釘劑，特別合適的是分子中含有胺基之聚合物類、含有唑基之聚合物類。因為分子中含有胺基之聚合物類、含有唑基之聚合物類其分子中的胺基、唑基會與黏著劑中的羧基等發生反應或者顯示離子性相互作用等的相互作用，所以會確保良好的密合性。
分子中含有胺基之聚合物類可舉例如，聚乙烯亞胺、聚芳胺、聚乙烯胺、聚乙烯吡啶、聚乙烯吡咯啶、二甲基胺乙基丙烯酸酯等的含胺基單體之聚合物等。
光學薄膜係使用形成液晶顯示裝置等的影像顯示裝置所使用者，其種類不作特殊限制。例如，光學薄膜可舉偏光板。偏光板一般使用在偏光子之單面或兩面具有透明保護薄膜者。
偏光子不作特殊限定，可以使用各種偏光子。偏 光子係例如在聚乙烯醇系薄膜、部分甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯．醋酸乙烯共聚物系部分鹼化薄膜等的親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料的二色性物質且經單軸延伸者，聚乙烯醇的脫水處理物或聚氯化乙烯的脫鹽酸處理物等多烯系配向薄膜等。該等之中以由聚乙烯醇系薄膜與碘等的二色性物質構成之偏光子為合適。該等之偏光子的厚度不作特殊限制，一般為5~80μm左右。
用碘染色聚乙烯醇系薄膜並經單軸延伸而成之偏光子係透過例如，在碘的水溶液浸漬聚乙烯醇來染色，且延伸至原長的3~7倍之作法製作成。依需要亦可浸漬於碘化鉀等的水溶液中，該碘化鉀等的水溶液亦可包含硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等。此外，依需要在染色前亦可在水中浸漬水洗聚乙烯醇系薄膜。透過水洗聚乙烯醇系薄膜在可以洗淨聚乙烯醇系薄膜表面之污染和防結塊劑之外，透過令聚乙烯醇系薄膜膨潤亦有防止染色之不穩定等不均勻的效果。延伸可以在用碘染色之後進行，亦可邊染色邊延伸，還可以在延伸後用碘染色。亦可在硼酸或碘化鉀等的水溶液或水浴中延伸。
構成透明保護薄膜之材料係採用例如透明性、機械強度、熱安定性、阻水性、等方性等優異之熱可塑性樹脂。這種熱可塑性樹脂的具體例可舉三乙醯纖維素等的纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、聚芳酯樹 脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂以及該等之混合物。再者，在偏光子之單側，利用接著劑層貼合透明保護薄膜，在另一單側，作為透明保護薄膜可以使用(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等的熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂。透明保護薄膜中亦可選擇性含有1種以上適當的添加劑。添加劑可舉例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、可塑劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中的上述熱可塑性樹脂之含量以50~100重量%為佳，50~99重量%較佳，60~98重量%更佳，70~97重量%特別合適。當透明保護薄膜中的上述熱可塑性樹脂之含量為50重量%以下時，熱可塑性樹脂本來具有的高透明性等就有無法充分體現之虞。
另外，光學薄膜可舉例如形成反射板或反透射板、相位差板(含1/2或1/4等的波長板)、視覺補償薄膜、增亮薄膜、表面處理薄膜等的液晶顯示裝置等之形成所用的作為光學層者。該等可以單獨作為光學薄膜使用以外，前述偏光板在實際應用之際亦可積層1層或2層以上使用。
表面處理薄膜係設置為貼合前面板。作為表面處理薄膜，可舉出用於賦予表面之耐擦傷性之硬塗佈薄膜、防止對於影像顯示裝置之疊影之抗炫光處理薄膜、抗反射薄膜、低反射薄膜等防反射薄膜等等。前面板係為了保護液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、CRT、PDP等的影像顯示裝置、賦予高級感、或設計個別化，而設置為貼合前述 影像顯示裝置之表面。又，前面板使用作為3D-TV之λ/4板之支持體。例如，在液晶顯示裝置上，係設置於視認側之偏光板的上側。使用本發明之黏著劑層時，作為前面板，除了玻璃基材以外，聚碳酸酯基材、聚甲基丙烯酸甲酯基材等塑膠基材亦能發揮與玻璃基材相同的效果。
在偏光板積層前述光學層之光學薄膜在液晶顯示裝置等的製造過程中可以用依序分別積層之方式形成，而預先積層形成光學薄膜者因其品質安定性或組裝作業等優異，具有提高液晶顯示裝置等的製造步驟之優點。積層中係可以採用黏著層等的適當接著手段。前述偏光板與其他光學層接著之際，該等之光學軸可以依據希望得到的相位差特性等設置適當的配置角度。
本發明之黏著型光學薄膜可以合適地應用在液晶顯示裝置等的各種影像顯示裝置之形成等。液晶顯示裝置之形成可遵循習知進行。亦即液晶顯示裝置一般係透過將液晶單元等之顯示面板與黏著型光學薄膜，以及依需要的照明系統等之結構零件適當組裝且插入驅動電路等來形成，本發明中除了利用本發明之黏著型光學薄膜這點以外沒有特殊限定，可以遵循習知。關於液晶單元係可以使用例如TN型或STN型、π型、VA型、IPS型等之任意類型者。
可以形成在液晶單元等之顯示面板的單側或兩側配置有黏著型光學薄膜之液晶顯示裝置或，照明系統上利用背光源或反射板者等之適當的液晶顯示裝置。該情形下，本發明之光學薄膜可以設置在液晶單元等之顯示面板 的單側或兩側。在兩側設置光學薄膜時，該等可以為相同者亦可為不同者。此外，在形成液晶顯示裝置之際，可以在適當的位置配置1層或2層以上之例如擴散板、抗眩光層、防反射膜、保護板、棱鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光源等的適當零件。
接著說明有機電致發光裝置(有機EL顯示裝置：OLED)。一般來說，有機EL顯示裝置係於透明基板上將透明電極、有機發光層、金屬電極依序積層而形成發光體(有機電致發光發光體)。在此，有機發光層係各種有機薄膜之積層體，已知有例如三苯胺衍生物等所構成之正電孔注入層、與蔥(anthracene)等螢光性有機固體所構成之發光層之積層體，或者此種發光層與苝(perylene)衍生物等所構成之電子注入層之積層體，又或者該等之正電孔注入層、發光層及電子注入層之積層體等，具有各種組合之結構。
有機EL顯示裝置係藉由外加電壓於透明電極與金屬電極，正電孔與電子注入有機發光層，該等正電孔與電子之再結合所生之能量激發螢光物資，被激發之螢光物質回到基底狀態時會放射出光，以此原理來發光。途中再結合之機制係與一般二極體相同，由此亦可預想到，電流與發光強度對於外加電壓會顯示伴隨整流性之強非線性。
有機EL顯示裝置中，為取出在有機發光層之發光，至少有一方之電極需為透明，通常形成於氧化銦錫(ITO)等透明導電體之透明電極係作為陽極使用。另一方面，要讓電子注入變得容易且使發光效率提昇，重要的是陰極使 用功函數小的物質，通常使用Mg-Ag、Al-Li等金屬電極。
如此構成之有機EL顯示裝置中，有機發光層係形成為厚度10nm左右的極薄之膜。因此，有機發光層亦與透明電極相同，可讓光幾乎完全透過。其結果，非發光時由透明基板之表面入射，穿透過透明電極與有機發光層並被金屬電極反射之光會再次由透明基板之表面側射出，故由外部視認時，有機EL顯示裝置之顯示面看起來像鏡面。
有機電致發光發光體在外加電壓致使發光之有機發光層的表面具備有透明電極，且有機發光層之裏面側具備有金屬電極。具備該有機電致發光發光體之有機EL顯示裝置中，可在透明電極之表面側設置偏光板，且在該等透明電極與偏光板之間設置相位差板。
相位差板及偏光板具有能讓從外部入射並由金屬電極反射而來的光偏光之作用，因此具有藉由該偏光作用造成從外部無法視認金屬電極之鏡面的效果。特別是，以1/4波長板構成相位差板，且偏光板與相位差板之形成偏光方向的角度調整成π/4，就能完全遮蔽金屬電極之鏡面。
也就是說，入射至該有機EL顯示裝置的外部光係藉由偏光板僅令直線偏光部份透過。藉由相位差板，此直線偏光一般會成為橢圓偏光，特別是相位差板為1/4波長板，且偏光板與相位差板之形成偏光方向的角度調整成π/4時會成為圓偏光。
此圓偏光會穿透過透明基板、透明電極、有機薄膜，被金屬電極反射，再度穿透過有機薄膜、透明電極、 透明基板，於相位差板再度成為直線偏光。然後，此直線偏光因為與偏光板之偏光方向直交，無法穿透過偏光板。其結果，可完全遮蔽金屬電極之鏡面。
如上述之有機EL顯示裝置中，為遮蔽鏡面反射，可於有機EL面板處隔著黏著劑層使用由相位差板及偏光板組合而成的橢圓偏光板或圓偏光板，此外，還可令橢圓偏光板或圓偏光板不直接貼合於有機EL面板，而是將橢圓偏光板或圓偏光板隔著黏著劑層貼合至觸控面板者應用於有機EL面板。
本發明中所應用的觸控面板，可採用光學方式、超音波方式、靜電容量方式、抵抗膜方式等各種方式。抵抗膜方式之觸控面板係將具有透明性導電性薄膜之觸控側之觸控面板用電極板，與具有透明導電性薄膜之顯示器側之觸控面板用電極板，以透明導電性薄膜彼此相對之方式隔著間隔物對向配置而成者。另一方面，靜電容量方式之觸控面板通常係具備含有特定圖案形狀之透明導電性薄膜之透明導電性薄膜形成於顯示器顯示部整面。本發明之黏著型光學薄膜可適用於觸控側、顯示器側之任一側。
實施例
以下，將利用實施例具體說明本發明，惟本發明並不因該等實施例受到限定。再者，各例中的份以及%之任一者均為重量基準。
<黏度之測定>
水分散型黏著劑之黏度(Pa．s)係使用HAAKE社製 Rheowin並用以下條件來測定。
角錐：直徑35mm
測定溫度：30℃
剪力條件：0.1~14000(1/s)花20秒測定。由所得資料算出近似值，將剪力速度(1/s)=4000之值作為黏度來表示。
<體積平均粒子徑之測定>
(甲基)丙烯酸系聚合物之體積平均粒子徑係使用將調製出的含有水分散型(甲基)丙烯酸系聚合物之水分散液以蒸餾水稀釋成為固體成份濃度為約1重量%者，並以下述裝置來測定。
裝置：Beckman Coulter製之LS13 320 PIDS模式
分散質的折射率：1.48使用聚正丁基丙烯酸酯
分散媒的折射率：1.333
實施例1
(單體乳膠的製備)
作為原料單體，在容器中加入丙烯酸丁酯880份、丙烯酸50份、甲基丙烯酸環己酯50份、單[聚(環氧丙烷)甲基丙烯酸酯]磷酸酯(環氧丙烷之平均聚合度約5.0)20份、以及3-甲基丙烯醯氧基丙基-三乙氧基矽烷(信越化學工業(株)製、KBM-503)0.3份並混合，製得單體成份。接著，於調製出的單體成份400份加入反應性乳化劑的Aqualon HS-10(第一工業製藥(株)製)4份、離子交換水268份，利用均質混合機在5分鐘、6000rpm下攪拌，強制乳化以調製出單體乳膠。
(水分散型丙烯酸系黏著劑之調製)
接著，在具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計、滴液漏斗以及攪拌翼之反應容器，混入在上述製備成之單體乳膠之中的136份、反應性乳化劑之Aqualon HS-10(第一工業製藥(株)製)8份、以及離子交換水308份，接著，將反應容器充分進行氮氣取代後，添加過硫酸銨0.1份，在65℃聚合1小時。接著，添加過硫酸銨0.3份，於反應容器花3小時滴液剩下的單體乳膠536份，之後，聚合3小時。再之後，進行氮氣取代並於75℃下聚合3小時，製得固體成分濃度40%的含水分散型(甲基)丙烯酸系聚合物之水分散液(乳膠)。接著，將上述水分散液冷卻直到室溫之後，向其中添加濃度10%之氨水以調整pH成為8，獲得水分散型丙烯酸系黏著劑(固體成分濃度38%)。該水分散型丙烯酸系黏著劑之黏度為0.066Pa．s，體積平均粒子徑為88nm。
(黏著劑層之形成以及黏著型偏光板的製作)
在脫模薄膜(三菱化學聚酯(株)製，Diafoil MRF-38，聚對苯二甲酸乙二酯基材)上，以唇式塗佈器依塗佈速度20m/min塗佈上述水分散型丙烯酸系黏著劑以使乾燥後之厚度達到23μm後，施行用熱風循環式烤爐(風速10m/s)並在乾燥溫度100℃下1分鐘之第一乾燥步驟，以及用熱風循環式烤爐(風速20m/s)並在乾燥溫度130℃下1分鐘之第二乾燥步驟，以形成黏著劑層。將該黏著劑層與偏光板(日東電工(株)製，製品名VEGQ)貼合，以製成2種類的黏著型偏光板。
實施例2
於實施例1之(黏著劑層之形成以及黏著型偏光板的製 作)中，除了將塗佈速度改為50m/min以外，與實施例1同樣地操作，形成黏著劑層。又，與實施例1同樣地操作，作成黏著型偏光板。
實施例3
於實施例1之(黏著劑層之形成以及黏著型偏光板的製作)中，除了將第一乾燥步驟之乾燥溫度改為80℃以外，與實施例1同樣地操作，形成黏著劑層。又，與實施例1同樣地操作，作成黏著型偏光板。
實施例4
於實施例1之(黏著劑層之形成以及黏著型偏光板的製作)中，除了將第一乾燥步驟之乾燥溫度改為60℃、塗佈速度改為25m/min以外，與實施例1同樣地操作，形成黏著劑層。又，與實施例1同樣地操作，作成黏著型偏光板。
實施例5
於實施例1之(水分散型丙烯酸系黏著劑之調製)中，除了添加濃度10%之氨水將pH調整成7以外，與實施例1同樣地操作，獲得水分散型丙烯酸系黏著劑(固體成份濃度38%)。該水分散型丙烯酸系黏著劑之黏度為0.044Pa．s、體積平均粒子徑為86nm。又，除了使用該水分散型丙烯酸系黏著劑以外，與實施例1同樣地操作，形成黏著劑層。又，與實施例1同樣地操作，作成黏著型偏光板。
實施例6
於實施例1之(單體乳膠之製備)中，除了將丙烯酸之添加份數從50份改為10份、且在實施例1之(水分散型丙烯酸 系黏著劑之調製)中，將獲得的水分散型丙烯酸系黏著劑之固體成份濃度調整成為50%以外，與實施例1同樣地操作，獲得水分散型丙烯酸系黏著劑。該水分散型丙烯酸系黏著劑之黏度為0.070Pa．s、體積平均粒子徑為130nm。又，除了使用該水分散型丙烯酸系黏著劑以外，與實施例1同樣地操作，形成黏著劑層。又，與實施例1同樣地操作，作成黏著型偏光板。
實施例7
於實施例1之(水分散型丙烯酸系黏著劑之調製)中，除了添加濃度10%之氨水將pH調整成6.8以外，與實施例1同樣地操作，獲得水分散型丙烯酸系黏著劑(固體成份濃度38%)。該水分散型丙烯酸系黏著劑之黏度為0.020Pa．s、體積平均粒子徑為88nm。又，除了使用該水分散型丙烯酸系黏著劑以外，與實施例1同樣地操作，形成黏著劑層。又，與實施例1同樣地操作，作成黏著型偏光板。
比較例1
(單體乳膠之製備)
作為原料單體，在容器中加入丙烯酸-2-乙基己酯80份、甲基丙烯酸甲酯20份、十二烷硫醇0.1份、N-羥甲基丙烯醯胺0.1份及丙烯酸2份、聚氧伸乙基烷基苯醚硫酸鈉(花王(株)製之商品名Levenol WZ)1.5份及水27份，調製出單體乳膠。
(水分散型丙烯酸系黏著劑之調製)
接著，在具備回流冷卻器、溫度計及攪拌器之反應容 器中加入水33份，反應器內經氮氣乾燥後，升溫至80℃，加入過硫酸銨0.5份，接著加入前述單體乳膠總量之0.2重量%，開始聚合。確認到聚合開始後，在79~81℃下將單體乳膠之殘份(總量之99.8重量%)以4小時連續地滴液。單體乳膠之連續滴液終了後，加入10重量%之過硫酸銨水溶液1.0份，並在80℃下保持2小時結束反應。將藉由上述獲得的丙烯酸系共聚物之乳膠以25重量%之氨水中和，並添加丙烯酸系增黏劑(東亞合成(株)製之B-300)以獲得水分散型丙烯酸系黏著劑組成物。該水分散型丙烯酸系黏著劑組成物之黏度為0.150Pa．s、體積平均粒子徑為1020nm。
(黏著劑層之形成以及黏著型偏光板的製作)
於實施例1中，除了使用上述獲得之水分散型丙烯酸系黏著劑作為水分散型丙烯酸系黏著劑以外，與實施例1同樣地操作，形成黏著劑層。又，與實施例1同樣地操作，作成黏著型偏光板。
比較例2
(溶劑型丙烯酸系黏著劑之調製)
在具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計以及攪拌翼之反應容器中，加入丙烯酸丁酯96.5份、丙烯酸3份、丙烯酸-2-羥乙酯0.5份、2,2’-偶氮雙異丁腈0.15份及醋酸乙酯100份，在充分氮取代後，在氮氣流下攪拌並於60℃下反應8小時，獲得重量平均分子量165萬之丙烯酸系聚合物溶液。相對於上述丙烯酸系聚合物溶液之固體成份100份，加入異氰酸酯系交聯劑(日本聚胺甲酸酯工業(株)製，Coronet L)0.5份， 獲得固體成份12%之溶劑型丙烯酸系黏著劑。該溶劑型丙烯酸系黏著劑之黏度為0.21Pa．s。
(黏著劑層之形成以及黏著型偏光板的製作)
於實施例1中，除了使用上述溶劑型丙烯酸系黏著劑替代水分散型丙烯酸系黏著劑以外，與實施例1同樣地操作，形成黏著劑層。又，與實施例1同樣地操作，作成黏著型偏光板。
比較例3
於比較例2之(黏著劑層之形成以及黏著型偏光板的製作)中，除了將塗佈速度改為10m/min以外，與比較例2同樣地操作，形成黏著劑層。又，與實施例1同樣地操作，作成黏著型偏光板。
比較例4
於實施例1之(水分散型丙烯酸系黏著劑之調製)中，將獲得之水分散型丙烯酸系黏著劑之固體成份濃度調整成為20%，且加入相對於水分散型丙烯酸系黏著劑之固體成份100份而為2重量份之胺甲酸酯會合系增黏劑的Adekanol UH541(株式會社ADEKA製)以外，與實施例1同樣地操作，獲得水分散型丙烯酸系黏著劑。該水分散型丙烯酸系黏著劑之黏度為0.23Pa．s、體積平均粒子徑為92nm。另外，除了使用該水分散型丙烯酸系黏著劑以外，與實施例1同樣地操作，形成黏著劑層。此外，與實施例1同樣地操作，作成黏著型偏光板。
對於上述實施例及比較例所獲得的黏著劑層及 黏著型偏光板進行以下評價。評價結果顯示於表1。
<霧度>
對於各例所獲得之將設於脫模薄膜之厚度23μm的黏著劑層貼附於載玻板(Micro slide glass、松浪硝子工業株式会社製，厚度1.3mm)上者，以霧度計(HM-150型，(株)村上色彩技術研究所社製)來測定霧度值。此外，測定霧度值時，係將脫模薄膜剝離後再測定。
<黏著劑層表面之平滑性>
對於黏著劑層之表面，使用富士寫真光機社製的「雷射干涉計F601」藉由富士掃描法來測定φ60mm視野之表面粗度Ra(凹凸)(單位nm)。黏著劑層表面之測定係針對脫模薄膜(三菱化學聚酯(株)製，Diafoil MRF-38，聚對苯二甲酸乙二酯基材)上形成之厚度23μm(乾燥後)之黏著劑層表面來進行。這是因為若在脫模薄膜剝離之狀態下來測定時，剝離時黏著劑層表面會紊亂，會影響平滑性之故。此外，設置黏著劑層之脫模薄膜表面之Ra為6nm。
<視認性>
所獲得的黏著型偏光板自脫模薄膜剝離，以黏著劑層之側貼合玻璃基板，以此作為樣品。對於該樣品，在螢光燈下以目視根據下述基準來進行從正面及斜45°之2方向作視認性之觀察。
○：沒有影響視認性之不均勻。
△：有一些不均勻但可確認。
×：在視認性上有問題。

Claims (15)

  1. 一種光學薄膜用黏著劑層之製造方法，係包含有將含有水分散液之水分散型黏著劑塗佈於脫模薄膜之步驟(1)以及將經塗佈之水分散型黏著劑乾燥之步驟(2)，其中該水分散液含有水分散型(甲基)丙烯酸系聚合物，該製造方法之特徵在於：前述水分散型黏著劑係在剪力速度4000(1/s)下之黏度為0.01~0.1Pa．s，形成於前述脫模薄膜上之前述光學薄膜用黏著劑層之表面的表面粗度(Ra)為10~40nm，且前述光學薄膜用黏著劑層之厚度為23μm時的霧度為1%以下。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，其中前述乾燥步驟(2)具有溫度40~110℃之第一乾燥步驟(21)與溫度100~160℃之第二乾燥步驟(22)。
  3. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，其中前述水分散型黏著劑之(甲基)丙烯酸系聚合物之體積平均粒子徑為180nm以下。
  4. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，其中塗佈步驟(1)之塗佈速度為10~100m/min。
  5. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，其中前述水分散型黏著劑係固體成份濃度為5~45重量%之水分散液。
  6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項之光學薄膜用黏著 劑層之製造方法，其中前述(甲基)丙烯酸系聚合物為相對於總單體單元，含有(甲基)丙烯酸烷基酯60~99.9重量%及含羧基單體0.1~10重量%作為單體單元者。
  7. 如申請專利範圍第6項之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，其中前述(甲基)丙烯酸系聚合物進一步含有含磷酸基單體作為單體單元。
  8. 如申請專利範圍第7項之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，其中前述含磷酸基單體之比例為(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體單元的0.1~20重量%。
  9. 如申請專利範圍第6項之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，其中前述(甲基)丙烯酸系聚合物進一步含有含烷氧基矽基單體作為單體單元。
  10. 如申請專利範圍第9項之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，其中前述含烷氧基矽基單體之比例為(甲基)丙烯酸系聚合物之總單體單元的0.001~1重量%。
  11. 如申請專利範圍第6項之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，其中(甲基)丙烯酸烷基酯60~99.9重量%相關之單體單元為丙烯酸烷基酯60~99.8重量%及甲基丙烯酸烷基酯0.1~39.9%之單體單元。
  12. 如申請專利範圍第11項之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，其中丙烯酸烷基酯為碳數3~9之丙烯酸烷基酯，而甲基丙烯酸烷基酯為選自於由甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯及甲基丙烯酸環己酯所構成群組之至少1者。
  13. 一種光學薄膜用黏著劑層，其特徵在於係藉由如申請專利範圍第1至12項中任一項之光學薄膜用黏著劑層之製造方法所獲得者。
  14. 一種黏著型光學薄膜，其特徵在於係在光學薄膜的至少單側積層如申請專利範圍第13項之光學薄膜用黏著劑層。
  15. 一種影像顯示裝置，其特徵在於係使用至少1枚如申請專利範圍第14項之黏著型光學薄膜。
TW101134710A 2011-09-26 2012-09-21 光學薄膜用黏著劑層之製造方法、光學薄膜用黏著劑層、黏著型光學薄膜及影像顯示裝置 TW201323566A (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011209331A JP5893881B2 (ja) 2011-09-26 2011-09-26 光学フィルム用粘着剤層の製造方法、光学フィルム用粘着剤層、粘着型光学フィルムおよび画像表示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW201323566A true TW201323566A (zh) 2013-06-16

Family

ID=47911568

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101134710A TW201323566A (zh) 2011-09-26 2012-09-21 光學薄膜用黏著劑層之製造方法、光學薄膜用黏著劑層、黏著型光學薄膜及影像顯示裝置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9181458B2 (zh)
JP (1) JP5893881B2 (zh)
KR (1) KR101426146B1 (zh)
CN (1) CN103013362A (zh)
TW (1) TW201323566A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI790660B (zh) * 2021-06-18 2023-01-21 大陸商業成科技（成都）有限公司 免框膠式膠合結構之製作方法

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6344812B2 (ja) * 2012-12-28 2018-06-20 日東電工株式会社 透明導電層用水分散型粘着剤組成物、透明導電層用粘着剤層、粘着剤層付き光学フィルム、及び、液晶表示装置
JP6172038B2 (ja) * 2014-04-23 2017-08-02 東亞合成株式会社 プラスチック製フィルム又はシート用活性エネルギー線硬化型粘接着剤組成物及び積層体の製造方法
KR101821801B1 (ko) * 2015-06-18 2018-01-25 삼성에스디아이 주식회사 편광판, 그의 제조방법 및 이를 포함하는 광학표시장치
FR3039455B1 (fr) * 2015-07-31 2020-10-09 Adhex Tech Membrane permeable auto-adhesive et procede de fabrication d'une telle membrane permeable auto-adhesive
JP6935223B2 (ja) * 2016-04-20 2021-09-15 東山フイルム株式会社 透明粘着層付き基材フィルムの製造方法、透明粘着層付き透明導電性フィルムの製造方法、およびタッチパネルの製造方法
CN111742028A (zh) * 2018-02-21 2020-10-02 巴斯夫欧洲公司 制备涂覆有粘合剂的制品的方法
CN115044087A (zh) * 2022-08-15 2022-09-13 江苏康辉新材料科技有限公司 一种低雾度光学膜及其制备方法和应用

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2924695B2 (ja) 1995-02-14 1999-07-26 東亞合成株式会社 水分散型アクリル系粘着剤組成物を塗工する粘着製品の製造方法
JP2004143294A (ja) * 2002-10-24 2004-05-20 Showa Highpolymer Co Ltd 水性エマルジョン型粘着剤および粘着シート
JP5252764B2 (ja) 2003-03-10 2013-07-31 日東電工株式会社 水分散型粘着剤組成物、および粘着製品並びにその製造方法
JP2005247955A (ja) * 2004-03-03 2005-09-15 Mitsui Chemicals Inc 接着剤組成物及び粘着シート
JP4884654B2 (ja) 2004-05-11 2012-02-29 日東電工株式会社 粘着シートの製造方法
US7759442B2 (en) 2005-01-26 2010-07-20 Nitto Denko Corporation Adhesive composition, adhesive optical film and image display device
JP4722781B2 (ja) * 2005-12-15 2011-07-13 日東電工株式会社 粘着型光学フィルムおよび画像表示装置
JP5078345B2 (ja) * 2006-12-27 2012-11-21 リンテック株式会社 粘着シートの製造方法
US7858709B2 (en) * 2007-05-02 2010-12-28 Nitto Denko Corporation Aqueous dispersion adhesive composition and adhesive film
JP4673344B2 (ja) 2007-06-07 2011-04-20 日東電工株式会社 光学フィルム用粘着シートの製造方法
US20090017298A1 (en) * 2007-07-11 2009-01-15 Nitto Denko Corporation Adhesive composition, adhesive optical film and image display device
EP2033998B1 (en) * 2007-09-06 2010-11-10 Nitto Denko Corporation Pressure sensitive adhesive composition, product using the same, and display using the product
JP2010001415A (ja) * 2008-06-23 2010-01-07 Nitto Denko Corp 水分散型粘着剤組成物、水分散型粘着シート、粘着型光学フイルム、画像表示装置
JP4805999B2 (ja) * 2008-12-09 2011-11-02 日東電工株式会社 粘着剤層付き透明導電性フィルムとその製造方法、透明導電性積層体およびタッチパネル
JP5580069B2 (ja) 2009-02-26 2014-08-27 日東電工株式会社 表面保護フィルム用粘着剤組成物とその利用
JP5490445B2 (ja) * 2009-06-05 2014-05-14 日東電工株式会社 粘着型光学フィルム、その製造方法および画像表示装置、並びに粘着剤塗布液およびその製造方法
US20120251821A1 (en) 2009-12-09 2012-10-04 Nitto Denko Corporation Pressure-sensitive adhesive layer for optical film, pressure-sensitive adhesive optical film, method for manufacturing thereof, and image display

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI790660B (zh) * 2021-06-18 2023-01-21 大陸商業成科技（成都）有限公司 免框膠式膠合結構之製作方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20130078407A1 (en) 2013-03-28
CN103013362A (zh) 2013-04-03
JP2013067764A (ja) 2013-04-18
KR20130033324A (ko) 2013-04-03
US9181458B2 (en) 2015-11-10
JP5893881B2 (ja) 2016-03-23
KR101426146B1 (ko) 2014-07-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6001241B2 (ja) 光学フィルム用粘着剤組成物、光学フィルム用粘着剤層、粘着型光学フィルムおよび画像表示装置
JP6251548B2 (ja) 光学フィルム用水分散型粘着剤組成物、粘着剤層、粘着型光学フィルム、及び、画像表示装置
JP5890996B2 (ja) 光学フィルム用粘着剤層、粘着剤層付光学フィルム、画像表示装置および光学フィルムの剥離方法
TW201323566A (zh) 光學薄膜用黏著劑層之製造方法、光學薄膜用黏著劑層、黏著型光學薄膜及影像顯示裝置
TWI503391B (zh) An adhesive layer for an optical film, an adhesive type optical film, and an image display device
WO2012039323A1 (ja) 光学フィルム用粘着剤層、その製造方法、粘着剤層付光学フィルムおよび画像表示装置
TWI585173B (zh) An adhesive film for an optical film, an optical film having an adhesive layer, and an image display device
JP5624448B2 (ja) 水分散型粘着剤組成物、粘着剤層、粘着部材および画像表示装置
JP2013148722A (ja) 粘着剤層付光学フィルムおよび画像表示装置
JP2012116986A (ja) 光学フィルム用粘着剤層、粘着型光学フィルム、画像表示装置
JP6664867B2 (ja) 粘着剤層付光学部材、画像表示装置、及び、粘着剤層付光学部材の製造方法
WO2011048874A1 (ja) 光学フィルム用粘着剤層、粘着型光学フィルムおよび画像表示装置
WO2015033654A1 (ja) 水分散型粘着剤組成物、粘着剤層、粘着型光学フィルム、及び、画像表示装置
JP2012087174A (ja) 光学用水分散型粘着剤、光学用粘着剤層、粘着型光学フィルムおよび画像表示装置
JP2012111871A (ja) 光学フィルム用粘着剤層、粘着型光学フィルムおよび画像表示装置
JP2012224078A (ja) 光学フィルム用粘着剤層の製造方法、光学フィルム用粘着剤層、粘着剤層付光学フィルムおよび画像表示装置
JP2012111870A (ja) 光学フィルム用粘着剤層、粘着型光学フィルムおよび画像表示装置