CN102652273A - 光学薄膜用粘合剂层、粘合型光学薄膜、其制造方法以及图像显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明的光学薄膜用粘合剂层是通过在涂布水分散型粘合剂后进行干燥而形成的，所述水分散型粘合剂含有在水中至少分散含有基础聚合物，并且，该粘合剂层中的残留单体量相对于粘合剂层的固体成分1g为5~100ppm。该光学薄膜用粘合剂层具有即使在高热、高湿度环境下也能够抑制发泡、剥离的高耐久性。

Description

光学薄膜用粘合剂层、粘合型光学薄膜、其制造方法以及图像显示装置

技术领域

本发明涉及由水分散型粘合剂形成的光学薄膜用粘合剂层。另外本发明涉及在光学薄膜上具有该粘合剂层的粘合型光学薄膜及其制造方法。进而，本发明涉及使用了前述粘合型光学薄膜的液晶显示装置、有机EL显示装置、PDP等图像显示装置。作为前述光学薄膜，可以使用偏光板、相位差板、光学补偿薄膜、亮度提高薄膜、以及由它们层叠而得到的光学薄膜。

背景技术

液晶显示装置等由于其图像形成方式而必须在液晶单元的两侧配置偏光元件，一般粘贴有偏光板。另外在液晶面板上除了偏光板之外，为了提高显示器的显示品位，各种各样的光学元件正在被使用起来。例如，会使用作为防止着色的相位差板、用于改善液晶显示器的可视角的可视角扩大薄膜、以及用于提高显示器的对比度的亮度提高薄膜等。这些薄膜统称为光学薄膜。

在将前述光学薄膜粘贴到液晶单元时，通常使用粘合剂。另外，对于光学薄膜与液晶单元、或者光学薄膜间的粘接而言，通常为了降低光损失，各种材料使用粘合剂进行密合。在这样的情况下，由于具有在固定光学薄膜时不需要干燥工序等优点，一般使用预先将粘合剂作为粘合剂层设置在光学薄膜的单侧的粘合型光学薄膜。

前述粘合型光学薄膜所使用的光学薄膜由于在加热、加湿的条件下容易收缩、膨胀，因此在将前述粘合型光学薄膜贴合到液晶单元后，易于产生浮起、剥离。因此，对于前述粘合剂层要求对加热和加湿等的耐久性。另外，对于前述粘合剂层，要求在光学薄膜上形成粘合剂层后能够不产生粘合剂的污垢、脱落等而进行加工的加工性。

一直以来，作为上述粘合型光学薄膜的粘合剂层的形成所使用的粘合剂，从加热或加湿热环境下的耐久性优异的观点出发，主要使用有机溶剂型粘合剂。然而，近年，从降低地球环境负荷、提高作业稳定性的观点出发，不使用有机溶剂的无溶剂型粘合剂的开发正在盛行起来。

作为无溶剂型粘合剂，例如提出了对含有高分子量聚合物和规定量的单体的粘合剂组合物进行紫外线照射，以残留单体为规定量以下的方式进行光聚合而形成粘合剂层的方法（专利文献1）。另外，作为无溶剂型粘合剂，提出了使用水作为分散介质，使粘合剂成分分散在水中而得到的水分散型粘合剂。作为水分散型粘合剂，例如从耐湿性的观点出发，提出使用了含磷酸基的单体的水分散型的丙烯酸系粘合剂（专利文献2）。另外，作为水分散型粘合剂，提出了在水分散型丙烯酸系聚合物中配混氧化还原系引发剂来降低水分散型粘合剂中的残留单体量的方法（专利文献3）。尤其，从生产率、外观、不使用覆盖隔离膜等附加材料这样的经济的侧面出发，水分散型粘合剂正被期望实用化。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2002-241707号公报

专利文献2：日本特开2007-186661号公报

专利文献3：日本特开2006-169293号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，使用水分散型粘合剂形成了粘合剂层的粘合型光学薄膜在加热、加湿热等严酷的环境下，在产生发泡、剥离这样的耐久性上存在问题。在专利文献3中，降低了粘合剂层的形成所使用的水分散型粘合剂的残留单体，但仅仅降低水分散型粘合剂的残留单体难以得到满足耐久性的粘合型光学薄膜。

本发明的目的在于，提供一种光学薄膜用粘合剂层，其为适用于光学薄膜的、通过水分散型粘合剂形成的粘合剂层，具有即使在高热、高湿度环境下也能够抑制发泡、剥离的高耐久性。

另外，本发明的目的在于，提供一种粘合型光学薄膜及其制造方法，该粘合型光学薄膜在光学薄膜的至少单侧层叠有前述光学薄膜用粘合剂层。进而发明的目的在于，提供一种使用了前述粘合型光学薄膜的图像显示装置。

用于解决问题的方案

本发明人等为了解决前述问题进行了反复深入的研究，结果发现通过下述的光学薄膜用粘合剂层能够解决前述问题，从而完成了本发明。

即，本发明涉及一种光学薄膜用粘合剂层，其特征在于，

前述粘合剂层是通过在涂布水分散型粘合剂后进行干燥而形成的，所述水分散型粘合剂含有在水中至少分散含有基础聚合物的水分散液，

并且，该粘合剂层中的残留单体量相对于粘合剂层的固体成分1g为5~100ppm。

在前述光学薄膜用粘合剂层中，作为前述水分散型粘合剂中的基础聚合物，（甲基）丙烯酸系聚合物是适宜的。另外，作为前述基础聚合物的（甲基）丙烯酸系聚合物优选通过乳液聚合而得到。

另外本发明涉及一种粘合型光学薄膜，其在光学薄膜的至少单侧层叠有前述光学薄膜用粘合剂层。

另外本发明涉及一种前述粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，

其具有：

工序（1)，将水分散型粘合剂涂布在光学薄膜的单面或双面，所述水分散型粘合剂由在水中至少分散含有基础聚合物的水分散液形成、并且相对于该水分散液的固体成分1g含有1500~25000ppm的残留单体；和

工序（2A），将涂布的水分散型粘合剂在80~170℃的干燥温度下进行干燥，使得粘合剂层中的残留单体量相对于粘合剂层的固体成分1g为5~100ppm，形成粘合剂层。

另外本发明涉及一种前述粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，

其具有：

工序（1），将水分散型粘合剂涂布在脱模薄膜的单面或双面，所述水分散型粘合剂由在水中至少分散含有基础聚合物的水分散液形成、并且相对于该水分散液的固体成分1g含有1500~25000ppm的残留单体；

工序（2B），将涂布的水分散型粘合剂在80~170℃的干燥温度下进行干燥，使得粘合剂层中的残留单体量相对于粘合剂层的固体成分1g为5~100ppm，形成粘合剂层；和

工序（3），将形成于脱模薄膜上的粘合剂层贴合于光学薄膜上。

另外本发明涉及一种图像显示装置，其特征在于，其至少使用了一张前述粘合型光学薄膜。

发明的效果

本发明的光学薄膜用粘合剂层通过将利用水分散型粘合剂形成的粘合剂层的残留单体量控制在上述规定范围（5~100ppm），满足高耐久性，可适用于粘合型光学薄膜。另外，本发明的光学薄膜用粘合剂层外观良好。

本发明的粘合型光学薄膜可通过如下方式得到：使用将涂布前的水分散型粘合剂中的残留单体量控制在上述规定范围（1500~25000ppm）的物质，并且在规定的干燥条件（80~170℃）下干燥而形成粘合剂层，由此得到。这样得到的粘合型光学薄膜具有更加优异的耐久性。另外，根据所述粘合型光学薄膜的制造方法，由于含有涂布前的水分散型粘合剂中的残留单体量为规定量以上的残留单体，因此水分散型粘合剂的保存稳定性良好，能够防止水分散型粘合剂的腐败。

具体实施方式

本发明的光学薄膜用粘合剂层为通过在涂布水分散型粘合剂后进行干燥而形成的，该粘合剂层的残留单体量控制为5~100ppm。

前述粘合剂层中的残留单体量超过100ppm时，由于残留单体自身的影响，会促进在加热下的发泡、在加湿下的水分的吸收，粘合剂层产生发泡、剥离等耐久性上的不良情况。另外，残留单体量多时，粘合剂层的涂膜强度变低，易于产生发泡、剥离等不良情况。另一方面，前述粘合剂层中的残留单体量少于5ppm时，在粘合剂层的形成工序中的干燥工序中，需要施加大量的热经历，容易为所形成的粘合剂层带来损伤。另外，虽然原因尚不清楚，但使得粘合剂层中存在前述规定量的少量的残留单体，对于剥离等能有效发挥作用。作为前述粘合剂层中的残留单体量，优选为5~50ppm，特别优选为5~30ppm。

此外，粘合剂层中的残留单体量的定量通过实施例所述的气相色谱进行。另外，在含有高沸点的单体（沸点250℃以上）的情况下，组合使用液相色谱进行残留单体量的定量。气相色谱和液相色谱的测定值之和成为残留单体量。

水分散型粘合剂为在水中至少分散含有基础聚合物的水分散液。作为该水分散液，通常使用在表面活性剂的存在下分散有基础聚合物的水分散液，但只要为在水中分散含有基础聚合物的水分散液，也可以使用通过自发分散性基础聚合物的自发分散而形成水分散液的物质。

另外，水分散液中的基础聚合物可列举出将单体在乳化剂的存在下进行乳液聚合、或者在表面活性剂的存在下进行分散聚合而聚合，由此得到的基础聚合物。

另外，水分散液可以通过将另外制造的基础聚合物在乳化剂的存在下在水中进行乳化分散来制造。作为乳化方法，可列举出将聚合物和乳化剂预先加热熔融或者不进行加热溶融地将它们与水一起，使用例如加压捏合机、胶体磨机、高速搅拌轴等混合机来施加高剪切力而均匀地乳化分散，然后以分散粒子不会融合聚集的方式冷却得到期望的水分散体的方法（高压乳化法）；将聚合物预先溶解在苯、甲苯、醋酸乙酯等有机溶剂中，然后添加前述乳化剂和水，使用例如高速乳化机来施加高剪切力而均匀地乳化分散，然后通过减压-加热处理等除去有机溶剂而形成期望的水分散体的方法（溶剂溶解法）等。

作为水分散型粘合剂，可以使用各种粘合剂，例如可列举出橡胶系粘合剂、丙烯酸系粘合剂、有机硅系粘合剂、聚氨酯系粘合剂、乙烯基烷基醚系粘合剂、聚乙烯醇系粘合剂、聚乙烯基吡咯烷酮系粘合剂、聚丙烯酰胺系粘合剂、纤维素系粘合剂、聚酯系粘合剂、氟系粘合剂等。可与前述粘合剂的种类相应地选择粘合性的基础聚合物、分散方法。

在前述粘合剂当中，从光学的透明性优异、显示出合适的湿润性和内聚性和粘接性的粘合特性、耐候性、耐热性等优异的观点出发，优选使用水分散型的丙烯酸系粘合剂。

作为水分散型丙烯酸系粘合剂的基础聚合物的（甲基）丙烯酸系聚合物可以通过例如使以（甲基）丙烯酸烷基酯为主要成分的单体成分在乳化剂、自由基聚合引发剂的存在下进行乳液聚合而作为共聚物乳液得到。此外，（甲基）丙烯酸烷基酯是指丙烯酸烷基酯和/或甲基丙烯酸烷基酯，与本发明的（甲基）是同样的含义。

作为构成（甲基）丙烯酸系聚合物的主骨架的（甲基）丙烯酸烷基酯，可例示出直链状或支链状的烷基的碳数1~20的物质。例如，作为前述烷基，可例示出甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、新戊基、异戊基、己基、庚基、2-乙基己基、异辛基、壬基、异壬基、癸基、异癸基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基、二十烷基等。它们可以单独使用或者组合使用。这些烷基的平均碳数为3~9是优选的。尤其，在本发明中，作为上述（甲基）丙烯酸烷基酯，丙烯酸丁酯这样的比水沸点高的单体尤其适合使用。

在前述（甲基）丙烯酸系聚合物中，除了（甲基）丙烯酸烷基酯以外，以水分散液的稳定化、对粘合剂层的光学薄膜等基材的密合性的提高、进而对被粘物的初始粘接性的提高等为目的，可以通过共聚导入具有（甲基）丙烯酰基或乙烯基等不饱和双键的聚合性的官能团的1种以上的共聚单体。

作为前述共聚单体的具体例子没有特别限定，可列举出例如（甲基）丙烯酸、衣康酸、马来酸、富马酸、巴豆酸、丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟戊酯等含羧基的单体；例如马来酸酐、衣康酸酐等含酸酐基的单体；例如（甲基）丙烯酸环己酯、（甲基）丙烯酸冰片酯、（甲基）丙烯酸异冰片酯等（甲基）丙烯酸脂环式烃酯；例如（甲基）丙烯酸苯酯等（甲基）丙烯酸芳基酯；例如醋酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯酯类；例如苯乙烯等苯乙烯系单体；例如（甲基）丙烯酸缩水甘油酯、（甲基）丙烯酸甲基缩水甘油酯等含环氧基的单体；例如丙烯酸2-羟乙酯、丙烯酸2-羟丙酯等含羟基的单体；例如（甲基）丙烯酰胺、N,N-二甲基（甲基）丙烯酰胺、N,N-二乙基（甲基）丙烯酰胺、N-异丙基（甲基）丙烯酰胺、N-丁基（甲基）丙烯酰胺、N-羟甲基（甲基）丙烯酰胺、N-羟甲基丙烷（甲基）丙烯酰胺、（甲基）丙烯酰基吗啉、（甲基）丙烯酸氨基乙酯、（甲基）丙烯酸N,N-二甲基氨基乙酯、（甲基）丙烯酸叔丁基氨基乙酯等含氮原子的单体；例如（甲基）丙烯酸甲氧基乙酯、（甲基）丙烯酸乙氧基乙酯等含烷氧基的单体；例如丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基的单体；例如2-甲基丙烯酰氧乙基异氰酸酯等官能性单体；例如乙烯、丙烯、异戊二烯、丁二烯、异丁烯等烯烃系单体；例如乙烯基醚等乙烯基醚系单体；例如氯乙烯等含卤素原子的单体；此外例如N-乙烯基吡咯烷酮、N-(1-甲基乙烯基)吡咯烷酮、N-乙烯基吡啶、N-乙烯基哌啶酮、N-乙烯基嘧啶、N-乙烯基哌嗪、N-乙烯基吡嗪、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基噁唑、N-乙烯基吗啉等含乙烯基的杂环化合物；N-乙烯基羧酸酰胺类等。

另外，作为共聚性单体，可列举出例如N-环己基马来酰亚胺、N-异丙基马来酰亚胺、N-月桂基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺等马来酰亚胺系单体；例如N-甲基衣康酰亚胺、N-乙基衣康酰亚胺、N-丁基衣康酰亚胺、N-辛基衣康酰亚胺、N-2-乙基己基衣康酰亚胺、N-环己基衣康酰亚胺、N-月桂基衣康酰亚胺等衣康酰亚胺系单体；例如N-（甲基）丙烯酰氧基亚甲基琥珀酰亚胺、N-（甲基）丙烯酰基-6-氧六亚甲基琥珀酰亚胺、N-（甲基）丙烯酰基-8-氧八亚甲基琥珀酰亚胺等琥珀酰亚胺系单体；例如苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-（甲基）丙烯酰胺-2-甲基丙烷磺酸、（甲基）丙烯酰胺丙烷磺酸、（甲基）丙烯酸磺酸丙酯、（甲基）丙烯酰氧基萘磺酸等含磺酸基的单体。

另外，作为共聚性单体，可列举出含磷酸基的单体。作为含磷酸基的单体，可列举出例如具有由下述通式（1）表示的磷酸基或其盐的含磷酸基单体：

[化学式1]

（通式（1）中，R¹表示氢原子或甲基，R²表示碳数1~4的亚烷基，m表示2以上的整数，M¹和M²分别独立地表示氢原子或阳离子。）。

此外，通式（1）中，m为2以上，优选为4以上，且通常为40以下，m表示氧亚烷基的聚合度。另外，作为聚氧亚烷基，可列举出例如聚氧亚乙基、聚氧亚丙基等，这些聚氧亚烷基可以是它们的无规、嵌段或接枝单元等。另外，磷酸基的盐的阳离子没有特别限定，可列举出例如钠、钾等碱金属、例如钙、镁等碱土类金属等无机阳离子、例如季铵类等有机阳离子等。

另外，作为共聚性单体，可列举出例如（甲基）丙烯酸聚乙二醇、（甲基）丙烯酸聚丙二醇、（甲基）丙烯酸甲氧基聚乙二醇、（甲基）丙烯酸甲氧基聚丙二醇等二醇系丙烯酸酯单体；此外例如（甲基）丙烯酸四氢糠酯、氟代（甲基）丙烯酸酯等含杂环、卤素原子的丙烯酸酯系单体等。

进而，作为共聚性单体，可列举出有机硅系不饱和单体。在有机硅系不饱和单体中，包括有机硅系（甲基）丙烯酸酯单体、有机硅系乙烯基单体等。作为有机硅系（甲基）丙烯酸酯单体，可列举出例如（甲基）丙烯酰氧甲基-三甲氧基硅烷、（甲基）丙烯酰氧甲基-三乙氧基硅烷、2-（甲基）丙烯酰氧乙基-三甲氧基硅烷、2-（甲基）丙烯酰氧乙基-三乙氧基硅烷、3-（甲基）丙烯酰氧丙基-三甲氧基硅烷、3-（甲基）丙烯酰氧丙基-三乙氧基硅烷、3-（甲基）丙烯酰氧丙基-三丙氧基硅烷、3-（甲基）丙烯酰氧丙基-三异丙氧基硅烷、3-（甲基）丙烯酰氧丙基-三丁氧基硅烷等（甲基）丙烯酰氧烷基-三烷氧基硅烷；例如（甲基）丙烯酰氧甲基-甲基二甲氧基硅烷、（甲基）丙烯酰氧甲基-甲基二乙氧基硅烷、2-（甲基）丙烯酰氧乙基-甲基二甲氧基硅烷、2-（甲基）丙烯酰氧乙基-甲基二乙氧基硅烷、3-（甲基）丙烯酰氧丙基-甲基二甲氧基硅烷、3-（甲基）丙烯酰氧丙基-甲基二乙氧基硅烷、3-（甲基）丙烯酰氧丙基-甲基二丙氧基硅烷、3-（甲基）丙烯酰氧丙基-甲基二异丙氧基硅烷、3-（甲基）丙烯酰氧丙基-甲基二丁氧基硅烷、3-（甲基）丙烯酰氧丙基-乙基二甲氧基硅烷、3-（甲基）丙烯酰氧丙基-乙基二乙氧基硅烷、3-（甲基）丙烯酰氧丙基-乙基二丙氧基硅烷、3-（甲基）丙烯酰氧丙基-乙基二异丙氧基硅烷、3-（甲基）丙烯酰氧丙基-乙基二丁氧基硅烷、3-（甲基）丙烯酰氧丙基-丙基二甲氧基硅烷、3-（甲基）丙烯酰氧丙基-丙基二乙氧基硅烷等（甲基）丙烯酰氧烷基-烷基二烷氧基硅烷、与它们对应的（甲基）丙烯酰氧烷基-二烷基（单）烷氧基硅烷等。另外，作为有机硅系乙烯基单体，可列举出例如乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三丙氧基硅烷、乙烯基三异丙氧基硅烷、乙烯基三丁氧基硅烷等乙烯基三烷氧基硅烷，此外与它们对应的乙烯基烷基二烷氧基硅烷、乙烯基二烷基烷氧基硅烷、例如乙烯基甲基三甲氧基硅烷、乙烯基甲基三乙氧基硅烷、β-乙烯基乙基三甲氧基硅烷、β-乙烯基乙基三乙氧基硅烷、γ-乙烯基丙基三甲氧基硅烷、γ-乙烯基丙基三乙氧基硅烷、γ-乙烯基丙基三丙氧基硅烷、γ-乙烯基丙基三异丙氧基硅烷、γ-乙烯基丙基三丁氧基硅烷等乙烯基烷基三烷氧基硅烷、此外与它们对应的（乙烯基烷基）烷基二烷氧基硅烷、（乙烯基烷基）二烷基（单）烷氧基硅烷等。

进而，作为共聚性单体，为了调节水分散型粘合剂的凝胶率，可以使用多官能性单体。作为多官能单体，可列举出具有2个以上（甲基）丙烯酰基、乙烯基等不饱和双键的化合物等。可列举出例如乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、二乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、三乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、四乙二醇二（甲基）丙烯酸酯等（单或多）乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、丙二醇二（甲基）丙烯酸酯等（单或多）丙二醇二（甲基）丙烯酸酯等（单或多）烷基二醇二（甲基）丙烯酸酯、此外新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、1,6-己二醇二（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇二（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯等（甲基）丙烯酸与多元醇的酯化物；二乙烯基苯等多官能乙烯基化合物；（甲基）丙烯酸烯丙酯、（甲基）丙烯酸乙烯酯等具有反应性的不饱和双键的化合物等。另外，作为多官能性单体，还可以使用在聚酯、环氧、氨基甲酸酯等骨架上加成有2个以上作为与单体成分相同的官能团的（甲基）丙烯酰基、乙烯基等不饱和双键的聚酯（甲基）丙烯酸酯、环氧（甲基）丙烯酸酯、氨基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯等。

在这些共聚单体中，从水分散液（乳液等）的稳定化、确保由该水分散液形成的粘合剂层与作为被粘物的玻璃面板的密合性的观点出发，丙烯酸等含羧基的单体、含磷酸基的单体、有机硅系不饱和单体是优选使用的。

（甲基）丙烯酸系聚合物以（甲基）丙烯酸烷基酯为主要成分，其配混比率相对于单体成分总量为50重量%以上，优选为60重量%以上，进一步优选为70重量%以上。另外，其上限没有特别限定，例如为100重量%，优选为99重量%，进一步优选为98重量%。（甲基）丙烯酸烷基酯的配混比率小于50重量%时，有时粘合剂层的粘接力等粘合特性会降低。

另外，共聚性单体的配混比率相对于单体成分总量例如为小于50重量%，优选为小于40重量%，进一步优选为小于30重量%。共聚性单体可以与各共聚性单体的种类相应来适当地选择配混比率。例如，共聚性单体为含羧基的单体的情况下，其比率相对于单体成分总量为0.1~6重量%是优选的，含磷酸基的单体的情况下其比率为0.5~5重量%是优选的，有机硅系不饱和单体的情况下其比率为0.005~0.2重量%是优选的。

前述单体成分的乳液聚合可以通过常用方法使单体成分在水中乳化后进行乳液聚合，由此进行。由此制备（甲基）丙烯酸系聚合物水分散液。在乳液聚合中，例如，与上述的单体成分一起，在水中适当地配混乳化剂、自由基聚合引发剂、根据需要的链转移剂等。更具体而言，可以采用例如一并投料法（一并聚合法）、单体滴加法、单体乳液滴加法等公知的乳液聚合法。此外，在单体滴加法中，可适当地选择连续滴加或分步滴加。可以适当地组合这些方法。可适当地选择反应条件等，聚合温度例如为0~150℃左右，聚合时间为2~15小时左右。

作为乳化剂，没有特别限定，可使用在乳液聚合中通常所使用的各种的乳化剂。可列举出例如月桂基硫酸钠、月桂基硫酸铵、十二烷基苯磺酸钠、月桂基聚氧乙烯醚硫酸钠、烷基聚氧乙烯醚硫酸钠、烷基苯基聚氧乙烯醚硫酸铵、烷基苯基聚氧乙烯醚硫酸钠、烷基聚氧乙烯醚磺基琥珀酸钠等阴离子系乳化剂；例如、聚氧亚乙基烷基醚、聚氧亚乙基烷基苯基醚、聚氧亚乙基脂肪酸酯、聚环氧乙烷聚环氧丙烷嵌段聚合物等非离子系乳化剂等。另外，可列举出在这些阴离子系乳化剂、非离子系乳化剂中导入了丙烯基和/或烯丙基醚基等自由基聚合性官能团（自由基反应性基）的自由基聚合性乳化剂等。这些乳化剂可以适当地单独使用或组合使用。在这些乳化剂中，从水分散液（乳液）的稳定性、粘合剂层的耐久性的观点出发，优选使用具有自由基聚合性官能团的自由基聚合性乳化剂。

前述乳化剂的配混比例相对于以前述（甲基）丙烯酸烷基酯为主要成分的单体成分100重量份，例如为0.1~5重量份左右，优选为0.4~3重量份。乳化剂的配混比例为该范围时，能够谋求提高耐水性、粘合特性、以及聚合稳定性、机械稳定性等。

作为自由基聚合引发剂没有特别限定，可使用乳液聚合中通常使用的公知的自由基聚合引发剂。可列举出例如2,2′-偶氮二异丁腈、2,2′-偶氮二(2-甲基丙脒)二硫酸盐、2,2′-偶氮二(2-甲基丙脒）二盐酸盐、2,2′-偶氮二(2-脒基丙烷)二盐酸盐、2,2'-偶氮二[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二盐酸盐等偶氮系引发剂；例如过硫酸钾、过硫酸铵等过硫酸盐系引发剂；例如过氧化苯甲酰、叔丁基过氧化氢、过氧化氢等过氧化物系引发剂；例如苯基取代乙烷等取代乙烷系引发剂；例如芳香族羰基化合物等羰基系引发剂等。这些聚合引发剂可以适当地单独使用或组合使用。另外，自由基聚合引发剂的配混比例可适当地选择，相对于100重量份单体成分，例如为0.02~0.5重量份左右，优选为0.08~0.3重量份。小于0.02重量份时，作为自由基聚合引发剂的效果有时会降低，超过0.5重量份时，有时水分散型的（甲基）丙烯酸系聚合物的分子量降低，水分散型粘合剂的粘合性降低。

链转移剂为根据需要调节水分散型的（甲基）丙烯酸系聚合物的分子量的物质，通常可使用乳液聚合中通常使用的链转移剂。可列举出例如1-十二烷硫醇、巯基醋酸、2-巯基乙醇、巯基乙酸2-乙基己酯、2,3-二巯基-1-丙醇、巯基丙酸酯类等硫醇类等。这些链转移剂可以适当地单独使用或组合使用。另外，链转移剂的配混比例相对于100重量份单体成分例如为0.001~0.3重量份。

通过这样的乳液聚合，能够以水分散液（乳液）的形式制备水分散型的（甲基）丙烯酸系聚合物。这样的水分散型的（甲基）丙烯酸系聚合物其平均粒径例如调节为0.05~3μm，优选调节为0.05~1μm。平均粒径小于0.05μm时，有时水分散型粘合剂的粘度会上升，大于1μm时，有时颗粒间的融合性降低、内聚力降低。

另外，为了保持前述水分散液的分散稳定性，前述水分散液的（甲基）丙烯酸系聚合物在含有含羧基的单体等作为共聚性单体的情况下，中和该含羧基的单体等是优选的。中和可以通过例如氨、碱金属氢氧化物等进行。

本发明的水分散型的（甲基）丙烯酸系聚合物通常重均分子量为100万以上是优选的。尤其按重均分子量计为100万~400万的物质，从耐热性、耐湿性的观点出发优选。重均分子量小于100万时，耐热性、耐湿性降低，不优选。另外通过乳液聚合得到的粘合剂根据其聚合机理会成为分子量非常高的分子量，故优选。然而，通过乳液聚合得到的粘合剂一般凝胶成分多，无法用GPC（凝胶渗透色谱）测定，因此大多情况下难以支持分子量相关的实际测定。

本发明的水分散型粘合剂可以在上述的基础聚合物的基础上含有交联剂。作为水分散型粘合剂为水分散型丙烯酸系粘合剂的情况下所使用的交联剂，可以使用异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂、噁唑啉系交联剂、氮丙啶系交联剂、碳二亚胺系交联剂、金属螯合物系交联剂等通常使用的交联剂。这些交联剂具有通过使用含官能团的单体与导入到聚合物中的官能团反应而交联的效果。

基础聚合物与交联剂的配混比例没有特别限定，通常相对于100重量份基础聚合物（固体成分）以交联剂（固体成分）为约10重量份以下的比例进行配混。前述交联剂的配混比例为0.001~10重量份是优选的，进一步为0.01~5重量份左右是优选的。

进而，在本发明的水分散型粘合剂中，根据需要且还在不脱离本发明的目的的范围内可以适当地使用粘度调节剂、剥离调节剂、赋粘剂、增塑剂、软化剂、玻璃纤维、玻璃珠、金属粉、其他无机粉末等形成的填充剂、颜料、着色剂（颜料、染料等）、pH调节剂（酸或碱基）、抗氧化剂、紫外线吸收剂、硅烷偶联剂等各种添加剂。另外可以作为含有微粒而显示光漫射性的粘合剂层等。这些添加剂也可以作为乳液配混。

本发明的光学薄膜用粘合剂层通过上述水分散型粘合剂形成。粘合剂层的形成可以通过在支持基材（光学薄膜或脱模薄膜）上涂布上述水分散型粘合剂后进行干燥，由此形成。本发明的光学薄膜用粘合剂为这样形成的粘合剂层，粘合剂层中的残留单体量控制在5~100ppm。

本发明的粘合剂型光学薄膜为在光学薄膜的单面或双面层叠有前述粘合剂层的光学薄膜。本发明的粘合型光学薄膜可以通过例如制法（A）或者制法（B）的方法制造，其中，

制法（A）：实施下述工序的方法，

工序（1），将水分散型粘合剂涂布在光学薄膜的单面或双面，所述水分散型粘合剂由在水中至少分散含有基础聚合物的水分散液形成、并且相对于该水分散液的固体成分1g含有1500~25000ppm的残留单体；和，

工序（2A），将涂布的水分散型粘合剂在80~170℃的干燥温度下进行干燥，使得粘合剂层中的残留单体量相对于粘合剂层的固体成分1g为5~100ppm，形成粘合剂层，

制法（B）：实施下述工序的方法，

工序（1），将水分散型粘合剂涂布在脱模薄膜的单面或双面，所述水分散型粘合剂由在水中至少分散含有基础聚合物的水分散液形成、并且相对于该水分散液的固体成分1g含有1500~25000ppm的残留单体；

工序（2B），将涂布的水分散型粘合剂在80~170℃的干燥温度下进行干燥，使得粘合剂层中的残留单体量相对于粘合剂层的固体成分1g为5~100ppm，形成粘合剂层；和

工序（3），将形成于脱模薄膜上的粘合剂层贴合到光学薄膜上。

在前述涂布工序（1）中，将上述水分散型粘合剂中的残留单体量调节至规定量是优选的。通过将涂布工序（1）中使用的水分散型粘合剂中的残留单体量控制在前述范围，会确保干燥时的制膜性，均匀性良好，能够形成高强度的皮膜，所得粘合剂层的耐久性变得良好。水分散型粘合剂（涂覆液）中的残留单体的作用效果尚不清楚，但认为可能是在粘合剂层的形成工序（2A）或（2B）中，在水分的干燥阶段由于比水挥发慢的单体的作用，促进了基于水分散型粘合剂的涂膜的制膜性。水分散型粘合剂中的残留单体量小于1500ppm时，制膜性变得不充分，从耐久性的观点出发不优选。另一方面，前述残留单体量超过25000ppm时，在粘合剂层的形成工序（2A）或（2B）中，使粘合剂层中的残留单体量干燥至100ppm以下变得困难。

另外，使上述涂布工序（1）中使用的水分散型粘合剂中含有上述规定量以上的残留单体，从防止在水分散型粘合剂的保存时的腐败的方面出发也是优选的。水分散型粘合剂中的残留单体量少的情况下，在保存时易于产生腐败，有时会损坏具有涂布其而形成的粘合剂层的粘合型光学薄膜的外观。关于所述腐败，作为水分散液（乳液）的特有的问题而被认知，认为主要是通过来自环境中（各种的土壤菌）、人的菌、细菌的混入而引起的。关于腐败，一部分能够通过添加防腐剂这样的化学试剂来抑制，但在粘合型光学薄膜中添加化学试剂引起耐久性的劣化的情况较多，其适用是困难的。在本发明中，在供于涂布工序（1）的水分散型粘合剂（水分散液）中，使其以适当的比例含有残留单体，由此会抑制水分散型粘合剂（水分散液）的腐败，从而能够确保保存稳定性，进而有助于提高粘合剂层的耐久性。

从上述观点出发，在上述涂布工序（1）中使用的水分散型粘合剂中的残留单体量更优选为5000~25000ppm的范围，进一步优选为7000~25000ppm的范围，进一步优选为10000~25000ppm的范围。

在上述涂布工序（1)中使用的水分散型粘合剂中的残留单体量的调节例如可以通过在聚合而制备基础聚合物之时调节聚合终点来进行。例如通过上述乳液聚合制备水分散型的（甲基）丙烯酸系聚合物作为水分散液（乳液）的情况下，通过控制聚合时间和温度，能够将水分散型粘合剂中的残留单体量调节至前述范围。详细而言，可以在与使用的聚合引发剂的种类与聚合温度、以及与聚合时间的关系中调节。例如，在使用自由基聚合引发剂的情况下，求出各引发剂的10小时半衰期温度，可以在该温度与实际的聚合温度的关系中控制聚合度（聚合循环率）。另外，水分散型粘合剂中的残留单体的调节可以如前述的专利文献3所述那样，添加促进聚合反应的氧化还原系的添加剂来调节残留单体量。然而，本发明的水分散液中的残留单体量与用于得到通常的水分散型粘合剂的聚合条件相比，调节至非常大量的残留单体量的点上是重要的。此外，水分散型粘合剂在较高基础下具有适度的粘度，因此可以将聚合后得到的水分散液直接用于涂布工序（1）。

此外，水分散型粘合剂中的残留单体量是指相对于水分散型粘合剂的水分散液中的固体成分1g的残留单体的量。此外，水分散型粘合剂的水分散液中的残留单体量的定量通过与粘合剂层中的残留单体量的定量同样的方法测定。

在上述涂布工序（1）中，可使用各种方法。具体而言，可列举出例如辊式涂布、辊舐涂布、凹版涂布、逆转式涂布、辊刷法、喷涂、浸渍辊涂布、棒涂布、刮刀涂布、气刀涂布、帘式涂布、唇口涂布、基于模涂布等的挤出涂布法等方法。此外，在制法（A）中在光学薄膜上、在制法（B）中在脱模薄膜上实施涂布工序（1）。

另外，在涂布工序（1）中，以所形成的粘合剂层成为规定的厚度（干燥后厚度）的方式控制其涂布量。粘合剂层的厚度（干燥后厚度）通常设定在1~100μm左右，优选设定在5~50μm，进一步优选设定在10~40μm的范围。

接着，实施制法（A）、（B）中的粘合剂层的形成工序（2A）、（2B）。形成工序（2A）、（2B）中，对所涂布的水分散型粘合剂，在80~170℃的干燥温度下实施干燥。干燥温度在本发明中成为将粘合剂层中的残留单体量控制在上述规定范围的特别重要的控制因子。因此，在粘合剂层的形成工序（2A）、（2B）中，为了有效地挥发水分散型粘合剂中的水、残留单体，设定成前述干燥温度是优选的。

干燥温度小于80℃时，在粘合剂层中，水分、残留单体、中和等中使用的氨成分容易残留，其结果，粘合剂层的涂膜的强度变得不充分，难以确保耐久性。另一方面，干燥温度超过170℃时，残留单体的干燥速度过快，因此在干燥过程中的基于残留单体的制膜促进变得不充分，难以得到足够强度的粘合剂层。另外，由于残留的自由基聚合引发剂的影响等产生着色、或者为光学薄膜、脱模薄膜带来热损伤。（例如，在薄膜系脱模薄膜中产生寡聚物的析出等）。前述干燥温度优选为100~140℃。另外，也可以将干燥工序分为不同温度条件的多个工序来进行。例如，为了有效地挥发水分、残留单体，设定至少2个不同的干燥温度也是理想的。在本发明中，还可举出以下方式：由在上述工序中将规定的残留单体量的水分散型粘合剂干燥后的残留单体量，可间接地判断粘合剂层的涂膜的状态。

伴随前述干燥温度的干燥时间可以根据所使用的干燥设备来适当地设定，在简易地使用的热风循环式烤箱等中，10分钟以上的较长时间是理想的。另一方面，在作为生产设备而使用的涂覆设备的烤箱中，由于良好地设计了干燥能力、导热性，因此可以用数分钟左右的较短时间得到本发明的粘合型光学薄膜。此外，如果干燥时间过长，则会成为粘合剂层的氧化劣化、着色的原因，因此干燥时间为60分钟以下是优选的。

另外，与干燥温度和干燥时间相关的干燥条件可以根据干燥设备而适当地设定，

在热风循环式烤箱中，优选设定为例如：

干燥温度为80~不足120℃时为20~60分钟，

干燥温度为120~不足140℃时为10~30分钟，

干燥温度为140~170℃时为10~15分钟；

在涂覆设备的烤箱中，优选设定为例如：

干燥温度在80~不足120℃时为5~20分钟，

干燥温度在120~不足140℃时为2~10分钟，

干燥温度在140~170℃时为1~5分钟。

在制法（A）中，通过上述粘合剂层的形成工序（2A）直接在光学薄膜上形成粘合剂层，得到粘合型光学薄膜。另一方面，在制法（B）中，通过上述粘合剂层的形成工序（2B）在脱模薄膜上形成粘合剂层，接着，通过将该粘合剂层贴合到光学薄膜的工序（3），将该粘合剂层转印到光学薄膜上，得到粘合型光学薄膜。

作为脱模薄膜的构成材料，可列举出例如聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酯薄膜等塑料薄膜、纸、布、无纺布等多孔质材料、网、发泡片、金属箔、以及它们的层压体等合适的薄片体等，从表面平滑性优异的观点出发，塑料薄膜是适宜使用的。

作为该塑料薄膜，只要是可保护前述粘合剂层的薄膜就没有特别限定，可列举出例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯薄膜、聚氨酯薄膜、乙烯-醋酸乙酯共聚物薄膜等。

前述脱模薄膜的厚度通常为5~200μm，优选为5~100μm左右。对于前述脱模薄膜，根据需要还可以进行基于有机硅系、氟系、长链烷基系或者脂肪酸酰胺系脱模剂、硅石粉等的脱模和防污处理；涂布型、混炼型、蒸镀型等的抗静电处理。尤其，通过对前述脱模薄膜的表面适当地进行有机硅处理、长链烷基处理、氟处理等剥离处理，能够进一步提高从前述粘合剂层的剥离性。

前述粘合剂层露出的情况下，可以用脱模薄膜保护粘合剂层到供实际使用为止。此外，上述的剥离薄膜可以直接作为粘合型光学薄膜的隔离膜使用，能够在工序方面进行简化。

另外，在光学薄膜的表面为了提高与粘合剂层之间的密合性，可以形成锚固层，或者可以在实施电晕处理、等离子体处理等各种易粘接处理后形成粘合剂层。另外，可以在粘合剂层的表面进行易粘接处理。

作为上述锚固层的形成材料，优选的是，使用从聚氨酯、聚酯、在分子中含氨基的聚合物类、含噁唑啉基的聚合物类中选出的锚固剂，特别优选的是，在分子中含氨基的聚合物类、含噁唑啉基的聚合物类。在分子中含氨基的聚合物类、含噁唑啉基的聚合物类由于分子中的氨基、噁唑啉基显示与粘合剂中的羧基等的反应或离子性相互作用等相互作用，因此会确保良好的密合性。

作为在分子中含氨基的聚合物类，可列举出例如聚乙烯亚胺、聚烯丙基胺、聚乙烯基胺、聚乙烯基吡啶、聚乙烯基吡咯烷、二甲基氨基乙基丙烯酸酯等含氨基单体的聚合物等。

作为光学薄膜，可以使用液晶显示装置等图像显示装置的形成所使用的光学薄膜，其种类没有特别限定。例如作为光学薄膜可列举出偏光板。偏光板一般使用在偏振片的单面或双面具有透明保护薄膜的偏光板。

偏振片没有特别限定，可以使用各种偏振片。作为偏振片，可列举出例如在聚乙烯醇系薄膜、部分甲缩醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等亲水性高分子薄膜中吸附碘、二色性染料的二色性物质并进行单轴拉伸而得到的薄膜、聚乙烯醇的脱水处理物和/或聚氯乙烯的脱盐酸处理物等多烯系取向薄膜等。在它们当中，由聚乙烯醇系薄膜和碘等二色性物质形成的偏振片是适宜的。这些偏振片的厚度没有特别限定，一般为5~80μm左右。

对于将聚乙烯醇系薄膜用碘进行染色并单轴拉伸而得到的偏振片而言，例如可以通过将聚乙烯醇浸渍至碘的水溶液中来染色，拉伸为原长的3~7倍，由此制成。根据需要可以在含有硼酸或硫酸锌、氯化锌等也可的碘化钾等水溶液中浸渍。进而根据需要可以在染色前在水中浸渍聚乙烯醇系薄膜来水洗。通过水洗聚乙烯醇系薄膜，不仅能够洗涤聚乙烯醇系薄膜表面的污垢、防粘连剂，而且还具有防止由聚乙烯醇系薄膜溶胀而导致的染色不均等不均匀的效果。拉伸可在用碘染色后进行，也可以边染色边拉伸，另外可以在拉伸后用碘染色。还可以在硼酸或碘化钾等的水溶液、水浴中拉伸。

作为构成透明保护薄膜的材料，例如可以使用透明性、机械强度、热稳定性、水分阻隔性、各向同性等优异的热塑性树脂。作为这样的热塑性树脂的具体例子，可列举出三醋酸纤维素酯等纤维素树脂、聚酯树脂、聚醚砜树脂、聚砜树脂、聚碳酸酯树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚烯烃树脂、（甲基）丙烯酸类树脂、环状聚烯烃树脂（降冰片烯系树脂）、聚芳酯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯醇树脂、以及它们的混合物。此外，在偏振片的单侧，透明保护薄膜通过粘接剂层贴合，而在另一单侧，可以使用（甲基）丙烯酸系、聚氨酯系、丙烯酸聚氨酯系、环氧系、有机硅系等热固性树脂或紫外线固化型树脂作为透明保护薄膜。在透明保护薄膜中可以含有1种以上任意的恰当的添加剂。作为添加剂，可列举出例如紫外线吸收剂、抗氧化剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、防着色剂、阻燃剂、成核剂、抗静电剂、颜料、着色剂等。透明保护薄膜中的上述热塑性树脂的含量优选为50~100重量%，更优选为50~99重量%，进一步优选为60~98重量%，特别优选为70~97重量%。透明保护薄膜中的上述热塑性树脂的含量为50重量%以下的情况下，有热塑性树脂无法充分展现本来具有的高透明性等担心。

另外作为光学薄膜，例如可列举出反射板、反透射板、相位差板（包括1/2、1/4等波长板）、视觉补偿薄膜、亮度提高薄膜等用于液晶显示装置等的形成的成为光学层的薄膜。它们可以单独作为光学薄膜使用，另外也可以在前述偏光板上在实际使用时层叠使用1层或2层以上。

在偏光板上层叠有前述光学层的光学薄膜可以按在液晶显示装置等的制造过程中依次个别地层叠的方式形成，但预先层叠形成光学薄膜的情况，具有品质的稳定性、组装作业等优异，可改善液晶显示装置等的制造工序的优点。层叠时可使用粘合层等的合适的粘接方式。在前述的偏光板与其他光学层的粘接之时，它们的光学轴可以与作为目标的相位差特性等相应形成恰当的配置角度。

本发明的粘合型光学薄膜可以在液晶显示装置等各种图像显示装置的形成等中优选使用。液晶显示装置的形成可依照现有技术进行。即，液晶显示装置通常通过适当地组装液晶单元等显示面板和粘合型光学薄膜、以及根据需要的照明系统等构成部件并安装驱动电路等来形成，在本发明中除了使用基于本发明的粘合型光学薄膜这点之外，没有特别限定，可依据现有技术。关于液晶单元，可使用例如TN型、STN型、π型、VA型、IPS型等任意类型的液晶单元。

可以形成在液晶单元等显示面板的单侧或双侧配置有粘合型光学薄膜的液晶显示装置、在照明系统中使用了背光或者反射板的装置等合适的液晶显示装置。该情况下，基于本发明的光学薄膜可以设置在液晶单元等显示面板的单侧或双侧。在双侧设置光学薄膜的情况下，它们可以是相同的，也可以是不同的。进而，在形成液晶显示装置之时，可以在合适的位置配置1层或2层以上例如漫射板、防炫目层、防反射膜、保护板、棱镜阵列、透镜阵列片、光漫射板、背光等合适的部件。

实施例

以下通过实施例具体说明本发明，但本发明不受这些实施例的限定。此外，各例中的份和%均为重量基准。

＜残留单体量的定量法＞

相对于各例的水分散液的水分散型丙烯酸系粘合剂（乳液）的固体成分1g的残留单体量通过气相色谱和液相色谱进行。在含有高沸点的单体（沸点250℃以上）的情况下，液相色谱和顶空气相色谱的测定值的和成为残留单体量。另外，对于相对于粘合剂层的固体成分1g的残留单体量，也通过与上述同样的分析方法定量。此外，在各例中，磷酸酯系单体、反应性乳化剂相当于高沸点的单体。

《气相色谱》

在约0.2g试样中添加10ml醋酸乙酯后，在室温（23℃）下放置3天，萃取粘合剂（或粘合剂层）中的单体。将1μL该萃取液注入气相色谱（Agilent Technologies公司制造，7890A）进行分析。

测定条件为：

柱：HP-1

柱温度：40℃（1分钟）→5℃/分钟（上升）→60℃→10℃/分钟（上升）→140℃→20℃/分钟（上升）→300℃（5分钟）

检测器：FID

《液相色谱》

在约0.1g试样中添加10ml醋酸乙酯后，在室温（23℃）下放置3天，萃取粘合剂（或粘合剂层）中的单体，进而加入40ml乙腈而得到溶液。将10μL该溶液注入液相色谱（东曹株式会社制造，CCPM/UV8000）进行分析。

测定条件为：

柱：Intersil ODS-3

柱温度：40℃

检测器：UV

＜平均粒径＞

各例的水分散液的水分散型丙烯酸系粘合剂（乳液）中的（甲基）丙烯酸系聚合物的平均粒径通过Beckman Coulter公司制造的LS13320进行测定。

实施例1

（水分散型丙烯酸系粘合剂的制备）

在容器中作为原料加入1000份丙烯酸丁酯、50份丙烯酸、30份单[聚(氧亚丙基)甲基丙烯酸酯]磷酸酯（氧亚丙基的平均聚合度5.0）、以及0.1份3-甲基丙烯酰氧基丙基-三乙氧基硅烷等（信越化学工业株式会社制造，KBM-503）并混合，得到单体混合物。接着，相对于按上述比例制备的单体混合物600份，加入13份作为反应性乳化剂的AQUARON HS-10（第一工业制药株式会社制造）、360份离子交换水，使用均质混合器（特殊机化工业株式会社制造），以7000rpm搅拌3分钟，制备单体乳液。

接着，在具备冷凝管、氮气导入管、温度计、滴液漏斗和搅拌叶片的反应容器中，投入通过上述制备而得到的单体乳液中的200份以及350份离子交换水，接着，将反应容器用氮气充分置换后，添加0.1份过硫酸铵，在60℃下进行1小时聚合（初始聚合）。接着，经3小时向反应容器中滴加剩余的单体乳液，然后，聚合3小时（中间聚合）。进而其后，边进行氮气置换边在65℃下聚合5小时（最终聚合），得到固体成分浓度45%的水分散型丙烯酸系粘合剂（乳液）。接着，将上述水分散型丙烯酸系粘合剂冷却至室温，然后向其中添加30份浓度10%的氨水，进而加入蒸馏水，调节至固体成分39%。该水分散型丙烯酸系粘合剂的残留单体量为10300ppm。水分散型丙烯酸系粘合剂（乳液）中的（甲基）丙烯酸系聚合物的平均粒径为0.085μm。

（粘合剂层的形成以及粘合型偏光板的制成）

在脱模薄膜（三菱化学聚酯株式会社制造，DiafoilMRF-38，聚对苯二甲酸乙二醇酯基材）上通过涂布机（applicator）涂布上述水分散型丙烯酸系粘合剂，使得干燥后的厚度为25μm，然后通过热风循环式烤箱在120℃下干燥15分钟，形成粘合剂层。将该粘合剂层与偏光板（日东电工株式会社制造，产品名SEG-DU）贴合，制成粘合型偏光板。上述贴合前的粘合剂层的残留单体量为7ppm。

实施例2

（水分散型丙烯酸系粘合剂的制备）

将在实施例1中在制备水分散型丙烯酸系粘合剂（水分散液：乳液）的制备时的最终聚合的条件变更为在65℃下2小时，除此以外，与实施例1同样地进行，制备水分散型丙烯酸系粘合剂。该水分散型丙烯酸系粘合剂的残留单体量为23500ppm。水分散型丙烯酸系粘合剂（乳液）中的（甲基）丙烯酸系聚合物的平均粒径为0.092μm。

（粘合剂层的形成以及粘合型偏光板的制成）

在实施例1中在形成粘合剂层时使用按上述制备的水分散型丙烯酸系粘合剂，将热风循环式烤箱的干燥条件变更为在140℃下15分钟，除此以外，与实施例1同样地进行，形成粘合剂层。另外，与实施例1同样地进行，制成粘合型偏光板。上述贴合前的粘合剂层的残留单体量为28ppm。

实施例3

（水分散型丙烯酸系粘合剂的制备）

将在实施例1中在制备水分散型丙烯酸系粘合剂（水分散液：乳液）时的最终聚合的条件变更为在75℃下5小时，除此以外，与实施例1同样地进行，制备水分散型丙烯酸系粘合剂。该水分散型丙烯酸系粘合剂的残留单体量为5100ppm。水分散型丙烯酸系粘合剂（乳液）中的（甲基）丙烯酸系聚合物的平均粒径为0.088μm。

（粘合剂层的形成以及粘合型偏光板的制成）

在实施例1中在形成粘合剂层时使用按上述制备的水分散型丙烯酸系粘合剂，将热风循环式烤箱的干燥条件变更为在100℃下30分钟，除此以外，与实施例1同样地进行，形成粘合剂层。另外，与实施例1同样地进行，制成粘合型偏光板。上述贴合前的粘合剂层的残留单体量为48ppm。

实施例4

（粘合剂层的形成以及粘合型偏光板的制成）

在实施例1中在形成粘合剂层时作为水分散型丙烯酸系粘合剂使用按上述实施例3制备的水分散型丙烯酸系粘合剂，将热风循环式烤箱的干燥条件变更为在80℃下40分钟，除此以外，与实施例1同样地进行，形成粘合剂层。另外，与实施例1同样地进行，制成粘合型偏光板。上述贴合前的粘合剂层的残留单体量为80ppm。

实施例5

（粘合剂层的形成以及粘合型偏光板的制成）

在脱模薄膜（三菱化学聚酯株式会社制造，DiafoilMRF-38，聚对苯二甲酸乙二醇酯基材）上通过逗点涂布法连续涂覆实施例1中制备的水分散型丙烯酸系粘合剂，使得干燥后的厚度为25μm，然后通过实验涂覆机烤箱进行连续干燥，形成粘合剂层。基于实验涂覆机烤箱的干燥通过在120℃下1分钟和在130℃下2分钟的2阶段的方式进行。将该粘合剂层与偏光板（日东电工株式会社制造，产品名SEG-DU）贴合，制成粘合型偏光板。上述贴合前的粘合剂层的残留单体量为10ppm。

比较例1

（粘合剂层的形成以及粘合型偏光板的制成）

将在实施例1中在形成粘合剂层时的热风循环式烤箱的干燥条件变更为在100℃下2分钟，除此以外，与实施例1同样地进行，形成粘合剂层。另外，与实施例1同样地进行，制成粘合型偏光板。上述贴合前的粘合剂层的残留单体量为250ppm。

比较例2

（粘合剂层的形成以及粘合型偏光板的制成）

将在实施例1中在形成粘合剂层时的热风循环式烤箱的干燥条件变更为在180℃下10分钟，除此以外，与实施例1同样地进行，形成粘合剂层。另外，与实施例1同样地进行，制成粘合型偏光板。上述贴合前的粘合剂层的残留单体量为2ppm。此外，所得粘合剂层稍带褐色。

比较例3

（水分散型丙烯酸系粘合剂的制备）

在实施例1中，在制备水分散型丙烯酸系粘合剂（水分散液：乳液）时，未进行最终聚合，除此以外，与实施例1同样地进行，制备水分散型丙烯酸系粘合剂。该水分散型丙烯酸系粘合剂的残留单体量为28000ppm。水分散型丙烯酸系粘合剂（乳液）中的（甲基）丙烯酸系聚合物的平均粒径为0.085μm。

（粘合剂层的形成以及粘合型偏光板的制成）

在实施例1中在形成粘合剂层时使用按上述制备的水分散型丙烯酸系粘合剂，将热风循环式烤箱的干燥条件变更为在150℃下3分钟，除此以外，与实施例1同样地进行，形成粘合剂层。另外，与实施例1同样地进行，制成粘合型偏光板。上述贴合前的粘合剂层的残留单体量为120ppm。

比较例4

（水分散型丙烯酸系粘合剂的制备）

相对于在实施例1中通过最终聚合得到的固体成分浓度45%的水分散型丙烯酸系粘合剂（水分散液：乳液）100份（固体成分），加入0.3份30%过氧化氢、0.6份抗坏血酸，在75℃下加热3小时。然后，将该水分散型丙烯酸系粘合剂冷却至室温，然后添加30份浓度10%的氨水，进而加入蒸馏水，调节固体成分到39%。该水分散型丙烯酸系粘合剂的残留单体量为1200ppm。水分散型丙烯酸系粘合剂（乳液）中的（甲基）丙烯酸系聚合物的平均粒径为0.082μm。

（粘合剂层的形成以及粘合型偏光板的制成）

在实施例1中在形成粘合剂层时使用按上述制备的水分散型丙烯酸系粘合剂，将热风循环式烤箱的干燥条件变更为在140℃下15分钟，除此以外，与实施例1同样地进行，形成粘合剂层。另外，与实施例1同样地进行，制成粘合型偏光板。上述贴合前的粘合剂层的残留单体量为4ppm。

对按上述实施例以及比较例得到的粘合型偏光板进行以下评价。评价结果示于表1。

[粘合型光学薄膜的耐久性评价]

将各实施例以及各比较例的粘合型偏光板切开为235mm×310mm的大小，将其粘贴到厚度0.7mm的玻璃板（CORNING ＃ 1737，CORNING公司制造）上，在50℃、0.5MPa的高压釜中放置15分钟。然后，在80℃的气氛下（加热）以及60℃/90%RH的气氛下（加湿）加热500小时，通过使用放大镜的目视观察来确认粘合型偏光板的发泡、剥离的有无。此外，对粘合型偏光板的剥离的有无进行确认，用下述基准判断。

＜加热耐久性＞

4：100μm以上的气泡在1cm²中没有。

3：100μm以上的气泡在1cm²中为1~5个。

2：100μm以上的气泡在1cm²中为6~10个。

1：100μm以上的气泡在1cm²中为11个以上。

＜加湿耐久性＞

4：在粘合型偏光板的端部未产生剥离。

3：在自粘合型偏光板的端部起0.1mm以内的位置产生剥离。

2：在自粘合型偏光板的端部起超过0.1mm且1mm以内的位置产生剥离。

1：在自粘合型偏光板的端部起超过1mm的位置产生剥离。

[聚合液的腐败试验]

将容量900ml的空的蛋黄酱瓶在打开盖子的状态下放置约1周，然后，在其中投入850g各实施例以及各比较例中的水分散型丙烯酸系粘合剂（测定了残留单体量的乳液），盖严。在该状态下，室温下在冷暗的地方放置3个月，从颜色和气味的观点出发按照下述基准判定腐败的有无。

○：在颜色、气味上与初始相比未见差别。

×：在液上部有茶褐色的腐败物悬浮，产生了酸味臭。

[表1]

Claims (7)

1.一种光学薄膜用粘合剂层，其特征在于，

所述粘合剂层是通过在涂布水分散型粘合剂后进行干燥而形成的，所述水分散型粘合剂含有在水中至少分散含有基础聚合物的水分散液，

并且，该粘合剂层中的残留单体量相对于粘合剂层的固体成分1g为5~100ppm。

2.根据权利要求1所述的光学薄膜用粘合剂层，其特征在于，所述水分散型粘合剂中的基础聚合物为（甲基）丙烯酸系聚合物。

3.根据权利要求1或2所述的光学薄膜用粘合剂层，其特征在于，作为所述基础聚合物的（甲基）丙烯酸系聚合物是通过乳液聚合而得到的。

4.一种粘合型光学薄膜，其特征在于，其在光学薄膜的至少单侧层叠有权利要求1~3中的任一项所述的光学薄膜用粘合剂层。

5.一种权利要求4所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，

其具有：

工序（1），将水分散型粘合剂涂布在光学薄膜的单面或双面，所述水分散型粘合剂由在水中至少分散含有基础聚合物的水分散液形成、并且相对于该水分散液的固体成分1g含有1500~25000ppm的残留单体；和

工序（2A），将涂布的水分散型粘合剂在80~170℃的干燥温度下进行干燥，使得粘合剂层中的残留单体量相对于粘合剂层的固体成分1g为5~100ppm，形成粘合剂层。

6.一种权利要求4所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，

其具有：

工序（1），将水分散型粘合剂涂布在脱模薄膜的单面或双面，所述水分散型粘合剂由在水中至少分散含有基础聚合物的水分散液形成、并且相对于该水分散液的固体成分1g含有1500~25000ppm的残留单体；

工序（2B），将涂布的水分散型粘合剂在80~170℃的干燥温度下进行干燥，使得粘合剂层中的残留单体量相对于粘合剂层的固体成分1g为5~100ppm，形成粘合剂层；和

工序（3），将形成于脱模薄膜上的粘合剂层贴合于光学薄膜上。

7.一种图像显示装置，其特征在于，其至少使用了一张权利要求4所述的粘合型光学薄膜。