KR101771758B1 - 광학 필름용 점착제층, 점착형 광학 필름, 그 제조 방법 및 화상 표시 장치 - Google Patents

광학 필름용 점착제층, 점착형 광학 필름, 그 제조 방법 및 화상 표시 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101771758B1
KR101771758B1 KR1020127017593A KR20127017593A KR101771758B1 KR 101771758 B1 KR101771758 B1 KR 101771758B1 KR 1020127017593 A KR1020127017593 A KR 1020127017593A KR 20127017593 A KR20127017593 A KR 20127017593A KR 101771758 B1 KR101771758 B1 KR 101771758B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pressure
sensitive adhesive
adhesive layer
optical film
meth
Prior art date
Application number
KR1020127017593A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20120104591A (ko
Inventor
도시츠구 호소카와
구니히로 이누이
다카아키 이시이
마사유키 사타케
겐이치 오카다
도시타카 다카하시
Original Assignee
닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 닛토덴코 가부시키가이샤 filed Critical 닛토덴코 가부시키가이샤
Publication of KR20120104591A publication Critical patent/KR20120104591A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101771758B1 publication Critical patent/KR101771758B1/ko

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/0074—Production of other optical elements not provided for in B29D11/00009- B29D11/0073
    • B29D11/00788—Producing optical films
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00865—Applying coatings; tinting; colouring
    • B29D11/00894—Applying coatings; tinting; colouring colouring or tinting
    • B29D11/00903—Applying coatings; tinting; colouring colouring or tinting on the surface
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09J133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22—Plastics; Metallised plastics
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38—Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D2520/00—Water-based dispersions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/318—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for the production of liquid crystal displays
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/30—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
    • C09J2301/312—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier parameters being the characterizing feature
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2433/00—Presence of (meth)acrylic polymer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2202/00—Materials and properties
    • G02F2202/28—Adhesive materials or arrangements
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/28—Web or sheet containing structurally defined element or component and having an adhesive outermost layer
    • Y10T428/2852—Adhesive compositions
    • Y10T428/2878—Adhesive compositions including addition polymer from unsaturated monomer
    • Y10T428/2891—Adhesive compositions including addition polymer from unsaturated monomer including addition polymer from alpha-beta unsaturated carboxylic acid [e.g., acrylic acid, methacrylic acid, etc.] Or derivative thereof

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명의 광학 필름용 점착제층은 적어도 베이스 폴리머가 수중에 분산 함유되어 있는 수분산액을 함유하는 수분산형 점착제를 도포한 후, 건조시킴으로써 형성된 것이고, 또한 당해 점착제층 중의 잔존 모노머량이 점착제층의 고형분 1 g 에 대해 5 ∼ 100 ppm 이다. 당해 광학 필름용 점착제층은 고열, 고습도 환경 하에서도 발포, 박리를 억제할 수 있는 고내구성을 갖는다.

Description

광학 필름용 점착제층, 점착형 광학 필름, 그 제조 방법 및 화상 표시 장치 {ADHESIVE LAYER FOR OPTICAL FILM, ADHESIVE OPTICAL FILM, PROCESS FOR PRODUCTION OF THE ADHESIVE OPTICAL FILM, AND IMAGE DISPLAY DEVICE}
본 발명은 수분산형 점착제로 형성된 광학 필름용 점착제층에 관한 것이다. 또 본 발명은 당해 점착제층을 광학 필름 상에 갖는 점착형 광학 필름 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 나아가서는, 본 발명은 상기 점착형 광학 필름을 사용한 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, PDP 등의 화상 표시 장치에 관한 것이다. 상기 광학 필름으로는, 편광판, 위상차판, 광학 보상 필름, 휘도 향상 필름, 나아가서는 이들이 적층되어 있는 것을 사용할 수 있다.
액정 표시 장치 등은 그 화상 형성 방식으로부터 액정 셀의 양측에 편광 소자를 배치하는 것이 필요 불가결하고, 일반적으로는 편광판이 첩착되어 있다. 또 액정 패널에는 편광판 외에, 디스플레이의 표시 품위를 향상시키기 위해서 여러가지 광학 소자가 사용되고 있다. 예를 들어, 착색 방지로서의 위상차 판, 액정 디스플레이의 시야각을 개선하기 위한 시야각 확대 필름, 나아가서는 디스플레이의 콘트라스트를 높이기 위한 휘도 향상 필름 등이 사용된다. 이들 필름은 총칭하여 광학 필름으로 불린다.
상기 광학 필름을 액정 셀에 첩착할 때에는, 통상, 점착제가 사용된다. 또, 광학 필름과 액정 셀, 또는 광학 필름 사이의 접착은, 통상, 광의 손실을 저감시키기 위해, 각각의 재료는 점착제를 사용하여 밀착되어 있다. 이와 같은 경우에, 광학 필름을 고착시키는 데에 건조 공정을 필요로 하지 않는 것 등의 장점을 갖는 점에서, 점착제는 광학 필름의 편측에 미리 점착제층으로서 형성된 점착형 광학 필름이 일반적으로 사용된다.
상기 점착형 광학 필름에 사용하는 광학 필름은 가열이나 가습의 조건 하에서 수축, 팽창되기 쉽기 때문에, 상기 점착형 광학 필름을, 액정 셀에 첩합 (貼合) 한 후에는, 들뜸이나 박리가 발생하기 쉽다. 그 때문에, 상기 점착제층에는, 가열 및 가습 등에 대한 내구성이 요구된다. 또, 상기 점착제층에는, 광학 필름에 점착제층을 형성한 후에, 점착제의 오염이나 결락 등을 일으키지 않고 가공할 수 있는 가공성이 요구된다.
종래부터, 상기 점착형 광학 필름의 점착제층의 형성에 사용하는 점착제로는, 가열 또는 가습열 환경에서 내구성이 우수한 점에서, 유기 용제형 점착제가 주로 사용되어 왔다. 그러나, 최근, 지구 환경 부하의 저감, 작업 안정성의 향상의 관점에서 유기 용제를 사용하지 않는 무용제형 점착제의 개발이 활발하게 이루어지고 있다.
무용제형 점착제로는, 예를 들어, 고분자량 폴리머와 소정량의 모노머를 포함하는 점착제 조성물을 자외선 조사하고, 잔존 모노머를 소정량 이하가 되도록 광 중합하여 점착제층을 형성하는 방법이 제안되어 있다 (특허문헌 1). 또, 무용제형 점착제로는, 분산매로서 물을 이용하여, 수중에 점착제 성분을 분산시킨 수분산형 점착제가 제안되어 있다. 수분산형 점착제로는, 예를 들어, 내습성의 관점에서, 인산기 함유 모노머를 사용한 수분산형의 아크릴계 점착제가 제안되어 있다 (특허문헌 2). 또, 수분산형 점착제로는, 수분산형 아크릴계 폴리머에, 레독스계 개시제를 배합하여, 수분산형 점착제 중의 잔존 모노머량을 저감시키는 방법이 제안되어 있다 (특허문헌 3). 특히, 수분산형 점착제는 생산성, 외관, 커버 세퍼레이터 등의 부자재를 사용하지 않는다는 경제적인 측면에서 실용화가 기대되고 있다.
일본 공개특허공보 2002-241707호 일본 공개특허공보 2007-186661호 일본 공개특허공보 2006-169293호
그러나, 수분산형 점착제를 이용하여 점착제층을 형성한 점착형 광학 필름은, 가열, 가습열 등의 가혹한 환경 하에서, 발포나 박리가 발생한다는 내구성에 문제가 있었다. 특허문헌 3 에 있어서는, 점착제층의 형성에 사용하는 수분산형 점착제의 잔존 모노머를 저하시키고 있는데, 수분산형 점착제의 잔존 모노머를 단순히 저감시키는 것 만으로는, 내구성을 만족할 수 있는, 점착형 광학 필름을 얻는 것은 곤란하였다.
본 발명은, 광학 필름에 적용되는, 수분산형 점착제에 의해 형성된 점착제층으로서, 고열, 고습도 환경 하에서도 발포, 박리를 억제할 수 있는 고내구성을 갖는, 광학 필름용 점착제층을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또, 본 발명은, 광학 필름의 적어도 편측에, 상기 광학 필름용 점착제층이 적층되어 있는 점착형 광학 필름 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한 발명은 상기 점착형 광학 필름을 사용한 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 거듭한 결과, 하기의 광학 필름용 점착제층에 의해 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉 본 발명은, 광학 필름용 점착제층으로서,
상기 점착제층은 적어도 베이스 폴리머가 수중에 분산 함유되어 있는 수분산액을 함유하는 수분산형 점착제를 도포한 후, 건조시킴으로써 형성된 것이고,
또한 당해 점착제층 중의 잔존 모노머량이 점착제층의 고형분 1 g 에 대해 5 ∼ 100 ppm 인 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층에 관한 것이다.
상기 광학 필름용 점착제층에 있어서, 상기 수분산형 점착제에 있어서의 베이스 폴리머로는, (메트)아크릴계 폴리머가 바람직하다. 또, 상기 베이스 폴리머인 (메트)아크릴계 폴리머는 유화 중합에 의해 얻어진 것이 바람직하다.
또 본 발명은, 광학 필름의 적어도 편측에, 상기 광학 필름용 점착제층이 적층되어 있는 것을 특징으로 하는 점착형 광학 필름에 관한 것이다.
또 본 발명은 상기 점착형 광학 필름의 제조 방법으로서,
적어도 베이스 폴리머가 수중에 분산 함유되어 있는 수분산액으로 이루어지고, 또한 당해 수분산액의 고형분 1 g 에 대해 1500 ∼ 25000 ppm 의 잔존 모노머를 함유하는 수분산형 점착제를, 광학 필름의 편면 또는 양면에 도포하는 공정 (1), 및
도포된 수분산형 점착제를, 80 ∼ 170 ℃ 의 건조 온도에서, 점착제층 중의 잔존 모노머량이 점착제층의 고형분 1 g 에 대해 5 ∼ 100 ppm 이 되도록 건조시켜, 점착제층을 형성하는 공정 (2A) 를 갖는 것을 특징으로 하는 점착형 광학 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
또 본 발명은 상기 점착형 광학 필름의 제조 방법으로서,
적어도 베이스 폴리머가 수중에 분산 함유되어 있는 수분산액으로 이루어지고, 또한 당해 수분산액의 고형분 1 g 에 대해 1500 ∼ 25000 ppm 의 잔존 모노머를 함유하는 수분산형 점착제를, 이형 필름의 편면 또는 양면에 도포하는 공정 (1),
도포된 수분산형 점착제를, 80 ∼ 170 ℃ 의 건조 온도에서, 점착제층 중의 잔존 모노머량이, 점착제층의 고형분 1 g 에 대해 5 ∼ 100 ppm 이 되도록 건조시켜, 점착제층을 형성하는 공정 (2B), 및
이형 필름에 형성된 점착제층을 광학 필름에 첩합하는 공정 (3) 을 갖는 것을 특징으로 하는 점착형 광학 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
또 본 발명은 상기 점착형 광학 필름을 적어도 1 장 이용하고 있는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.
본 발명의 광학 필름용 점착제층은 수분산형 점착제에 의해 형성된 점착제층의 잔존 모노머량을, 상기 소정 범위 (5 ∼ 100 ppm) 로 제어함으로써, 고내구성을 만족하고 있고, 점착형 광학 필름에 바람직하게 사용된다. 또, 본 발명의 광학 필름용 점착제층은 외관이 양호하다.
본 발명의 점착형 광학 필름은 도포 전의 수분산형 점착제 중의 잔존 모노머량을, 상기 소정 범위 (1500 ∼ 25000 ppm) 로 제어한 것을 이용하고, 또한 소정 건조 조건 (80 ∼ 170 ℃) 에서 건조시켜 점착제층을 형성함으로써 얻을 수 있다. 이렇게 하여 얻어진 점착형 광학 필름은 더욱 우수한 내구성을 갖는다. 또, 이러한 점착형 광학 필름의 제조 방법에 의하면, 도포 전의 수분산형 점착제 중의 잔존 모노머량이 소정량 이상의 잔존 모노머를 포함하고 있기 때문에, 수분산형 점착제의 보존 안정성이 양호하여, 수분산형 점착제의 부패를 방지할 수 있다.
본 발명의 광학 필름용 점착제층은, 수분산형 점착제를 도포한 후, 건조시킴으로써 형성된 것으로, 당해 점착제층의 잔존 모노머량은 5 ∼ 100 ppm 으로 제어되어 있다.
상기 점착제층 중의 잔존 모노머량이 100 ppm 을 초과하는 경우에는, 잔류 모노머 자체의 영향에 의해, 가열 하에서의 발포나, 가습 하에서의 수분의 흡수가 촉진되어, 점착제층에 발포, 박리 등의 내구성 상의 문제를 발생시킨다. 또, 잔류 모노머량이 많은 경우에는, 점착제층의 도포막 강도가 약해져, 발포, 박리 등의 문제가 발생하기 쉽다. 한편, 상기 점착제층 중의 잔존 모노머량이 5 ppm 보다 적은 경우에는, 점착제층의 형성 공정에 있어서의 건조 공정에 있어서, 열이력을 많이 가할 필요가 있어, 형성되는 점착제층에 데미지가 주어지기 쉬워진다. 또, 원인은 분명하지 않지만, 점착제층 중에, 상기 소정량의 소량의 잔존 모노머를 존재시키는 것이 박리 등에 대해서는 유효하게 작용하고 있다. 상기 점착제층 중의 잔류 모노머량으로서, 바람직하게는 5 ∼ 50 ppm 이고, 특히 바람직하게는 5 ∼ 30 ppm 이다.
또한, 점착제층 중의 잔존 모노머량의 정량화는 실시예에 기재된 가스 크로마토그래피로 실시하였다. 또, 고비등점의 모노머 (비점 250 ℃ 이상) 를 함유하는 경우에는, 아울러, 액체 크로마토그래피를 이용하여 잔존 모노머량의 정량화하였다. 가스 크로마토그래피와 액체 크로마토그래피의 측정값의 합이 잔존 모노머량이 된다.
수분산형 점착제는 적어도 베이스 폴리머가 수중에 분산 함유되어 있는 수분산액이다. 당해 수분산액으로는, 통상은, 계면활성제의 존재 하에 베이스 폴리머가 분산되어 있는 것이 사용되는데, 베이스 폴리머가 수중에 분산 함유되어 있는 것이면, 자기 분산성 베이스 폴리머의 자기 분산에 의해, 수분산액이 되어 있는 것을 사용할 수 있다.
또, 수분산액 중의 베이스 폴리머는 모노머를 유화제의 존재 하에서 유화 중합하거나, 또는 계면활성제의 존재 하에 분산 중합하거나 하여 중합함으로써 얻어진 것을 들 수 있다.
또, 수분산액은 별도로 제조한 베이스 폴리머를, 유화제의 존재 하에 수중에서 유화 분산함으로써 제조할 수 있다. 유화 방법으로는, 폴리머와 유화제를 미리 가열 용융하거나, 또는 가열 용융하지 않고, 그것들과 물을, 예를 들어 가압 니더, 콜로이드 밀, 고속 교반 샤프트 등의 혼합기를 이용하여, 고전단을 가하여 균일하게 유화 분산시킨 후, 분산 입자가 융착 응집되지 않도록 냉각시켜 원하는 수분산체를 얻는 방법 (고압 유화법) 이나, 폴리머를 미리 벤젠, 톨루엔, 아세트산에틸 등의 유기 용제에 용해시킨 후, 상기 유화제 및 물을 첨가하고, 예를 들어 고속 유화기를 이용하여, 고전단을 가하여 균일하게 유화 분산시킨 후, 감압-가열 처리 등에 의해 유기 용제를 제거하여 원하는 수분산체로 하는 방법 (용제 용해법) 등을 들 수 있다.
수분산형 점착제로는, 각종 점착제를 사용할 수 있고, 예를 들어, 고무계 점착제, 아크릴계 점착제, 실리콘계 점착제, 폴리우레탄계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제, 폴리비닐알코올계 점착제, 폴리비닐피롤리돈계 점착제, 폴리아크릴아미드계 점착제, 셀룰로오스계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 불소계 점착제 등을 들 수 있다. 상기 점착제의 종류에 따라 점착성의 베이스 폴리머나 분산 수단이 선택된다.
상기 점착제 중에서도, 본 발명에서는, 광학적 투명성이 우수하고, 적절한 젖음성과 응집성과 접착성의 점착 특성을 나타내고, 내후성이나 내열성 등이 우수한 점에서 수분산형의 아크릴계 점착제가 바람직하게 사용된다.
수분산형 아크릴계 점착제의 베이스 폴리머인 (메트)아크릴계 폴리머는, 예를 들어, (메트)아크릴산알킬에스테르를 주성분으로 하는 모노머 성분을, 유화제, 라디칼 중합 개시제의 존재 하에 유화 중합함으로써 공중합체 에멀션으로서 얻어진다. 또한, (메트)아크릴산알킬에스테르는 아크릴산알킬에스테르 및/또는 메타크릴산알킬에스테르를 말하고, 본 발명의 (메트) 와는 동일한 의미이다.
(메트)아크릴계 폴리머의 주골격을 구성하는, (메트)아크릴산알킬에스테르로는, 직사슬상 또는 분기사슬상의 알킬기의 탄소수 1 ∼ 20 인 것을 예시할 수 있다. 예를 들어, 상기 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, 펜틸기, 네오펜틸기, 이소아밀기, 헥실기, 헵틸기, 2-에틸헥실기, 이소옥틸기, 노닐기, 이소노닐기, 데실기, 이소데실기, 도데실기, 트리데실기, 테트라데실기, 펜타데실기, 헥사데실기, 헵타데실기, 옥타데실기, 나노데실기, 에이코실기 등을 예시할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 조합하여 사용할 수 있다. 이들 알킬기의 평균 탄소수는 3 ∼ 9 인 것이 바람직하다. 특히, 본 발명에 있어서는, 상기 (메트)아크릴산알킬에스테르로서, 아크릴산부틸과 같은, 물보다 비점이 높은 모노머가 특히 바람직하게 사용된다.
상기 (메트)아크릴계 폴리머 중에는, (메트)아크릴산알킬에스테르 이외에, 수분산액의 안정화, 점착제층의 광학 필름 등의 기재에 대한 밀착성의 향상, 나아가서는, 피착체에 대한 초기 접착성의 향상 등을 목적으로 하여, (메트)아크릴로일 기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합에 관련된 중합성의 관능기를 갖는, 1 종류 이상의 공중합 모노머를 공중합에 의해 도입할 수 있다.
상기 공중합 모노머의 구체예로는, 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, (메트)아크릴산, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산, 카르복시에틸아크릴레이트, 카르복시펜틸아크릴레이트 등의 카르복실기 함유 모노머；예를 들어, 무수 말레산, 무수 이타콘산 등의 산무수물기 함유 모노머；예를 들어, (메트)아크릴산시클로헥실, (메트)아크릴산보르닐, (메트) 아크릴산이소보르닐 등의 (메트)아크릴산 지환식 탄화수소 에스테르；예를 들어, (메트)아크릴산페닐 등의 (메트)아크릴산아릴에스테르, 예를 들어, 아세트산비닐, 프로피온산비닐 등의 비닐에스테르류；예를 들어, 스티렌 등의 스티렌계 모노머；예를 들어, (메트)아크릴산글리시딜, (메트)아크릴산메틸글리시딜 등의 에폭시기 함유 모노머；예를 들어, 아크릴산2-하이드록시에틸, 아크릴산2-하이드록시프로필 등의 하이드록실기 함유 모노머；예를 들어, (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N-부틸(메트)아크릴아미드, N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-메틸올프로판(메트)아크릴아미드, (메트)아크릴로일모르폴린, (메트)아크릴산아미노에틸, (메트)아크릴산N,N-디메틸아미노에틸, (메트)아크릴산t-부틸아미노에틸 등의 질소 원자 함유 모노머；예를 들어, (메트)아크릴산메톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시에틸 등의 알콕시기 함유 모노머；예를 들어, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시아노기 함유 모노머；예를 들어, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트 등의 관능성 모노머；예를 들어, 에틸렌, 프로필렌, 이소프렌, 부타디엔, 이소부틸렌 등의 올레핀계 모노머；예를 들어, 비닐에테르 등의 비닐에테르계 모노머；예를 들어, 염화비닐 등의 할로겐 원자 함유 모노머；그 외, 예를 들어, N-비닐피롤리돈, N-(1-메틸비닐)피롤리돈, N-비닐피리딘, N-비닐피페리돈, N-비닐피리미딘, N-비닐피페라진, N-비닐피라진, N-비닐피롤, N-비닐이미다졸, N-비닐옥사졸, N-비닐모르폴린 등의 비닐기 함유 복소 고리 화합물이나, N-비닐카르복실산아미드류 등을 들 수 있다.
또, 공중합성 모노머로서, 예를 들어, N-시클로헥실말레이미드, N-이소프로필말레이미드, N-라우릴말레이미드, N-페닐말레이미드 등의 말레이미드계 모노머；예를 들어, N-메틸이타콘이미드, N-에틸이타콘이미드, N-부틸이타콘이미드, N-옥틸이타콘이미드, N-2-에틸헥실이타콘이미드, N-시클로헥실이타콘이미드, N-라우릴이타콘이미드 등의 이타콘이미드계 모노머；예를 들어, N-(메트)아크릴로일옥시메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-6-옥시헥사메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-8-옥시옥타메틸렌숙신이미드 등의 숙신이미드계 모노머；예를 들어, 스티렌 술폰산, 알릴술폰산, 2-(메트)아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산, (메트)아크릴아미드프로판술폰산, 술포프로필(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴로일옥시나프탈렌술폰산 등의 술폰산기 함유 모노머를 들 수 있다.
또, 공중합성 모노머로는, 인산기 함유 모노머를 들 수 있다. 인산기 함유 모노머로는, 예를 들어, 하기 일반식 (1)：
[화학식 1]
Figure 112012054078203-pct00001
(일반식 (1) 중, R1 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, m 은 2 이상의 정수를 나타내고, M1 및 M2 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 카티온을 나타낸다) 로 나타내는 인산기 또는 그 염을 나타낸다) 로 나타내는 인산기 함유 모노머를 들 수 있다.
또한, 일반식 (1) 중, m 은 2 이상, 바람직하게는 4 이상, 통상 40 이하이고, m 은 옥시알킬렌기의 중합도를 나타낸다. 또, 폴리옥시알킬렌기로는, 예를 들어, 폴리옥시에틸렌기, 폴리옥시프로필렌기 등을 들 수 있고, 이들 폴리옥시알킬렌기는 이들의 랜덤, 블록 또는 그래프트 유닛 등이어도 된다. 또, 인산기의 염에 관련된 카티온은 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 나트륨, 칼륨 등의 알칼리 금속, 예를 들어, 칼슘, 마그네슘 등의 알칼리 토금속 등의 무기 카티온, 예를 들어, 4 급 아민류 등의 유기 카티온 등을 들 수 있다.
또, 공중합성 모노머로서, 예를 들어, (메트)아크릴산폴리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산폴리프로필렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시에틸렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시폴리프로필렌글리콜 등의 글리콜계 아크릴에스테르 모노머；그 외, 예를 들어, (메트)아크릴산테트라하이드로푸르푸릴이나, 불소(메트)아크릴레이트 등의 복소 고리나, 할로겐 원자를 함유하는 아크릴산에스테르계 모노머 등을 들 수 있다.
또한 공중합성 모노머로서, 실리콘계 불포화 모노머를 들 수 있다. 실리콘계 불포화 모노머에는, 실리콘계 (메트)아크릴레이트 모노머나, 실리콘계 비닐 모노머 등이 포함된다. 실리콘계 (메트)아크릴레이트 모노머로는, 예를 들어, (메트)아크릴로일옥시메틸-트리메톡시실란, (메트)아크릴로일옥시메틸-트리에톡시실란, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸-트리메톡시실란, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸-트리에톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-트리메톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-트리에톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-트리프로폭시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-트리이소프로폭시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-트리부톡시실란 등의 (메트)아크릴로일옥시알킬-트리알콕시실란；예를 들어, (메트)아크릴로일옥시메틸-메틸디메톡시실란, (메트)아크릴로일옥시메틸-메틸디에톡시실란, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸-메틸디메톡시실란, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸-메틸디에톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-메틸디메톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-메틸디에톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-메틸디프로폭시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-메틸디이소프로폭시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-메틸부톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-에틸디메톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-에틸디에톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-에틸디프로폭시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-에틸디이소프로폭시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-에틸디부톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-프로필디메톡시실란, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필-프로필디에톡시실란 등의 (메트)아크릴로일옥시알킬-알킬디알콕시실란이나, 이들에 대응하는 (메트)아크릴로일옥시알킬-디알킬(모노)알콕시실란 등을 들 수 있다. 또, 실리콘계 비닐 모노머로는, 예를 들어, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리프로폭시실란, 비닐트리이소프로폭시실란, 비닐트리부톡시실란 등의 비닐트리알콕시실란 외에, 이들에 대응하는 비닐알킬디알콕시실란이나, 비닐디알킬알콕시실란, 예를 들어, 비닐메틸트리메톡시실란, 비닐메틸트리에톡시실란, β-비닐에틸트리메톡시실란, β-비닐에틸트리에톡시실란, γ-비닐프로필트리메톡시실란, γ-비닐프로필트리에톡시실란, γ-비닐프로필트리프로폭시실란, γ-비닐프로필트리이소프로폭시실란, γ-비닐프로필트리부톡시실란 등의 비닐알킬트리알콕시실란 외에, 이들에 대응하는 (비닐알킬)알킬디알콕시실란이나, (비닐알킬)디알킬(모노)알콕시실란 등을 들 수 있다.
또한, 공중합성 모노머로서, 수분산형 점착제의 겔분율의 조정 등을 위해서, 다관능성 모노머를 사용할 수 있다. 다관능 모노머로는, (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 2 개 이상 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 예를 들어, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 (모노 또는 폴리)에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트나, 프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 (모노 또는 폴리)프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 (모노 또는 폴리)알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트 외에, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산과 다가 알코올의 에스테르화물；디비닐벤젠 등의 다관능 비닐 화합물；(메트)아크릴산알릴, (메트)아크릴산비닐 등의 반응성의 불포화 이중 결합을 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 또, 다관능성 모노머로는, 폴리에스테르, 에폭시, 우레탄 등의 골격에 모노머 성분과 동일한 관능기로서 (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 2 개 이상 부가한 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트 등을 사용할 수도 있다.
이들 공중합 모노머 중에서도, 수분산액 (에멀션 등) 의 안정화나, 당해 수분산액으로 형성되는 점착제층의 피착체인 유리 패널에 대한 밀착성 확보의 관점에서, 아크릴산 등의 카르복실기 함유 모노머, 인산기 함유 모노머, 실리콘계 불포화 모노머가 바람직하게 사용된다.
(메트)아크릴계 폴리머는 (메트)아크릴산알킬에스테르를 주성분으로 하는 것으로, 그 배합 비율은, 모노머 성분 전체량에 대해, 50 중량％ 이상, 바람직하게는 60 중량％ 이상, 더욱 바람직하게는 70 중량％ 이상이다. 또, 그 상한은 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 100 중량％, 바람직하게는 99 중량％, 더욱 바람직하게는 98 중량％ 이다. (메트)아크릴산알킬에스테르의 배합 비율이 50 중량％ 미만이면, 점착제층의 접착력 등의 점착 특성이 저하되는 경우가 있다.
또, 공중합성 모노머의 배합 비율은, 모노머 성분 전체량에 대해, 예를 들어, 50 중량％ 미만, 바람직하게는, 40 중량％ 미만, 더욱 바람직하게는, 30 중량％ 미만이다. 공중합성 모노머는 각 공중합성 모노머의 종류에 따라, 배합 비율을 적절하게 선택할 수 있다. 예를 들어, 공중합성 모노머가 카르복실기 함유 모노머인 경우, 그 비율은 모노머 성분 전체량에 대해 0.1 ∼ 6 중량％ 인 것이 바람직하고, 인산기 함유 모노머인 경우 그 비율은 0.5 ∼ 5 중량％ 인 것이 바람직하고, 실리콘계 불포화 모노머인 경우 그 비율은 0.005 ∼ 0.2 중량％ 인 것이 바람직하다.
상기 모노머 성분의 유화 중합은, 통상적인 방법에 의해, 모노머 성분을 물에 유화시킨 후에, 유화 중합함으로써 실시한다. 이로써 (메트)아크릴계 폴리머 수분산액을 조제한다. 유화 중합에서는, 예를 들어, 상기한 모노머 성분과 함께, 유화제, 라디칼 중합 개시제, 필요에 따라 연쇄 이동제 등을, 수중에서 적절하게 배합한다. 보다 구체적으로는, 예를 들어, 일괄 주입법 (일괄 중합법), 모노머 적하법, 모노머 에멀션 적하법 등의 공지된 유화 중합법을 채용할 수 있다. 또한, 모노머 적하법에서는, 연속 적하 또는 분할 적하가 적절하게 선택된다. 이들 방법은 적절하게 조합할 수 있다. 반응 조건 등은 적절하게 선택되는데, 중합 온도는, 예를 들어, 0 ∼ 150 ℃ 정도이고, 중합 시간은 2 ∼ 15 시간 정도 있다.
유화제로는, 특별히 제한되지 않고, 유화 중합에 통상 사용되는 각종 유화제가 사용된다. 예를 들어, 라우릴황산나트륨, 라우릴황산암모늄, 도데실벤젠술폰산나트륨, 폴리옥시에틸렌라우릴황산나트륨, 폴리옥시에틸렌알킬에테르황산나트륨, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르황산암모늄, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르황산나트륨, 폴리옥시에틸렌알킬술포숙신산나트륨 등의 아니온계 유화제；예를 들어, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르, 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌 블록 폴리머 등의 논이온계 유화제 등을 들 수 있다. 또, 이들 아니온계 유화제나 논이온계 유화제에, 프로페닐기나 알릴에테르기 등의 라디칼 중합성 관능기 (라디칼 반응성기) 가 도입된 라디칼 중합성 유화제 등을 들 수 있다. 이들 유화제는, 적절하게, 단독 또는 병용하여 사용된다. 이들 유화제 중에서도, 라디칼 중합성 관능기를 가진 라디칼 중합성 유화제는, 수분산액 (에멀션) 의 안정성, 점착제층의 내구성의 관점에서, 바람직하게 사용된다.
상기 유화제의 배합 비율은, 상기 (메트)아크릴산알킬에스테르를 주성분으로 하는 모노머 성분 100 중량부에 대해, 예를 들어, 0.1 ∼ 5 중량부 정도, 바람직하게는 0.4 ∼ 3 중량부이다. 유화제의 배합 비율이 이 범위이면, 내수성, 점착 특성, 나아가서는 중합 안정성, 기계적 안정성 등의 향상을 도모할 수 있다.
라디칼 중합 개시제로는, 특별히 제한되지 않고, 유화 중합에 통상 사용되는 공지된 라디칼 중합 개시제가 사용된다. 예를 들어, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘)2황산염, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘)2염산염, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)2염산염, 2,2'-아조비스[2-(2-이미다졸린2-일)프로판]2염산염 등의 아조계 개시제；예를 들어, 과황산칼륨, 과황산암모늄 등의 과황산염계 개시제；예를 들어, 벤조일퍼옥사이드, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 과산화수소 등의 과산화물계 개시제；예를 들어, 페닐 치환 에탄 등의 치환 에탄계 개시제；예를 들어, 방향족 카르보닐 화합물 등의 카르보닐계 개시제 등을 들 수 있다. 이들 중합 개시제는, 적절하게, 단독 또는 병용하여 사용된다. 또, 라디칼 중합 개시제의 배합 비율은 적절하게 선택되는데, 모노머 성분 100 중량부에 대해, 예를 들어, 0.02 ∼ 0.5 중량부 정도, 바람직하게는, 0.08 ∼ 0.3 중량부이다. 0.02 중량부 미만이면, 라디칼 중합 개시제로서의 효과가 저하되는 경우가 있고, 0.5 중량부를 초과하면, 수분산형의 (메트)아크릴계 폴리머의 분자량이 저하되어, 수분산형 점착제 조성물의 점착성이 저하되는 경우가 있다.
연쇄 이동제는, 필요에 따라, 수분산형의 (메트)아크릴계 폴리머의 분자량을 조절하는 것으로, 통상, 유화 중합에 통상 사용되는 연쇄 이동제가 사용된다. 예를 들어, 1-도데칸티올, 메르캅토아세트산, 2-메르캅토에탄올, 티오글리콜산2-에틸헥실, 2,3-디메르캅토-1-프로판올, 메르캅토프로피온산에스테르류 등의 메르캅탄류 등을 들 수 있다. 이들 연쇄 이동제는, 적절하게, 단독 또는 병용하여 사용된다. 또, 연쇄 이동제의 배합 비율은, 모노머 성분 100 중량부에 대해, 예를 들어, 0.001 ∼ 0.3 중량부이다.
이와 같은 유화 중합에 의해, 수분산형의 (메트)아크릴계 폴리머를 수분산액 (에멀션) 으로서 조제할 수 있다. 이와 같은 수분산형의 (메트)아크릴계 폴리머는, 그 평균 입자직경이, 예를 들어, 0.05 ∼ 3 ㎛, 바람직하게는, 0.05 ∼ 1 ㎛ 로 조정된다. 평균 입자직경이 0.05 ㎛ 보다 작으면 수분산형 점착제의 점도가 상승하는 경우가 있고, 1 ㎛ 보다 크면 입자 간의 융착성이 저하되어 응집력이 저하되는 경우가 있다.
또, 상기 수분산액의 분산 안정성을 유지하기 위해서, 상기 수분산액에 관련된 (메트)아크릴계 폴리머가 공중합성 모노머로서 카르복실기 함유 모노머 등을 함유하는 경우에는, 당해 카르복실기 함유 모노머 등을 중화하는 것이 바람직하다. 중화는, 예를 들어, 암모니아, 수산화 알칼리 금속 등에 의해 실시할 수 있다.
본 발명의 수분산형의 (메트)아크릴계 폴리머는, 통상, 중량 평균 분자량은 100 만 이상인 것이 바람직하다. 특히 중량 평균 분자량으로 100 만 ∼ 400 만인 것이 내열성, 내습성의 점에서 바람직하다. 중량 평균 분자량이 100 만 미만이면 내열성, 내습성이 저하되어 바람직하지 않다. 또 유화 중합에 의해 얻어지는 점착제는 그 중합 기구보다 분자량이 매우 고분자량이 되므로 바람직하다. 단, 유화 중합에 의해 얻어지는 점착제는 일반적으로는 겔분이 많아 GPC (겔·퍼미에이션·크로마토그래피) 로 측정할 수 없기 때문에 분자량에 관한 실측정에서의 뒷받침은 어려운 경우가 많다.
본 발명의 수분산형 점착제는, 상기 베이스 폴리머에 추가로, 가교제를 함유할 수 있다. 수분산형 점착제가 수분산형 아크릴계 점착제인 경우에 사용되는 가교제로는, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 카르보디이미드계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등의 일반적으로 이용되고 있는 것을 사용할 수 있다. 이들 가교제는 관능기 함유 단량체를 사용하는 것에 따라 중합체 중에 도입한 관능기와 반응하여 가교하는 효과를 갖는다.
베이스 폴리머와 가교제의 배합 비율은 특별히 한정되지 않지만, 통상, 베이스 폴리머 (고형분) 100 중량부에 대해, 가교제 (고형분) 10 중량부 정도 이하의 비율로 배합된다. 상기 가교제의 배합 비율은 0.001 ∼ 10 중량부가 바람직하고, 나아가서는 0.01 ∼ 5 중량부 정도가 바람직하다.
또한, 본 발명의 수분산형 점착제에는, 필요에 따라, 점도 조정제, 박리 조정제, 점착 부여제, 가소제, 연화제, 유리 섬유, 유리 비즈, 금속 분말, 그 밖의 무기 분말 등으로 이루어지는 충전제, 안료, 착색제 (안료, 염료 등), pH 조정제 (산 또는 염기), 산화 방지제, 자외선 흡수제, 실란 커플링제 등을, 또 본 발명의 목적을 일탈하지 않는 범위에서 각종 첨가제를 적절하게 사용할 수도 있다. 또 미립자를 함유하여 광 확산성을 나타내는 점착제층 등으로 해도 된다. 이들 첨가제도 에멀션으로서 배합할 수 있다.
본 발명의 광학 필름용 점착제층은 상기 수분산형 점착제에 의해 형성된다. 점착제층의 형성은 지지 기재 (광학 필름 또는 이형 필름) 에 상기 수분산형 점착제를 도포한 후, 건조시키는 것에 의해 형성할 수 있다. 본 발명의 광학 필름용 점착제는 이렇게 하여 형성된 점착제층이고, 점착제층 중의 잔존 모노머량이 5 ∼ 100 ppm 으로 제어되어 있다.
본 발명의 점착제형 광학 필름은 광학 필름의 편면 또는 양면에 상기 점착제층을 적층한 것이다. 본 발명의 점착형 광학 필름은, 예를 들어,
제법 (A)：적어도 베이스 폴리머가 수중에 분산 함유되어 있는 수분산액으로 이루어지고, 또한 당해 수분산액의 고형분 1 g 에 대해 1500 ∼ 25000 ppm 의 잔존 모노머를 함유하는 수분산형 점착제를, 광학 필름의 편면 또는 양면에 도포하는 공정 (1), 및
도포된 수분산형 점착제를, 80 ∼ 170 ℃ 의 건조 온도에서, 점착제층 중의 잔존 모노머량이 점착제층의 고형분 1 g 에 대해 5 ∼ 100 ppm 이 되도록 건조시켜, 점착제층을 형성하는 공정 (2A) 를 실시하는 방법, 또는,
제법 (B)：적어도 베이스 폴리머가 수중에 분산 함유되어 있는 수분산액으로 이루어지고, 또한 당해 수분산액의 고형분 1 g 에 대해 1500 ∼ 25000 ppm 의 잔존 모노머를 함유하는 수분산형 점착제를, 이형 필름의 편면 또는 양면에 도포하는 공정 (1),
도포된 수분산형 점착제를, 80 ∼ 170 ℃ 의 건조 온도에서, 점착제층 중의 잔존 모노머량이 점착제층의 고형분 1 g 에 대해 5 ∼ 100 ppm 이 되도록 건조시켜, 점착제층을 형성하는 공정 (2B), 및
이형 필름에 형성된 점착제층을 광학 필름에 첩합하는 공정 (3) 을 실시하는 방법에 의해 제조할 수 있다.
상기 도포 공정 (1) 에 있어서는, 상기 수분산형 점착제 중의 잔존 모노머량을 소정량으로 조정하는 것이 바람직하다. 도포 공정 (1) 에 사용하는, 수분산형 점착제 중의 잔존 모노머량의 수분산형 점착제 중의 잔존 모노머량을 상기 범위로 제어함으로써, 건조시의 막제조성을 확보하여, 균일성이 양호하고, 고강도의 피막을 형성할 수 있어, 얻어지는 점착제층의 내구성이 양호해진다. 수분산형 점착제 (도포액) 중의 잔존 모노머의 작용 효과는 분명하지 않지만, 점착제층의 형성 공정 (2A) 또는 (2B) 에 있어서의, 수분의 건조 단계에서 물보다 휘산이 느린 모노머의 작용으로, 수분산형 점착제에 의한 도포막의 막제조성이 촉진되는 것은 아닐까 생각된다. 수분산형 점착제 중의 잔존 모노머량이, 1500 ppm 미만에서는, 막제조성이 불충분해져, 내구성의 점에서 바람직하지 않다. 한편, 상기 잔존 모노머량이 25000 ppm 을 초과하는 경우에는, 점착제층의 형성 공정 (2A) 또는 (2B) 에 있어서, 점착제층 중의 잔존 모노머량을 100 ppm 이하로까지 건조시키는 것이 어려워진다.
또, 상기 도포 공정 (1) 에 사용하는, 수분산형 점착제 중에 상기 소정량 이상의 잔존 모노머를 함유시키는 것은, 수분산형 점착제의 보존시에 있어서의 부패를 방지하는 데에 있어서도 바람직하다. 수분산형 점착제 중의 잔존 모노머량이 적은 경우, 보존시에 부패를 일으키기 쉽고, 이것을 도포하여 형성된 점착제층을 갖는 점착형 광학 필름의 외관이 손상되는 경우가 있다. 이러한 부패에 관해서는, 수분산액 (에멀션) 의 독특한 과제로서 인지되고, 주로, 환경 중 (각종 토양균) 이나, 인간 유래의 균, 박테리아의 혼입에 의해 야기된다고 되어 있다. 부패에 관해서는, 일부, 방부제와 같은 약제의 첨가에 의해 억제할 수 있는데, 점착형 광학 필름에서는 약제의 첨가가 내구성의 열화를 일으키는 경우가 많아, 그 적용이 어렵다. 본 발명에서는, 도포 공정 (1) 에 제공되는 수분산형 점착제 (수분산액) 에 있어서, 적당한 비율로 잔존 모노머를 함유시키는 것에 의해, 수분산형 점착제 (수분산액) 의 부패를 억제함으로써 보존 안정성을 확보할 수 있고, 나아가서는 점착제층의 내구성의 향상에도 기여한다.
상기 관점에서, 상기 도포 공정 (1) 에 사용하는, 수분산형 점착제 중의 잔존 모노머량은 보다 바람직하게는 5000 ∼ 25000 ppm 의 범위, 더욱 바람직하게는 7000 ∼ 25000 ppm 의 범위, 더욱 바람직하게는 10000 ∼ 25000 ppm 의 범위이다.
상기 도포 공정 (1) 에 사용하는, 수분산형 점착제 중의 잔존 모노머량의 조정은, 예를 들어, 베이스 폴리머를 중합하여 조제할 때에, 중합 종점을 조정함으로써 실시할 수 있다. 예를 들어, 상기 유화 중합에 의해, 수분산형의 (메트)아크릴계 폴리머를 수분산액 (에멀션) 으로서 조제하는 경우에는, 중합 시간과 온도를 제어함으로써, 수분산형 점착제 중의 잔존 모노머량을 상기 범위로 조정할 수 있다. 상세하게는, 사용하는 중합 개시제의 종류와 중합 온도, 및 중합 시간과의 관계에 있어서 조정할 수 있다. 예를 들어, 라디칼 중합 개시제를 사용하는 경우에는, 각 개시제에 있어서 10 시간 반감기 온도가 요구되고 있고, 이 온도와 실제의 중합 온도의 관계에 있어서, 중합도 (중합 반환율) 를 제어할 수 있다. 또, 수분산형 점착제 중의 잔존 모노머의 조정은, 전술한 특허문헌 3 에 기재된 바와 같이, 중합 반응을 촉진시키는 레독스계의 첨가제를 첨가하여, 잔존 모노머량을 조정할 수도 있다. 단, 본 발명의 수분산액 중의 잔존 모노머량은, 통상적인 수분산형 점착제를 얻기 위한 중합 조건에 비해, 매우 다량의 잔존 모노머량으로 조정하는 점이 중요하다. 또한, 수분산형 점착제는 비교적 높은 베이스로 적당한 점도를 갖기 때문에, 중합 후에 얻어지는 수분산액을, 그대로 도포 공정 (1) 에 사용할 수 있다.
또한, 수분산형 점착제 중의 잔존 모노머량은, 수분산형 점착제에 관련된 수분산액 중의 고형분 1 g 에 대한, 잔존 모노머의 양을 말한다. 또한, 수분산형 점착제에 관련된 수분산액 중의 잔존 모노머량의 정량화는 점착제층 중의 잔존 모노머량의 정량화와 동일한 방법에 의해 측정된다.
상기 도포 공정 (1) 에는, 각종 방법이 이용된다. 구체적으로는, 예를 들어, 롤 코트, 키스 롤 코트, 그라비아 코트, 리버스 코트, 롤 브러시, 스프레이 코트, 딥 롤 코트, 바 코트, 나이프 코트, 에어 나이프 코트, 커튼 코트, 립 코트, 다이 코터 등에 의한 압출 코트법 등의 방법을 들 수 있다. 또한, 제법 (A) 에서는 광학 필름에, 제법 (B) 에서는 이형 필름에 도포 공정 (1) 이 실시된다.
또, 도포 공정 (1) 에서는, 형성되는 점착제층이 소정 두께 (건조 후 두께) 가 되도록 그 도포량이 제어된다. 점착제층의 두께 (건조 후 두께) 는, 통상, 1 ∼ 100 ㎛ 정도, 바람직하게는 5 ∼ 50 ㎛, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 40 ㎛ 의 범위로 설정된다.
이어서, 제법 (A), (B) 에 있어서, 점착제층의 형성 공정 (2A), (2B) 가 실시된다. 형성 공정 (2A), (2B) 에서는, 도포된 수분산형 점착제에 대해, 80 ∼ 170 ℃ 의 건조 온도에서 건조가 실시된다. 건조 온도는 본 발명에 있어서, 점착제층 중의 잔존 모노머량을 상기 소정 범위로 제어하는 데에 있어서 특히 중요한 제어 인자가 된다. 따라서, 점착제층의 형성 공정 (2A), (2B) 에서는, 수분산형 점착제 중의 물, 잔존 모노머를 효과적으로 휘발시키기 위해서 상기 건조 온도로 설정하는 것이 바람직하다.
건조 온도가 80 ℃ 미만에서는, 점착제층 중에 수분, 잔존 모노머, 중화 등에 사용하는 암모니아 성분이 잔존하기 쉽고, 그 결과, 점착제층의 도포막의 강도가 불충분해져, 내구성의 확보가 어렵다. 한편, 건조 온도가 170 ℃ 를 초과하는 경우에는, 잔존 모노머의 건조 속도가 지나치게 빠르기 때문에, 건조 과정에서의 잔존 모노머에 의한 막제조 촉진이 불충분해져, 충분한 강도의 점착제층이 잘 얻어지지 않는다. 또, 잔존하는 라디칼 중합 개시제의 영향 등으로 착색이 일어나거나 광학 필름이나 이형 필름에 열데미지를 주거나 한다 (예를 들어, 필름계 이형 필름에서는 올리고머의 석출 등이 발생한다). 상기 건조 온도는 바람직하게는 100 ∼ 140 ℃ 이다. 또, 건조 공정을 상이한 온도 조건의 복수 공정으로 나누어 실시할 수도 있다. 예를 들어, 수분, 잔류 모노머를 효과적으로 휘산시키기 위해서, 적어도 2 개의 상이한 건조 온도를 설정하는 것도 효과적으로 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서는, 소정 잔존 모노머량의 수분산형 점착제를, 상기 공정에서 건조시킨 후의 잔존 모노머량에 의해, 점착제층의 도포막 상태를 간접적으로 판단할 수 있는 점도 들 수 있다.
상기 건조 온도에 수반하는 건조 시간은 사용되는 건조 설비에 의해 적절하게 설정되는데, 간이적으로 사용되는 열풍 순환식 오븐 등에서는 10 분간 이상의 비교적 장시간이 바람직하다. 한편, 생산 설비로서 사용되는 도포 설비의 오븐에서는 건조 능력, 전열성이 양호하게 설계되어 있으므로, 몇 분 정도의 비교적 단시간에 본 발명의 점착형 광학 필름을 얻을 수 있다. 또한, 건조 시간이 지나치게 길어지면, 점착제층의 산화 열화나 착색의 원인이 되기 때문에 건조 시간은 60 분간 이하인 것이 바람직하다.
또, 건조 온도와 건조 시간에 관련된 건조 조건은 건조 설비에 의해 적절하게 설정되는데,
열풍 순환식 오븐에서는, 예를 들어,
건조 온도 80 ∼ 120 ℃ 미만에서는, 20 ∼ 60 분간,
건조 온도 120 ∼ 140 ℃ 미만에서는, 10 ∼ 30 분간,
건조 온도 140 ∼ 170 ℃ 에서는, 10 ∼ 15 분간,
도포 설비의 오븐에서는, 예를 들어,
건조 온도 80 ∼ 120 ℃ 미만에서는, 5 ∼ 20 분간,
건조 온도 120 ∼ 140 ℃ 미만에서는, 2 ∼ 10 분간,
건조 온도 140 ∼ 170 ℃ 에서는, 1 ∼ 5 분간,
으로 설정하는 것이 바람직하다.
제법 (A) 에서는, 상기 점착제층의 형성 공정 (2A) 에 의해, 직접, 광학 필름에 점착제층이 형성되어, 점착형 광학 필름이 얻어진다. 한편, 제법 (B) 에서는, 상기 점착제층의 형성 공정 (2B) 에 의해, 이형 필름 상에 점착제층이 형성되고, 이어서, 당해 점착제층을 광학 필름에 첩합하는 공정 (3) 에 의해, 당해 점착제층이 광학 필름에 전사되어, 점착형 광학 필름이 얻어진다.
이형 필름의 구성 재료로는, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에스테르 필름 등의 플라스틱 필름, 종이, 천, 부직포 등의 다공질 재료, 네트, 발포 시트, 금속 박, 및 이들의 라미네이트체 등의 적절한 박엽체 등을 들 수 있는데, 표면 평활성이 우수한 점에서 플라스틱 필름이 바람직하게 사용된다.
그 플라스틱 필름으로는, 상기 점착제층을 보호할 수 있는 필름이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리우레탄 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름 등을 들 수 있다.
상기 이형 필름의 두께는 통상 5 ∼ 200 ㎛, 바람직하게는 5 ∼ 100 ㎛ 정도이다. 상기 이형 필름에는, 필요에 따라, 실리콘계, 불소계, 장사슬 알킬계 혹은 지방산 아미드계의 이형제, 실리카 분말 등에 의한 이형 및 방오 처리나, 도포형, 혼련형, 증착형 등의 대전 방지 처리도 할 수 있다. 특히, 상기 이형 필름의 표면에 실리콘 처리, 장사슬 알킬 처리, 불소 처리 등의 박리 처리를 적절하게 실시함으로써, 상기 점착제층으로부터의 박리성을 보다 높일 수 있다.
상기 점착제층이 노출되는 경우에는, 실용에 제공될 때까지 이형 필름으로 점착제층을 보호해도 된다. 또한, 상기 박리 필름은 그대로 점착형 광학 필름의 세퍼레이터로서 사용할 수 있고, 공정 면에 있어서의 간략화가 가능하다.
또, 광학 필름의 표면에, 점착제층과의 사이의 밀착성을 향상시키기 위해서, 앵커층을 형성하거나 코로나 처리, 플라스마 처리 등의 각종 접착 용이 처리를 실시한 후에 점착제층을 형성할 수 있다. 또, 점착제층의 표면에는 접착 용이 처리를 실시해도 된다.
상기 앵커층의 형성재로는, 바람직하게는, 폴리우레탄, 폴리에스테르, 분자 중에 아미노기를 함유하는 폴리머류, 옥사졸리닐기를 함유하는 폴리머류에서 선택되는 앵커제가 사용되고, 특히 바람직하게는, 분자 중에 아미노기를 함유한 폴리머류, 옥사졸리닐기를 함유하는 폴리머류이다. 분자 중에 아미노기를 함유하는 폴리머류, 옥사졸리닐기를 함유하는 폴리머류는 분자 중의 아미노기, 옥사졸리닐기가 점착제 중의 카르복실기 등과 반응 또는 이온성 상호 작용 등의 상호 작용을 나타내기 때문에 양호한 밀착성이 확보된다.
분자 중에 아미노기를 함유하는 폴리머류로는, 예를 들어, 폴리에틸렌이민, 폴리알릴아민, 폴리비닐아민, 폴리비닐피리딘, 폴리비닐피롤리딘, 디메틸아미노에틸아크릴레이트 등의 아미노기 함유 모노머의 중합체 등을 들 수 있다.
광학 필름으로는, 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치의 형성에 사용되는 것이 사용되고, 그 종류는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 광학 필름으로는 편광판을 들 수 있다. 편광판은 편광자의 편면 또는 양면에는 투명 보호 필름을 갖는 것이 일반적으로 사용된다.
편광자는 특별히 한정되지 않고, 각종의 것을 사용할 수 있다. 편광자로는, 예를 들어, 폴리비닐알코올계 필름, 부분 포르말화 폴리비닐알코올계 필름, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 이색성 염료의 이색성 물질을 흡착시켜 1 축 연신한 것, 폴리비닐알코올의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 폴리비닐알코올계 필름과 요오드 등의 이색성 물질로 이루어지는 편광자가 바람직하다. 이들 편광자의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 일반적으로 5 ∼ 80 ㎛ 정도이다.
폴리비닐알코올계 필름을 요오드로 염색하여 1 축 연신한 편광자는, 예를 들어, 폴리비닐알코올을 요오드의 수용액에 침지함으로써 염색하고, 원 길이의 3 ∼ 7 배로 연신함으로써 제조할 수 있다. 필요에 따라 붕산이나 황산아연, 염화아연 등을 함유하고 있어도 되는 요오드화칼륨 등의 수용액에 침지할 수도 있다. 또한 필요에 따라 염색 전에 폴리비닐알코올계 필름을 물에 침지하여 수세해도 된다. 폴리비닐알코올계 필름을 수세함으로써 폴리비닐알코올계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있는 것 외에, 폴리비닐알코올계 필름을 팽윤시킴으로써 염색의 불균일 등의 불균일을 방지하는 효과도 있다. 연신은 요오드로 염색한 후에 실시해도 되고, 염색하면서 연신해도 되고, 또 연신하고 나서 요오드로 염색해도 된다. 붕산이나 요오드화칼륨 등의 수용액이나 욕 중에서도 연신할 수 있다.
투명 보호 필름을 구성하는 재료로는, 예를 들어 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분 차단성, 등방성 등이 우수한 열가소성 수지가 사용된다. 이와 같은 열가소성 수지의 구체예로는, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리술폰 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리올레핀 수지, (메트)아크릴 수지, 고리형 폴리올레핀 수지 (노르보르넨계 수지), 폴리아릴레이트 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리비닐알코올 수지, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 또한, 편광자의 편측에는, 투명 보호 필름이 접착제층에 의해 첩합되는데, 다른 편측에는, 투명 보호 필름으로서 (메트)아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화성 수지 또는 자외선 경화형 수지를 사용할 수 있다. 투명 보호 필름 중에는 임의의 적절한 첨가제가 1 종류 이상 함유되어 있어도 된다. 첨가제로는, 예를 들어, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 활제, 가소제, 이형제, 착색 방지제, 난연제, 핵제, 대전 방지제, 안료, 착색제 등을 들 수 있다. 투명 보호 필름 중의 상기 열가소성 수지의 함유량은 바람직하게는 50 ∼ 100 중량％, 보다 바람직하게는 50 ∼ 99 중량％, 더욱 바람직하게는 60 ∼ 98 중량％, 특히 바람직하게는 70 ∼ 97 중량％ 이다. 투명 보호 필름 중의 상기 열가소성 수지의 함유량이 50 중량％ 이하인 경우, 열가소성 수지가 본래 갖는 고투명성 등을 충분히 발현하지 못할 우려가 있다.
또 광학 필름으로는, 예를 들어 반사판이나 반투과판, 위상차판 (1/2 이나 1/4 등의 파장판을 포함한다), 시각 보상 필름, 휘도 향상 필름 등의 액정 표시 장치 등의 형성에 사용되는 경우가 있는 광학층이 되는 것을 들 수 있다. 이들은 단독으로 광학 필름으로서 사용할 수 있는 것 이외에, 상기 편광판에, 실용시에 적층하여, 1 층 또는 2 층 이상 사용할 수 있다.
편광판에 상기 광학층을 적층한 광학 필름은 액정 표시 장치 등의 제조 과정에서 순차 별개로 적층하는 방식으로도 형성할 수 있는데, 미리 적층하여 광학 필름으로 한 것은 품질의 안정성이나 조립 작업 등이 우수하여 액정 표시 장치 등의 제조 공정을 향상시킬 수 있는 이점이 있다. 적층에는 점착층 등의 적절한 접착 수단을 이용할 수 있다. 상기 편광판과 다른 광학층의 접착에 있어서, 그들의 광학축은 목적으로 하는 위상차 특성 등에 따라 적절한 배치 각도로 할 수 있다.
본 발명의 점착형 광학 필름은 액정 표시 장치 등의 각종 화상 표시 장치의 형성 등에 바람직하게 사용할 수 있다. 액정 표시 장치의 형성은 종래에 준하여 실시할 수 있다. 즉 액정 표시 장치는 일반적으로 액정 셀 등의 표시 패널과 점착형 광학 필름, 및 필요에 따른 조명 시스템 등의 구성 부품을 적절하게 조립하여 구동 회로를 장착하거나 함으로써 형성되는데, 본 발명에 있어서는 본 발명에 의한 점착형 광학 필름을 사용하는 점을 제외하고 특별히 한정은 없고, 종래에 준할 수 있다. 액정 셀에 대해서도, 예를 들어 TN 형이나 STN 형, π 형, VA 형, IPS 형 등의 임의인 타입의 것을 이용할 수 있다.
액정 셀 등의 표시 패널의 편측 또는 양측에 점착형 광학 필름을 배치한 액정 표시 장치나, 조명 시스템에 백라이트 혹은 반사판을 사용한 것 등의 적절한 액정 표시 장치를 형성할 수 있다. 그 경우, 본 발명에 의한 광학 필름은 액정 셀 등의 표시 패널의 편측 또는 양측에 설치할 수 있다. 양측에 광학 필름을 형성하는 경우, 그것들은 동일한 것이어도 되고, 상이한 것이어도 된다. 또한, 액정 표시 장치의 형성에 있어서는, 예를 들어 확산판, 안티글레어층, 반사 방지막, 보호판, 프리즘 어레이, 렌즈 어레이 시트, 광 확산판, 백라이트 등의 적절한 부품을 적절한 위치에 1 층 또는 2 층 이상 배치할 수 있다.
실시예
이하에, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 각 예 중의 부 및 ％ 는 모두 중량 기준이다.
＜잔존 모노머량의 정량법＞
각 예의 수분산액에 관련된 수분산형 아크릴계 점착제 (에멀션) 의 고형분 1 g 에 대한 잔존 모노머량은 가스 크로마토그래피 및 액체 크로마토그래피에 의해 실시하였다. 고비등점의 모노머 (비점 250 ℃ 이상) 를 함유하는 경우에는, 액체 크로마토그래피와 헤드 스페이스 가스 크로마토그래피의 측정값의 합이 잔존 모노머량이 된다. 또, 점착제층의 고형분 1 g 에 대한 잔존 모노머량에 대해서도, 상기와 동일한 분석법으로 정량하였다. 또한, 각 예에서는, 인산 에스테르 계 모노머, 반응성 유화제가 고비등점의 모노머에 해당한다.
≪가스 크로마토그래피≫
시료 약 0.2 g 에 아세트산에틸 10 ㎖ 를 첨가한 후, 실온 (23 ℃) 에서 3 일간 방치하여 점착제 (또는 점착제층) 중의 모노머를 추출하였다. 이 추출액 1 ㎕ 를 가스 크로마토그래피 (아지렌트·테크놀로지사 제조, 7890A) 에 주입하여 분석을 실시하였다.
측정 조건은,
칼럼；HP-1
칼럼 온도；40 ℃ (1 분간) → 5 ℃／분 (상승) → 60 ℃ → 10 ℃／분 (상승) → 140 ℃ → 20 ℃／분 (상승) → 300 ℃ (5 분간)
검출기；FID
≪액체 크로마토그래피≫
시료 약 0.1 g 에 아세트산에틸 10 ㎖ 를 첨가한 후, 실온 (23 ℃) 에서 3 일간 방치하여 점착제 (또는 점착제층) 중의 모노머를 추출하고, 추가로 아세토니트릴 40 ㎖ 를 첨가한 용액을 얻었다. 이 용액 10 ㎕ 를 액체 크로마토그래피 (토소사 제조, CCPM/UV8000) 에 주입하여 분석을 실시하였다.
측정 조건은,
칼럼；Intersil ODS-3
칼럼 온도；40 ℃
검출기；UV
＜평균 입자직경＞
각 예의 수분산액에 관련된 수분산형 아크릴계 점착제 (에멀션) 중의 (메트)아크릴계 폴리머의 평균 입자직경은 베크만 쿨터사 제조 LS13320 에 의해 측정하였다.
실시예 1
(수분산형 아크릴계 점착제의 조제)
용기에, 원료로서 아크릴산부틸 1000 부, 아크릴산 50 부, 모노［폴리(프로필렌옥사이드)메타크릴레이트］인산에스테르 (프로필렌옥사이드의 평균 중합도 5.0) 30 부, 및 3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란 (신에츠 화학 공업 (주) 제조, KBM-503) 0.1 부를 첨가하고 혼합하여, 모노머 혼합물을 얻었다. 이어서, 상기 비율로 조제한 모노머 혼합물 600 부에 대해, 반응성 유화제로서 아쿠아 론 HS-10 (다이이치 공업 제약 (주) 제조) 13 부, 이온 교환수 360 부를 첨가하고, 호모게나이저 (토쿠슈 기화 공업 (주) 제조) 를 사용하여 3 분간, 7000 rpm 으로 교반하여, 모노머 에멀션을 조제하였다.
다음으로, 냉각관, 질소 도입관, 온도계, 적하 깔때기 및 교반 날개를 구비한 반응 용기에, 상기에서 조제한 모노머 에멀션 중 200 부 및 이온 교환수 350 부를 주입하고, 이어서, 반응 용기를 충분히 질소 치환한 후, 과황산암모늄 0.1 부를 첨가하여, 60 ℃ 에서 1 시간 중합하였다 (초기 중합). 이어서, 나머지의 모노머 에멀션을, 반응 용기에 3 시간에 걸쳐 적하하고, 그 후, 3 시간 중합하였다 (중간 중합). 또한 그 후, 질소 치환하면서, 65 ℃ 에서 5 시간 중합하고 (최종 중합), 고형분 농도 45 ％ 의 수분산형 아크릴계 점착제 (에멀션) 를 얻었다. 이어서, 상기 수분산형 아크릴계 점착제를 실온까지 냉각시킨 후, 이것에, 농도 10 ％ 의 암모니아수를 30 부 첨가하고, 추가로 증류수를 첨가하여, 고형분 39 ％ 로 조정하였다. 이 수분산형 아크릴계 점착제의 잔존 모노머량은 10300 ppm 이었다. 수분산형 아크릴계 점착제 (에멀션) 중의 (메트)아크릴계 폴리머의 평균 입자직경은 0.085 ㎛ 였다.
(점착제층의 형성 및 점착형 편광판의 제조)
상기 수분산형 아크릴계 점착제를, 건조 후의 두께가 25 ㎛ 가 되도록, 이형 필름 (미츠비시 화학 폴리에스테르 (주) 제조, 다이아 호일 MRF-38, 폴리에틸렌테레프탈레이트 기재) 상에 어플리케이터에 의해 도포한 후, 열풍 순환식 오븐에 의해 120 ℃ 에서 15 분간 건조시켜, 점착제층을 형성하였다. 당해 점착제층을 편광판 (닛토 덴코 (주) 제조, 제품명 SEG-DU) 과 첩합하여, 점착형 편광판을 제조하였다. 상기 첩합 전의 점착제층의 잔존 모노머량은 7 ppm 이었다.
실시예 2
(수분산형 아크릴계 점착제의 조제)
실시예 1 에 있어서, 수분산형 아크릴계 점착제 (수분산액：에멀션) 의 조제에 있어서, 최종 중합의 조건을, 65 ℃ 에서 2 시간으로 바꾼 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 수분산형 아크릴계 점착제를 조제하였다. 이 수분산형 아크릴계 점착제의 잔존 모노머량은 23500 ppm 이었다. 수분산형 아크릴계 점착제 (에멀션) 중의 (메트)아크릴계 폴리머의 평균 입자직경은 0.092 ㎛ 였다.
(점착제층의 형성 및 점착형 편광판의 제조)
실시예 1 에 있어서, 점착제층의 형성에 있어서, 상기에서 조정한 수분산형 아크릴계 점착제를 사용한 것, 열풍 순환식 오븐의 건조 조건을 140 ℃ 에서 15 분간으로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 점착제층을 형성하였다. 또, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착형 편광판을 제조하였다. 상기 첩합 전의 점착제층의 잔존 모노머량은 28 ppm 이었다.
실시예 3
(수분산형 아크릴계 점착제의 조제)
실시예 1 에 있어서, 수분산형 아크릴계 점착제 (수분산액：에멀션) 의 조제에 있어서, 최종 중합의 조건을, 75 ℃ 에서 5 시간으로 바꾼 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 수분산형 아크릴계 점착제를 조제하였다. 이 수분산형 아크릴계 점착제의 잔존 모노머량은 5100 ppm 이었다. 수분산형 아크릴계 점착제 (에멀션) 중의 (메트)아크릴계 폴리머의 평균 입자직경은 0.088 ㎛ 였다.
(점착제층의 형성 및 점착형 편광판의 제조)
실시예 1 에 있어서, 점착제층의 형성에 있어서, 상기에서 조정한 수분산형 아크릴계 점착제를 사용한 것, 열풍 순환식 오븐의 건조 조건을 100 ℃ 에서 30 분간으로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 점착제층을 형성하였다. 또, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착형 편광판을 제조하였다. 상기 첩합 전의 점착제층의 잔존 모노머량은 48 ppm 이었다.
실시예 4
(점착제층의 형성 및 점착형 편광판의 제조)
실시예 1 에 있어서, 점착제층의 형성에 있어서, 수분산형 아크릴계 점착제로서 상기 실시예 3 에서 조정한 수분산형 아크릴계 점착제를 사용한 것, 열풍 순환식 오븐의 건조 조건을 80 ℃ 에서 40 분간으로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 점착제층을 형성하였다. 또, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착형 편광판을 제조하였다. 상기 첩합 전의 점착제층의 잔존 모노머량은 80 ppm 이었다.
실시예 5
(점착제층의 형성 및 점착형 편광판의 제조)
실시예 1 에서 조제한 수분산형 아크릴계 점착제를, 건조 후의 두께가 25 ㎛ 가 되도록, 이형 필름 (미츠비시 화학 폴리에스테르사 제조, 다이아 호일 MRF-38, 폴리에틸렌테레프탈레이트 기재) 상에 콤마 코터법에 의해 연속 도포한 후, 실험 도포기 오븐에 의해 연속 건조를 실시하여, 점착제층을 형성하였다. 실험 도포기 오븐에 의한 건조는 120 ℃ 에서 1 분간과 130 ℃ 에서 2 분간의 2 단계로 실시하였다. 당해 점착제층을 편광판 (닛토 전공 제조, 제품명 SEG-DU) 과 첩합하여, 점착형 편광판을 제조하였다. 상기 첩합 전의 점착제층의 잔존 모노머량은 10 ppm 이었다.
비교예 1
(점착제층의 형성 및 점착형 편광판의 제조)
실시예 1 에 있어서, 점착제층의 형성에 있어서, 열풍 순환식 오븐의 건조 조건을 100 ℃ 에서 2 분간으로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 점착제층을 형성하였다. 또, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착형 편광판을 제조하였다. 상기 첩합 전의 점착제층의 잔존 모노머량은 250 ppm 이었다.
비교예 2
(점착제층의 형성 및 점착형 편광판의 제조)
실시예 1 에 있어서, 점착제층의 형성에 있어서, 열풍 순환식 오븐의 건조 조건을 180 ℃ 에서 10 분간으로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 점착제층을 형성하였다. 또, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착형 편광판을 제조하였다. 상기 첩합 전의 점착제층의 잔존 모노머량은 2 ppm 이었다. 또한, 얻어진 점착제층은 약간 갈색을 띠고 있었다.
비교예 3
(수분산형 아크릴계 점착제의 조제)
실시예 1 에 있어서, 수분산형 아크릴계 점착제 (수분산액：에멀션) 의 조제에 있어서, 최종 중합을 실시하지 않은 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 수분산형 아크릴계 점착제를 조제하였다. 이 수분산형 아크릴계 점착제의 잔존 모노머량은 28000 ppm 이었다. 수분산형 아크릴계 점착제 (에멀션) 중의 (메트)아크릴계 폴리머의 평균 입자직경은 0.085 ㎛ 였다.
(점착제층의 형성 및 점착형 편광판의 제조)
실시예 1 에 있어서, 점착제층의 형성에 있어서, 상기에서 조정한 수분산형 아크릴계 점착제를 사용한 것, 열풍 순환식 오븐의 건조 조건을 150 ℃ 에서 3 분간으로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 점착제층을 형성하였다. 또, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착형 편광판을 제조하였다. 상기 첩합 전의 점착제층의 잔존 모노머량은 120 ppm 이었다.
비교예 4
(수분산형 아크릴계 점착제의 조제)
실시예 1 에 있어서, 최종 중합에 의해 얻어진, 고형분 농도 45 ％ 의 수분산형 아크릴계 점착제 (수분산액：에멀션) 100 부 (고형분) 에 대해, 30 ％ 과산화수소수 0.3 부, 아스코르브산 0.6 부를 첨가하여 75 ℃ 에서 3 시간 가열하였다. 그 후, 당해 수분산형 아크릴계 점착제를 실온까지 냉각시킨 후, 농도 10 ％ 의 암모니아수를 30 부 첨가하고, 추가로 증류수를 첨가하여, 고형분 39 ％ 로 조정하였다. 이 수분산형 아크릴계 점착제의 잔존 모노머량은 1200 ppm 이었다. 수분산형 아크릴계 점착제 (에멀션) 중의 (메트)아크릴계 폴리머의 평균 입자직경은 0.082 ㎛ 였다.
(점착제층의 형성 및 점착형 편광판의 제조)
실시예 1 에 있어서, 점착제층의 형성에 있어서, 상기에서 조정한 수분산형 아크릴계 점착제를 사용한 것, 열풍 순환식 오븐의 건조 조건을 140 ℃ 에서 15 분간으로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 점착제층을 형성하였다. 또, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착형 편광판을 제조하였다. 상기 첩합 전의 점착제층의 잔존 모노머량은 4 ppm 이었다.
상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 점착형 편광판에 대하여 이하의 평가를 실시하였다. 평가 결과를 표 1 에 나타낸다.
［점착형 광학 필름의 내구성 평가］
각 실시예 및 각 비교예의 점착형 편광판을, 235 ㎜ × 310 ㎜ 의 크기로 절단하고, 이것을, 두께 0.7 ㎜ 의 유리판 (코닝 ＃1737, 코닝 (주) 제조) 에 첩착하여, 50 ℃, 0.5 MPa 의 오토클레이브 안에 15 분간 방치하였다. 그 후, 80 ℃ 의 분위기 하 (가열), 및 60 ℃／90 ％ RH 의 분위기 하 (가습) 에서, 500 시간 가열하여, 점착형 편광판의 발포, 박리의 유무를 루페를 사용한 육안 관찰에 의해 확인하였다. 또한, 점착형 편광판의 박리의 유무에 대해 확인하여, 하기의 기준으로 판단하였다.
＜가열 내구성＞
4：100 ㎛ 이상의 기포가 1 ㎠ 중에 없음.
3：100 ㎛ 이상의 기포가 1 ㎠ 중에 1 ∼ 5 개.
2：100 ㎛ 이상의 기포가 1 ㎠ 중에 6 ∼ 10 개.
1：100 ㎛ 이상의 기포가 1 ㎠ 중에 11 개 이상.
＜가습 내구성＞
4：점착형 편광판의 단부에 박리의 발생 없음.
3：점착형 편광판의 단부로부터 0.1 ㎜ 이내의 지점에 박리가 발생.
2：점착형 편광판의 단부로부터 0.1 ㎜ 를 초과하고 1 ㎜ 이내의 지점에 박리가 발생.
1：점착형 편광판의 단부로부터 1 ㎜ 를 초과하는 지점에 박리가 발생.
［중합액의 부패 시험］
용량 900 ㎖ 의 빈 마요네즈병을, 뚜껑을 연 상태로, 약 1 주간 방치하고, 그 후, 그 안에 각 실시예 및 각 비교예에 있어서의 수분산형 아크릴계 점착제 (잔존 모노머량을 측정한 에멀션) 850 g 을 투입하여, 뚜껑을 덮었다. 그 상태에서, 실온에서 3 개월간, 냉암소에 방치하여, 부패의 유무를, 색미 및 냄새의 관점에서 하기 기준에 의해 판정하였다.
○：색미, 냄새에 있어서 초기와 차이를 볼 수 없었다.
×：액 상부에 다갈색의 부패물이 부유하고, 시큼한 냄새가 발생하였다.
Figure 112012054078203-pct00002

Claims (8)

  1. 광학 필름용 점착제층으로서,
    상기 점착제층은 적어도 베이스 폴리머가 수중에 분산 함유되어 있는 수분산액을 함유하는 수분산형 점착제를 도포한 후, 건조시킴으로써 형성된 것이고,
    또한 당해 점착제층 중의 잔존 모노머량이 점착제층의 고형분 1 g 에 대해 5 ∼ 100 ppm 이고,
    상기 베이스 폴리머로서, 하기 일반식 (1):
    Figure 112016125836556-pct00003

    (일반식 (1) 중, R1 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2 는 탄소수 1 ~ 4 의 알킬렌기, m 은 2 이상의 정수를 나타내고, M1 및 M2 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 카티온을 나타낸다) 로 나타내는 인산기 또는 그 염 함유 모노머 를 함유하는 모노머 성분을 유화 중합하여 얻어지는 (메트)아크릴계 폴리머를 사용하는 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 모노머 성분이 알킬기의 평균 탄소수가 3 ~ 9 인 (메트)아크릴산알킬에스테르를 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층.
  3. 제 1 항에 있어서,
    카르복실기 함유 모노머를 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층.
  4. 제 1 항에 있어서,
    실리콘계 (메트)아크릴레이트 모노머를 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제층.
  5. 광학 필름의 적어도 편측에, 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름용 점착제층이 적층되어 있는 것을 특징으로 하는 점착형 광학 필름.
  6. 제 5 항에 기재된 점착형 광학 필름의 제조 방법으로서,
    적어도 베이스 폴리머가 수중에 분산 함유되어 있는 수분산액으로 이루어지고, 또한 당해 수분산액의 고형분 1 g 에 대해 1500 ∼ 25000 ppm 의 잔존 모노머를 함유하는 수분산형 점착제를, 광학 필름의 편면 또는 양면에 도포하는 공정 (1), 및
    도포된 수분산형 점착제를, 80 ∼ 170 ℃ 의 건조 온도에서, 점착제층 중의 잔존 모노머량이 점착제층의 고형분 1 g 에 대해 5 ∼ 100 ppm 이 되도록 건조시켜, 점착제층을 형성하는 공정 (2A) 를 갖는 것을 특징으로 하는 점착형 광학 필름의 제조 방법.
  7. 제 5 항에 기재된 점착형 광학 필름의 제조 방법으로서,
    적어도 베이스 폴리머가 수중에 분산 함유되어 있는 수분산액으로 이루어지고, 또한 당해 수분산액의 고형분 1 g 에 대해 1500 ∼ 25000 ppm 의 잔존 모노머를 함유하는 수분산형 점착제를, 이형 필름의 편면 또는 양면에 도포하는 공정 (1),
    도포된 수분산형 점착제를, 80 ∼ 170 ℃ 의 건조 온도에서, 점착제층 중의 잔존 모노머량이 점착제층의 고형분 1 g 에 대해 5 ∼ 100 ppm 이 되도록 건조시켜, 점착제층을 형성하는 공정 (2B), 및
    이형 필름에 형성된 점착제층을 광학 필름에 첩합 (貼合) 하는 공정 (3) 을 갖는 것을 특징으로 하는 점착형 광학 필름의 제조 방법.
  8. 제 5 항에 기재된 점착형 광학 필름을 적어도 1 장 사용하고 있는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.
KR1020127017593A 2009-12-09 2010-10-28 광학 필름용 점착제층, 점착형 광학 필름, 그 제조 방법 및 화상 표시 장치 KR101771758B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009279874 2009-12-09
JPJP-P-2009-279874 2009-12-09
PCT/JP2010/069145 WO2011070870A1 (ja) 2009-12-09 2010-10-28 光学フィルム用粘着剤層、粘着型光学フィルム、その製造方法および画像表示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120104591A KR20120104591A (ko) 2012-09-21
KR101771758B1 true KR101771758B1 (ko) 2017-08-25

Family

ID=44145423

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020127017593A KR101771758B1 (ko) 2009-12-09 2010-10-28 광학 필름용 점착제층, 점착형 광학 필름, 그 제조 방법 및 화상 표시 장치

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20120251821A1 (ko)
JP (1) JP5683923B2 (ko)
KR (1) KR101771758B1 (ko)
CN (1) CN102652273B (ko)
TW (1) TWI502038B (ko)
WO (1) WO2011070870A1 (ko)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5893881B2 (ja) * 2011-09-26 2016-03-23 日東電工株式会社 光学フィルム用粘着剤層の製造方法、光学フィルム用粘着剤層、粘着型光学フィルムおよび画像表示装置
JP2013148722A (ja) * 2012-01-19 2013-08-01 Nitto Denko Corp 粘着剤層付光学フィルムおよび画像表示装置
US10510461B2 (en) * 2013-08-16 2019-12-17 Lg Chem, Ltd. Conductive film and production method thereof
CN107488417A (zh) * 2017-09-08 2017-12-19 安徽明讯新材料科技股份有限公司 基材可回收型触控屏用水溶胶光学保护膜及其制作方法
CN112251172A (zh) * 2020-09-30 2021-01-22 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司 光学粘合剂层，其制备方法，光学胶以及柔性显示装置
CN113980614B (zh) * 2021-11-18 2023-04-28 江阴市江泰高分子新材料有限公司 一种高洁净度保护膜及其制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002188063A (ja) * 2000-12-21 2002-07-05 Nitto Denko Corp 粘着シートの製造方法およびその装置
JP2005344014A (ja) * 2004-06-03 2005-12-15 Nitto Denko Corp 剥離力調整方法、光学部材用粘着剤層およびその製造方法、粘着剤付光学部材、ならびに画像表示装置
JP2006219532A (ja) * 2005-02-08 2006-08-24 Nitto Denko Corp 光学部材用粘着剤組成物およびその製造方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1276816B1 (it) * 1995-10-04 1997-11-03 Atochem Elf Italia Emulsione a basso voc
JP5145515B2 (ja) * 2001-02-19 2013-02-20 綜研化学株式会社 光学部材用アクリル系粘着剤組成物及び該組成物を用いた光学部材用粘着シートの製造方法
JP4603771B2 (ja) * 2003-04-28 2010-12-22 日東電工株式会社 水分散型光学部材用粘着剤組成物と粘着剤層付き光学部材
JP4895072B2 (ja) * 2004-11-26 2012-03-14 Ｄｉｃ株式会社 アクリル系水性粘着剤組成物の製造方法
JP4658616B2 (ja) * 2005-01-07 2011-03-23 リンテック株式会社 光ディスク用保護フィルム及びそれを用いた光ディスク
JP4236273B2 (ja) * 2006-03-13 2009-03-11 日東電工株式会社 粘着型光学フィルム及び画像表示装置
JP4754436B2 (ja) * 2006-08-17 2011-08-24 日東電工株式会社 光学部材用粘着剤層ならびに粘着剤付光学部材および画像表示装置
US7393901B1 (en) * 2007-02-16 2008-07-01 3M Innovative Properties Company Acrylate adhesives containing silica nanoparticles crosslinked with polyfunctional aziridines
JP2008303327A (ja) * 2007-06-08 2008-12-18 Nitto Denko Corp 水分散型粘着剤組成物、その製造方法、粘着型光学フィルムおよび画像表示装置
JP5204937B2 (ja) * 2007-06-18 2013-06-05 日東電工株式会社 光学部材用粘着剤組成物
JP2009197222A (ja) * 2008-01-25 2009-09-03 Nitto Denko Corp 粘着型光学フィルムの剥離方法、及び粘着型光学フィルム
US7714076B2 (en) * 2008-03-27 2010-05-11 3M Innovative Properties Company Acrylic pressure-sensitive adhesives with aziridine crosslinking agents
JP4870115B2 (ja) * 2008-05-09 2012-02-08 日東電工株式会社 液晶パネルのガラス基板貼着用の粘着型光学フィルム、液晶表示装置
JP2010053347A (ja) * 2008-07-31 2010-03-11 Jsr Corp 光拡散性粘着剤組成物、光拡散性粘着シート及びその製造方法
JP2011037129A (ja) * 2009-08-11 2011-02-24 Nippon Shokubai Co Ltd 易滑性と接着性とを有するフィルム

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002188063A (ja) * 2000-12-21 2002-07-05 Nitto Denko Corp 粘着シートの製造方法およびその装置
JP2005344014A (ja) * 2004-06-03 2005-12-15 Nitto Denko Corp 剥離力調整方法、光学部材用粘着剤層およびその製造方法、粘着剤付光学部材、ならびに画像表示装置
JP2006219532A (ja) * 2005-02-08 2006-08-24 Nitto Denko Corp 光学部材用粘着剤組成物およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI502038B (zh) 2015-10-01
CN102652273A (zh) 2012-08-29
JP2011140641A (ja) 2011-07-21
CN102652273B (zh) 2015-04-08
JP5683923B2 (ja) 2015-03-11
US20120251821A1 (en) 2012-10-04
TW201124498A (en) 2011-07-16
KR20120104591A (ko) 2012-09-21
WO2011070870A1 (ja) 2011-06-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101952385B (zh) 粘合剂组合物、粘合剂层、粘合部件及图像显示装置、及从图像显示装置剥离光学薄膜的方法及显示面板的取出方法
KR101203246B1 (ko) 점착제 조성물, 점착형 광학 필름 및 화상 표시 장치
KR101771758B1 (ko) 광학 필름용 점착제층, 점착형 광학 필름, 그 제조 방법 및 화상 표시 장치
KR102153297B1 (ko) 투명 도전층용 수분산형 점착제 조성물, 투명 도전층용 점착제층, 점착제층이 형성된 광학 필름, 및 액정 표시 장치
US20080281038A1 (en) Aqueous dispersion adhesive composition and adhesive film
KR101674701B1 (ko) 점착형 광학 필름, 그 제조 방법 및 화상 표시 장치, 및 점착제 도포액 및 그 제조 방법
CN105722936A (zh) 光学膜用水分散型粘合剂组合物、粘合剂层、粘合型光学膜及图像显示装置
KR101788888B1 (ko) 광학 필름용 점착제층, 점착형 광학 필름 및 화상 표시 장치
KR20150082073A (ko) 점착제층이 형성된 편보호 편광 필름의 제조 방법
KR101379536B1 (ko) 점착제층, 점착 부재, 그 제조 방법 및 화상 표시 장치
TW200524998A (en) Adhesive composition for optical members, adhesive layer for optical members, adhesive sheet for optical members, and optical members
KR20140091702A (ko) 점착제층이 형성된 광학 필름 및 화상 표시 장치
TW202039741A (zh) 黏著片材、光學積層體及圖像顯示裝置
JP5552364B2 (ja) 光学フィルム用水分散型粘着剤組成物、光学フィルム用粘着剤層、粘着型光学フィルムおよび画像表示装置
CN110177849A (zh) 粘合剂组合物、粘合剂层、以及带有粘合剂层的光学膜
KR20180018288A (ko) 광학 필름용 점착제 조성물 및 이를 이용한 점착제층, 광학부재 및 화상표시장치
JP5470217B2 (ja) 光学用水分散型粘着剤、光学用粘着剤層、粘着型光学フィルムおよび画像表示装置
KR20190066527A (ko) 광학 필름용 점착제 조성물, 점착제층, 광학 부재 및 화상표시장치
KR101947864B1 (ko) 광학 부재용 점착제 조성물, 점착 시트 및 적층체
JP5758088B2 (ja) 光学フィルム用粘着剤組成物、光学フィルム用粘着剤層、粘着型光学フィルムおよび画像表示装置
WO2018062283A1 (ja) 粘着剤組成物、粘着剤層、粘着剤層付偏光フィルム、液晶パネル、及び、画像表示装置
KR20180018300A (ko) 광학 필름용 점착제 조성물, 점착제층 및 이의 제조방법, 광학부재 및 화상표시장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant