TWI498667B - A mask substrate and a mask for manufacturing a flat panel display device - Google Patents
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JP5121020B2 (ja) * | 2008-09-26 | 2013-01-16 | Hoya株式会社 | 多階調フォトマスク、フォトマスクブランク、及びパターン転写方法 |
WO2010150355A1 (ja) * | 2009-06-23 | 2010-12-29 | Hoya株式会社 | 多階調フォトマスク |
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1026820A (ja) * | 1996-07-11 | 1998-01-27 | Toppan Printing Co Ltd | ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク |
JP2005037933A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-02-10 | Hoya Corp | グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク |
Family Cites Families (17)
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---|---|---|---|---|
JPH01214859A (ja) * | 1988-02-24 | 1989-08-29 | Hitachi Ltd | マスク |
JP3262302B2 (ja) * | 1993-04-09 | 2002-03-04 | 大日本印刷株式会社 | 位相シフトフォトマスク、位相シフトフォトマスク用ブランクス及びそれらの製造方法 |
KR100295385B1 (ko) * | 1993-04-09 | 2001-09-17 | 기타지마 요시토시 | 하프톤위상쉬프트포토마스크,하프톤위상쉬프트포토마스크용블랭크스및이들의제조방법 |
KR100311704B1 (ko) * | 1993-08-17 | 2001-12-15 | 기타오카 다카시 | 하프톤위상쉬프트포토마스크,하프톤위상쉬프트포토마스크용블랭크스및그블랭크스의제조방법 |
TW358170B (en) * | 1997-06-10 | 1999-05-11 | Taiwan Semiconductor Mfg Co Ltd | Semi-transparent phase shift mask structure and the manufacturing method |
JPH11125896A (ja) * | 1997-08-19 | 1999-05-11 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスクブランクス及びフォトマスク |
TW479159B (en) * | 2001-02-09 | 2002-03-11 | Nanya Technology Corp | Interlacing phase shift mask and its manufacturing method |
JP2003029393A (ja) * | 2001-07-12 | 2003-01-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マスク、それを用いたパターン形成方法およびリソグラフィ方法 |
JP2003195483A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-07-09 | Hoya Corp | フォトマスクブランク、フォトマスク、及びそれらの製造方法 |
JP2003322947A (ja) * | 2002-04-26 | 2003-11-14 | Hoya Corp | ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク |
GB0215243D0 (en) * | 2002-07-02 | 2002-08-14 | Koninkl Philips Electronics Nv | Mask and manufacturing method using mask |
JP2004177683A (ja) * | 2002-11-27 | 2004-06-24 | Clariant (Japan) Kk | 超高耐熱ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 |
WO2004070472A1 (ja) * | 2003-02-03 | 2004-08-19 | Hoya Corporation | フォトマスクブランク及びフォトマスク、並びにフォトマスクを用いたパターン転写方法 |
DE112004000591B4 (de) * | 2003-04-09 | 2020-09-10 | Hoya Corp. | Herstellungsverfahren für Photomaske |
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JP4919220B2 (ja) * | 2005-02-28 | 2012-04-18 | Hoya株式会社 | グレートーンマスク |
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JPH1026820A (ja) * | 1996-07-11 | 1998-01-27 | Toppan Printing Co Ltd | ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク |
JP2005037933A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-02-10 | Hoya Corp | グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク |
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