TWI490478B - 基板檢驗裝置 - Google Patents
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Description
本發明係關於在液晶顯示面板等係平板且透明之面板基板周緣部隔著異方導電膜安裝有電子零件或模組等的電路基板檢驗裝置。
近年來,製造液晶顯示(LCD)面板、電漿顯示面板(PDP)或有機EL顯示器等平面顯示器面板(FDP)時,於該面板基板周緣部形成之電極搭載驅動用IC等之情形下等,在透明(玻璃)基板上的電極接墊安裝晶片狀電子零件(IC或LSI等)或模組等之際,係使用隔著異方導電膜(ACF)貼附此電子零件等,使此等者之間電性連接之方法。
上述使用ACF之晶片安裝工序係採TAB方式、COG方式,且通常依序對面板(單位格)基板進行ACF貼附-IC晶片安裝-壓接-壓接狀態檢驗,該工序(線)尚由配置成一列的基板裝載機、基板清洗裝置、ACF貼附裝置、晶片安裝壓接裝置、基板檢驗裝置構成。
且使用如此晶片安裝方法時,作為判定上述驅動用IC等安裝狀態良否之方法,已知使用微分干涉觀察之方法。具體而言,自此IC晶片等安裝方向之背面側(透光側)以微分干涉顯微鏡等觀察安裝有IC晶片等之透明面板基板電極部位,計算因由異方導電膜中之導電性粒子壓倒而形成於電極之「壓痕」數量,壓痕數量多時,判定安裝狀態良好。
又,作為自動判定上述IC晶片等安裝狀態良否之方法,有人提議藉由使用CCD相機等攝影機構觀察壓接處(對比),以導電性粒子隆起狀態形狀或個數為條件加以判定之方法(專利文獻1),或藉由與預先測定、記憶之壓接處標準影像資料進行比較(圖案匹配),判定壓痕強弱、數量、位置偏離或異物混入等方法(專利文獻2)等。
且本案申請人亦於特願2008-53642中提議一種電子零件檢驗方法及用於該方法之裝置,藉由記憶檢驗時最佳焦點距離,利用此記憶之最佳焦點距離之資料,預測下次以後檢驗時之最佳焦點距離,可縮短攝影機構對焦所需之時間。
自動判定此等IC晶片等安裝狀態之裝置(基板檢驗裝置)中任一者皆組裝於如上述晶片安裝工序之最終過程部分,包含:平台(移動平台),將自工序上游側以輸送臂等移送(供給)而來之晶片安裝完畢的面板基板加以載置;及附微分干涉顯微鏡功能之攝影機構,自此面板基板背面側拍攝上述晶片安裝部分。
且上述移動平台中,可獨立控制X、Y、Z三軸,且可沿著此Z軸繞著θ軸任意旋轉,可使上述面板基板迅速移動至上述攝影機構可正確拍攝晶片安裝位置之位置(position)。
在此,上述移動平台中,上表面形成為平面之圓形或方形等,其表面設有用以固定所載置之面板基板之吸附機構。且上述附微分干涉顯微鏡功能之攝影機構為自安裝有晶片之透明面板基板電極部位其晶片安裝面背面側(透光側)觀察此安裝有晶片之透明面板基板電極部位,於上述面板基板其安裝面朝上載置在移動平台上時,上述攝影機構配置於較此移動平台更下側。相反地,上述面板基板其安裝面朝下載置在移動平台上時,上述攝影機構配置於較此移動平台更上側。
且為迅速拍攝(檢驗)複數處,檢驗裝置亦多具有複數組上述附微分干涉顯微鏡功能之攝影機構,此等攝影機構可在沿X方向或Y方向設置之導軌上滑動移動。
又,如上述自動判定IC晶片等安裝狀態之基板檢驗裝置中,面板基板安裝面朝上載置於移動平台上,自裝置下側拍攝安裝部位(通常係顯示面板周緣部,於本申請案中係檢驗對象部位)之類型內,係使用較檢驗對象基板小面積者於該移動平台,俾載置面板基板之移動平台不遮蔽檢驗對象部位。
且移動平台為方形等相對較大時,為防止該移動平台接觸攝影機構,使自裝置下側對晶片安裝部位進行攝影操作更易於實行,有時亦會採取一方法,於將檢驗對象基板載置在移動平台上時進行配置,俾自移動平台上表面中心朝攝影機構側偏移載置該檢驗對象基板,包含上述檢驗對象部位之檢驗對象端部自移動平台緣部突出。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2003-269934號公報
[專利文獻2]日本特開2005-227217號公報
然而,如上述,在面板基板其檢驗對象部位(端部)自移動平台朝側方突出(橫向延伸)之狀態下載置該面板基板之基板檢驗裝置中,於檢驗時攝影機構對焦(focus)之際,會產生如以下之問題。
1)於面板基板產生翹曲或應變之間題
亦即,為取得檢驗對象部位微分干涉影像使用之攝影機構(CCD相機或微分干涉顯微鏡等)焦點深度(景深)大致為±數十μm,相對於此,係檢驗對象之液晶顯示(LCD)面板、電漿顯示面板(PDP)或有機EL顯示器等平面顯示器面板通常係使用大格式玻璃基材形成,故會因製造時加熱、壓迫或拉伸而分別沿面板寬度(長邊)方向產生相對較大的(數百μm以上)翹曲或應變。上述面板基板中央部雖係藉由先前所述之吸附機構等吸附、固定於平面之上述移動平台上表面,但係檢驗對象部位之端部(緣部)係自此移動平台朝空中(側方)如凸緣般延伸,故無法矯正於每一面板不同之翹曲或應變,會成為延緩上述攝影機構對焦作業之原因。
2)面板基板振動之收斂需花費時間之間題
亦即,近年來尤其因業界要求基板檢驗迅速化,上述載置面板基板之移動平台多以相對較高之高速驅動,會發生定位結束,上述移動平台停止後,此面板細微之振動仍依然不減弱之現象。特別是在僅中央部固定於移動平台之面板基板,係檢驗對象部位之端部(緣部)的振動收斂相當花費時間。此細微之振動不僅與上述翹曲或應變相同,會成為延遲上述攝影機構對焦作業之原因,亦會成為降低該檢驗對象部位安裝狀態良否判定精度之要因。
此等問題會隨著面板基板尺寸變大傾向於顯著,因今後平面顯示器面板會逐漸大型化,有成為更深刻間題之虞。且配合此,面板基板大型化會使載置側之移動平台亦需交換為大型者,若仍然持續使用小面積移動平台,會無法以平衡佳之方式支持此大型面板基板,導致該緣部翹曲或應變增大。
鑑於如此情事,本發明之目的在於提供一種基板檢驗裝置,可迅速且正確判定安裝於面板基板周緣部之電子零件安裝狀態良否,亦可輕易適應面板大型化。
為達成上述目的,本發明之第1要旨係一種基板檢驗裝置,包含:移動平台,將於端部附近之複數位置隔著異方導電膜安裝有電子零件之透明面板基板載置於其上表面,移動基板至既定檢驗位置,定位該基板;攝影機構,自安裝有電子零件之基板面的背面側透過該基板拍攝該安裝有電子零件之檢驗對象部位,取得該部位之微分干涉影像;線性驅動機構,沿定位於該檢驗位置之基板各檢驗對象部位使該攝影機構滑動移動;及資訊處理機構,根據自該攝影機構獲得之影像資料,判定所拍攝之檢驗對象部位安裝狀態良否;且在包含該檢驗對象部位至少其中一方之基板端部朝該移動平台側方突出之狀態下,載置該基板於該移動平台上表面,該基板檢驗裝置之特徵在於:於該攝影機構附近配置有固定平台,以自下側支撐自該移動平台突出之基板端部。
且本發明之基板檢驗裝置第2要旨係其中特別是該固定平台形成為沿該攝影機構滑動方向延伸之棒狀。
且本發明之基板檢驗裝置第3要旨係其中尤其是該固定平台包含吸附並固定該面板基板之吸附機構。
本發明之基板檢驗裝置在於基板周緣部安裝有電子零件等之面板基板其安裝部位自移動平台朝側方突出之狀態下處理該於基板周緣部安裝有電子零件等之面板基板,其中於面板基板下側且在攝影機構附近之位置設置固定平台,以自下表面側抵接上述面板基板之突出部位並支持之,藉此欲實現包含上述面板基板檢驗對象部位之端部位置穩定化,以提升基板檢驗之再現性與精度。
亦即,本發明之基板檢驗裝置不僅配置面板基板端部(檢驗對象部位),俾自移動平台朝側方突出,尚以固定平台作為穩定的基台自下側支撐之,故即使移動平台移動以交換基板,此等面板基板之檢驗對象部位每次亦可皆設定於相同位置(高度)。
且支持上述面板基板端部,俾於接近其緣部之位置自下側將其抬起,故可矯正於每一面板不同(具有差異)之端部翹曲或應變,並吸收因上述移動平台移動而產生之振動,可迅速使其收斂。
因此,本發明之基板檢驗裝置可抑制此等翹曲或振動等對檢驗造成的不良影響至最小限度,提升安裝狀態檢驗之再現性與精度。
又,面板基板之檢驗對象部位每次皆設定於相同位置,因移動平台移動造成之振動亦會迅速收斂,故此基板檢驗裝置中,自面板設定起至進入攝影作業止之待命時間短,且拍攝時對焦所需之時間亦短。因此,相較於以往本發明之基板檢驗裝置可使此等一連串檢驗作業(工序)高速化。
且此基板檢驗裝置中,面板基板係由上述移動平台與固定平台以2點支持,故即使係大型(大面積)之基板亦可穩定受到支持。因此,本發明之基板檢驗裝置亦可輕易適應面板大型化。
且本發明之基板檢驗裝置內,其中特別是上述固定平台形成為沿上述攝影機構滑動方向延伸之棒狀,係因其可橫跨全寬一併支撐面板基板檢驗對象端部,相當理想。且此棒狀固定平台之長度大於作為檢驗對象假定之最大尺寸面板基板之長度,藉此在不交換上述移動平台等情形下,可輕易對應各種尺寸之面板基板。
又,本發明之基板檢驗裝置內,其中尤其是上述固定平台包含吸附並固定上述面板基板之吸附機構,係因其可牢固確實地固定上述面板基板之檢驗對象端部。且因吸附並固定面板基板之檢驗對象端部,可某程度矯正於每一面板不同之翹曲或應變,且具有上述移動平台停止後面板之振動亦可迅速收斂之優點。
其次根據圖式詳細說明本發明實施形態。惟本發明不由該實施形態所限定。
圖1係本發明第1實施形態中基板檢驗裝置重要部位之構成圖,圖2係顯示於該基板檢驗裝置設定有係檢驗對象之面板基板之狀態圖。又,說明貼附裝置內(及工序內)基板之移動方向為X方向,正交於此X方向裝置內之進深方向為Y方向,裝置之上下(垂直)方向為Z方向。且移動平台1及固定平台4上表面所配置之吸附機構(面板固定機構)中,抽吸泵或係空氣流路之配管等圖示已省略。
配置本實施形態中之基板檢驗裝置組裝於使晶片狀電子零件或模組等夾隔著異方導電膜而安裝於工作件W(液晶顯示面板、電子電路基板等)之工序(線)一部分,作為工序整體依裝載機→基板清洗裝置→異方導電膜貼附裝置(ACF轉印)→晶片壓接裝置(COG或是FPC之暫時壓接、持續壓接)→基板檢驗裝置(AOI)→卸載機之順序構成。
於第1實施形態中基板檢驗裝置內,使用後述之輸送臂等將藉由位於工序上游側(圖1中左方)之異方導電膜貼附裝置及晶片壓接裝置(省略圖示),於面板基板10一方端部附近既定位置安裝有複數IC晶片(驅動器IC)11之LCD面板(工作件W)導入裝置本體內,移載並吸附、固定於附吸附接墊之移動平台1後,移動此移動平台1至既定檢驗位置,以附微分干涉顯微鏡功能之攝影機構2拍攝載置於其上表面1a之面板基板10上的上述晶片安裝部位。且於該基板檢驗裝置設有位於面板基板10下側,支持此基板10檢驗對象部位之固定平台4。
移動平台1可獨立控制X、Y、Z三軸,且可沿此Z軸繞著θ軸任意旋轉。沿XY二方向分別設有用以引導搭載有上述移動平台1之基台之導軌,使用伺服馬達(省略圖示)於此驅動。且移動平台1包含:伺服馬達,可調節Z軸方向高度;及伺服馬達,控制沿此Z軸繞著θ軸之旋轉。
又,形成移動平台1面板載置面(上表面1a)面積小於係檢驗對象之面板基板10,為輕易自後述晶片安裝部位背面側進行攝影作業,可在面板基板10之檢驗對象部位(端部10a)自移動平台1朝側方突出(橫向延伸)之狀態下進行載置。且形成此上表面1a大致平坦,於其表面配置有具有連通上述吸附機構之狹縫或吸氣孔等之吸附接墊。
攝影機構2如圖2,由下列各部分組合而成:物鏡部2a;微分干涉顯微鏡部2b,包含微分干涉稜鏡及附同軸頂置照明之鏡體;及CCD相機部2c,具有影像資料輸出功能;且可自安裝有IC晶片11之面的背面側,針對面板基板10,於每一既定點拍攝其放大影像。
又,微分干涉顯微鏡部2b其特徵在於可藉由上述微分干涉稜鏡,將被攝體之折射率或厚度變化轉換為干涉色之變化或明暗之對比而加以觀察。又,宜使用熱放射少的藍色發光二極體於上述照明之光源。
且攝影機構2配置在可沿定位於上述檢驗位置之基板各檢驗對象部位,在導軌上沿X方向滑動移動之線性驅動機構3上,藉由重複移動與拍攝,自於上述面板基板10一方端部10a附近既定位置所安裝之IC晶片11端子(電極)部其背面側依序檢驗於上述面板基板10一方端部10a附近既定位置所安裝之IC晶片11端子(電極)部。
又,上述線性驅動機構3中使用有可高速移動之線性伺服致動器(省略圖示)。且線性驅動機構3具有用以沿Z方向(上下方向)調節攝影機構2高度並對焦之Z方向調整機構3a。此Z方向調整機構3a中使用有可以微米(μm)單位調整攝影機構2高度之線性步進致動器。
本實施形態中基板檢驗裝置之特徵在於如前所述,於面板基板10下側且在攝影機構2附近之位置,配置有支撐上述面板基板10檢驗對象部位(端部10a)之固定平台4。此固定平台4配置於上述移動平台1與攝影機構2之間,於上述面板基板10中自移動平台1朝側方突出之部位,且係檢驗對象部位以外之位置,自下表面側抵接並支持之。又,於此固定平台4上表面4a亦與上述移動平台1相同,配置有先前所述具有連通吸附機構之狹縫或吸氣孔等之吸附接墊。
其次說明關於使用上述構成之基板檢驗裝置檢驗LCD面板等面板基板10(工作件W)之程序。
於上述構成之基板檢驗裝置中,首先自工序上游側,藉由輸送臂等將係檢驗對象之晶片安裝完畢的面板基板10導入裝置內,載置在移動平台1上,俾其上表面1a位於面板基板10大致中央部。又,藉由移動平台上表面1a之吸附接墊吸附、固定面板中央部,並呈係該檢驗對象部位之端部10a自移動平台1朝側方(Y方向)突出之狀態。
其後,以移動平台1支持面板中央部,直接沿Z方向稍微抬起此面板基板10,藉由上述移動平台1之XY移動,如以圖2之雙點劃線所示,移動至面板基板10IC晶片11安裝部面對攝影機構2物鏡部2a上方之檢驗位置。又,藉由另外設置之CCD相機等面板位置確認機構認知到面板基板10上的對準記號等,微調至移動平台1 XY方向位置及θ軸旋轉角正確之位置後,移動平台1下降,面板基板10定位於正確之檢驗位置(圖2之實線狀態)。
此時,面板基板10係檢驗對象部位之端部10a(晶片安裝部位)於接近上述攝影機構2之位置由固定平台4自面板下側支持,且藉由設於其上表面4a之上述吸附接墊吸附、固定,使面板基板10之定位確實。
其次,攝影機構2與其基台一齊在線性驅動機構3上沿X方向滑動移動,於每一既定點對焦(focus),拍攝其放大影像。且將經拍攝之影像資料(微分干涉像)送往未圖示之資訊處理機構,判定經拍攝之檢驗對象部位安裝狀態良否。
又,於上述資訊處理機構中,藉由預先所設定,對應檢驗項目之既定運算程式,轉換由攝影機構2輸入之影像資料(例如轉換為根據256等級之輝度尺度之輝度分布資料),將此與於每一檢驗項目所設定之基準資料相比較,偵測不合該基準者為不良。
且上述資訊處理機構中,作為以下所述,用以對焦(focus)之校準系統之一環,設有最佳焦點距離計算部與其最佳焦點距離記憶部。亦即,依此系統,於依序檢驗上述LCD面板等面板基板10時,在檢驗之前,先於相同之檢驗點對該最初之面板基板10重複進行複數次用以對焦之攝影,根據所得之影像資料計算最佳焦點距離,依此數值沿Z方向調節攝影機構2(之物鏡2a)以進行對焦,在此狀態下進行用以檢驗之攝影,並於上述資訊處理機構記憶該對焦時所計算之最佳焦點距離。
又,搭載有一系統,於下次以後的檢驗中,不自另外設定之基準值,或隨機數值鎖定焦點距離,而係依既定之運算法則自該所記憶之最佳焦點距離導出預測最佳焦點距離,按照該距離決定攝影機構2Z方向之初期位置,自此位置自動對焦。
且於逐一重複檢驗之過程中,可每次皆記憶對焦時之最佳焦點距離,自該所記憶之最佳焦點距離掌握係檢驗對象之面板基板10形狀之差異傾向,故若自前次以前所記憶之最佳焦點距離之差異中抽出一定的傾向,施加對應該差異之修正而導出預測最佳焦點距離,即可更迅速地依重複檢驗,對應係對象之晶片安裝部位之差異傾向進行對焦。
依上述構成,於本實施形態中基板檢驗裝置內支持面板基板10端部10a,俾於接近該緣部之位置自下側抬起,故可抑制於每一面板不同(具有差異)的端部10a之翹曲或應變,並可確實設定係檢驗對象部位之面板基板10端部10a於每次相同之位置(高度)。
且由固定平台4迅速吸收因上述移動平台1移動而產生之振動,傳至面板基板端部10a之振動亦少,故本實施形態中之基板檢驗裝置可抑制此等翹曲或振動等對檢驗所造成之不良影響至最低限度,提升安裝狀態檢驗之再現性與精度。
又,面板基板10之檢驗對象部位每次皆設定於相同位置,因移動平台1移動而產生之振動亦會迅速收斂,故此基板檢驗裝置自面板設定至進入攝影作業之待命時間短,且因上述用以對焦(focus)之校準系統,攝影時對焦所需之時間亦短。因此,相較於習知者本實施形態中之基板檢驗裝置可使此等一連串檢驗作業(工序)高速化。
又,此基板檢驗裝置中上述固定平台4會吸附固定面板基板10之端部10a,故有可矯正某程度於每一面板不同之翹曲或應變之優點。
且上述固定平台4形成為沿攝影機構2滑動方向延伸之棒狀,故可橫跨全寬一併支撐面板基板10之檢驗對象端部,相當理想。且藉由使此棒狀固定平台4之長度大於作為檢驗對象假定之最大尺寸面板基板10之長度,可在不交換上述移動平台1等之情況下,輕易對應各種尺寸之面板基板10。
其次,作為第2實施形態,說明本發明基板檢驗裝置作為實際晶片安裝工序(線)的一部分組裝之例。
圖3係示意顯示本發明第2實施形態中基板檢驗裝置構成與動作圖。
本實施形態中之基板檢驗裝置亦組裝並配置於夾隔著異方導電膜安裝晶片狀電子零件或模組等於工作件W之工序(線)的一部分內,此基板檢驗裝置(AOI)使用輸送臂12將於工序上游側(圖3中左方)安裝有複數晶片狀電子零件或模組等在工作件W既定位置之平面顯示器面板(FDP)導入裝置本體內,移載並吸附、固定於附吸附接墊之移動平台1、1’後,移動此移動平台1、1’至既定檢驗位置,以附微分干涉顯微鏡功能之攝影機構2、2’拍攝載置於其上表面FDP上的上述晶片安裝部位。
又,此基板檢驗裝置中,檢驗線並列設有2線,可使2個工作件W平行同時檢驗。因此,其移動平台(1、1’)與攝影機構(2、2’)配備有2組(2 set)。且雖與第1實施形態相同,亦設有自下側支撐工作件W檢驗對象端部之固定平台(4),但非分別形成於每一此等檢驗線,而係作為共通之棒狀固定平台5形成於2個檢驗線。
其次,說明關於此基板檢驗裝置(AOI)之動作(工作件流程)。
基板檢驗裝置使用輸送臂12將藉由位於工序上游側(圖3中左方)之異方導電膜貼附裝置及晶片壓接裝置(省略圖示)於平面顯示器面板(FDP)之既定位置安裝有複數晶片狀電子零件或模組等的工作件W導入裝置本體內,(A→B位置或是A→B’位置),移載至可沿XY二方向移動且可調節Z方向高度並繞著θ軸旋轉之附吸附接墊之移動平台1、1’後,藉由移動平台1上表面之吸附接墊吸附、固定各面板中央部(B、B’位置)。
又,以中央部支持各面板,直接沿Z方向稍微抬起此等面板,沿XY方向使上述移動平台1、1’滑動,移動至工作件W晶片安裝部面對各攝影機構2、2’滑動位置上方之位置。藉由未圖示之CCD相機等面板位置確認機構認知工作件W上的對準記號等,微調至各移動平台1、1’XY方向位置及θ軸旋轉角正確之位置後,移動平台1、1’下降,定位各工作件W於正確檢驗位置(圖3C、C’位置)。
此時,與上述第1實施形態相同,於接近上述攝影機構2、2’之位置,藉由棒狀固定平台5自面板下側支持係工作件W檢驗對象部位之其端部(晶片安裝部位),並藉由設於其上表面之吸附接墊吸附、固定之,使各工作件W之定位確實。
其次,各攝影機構2、2’與其基台一齊在線性驅動機構(省略圖示)上沿X方向滑動移動,各攝影機構2、2’獨自於既定點對焦(focus),拍攝各檢驗對象部位之放大影像。且將經拍攝之影像資料(微分干涉像)送往未圖示之資訊處理機構,判定經拍攝之檢驗對象部位晶片安裝狀態良否。
又,檢驗對象部位不限於僅工作件W之一邊。檢驗形成於工作件W其他邊之安裝部位時,解除藉由上述棒狀固定平台5進行之吸附,沿Z方向稍微抬起面板,且藉由移動平台1移動及θ軸旋轉,設定新的檢驗對象端部。且藉由上述面板位置確認機構認知工作件W上的對準記號等,微調至各移動平台1、1’XY方向位置及θ角度正確之位置後,移動平台1、1’再次下降,定位各工作件W於新的檢驗位置。又,至檢驗對象各邊結束止,重複此操作。
工作件W全檢驗對象部位之判定一旦結束,即決定關於此工作件W之晶片安裝狀態之總合判定,記憶於上述資訊處理機構內。又,解除對各工作件藉由棒狀固定平台5進行之吸附,各工作件回到係移動平台1、1’之初期待命位置之B、B’位置,再由輸送臂12移載,移送至係工序下游側(圖3中右方)之判定待命位置(D位置)。
其後,將藉由上述資訊處理機構判定係「良品(Good)」之工作件W直接傳遞至工序下游側卸載機,更進行後處理等加工。且將藉由上述資訊處理機構判定係「不良品(NG)」之工作件W收納並集中於設於此基板檢驗裝置下游側之多段式不良品架(NG rack)13,拋棄或再利用之(圖3F位置)。
依上述構成,本實施形態之基板檢驗裝置亦可抑制於每一工作件W不同之翹曲或應變,並可確實設定工作件檢驗對象端部於每次相同之位置(高度)。且可防止上述各移動平台1、1’之振動傳至工作件W,提升安裝狀態檢驗之再現性與精度。
又,本實施形態中之基板檢驗裝置內,因移動平台1、1’移動而產生之振動可迅速收斂,工作件W自設定至進入攝影作業之待命時間短,且因上述檢驗線雙重化,可以更高效率檢驗基板。
且本實施形態之基板檢驗裝置中,上述固定平台5形成為沿攝影機構2、2’滑動方向延伸之棒狀,故可橫跨全寬一併支持工作件W之檢驗對象端部。且此棒狀固定平台5可在不交換上述移動平台1、1’等之情況下,輕易對應各種尺寸之面板。
又,依上述第2實施形態之基板檢驗裝置,可將因壓接IC晶片以往可見約200-400μm LCD模組端部之翹曲藉由棒狀固定平台5之吸附降低至100μm以下。
上述2個實施形態中,雖已揭示於每一各檢驗線逐一設置攝影機構2(2’)之例,但亦可於每一各檢驗線配置複數此攝影機構2。於每一檢驗線(沿X方向)設置複數個時,此等配置間隔宜配合安裝於上述工作件W或是面板基板10之晶片等安裝間隔。若間隔同步,即可使此等攝影機構同時併行,同時拍攝複數處,故可在更短時間內使檢驗結束。
且上述攝影機構2不僅可沿X方向設置,亦可沿Y方向單獨設置或是沿Y方向設置有複數個。依此構成,作為一整體可在非常短時間內使檢驗結束。又,於上述沿Y方向設置之攝影機構2附近,當然亦可設置支撐此工作件W或是面板基板10檢驗對象(Y方向)端部之固定平台。
【產業上利用性】
本發明之基板檢驗裝置對檢驗在液晶顯示(LCD)面板、電漿顯示面板(PDP)或有機EL顯示器等大型透明玻璃基板上隔著異方導電膜(ACF)壓接有晶片狀電子零件(IC或LSI等)或模組等之面板而言相當理想。
W‧‧‧工作件
1、1’‧‧‧移動平台
1a‧‧‧上表面
2、2’‧‧‧攝影機構
2a‧‧‧物鏡部
2b‧‧‧微分干涉顯微鏡部
2c‧‧‧CCD相機部
3‧‧‧線性驅動機構
3a‧‧‧Z方向調整機構
4、5‧‧‧固定平台
4a‧‧‧上表面
10‧‧‧面板基板
10a‧‧‧端部
11‧‧‧IC晶片
12‧‧‧輸送臂
13‧‧‧不良品架
圖1係顯示本發明第1實施形態中基板檢驗裝置重要部位構成之立體圖。
圖2係顯示於第1實施形態之基板檢驗裝置設定有係檢驗對象之面板基板之狀態之側視圖。
圖3係示意顯示本發明第2實施形態中基板檢驗裝置構成與動作圖。
W...工作件
1...移動平台
1a...上表面
2...攝影機構
3...線性驅動機構
4...固定平台
10...面板基板
Claims (3)
- 一種基板檢驗裝置,其特徵在於,包含:移動平台,將於端部附近之複數位置夾隔著異方導電膜安裝有電子零件之透明的面板基板,載置於該移動平台的上表面,移動基板至既定檢驗位置,並將該基板定位;攝影機構,自安裝有電子零件之基板面的背面側透過該基板拍攝安裝有電子零件之檢驗對象部位,取得該部位之微分干涉影像;線性驅動機構,沿定位於該檢驗位置之基板的各檢驗對象部位,使該攝影機構滑動移動;及資訊處理機構,根據自該攝影機構獲得之影像資料,判定所拍攝之檢驗對象部位安裝狀態之良否;且在包含該檢驗對象部位至少其中一方之基板端部朝該移動平台側方突出之狀態下,將該透明的面板基板載置於該移動平台上表面,於該攝影機構附近配置有固定平台,以自下側支撐自該移動平台突出之基板端部,並且該資訊處理機構包含校準系統,該校準系統係由下述者構成:最佳焦點距離計算部,根據自該攝影機構所得之影像資料計算最佳焦點距離;以及最佳焦點距離記憶部,記憶該計算的最佳焦點距離;且依既定之運算法自記憶在該最佳焦點距離記憶部的最佳焦點距離導出預測最佳焦點距離,按照該結果決定該攝影機構的焦點距離之初期位置,在第二次以後的檢驗中,自該初期位置開始進行攝影機構的對焦。
- 如申請專利範圍第1項之基板檢驗裝置,其中,該固定平台形成為沿該攝影機構滑動方向延伸之棒狀。
- 如申請專利範圍第1或2項之基板檢驗裝置,其中,該固定平台包含吸附並固定該面板基板之吸附機構。
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