TWI457624B - 光波導 - Google Patents

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Tatsuya Makino
Masami Ochiai
Atsushi Takahashi
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Description

光波導
本發明是關於一種光波導，更詳細而言，是關於一種可撓性(flexible)的、耐彎曲性高且光學特性優異的光波導。
在電子元件間或配線基板間的高速、高密度信號傳輸中，在先前的採用電氣配線的傳輸中，信號的相互干涉或衰減成為障礙，而開始看到高速、高密度化的極限。為了打破該極限，而研究了利用光將電子元件間或配線基板間加以連接的技術、即所謂的光互連(optical interconnection)。
為了在設備內部或設備間等的短距離中傳輸光信號，而期望一種可撓性的薄膜光波導(film optical waveguide)。特別是在可攜式小型設備的內部對光波導進行配線的情況下，為了節省空間(space)，亦多以攀附在零件表面上的方式進行配線，而需要一種能以小曲率半徑進行彎曲的聚合物薄膜光波導(polymer film optical waveguide)。
為了提高可撓性光波導的彎曲性或形狀恢復時的界面的追隨性，而進行了使用低彈性模數材料的光波導的開發。例如在專利文獻1及2中，提出了一種使光波導的彎曲彈性模數為1000MPa或1000MPa以下、使膜厚為150μm或150μm以下，且耐彎曲性、耐扭轉性高的薄膜光 波導。但是，因使用壓模(stamper)來製作光波導，故存在設計的自由度低，而難以進行設計的變更的缺點。
專利文獻1：日本專利第3870976號
專利文獻2：日本專利第3906870號
除上述問題外，在如專利文獻1及2中所揭示的在包覆層(cladding layer)中使用彈性體(elastomer)的光波導中，因包覆層的總光線透射率低而引起的核心層(core layer)的光傳播損失(optical propagation loss)變大的問題，亦藉由發明者的研究而明瞭。因此，本發明是鑒於上述問題而完成的，其目的在於提供一種耐彎曲性良好且光學特性良好的光波導。
本發明者等人反覆銳意研究的結果發現：於包含下部包覆層、經圖案化(patterning)的核心層以及上部包覆層的光波導中，藉由在上部包覆層上進一步配置具有特定物性的低彈性層，而可解決上述問題。
即，本發明提供一種光波導，其是按下部包覆層、經圖案化的核心層、上部包覆層以及上部低彈性層的順序積層而成，該光波導的特徵在於：將該上部低彈性層形成用樹脂組成物硬化而成的膜於25℃下的拉伸彈性模數為1MPa~2000MPa，且將該上部包覆層形成用樹脂膜硬化而成的厚度為110μm的硬化膜的總光線透射率為90%以上。
根據本發明，可提供一種耐彎曲性良好且光學特性良 好的光波導。
為讓本發明之上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
以下，參照圖1來對本發明的光波導進行說明。本發明的光波導1具有按下部包覆層4、經圖案化的核心層7、上部包覆層5以及上部低彈性層6的順序積層而成的構成。並且，較好的是進一步具有下部低彈性層3，從而具有按下部低彈性層3、下部包覆層4、經圖案化的核心層7、上部包覆層5以及上部低彈性層6的順序積層而成的構成。另外，圖1中，表示在基材2上積層了上述構成的光波導的構成，但並不限定於此，亦可採用基材配置於上部低彈性層6側的構成。
為了對光波導賦予可撓性、柔軟性以及強韌性，基材2的種類可較好地使用高分子膜。
構成該高分子膜的材料並無特別限制，就具有柔軟性、強韌性等的觀點而言，除聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯外，可較好地舉出：聚乙烯、聚丙烯、聚醯胺、聚碳酸酯、聚苯醚、聚醚硫醚、聚芳酯、液晶聚合物、聚碸、聚醚碸、聚醚醚酮、聚醚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚醯亞胺等。
該基材2的厚度並無特別限制，通常為5μm~50μm的範圍，較的好是10μm~40μm的範圍，更好的是15μm~30μm的範圍。
接著，用以形成下部包覆層4的樹脂組成物只要為折射率比核心層低且利用光來進行硬化的樹脂組成物，則並無特別限制，可使用感光性樹脂組成物。
更好的是包覆層形成用樹脂包含含有(A)基底聚合物(base polymer)、(B)光聚合性化合物以及(C)光聚合起始劑的樹脂組成物。
此處所使用的(A)基底聚合物用以形成包覆層並確保該包覆層的強度，只要是可達成該目的之聚合物，則並無特別限制，可舉出：苯氧樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚芳酯樹脂、聚醚醯胺、聚醚醯亞胺、聚醚碸等或者這些的衍生物等。這些基底聚合物可單獨使用1種，亦可混合使用2種或2種以上。上述所例示的基底聚合物中，就耐熱性高的觀點而言，較好的是在主鏈上具有芳香族骨架，特別好的是苯氧樹脂。
而且，為了確保包覆層形成用樹脂膜的透明性，較為重要的是與下文詳述的(B)光聚合性化合物的相容性，就此方面而言，較好的是上述苯氧樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂。另外，此處所謂(甲基)丙烯酸系樹脂，是指丙烯酸系樹脂及甲基丙烯酸系樹脂。
在苯氧樹脂中，含有雙酚A或者雙酚A型環氧化合物或其等的衍生物、及雙酚F或者雙酚F型環氧化合物或其等的衍生物作為共聚成分的構成單元的苯氧樹脂，因耐熱性、密接性以及溶解性優異而較好。雙酚A或雙酚A型環氧化合物的衍生物可較好地舉出：四溴雙酚A、四溴雙 酚A型環氧化合物等。
另外，雙酚F或雙酚F型環氧化合物的衍生物可較好地舉出：四溴雙酚F、四溴雙酚F型環氧化合物等。雙酚A/雙酚F共聚型苯氧樹脂的具體例可舉出：東都化成股份有限公司製造的「Phenotohto YP-70」(商品名)。
接著，(B)光聚合性化合物只要是藉由紫外線等光的照射而聚合的化合物，則並無特別限定，可舉出在分子內具有2個或2個以上的環氧基的化合物、或者在分子內具有乙烯性不飽和基的化合物等。
環氧樹脂例如可舉出：東都化學股份有限公司製造的「Epotohto YD-7020、Epotohto YD-7019、Epotohto YD-7017」(均為商品名)、Japan Epoxy Resins股份有限公司製造的「Epikote 1010、Epikote 1009、Epikote 1008」(均為商品名)等雙酚A型環氧樹脂，或者ADEKA股份有限公司製造的「KRM-2110」等脂環族環氧樹脂。
另外，(C)成分的光聚合起始劑並無特別限制，例如環氧化合物的起始劑可舉出：芳基重氮鎓鹽、二芳基錪鎓鹽、三芳基鋶鎓鹽、三烯丙基硒鎓鹽、二烷基啡嗪基鋶鎓鹽、二烷基-4-羥苯基鋶鎓鹽、磺酸酯等。
另外，在分子內具有乙烯性不飽和基的化合物的起始劑可舉出：二苯甲酮(benzophenone)等芳香族酮(ketone)、2-乙基蒽醌等醌(quinone)類、安息香甲醚等安息香醚化合物(benzoin ether)、安息香等安息香化合物、苯偶醯二甲基縮酮等苯偶醯(benzil)衍生物、2-(鄰氯苯基)-4,5-二 苯基咪唑二聚物等2,4,5-三芳基咪唑二聚物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦等氧化膦(phosphine oxide)類、9-苯基吖啶等吖啶(acridine)衍生物、N-苯基甘胺酸、N-苯基甘胺酸衍生物、香豆素(coumarin)系化合物等。
另外，亦可如二乙基硫雜蒽酮與二甲基胺基苯甲酸的組合般，將硫雜蒽酮(thioxanthone)系化合物與三級胺(amine)化合物組合。另外，就提高核心層及包覆層的透明性的觀點而言，上述化合物中較好的是芳香族酮及氧化膦類。
這些(C)光聚合起始劑可單獨使用，或者相組合而使用2種或2種以上。
另外，除此以外，視需要能以不對本發明的效果造成不良影響的比例，在本發明的包覆層形成用樹脂中添加抗氧化劑、抗黃變劑、紫外線吸收劑、可見光吸收劑、著色劑、塑化劑、穩定劑、填充劑等所謂的添加劑。
關於下部包覆層4的厚度，在具有後述的下部低彈性層3的情況下與不具有後述的下部低彈性層3的情況下，其厚度的較好的範圍不同。在具有下部低彈性層3的情況下，乾燥後的平均厚度較好的是3μm~20μm的範圍。若乾燥後的平均厚度為3μm或3μm以上，則可確保光的封閉所需的包覆厚度，若乾燥後的平均厚度為20μm或20μm以下，則可充分發揮後述的下部低彈性層3的效果，而獲得充分的柔軟性。就以上觀點而言，下部包覆層4的厚度更好的是3μm~10μm的範圍。
另一方面，在不具有下部低彈性層3的情況下，下部包覆層4的厚度較好的是3μm~500μm的範圍。若下部包覆層4的厚度為3μm或3μm以上，則可確保光的封閉所需的包覆厚度，若下部包覆層4的厚度為500μm或500μm以下，則容易將膜厚控制為均勻的水平。就以上觀點而言，該包覆層的厚度更好的是在3μm~100μm的範圍。
另外，將下部包覆層形成用樹脂組成物聚合、硬化而成的硬化膜於溫度25℃、波長830nm下的折射率，較好的是1.400~1.700。若折射率為1.400~1.700，則不會有與通常的光學樹脂的折射率較大不同，因此不會損害作為光學材料的通用性。就以上觀點而言，該硬化膜的折射率更好的是1.425~1.675，特別好的是1.450~1.650。
接著，用以形成核心層7的樹脂組成物是以核心層7的折射率比包覆層4及5高的方式進行設計，可使用藉由活性光線可形成核心圖案(core pattern)的樹脂組成物，較好的是感光性樹脂組成物。具體而言，較好的是使用與上述下部包覆層形成用樹脂組成物相同的樹脂組成物。即，為含有上述(A)、(B)及(C)成分並視需要含有上述任意成分的樹脂組成物。
核心層的厚度是以乾燥後通常為20μm~100μm的方式進行調整。若核心層的厚度為20μm或20μm以上，則存在如下優點：在形成光波導後的與受光元件或光纖(fiber)的結合中可使對準容差(alignment tolerance) 放大，若核心層的厚度為100μm或100μm以下，則存在如下優點：在形成光波導後的與受光元件或光纖的結合中，結合效率會提高。就以上觀點而言，核心層的厚度更好的是30μm~70μm的範圍。
接著，上部包覆層形成用樹脂組成物可較好地使用與上述下部包覆層形成用樹脂組成物相同的樹脂組成物。另外，用以形成上部包覆層與下部包覆層的樹脂組成物可相同亦可不同，但就密接性及製造效率的觀點而言，較好的是使用相同的樹脂組成物。
上部包覆層的厚度較好的是乾燥後的平均厚度為3μm~20μm的範圍。若乾燥後的平均厚度為3μm或3μm以上，則可確保光的封閉所需的包覆厚度，若乾燥後的平均厚度為20μm或20μm以下，則可充分發揮後述的上部低彈性層6的效果，而可對光波導賦予充分的柔軟性。通常，上部包覆層以嵌入核心圖案的方式增厚，但本發明中，如圖1所示，上部包覆層以包圍核心圖案的周圍的方式配置。
另外，將上部包覆層形成用樹脂組成物予以聚合、硬化而成的硬化膜於溫度為25℃、波長830nm下的折射率，較好的是與下部包覆層相同。
本發明的光波導的核心部與包覆層的相對折射率差較好的是1%~10%。若相對折射率差為1%或1%以上，則在彎曲時，在核心部中傳播的光不會漏出至包覆層。若相對折射率差為10%或10%以下，則在光波導與光纖等的連 接部，傳播光不會過度擴散，從而結合損失不會變大。就以上觀點而言，核心部與包覆層的相對折射率差更好的是1.5~7.5%，特別好的是2~7%。另外，相對折射率差是利用以下所示的式子而求出。
相對折射率差(%)=[(核心部的折射率)2 -(包覆層的折射率)2 ]/[2×(核心部的折射率)2 ]×100
本發明的光波導的特徵在於在上部包覆層上具有上部低彈性層6。上部低彈性層6必須是將上部低彈性層形成用樹脂組成物硬化而成的膜於25℃下的拉伸彈性模數為1MPa~2000MPa。若拉伸彈性模數為1MPa或1MPa以上，則進行彎曲試驗或扭轉試驗時，硬化膜不會伸長而恢復至原本的形狀。另一方面，若拉伸彈性模數為2000MPa或2000MPa以下，則在將膜沿厚度方向彎曲的情況下，能以小曲率半徑進行彎曲。就以上觀點而言，該拉伸彈性模數更好的是10MPa~1000MPa，尤其好的是20MPa~700MPa。
另外，此處所謂拉伸彈性模數，是指藉由以下方法而測定的拉伸彈性模數。
(拉伸彈性模數)
使用拉伸試驗機(Orientec股份有限公司製造的RTM-100)，在溫度為25℃、拉伸速度為50mm/min的條件下，依據JIS K 7127對所獲得的硬化膜(寬度為10mm，長度為70mm)進行拉伸試驗(夾具間距離為50mm)。拉伸彈性模數是使用拉伸應力-應變曲線的開始的直線部 分，利用以下所示的式子進行計算。
拉伸彈性模數(MPa)=直線上的2點間的應力的差(N)÷硬化膜的原本的平均截面積(mm2 )÷相同的2點間的應變的差
另外，將上部低彈性層形成用樹脂組成物硬化而成的膜的拉伸試驗中的拉伸降伏伸長率較好的是5%~600%。若拉伸降伏伸長率為5%或5%以上，則不會變脆而在彎曲時斷裂，因而較佳。另一方面，若拉伸降伏伸長率為600%或600%以下，則不會出現藉由彎曲試驗使硬化膜容易伸長而恢復不到原本的形狀的情況，因而較佳。就以上觀點而言，拉伸降伏伸長率更好的是6%~400%，尤其好的是7%~200%。
藉由該上部低彈性層，即便施加機械拉伸力，亦可吸收該力，因此可減小核心層的變形，從而可抑制光波導的傳輸特性的劣化。另外，所謂拉伸降伏伸長率，是指膜拉伸試驗中在膜進行降伏的時間點的伸長率，具體而言，是利用以下方法進行計算。
(拉伸降伏伸長率)
拉伸降伏伸長率是利用以下所示的式子進行計算。
拉伸降伏伸長率(%)=(塑性變形開始時的夾具間距離(mm)-初始的夾具間距離(mm))÷初始的夾具間距離(mm)×100
上部低彈性層的厚度較好的是乾燥後的平均厚度為5μm~100μm的範圍。若乾燥後的平均厚度為5μm或 5μm以上，則易獲得光波導的強韌性，若乾燥後的平均厚度為100μm或100μm以下，則可充分發揮後述的上部低弾性層6的效果，從而可對光波導賦予充分的柔軟性。
本發明的光波導中，將上部包覆層形成用樹脂組成物硬化而成的厚度為110μm的硬化膜的總光線透射率為90%以上。若總光線透射率為90%以上，則在經圖案化的核心層的周圍所配置的包覆層的透射率高，因此可維持良好的光學特性。即，藉由採取上述構成，而可實現具有柔軟性且高光學特性的光波導。
另外，總光線透射率的測定是藉由以下方法來進行。
(總光線透射率)
使用色度測定儀(日本電色工業股份有限公司製造的300A)，在溫度25℃下，依據JIS K 7105來對所獲得的硬化膜(寬度為30mm，長度為30mm)進行總光線透射率測定。
另外，本發明中的硬化是指：利用熱或者活性光線或上述兩方，使環氧基或乙烯性不飽和基等聚合性基發生充分反應，並且使膜發生硬化的狀態。
接著，下部低彈性層3中，將下部低彈性層形成用樹脂組成物硬化而成的膜於25℃下的拉伸彈性模數，較好的是1MPa~2000MPa。若拉伸彈性模數為1MPa或1MPa以上，則進行彎曲試驗或扭轉試驗時，硬化膜不會伸長而會恢復至原本的形狀。另一方面，若拉伸彈性模數為2000 MPa或2000MPa以下，則在將膜沿厚度方向彎曲的情況下，能以小曲率半徑進行彎曲。就以上觀點而言，該拉伸彈性模數更好的是10MPa~1000MPa，尤其好的是20MPa~700MPa。
下部低彈性層3與上述上部低彈性層6的效果相結合，對本發明的光波導賦予更良好的柔軟性。
下部低彈性層形成用樹脂組成物硬化而成的膜的拉伸試驗中的拉伸降伏伸長率及總光線透射率，較好的是亦與上部低彈性層形成用樹脂組成物的情況相同。
本發明的上部低彈性層形成用樹脂組成物及下部低彈性層形成用樹脂組成物(以下，將兩者一併簡稱為「低彈性層形成用樹脂組成物」)，只要具有上述物性，則並無特別限制，較好的是含有橡膠(gum)成分。具體而言，可較好地舉出丙烯酸系橡膠、丙烯腈-丁二烯橡膠。
另外，上部低彈性層形成用樹脂組成物與下部低彈性層形成用樹脂組成物可相同亦可不同，但就生產性方面而言，較好的是相同。
丙烯酸系橡膠是將丙烯酸酯作為主成分，且主要包含丙烯酸丁酯與丙烯腈等的共聚物、或者丙烯酸乙酯與丙烯腈等的共聚物等的橡膠。
共聚物單體例如可舉出：(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、丙烯腈等。
丙烯腈-丁二烯橡膠並無特別限制，可單獨使用公知的 丙烯腈-丁二烯橡膠，或者相組合而使用2種或2種以上。丙烯腈-丁二烯橡膠是藉由丙烯腈與丁二烯的乳化共聚而獲得，丙烯腈的含量較好的是5wt%(質量百分比)~60wt%的範圍，更好的是15wt%~40wt%的範圍。若丙烯腈的含量為上述範圍，則在與(甲基)丙烯酸酯及環氧樹脂等的相容性或者與其他樹脂的密接性方面有利。
丙烯酸系橡膠及丙烯腈-丁二烯橡膠可單獨使用1種，或者相組合而使用2種或2種以上，亦可併用丙烯酸系橡膠與丙烯腈-丁二烯橡膠。
這些橡膠成分的重量平均分子量較好的是10萬或10萬以上，更好的是10萬~300萬，尤其好的是30萬~300萬，特別好的是50萬~200萬。若重量平均分子量為10萬或10萬以上，則可充分獲得在片(sheet)狀、膜狀下的強度或可撓性，且黏性(tack)不會增大。另一方面，若重量平均分子量為300萬或300萬以下，則與其他樹脂成分的相容性良好。另外，本發明中，所謂重量平均分子量，是表示利用凝膠滲透層析法(gel-permeation chromatography)進行測定，並使用標準聚苯乙烯(polystyrene)校準曲線進行換算後的值。
另外，上述橡膠成分較好的是具有反應性官能基。反應性官能基例如可較好地舉出：羧基、環氧基、羥基、環硫(episulfide)基、醛基、環氧基、醯胺基、乙烯基、胺基、異氰酸酯基或者烯丙基等官能基。其中，就交聯性方面而言，較好的是羧基。這些官能基在丙烯腈-丁二烯橡膠 分子中的鍵結位置並無特別限制，例如可鍵結在主鏈的末端，亦可鍵結成為側鏈。或者亦可為上述橡膠成分與含反應性官能基的單體的共聚物。
如上所述，上部低彈性層及下部低彈性層主要對光波導賦予柔軟性，除此以外，例如亦可兼具對光波導賦予阻燃性的功能。為了表現阻燃性，可在上部低彈性層及下部低彈性層樹脂組成物中混入：磷酸酯類、磷酸鋁鹽、多磷酸鹽等含磷物；或者磷腈(phosphazene)系化合物、三聚氰胺系化合物、氫氧化鎂、氫氧化鋅、氫氧化鋁、鉬酸鋅等無機物。
另外，為了對光波導賦予耐濕耐熱性，亦可在上部低彈性層及下部低彈性層樹脂組成物中使用環氧系樹脂組成物等樹脂。
而且，為了防止2個或2個以上的核心層間的干擾(crosstalk)，亦可使用光損失大的樹脂組成物來作為上部低彈性層及下部低彈性層樹脂組成物。
接著，對本發明的光波導的製造方法加以說明。本發明的光波導例如可利用以下所示的方法進行製造。
首先，是藉由旋塗法(spin coat method)等在矽(silicon)等的基板上積層各層的方法。更具體而言，根據需要，藉由旋塗法等在基板上塗佈用以形成下部低彈性層的組成物，利用乾燥及烘烤(bake)等而形成下部低彈性層。接著，塗佈下部包覆層形成用樹脂組成物，利用乾燥及烘烤等而形成下部包覆層。在下部包覆層上塗佈核心 層形成用樹脂組成物，利用乾燥、烘烤等而形成核心層後，利用含Si的光阻劑(photoresist)等形成遮罩圖案(mask pattern)，藉由乾式蝕刻(dry etching)等而形成核心圖案。然後，利用與形成下部包覆層的方法相同的方法而形成上部包覆層。在該上部包覆層上塗佈上部低彈性層形成用樹脂組成物，進行乾燥並視需要進行烘烤等，藉此形成上部低彈性層，最後藉由自基板剝離，而製造膜狀的光波導。
另外，可預先準備1個核心層形成用樹脂膜、與2個包覆層形成用樹脂膜，藉由這些膜的積層與經由光罩(photo-mask)的曝光、顯影，而可形成本發明的光波導。就可保持膜厚的均勻性且以高生產性進行製造方面而言，該使用乾膜(dry film)的方法較好。
如上所述，本發明的光波導的特徵在於具有上部低彈性層，另外，此特徵在於根據需要而具有下部低彈性層。至於這些上部低彈性層及下部低彈性層，可預先獨立形成上部低彈性層形成用樹脂膜及/或下部低彈性層形成用樹脂膜，再與包覆層形成用樹脂膜及核心層形成用樹脂膜進行積層而製造光波導，亦可預先對上部包覆層形成用樹脂膜與上部低彈性層形成用樹脂膜、或者下部包覆層形成用樹脂膜與下部低彈性層形成用樹脂膜進行層壓(laminate)而製作複合膜，並將該複合膜積層而製造光波導。另外，該複合膜可藉由在上部包覆層形成用樹脂膜上塗佈上部低彈性層形成用樹脂組成物、或者在下部包覆層形成用樹脂膜上塗佈下部低彈性層形成用樹脂組成物而獲得，反之， 亦可藉由在低彈性層形成用樹脂膜上塗佈上部包覆層形成用樹脂組成物或下部包覆層形成用樹脂組成物而獲得。
包覆層形成用樹脂膜與低彈性層形成用樹脂膜的層壓的方法並無特別限制，較好的是滾筒層壓法(roll laminate method)或平板型層壓法等如氣泡不會進入至膜間的方法。
在使用平板型層壓的情況下，較理想的是於減壓下進行層壓，作為減壓的尺度的真空度較好的是10000Pa或10000Pa以下，更好的是1000Pa或1000Pa以下。就密接性及追隨性的觀點而言，較理想的是真空度較低，但因亦存在生產性的觀點(真空處理所需的時間)，故下限為10Pa左右。此處的加熱溫度較好的是40℃~130℃，壓接壓力較好的是0.1MPa~1.0MPa(1kgf/cm2 ~10kgf/cm2 )左右，但對這些條件並無特別限制。
另外，在使用預先將上部包覆層形成用樹脂膜與低彈性層形成用樹脂膜積層而成的複合膜的情況下，當在2種樹脂膜的支撐體膜的相反側存在保護膜時，均需要在層壓前將保護膜剝離。
上述包覆層形成用樹脂膜、核心層形成用樹脂膜以及低彈性層形成用樹脂膜(以下，有時將這些膜統稱而記作「光波導形成用樹脂膜」)，分別藉由將上述包覆層形成用樹脂組成物、核心層形成用樹脂組成物以及低彈性層形成用樹脂組成物溶解在溶劑中，並塗佈在支撐體膜上後將溶劑除去，而可容易地製造。
光波導形成用樹脂膜的厚度是以可獲得上述包覆層、核心層以及低彈性層的厚度的方式分別進行調整。
此處，支撐體膜是對光波導形成用膜進行支撐的支撐體膜，該支撐體膜的材料並無特別限定，可較好地使用可用作上述基材的高分子膜。
另外，在核心層形成用樹脂膜中，就之後容易將核心層形成用樹脂膜剝離且具有耐熱性及耐溶劑性的觀點而言，可特別好地舉出聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯、聚丙烯、聚乙烯等。
另外，該支撐體膜的厚度可根據目標柔軟性等進行適當改變，較好的是5μm~250μm。若該支撐體膜的厚度為5μm或5μm以上，則存在易獲得作為支撐體膜的強度的優點，若該支撐體膜的厚度為250μm或250μm以下，則可獲得充分的柔軟性。
而且，在核心層形成用樹脂膜中，就形成圖案(pattern)時與遮罩(mask)的間隙(gap)變小，而可形成更微細的圖案的方面而言，該支撐體膜的厚度更好的是50μm或50μm以下。就以上觀點而言，該支撐體膜的厚度尤其好的是10μm~40μm的範圍，特別好的是15μm~30μm。
光波導形成用樹脂膜的製造過程中所使用的溶劑只要可溶解樹脂組成物，則並無特別限制，例如可使用丙酮、甲基乙基酮、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、甲苯、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、丙二醇單甲醚、丙二醇單 甲醚乙酸酯、環己酮、N-甲基-2-吡咯啶酮等溶劑或者這些的混合溶劑。樹脂溶液中的固體成分濃度通常較好的是30wt%~80wt%左右。
另外，就上述光波導形成用樹脂膜的保護或者製造成滾筒(roll)狀時的捲取性等而言，視需要亦可在光波導形成用樹脂膜上貼合著保護膜。
保護膜可使用與支撐體膜相同的膜，視需要亦可進行脫模處理或抗靜電處理。
接著，分步驟來對使用乾膜製造光波導的情況進行詳細說明。另外，圖1表示具有下部低彈性層的型態，圖2是不具有下部低彈性層的型態。
本發明的光波導的製造方法中的第1步驟是將設置在基材上的下部包覆層形成用樹脂硬化，而形成下部包覆層。基材2的材料如上所述。
在使用膜作為圖2所示的基材2的情況下，可直接使用預先製作的包覆層形成用樹脂膜。即，將包含包覆層形成用樹脂與作為基材的支撐體膜2的下部包覆層形成用樹脂膜的下部包覆層形成用樹脂硬化，而形成包覆層4。該包覆層4的表面較好的是平坦表面。另外，亦可之後將基材剝離。
於下部包覆層形成用樹脂膜的支撐體膜2的相反側設置保護膜的情況下，利用光或加熱將下部包覆層形成用樹脂膜硬化，且在此之前或之後將該保護膜剝離，而形成下部包覆層4。在使用支撐體膜2作為基材的情況下，下部 包覆層形成用樹脂較好的是在已實施黏接處理的支撐體膜2上製膜。藉此，使下部包覆層4與基材2的黏接力提高，並可抑制下部包覆層4與基材2的剝離不良。
此處所謂黏接處理，是利用易黏接樹脂塗佈(coat)、電暈(corona)處理、藉由噴砂(sand blast)等的消光(mat)加工等，而使支撐體膜與形成於該支撐體膜上的包覆層樹脂的黏接力提高的處理。
另一方面，為了容易地將保護膜自包覆層形成用樹脂膜上剝離，較好的是不進行黏接處理，視需要亦可實施脫模處理。在使用與支撐體膜不同的基材作為基材2的情況下，在基材2上存在包覆層形成用樹脂膜的保護層時，將保護層剝離後，藉由使用滾筒貼合機(roll laminator)的層壓法等而轉印至基材2上，並將支撐體膜剝離。接著，利用光或加熱將包覆層形成樹脂予以硬化而形成包覆層4。
另外，亦可在未實施黏接處理的支撐體膜上形成包覆層形成用樹脂的膜，並利用層壓法等轉印至基材2上。
而且，亦可在上述基材2的單面或兩面上製作具有多重的多層上部包覆層、下部包覆層以及核心層的多層光波導。
此處，藉由使用在基材上積層下部低彈性層及下部包覆層的複合膜、或者層壓下部低彈性層形成用樹脂膜與下部包覆層形成用樹脂膜而成的膜，而可製造圖1所示的型態的光波導。
而且，亦可在上述基材2上設置電氣配線，在該情況下，可將預先設置了電氣配線的基材用作基材2。或者，可在製造多層光波導後，在基材2上形成電氣配線。藉此，具備基板2上的金屬配線的信號傳輸線與光波導的信號傳輸線的兩方，可將兩者分開使用，而可容易進行高速且長距離的信號傳輸。
接著，第2步驟是在上述下部包覆層4上積層核心層形成用樹脂，而形成核心層。此處，亦如上所述，當積層核心層形成用樹脂時，較好的是使用核心層形成用樹脂膜。更具體而言，使用滾筒貼合機，將核心層形成用樹脂膜壓接於下部包覆層4上而形成核心層。此處，當進行壓接時，亦可對滾筒進行加熱，較好的是室溫~100℃的範圍。若溫度超過100℃，則核心層在滾筒層壓時會流動，而無法獲得所需的膜厚。壓力較好的是0.2MPa~0.9MPa。層壓速度較好的是0.1m/min~3m/min，但對這些條件並無特別限制。
接著，利用平板型層壓，將積層了核心層的膜加熱壓接於下部包覆層4上。此處，就密接性及追隨性的觀點而言，較好的是於減壓下進行積層。作為減壓的尺度的真空度較好的是10000Pa或10000Pa以下，更好的是1000Pa或1000Pa以下。
就密接性及追隨性的觀點而言，較理想的是真空度較低，因亦存在生產性的觀點(真空處理所需的時間)，故下限為10Pa左右。此處的加熱溫度較好的是40℃~130℃， 壓接壓力較好的是0.1MPa~1.0MPa(1kgf/cm2 ~10kgf/cm2 )左右，但對這些條件並無特別限制。若核心層形成用樹脂膜包含核心層樹脂與支撐體膜，則容易進行處理而較好，或者亦可單獨由核心層樹脂構成。
於核心層形成用樹脂膜的基材的相反側設置保護膜的情況下，將該保護膜剝離後，對核心層形成用樹脂膜進行層壓。此時，為了容易地將保護膜及支撐體膜自核心層形成用樹脂膜上剝離，較好的是不進行黏接處理，視需要亦可實施脫模處理。
接著，第3步驟是對核心層進行曝光顯影，而形成光波導的核心圖案7。具體而言，通過光罩圖案，將活性光線照射成圖像狀。活性光線的光源例如可舉出：碳弧燈(carbon arc lamp)、水銀蒸氣電弧燈(mercury vapor arc lamp)、超高壓水銀燈、高壓水銀燈、氙氣燈(xenon lamp)等有效放射紫外線的公知的光源。另外，除此以外，亦可使用照相用泛光燈(flood lamp)、太陽能燈(solar lamp)等有效放射可見光的光源。
接著，在殘留有核心層形成用樹脂膜的支撐體膜的情況下，將支撐體膜剝離，利用濕式顯影(wet development)等將未曝光部除去後進行顯影，而形成核心圖案7。在濕式顯影的情況下，使用適合於上述膜的組成的有機溶劑系顯影液、鹼性(alkaline)水溶液、包含鹼性水溶液與1種或1種以上的有機溶劑的鹼性水系顯影液等，利用噴霧(spray)、振盪浸漬、刷洗(brushing)、刮擦(scraping) 等的公知的方法進行顯影。另外，顯影溫度是根據核心部形成用樹脂層的顯影性來進行調節。
有機溶劑系顯影液例如可舉出：N-甲基吡咯啶酮、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、環己酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、γ-丁內酯、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯等。另外，視需要亦可併用2種或2種以上的顯影方法。
鹼性水溶液的鹼並無特別限制，例如可舉出：氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀等鹼金屬氫氧化物；碳酸鋰、碳酸鈉、碳酸鉀等鹼金屬碳酸鹽；碳酸氫鋰、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀等鹼金屬重碳酸鹽；磷酸鉀、磷酸鈉等鹼金屬磷酸鹽；焦磷酸鈉、焦磷酸鉀等鹼金屬焦磷酸鹽；四硼酸鈉、偏矽酸鈉等鈉鹽；碳酸銨、碳酸氫銨等銨鹽；氫氧化四甲基銨、三乙醇胺、乙二胺、二乙三胺、2-胺基-2-羥甲基-1,3-丙二醇、1,3-二胺基丙醇-2-嗎啉等有機鹼等。
這些鹼可單獨使用，或者相組合而使用2種或2種以上。
用於顯影的鹼性水溶液的pH值較好的是9~14。另外，亦可在鹼性水溶液中混入界面活性劑、消泡劑等。
鹼性準水系顯影液只要包含鹼性水溶液與1種或1種以上的上述有機溶劑，則並無特別限制。鹼性準水系顯影液的pH值較好的是在可充分顯影的範圍內儘量減小，較好的是pH值為8~13，更好的是pH值為9~12。
有機溶劑的濃度通常較好的是2wt%~90wt%。另 外，亦可在鹼性準水系顯影液中混入少量界面活性剤、消泡劑等。
顯影的方式例如可舉出：浸漬方式(dip method)、泥漿方式(puddle method)、高壓噴霧方式等噴霧方式、刷洗、刮擦等，為了提高解析度，最好的是高壓噴霧方式。
視需要亦可進行60℃~250℃左右的加熱或者0.1mJ/cm2 ~1000mJ/cm2 左右的曝光，來作為顯影後的處理，藉此將核心圖案7進一步硬化而使用。
然後，經過第4步驟，即，在核心圖案7的周圍配置上部包覆層，接著在該上部包覆層上形成上部低彈性層，該第4步驟有：依序積層上部包覆層形成用樹脂膜及上部低彈性層形成用樹脂膜的方法；及將預先貼合了上部包覆層形成用樹脂膜與上部低彈性層形成用樹脂膜的複合膜，以上部包覆層與核心圖案接觸的方式來進行積層的方法。本發明中，預先形成複合膜的方法的有利之處是：在上部包覆層的積層中，與核心圖案及下部包覆層的密接性及追隨性優異。
為了容易地自上部包覆層形成用樹脂膜上剝離，較好的是不對上述上部包覆層形成用樹脂膜、以及低彈性層形成用樹脂膜中的保護膜及支撐體膜進行黏接處理，視需要亦可實施脫模處理。而且，較理想的是保護膜的脫模性比支撐體膜優異。
接著，當在上述複合膜中，將上部包覆層形成用樹脂膜側的支撐體膜除去，使上部包覆層形成用樹脂膜側對著 核心圖案側而進行層壓時，就密接性及追隨性的觀點而言，該層壓較好的是於減壓下的平板型層壓法。作為減壓的尺度的真空度較好的是10000Pa或10000Pa以下，更好的是1000Pa或1000Pa以下。
就密接性及追隨性的觀點而言，較理想的是真空度較低，因亦存在生產性的觀點(真空處理所需的時間)，故下限為10Pa左右。此處的加熱溫度較好的是40℃~130℃，壓接壓力較好的是0.1MPa~1.0MPa(1kgf/cm2 ~10kgf/cm2 )左右，但對這些條件並無特別限制。
接著，第5步驟是利用光及熱將上部包覆層及低彈性模數層硬化。硬化是利用活性光線以與上述同樣的方式進行。活性光線的光源例如可舉出：碳弧燈、水銀蒸氣電弧燈、超高壓水銀燈、高壓水銀燈、氙氣燈等有效放射紫外線的公知的光源。另外，除此以外，亦可使用照相用泛光燈、太陽能燈等有效放射可見光的光源。此處，活性光源較好的是無方向性的散射光。
實施例
以下，藉由實施例來對本發明進行更具體說明，但本發明並不受這些實施例任何限定。
(評價方法)
1.光傳播損失
使用作為光源的以波長為850nm的光為中心波長的VCSEL(EXFO公司製造的FLS-300-01-VCL)、受光感測器(sensor)(Advantest股份有限公司製造的Q82214)、入 射光纖(GI-50/125多模光纖，NA=0.20)以及出射光纖(SI-114/125，NA=0.22)，利用回截法(cutback method)(測定波導長為10cm、5cm、3cm、2cm)，對實施例中所獲得的光波導(波導長為10cm)的光傳播損失進行測定。
2.彎曲耐久試驗
使用彎曲耐久試驗機(大昌電子股份有限公司製造)，在彎曲角度為0°~180°、彎曲半徑為2mm、彎曲速度為2次/秒的條件下，對實施例中所獲得的光波導(波導長為10cm)進行彎曲耐久試驗，並觀察硬化膜有無斷裂。
製造例1
(核心層形成用樹脂膜及下部包覆層形成用樹脂膜的製作)
根據表1所示的調配，準備核心層及包覆層形成用樹脂組成物，並於其中加入相對於溶劑以外的成分100質量份而為40質量份的作為溶劑的乙基溶纖劑，而調合核心層形成用及包覆層形成用樹脂清漆(varnish)。另外，表1所示的調配中，(A)基底聚合物及(B)光聚合性化合物的調配量為相對於(A)成分及(B)成分的總量的重量百分比，(C)光聚合起始劑的調配量為相對於(A)成分及(B)成分的總量100質量份的比例(質量份)。
使用敷料器(applicator)(Yoshimitsu Seiki股份有限 公司製造，「YBA-4」)，將所獲得的核心層及下部包覆層形成用樹脂清漆塗佈在聚對苯二甲酸乙二酯(PET，polyethylene terephthalate)膜(東洋紡績股份有限公司製造，商品名「COSMOSHINE A1517」，厚度為16μm)上(包覆層形成用樹脂膜：用於卷內的黏接處理面，核心層形成用樹脂膜：用於卷外的非處理面)，以80℃使溶劑乾燥10分鐘，然後以100℃使溶劑乾燥10分鐘，而獲得核心層及包覆層形成用樹脂膜。此時的膜的厚度可藉由調節敷料器的間隙，而在5μm~100μm之間進行任意調整，本製造例中，以硬化後的核心層的厚度成為40μm的方式來對核心層形成用樹脂膜進行調節，另外以分別可獲得硬化後的下部包覆層的厚度成為20μm的樹脂膜(以下稱為「下部包覆層形成用樹脂膜A」)、及硬化後的下部包覆層的厚度成為10μm的樹脂膜(以下稱為「下部包覆層形成用樹脂膜B」)的方式，對下部包覆層形成用樹脂膜進行調節。
製造例2
(上部包覆層形成用樹脂膜的製作)
使用與製造例1的下部包覆層形成用樹脂清漆相同的樹脂清漆，來作為上部包覆層形成用樹脂清漆，並使用敷料器(Yoshimitsu Seiki股份有限公司製造，「YBA-4」)塗佈於PET膜(帝人股份有限公司製造，商品名「Purex A53」，厚度為25μm)上(用於卷內的處理面)，在與形成下部包覆層時相同的條件下進行乾燥，而獲得上部包覆 層形成用樹脂膜。此時的膜的厚度可藉由調節敷料器的間隙，而在5μm~100μm之間進行任意調整，本製造例中，以硬化後的膜厚成為10μm的方式進行調節。
另外，對敷料器的間隙進行調節，而製造硬化後的膜厚為110μm的膜，利用紫外線曝光機(大日本網屏製造(Dainippon Screen Mfg.)股份有限公司製造，MAP-1200)，照射4000mJ/cm2 的紫外線(波長為365nm)後，以160℃進行1小時加熱處理，而獲得特性試驗用硬化膜，測定總光線透射率，結果為94%。
製造例3
(低彈性層形成用樹脂膜的製作)
低彈性層形成用樹脂組成物是準備：日本瑞嗡(Nippon ZEON)股份有限公司製造的「DN631」60質量份、東都化成股份有限公司製造的「YD-8125」12.25質量份、大日本油墨化學工業(Dainippon Ink and Chemicals)股份有限公司製造的「LF-4871」7.75質量份、共榮社化學股份有限公司製造的「TMP-A」20質量份、四國化成工業股份有限公司的「2PZ-CN」0.3質量份、汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)股份有限公司製造的「Irgacure 2959」1.0質量份、汽巴精化股份有限公司製造的「Irgacure 819」1.0質量份，並於其中加入40質量份的作為溶劑的環己酮，而調合低彈性層形成用樹脂清漆。
使用敷料器(Yoshimitsu Seiki股份有限公司製造，「YBA-4」)，將所獲得的低彈性層形成用樹脂清漆塗佈 於PET膜(帝人股份有限公司製造，商品名「Purex A53」，厚度為25μm)上(用於卷外的非處理面)，以80℃使溶劑乾燥10分鐘，然後以100℃使溶劑乾燥10分鐘，而獲得低彈性層形成用樹脂膜。此時的膜的厚度可藉由調節敷料器的間隙，而在5μm~100μm之間進行任意調整，本製造例中，以硬化後的膜厚成為70μm的方式進行調節(以下稱為「低彈性層形成用樹脂膜A」)。
另外，調節敷料器的間隙，而製造硬化後的膜厚為110μm的特性試驗用膜，對PET膜進行層壓後，利用紫外線曝光機(大日本網屏製造股份有限公司製造，MAP-1200)照射4000mJ/cm2 的紫外線(波長為365nm)後，以160℃進行1小時加熱處理，而獲得硬化膜，測定彈性模數，結果為60MPa。另外，總光線透射率為84%。
製造例4
(低彈性層形成用樹脂膜的製作)
製造例3中，將「YD-8125」設為23.7質量份，將「LF-4871」設為16.3質量份，且不使用「TMP-A」「Irgacure 2959」、「Irgacure 819」，除此以外，以與製造例3同樣的方式而獲得低彈性層形成用樹脂膜(以下稱為「低彈性層形成用樹脂膜B」)。另外，以與製造例3同樣的方式所獲得的膜厚為110μm的硬化膜的彈性模數為110MPa，總光線透射率為65%。
製造例5
(複合膜的製作)
使用滾筒貼合機(日立化成工業股份有限公司製造，HLM-1500)，在壓力為0.4MPa、溫度為50℃、層壓速度為0.2m/min的條件下，對上述製造例2中所獲得的上部包覆層形成用樹脂膜與上述製造例3中所獲得的低彈性層形成用樹脂膜A進行層壓，再將上部包覆層側的PET膜除去而獲得複合膜(以下稱為「複合膜A」)。
製造例6
(複合膜的製作)
製造例5中，使用製造例4中所獲得的低彈性層形成用樹脂膜B來代替製造例3中所獲得的低彈性層形成用樹脂膜A，除此以外，以與製造例5同樣的方式獲得複合膜(以下稱為「複合膜B」)。
製造例7
(複合膜的製作)
使用滾筒貼合機(日立化成工業股份有限公司製造，HLM-1500)，在壓力為0.4MPa、溫度為50℃、層壓速度為0.2m/min的條件下，對上述製造例1中所獲得的下部包覆層形成用樹脂膜B與上述製造例3中所獲得的低彈性層形成用樹脂膜A進行層壓，而獲得複合膜(以下稱為「複合膜C」)。
實施例1
(光波導的製作)
利用紫外線曝光機(大日本網屏製造股份有限公司製造，MAP-1200)，照射1000mJ/cm2 的紫外線(波長為365 nm)，對上述製造例1中所獲得的下部包覆層形成用樹脂膜A進行光硬化而形成下部包覆層3。
接著，使用滾筒貼合機(日立化成工業股份有限公司製造，HLM-1500)，在壓力為0.4MPa、溫度為50℃、層壓速度為0.2m/min的條件下，在該下部包覆層上層壓上述製造例1中所獲得的核心層形成用樹脂膜。
接著，利用上述紫外線曝光機，經由寬度為40μm的光罩(負型(negative))而照射1000mJ/cm2 的紫外線(波長為365nm)後，利用乙基溶纖劑與N,N-二甲基乙醯胺的質量比為8：2的混合溶劑，對核心圖案進行顯影。在清洗顯影液時，使用甲醇及水。
接著，使用真空加壓式貼合機(名機製作所股份有限公司製造，MVLP-500)，將製造例5中所獲得的複合膜A真空處理至500Pa或500Pa以下後，在壓力為0.4MPa、溫度為70℃、加壓時間為30秒的層壓條件下，以上部包覆層形成用樹脂膜側與核心圖案及下部包覆層接觸的方式進行層壓。然後，利用上述紫外線曝光機照射4000mJ/cm2 的紫外線(波長為365nm)，然後以160℃進行加熱處理，而形成上部包覆層5及上部低彈性層6，從而製作光波導。
另外，利用Metricon公司製造的稜鏡耦合儀(prism coupler)(Model 2010)來測定核心層及包覆層的折射率，結果是在波長為850nm的條件下，核心層的折射率為1.584，包覆層的折射率為1.537，相對折射率差為2.7%。
以上述評價方法進行評價，結果光傳播損失為0.07 dB/cm，彎曲耐久試驗的結果為在進行10萬次後仍未斷裂。
實施例2
(光波導的製作)
實施例1中，使用製造例6中所獲得的複合膜B代替製造例5中所獲得的複合膜A，除此以外，以與實施例1同樣的方式來製作光波導。
以上述評價方法進行評價，結果光傳播損失為0.07dB/cm，彎曲耐久試驗的結果為在進行10萬次後仍未斷裂。
實施例3
(光波導的製作)
利用紫外線曝光機(大日本網屏製造股份有限公司製造，MAP-1200)，對上述製造例7中所獲得的複合膜C照射1000mJ/cm2 的紫外線(波長為365nm)，對下部包覆層形成用樹脂膜進行光硬化，而形成下部包覆層4及下部低彈性層3。
接著，將作為下部包覆層3的支撐基材的PET膜剝離，並使用滾筒貼合機(日立化成工業股份有限公司製造，HLM-1500)，在壓力為0.4MPa、溫度為50℃、層壓速度為0.2m/min的條件下，在該下部包覆層上層壓上述製造例1中所獲得的核心層形成用樹脂膜。
以下，以與實施例1同樣的方式來形成核心圖案，接著使用製造例5中所獲得的複合膜A，以與實施例1同樣的方式而形成上部包覆層5及上部低彈性層6，從而製作光波導。
以上述評價方法進行評價，結果光傳播損失為0.06dB/cm，彎曲耐久試驗的結果為在進行10萬次後仍未斷裂。
比較例1
(光波導的製作)
實施例1中，使用上述製造例3中所獲得的低彈性層形成用樹脂膜A代替複合膜A，除此以外，以與實施例1同樣的方式製作光波導。
以上述評價方法進行評價，結果彎曲耐久試驗的結果為在進行10萬次後仍未斷裂，但光傳播損失為0.39dB/cm。
[產業上的可利用性]
根據本發明，可提供一種耐彎曲性良好且光學特性良好的光波導。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，故本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
1‧‧‧光波導
2‧‧‧基材
3‧‧‧下部低彈性層
4‧‧‧下部包覆層
5‧‧‧上部包覆層
6‧‧‧上部低彈性層
7‧‧‧核心圖案
圖1是表示本發明的光波導的示意圖。
圖2是表示本發明的光波導的其他型態的示意圖。
1‧‧‧光波導
2‧‧‧基材
3‧‧‧下部低彈性層
4‧‧‧下部包覆層
5‧‧‧上部包覆層
6‧‧‧上部低彈性層
7‧‧‧核心圖案

Claims (8)

  1. 一種光波導，其是按下部包覆層、經圖案化的核心層、上部包覆層以及上部低彈性層的順序積層而成，該光波導的特徵在於：將該上部低彈性層形成用樹脂組成物硬化而成的膜於25℃下的拉伸彈性模數為1MPa~2000MPa，且將該上部包覆層形成用樹脂組成物硬化而成的厚度為110μm的硬化膜的總光線透射率為90%以上，上述核心層的厚度為30μm~70μm，上述上部包覆層的平均層厚為3μm~20μm，且上述上部包覆層以包圍上述核心層的周圍的方式配置。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光波導，其進而具有下部低彈性層，並按該下部低彈性層、下部包覆層、經圖案化的核心層、上部包覆層以及上部低彈性層的順序積層，且將該下部低彈性層形成用樹脂組成物硬化而成的膜於25℃下的拉伸彈性模數為1MPa~2000MPa。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光波導，其中上述核心層與包覆層的相對折射率差為1%~10%。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光波導，其中將上述低彈性層形成用樹脂組成物硬化而成的膜於25℃下的拉伸降伏伸長率為5%~600%。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之光波導，其中上述低彈性層形成用樹脂組成物含有橡膠成分。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之光波導，其中上述橡膠成分為丙烯酸系橡膠及/或丙烯腈-丁二烯橡膠。
  7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光波導，其中上述上部低彈性層的平均層厚為5μm~100μm。
  8. 如申請專利範圍第2項所述之光波導，其中上述下部低彈性層的平均層厚為5μm~100μm。
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