WO2005081023A1

WO2005081023A1 - 光導波路及びその製造方法

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Publication number: WO2005081023A1
Application number: PCT/JP2005/002997
Authority: WO
Inventors: Genji Imai; Takahiro Higuchi
Original assignee: Kansai Paint Co., Ltd.
Priority date: 2004-02-25
Filing date: 2005-02-24
Publication date: 2005-09-01
Also published as: JP2007212483A

Abstract

　本発明は、下部クラッド層（Ｉ）、コア部（II）及び上部クラッド層（III）で構成される光導波路であって、上部クラッド層（Ｉ）を、コア部の軟化温度よりも低い軟化温度を有するドライフィルムを用いて形成してなることを特徴とする光導波路、並びにその製造方法を提供するものである。

Description

光導波路及びその製造方法

技術分野

[0001] 本発明は、光導波路及びその製造方法に関する。

背景技術

[0002] 近年、光通信システム、コンピュータ等における情報処理の大容量ィ匕及び高速ィ匕の要求に答え得る光の伝送媒体として、光導波路が注目されている。

[0003] このような光導波路としては、石英系導波路が代表的であるが、特殊な製造装置が必要である、製造時間が長くかかるなどの問題があった。

[0004] 放射線重合可能な成分を含有するドライフィルムを基材上に積層し、光照射し、所定部分を光硬化させ、必要に応じて未露光部を現像することによりコア部を形成して、伝送特性に優れる光導波路を製造する方法は公知である。

[0005] 特開 2003— 195081号は、下部クラッド層、コア部及び上部クラッド層力もなる光導波路であって、下部クラッド層及びコア部の少なくとも 1つをドライフィルムを用いて形成する光導波路の形成方法を開示している。この方法においては、上部クラッド層は、放射線硬化性榭脂又は熱硬化性榭脂と有機溶剤とからなる塗布液を塗布し、硬化して、形成されている。

[0006] しカゝしながら、有機溶剤含有塗布液を使用して上部クラッド層を形成する方法では、有機溶剤による環境汚染の問題があり、又有機溶剤の廃棄、回収、安全対策等のための設備が大掛かりになり、経済的ではない。

[0007] また、上部クラッド層をドライフィルムで形成する場合には、コア部及び下部クラッド層の表面に、上部クラッド層を形成するドライフィルムを貼付ける際に、コア部である凸部と上部クラッド層との間に隙間を生じるため、光導波路の伝送特性等が低下する発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0008] 本発明の目的は、光導波路の伝送特性等を低下させることなぐ上部クラッド層をドライフイルムを用いて形成してなる光導波路及びその製造方法を提供することにある

[0009] 本発明の他の目的及び特徴は、以下の記載により明らかにされるであろう。

課題を解決するための手段

[0010] 本発明者は、上記課題を達成すべく鋭意検討を行った。その結果、上部クラッド層を形成するドライフィルムの軟ィ匕温度を、コア部の軟ィ匕温度よりも低くすることにより、コア部及び下部クラッド層の上に、上部クラッド層を形成するドライフィルムを貼付ける際に、コア部である凸部と上部クラッド層との間に隙間を生じることがないため、光導波路の伝送特性等が低下しないことを見出した。本発明は、力かる新知見に基づいて完成されたものである。

[0011] 本発明は、以下の光導波路及びその製造方法を提供するものである。

[0012] 1.下部クラッド層（I)、コア部（II)及び上部クラッド層 (III)で構成される光導波路であって、上部クラッド層（III)を、コア部の軟化温度よりも低い軟化温度を有するドライフィルムを用いて形成してなることを特徴とする光導波路。

[0013] 2.上部クラッド層（III)が、熱可塑性榭脂組成物力もなるドライフィルムを用いて形成されて!/、る上記項 1に記載の光導波路。

[0014] 3.上部クラッド層（III)が、軟ィ匕温度が 0°C— 300°Cの範囲である硬化性榭脂組成物からなるドライフィルムを用いて形成されて、る上記項 1に記載の光導波路。

[0015] 4.下部クラッド層（I)及び上部クラッド層 (III)のより屈折率の高い層とコア部（II)との比屈折率差が 0. 1%以上である上記項 1に記載の光導波路。

[0016] 5.下部クラッド層（I)及びコア部（II)を、ドライフィルムを用いて形成してなる上記項

1に記載の光導波路。

[0017] 6.基材上に、下部クラッド層（I)を形成し、次いで該下部クラッド層（I)表面にコア部 (II)を形成した後、該下部クラッド層（I)及びコア部 (II)の表面に、コア部の軟化温度よりも低い軟化温度を有するドライフィルムを加熱及び Z又は圧着により貼付けて、上部クラッド層 (III)を形成することを特徴とする光導波路の製造方法。

[0018] 7.コア部（Π)の形成が、下部クラッド層（I)表面にネガ型感活性エネルギー線性榭脂組成物を被覆するか、又は該組成物からなるドライフィルムを加熱及び Z又は圧着により貼付け、コア部パターンを形成するように活性エネルギー線照射を行い、次いで非照射部分を現像して除去することにより、行われる上記項 6に記載の光導波路の製造方法。

[0019] 8.コア部（II)の形成が、下部クラッド層（I)表面にポジ型感活性エネルギー線性榭脂組成物を被覆するか、又は該組成物からなるドライフィルムを加熱及び Z又は圧着により貼付け、コア部パターンを形成するように活性エネルギー線照射を行い、次いで照射部分を現像して除去することにより、行われる上記項 6に記載の光導波路の製造方法。

[0020] 9.下部クラッド層（I)及びコア部（II)を、ドライフィルムを用いて形成する上記項 6に記載の光導波路の製造方法。

[0021] 路

本発明の光導波路は、下部クラッド層（1)、コア部 (II)及び上部クラッド層（III)で構成される光導波路であって、上部クラッド層（I)を、コア部の軟ィ匕温度よりも低い軟ィ匕温度を有するドライフィルムを用いて形成してなるものである。

[0022] 本発明の光導波路は、通常、光導波路用基材上に、下部クラッド層 (I)、コア部 (II) 及び上部クラッド層（III)を、この順で、形成することにより、得られる。

[0023] 上記基材としては、例えば、シリコン基板、石英基板、ポリイミド基板、 PET基板、液晶ポリマー基板、銅箔、銅張り積層板、回路形成済み基板等を挙げることができる。

[0024] 下き βクラッ層 )

下部クラッド層 (I)は、例えば、熱可塑性榭脂、硬化性榭脂等の榭脂を含む公知の組成物によって形成された層である。

[0025] 熱可塑性榭脂としては、例えば、アクリル系榭脂、エポキシ系榭脂、シリコン系榭脂、ポリカーボネート系榭脂、シロキサン系榭脂、ポリイミド系榭脂、ポリウレタン系榭脂、ォキセタン系榭脂、ポリエーテルスルホン系榭脂、ポリフエ-ルサルファイド系榭脂、ポリエーテルイミド系榭脂、ポリスルホン系榭脂、ポリエーテルケトン系榭脂、ポリアミド系榭 S旨、ポリエチレン系榭 S旨、ポリプロピレン系榭 S旨、ポリエチレンテレフタレート系榭脂、フエノールノボラック系榭脂、エチレンビニルアルコール共重合体、エチレン酢酸ビュル共重合体、ポリスチレン系榭脂、フッ素系榭脂、ポリブチレンテレフタレート系榭脂、ポリアセタール系榭脂、ポリエーテル二トリル系榭脂、ポリアミド系榭脂、ポリアミド 11、ポリオレフイン'マレイミド共重合体、ァラミド系榭脂、液晶ポリマー、ポリエーテルケトン系榭脂、シアナ一ト系榭脂などが挙げられる。液晶ポリマーとしては、例えば、ポリアセタールコポリマー等を使用できる。

[0026] 硬化性榭脂としては、熱硬化性榭脂、常温硬化性榭脂、活性エネルギー線硬化性榭脂などが挙げられる。

[0027] 熱硬化性榭脂として、例えば、熱反応性官能基を有する基体榭脂と、該官能基と反応する官能基を有する硬化剤との併用することができる。また、 N -メチロール基、 N—アルコキシメチロール基などを有する自己架橋性榭脂等を使用することができる

[0028] 熱反応性官能基とこれと反応する官能基の組合せとしては、例えば、カルボキシル基とエポキシ基 (ォキシラン基）、カルボン酸無水物とエポキシ基 (ォキシラン基）、アミノ基とエポキシ基 (ォキシラン基）、カルボキシル基と水酸基、カルボン酸無水物と水酸基、ブロック化イソシァネート基と水酸基、イソシァネート基とアミノ基などが挙げられる。

[0029] 常温硬化性榭脂としては、例えば、酸化硬化性不飽和榭脂、イソシァネート硬化性榭脂などが挙げられる。

[0030] 活性エネルギー線硬化性榭脂として、分子中に 2個以上の開環重合可能な官能基含有化合物を必須成分とし、必要に応じて活性エネルギー線重合開始剤を併用するもの；重合性不飽和化合物、不飽和榭脂等に必要に応じて活性エネルギー線重合開始剤を併用するもの等を使用することが好ましい。また、活性エネルギー線硬化性榭脂として、後記するネガ型感活性エネルギー線性榭脂組成物で用いるものと同じものが使用できる。活性エネルギー線硬化性榭脂組成物を硬化する場合には、被膜に全面照射させる。

[0031] 上記の熱可塑性榭脂又は硬化性榭脂を、必要に応じて硬化剤等と共に、有機溶剤、水などの溶媒に、溶解又は分散して、熱可塑性榭脂組成物又は熱硬化性榭脂組成物を調製する。また、溶媒として、液状重合性モノマー等を用いることもできる。

[0032] 上記榭脂組成物を、光導波路用基材上に、ローラー、ロールコーター、スピンコーター、ナイフエッジコーター、カーテンロールコーター、スプレー、静電塗装、浸漬塗装、シルク印刷等の手段により塗布し、乾燥することにより、下部クラッド層（I)を形成することができる。また、必要に応じて、活性エネルギー線照射、加熱等により、塗膜の硬化又は乾燥を行うことができる。

[0033] また、上記榭脂組成物を、ベースフィルム上に、ローラー、ロールコーター、スピンコ一ター、ナイフエッジコーター、カーテンロールコーター、スプレー、静電塗装、浸漬塗装、シルク印刷等の手段により塗布し、乾燥することにより、ベースフィルム表面にドライフィルム層を形成させることができる。次いで、ベースフィルムを剥離し、ドライフイルムを、該基材に加熱及び Z又は圧着により貼付けて下部クラッド層 (I)を形成することができる。また、ベースフィルム表面にドライフィルム層が形成された積層フィルムを、該基材に加熱及び Z又は圧着により貼付け、次いでベースフィルムを剥離して

、該基材表面に下部クラッド層 (I)を形成することもできる。

[0034] ドライフィルム層は、光導波路用基材表面に貼付けられた後、必要に応じて、活性エネルギー線照射、加熱等により、塗膜の硬化又は乾燥を行って、下部クラッド層 (I) を形成することができる。

[0035] 下部クラッド層 (I)を形成する方法として、特にドライフィルムを使用して形成することが、環境保全、安全性、作業性などの点から好ましい。

[0036] また、下部クラッド層 (I)を構成する榭脂として、活性エネルギー線照射、加熱等により榭脂を硬化させたものが、耐久性、耐熱性、加工性、光伝送特性の点カゝら好ましい。

[0037] コア部 (II)

コア部（II)は、下部クラッド層 (I)の表面の一部に形成される。

[0038] コア部（Π)の形成には、公知の榭脂組成物を使用できる。榭脂組成物としては、熱可塑性榭脂組成物;熱硬化性榭脂組成物、ネガ型感活性エネルギー線性榭脂組成物、ポジ型感活性エネルギー線性榭脂組成物等を挙げることができる。これらの内、ネガ型感活性エネルギー線性榭脂組成物、ポジ型感活性エネルギー線性榭脂組成物を使用することが好ましい。熱可塑性榭脂組成物としては、前記クラッド層を形成するちのと同様のちのが挙げられる。 [0039] これらの内、ネガ型感活性エネルギー線性榭脂組成物又はポジ型感活性エネルギ一線性榭脂組成物を、そのまま又はドライフィルムとして、使用することが好ましい。

[0040] ネガ型感活性エネルギー線性榭脂組成物は、該組成物から形成される被膜が、紫外線、可視光線、熱線等のエネルギー線が照射されて硬化することにより、現像液に不溶性となり、それによりコア部を形成することができるものであり、公知のものを特に制限なしに使用することができる。具体的には、例えば、分子中に 2個以上の開環重合可能な官能基含有化合物を必須成分とし、必要に応じて活性エネルギー線重合開始剤を含有する水性又は有機溶剤型組成物；重合性不飽和化合物、不飽和榭脂等及び必要に応じて活性エネルギー線重合開始剤を含有する水性又は有機溶剤型組成物を使用することが特に好ましヽ。

[0041] ポジ型感活性エネルギー線性榭脂組成物としては、該組成物から形成される被膜力紫外線、可視光線、熱線等のエネルギー線が照射された被膜箇所が分解して、現像液に対する溶解性が変化することにより、コア部を形成できる水性又は有機溶剤型組成物であれば、公知のものを特に制限なしに使用することができる。

[0042] ポジ型感エネルギー線性榭脂組成物として、例えば、イオン形成基を有するアタリル榭脂等の基体榭脂にキノンジアジドスルホン酸類をスルホン酸エステル結合を介して結合させた榭脂を主成分とする組成物が挙げられる。かかる組成物は、特開昭 61

—206293号公報、特開平 7-133449号公報等に記載されている。この組成物は、照射光によりキノンジアジド基が光分解し、ケテンを経由してインデンカルボン酸を形成する反応を利用したナフトキノンジアジド感光系組成物である。

[0043] また、ポジ型感エネルギー線性榭脂組成物として、例えば、加熱によりアルカリ性現像液及び酸性現像液に対して不溶性の架橋被膜を形成した後、光照射により酸基を発生する光酸発生剤により、架橋構造が切断されて照射部がアルカリ性現像液又は酸性現像液に対して可溶性となるメカニズムを利用したポジ型感光性組成物が挙げられる。力かる組成物としては、特開平 6-295064号公報、特開平 6-308733 号公報、特開平 6- 313134号公報、特開平 6- 313135号公報、特開平 6 - 31313 6号公報、特開平 7— 146552号公報等に記載されている。

[0044] 光酸発生剤は、露光により酸を発生する化合物であり、この発生した酸を触媒として、榭脂を分解させるものであり、公知のものを使用することができる。

[0045] ポジ型感熱性榭脂組成物としては、公知のもの、例えば、感熱用榭脂、エーテル結合含有ォレフィン性不飽和化合物及び熱酸発生剤を含有してなる組成物が使用できる。力かる組成物としては、例えば、特開平 12-187326号公報に記載のものが挙げられる。

[0046] 上記榭脂組成物を使用してコア部（Π)を形成するには、該組成物を、下部クラッド層 (I)表面に、ローラー、ローノレコーター、スピンコーター、ナイフエッジコーター、力一テンロールコーター、スプレー、静電塗装、浸漬塗装、シルク印刷等の手段により塗布し、乾燥することにより、組成物被膜を形成する。次に、コア部パターンを形成するように、被膜上に活性エネルギー線照射を行い、次いで、ネガ型感活性エネルギ一線性榭脂組成物を使用した場合には、非照射部分を、一方、ポジ型感活性エネルギ一線性榭脂組成物を使用した場合には、照射部分を、現像により除去することによりコア部（Π)を形成することができる。

[0047] また、上記榭脂組成物をドライフィルムにして、使用することが、環境保全、安全性、作業性などの点から好ましい。この場合は、該組成物を、ベースフィルム上に、ローラー、ローノレコーター、スピンコーター、ナイフエッジコーター、カーテンローノレコータ一、スプレー、静電塗装、浸漬塗装、シルク印刷等の手段により塗布し、乾燥することにより、ベースフィルム表面にドライフィルム層を形成させる。次いで、ベースフィルムを剥離し、ドライフィルムを、下部クラッド層（I)上に、加熱及び Z又は圧着により貼付けて、組成物被膜を形成できる。また、ベースフィルム表面にドライフィルム層が形成された積層フィルムを、下部クラッド層（I)上に加熱及び Z又は圧着により貼付け、次いでベースフィルムを剥離して、該クラッド層（I)上に、組成物被膜を形成することもできる。

[0048] 次、で、組成物被膜の表面力コア部パターンが形成されるように活性エネルギー線照射を行い、ネガ型活性エネルギー線榭脂組成物を使用した場合には、非照射部分を、一方、ポジ型活性エネルギー線榭脂組成物を使用した場合には、照射部分を、現像により除去することによりコア部 (II)を形成することができる。

[0049] コア部（Π)の形成に、熱硬化性榭脂組成物を使用する場合には、該組成物を下部クラッド層 (I)表面に、ローラー、ローノレコーター、スピンコーター、ナイフエッジコータ一、カーテンロールコーター、スプレー、静電塗装、浸漬塗装、シルク印刷等の手段により塗布し、乾燥することにより、組成物被膜を形成する。この際、例えば、熱硬化性榭脂組成物塗装後に、金型を用いて成形加工することにより、コア部パターンが形成されたコア部（Π)を形成することができる。

[0050] 上き βクラッド層 (III)

上部クラッド層 (III)は、下部クラッド層（I)及びコア部（II)の表面にドライフィルムを用いて形成させる。

[0051] 上部クラッド層 (III)は、例えば、熱可塑性榭脂、硬化性榭脂等の榭脂を含む公知の組成物によって形成できる。上部クラッド層を形成する榭脂組成物としては、下部クラッド層 (I)に記載したものと同じものが挙げられる。

[0052] 上部クラッド層 (III)の形成は、次のようにして行う。即ち、上記榭脂組成物を、ベースフイノレム上に、ローラー、ローノレコーター、スピンコーター、ナイフエッジコーター、カーテンロールコーター、スプレー、静電塗装、浸漬塗装、シルク印刷等の手段により塗布し、乾燥することにより、ベースフィルム表面にドライフィルム層を形成させる。次いで、ベースフィルムを剥離し、ドライフィルムを、下部クラッド層（I)及びコア部（II) の表面に加熱及び Ζ又は圧着により貼付けて上部クラッド層（in)を形成する。また、ベースフィルム表面にドライフィルム層が形成された積層フィルムを、下部クラッド層 ( I)及びコア部（Π)の表面に加熱及び Ζ又は圧着により貼付け、次いでベースフィルムを剥離して、上部クラッド層 (III)を形成することもできる。

[0053] 形成された上部クラッド層（III)は、必要に応じて、更に、活性エネルギー線照射、加熱等により、塗膜の硬化又は乾燥を行ってもよい。

[0054] 上部クラッド層 (III)を、ドライフィルムを使用して形成するので、環境保全、安全性、作業性などが向上している。

[0055] 上部クラッド層 (III)は、下部クラッド層 (I)及びコア部（II)の表面に貼付けられる前のドライフィルムとして、熱硬化性榭脂組成物を使用したものでは、軟化温度が o°c 一 300°C程度であるのが好ましぐ 10°C— 250°C程度であるのがより好ましい。また、活性エネルギー線硬化性榭脂を使用したものでは、軟ィ匕温度が 0°C— 300°C程度であるのが好ましぐ 10°C— 250°C程度であるのがより好ましい。

[0056] ドライフィルムの軟ィ匕温度が上記範囲を下回ると、ドライフィルムを基材に貼付ける際の加熱により、ドライフィルムが軟ィ匕し、べトツキを生じるため、貼付作業が著しく困難となったり、貼付後に泡を生じたりする。一方、上記範囲を超えるとドライフィルムの貼付自体が困難となる。

[0057] また、上部クラッド層 (III)を形成するドライフィルムの軟ィ匕温度は、コア部（II)の軟ィ匕温度よりも低いこと、好ましくは 10°C以上低いことが好ましい。コア部（II)の軟ィ匕温度は、コア部を形成する榭脂組成物により定まる。

[0058] また、上部クラッド層 (III)は、活性エネルギー線照射、加熱等により層を構成する榭脂組成物を硬化させておくことが、耐久性、耐熱性、加工性、光伝送特性の点から好ましい。

[0059] 本明細書において、ドライフィルムを調製するためのベースフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ァラミド、カプトン、ポリメチルペンテン、ポリエチレン、ポリプロピレン等のフィルムを使用できる。特に、ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用することが、コストおよびドライフィルムとしての良好な特性を得る上で最適である。ベースフィルムの膜厚は、通常、 1 μ m— 10mm程度が好ましぐ 10 μ m— lmm 程度がより好ましい。

[0060] 本明細書において、軟化温度は、熱機械分析装置を用いて、厚さ lmmの榭脂製シートの熱変形挙動により測定した値である。即ち、該シート上に石英製針をのせ、荷重 49gをかけ、 5°C/分で昇温していき、針が 0. 635mm侵入した温度を軟ィ匕温度とした。熱機械分析装置としては、例えば、デュポン社より、市販されている装置を使用できる。

[0061] 本発明にお、て、下部クラッド層（I)及び上部クラッド層 (III)のより屈折率の高!ヽ層とコア部 (II)との比屈折率差が 0. 1%以上であることが好ましい。

[0062] ここで、本明細書において、比屈折率差は、下記式（1)により、定義される。

[0063] 比屈折率差 (％) =[(n -n ) /n ] X 100 (1)

1 2 2

式中、 nはコア部（II)の屈折率であり、 nは下部クラッド層（I)及び上部クラッド層（III

1 2

)のより屈折率の高い層の屈折率である。これらの屈折率は、アッベ屈折率計を用いて、波長 850nmの光で測定した値である。

[0064] 上記比屈折率差とするためには、コア部（II)の屈折率は、下部クラッド層及び上部クラッド層の、ずれの屈折率よりも大き、ことが必要である。

[0065] 本発明の光導波路においては、通常、波長 400— 1, 700nmの光に対して、コア部（II)の屈折率を 1. 420-1. 650の範囲内の値とするとともに、下部クラッド層（I) および上部クラッド層（III)の屈折率をそれぞれ 1. 400—1. 648の範囲内の値とすることが好ましい。屈折率の調整は、使用する榭脂の種類、添加剤及びこれらの配合量等を適宜選択することにより調整できる。

[0066] 本発明の光導波路において、下部クラッド層 (I)、上部クラッド層 (III)、およびコア部 (Π)の厚さは、それぞれ特に制限されるものではない。通常、下部クラッド層（I)の厚さを 1一 200 μ m程度、コア部（II)の厚さを 1一 200 μ m程度、上部クラッド層 (III) の厚さを 1一 200 m程度の範囲内とすることが好ましい。また、コア部（II)は、通常、その断面形状が矩形であり、その幅は特に限定されるものではない。通常、コア部（II )の幅は、 1一 200 m程度の範囲内とすることが好ましい。

[0067] の ¾告法

本発明の光導波路の製造方法においては、基材上に、下部クラッド層（I)を形成し、次ヽで該下部クラッド層 (I)表面にコア部 (II)を形成した後、該下部クラッド層 (I)及び該コア部（II)の表面に、ドライフィルムを加熱及び Z又は圧着により貼付け上部クラッド層（ΠΙ)を形成する。

[0068] 上記コア部（II)には、前記の様にして、コア部パターンを形成しておくのが好ましい

[0069] 上部クラッド層 (III)を形成する場合、コア部（II)及び下部クラッド層 (I)の表面と、ベ一スフイルム上のドライフィルムとが面接するように重ね、該ドライフィルムの軟ィ匕温度よりも 10°C以上高い温度で、常圧熱ロール圧着法、真空熱ロール圧着法、真空熱プレス圧着法等の圧着手法により、適当な熱と圧力をベースフィルム表面に加え、そして必要に応じてベースフィルムをドライフィルム力剥離して、ドライフィルムをコア部（ II)及び下部クラッド層 (I)上に転写することにより、コア部（II)及び下部クラッド層（I) の表面に上部クラッド層を形成することが、好ましい。 [0070] 形成された上部クラッド層（III)は、硬化性榭脂組成物を使用した場合には、加熱又は活性エネルギー線照射にて、硬化させるのが好ま、。

[0071] 本発明方法にぉ、て、活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、 X線、 α線、 j8線、 γ線等を用いることができる。照射装置としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルノヽライドランプ、エキシマランプ等を用いることが好ましい。照射量は、特に制限されるものでは無い。通常、波長 200— 440nm、照度 1一 5 OOmWZcm²の放射線を、照射量が 10— 5, OOOmjZcm²となるように照射して、露光することが好ましい。

[0072] 本発明の光導波路及びその製造方法にお!、て、硬化性榭脂組成物又はそのドラィフィルムとして、活性エネルギー線硬化性且つ熱硬化性の組成物も使用できる。かカゝる組成物は、例えば、活性エネルギー線硬化性榭脂組成物と熱硬化性榭脂組成物を混合することにより得られる。活性エネルギー線硬化性且つ熱硬化性榭脂組成物を使用する場合には、例えば、下部クラッド層（I)を光硬化させた後、更に加熱硬ィ匕させることにより、更に強固な下部クラッド層を形成できる。また、コア部（II)及び上部クラッド層（III)も同様にして、更に強固な硬化コア部や上部クラッド層を形成することがでさる。

[0073] また、下部クラッド層 (I)、コア部（II)及び上部クラッド層 (III)の形成にお、て、加熱硬化をそれぞれの形成ごとに行ってもょ、し、下部クラッド層（I)及びコア部（II)形成後と上部クラッド層（III)形成後とに加熱硬化を行ってもよい。また、下部クラッド層 (I) 、コア部（II)及び上部クラッド層（III)の形成後に、同時に加熱硬化を行ってもよい。発明の効果

[0074] 本発明によれば、下記のような格別顕著な効果が得られる。

[0075] (1)本発明の光導波路は、上部クラッド層 (III)を形成するドライフィルムの軟ィ匕温度力コア部（II)の軟ィ匕温度よりも低いことにより、コア部である凸部と上部クラッド層との間に隙間を生じ難いので、伝送特性が優れる。また、上部クラッド層（ΠΙ)をドライフイルムを用いて形成するので、有機溶剤型組成物を使用した場合と比較して環境を汚染する恐れがなぐ作業者の安全衛生上好ましぐ更に火災などの危険性がない。

[0076] (2)上部クラッド層（III)が、熱可塑性榭脂組成物力もなるドライフィルムを用いて形成される場合には、該フィルムの貼付けが簡単で容易となる。

[0077] (3)上部クラッド層（III)力軟ィ匕温度 0°C— 300°Cの範囲である硬化性榭脂組成物力もなるドライフィルムを用いて形成される場合には、コア部である凸部と上部クラッド層との間に隙間を、より生じ難い。

[0078] (4)下部クラッド層（I)及び上部クラッド層 (III)のより屈折率の高い層とコア部（II)との比屈折率差が 0. 1%以上である場合には、光導波路の伝送特性がより優れる。

[0079] (5)下部クラッド層（I)及びコア部（II)を、ドライフィルムを用いて形成する場合には、有機溶剤型組成物を全く使用しないので、環境を汚染する恐れが全くなぐ作業者の安全衛生上好ましぐ更に火災などの危険性が全くない。

[0080] (6)本発明の製造方法によれば、上部クラッド層 (III)を形成するドライフィルムの軟化温度が、コア部（II)の軟ィ匕温度よりも低いことにより、コア部である凸部と上部クラッド層との間に隙間を生じ難いので、伝送特性に優れる光導波路を製造できる。また、ドライフィルムを用いて上部クラッド層 (III)を形成するので環境を汚染する恐れがなく

、作業者にとっても安全衛生上好ましぐ更に火災などの危険性がない。

[0081] (7)コア部（Π)をネガ型感活性エネルギー線性榭脂組成物により形成する場合には、非照射部分を現像して除去することにより短時間で簡単にコア部パターンを形成できる。

[0082] (8)コア部（Π)をポジ型感活性エネルギー線性榭脂組成物により形成する場合には、照射部分を現像して除去することにより短時間で簡単にコア部パターンを形成できる。

[0083] (9)下部クラッド層 (I)及びコア部（II)を、ドライフィルムを用いて形成する方法によれば、有機溶剤型組成物を全く使用しないので、環境を汚染する恐れが全くなぐ作業者の安全衛生上好ましぐ更に火災などの危険性が全くない。

[0084] 本発明の光導波路は、光集積回路、光変調器、光スィッチ、光コネクター、光分岐結合、薄膜デバイス等の光デバイスと光ファイバ一との結合などに使用される光導波路として好ましく使用できる。

発明を実施するための最良の形態

[0085] 以下、製造例、実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明する。 [0086] 製造例 1 ドライフィルムの作成

後記表 1に記載の榭脂成分のいずれかを、水又は有機溶剤に分散又は溶解して、各榭脂組成物を得た。各榭脂組成物を、ポリエチレンテレフタレートフィルム (膜厚 25 m)上に、ナイフエッジコーターで塗布した後、 80°Cで 30分乾燥して、下部クラッド層用ドライフィルム、コア部用ドライフィルム又は上部クラッド層用ドライフィルムを作成した。

[0087] 実施例 1一 7

(1)下部クラッド層の形成

表 1に記載の下部クラッド層用ドライフィルムを、シリコン基板の表面上に、常圧熱口ール圧着法にて転写し、表 1に記載の条件で乾燥又は硬化させて、厚さ 40 /z mの下部クラッド層を得た。

[0088] (2)コア部の形成

表 1に記載のコア部用ドライフィルムを、下部クラッド層の上に常圧熱ロール圧着法にて転写し、幅 30 μ mのライン状パターンを有するフォトマスクを介して、波長 365η m、照度 lOmWZcm²の紫外線を 100秒間照射し、現像液（1. 8重量％テトラメチルアンモ-ゥムヒドロキシド水溶液)で現像処理し、幅 30 mのライン状パターンを有するコア部を形成した。

[0089] (3)上部クラッド層の形成

次に、コア部を有する下部クラッド層の上面に、表 1に記載の上部クラッド層用ドライフィルムを常圧熱ロール圧着法にて転写し、表 1に記載の条件で乾燥又は硬化させて、厚さ 40 mの上部クラッド層を得た。

[0090] 下記表 1に、実施例 1一 7における、各ドライフィルムを構成する榭脂成分及びその形成条件を、示した。

[0091] [表 1] 表 1

[0092] 表 1におけるドイフィルムを構成する榭脂成分

熱可塑性榭脂 (0 :液晶ポリマー (ポリアセタールコポリマー、旭化成工業 (株)製、商品名「テナック」、軟ィ匕温度 190°C)。

[0093] 熱硬化性榭脂 (i)：酸硬化型グリシジル基含有アクリル榭脂 (軟化温度 60°C)。

[0094] 常温硬化性榭脂 (i):イソシァネート硬化性水酸基含有シリコン榭脂 (軟化温度 50°C

) o

[0095] 感活性エネルギー線性榭脂 (i)：ネガ型活性エネルギー線硬化性榭脂 (不飽和基含有アクリル榭脂及び光重合開始剤の配合物、軟化温度 40°C)。

[0096] 感活性エネルギー線性榭脂 (ii)：ポジ型感活性エネルギー線性榭脂（エーテル結合含有ォレフィン性ポリウレタン系不飽和化合物、カルボキシル基及びヒドロキシフエ- ル基含有榭脂、並びに光酸発生剤の配合物、軟化温度 45°C)。

[0097] 感活性エネルギー線性榭脂 (iii)：ネガ型感活性エネルギー線性榭脂 (感熱性、ォキセタンィ匕合物及び光酸発生剤の配合物、軟化温度 80°C)。

[0098] 表 ίに: ける下部クラッド '層、コア部及び卜.部クラッド '層の形成条件

fc-1：表 1に記載のドライフィルムをシリコン基板の表面上に常圧熱ロール圧着法（温度： 100°C)にて転写し、 200°Cの温度で硬化させて下部クラッド層を得た。

[0099] fc-2：表 1に記載のドライフィルムをシリコン基板の表面上に常圧熱ロール圧着法（温度： 100°C)にて転写し、波長 365nm、照度 200mWZcm²の紫外線を 5秒間照射して硬化させて下部クラッド層を得た。

[0100] fc-3：表 1に記載のドライフィルムを下部クラッド層の上に常圧熱ロール圧着法 (温度： 100°C)にて転写し、幅 30 μ mのライン状パターンを有するフォトマスクを介して、波長 365nm、照度 lOmWZcm²の紫外線を 100秒間照射して、ドライフィルムを部分硬化させた。次いで、紫外線照射し 1. 8重量％テトラメチルアンモ-ゥムヒドロキシド水溶液 (TMAH)カゝらなる現像液中に浸漬して、フィルムの未露光部を溶解させた。このようにして幅 30 mのライン状パターンを有するコア部を形成した。

[0101] fc-4：表 1に記載のドライフィルムを下部クラッド層の上に常圧熱ロール圧着法 (温度： 100°C)にて転写し、幅 30 μ mのライン状パターンを有するフォトマスクを介して、波長 365nm、照度 lOmWZcm²の紫外線を 100秒間照射し、次いで、紫外線照射し 1. 8重量⁰ /₀テトラメチルアンモ-ゥムヒドロキシド水溶液 (TMAH)からなる現像液中に浸漬して、フィルムの露光部を溶解させた。このようにして幅 30 mのライン状パターンを有するコア部を形成した。

[0102] fc-5 :コア部を有する下部クラッド層の上面に、表 1に記載のドライフィルムを常圧熱ロール圧着法 (温度： 200°C)にてラミネートを行って上部クラッド層を形成した。

[0103] fc-6 :コア部を有する下部クラッド層の上面に、表 1に記載のドライフィルムを常圧熱ロール圧着法 (温度： 100°C)にて転写し、 200°Cの温度で硬化させて上部クラッド層を得た。

[0104] fc-7 :コア部を有する下部クラッド層の上面に、表 1に記載のドライフィルムを常圧熱ロール圧着法 (温度: 40°C)にて転写し、 40°Cの温度で硬化させて上部クラッド層を得た。

[0105] fc-8 :コア部を有する下部クラッド層の上面に、表 1に記載のドライフィルムを常圧熱ロール圧着法（温度： 100°C)にて転写し、波長 365nm、照度 200mWZcm²の紫外線を 5秒間全面に照射して硬化させて上部クラッド層を得た。

[0106] fc-9 :コア部を有する下部クラッド層の上面に、表 1に記載のドライフィルムを常圧熱ロール圧着法 (温度： 100°C)にて転写し、赤外線を全面照射して硬化させて上部クラッド層を得た。 [0107] 比較例 1

実施例 3において、上部クラッド層を、ドライフィルムに代えて、 γ—メタクリロキシプ口ピルトリメトキシシラン 5重量％とメタクリル酸メチル 95重量％からなるモノマー混合物の共重合体及び酸触媒のパラトルエンスルホン酸を、アセトンに溶解してなる有機溶剤型熱硬化性組成物を、コア部を有する下部クラッド層の面上に、スプレー塗装し、 50°Cで 30分加熱硬化して、厚さ 40 mの上部クラッド層を形成した。

[0108] 実施例 1一 7及び比較例 1で得た光導波路について、比屈折率差、伝送損失、コア部の隙間、コア部形状の精度、コア部の被覆性及び作業性を、下記方法により、評価し 7こ。

[0109] 比屈折率差：下部クラッド層及び上部クラッド層のより屈折率の高い層及びコア部を形成した榭脂組成物又はドライフィルム力も得たフィルムサンプルの屈折率を、ァタゴ社製多波長アッベ屈折率計「DR— M4」に、波長 850nmの干渉フィルターをセットして、 23°Cにて、測定した。この各屈折率値を用いて、前記式（1)により、比屈折率差 (％)を算出した。

[0110] 伝送損失:光導波路に波長 850nmの光を一端力も入射させ、そして、他端から出射する光量を測定することにより、単位長さ当たりの伝送損失をカットバック法により求めた。 Aは損失が 0. 4dBZcm以下で伝送特性が良好なものを、 Bは損失が 0. 4 dBZcmを超え伝送特性が劣るものを示す。

[0111] コア部の隙間: Aはコア部である凸部と上部クラッド層との間に隙間がないものを、 B は隙間が発生したもの及び有機溶剤型組成物を用いた場合にぉ、てはヮキ、泡を発生したものを示す。

[0112] コア部形状の精度: Aはコア部が上部クラッド層により変形していないものを、 Bはコァ部が上部クラッド層により変形したものを示す。

[0113] コア部の被覆性： Aは上部クラッド層がコア部の凸部に十分な膜厚で被覆してヽるものを、 Bは上部クラッド層がコア部の凸部に被覆された膜厚が薄いものを示す。

[0114] 作業性: Aは全体を通して光導波路の形成が簡単で容易なものを、 Bは全体を通して光導波路の形成が複雑で容易でな、ものを示す。

[0115] 上記評価結果を表 2に示す。表 2

実施列比較例

1 2 3 4 5 6 7 1 比屈折率差（％) 0.1く 0.1く 0.1く 0.1く O.K 0.1く O.K 0.1く伝送損失 A A A A A A A B コア部の隙間 A A A A A A A B コア部形状の精度 A A A A A A A B コア部の被覆性 A A A A A A A B 作業性 A A A A A A A B

Claims

請求の範囲

[1] 下部クラッド層 (I)、コア部（II)及び上部クラッド層 (III)で構成される光導波路であつて、上部クラッド層（III)を、コア部の軟化温度よりも低い軟化温度を有するドライフィルムを用いて形成してなることを特徴とする光導波路。

[2] 上部クラッド層 (III)が、熱可塑性榭脂組成物カゝらなるドライフィルムを用いて形成されて、る請求項 1に記載の光導波路。

[3] 上部クラッド層 (III)力軟ィ匕温度が 0°C— 300°Cの範囲である硬化性榭脂組成物からなるドライフィルムを用いて形成されて、る請求項 1に記載の光導波路。

[4] 下部クラッド層（I)及び上部クラッド層（III)のより屈折率の高い層とコア部（II)との比屈折率差が 0. 1%以上である請求項 1に記載の光導波路。

[5] 下部クラッド層 (I)及びコア部（II)を、ドライフィルムを用いて形成してなる請求項 1に記載の光導波路。

[6] 基材上に、下部クラッド層（I)を形成し、次いで該下部クラッド層（I)表面にコア部 (II) を形成した後、該下部クラッド層（I)及びコア部（II)の表面に、コア部の軟化温度よりも低、軟ィ匕温度を有するドライフィルムを加熱及び Z又は圧着により貼付けて、上部クラッド層 (III)を形成することを特徴とする光導波路の製造方法。

[7] コア部（Π)の形成が、下部クラッド層 (I)表面にネガ型感活性エネルギー線性榭脂組成物を被覆するか、又は該組成物からなるドライフィルムを加熱及び Z又は圧着により貼付け、コア部パターンを形成するように活性エネルギー線照射を行い、次いで非照射部分を現像して除去することにより、行われる請求項 6に記載の光導波路の製造方法。

[8] コア部（Π)の形成が、下部クラッド層 (I)表面にポジ型感活性エネルギー線性榭脂組成物を被覆するか、又は該組成物からなるドライフィルムを加熱及び Z又は圧着により貼付け、コア部パターンを形成するように活性エネルギー線照射を行い、次いで照射部分を現像して除去することにより、行われる請求項 6に記載の光導波路の製造方法。

[9] 下部クラッド層 (I)及びコア部（II)を、ドライフィルムを用いて形成する請求項 6に記載の光導波路の製造方法。