JP5066926B2 - フレキシブル光導波路の製造方法 - Google Patents
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特許文献1に開示される高分子フィルム光導波路の製造方法は以下のようなものである。まずシリコン等の基板上に高分子の溶液等をスピンコートし、ベークにより下部クラッド層を形成する。同様の方法によってコア層を形成後、Si含有ホトレジスト等でマスクパターンを形成し、ドライエッチングによってコアパターンを形成した後、下部クラッド層を形成した方法と同様の方法によって上部クラッド層を形成する。最後に基板から光導波路を剥離することによってフィルム化した光導波路を製造している。ここで、光導波路の剥離を容易にするために、基板として熱酸化したシリコン基板を用い、また光導波路形成後、フッ酸に浸漬することにより剥離する方法を取っている。
また、シリコンを基板に用いていることから10cm以上のサイズの光導波路を大量に製造するには向かない。さらに、上記製造方法には高真空プロセスであるドライエッチング工程を有しており、コア層が厚いマルチモード光導波路を製造するためには、非常に長い時間ドライエッチングを行う必要がある。
すなわち、本発明は、
[1]基材フィルム上にクラッド層形成用樹脂を形成した2つのクラッド層形成用樹脂フィルムを用いるフレキシブル光導波路の製造方法であって、第1のクラッド層形成用樹脂フィルムのクラッド層形成用樹脂を硬化し、第1のクラッド層を形成する第1の工程、該第1のクラッド層上にコア層を積層する第2の工程、該コア層を露光現像し、光導波路のコアパターンを形成する第3の工程、第2のクラッド層形成用樹脂フィルムのラミネートによって、該コアパターンを第2のクラッド層形成用樹脂中に埋め込む第4の工程、該クラッド層形成用樹脂を硬化し、第2のクラッド層を形成する第5の工程、第1及び第2のクラッド層形成用樹脂フィルムのうち少なくとも一方の基材フィルムを剥離する第6の工程を有し、かつ、第1及び第2のクラッド層形成用樹脂フィルムを構成する基材フィルムの少なくとも一方が表面処理され、該表面処理された面の表面張力が45〜70mN/mであることを特徴とするフレキシブル光導波路の製造方法、
[2]前記第2の工程が第1のクラッド層上にコア層形成用樹脂フィルムをラミネートし、コア層を積層する上記[1]に記載のフレキシブル光導波路の製造方法、
[3]前記表面処理がコロナ処理である上記[1]又は[2]に記載のフレキシブル光導波路の製造方法、
[4]前記基材フィルムを剥離する第6の工程中に加湿処理を含む上記[1]〜[3]のいずれかに記載のフレキシブル光導波路の製造方法、及び
[5]前記基材フィルムがポリアミドフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム及びポリフェニレンサルファイドフィルムのいずれかである上記[1]〜[4]のいずれかに記載のフレキシブル光導波路の製造方法、
を提供するものである。
ここで用いるクラッド層形成用樹脂フィルムは、図2に示すように、基材フィルム13上にクラッド層形成用樹脂12を形成したものであり、必要に応じて保護フィルム(セパレーター)14が積層された構造をなす。
なお、保護フィルムは、クラッド層形成用樹脂フィルムの製造に際し、クラッド層形成用樹脂フィルムの保護やロール状に製造する際の巻き取り性を向上させるなどの目的で設けられ、保護フィルムとしては、後述する基材フィルムとして例示されるものと同様なものが使用できる。なお、保護フィルムは、クラッド層形成用樹脂フィルムからの剥離を容易にするためコロナ処理等の接着処理は行っていないことが好ましく、必要に応じ離型処理や帯電防止処理がなされていてもよい。
これらのうち、コロナ処理が効果及び操作性などの面から最も好ましい。コロナ処理の条件としては、基材フィルムの表面張力が上記範囲内になるものであれば特に制限はない。
より好適には、クラッド層形成用樹脂が、(A)ベースポリマー、(B)光重合性化合物、及び(C)光重合開始剤を含有する樹脂組成物により構成されることが好ましい。
上記で例示したベースポリマーのうち、耐熱性が高いとの観点から、主鎖に芳香族骨格を有することが好ましく、特にフェノキシ樹脂が好ましい。
また、3次元架橋し、耐熱性を向上できるとの観点からは、エポキシ樹脂、特に室温で固形のエポキシ樹脂が好ましい。さらに、後に詳述する(B)光重合性化合物との相溶性が、クラッド層形成用樹脂フィルムの透明性を確保するために重要であるが、この点からは上記フェノキシ樹脂及び(メタ)アクリル樹脂が好ましい。なお、ここで(メタ)アクリル樹脂とは、アクリル樹脂及びメタクリル樹脂を意味するものである。
また、第1のクラッド層(下部クラッド層)上にコア層形成用樹脂フィルムをラミネートし、コア層を積層する方法であってもよい(図1(b)参照)。すなわち、この第2の工程において、上述の第1のクラッド層上に、コア層形成用樹脂フィルムを加熱圧着することにより、クラッド層より屈折率の高いコア層を積層するものである。ここで、コア層形成用樹脂フィルムとは、基材フィルム上にコア層形成用樹脂を形成したもの、又はコア層形成用樹脂単独で構成されているものが挙げられるが、基材フィルム上にコア層形成用樹脂を形成したものを用いるほうが取り扱いが容易で好ましい。より具体的には、図3に示すような構成のものが挙げられる。すなわち、基材フィルム23上にコア層形成用樹脂22を形成したものであり、コア層形成用樹脂フィルムの保護やロール状に製造する際の巻き取り性を向上させるなどの目的で、所望により基材フィルム23の反対側に保護フィルム24が設けられたものである。保護フィルムとしては、前記クラッド層形成用樹脂フィルムの基材フィルムとして例に挙げたものと同様なものが使用できる。
なお、保護フィルム及び基材フィルムは、コア層形成用樹脂フィルムからの剥離を容易にするためコロナ処理等の接着処理は行っていないことが好ましく、必要に応じ離型処理、帯電防止処理が施されていてもよい。
また、該基材フィルムの厚さは、5〜50μmであることが好ましい。5μm以上であると、支持体としての強度が得やすいという利点があり、50μm以下であると、パターン形成時のマスクとのギャップが小さくなり、より微細なパターンが形成できるという利点がある。以上の観点から、該基材フィルムの厚さは10〜40μmの範囲であることがより好ましく、15〜30μmであることが特に好ましい。
なお、上記基材フィルムは、剥離を容易とするため、離型処理、帯電防止処理等が施されていてもよい。
本発明では、上述のように第1のクラッド層形成用樹脂フィルムを構成する基材フィルム及び第2のクラッド層形成用樹脂フィルムを構成する基材フィルムの少なくとも一方が表面処理されていることを特徴とするが、いずれもが表面処理されていることがより好ましい。
また、第2のクラッド層形成用樹脂フィルムの基材フィルムの反対側に保護フィルムを設けている場合(図2参照)には該保護フィルムを剥離後、クラッド層形成用樹脂フィルムを光又は加熱により硬化し、第2のクラッド層を形成する。保護フィルムは、クラッド層形成用樹脂フィルムからの剥離を容易にするため接着処理は行っていないことが好ましく、必要に応じ離型処理、帯電処理が施されていてもよい。
本発明においては、クラッド層形成用樹脂フィルムの基材フィルムは、フレキシブル光導波路の製造過程において、支持体としての役割をも担う。この基材フィルムは、従来支持体として用いられていたシリコン基板などに比べ、大きなものを用いることができるため、大面積化が容易で、生産性に優れたフレキシブル光導波路の製造方法を提供することができる。
なお、基材フィルムは、フレキシブル光導波路の片面に残してもよいが、両面剥離した対称構造とすることで反りの少ないフレキシブル光導波路を製造することができる。また、基材フィルムを剥離することで、フレキシブル光導波路の薄型化も可能となる。
[フレキシブル光導波路の作製]
(ワニスの調合)
表1に示す配合にて、コア層及びクラッド層用樹脂組成物を用意した。これに溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを、コア層用では全量に対して35質量部、クラッド層用では全量に対して40質量部加え、樹脂ワニスを調合した。なお、コア用樹脂ワニスは孔径0.5μmのフィルタ(アドバンテック東洋(株)、商品名J050)で、クラッド用樹脂ワニスは孔径2μmのフィルタ((アドバンテック東洋(株)、商品名PF020)で0.3MPaの加圧条件でろ過し、さらに減圧脱泡を行った。
*2 A−BPEF;新中村工業(株)製、9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン
*3 EA−1020;新中村工業(株)製、ビスフェノールA型エポキシアクリレート
*4 KRM−2110;新中村工業(株)製、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート
*5 イルガキュア819;チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド
*6 イルガキュア2959;チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン
*7 SP−170;旭電化工業(株)製、トリフェニルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート塩
*8 SP−100;旭電化工業(株)製、光増感剤
基材フィルムとしてポリアミドフィルム(商品名:ミクトロン、東レ(株)製、厚さ:12μm)を用い、これのコロナ処理面(表面張力56mN/m)上に塗工機(マルチコーターM−200、(株)ヒラノテクシード製)を用いてクラッド用樹脂ワニスを塗布し、80℃、10分、その後100℃、10分乾燥し、クラッド層形成用樹脂フィルムを作製した。また、同様にしてコア用樹脂ワニスをPETフィルム(商品名:コスモシャインA1517、東洋紡績(株)製、厚さ:16μm)の非処理面に作製し、コア層形成用樹脂フィルムを得た。このとき樹脂層の厚さは、塗工機のギャップを調節することで、任意に調整可能であり、本実施例では硬化後の膜厚が、下部クラッド層20μm、上部クラッド層70μm、コア層50μmとなるように調節した。
紫外線露光機((株)オーク製作所製、EXM−1172)にて紫外線(波長365nm)を1000mJ/cm2照射後、80℃で10分加熱し下部クラッド層形成用樹脂フィルムを光硬化した(図1(a)参照)。次に、このクラッド層上に、真空加圧式ラミネータ((株)名機製作所製、MVLP−500)を用い、圧力0.4MPa、温度50℃、加圧時間30秒の条件にてコア層形成用樹脂フィルムをラミネートした(図1(b)参照)。続いて幅50μmのホトマスク(ネガ型)を介し、上記紫外線露光機にて紫外線(波長365nm)を1000mJ/cm2照射し(図1(c)参照)、直後に後露光加熱(PEB)を80℃で5分した後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとN,N−ジメチルアセトアミドの8対2質量比混合溶剤にて、コアパターンを現像した(図1(d)参照)。現像液の洗浄には、イソプロピルアルコールを用いた。
次いで、同様なラミネート条件にて上部クラッド形成用樹脂フィルムをラミネートし、紫外線照射及び160℃で1時間加熱処理を行い、基材フィルムが外側に配置されたフレキシブル光導波路を作製した(図1(e)参照)。さらにポリアミドフィルム剥離のため、85℃/85%の高温高湿条件でフレキシブル光導波路を100時間処理した後、基材フィルムを剥離して除去したフレキシブル光導波路を作製した。
実施例1において、クラッド層形成用樹脂フィルムの基材フィルムとして、ポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名:ルミラーS105、東レ(株)製、厚さ:25μm)を用いたこと、及び上部クラッド層形成時の加熱処理を120℃で1時間に変えたこと以外は、実施例1と同様にフレキシブル光導波路を作製した。その結果、本実施例においてもフレキシブル光導波路が作製可能なことを確認した。なお、ポリエチレンテレフタレートフィルムのコロナ処理面の表面張力は54mN/mであった。
実施例1において、クラッド層形成用樹脂フィルムの基材フィルムとして、ポリエチレンナフタレートフィルム(商品名:テオネックスQ83、帝人デュポンフィルム(株)製、厚さ:25μm)を用いたこと、及び上部クラッド層形成時の加熱処理を120℃で1時間に変えたこと以外は、実施例1と同様にフレキシブル光導波路を作製した。その結果、本実施例においてもフレキシブル光導波路が作製可能なことを確認した。なお、ポリエチレンナレフタレートフィルムのコロナ処理面の表面張力は56mN/mであった。
実施例1において、クラッド層形成用樹脂フィルムの基材フィルムとして、ポリフェニレンサルファイドフィルム(商品名:トレリナ、東レ(株)製、厚さ:9μm)を用いたこと、及び上部クラッド層形成時の加熱処理を120℃で1時間に変えたこと以外は、実施例1と同様にフレキシブル光導波路を作製した。その結果、本実施例においてもフレキシブル光導波路が作製可能なことを確認した。なお、ポリフェニレンサルファイドフィルムのコロナ処理面の表面張力は60mN/mであった。
光導波路形成用樹脂フィルムの製造において、クラッド用樹脂ワニスをポリアミドフィルム(商品名:ミクトロン、東レ(株)製、厚さ:12μm)の非処理面(表面張力35.0mN/m)上に作製した以外は、実施例1と同様にフレキシブル光導波路を製造した。その結果、現像工程において下部クラッド層とポリアミドフィルム界面で剥離が生じ、光導波路の製造が行えなかった。
光導波路形成用樹脂フィルムの製造において、クラッド用樹脂ワニスをポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名:ルミラーS105、東レ(株)製、厚さ:25μm)の非処理面(表面張力43.0mN/m)上に作製した以外は、実施例1と同様にフレキシブル光導波路を製造した。その結果、現像工程において下部クラッド層とポリエチレンテレフタレートフィルム界面で剥離が生じ、光導波路の製造が行えなかった。
光導波路形成用樹脂フィルムの製造において、クラッド用樹脂ワニスをポリエチレンナフタレートフィルム(商品名:テオネックスQ51、帝人デュポンフィルム(株)製、厚さ:25μm)の非処理面(表面張力43.0mN/m)上に作製した以外は、実施例1と同様にフレキシブル光導波路を製造した。その結果、現像工程において下部クラッド層とポリエチレンナフタレートフィルム界面で剥離が生じ、光導波路の製造が行えなかった。
光導波路形成用樹脂フィルムの製造において、クラッド用樹脂ワニスをポリフェニレンサルファイドフィルム(商品名:トレリナ、東レ(株)製、厚さ:9μm)の非処理面(表面張力38.0mN/m)上に作製した以外は、実施例1と同様にフレキシブル光導波路を製造した。その結果、現像工程において下部クラッド層とポリフェニレンサルファイドフィルム界面で剥離が生じ、光導波路の製造が行えなかった。
2;下部クラッド層
3;コア層
4;基材フィルム(コア層形成用)
5;ホトマスク
6;コアパターン
7;上部クラッド層
11;クラッド層形成用樹脂フィルム
12;クラッド層形成用樹脂
13;基材フィルム
14;保護フィルム(セパレーター)
21;コア層形成用樹脂フィルム
22;コア層形成用樹脂
23;基材フィルム
24;保護フィルム(セパレーター)
Claims (5)
- 基材フィルム上にクラッド層形成用樹脂を形成した2つのクラッド層形成用樹脂フィルムを用いるフレキシブル光導波路の製造方法であって、第1のクラッド層形成用樹脂フィルムのクラッド層形成用樹脂を硬化し、第1のクラッド層を形成する第1の工程、該第1のクラッド層上にコア層を積層する第2の工程、該コア層を露光現像し、光導波路のコアパターンを形成する第3の工程、第2のクラッド層形成用樹脂フィルムのラミネートによって、該コアパターンを第2のクラッド層形成用樹脂中に埋め込む第4の工程、該クラッド層形成用樹脂を硬化し、第2のクラッド層を形成する第5の工程、第1及び第2のクラッド層形成用樹脂フィルムのうち少なくとも一方の基材フィルムを剥離する第6の工程を有し、第1及び第2のクラッド層形成用樹脂フィルムを構成する基材フィルムの少なくとも一方が表面処理され、該表面処理された面にクラッド層形成用樹脂を形成し、該表面処理された面の表面張力が45〜70mN/mであり、かつ該基材フィルムがポリアミドフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム及びポリフェニレンサルファイドフィルムのいずれかであることを特徴とするフレキシブル光導波路の製造方法。
- 前記第2の工程が第1のクラッド層上にコア層形成用樹脂フィルムをラミネートし、コア層を積層する請求項1に記載のフレキシブル光導波路の製造方法。
- 前記表面処理がコロナ処理である請求項1又は2に記載のフレキシブル光導波路の製造方法。
- 前記基材フィルムを剥離する第6の工程中に加湿処理を含む請求項1〜3のいずれかに記載のフレキシブル光導波路の製造方法。
- 前記基材フィルムの表面処理された面の表面張力が48〜62mN/mである請求項1〜4のいずれかに記載のフレキシブル光導波路の製造方法。
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