TWI443388B - Optical filter - Google Patents

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TWI443388B
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Tatsuya Ishida
Toshiyuki Takahashi
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Adeka Corp
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Description

光學濾光器
本發明係關於含有色素化合物、層狀黏土礦物以及根據需要含有熱可塑性物質之光學濾光器。該光學濾光器尤其可用作影像顯示裝置用之光學濾光器。
對於特定之光具有高強度吸收的化合物,可用作CD-R、DVD-R、DVD+R、藍光雷射記錄碟片等光學記錄媒體之記錄層,或者液晶顯示器(LCD)、電漿顯示面板(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、陰極射線管顯示器(CRT)、螢光顯示管、場發射顯示器等影像顯示裝置之光學元件。
例如,作為影像顯示裝置中之光學元件之用途,存有彩色濾光器之光吸收劑。影像顯示裝置以紅、藍、綠三原色之光的組合顯示彩色影像,於顯示彩色影像之光中,含有綠與紅之間之550~600 nm等導致顯示品質下降之光,又,亦含有750~1100 nm之成為紅外線遙控器誤動作之原因的光。對光學濾光器,亦要求其具有選擇性吸收上述不必要之波長光的功能,同時亦需要吸收480~500 nm以及540~560 nm之波長光以防止螢光燈等之外光之反射或者射入。因此,影像顯示裝置等,使用含有選擇性吸收該等之波長光的光吸收性化合物(光吸收劑)之光學濾光器。
先前,為製造光學濾光器,將含有選擇性吸收特定波長光之光吸收性化合物(光吸收劑)的光學膜,介隔黏著劑層貼合於玻璃等透明基板上。因此,產生如下之問題:製造工序變多且造價較高,且難以將光學濾光器薄層化。
下述專利文獻1中,揭示有於黏著劑層含有色素以及碳黑之電子顯示器用膜;於下述專利文獻2中,揭示有含有色素之黏著劑;於下述專利文獻3中,揭示有使用含有色素之黏著劑的顯示器用濾光器。
但,難以抑制於黏著劑層中色素化合物之光或熱等所引起之劣化,未能獲得可充分確保光學特性之光學濾光器。
又,於下述專利文獻4中,揭示有含有於黏土中嵌入色素而成之有色材料的彩色濾光片;於下述專利文獻5中,揭示有含有作為黏土系層間化合物之膨潤石的層間離子被色素所取代之著色複合體的水性油墨組合物;於下述專利文獻6中,揭示有具有濾光層之光學濾光器,該濾光層含有於表面上吸附有色素之微粒子;而關於藉由於光學濾光器之黏著劑層中使用該等有色材料或者著色複合體,或者使用該等有色材料或者著色複合體,而提高光學濾光器之耐濕熱性卻無任何揭示。
進而,於下述專利文獻7中,揭示有具有近紅外線吸收層之近紅外線吸收膜,該近紅外線吸收層以具有特定結構之菁化合物以及二亞銨化合物為必需成分,若於該近紅外線吸收膜中除二亞銨化合物之外使用菁化合物等其他色素化合物,則導致由於與該等其他色素化合物之相互作用所造成之耐濕熱性以及/或者耐光性之降低;若未使用其他色素化合物,則可見光範圍之吸收變大,無法顯示充分之性能。專利文獻1:日本專利特開2003-82302號公報
專利文獻2:日本專利特開2004-107566號公報專利文獻3:日本專利3311720號公報專利文獻4:日本專利特開平10-77427號公報專利文獻5:日本專利特開平10-133013號公報專利文獻6:日本專利特開2000-338325號公報專利文獻7:日本專利特開2003-21715號公報
因此,本發明之目的在於提供即使於黏著劑層中亦具有優良之耐光性以及耐濕熱性之光學濾光器。
本發明者等,反覆探討之結果,發現藉由於黏著劑層中併用色素化合物以及層狀黏土礦物,可解決上述問題。本發明係基於上述認識而成者,其係關於一種光學濾光器,其特徵為含有色素化合物之至少一種(甲)、層狀黏土礦物(乙)之至少一種,進而根據需要含有熱可塑性物質(丙)。
以下,就本發明之光學濾光器,根據較好之實施形態加以詳細說明。
本發明相關之色素化合物(甲),並無特殊限制,可使用先前光學濾光器所使用之眾所周知之菁化合物之任一者,可單獨使用或者亦可組合複數個使用。
作為上述色素化合物(甲),具體而言可列舉:菁化合物、二亞銨化合物、偶氮化合物以及其金屬鹽、次甲基偶氮色素化合物、三芳基甲烷色素化合物、嗪化合物、噻嗪系色素化合物、噁嗪化合物、噻噸色素化合物、酞菁化合物、卟啉化合物、吡咯亞甲基色素化合物、蒽醌化合物、茜素色素化合物、吖啶化合物、喹啉化合物、亞苯藍色素化合物、鹼性蕊香紅色素化合物、方酸內鎓鹽系化合物、苯乙烯基系色素化合物。其中菁化合物以及二亞銨化合物,嵌入層狀黏土礦物之層間,難以受到來自紫外線或者水分等外部之影響,故而耐光性以及耐濕熱性較高,且與極性較低之有機溶劑之親和性亦良好,故而較好。
作為上述菁化合物,具體可列舉下述通式(I)所示之化合物。
(式中,環A係下述(a)或者(b)所表示之基;環B係下述(a)或者(c)所表示之基;Q表示構成聚次甲基鏈,於鏈中亦可含有環結構之連結基,該聚次甲基鏈中之氫原子亦可被鹵素原子、氰基、烷基、烷氧基、芳基或者其取代基所取代;Anq 表示q價之陰離子;q表示1或者2;p表示將電荷保持為中性之係數); (式中,R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 以及R7 各自獨立表示氫原子、羥基、亦可具有取代基之碳原子數為1~8之烷基、亦可具有取代基之碳原子數為1~8之烷氧基、亦可具有取代基之碳原子數為6~30之芳基、鹵素原子、硝基、氰基或者下述通式(II)所表示之取代基;R1 以及R2 、R4 以及R5 或者R6 以及R7 亦可各自連結而形成碳原子數為3~12之碳環或者雜環;X1 以及X2 各自獨立表示氧原子、硫原子、硒原子、-CR8 R9 -、-NH-或者-NYa -;R8 以及R9 各自獨立表示亦可具有取代基之碳原子數為1~8之烷基、亦可具有取代基之碳原子數為6~30之芳基、下述通式(II)所表示之取代基或者下述通式(III)所表示之取代基;Ya 、Y1 以及Y2 各自獨立表示氫原子、亦可具有取代基之碳原子數為1~8之烷基、亦可具有取代基之碳原子數為1~8之烷氧基、亦可具有取代基之碳原子數為6~30之芳基、或者下述通式(II)所表示之取代基); (式中,Ra ~Ri 各自獨立表示氫原子、羥基或者碳原子數為1~4之烷基,該烷基中之亞甲基亦可被-O-或者-CO-所取代;Z表示直接鍵結或者亦可具有取代基之碳原子數為1~8之伸烷基,該伸烷基中之亞甲基亦可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO2 -、-NH-、-CONH-、-NHCO-、-N=CH-或者-CH=CH-所取代;M表示金屬原子); (式中,R1 0 ~R1 3 各自獨立表示氫原子、鹵素原子、亦可具有取代基之碳原子數為1~4之烷基或者亦可具有取代基之碳原子數為1~4之烷氧基;R1 0 與R1 1 亦可連結形成碳原子數為3~12之碳環或者雜環)。
上述通式(I)中,作為以Q所示之構成聚次甲基鏈,於鏈中亦可含有環結構之連結基,較好的是下述(1)~(6)所表示之基。
(式中,Rj 、Rk 、Rl 以及Rm 各自獨立表示氫原子、羥基、鹵素原子、氰基、碳原子數為6~30之芳基、二苯胺基、碳原子數為1~8之烷基或者碳原子數為1~8之烷氧基,Z'與上述通式(II)相同)。
於上述通式(I)中,作為以Anq 所表示之陰離子,例如,作為一價者,可列舉:氯陰離子、溴陰離子、碘陰離子、氟陰離子等鹵素陰離子,過氯酸陰離子、氯酸陰離子、硫氰酸陰離子、六氟化磷陰離子、六氟化銻陰離子、四氟化硼陰離子等無機系陰離子,苯磺酸陰離子、甲苯磺酸陰離子、三氟甲烷磺酸陰離子、二苯胺-4-磺酸陰離子、2-胺基-4-甲基-5-氯苯磺酸陰離子、2-胺基-5-硝基苯磺酸陰離子等有機磺酸陰離子,辛基磷酸陰離子、十二烷基磷酸陰離子、十八烷基磷酸陰離子、苯基磷酸陰離子、壬基苯基磷酸陰離子、2,2'-亞甲基雙(4,6-二第三丁基苯基)膦酸陰離子等有機磷酸系陰離子,雙三氟甲基磺醯亞胺陰離子、雙全氟丁烷磺醯亞胺陰離子、全氟-4-乙基環己烷磺酸酯陰離子、四(五氟苯基)硼酸陰離子等;作為二價者,例如可列舉:苯二磺酸陰離子、萘二磺酸陰離子等。又,亦可根據需要使用具有使處於激發狀態之活性分子去激(淬滅)機能之淬滅劑陰離子,或者於環戊二烯基環上具有羧基或膦酸基、磺酸基等陰離子性基之二茂鐵、二茂鑥等茂金屬化合物陰離子等。
作為上述之淬滅劑陰離子,例如可列舉:下述通式(A)或者(B)所表示者、於日本專利特開昭60-234892號公報、日本專利特開平5-43814號公報、日本專利特開平5-305770號公報、日本專利特開平6-239028號公報、日本專利特開平9-309886號公報、日本專利特開平9-323478號公報、日本專利特開平10-45767號公報、日本專利特開平11-208118號公報、日本專利特開2000-168237號公報、日本專利特開2002-201373號公報、日本專利特開2002-206061號公報、日本專利特開2005-297407號公報、特公平7-96334號公報、國際公開98/29257號案等中揭示之陰離子。
(式中、M'表示鎳原子、鈷原子或者銅原子,R2 8 以及R2 9 表示鹵素原子、碳原子數為1~8之烷基、碳數為6~30之芳基或者-SO2 -G基;G表示烷基、亦可被鹵素原子取代之芳基、二烷基胺基、二芳基胺基、哌啶基或者嗎啉基;a以及b各自表示0~4。又、R3 0 、R3 1 、R3 2 以及R3 3 各自獨立表示烷基、烷基苯基、烷氧基苯基或者鹵化苯基)。
於上述通式(I)中,作為以R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 、R9 、Ya 、Y1 以及Y2 所表示之亦可具有取代基之碳原子數為1~8之烷基,可列舉:甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、異丁基、戊基、異戊基、第三戊基、己基、環己基、環己基甲基、環己基乙基、庚基、異庚基、第三庚基、正辛基、異辛基、第三辛基、2-乙基己基、三氟甲基、三氯甲基、三溴甲基、1,2-二氯乙基、3,3,3-三氟丙基等;作為以R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、Ya 、Y1 以及Y2 所表示之亦可具有取代基之碳原子數為1~8之烷氧基,可列舉甲氧基、乙氧基、異丙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基、異戊氧基、己氧基、庚氧基、辛氧基、2-乙基己氧基、三氟甲氧基、三氯甲氧基、三溴甲氧基等;作為以R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 、R9 、Ya 、Y1 以及Y2 所表示之亦可具有取代基之碳原子數為6~30之芳基,可列舉苯基、萘基、2-甲基苯基、3-甲基苯基、4-甲基苯基、4-乙烯基苯基、3-異丙基苯基、4-異丙基苯基、4-丁基苯基、4-異丁基苯基、4-第三丁基苯基、4-己基苯基、4-環己基苯基、4-辛基苯基、4-(2-乙基己基)苯基、4-十八烷基苯基、2,3-二甲基苯基、2,4-二甲基苯基、2,5-二甲基苯基、2,6-二甲基苯基、3,4-二甲基苯基、3,5-二甲基苯基、2,4-二第三丁基苯基、2,5-二第三丁基苯基、2,6-二-第三丁基苯基、2,4-二第三戊基苯基、2,5-二第三戊基苯基、2,5-二第三辛基苯基、2,4-二異丙苯基苯基、環己基苯基、聯苯基、2,4,5-三甲基苯基、苄基、苯乙基、2-苯基丙烷-2-基、二苯基甲基、三苯基甲基、苯乙烯基、肉桂基、2-苯基丙烷-2-基、二苯基甲基等;作為以R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 以及R7 所表示之鹵素原子,可列舉氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等;作為R1 以及R2 、R4 以及R5 或者R6 以及R7 連結形成碳環或者雜環之碳原子數為3~12之有機基,可列舉苯、萘、氯苯、溴苯、甲苯、乙苯、甲氧基苯、乙氧基苯等芳香族環,呋喃環、苯并呋喃環、吡咯環、噻吩環、吡啶環、喹啉環、噻唑環等雜環,環丙烷、環丁烷、環戊烷、環己烷、環庚烷、環辛烷等脂肪族環。
於上述通式(II)中,作為以Ra ~Ri 所表示之碳原子數為1~4之烷基,可列舉甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、異丁基等;作為該烷基中之亞甲基被-O-所取代之基,可列舉甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、甲氧基甲基、乙氧基甲基、2-甲氧基乙基等;作為該烷基中之亞甲基被-CO-所取代之基,可列舉乙醯基、1-羰基乙基、乙醯基甲基、1-羰基丙基、2-氧丁基、2-乙醯基乙基、1-羰基異丙基等;作為以Z表示之亦可具有取代基之碳原子數為1~8之伸烷基,可列舉亞甲基、伸乙基、伸丙基、甲基伸乙基、伸丁基、1-甲基伸丙基、2-甲基伸丙基、1,2-二甲基伸丙基、1,3-二甲基伸丙基、1-甲基伸丁基、2-甲基伸丁基、3-甲基伸丁基、4-甲基伸丁基、2,4-二甲基伸丁基、1,3-二甲基伸丁基、伸戊基、伸己基、伸庚基、伸辛基、乙烷-1,1-二基、丙烷-2,2-二基等;作為該伸烷基中之亞甲基被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO2 -、-NH-、-CONH-、-NHCO-N=CH-或者-CH=CH-所取代之基,可列舉亞甲基氧基、伸乙基氧基、氧基亞甲基、硫代亞甲基、羰基亞甲基、羰基氧基亞甲基、亞甲基羰氧基、磺醯基亞甲基、胺基亞甲基、乙醯基胺基、伸乙基羧醯胺、乙醯亞胺基、亞乙烯基、亞丙烯基等;作為以M所表示之金屬原子,可列舉Fe、Co、Ni、Ti、Cu、Zn、Zr、Cr、Mo、Os、Mn、Ru、Sn、Pd、Rh、Pt、Ir等。
於上述通式(III)中,作為以R1 0 ~R1 3 所表示之亦可具有取代基之碳原子數為1~4之烷基、以R1 0 ~R1 3 所表示之亦可具有取代基之碳原子數為1~4之烷氧基以及R1 0 與R1 1 連結形成碳環或者雜環之碳原子數為3~12之有機基,可列舉以上述通式(I)例示者。
於以上述通式(I)所表示之菁化合物中,以下述通式(VII)所表示之化合物,其製造成本低,且耐光性以及耐濕熱性較高,故而可更好地製成光學濾光器。
(式中,R1 、R2 、R6 、R7 、X1 、X2 、Y1 、Y3 、Anq 、p以及q與上述通式(I)相同,Q與上述通式(I)相同)。
作為本發明之以上述通式(I)所表示之菁化合物之具體例,可列舉下述化合物No.1~48。再者,於下述之例示中,以省去陰離子之菁陽離子表示。
以上述(VII)所表示之菁化合物中,以下述通式(IV)所表示之化合物,於黏著劑層中之耐濕熱性較高,故而可尤其好地製成光學濾光器。
(式中,Y1 、Y3 、X1 以及X2 與作為上述通式(I)中之表示為環A的基之以上述(a)以及(c)所例示者相同;Anq 、p、q以及Q與上述之通式(I)相同。)
作為上述二亞銨化合物,具體可列舉下述通式(V)所表示之化合物。
(式中,R1 4 、R1 5 、R1 6 、R1 7 、R1 8、R1 9 、R2 0 以及R2 1 各自獨立表示氫原子或者亦可具有取代基之碳原子數為1~8之烷基;R2 2 、R2 3 、R2 4 以及R2 5 各自獨立表示氫原子、鹵素原子、亦可具有取代基之碳原子數為1~8之烷基或者亦可具有取代基之胺基,該烷基中之亞甲基亦可被-O-或者-CH=CH-所取代;n表示1~4之數;Anq 、p、q以及Q與上述通式(I)相同。)
於上述通式(V)中,作為以R1 4 、R1 5 、R1 6 、R1 7 、R1 8 、R1 9 、R2 0 、R2 1 、R2 2 、R2 3 、R2 4 以及R2 5 所表示之亦可具有取代基之碳原子數為1~8之烷基,可列舉上述通式(I)中之以R1 ~R9等所表示者;作為以R1 4 、R1 5 、R1 6 、R1 7 、R1 8 、R1 9 、R2 0 以及R2 1 所表示之鹵素原子,可列舉上述通式(I)中之以R1 ~R7 等所表示者;作為以R1 4 、R1 5 、R1 6 、R1 7 、R1 8 、R1 9 、R2 0 以及R2 1 所表示之亦可具有取代基之胺基,可列舉胺基、乙基胺基、二甲基胺基、二乙基胺基、丁基胺基、環戊基胺基、2-乙基己基胺基、十二烷基胺基、苯胺基、氯苯基胺基、甲苯胺基、甲氧苯胺基、N-甲基-苯胺基、二苯基胺基、萘基胺基、2-吡啶基胺基、甲氧基羰基胺基、苯氧基羰基胺基、乙醯基胺基、苯甲醯基胺基、甲醯基胺基、三甲基乙醯胺基、月桂醯胺基、胺甲醯基胺基、N,N-二甲基胺基羰基胺基、N,N-二乙基胺基羰基胺基、嗎啉基羰基胺基、甲氧基羰基胺基、乙氧基羰基胺基、第三丁氧基羰基胺基、正十八烷氧基羰基胺基、N-甲基-甲氧基羰基胺基、苯氧基羰基胺基、胺磺醯基、N,N-二甲基胺基磺醯胺基、甲基磺醯胺基、丁基磺醯胺基、苯基磺醯胺基等。
於上述通式(V)中,作為以Anq 所表示之陰離子,並無特別限制,可使用於上述通式(I)中例示者,其中下述通式(VI)所表示之一價陰離子,尤其是初期耐久性高,且難以受到黏著劑等酸或層狀黏土礦物等鹼之影響,故而較好。
(式中,R2 6 以及R2 7 各自獨立表示亦可被鹵素原子取代之碳原子數為1~8之烷基。)
作為本發明相關之以上述通式(V)所表示之二亞銨化合物之具體例,可列舉下述化合物No.49~56。再者,於以下之例示中,以省去陰離子之二亞銨陽離子表示。
作為上述色素化合物(甲),亦可於同一層使用以上述通式(I)所表示之菁化合物以及上述通式(V)所表示之二亞銨化合物。藉由形成同一層,可縮短工序,且可削減成本。
於同一層使用以上述通式(I)所表示之菁化合物以及以上述通式(V)所表示之二亞銨化合物之情形時,相對於以上述通式(I)所表示之菁化合物100質量份,使用500~5000質量份以上述通式(V)所表示之二亞銨化合物,耐濕熱性以及/或者耐光性變高故而較好。
於本發明之光學濾光器、尤其於影像顯示用光學濾光器中,本發明相關之色素化合物(甲)之使用量,光學濾光器之每單位面積,通常為1~1000 mg/m2 、較好是5~100 mg/m2 之範圍。若未達1 mg/m2 之使用量,則未能充分發揮光吸收效果;於以超過1000 mg/m2 而使用之情形時,存有濾光器之色調變得過強而使顯示品質等降低之可能,進而,亦有明度降低之可能。再者,本發明相關之色素化合物(甲)為複數種之混合物之情形時,本發明相關之色素化合物(甲)之使用量為其合計量。
作為本發明之光學濾光器之基材,主要使用後述之透明支持體,又,亦可使用於該透明支持體上根據需要設置有底塗層、反射防止層、硬膜層、潤滑層等各層者。
本發明相關之色素化合物(甲),為將其光學濾光器之每單位面積之使用量設定為上述範圍內,通常如下述般使用。例如,於製造具有黏著劑層之本發明之光學濾光器之情形時,相對於熱可塑性物質(丙)之固形分100質量份,將色素化合物(甲)設定為0.00001~1.0質量份、較好的是設定為0.001~0.1質量份,將層狀黏土礦物(乙)設定為0.0001~50質量份、較好的是設定為0.001~5.0質量份,以及將甲基乙基酮等溶劑設定為0.1~1000質量份、較好的是設定為1.0~500質量份,製備黏著劑溶液,將該黏著劑溶液塗布於經易黏著處理之PET膜等透明支持體上之後,使其乾燥,獲得具有厚2~400微米之黏著劑層的光學濾光器。進而,於本發明之光學濾光器中含有本發明相關之必需成分以及任意成分之情形時,可行的是各成分之添加比例以上述之添加比例為基準。
作為本發明相關之層狀黏土礦物(乙),可使用天然物或者化學合成物或者於層間具有鋰離子、鈉離子、鈣離子等者、該等之取代物、衍生物或者該等之混合物,作為具體例,可列舉膨潤石、高嶺土礦物、雲母、滑石、綠泥石、水滑石、蛭石、氟蛭石(fluoride vermiculite)等。作為膨潤石,可列舉鋰膨潤石、皂石、stibuncite、貝得石、膨潤石、膨潤土、綠脫石等,作為高嶺土礦物,可列舉高嶺石、埃洛石、珍珠石、狄克石、纖蛇紋石、利蛇紋石、鎂鋁蛇紋石、葉蠟石等,作為雲母黏土礦物,可列舉Li型氟帶雲母、Na型氟帶雲母、Na型四矽氟雲母合成雲母,其中膨潤石以及雲母官能度高,故而較好。
上述膨潤石中,較好的是為除去雜質而經精製之膨潤石,進而好的是與高分子膠合劑或有機溶劑親和性較高之親油性膨潤石。作為上述膨潤石亦可使用市售者,例如可列舉:Lucentite SWN、SWF(親水性膨潤石;CO-OP.CHEMICAL CO.,LTD.製造)、Lucentite STN、STN-A、SPN、SEN、SAN、SAN2C、SAN210、STF、SSN、SSN-A、SAN312-A、SAN2C-A、SAN210-A(親油性膨潤石;CO-OP.CHEMICAL CO.,LTD.製造)、Kunipia T(膨潤石;KUNIMINE INDUSTRIES CO.,LTD.製造)、S-BEN N-400、S-BEN N-400FP(膨潤石;HOJUN公司製造)、benton(東新化成公司(Toshin Chemicals Co.,Ltd.)製造)等,其中為除去雜質而經精製之STN-A、SSN-A、SAN312-A、SAN2C以及SAN210,於與色素化合物混合之情形時難以凝集,故而較好。
於上述雲母中,較好的是為除去雜質而經精製之雲母,進而好的是與高分子膠合劑或者有機溶劑親和性較高之膨潤性雲母。
作為上述雲母(乙)可使用市售者,例如可列舉:Somasif(膨潤性雲母;CO-OP.CHEMICAL CO.,LTD.製造)、微雲母(micromica)(非膨潤性雲母;CO-OP.CHEMICAL CO.,LTD.製造)。
本發明相關之層狀礦物黏土礦物(乙),於親水性之情形時,亦可藉由(I)或者(II)之方法改性為疏水性而使用。即,(I)使層狀礦物黏土礦物分散於水中製成懸濁液,將該層狀礦物黏土礦物之層間離子以有機陽離子離子交換,繼而以該分散液成為弱鹼性~酸性之量添加酸而進行酸處理,將所得生成物加以分離、乾燥;或者(II)使層狀礦物黏土礦物分散於水中,以該分散液成為弱鹼性~酸性之量將酸添加於分散液中進行酸處理,使獲得之層狀礦物黏土礦物分散於水中製成懸濁液,將該層狀礦物黏土礦物之層間離子以有機陽離子離子交換,將所得生成物加以分離、乾燥。
亦可不分離、乾燥上述所獲得之生成物而加以使用,但所獲得之光學濾光器之耐濕熱性降低故而不好。
作為上述有機陽離子,可列舉四級銨離子、鏻離子等。
作為四級銨離子,較好的是具有烷基、芳基或者芳基烷基者,其中烷基之碳原子數為1~20者、芳基之碳原子數為6~30者、或者芳基烷基之碳原子數為7~30者,即使於被色素化合物(甲)取代之情形時與有機溶劑之親和性亦較高,又,即使分散於有機溶劑中亦保持適度之黏性,故而較理想。作為四級銨離子,具體可列舉:四甲基銨離子、四乙基銨離子、四正癸基銨離子、四正十二烷基銨離子、三辛基甲基銨離子、三甲基十八烷基銨離子、二甲基二(十八烷基)銨離子、三辛基甲基銨離子、二甲基二(十八烷基)銨離子、二甲基二癸基銨離子、二甲基十八烷基苄基銨離子、以下述[化18]所示之化合物等。
又,作為上述鏻離子,例如可列舉:烷基鏻離子、芳基鏻離子等。
(式中、R3 4 、R3 5 、R3 6 以及R3 7 各自獨立,為碳原子數為1~20之烷基。)
於上述(I)或者(II)之任一方法中,作為層狀黏土礦物之酸處理所用之酸,並無特別限制,例如可使用硫酸、鹽酸、硝酸等無機酸,檸檬酸、醋酸等有機酸。
本發明相關之層狀黏土礦物(乙),較好的是相對於本發明之色素化合物(甲)1份,以0.1~100份之比例使用,尤其好的是1.0~30份。若未達0.1份,則未能獲得充分之穩定化效果;若多於100份,則存有於分散於有機溶劑時黏性變高,或者產生凝集,光學濾光器之物性降低之可能。
作為本發明相關之熱可塑性物質(丙),除明膠、酪蛋白膠、澱粉、纖維素衍生物、褐藻酸等天然高分子材料,或者聚甲基丙烯酸甲酯、乙烯甲苯丙烯酸酯聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯縮醛、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇、聚氯乙烯、苯乙烯丙烯酸酯、苯乙烯-丁二烯共聚物、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚醯胺、聚胺基甲酸酯、聚酯、聚己內酯、聚丙烯腈等合成高分子材料等熱可塑性樹脂之外,可使用矽系、胺基甲酸酯系、丙烯酸系等黏著劑,聚乙烯醇縮丁醛系黏著劑、聚乙烯醚系黏著劑、乙烯-乙酸乙烯酯系黏著劑、聚烯烴系黏著劑、SBR系黏著劑、橡膠系黏著劑等眾所周知之夾層玻璃用透明黏著劑,尤其為丙烯酸系黏著劑,其中尤其為酸性丙烯酸系黏著劑可較好地使用。又,可併用有機溶劑、增黏劑、軟化劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、塑化劑、消泡劑、勻化劑、分散劑等。
作為上述丙烯酸系黏著劑並無特殊限制,可使用:具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等反應性官能基以及乙烯性不飽和雙鍵之單體的均聚物或者組合複數種之共聚物,或者上述具有反應性官能基以及乙烯性不飽和雙鍵之單體、與如(甲基)丙烯酸系單體或者乙烯系單體之具有乙烯性不飽和雙鍵之單體的共聚物,根據需要,可使用含有金屬螯合系化合物、異氰酸酯系化合物、三聚氰胺化合物、環氧系化合物、胺系化合物、氮丙啶系化合物、噁唑啉化合物等交聯劑者作為硬膜劑以使黏著劑之凝集力提高。
作為上述丙烯酸系黏著劑,可使用市售者,例如可列舉:dbbond 5541(Diabond Industry Co.,Ltd.製造)、SK-DYNE AS-1925、KP-2230、SK-1811L(綜研化學公司製造)、DX2-PDP-19(日本觸媒公司製造)、AT-3001(Saiden化學公司(Saiden Chemcal Industory)製造)、Olibine BPS5896(東洋油墨公司(TOYO INK MFG.CO.,LTD.)製造)、CS-9611(日東電工公司(NITTO DENKO CORPORATION.)製造)等。
作為使本發明之光學濾光器中含有本發明相關之色素化合物(甲)、層狀黏土礦物(乙)以及熱可塑性物質(丙),或者本發明相關之色素化合物(甲)以外之光吸收劑、各種穩定劑等任意成分之方法,於採用使其含有於自透明支持體以及任意各層選擇之任意相鄰接之二者間的黏著劑層中之方法之情形時,可行的是於使黏著劑中含有本發明相關之色素化合物(甲)等之後,使用該黏著劑,黏著上述之透明支持體以及任意各層中之相鄰接之二者。進而亦可於黏著劑層之表面上設置易黏著之聚對苯二甲酸乙二醇酯膜等眾所周知之間隔膜。
又,較好的是將黏著劑層之厚度設定為2~400 μm、較好的是設定為5~40 μm。
本發明之光學濾光器,可使用於液晶顯示器(LCD)、電漿顯示面板(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、陰極射線管顯示器(CRT)、螢光顯示管、場發射顯示器等影像顯示裝置用、分析裝置用、半導體裝置製造用、天文觀測用、光通信用、眼鏡片、窗等用途中。
本發明之光學濾光器,於使用為影像顯示裝置用之情形時,通常配置於顯示器之前面。例如,可將光學濾光器直接貼附於顯示器之表面,於將前面板或電磁波遮罩設置於顯示器之前之情形時,亦可於前面板或者電磁波遮罩之表側(外側)或者內側(顯示器側)貼附光學濾光器。
於使用為影像顯示用之情形時,於本發明之光學濾光器中,為進行色調調整等,使用吸收480~500 nm以外之波長光的光吸收劑;為防止外光之反射或者射入,亦可使用本發明相關之色素化合物以外的對應480 nm~500 nm之光吸收劑。又,於影像顯示裝置為電漿顯示器之情形時,亦可使用本發明相關之色素化合物以外的對應750~1100 nm之近紅外線吸收劑。
至於色調調整用之上述光吸收劑,作為用以除去550~600 nm之橙色光者,可列舉:三次甲基吲哚鎓化合物、三次甲基苯并噁唑鎓化合物、三次甲基苯并噻唑鎓化合物等三次甲基菁衍生物;五次甲基噁唑鎓化合物、五次甲基噻唑鎓化合物等五次甲基菁衍生物;方酸內鎓鹽色素衍生物;次甲基偶氮色素衍生物;噻噸色素衍生物;偶氮色素衍生物;吡咯亞甲基色素衍生物;偶氮金屬錯合物衍生物:鹼性蕊香紅色素衍生物;酞菁衍生物;卟啉衍生物;二吡咯亞甲基金屬螯合化合物等。
又,作為用以防止外光射入之對應480~500 nm之上述光吸收劑,可列舉:三次甲基吲哚鎓化合物、三次甲基噁唑鎓化合物、三次甲基噻唑鎓化合物、亞吲哚基三次甲基噻唑鎓化合物等三次甲基菁衍生物;酞菁衍生物;萘酞菁衍生物;卟啉衍生物;二吡咯亞甲基金屬螯合化合物等。
又,作為用於防止紅外線遙控器誤作動之對應750~1100 nm之近紅外線吸收劑,可列舉五次甲基苯并吲哚鎓化合物、五次甲基苯并噁唑鎓化合物、五次甲基苯并噻唑鎓化合物等五次甲基菁衍生物;七次甲基吲哚鎓化合物、七次甲基苯并吲哚鎓化合物、七次甲基噁唑鎓化合物、七次甲基苯并噁唑鎓化合物、七次甲基噻唑鎓化合物、七次甲基苯并噻唑鎓化合物等七次甲基菁衍生物;方酸內鎓鹽衍生物;雙(芪二硫醇)化合物、雙(苯二硫醇)鎳化合物、雙(樟腦二硫醇)鎳化合物等鎳錯合物;方酸內鎓鹽衍生物;偶氮色素衍生物;酞菁衍生物;卟啉衍生物;二吡咯亞甲基金屬螯合化合物等。
於本發明之光學濾光器中,上述用以調整色調之光吸收劑、對應480~500 nm之光吸收劑以及近紅外線吸收劑,可含有於與本發明相關之色素化合物相同之層中,亦可含有於其他層中。該等之使用量通常分別為每光學濾光器之單位面積為1~1000 mg/m2 之範圍,較好的是分別為5~100 mg/m2
作為本發明之光學濾光器之代表構成,可列舉於透明支持體上,根據需要設置有底塗層、反射防止層、硬膜層、潤滑層等各層者。作為於本發明之光學濾光器上含有本發明相關之色素化合物(甲)、層狀黏土礦物(乙)以及熱可塑性物質(丙)、或者本發明相關之色素化合物(甲)以外的光吸收劑、各種穩定劑等任意成分之方法,較好的是於自透明支持體以及任意各層選擇之任意相鄰接之二者間的黏著劑層中含有該等之方法。
作為上述透明支持體之材料,例如可列舉:玻璃等無機材料;二乙醯纖維素、三乙醯纖維素(TAC)、丙醯纖維素、丁醯纖維素、乙醯基丙醯纖維素、硝基纖維素等纖維素酯;聚醯胺;聚醯亞胺;聚胺基甲酸酯;環氧樹脂;聚碳酸酯;聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚對苯二甲酸1,4-環己烷二甲酯、聚1,2-二苯氧基乙烷-4,4'-二羧酸乙二醇酯、聚苯二甲酸丁二醇酯等聚酯;聚苯乙烯;聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯等聚烯烴;聚乙酸乙烯酯、聚氯乙烯、聚氟乙烯等乙烯化合物;聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸酯等丙烯酸系樹脂;聚碳酸酯;聚碸;聚醚碸;聚醚酮;聚醚醯亞胺;聚氧乙烯、降冰片烯樹脂等高分子材料。透明支持體之透射率較好的是80%以上,進而好的是86%以上。霧度較好的是2%以下,進而好的是1%以下。折射率較好的是1.45~1.70。
於上述透明支持體中,可添加紅外線吸收劑、紫外線吸收劑、酚系、磷系等抗氧化劑、阻燃劑、潤滑劑、靜電防止劑、無機微粒子等;又,於透明支持體上,可實施各種表面處理。
作為上述無機微粒子,例如可列舉:二氧化矽、二氧化鈦、硫酸鋇、碳酸鈣等。
作為上述各種表面處理,例如可列舉:藥品處理、機械處理、電暈放電處理、火焰處理、紫外線照射處理、高頻率處理、輝光放電處理、活性電漿處理、雷射處理、混酸處理、臭氧氧化處理等。
上述底塗層,於設置含有光吸收劑之光吸收層之情形時,為使用於透明支持體與光吸收層之間之層。上述底塗層,形成為含有玻璃轉移溫度為-60~60℃之聚合物之層、光吸收層側之表面為粗面之層、或者含有與光吸收層之聚合物具有親和性之聚合物之層。又,底塗層,設置於未設置光吸收層之透明支持體之面上,可以改善透明支持體與設置於其上之層(例如,反射防止層、硬膜層)之黏著力之方式進行設置,亦可以改善用以黏著光學濾光器與影像顯示裝置之黏著劑與光學濾光器之親和性之方式進行設置。底塗層之厚度,較好的是2 nm~20 μm,更好的是5 nm~5 μm,進而好的是20 nm~2 μm,進而更好的是50 nm~1 μm,最好的是80 nm~300 nm。含有玻璃轉移溫度為-60~60℃之聚合物的底塗層,以聚合物之黏著性,黏著透明支持體與濾光層。玻璃轉移溫度為-60~60℃之聚合物,例如可藉由將氯乙烯、偏氯乙烯、乙酸乙烯酯、丁二烯、氯丁橡膠、苯乙烯、氯丁二烯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯腈或者甲基乙烯醚聚合或者將該等共聚合而獲得。玻璃轉移溫度,較好的是50℃以下,更好的是40℃以下,進而好的是30℃以下,進而更好的是25℃以下,最好的是20℃以下。底塗層於25℃時之彈性模數,較好的是1~1000 MPa,進而好的是5~800 MPa,最好的是10~500 MPa。光吸收層之表面為粗面的底塗層,於粗面上形成有光吸收層,藉此黏著透明支持體與光吸收層。光吸收層之表面為粗面的底塗層,可藉由塗布聚合物乳膠而容易地形成。乳膠之平均粒徑,較好的是0.02~3 μm,進而好的是0.05~1 μm。作為與光吸收層之膠合劑聚合物具有親和性之聚合物,可列舉丙烯酸樹脂、纖維素衍生物、明膠、酪蛋白、澱粉、聚乙烯醇、可溶性尼龍以及高分子乳膠等。又,於本發明之光學濾光器中,亦可設置二層以上之底塗層。於底塗層中,亦可添加使透明支持體膨潤之溶劑、褪光劑、界面活性劑、靜電防止劑、塗布助劑、硬膜劑等。
於上述反射防止層中,必須具有低折射率層。低折射率層之折射率,低於上述透明支持體之折射率。低折射率層之折射率,較好的是1.20~1.55,進而好的是1.30~1.50。低折射率層之厚度,較好的是50~400 nm,進而好的是50~200 nm。低折射率層,可形成為含有折射率較低之含氟聚合物之層(揭示於日本專利特開昭57-34526號、日本專利特開平3-130103號、日本專利特開平6-115023號、日本專利特開平8-313702號、日本專利特開平7-168004號各公報中)、藉由溶膠-凝膠法所得之層(揭示於日本專利特開平5-208811號、日本專利特開平6-299091號、日本專利特開平7-168003號各公報中)、或者含有微粒子之層(揭示於日本專利特公昭60-59250號、日本專利特開平5-13021號、日本專利特開平6-56478號、日本專利特開平7-92306號、日本專利特開平9-288201號各公報中)。於含有微粒子之層中,可於低折射率層中形成空隙而作為微粒子間或者微粒子內之微孔。含有微粒子之層,較好的是具有3~50體積%之空隙率,進而好的是具有5~35體積%之空隙率。
為防止較廣泛波長範圍之反射,較好的是於上述反射防止層中加入低折射率層後,積層折射率高之層(中/高折射率層)。高折射率層之折射率,較好的是1.65~2.40,進而好的是1.70~2.20。中折射率層之折射率,調整為低折射率層之折射率與高折射率層之折射率的中間值。中折射率層之折射率,較好的是1.50~1.90,進而好的是1.55~1.70。中/高折射率層之厚度,較好的是5 nm~100 μm,進而好的是10 nm~10 μm,最好的是30 nm~1 μm。中/高折射率層之霧度,較好的是5%以下,進而好的是3%以下,最好的是1%以下。中/高折射率層,可使用具有比較高之折射率的聚合物膠合劑而形成。作為折射率較高之聚合物,可列舉聚苯乙烯、苯乙烯共聚物、聚碳酸酯、三聚氰胺樹脂、丙烯酸系樹脂、苯酚樹脂、環氧樹脂、環狀(脂環式或者芳香族)異氰酸酯與多元醇反應所獲得之聚胺基甲酸酯等。其他具有環狀(芳香族、雜環式、脂環式)基之聚合物,或者具有以氟以外之鹵素原子為取代基之聚合物,折射率亦較高。亦可使用藉由導入雙鍵而可自由基硬化之單體的聚合反應所形成之聚合物。
為獲得更高之折射率,亦可於上述聚合物膠合劑中分散無機微粒子。無機微粒子之折射率,較好的是1.80~2.80。較好的是自金屬之氧化物或者硫化物形成無機微粒子。作為金屬之氧化物或者硫化物,可列舉氧化鈦(例如,金紅石、金紅石/銳鈦礦之混晶、銳鈦礦、非晶體結構)、氧化錫、氧化銦、氧化鋅、氧化鋯、硫化鋅等。該等之中,尤其好的是氧化鈦、氧化錫以及氧化銦。無機微粒子,以該等金屬之氧化物或者硫化物為主成分,可進而含有其他元素。所謂主成分,係表示構成粒子之成分中含量(重量%)最多的成分。作為其他元素,可列舉Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P、S等。亦可使用具有被膜形成性且可分散於溶劑中,或者其自身為液狀之無機材料,例如:各種元素之烷醇鹽、有機酸之鹽、與配位性化合物鍵結之配位化合物(例如螯合化合物)、活性無機聚合物,而形成中/高折射率層。
於上述反射防止層之表面上,可賦予防眩機能(使入射光於表面上散射,防止膜周圍之景色轉移於膜表面上之機能)。例如,於透明膜之表面上形成微細之凹凸而於其表面上形成反射防止層,或者於形成反射防止層之後,以壓花滾筒於表面上形成凹凸,藉此可獲得具有防眩機能之反射防止層。具有防眩機能之反射防止層,通常具有3~30%之霧度。
上述硬膜層之硬度高於上述透明支持體之硬度。較好的是硬膜層含有交聯之聚合物。硬膜層,可使用丙烯酸系、胺基甲酸酯系、環氧系之聚合物、寡聚物或者單體(例如紫外線硬化型樹脂)等而形成。亦可以二氧化矽系材料形成硬膜層。
上述反射防止層(低折射率層)之表面,亦可形成有潤滑層。潤滑層,具有賦予低折射率層表面以滑性,改善耐傷性之機能。潤滑層,可使用聚有機矽氧烷(例如矽油)、天然蠟、石油蠟、高級脂肪酸金屬鹽、氟系潤滑劑或者其衍生物而形成。潤滑層之厚度,較好的是2~20 nm。
作為上述有機溶劑,並無特別限定,可適宜使用眾所周知之各種溶劑,例如可列舉:異丙醇等醇類;甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑、二乙二醇丁醚等醚醇類;丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、雙丙酮醇等酮類;醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙酸甲氧基乙酯等酯類;丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯等丙烯酸酯類;2,2,3,3-四氟丙醇等氟化醇類;己烷、苯、甲苯、二甲苯等烴類;二氯甲烷、二氯乙烷、氯仿等氯代烴類等。該等有機溶劑,可單獨使用或者混合使用。
又,上述之底塗層、反射防止層、硬膜層、潤滑層、光吸收層、黏著劑層等,亦可藉由通常之塗布方法形成。作為塗布方法,可列舉浸漬塗布法、氣刀塗布法、淋幕式塗佈法、滾筒塗佈法、拉絲錠塗布法、凹版印刷塗布法、使用漏斗之擠出塗布法(揭示於美國專利第2681294號說明書)等。亦可藉由同時塗布二層以上之層而形成。於美國專利第2761791號、美國專利第2941898號、美國專利第3508947號、美國專利第3526528號各說明書以及原崎勇次著之「塗層工程」第253頁(1973年朝倉書店發行)中有關於同時塗布法之揭示。
實施例
以下,以評估例、比較評估例以及實施例對本發明加以更詳細之說明。但,本發明並不受以下實施例等任何限制。
[評估例1~5]耐光性評估以及耐濕熱性評估
以下述之組成製備黏著劑溶液,於經易黏著處理之188 μm厚之聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜上,將該黏著劑溶液藉由塗布棒(Bar coater)#30塗層之後,於100℃下使其乾燥10分鐘,於塗布面貼合0.9 mm厚之玻璃而獲得試驗片。
<耐光性評估>針對上述所獲得之試驗片,分別測定其於UV吸收光譜之λmax之透射率,繼而,照射55000勒克斯之光50小時(評估例4以及5為150小時)之後,再次測定於UV吸收光譜之λmax之透射率(針對評估例5,分別測定於可見光範圍以及近紅外範圍中之UV吸收光譜之λmax的透射率),求出將照射前之透射率設為100時的照射後之透射率的比例,作為耐光性評估。結果示於表1~表5。
<耐濕熱性評估>針對上述所得之試驗片,分別測定其於UV吸收光譜之λmax之透射率,繼而將其放置於調整為60℃/90%RH之恆溫恆濕環境下的恆溫恆濕槽中50小時之後,再次測定於UV吸收光譜之λmax之透射率,求出將放置前之透射率設定為100時的放置後之透射率之比例,作為耐濕熱性評估。結果示於表1~表5。
(評估例1之組成)化合物No.1之過氯酸鹽 2.00 mg膨潤石或者雲母 組成揭示於表1中丙烯酸系黏著劑(dbbond 5541;Diabond Industry Co.,Ltd.製造) 4.68 g甲基乙基酮 1.99 g
(評估例2之組成)
化合物No.4之六氟化磷酸鹽 2.00 mg膨潤石或者雲母 組成揭示於表2中丙烯酸系黏著劑(dbbond 5541;Diabond Industry Co.,Ltd.製造) 4.68g甲基乙基酮 1.99g
(評估例3之組成)
菁化合物(揭示於表3中) 2.00 mg膨潤石( ) (親油性膨潤石:Lucentite SSN,CO-OP.CHEMICAL CO.,LTD.製造) 20.0 mg丙烯酸系黏著劑(dbbond 5541;Diabond Industry Co.,Ltd.製造) 4.68 g甲基乙基酮 1.99 g
(評估例4之組成)
化合物No.49之雙三氟甲基磺醯亞胺鹽 25 mg膨潤石(親油性膨潤石:Lucentite SSN-A,CO-OP.CHEMICAL CO.,LTD.製造) 組成揭示於表4中丙烯酸系黏著劑(dbbond 5541;Diabond Industry Co.,Ltd.製造) 4.68 g甲基乙基酮 1.99 g
[表4]
(評估例5之組成)
菁化合物(揭示於表5) 2.00 mg二亞銨化合物(揭示於表5) 25.0 mg膨潤石( ) (親油性膨潤石:Lucentite SSN-A,CO-OP.CHEMICAL CO.,LTD.製造) 75.0 mg丙烯酸系黏著劑(dbbond 55411;Diabond Industry Co.,Ltd.製造) 4.68 g甲基乙基酮 1.99 g
[實施例1]光學濾光器之製造1
以下述之組成製備黏著劑溶液,於經易黏著處理之188 μm厚之PET膜上,藉由塗布棒(Barcoater)#30塗布該黏著劑溶液之後,於100℃下使其乾燥10分鐘,獲得於PET膜上具有厚度約10微米之黏著劑層的光學濾光器。以日本分光股份有限公司製造之紫外可見近紅外分光光度計V-570測定該光學濾光器,λmax為588 nm且半高全寬為38 nm。
(組成)化合物No.1之過氯酸鹽 2.0 mg膨潤石(親油性膨潤石:Lucentite STN、CO-OP.CHEMICAL CO.,LTD.製造) 10 mg丙烯酸系黏著劑(dbbond 5541;Diabond Industry Co.,Ltd.製) 20 g甲基乙基酮 80 g
[實施例2]光學濾光器之製造2
使用化合物No.41之過氯酸鹽代替化合物No.1之過氯酸鹽,除此之外以與實施例1相同之方式製成光學濾光器,以日本分光股份有限公司製造之紫外可見近紅外分光光度計V-570測定所得之光學濾光器,λmax為551 nm且半高全寬為36 nm。
[實施例3]光學濾光器之製造3
使用化合物No.49之過氯酸鹽代替化合物No.1之過氯酸鹽,除此之外以與實施例1相同之方式製成光學濾光器,以日本分光股份有限公司製造之紫外可見近紅外分光光度計V-570測定所得之光學濾光器,λmax為1151 nm且半高全寬為34 nm。
[實施例4]光學濾光器之製造4
作為丙烯酸系黏著劑,使用DX2-PDP-19(日本觸媒公司製造)代替dbbond 5541,進而作為硬膜劑,使用CORONET L-55E(日本聚胺酯工業株式會社(NIPPON POLYURETHANE INDUSTRY CO.,LTD.)製造),除此之外以與實施例1相同之方式製成光學濾光器,以日本分光股份有限公司製造之紫外可見近紅外分光光度計V-570測定所得之光學濾光器,λmax為589 nm,半寬度為38 nm。
自上述之評估例、比較評估例以及實施例,可知曉如下者。
含有本發明相關之黏著劑之系統中,含有作為本發明相關之色素化合物之化合物No.1之過氯酸鹽或者No.4之六氟化磷酸鹽以及作為本發明相關之層狀黏土礦物之Lucentite STN或者SPN(親油性膨潤石、CO-OP.CHEMICAL CO.,LTD.製造)或者Somasif的評估例1-1~1-8以及評估例2-1~2-3,較之未含有該層狀黏土礦物之比較評估例1-1以及2-1、以及含有鹵化銀替代該層狀黏土礦物之比較評估例1-2~1-4以及2-2,耐光性約為1.1~1.3倍,耐濕熱性約為2.2~11倍。
又,含有本發明相關之黏著劑之系統中,含有作為本發明相關之色素化合物的化合物No.1之過氯酸鹽、No.41之過氯酸鹽、No.42之過氯酸鹽、No.43之過氯酸鹽或者化合物No.49之雙三氟甲基磺醯亞胺鹽以及作為本發明相關之層狀黏土礦物的Lucentite SSN或者SSN-A(親油性膨潤石,CO-OP.CHEMICALCO.,LTD.製造)之評估例3-1~3-4以及4-1~4-4,較之未含該層狀黏土礦物之比較評估例3-1~3-4以及4-1~4-2,耐光性以及耐濕熱性優良。
進而,於含有本發明相關之黏著劑之系統中,於同一層中含有作為本發明相關之色素化合物的化合物No.1之過氯酸鹽以及化合物No.49之雙三氟甲基磺醯亞胺鹽、以及作為本發明相關之層狀黏土礦物的Lucentite SSN-A(親油性膨潤石,CO-OP.CHEMICAL CO.,LTD.製造)之評估例5-1以及5-2,較之未含有該層狀黏土礦物,且於同一層中單獨使用作為本發明相關之色素化合物的化合物No.1之過氯酸鹽、或者於同一層中單獨使用作為本發明相關之色素化合物的化合物No.49之雙三氟甲基磺醯亞胺鹽、或者於同一層中使用作為本發明相關之色素化合物的化合物No.1之過氯酸鹽以及化合物No.49之雙三氟甲基磺醯亞胺鹽之比較評估例5-1~5-3,耐光性以及耐濕熱性優良。
因此,含有本發明相關之色素化合物、本發明相關之層狀黏土礦物以及本發明相關之黏著劑的本發明之光學濾光器,具有可耐實用之耐光性,尤其適合作為耐濕熱性優良之光學濾光器。
產業上之可利用性
根據本發明,可提供具有優良之耐光性以及耐濕熱性之光學濾光器。該光學濾光器適合於提高影像顯示裝置之顯示品質以及防止外光之射入。

Claims (13)

  1. 一種光學濾光器,其特徵為含有色素化合物(甲)之至少一種以及層狀黏土礦物(乙)之至少一種,其中,上述層狀黏土礦物(乙)為膨潤石或者雲母,上述色素化合物(甲)係下述通式(I)所表示之菁化合物: (式中,環A係下述(a)或者(b)所表示之基;環B係下述(a)或者(c)所表示之基;Q表示構成聚次甲基鏈,於鏈中亦可含有環結構之連結基,該聚次甲基鏈中之氫原子亦可被鹵素原子、氰基、羥基、烷基、烷氧基、芳基或者其取代基所取代;Anq- 表示q價之陰離子;q表示1或者2;p表示將電荷保持為中性之係數); (式中,R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 以及R7 各自獨立表示氫原子、羥基、亦可具有取代基之碳原子數為1~8之烷基、亦可具有取代基之碳原子數為1~8之烷氧基、亦可具有取代基之碳原子數為6~30之芳基、鹵素原子、硝基、氰基或者下述通式(II)所表示之取代基;R1 以及R2 、R4 以及R5 或者R6 以及R7 亦可各自連結而形成碳原子數為3~12之碳環或者雜環;X1 以及X2 各自獨立表示氧原子、硫原子、 硒原子、-CR8 R9 -、-NH-或者-NYa -;R8 以及R9 各自獨立表示亦可具有取代基之碳原子數為1~8之烷基、亦可具有取代基之碳原子數為6~30之芳基、下述通式(II)所表示之取代基或者下述通式(III)所表示之取代基;Ya 、Y1 以及Y2 各自獨立表示氫原子、亦可具有取代基之碳原子數為1~8之烷基、亦可具有取代基之碳原子數為1~8之烷氧基、亦可具有取代基之碳原子數為6~30之芳基、或者下述通式(II)所表示之取代基): (式中,Ra ~Ri 各自獨立表示氫原子、羥基或者碳原子數為1~4之烷基,該烷基中之亞甲基亦可被-O-或者-CO-所取代;Z表示直接鍵或者亦可具有取代基之碳原子數為1~8之伸烷基,該伸烷基中之亞甲基亦可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO2 -、-NH-、-CONH-、-NHCO-、-N=CH-或者-CH=CH-所取代;M表示金屬原子); (式中,R10 ~R13 各自獨立表示氫原子、鹵素原子、亦可具有取代基之碳原子數為1~4之烷基或者亦可具有取代基 之碳原子數為1~4之烷氧基;R10 與R11 亦可連結形成碳原子數為3~12之碳環或者雜環)。
  2. 一種光學濾光器,其特徵為含有色素化合物(甲)之至少一種以及層狀黏土礦物(乙)之至少一種,其中,上述層狀黏土礦物(乙)為膨潤石或者雲母,上述色素化合物(甲)係下述通式(V)所表示之二亞銨化合物: (式中,R14 、R15 、R16 、R17 、R18 、R19 、R20 以及R21 各自獨立表示氫原子或者亦可具有取代基之碳原子數為1~8之烷基;R22 、R23 、R24 以及R25 各自獨立表示氫原子、鹵素原子、亦可具有取代基之碳原子數為1~8之烷基或者亦可具有取代基之胺基,該烷基中之亞甲基亦可被-O-或者-CH=CH-所取代;n表示1~4之數;Anq- 、p、q以及Q與上述通式(I)相同)。
  3. 如請求項1或2之光學濾光器,其中,進而含有熱可塑性物質(丙)。
  4. 如請求項1之光學濾光器,其中,上述菁化合物如下述通式(IV)所示: (式中,Y1 、Y3 、X1 以及X2 與上述通式(I)中作為環A所表示的基之上述(a)以及(c)相同;Anq- 、p、q以及Q與上述之通式(I)相同)。
  5. 如請求項2之光學濾光器,其中以上述通式(V)中之Anq- 所表示之q價陰離子係下述通式(VI)所表示之一價陰離子: (式中,R26 以及R27 各自獨立表示亦可被鹵素原子取代之碳原子數為1~8之烷基)。
  6. 一種光學濾光器,其特徵為含有色素化合物(甲)之至少一種以及層狀黏土礦物(乙)之至少一種,其中,作為上述色素化合物(甲),於同一層中使用如請求項1或者4之菁化合物、以及如請求項2或者5之二亞銨化合物。
  7. 如請求項1之光學濾光器,其中,上述膨潤石為親油性膨潤石。
  8. 如請求項3之光學濾光器,其中,上述熱可塑性物質(丙)係丙烯酸系黏著劑。
  9. 如請求項3之光學濾光器,其中,於黏著劑層中含有上述 色素化合物(甲)、上述層狀黏土礦物(乙)以及上述熱可塑性物質(丙)。
  10. 如請求項1或者2之光學濾光器,其係影像顯示裝置用。
  11. 如請求項3之光學濾光器,其係影像顯示裝置用。
  12. 如請求項10之光學濾光器,其中,上述影像顯示裝置係電漿顯示器。
  13. 如請求項11之光學濾光器,其中,上述影像顯示裝置係電漿顯示器。
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