TWI439435B - 用於顯示裝置之玻璃板 - Google Patents

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TWI439435B
TWI439435B TW098117722A TW98117722A TWI439435B TW I439435 B TWI439435 B TW I439435B TW 098117722 A TW098117722 A TW 098117722A TW 98117722 A TW98117722 A TW 98117722A TW I439435 B TWI439435 B TW I439435B
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shusaku Akiba
Kazutaka Hayashi
Kei Maeda
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Asahi Glass Co Ltd
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Description

用於顯示裝置之玻璃板
發明領域
本發明係關於被使用作為一覆蓋玻璃的一玻璃板，以供用於顯示裝置，典型地為手機、PDA及諸如觸摸面板之小型顯示裝置等。
 發明背景
近幾年來，對諸如手機及PDA之移動式裝置而言，使用一覆蓋玻璃(保護性玻璃)來保護一顯示器並改良外觀係漸增。
另一方面，對此種PDA而言，須降低重量及降低厚度。所以，被用來保護顯示器的一覆蓋玻璃亦須為薄。然而，若使該覆蓋玻璃之厚度變薄，則其強度會減低，且若一顯示裝置在使用或攜帶的時候掉落，該覆蓋玻璃本身有時可能會破裂。所以，有一問題在於該覆蓋玻璃不能實現保護顯示裝置的原始目的。
為了解決上述問題，可思及改良該覆蓋玻璃之強度，因此，一方法，即，在一玻璃表面上形成一壓縮應力層之方法，係為普遍知悉的。
在一玻璃表面上形成一壓縮應力層之方法典型係為一空氣驟冷回火法(air quenching tempering method)(物理性回火法)以及一化學性回火法，在該空氣驟冷回火法中，一被加熱至接近軟化點之玻璃板表面係藉由空氣冷卻或其相似者來驟冷，而在該化學性回火法中，在一玻璃板表面上具有小的離子半徑之鹼金屬離子(典型地為Li離子或Na離子)係於低於玻璃轉移點之一溫度下藉由離子交換與具有較大離子半徑之鹼離子(典型地為K離子)交換。
如上文所提及，該覆蓋玻璃之厚度須為薄。假若該空氣冷卻回火法係施用於一薄玻璃板上，在表面及內部之間的溫度差異趨向於不產生，從而難以形成一壓縮應力層，且不能獲得所欲之高強度特性。所以，通常使用藉由後者化學性回火法回火之覆蓋玻璃(專利文件1)。
儘管該化學性回火法係為適合用於回火一薄玻璃板之一方法，但假若嘗試施用該化學性回火法於一較薄之玻璃板上，會有一問題在於增加所生成之內部拉應力以與表面上之高壓縮應力取得平衡。亦即是，假若該內部拉應力係為高的，當深於該表面壓縮應力層之一個裂縫形成時，該玻璃將因大的拉強度拉扯該裂縫頂端而自發地破裂。為了降低該內部拉應力以抑制此自發性之玻璃破裂，該表面壓縮應力層之深度可被降低。然而，在此一事例中，玻璃在對抗破裂或裂縫上會變得極端地脆弱，且不能獲得所欲之強度。
當此等問題已被考量於該化學性回火法之事例中，作為用於移動式裝置之一覆蓋玻璃，舉例而言，一具有0.75 mm厚度之玻璃板(在下文中指稱為商業上可獲得之玻璃板)係已被使用，該玻璃板係藉由化學性回火一玻璃(在下文中指稱為玻璃A)而獲得，該玻璃A所具有之組成，以莫耳%表示，係為SiO2 ：68.4%、Al2 O3 ：10.6%、Na2 O：11.9%、K2 O：2.3%、MgO：5.6%、CaO：0.3%、TiO2 ：0.6%及As2 O3 ：0.3%。該商業上可獲得之玻璃板之表面壓縮應力S及表面壓縮應力層厚度t已被測量，結果，S係為684 MPa，而t係為48μm。
在此，當一覆蓋玻璃被製造時，玻璃通常係被拋光。於該拋光之第一階段所使用之研磨粒之大小典型地係為100μm，且所認為的是，藉由以此種研磨粒拋光，於深度40μm之微裂縫係被形成(非專利文件1，第1.18圖)。
如上文所提及，該商業上可獲得之玻璃板之t，即48μm，係大於在該玻璃板上所形成之微裂縫深度之典型值，即40μm，藉此，該商業上可獲得之玻璃趨向於不破裂(非專利文件1之第1.18圖)。
專利文件1：美國申請案序號第2008/0286548號。
非專利文件1：由Masayuki Yamane等人校訂之Glass Engineering Handbook，第一版，Asakura Publishing Co.,Ltd.,July 5th ,1999,p.397。
 發明概要
本案發明人製造具有2.6 mm厚度之一板狀玻璃A，藉由在各種溫度(單位：℃)及時間(單位：時間)條件下將其浸沒於一KNO3 熔鹽中施行化學性回火，並測量所獲得之玻璃板之S(單位：MPa)及t(單位：μm)。該等結果係顯示於表1中。
從表1顯然的是，當玻璃A係僅僅化學地回火以使得t在約48μm之一程度時，S係為從1,111至1,128 MPa。
因此，該商業上可獲得之玻璃板不能僅僅藉由化學地回火玻璃A而獲得，且所認為的是，該商業上可獲得之玻璃板係藉由在該化學性回火之後施行一特定處理(後處理)以減低S或t而製得。再者，須此一後處理的理由被認為是玻璃A之離子交換率太高。
本發明之目的係為提供一玻璃，該玻璃係在只藉由化學性回火，不施行一後處理下，可使t超過，例如，40μm，且可使S，例如，小於1,050 MPa；提供藉由化學地回火此一玻璃而獲得之用於顯示裝置之玻璃板；及提供一顯示裝置，該顯示裝置之顯示器係藉由此一用於顯示裝置之玻璃板保護。
本發明提供一要被化學地回火的玻璃(本發明之玻璃)以供用於顯示裝置等，該玻璃包含以下列氧化物為基準計而以莫耳%表示的50~74%之SiO2 、1~10%之Al2 O3 、6~14%之Na2 O、3~15%之K2 O、2~15%之MgO、0~10%之CaO及0~5%之ZrO2 ，其中SiO2 與Al2 O3 之總含量至多係為75%，Na2 O與K2 O之總含量係為12~25%，且MgO與CaO之總含量，也就是MgO+CaO，係為7~15%。
進一步，本發明提供一係為本發明之玻璃之要被化學地回火的玻璃(本發明之玻璃1)以供用於顯示裝置等，在該玻璃中，Na2 O至多係為12%，K2 O至少係為4%，Na2 O+K2 O至少係為14%，MgO+CaO至少係為8%，由Na2 O+K2 O扣除Al2 O3 之含量所獲得之差至少係為10%，且在該玻璃板含有BaO時，該BaO之含量係小於1%。
進一步，本發明提供一係為該玻璃1之要被化學地回火的玻璃以供用於顯示裝置等，其中，在該玻璃板含有SrO或BaO時，鹼土金屬氧化物之總含量至多係為15%。
進一步，本發明提供一係為本發明之玻璃之要被化學地回火的玻璃以供用於顯示裝置等，其中，SiO2 係為60~70%、Al2 O3 係為2~8%、Na2 O至多係為11%、K2 O係為6~12%、MgO係為4~14%、CaO係為0~8%、ZrO2 係為0~4%，且Na2 O+K2 O係為16~20%。
進一步，本發明提供一係為本發明之玻璃之要被化學地回火的玻璃(本發明之玻璃2A)以供用於顯示裝置等，其中，SiO2 係為60~70%、Al2 O3 係為2~8%、K2 O至多係為8%、MgO至少係為6%、Na2 O+K2 O至多係為18%，且K2 O之含量乘以1.7與該Na2 O之含量的總和，也就是Na2 O+1.7K2 O，係小於19%。
進一步，本發明提供一係為本發明之玻璃之要被化學地回火的玻璃(本發明之玻璃2B)以供用於顯示裝置等，其中，SiO2 至少係為63%、Al2 O3 至少係為3%、Na2 O至少係為8%、K2 O至多係為8%、MgO係為6~14%、CaO係為0~1%、ZrO2 係為1~4%，且Na2 O+K2 O係為14~17%。
進一步，本發明提供一係為本發明之玻璃2B之要被化學地回火的玻璃以供用於顯示裝置等，其中K2 O之含量乘以1.7與Na2 O之含量的總和，也就是Na2 O+1.7K2 O，係小於19%。
進一步，本發明提供用於顯示裝置等之一玻璃板(本發明之玻璃板)，該玻璃板係藉由化學地回火一玻璃板而獲得，該要被化學地回火的玻璃板包含以下列氧化物為基準計而以莫耳%表示的50~74%之SiO2 、1~10%之Al2 O3 、6~14%之Na2 O、3~15%之K2 O、2~15%之MgO、0~10%之CaO及0~5%之ZrO2 ，其中SiO2 與Al2 O3 之總含量至多係為75%，Na2 O與K2 O之總含量係為12~25%，且MgO與CaO之總含量，也就是MgO+CaO，係為7~15%；此即用於顯示裝置等之玻璃板，該玻璃板係藉由化學地回火由本發明之玻璃製成之玻璃板而獲得。
進一步，本發明提供用於顯示裝置等之一玻璃板，其中，本發明之要被化學地回火的玻璃板係藉由一浮式法製得。
進一步，本發明提供一顯示裝置，該顯示裝置設有用於保護一顯示器之一被化學地回火之玻璃板及該顯示器，其中該被化學地回火之玻璃板係為本發明之玻璃板。
本案發明人已發覺的是，為了增加上文提及之t而不過度地增加離子交換率，有效的是增加K2 O之含量，且由此本發明已被實現。
本發明之功效
根據本發明，在不施行一個與化學性回火處理分開施行之後處理下，增加t而同時將用於顯示裝置等之玻璃板之S維持在小於1,050 MPa係為可能的。進一步，本發明之玻璃板可以藉由一浮式法而製得。
進一步，根據本發明之一較佳實施例，在沒有一個與化學性回火處理分開施行之後處理下，增加t而同時將用於顯示裝置之玻璃板之S維持在小於750 MPa係為可能的。
進一步，根據本發明之另一較佳實施例，獲得一較佳地以硫酸鹽澄清化的要被化學地回火的玻璃以供用於顯示裝置係為可能的。亦即是，獲得一在氣泡方面具卓越品質、穩定地具有低環境負荷之要被化學地回火的玻璃以供用於顯示裝置等係為可能的。
圖式簡單說明
第1圖顯示在一熔鹽(KNO3 )中之Li含量與一以該熔鹽化學地回火的玻璃之表面壓縮應力CS之關係。
第2圖顯示在一玻璃中之ZrO2 含量與該玻璃在化學性回火處理之後之維氏硬度之關係(相對於後述實施例5、9及10之玻璃，一玻璃所具有之組成以莫耳%表示係為SiO2 ：64.0%、Al2 O3 ：5.4%、Na2 O：9.6%、K2 O：9.1%、MgO：5.4%、CaO：4.0%及ZrO2 ：2.5%；一玻璃所具有之組成係為SiO2 ：64.0%、Al2 O3 ：5.3%、Na2 O：9.6%、K2 O：9.1%、MgO：5.2%、CaO：4.0%及ZrO2 ：2.7%；及一玻璃所具有之組成係為SiO2 ：66.8%、Al2 O3 ：11.0%、Na2 O：13.1%、K2 O：2.5%、MgO：6.1%及CaO：0.6%)。
 較佳實施例之詳細說明
本發明玻璃板之厚度典型地係為0.2~1.0 mm。假若該厚度係小於0.2 mm，即使施行該化學性回火，一問題可能產生自實際使用強度之觀點。
本發明之玻璃板較佳地具有大於20μm之t。假若t至多係為20μm，該玻璃可能為易脆的。t更佳地至少係為30μm，特佳地，至少40μm，典型地至少45μm或至少50μm。
本發明玻璃板之S典型地至少係為300 MPa且小於1,050 MPa。假若S係小於300 MPa，該玻璃可能為易脆的。再者，由本發明之玻璃2A製成的本發明之玻璃板之S典型地至少係為300 MPa且小於750 MPa，且由本發明之玻璃2B製成的本發明之玻璃板之S典型地至少係為700 MPa且小於1,050 MPa。
如上文所提及，本發明之玻璃板係藉由化學地回火本發明之板狀玻璃而獲得。
然而，用於製造本發明之板狀玻璃之方法係非特別限定的，舉例而言，其可能藉由在一適當數量下混合各種材料，加熱該混合物至約1,400~1,600℃以熔化該混合物，然後藉由攪拌消泡並均質化該混合物，藉由一廣為知悉之浮式法、下拉法(down draw process)或壓制法(press method)將其形成一板之形狀並緩慢地冷卻，繼之以切割成所欲之大小並拋光而製得。
然而，該化學性回火法係非特別限定的，只要在該玻璃板之表面層中之Na2 O可以與在一熔鹽中之K2 O離子交換，舉例而言，一方法可能被提及，在其中該玻璃板係浸沒在一經加熱之硝酸鉀(KNO3 )熔鹽中。
然而，用於形成一在該玻璃板上具有所欲之表面壓縮應力之被化學地回火之層(表面壓縮應力層)之條件取決於該玻璃板之厚度而變化，典型地該玻璃板係於400~550℃下浸沒在KNO3 熔鹽中達2~20小時。從成本之觀點，該玻璃較佳係在400~500℃之條件下浸沒達2~16小時，更佳係浸沒達2~10小時。
本發明之玻璃轉移點Tg，在玻璃1之事例中，典型地係為540~610℃，且在玻璃2A及2B之事例中，典型地係為580~640℃。
本發明玻璃之黏度變為104 dPa．s時的溫度T4 較佳至多係為1,190℃。假若T4 超過1,190℃，其可能難以形成玻璃。T4 典型地至多係為1,180℃。
本發明玻璃之黏度變為102 dPa．s時的溫度T2 較佳至多係為1,650℃。假若T2 超過1,650℃，其難以熔化玻璃，諸如結石(stone)之製造缺陷等有形成之趨向，或用於熔化玻璃之設施可能為昂貴的。T2 典型地至多係為1,600℃。
本發明玻璃之失透溫度較佳地至多係為上述之T4 。否則，假若一玻璃係藉由浮式法形成，失透作用發生，且難以形成玻璃。在此，該失透溫度意指當該玻璃維持在該溫度中15小時時，結晶析出之最高溫度。
本發明玻璃之比重較佳地至多係為2.6。假若該比重超過2.6，顯示裝置之重量降低可能不足。
本發明玻璃在50~350℃之平均線性膨脹係數典型地係為80×10-7 ~130×10-7 /℃。
在本發明之玻璃之中，玻璃1係為一較佳實施例以在不施行一個與該化學性回火處理分開施行之後處理下增加t，而同時將用於顯示裝置之玻璃板之S維持在小於750 MPa。玻璃2A與2B(在下文中這些玻璃係指稱為玻璃2)係為較佳實施例以在製造玻璃之時以硫酸鹽施行一精煉。
現在，本發明玻璃之組成將藉由使用以莫耳%表示之含量來說明，除非另有指定。
SiO2 係為組成一玻璃基質之一必要成分。假若SiO2 係小於50%，玻璃之穩定性退化，且耐候性(weather resistance)退化。SiO2 較佳地至少係為60%。進一步，在該玻璃2A中，SiO2 至少係為60%，較佳地至少62%，且在該玻璃2B中，SiO2 至少係為63%。
假若SiO2 超過74%，玻璃之黏度增加，且一熔化特性係顯著地減低。SiO2 較佳地至多係為70%，典型地至多68%。進一步，在該玻璃2A中，SiO2 至多係為70%。
Al2 O3 係為用於改良離子交換率之一必要成分。假若Al2 O3 係小於1%，該離子交換率變低。Al2 O3 較佳地至少係為2%，典型地至少3%。進一步，在該玻璃2A中，Al2 O3 至少係為2%，且在該玻璃2B中，Al2 O3 至少係為3%。
假若Al2 O3 超過10%，玻璃之黏度變高，且難以均質地熔化玻璃。Al2 O3 較佳地至多係為9%，更佳地至多8%，典型地至多7%。進一步，在該玻璃2A中，Al2 O3 至多係為8%。
假若SiO2 與Al2 O3 之總含量超過75%，玻璃於一高溫下之黏度增加，且難以熔化玻璃。該總含量典型地至多係為72%。進一步，SiO2 與Al2 O3 之總含量較佳地至少係為66%。假若SiO2 與Al2 O3 之總含量係小於66%，趨向於不獲得穩定之玻璃，且耐候性趨向於退化。該總含量典型地至少係為68%。
Na2 O係為用於藉由離子交換形成一表面壓縮應力層且用於改良玻璃之熔化特性的一必要成分。假若Na2 O係小於6%，其係難以藉由離子交換形成一所欲之表面壓縮應力層。Na2 O較佳地至少係為7%，典型地至少8%。進一步，在該玻璃2B中，Na2 O至少係為8%。
假若Na2 O超過14%，Tg變低，且相應地使應變點變低，或耐候性退化。Na2 O較佳地至多係為13%，典型地至多12%。進一步，在該玻璃1中，Na2 O至多係為12%，較佳地至多11%，典型地至多10%。
K2 O係為用於改良熔化特性以及用於增加在該化學性回火中之離子交換率以獲得一所欲之S及t的必要成分。假若K2 O係小於3%，熔化特性退化，或離子交換率變低。K2 O典型地至少係為4%。進一步，在該玻璃1中，K2 O至少係為4%，較佳地至少5%，更佳地至少6%，典型地至少7%。進一步，K2 O含量如以質量%表示典型地至少係為3%。
假若K2 O超過15%，耐候性退化。K2 O較佳地至多係為12%，典型地至多11%。進一步，在該玻璃2中，K2 O至多係為8%，較佳地至多7%，典型地至多6%。
假若係為Na2 O與K2 O之總含量的R2 O之含量係小於12%，所欲之離子交換特性無法獲得。R2 O較佳地至少係為13%，更佳地至少14%。進一步，在該玻璃1及2B中，R2 O至少係為14%，且在該玻璃1中，R2 O較佳地至少係為16%，更佳地至少16.5%，典型地至少17%。
假若R2 O超過25%，諸如耐候性之該玻璃之化學耐久性退化。R2 O較佳地至多係為22%，更佳至多20%，典型地至多19%。進一步，為了減低玻璃之鹼度以改良使用硫酸鹽之一精煉特性，在該玻璃2A中，R2 O至多係為18%，且在該玻璃2B中，R2 O至多係為17%。
為了減低玻璃之鹼度以改良使用硫酸鹽之一精煉特性，在該玻璃2A中，上文提及之Na2 O+1.7K2 O較佳地係小於19%。在該玻璃2B中，Na2 O+1.7K2 O較佳地亦係小於19%。進一步，『低化玻璃鹼度以改良使用硫酸鹽之一精煉特性』意指在以硫酸鈉精煉之一事例中，使硫酸鈉之分解溫度至多為約1,500℃。
由上述提及之R2 O扣除Al2 O3 之含量所獲得之差，即R2 O-Al2 O3 ，較佳地至少係為10%。假若R2 O-Al2 O3 係小於10%，t可能為小。t為何變小之理由被認為是Tg的提高及相應地應變點之提高。進一步，在該玻璃1中，R2 O-Al2 O3 至少係為10%。
由SiO2 與Al2 O3 之總含量扣除R2 O所獲得之差較佳地至多係為60%。假若其超過60%，上文提及之T2 超過1,650℃，且其可能難以熔化玻璃。
Li2 O係為減低該應變點之一成分，藉由此，應力趨向於被緩和，且結果不能獲得一個穩定之表面壓縮應力層。所以，玻璃較佳地不含有Li2 O。縱然含有Li2 O，該Li2 O之含量較佳地至多係為2%，更佳地至多0.05%，特佳地小於0.01%。
進一步，儘管在化學性回火處理之時，Li2 O有時會洗提入諸如KNO3 之一熔鹽中，假若該化學性回火處理係以含有Li之一熔鹽施行，該表面壓縮應力係顯著地減低。亦即，本案發明人化學地回火後述實施例19之玻璃，該回火係藉由使用不含有Li之KNO3 、含有0.005質量%Li之KNO3 、含有0.01質量%Li之KNO3 及含有0.04質量%Li之KNO3 在450℃達6小時之條件下，結果，發覺如第1圖中所顯示的，即使含有0.005質量%之Li，該表面壓縮應力係顯著地減低。所以，從上述之觀點，不含有Li2 O係為較佳的。
K2 O之含量對鹼金屬氧化物之總含量之比率較佳地至少係為0.25，更佳地至少0.4，典型地高於0.5。
鹼土金屬氧化物係為改良熔化特性之成份，以及有效地調整Tg及相應地應變點之成份。
由於在該等鹼土金屬之中，BaO對減低離子交換率具有最高之效果，不含有BaO係為較佳的，且縱然含有BaO，該BaO之含量較佳地係小於1%，且在該玻璃1中，縱然含有，該BaO之含量需小於1%。
當事例須要時，SrO係可能含有的，然而，由於相較於MgO與CaO，SrO對減低離子交換率具有一高效果，縱然含有，該SrO之含量較佳地係小於1%。
在一含有SrO或BaO之事例中，其含量總數較佳地至多係為3%，更佳地小於2%。
MgO與CaO對減低離子交換率之效果係相對地小，且至少必須含有2%之MgO。
假若MgO係小於2%，熔化特性退化。MgO較佳地至少係為4%，更佳地至少6%，典型地至少6.5%。進一步，在該玻璃2中，MgO至少係為6%，較佳地至少6.5%，典型地至少10%。
假若MgO超過15%，離子交換率變低。MgO較佳地至多係為14%，更佳地至多13.5%。進一步，在該玻璃1中，MgO特佳地至多係為13%，典型地至多12%，且在該玻璃2B中，MgO至多係為14%。
在一含有CaO之事例中，其含量典型地至少係為1%。假若CaO之含量超過10%，離子交換率變低。CaO之含量較佳地至多係為8%，典型地至多6%。進一步，在該玻璃2A中，縱然含有CaO，該CaO之含量典型地至多係為1%，且在該玻璃2B中，該CaO含量必須至多為1%。
在一含有CaO之事例中，MgO含量對該CaO含量之比率較佳地至少為1，更佳地至少1.1。
MgO與CaO之總含量，即MgO+CaO，係7~15%，典型地至少8%，且在該玻璃1中，MgO+CaO必須至少為8%。進一步，MgO與CaO之總含量如以質量%表示典型地至少係為5.1%。
MgO+CaO之含量對Al2 O3 之含量之比率較佳地至少係為1.2，典型地至少1.5。
鹼土金屬氧化物RO之總含量，較佳地係從高於2%至至多15%。假若RO至多係為2%，熔化特性退化，或其係難以控制應變點。RO較佳地至少係為4%，更佳地至少6%，典型地至少8%。假若RO超過15%，離子交換率變低，玻璃趨向於失透，或應變點可能太低。
除了該玻璃2B之外，ZrO2 對本發明之玻璃係非必要的，然而，為了增加離子交換率，可能含有高達5%之ZrO2 。假若ZrO2 超過5%，提高離子交換率之效果係過度，且熔化特性退化，藉由此，在有些事例中結石可能殘留在玻璃中。
進一步，如在第2圖中所顯示，當含有ZrO2 時，該玻璃在化學性回火處理之後之維氏硬度係增加。ZrO2 較佳地至多係為4%，典型地至多2%。在一含有ZrO2 之事例中，ZrO2 之含量較佳地至少係為0.5%，典型地至少1%。
在該玻璃2B中，ZrO2 係為必要的，且含有1~4%之ZrO2 。ZrO2 典型地係為1.5~3%。
本發明之玻璃1典型地包含60~70%之SiO2 、2~8%之Al2 O3 、至多11%之Na2 O、6~12%之K2 O、4~14%之MgO、0~8%之CaO、0~4%之ZrO2 ，及16~20%之Na2 O+K2 O。
本發明之玻璃基本上係由上文說明之該等成分製成，且只要本發明之目的沒被損害，其他成分可能係含有的。在含有此種其他成分之一事例中，此等成分之總量較佳地至多係為10%，典型地至多5%。現在，上文提及之該等其他成分將被說明。
在有些事例中，為了改良在一高溫下之熔化特性係可能含有高達2%之ZnO，然而，ZnO較佳地至多係為1%。在玻璃係藉由浮式法製得的一事例中，ZnO較佳地至多係為0.5%。假若ZnO超過0.5%，在藉由浮式法製造該玻璃之時，ZnO係被還原，且製造缺陷可能發生。ZnO典型係不被含有的。
B2 O3 可能係含有高達1%，以為了改良在一高溫時之熔化特性及玻璃強度。假若B2 O3 超過1%，其係難以獲得均質之玻璃，且難以形成玻璃。B2 O3 典型係不被含有的。
由於TiO2 改變存在於玻璃中之鐵離子(Fe2+ 、Fe3+ )之氧化還原狀態，藉由此，可見光之透光度改變，且玻璃係被染色，假若含有，TiO2 較佳地至多係為1%，且典型地TiO2 係不被含有的。
作為在熔化玻璃時之一精煉劑，適當地可能含有SO3 、氯化物或氟化物。然而，為了增加諸如觸摸面板之顯示裝置之可見度，儘可能地降低在材料中之諸如Fe2 O3 、NiO或Cr2 O3 之不純物污染係為較佳的，該Fe2 O3 、NiO或Cr2 O3 在可見光範圍具有一吸收，且Fe2 O3 、NiO與Cr2 O3 每一者如以質量%表示較佳地至多係為0.15%，更佳地至多0.05%。
實施例
在實施例1~35及38~47中，通常使用之玻璃材料，諸如氧化物、氫氧化物、碳酸鹽及硝酸鹽等，係適當地選擇以作為組成物，該等組成物係以莫耳%表示顯示在表2~7中之SiO2 至ZrO2 、Li2 O或TiO2 之欄中，此等材料係秤重以做為400 g之玻璃，且儘管未顯示在上文提及之該等組成物中，相當於如以SO3 計算之0.4質量%之硫酸鈉係添加至該等材料中，且該等材料係被混合。然後該混合物係添加至一白金坩堝中，該白金坩堝係放置於一在1,600℃下之電阻加熱型電爐中，且該混合物係被熔化計三小時、精煉並均質化，繼之在一鑄模中澆鑄且在一預定溫度下緩慢地冷卻以獲得一玻璃磚。該玻璃磚係被切割成大小40 mm×40 mm×0.8 mm之厚度且拋光，且最後兩表面係鏡面拋光以獲得一板狀玻璃。進一步，在表中之『R2 O-Al』意指藉由從上文提及之R2 O扣除Al2 O3 含量所獲得之差，『Na+1.7K』意指Na2 O與K2 O乘以1.7之含量總和，且表8~13顯示以質量%表示之組成物，其等對應於在表2~7中以莫耳%表示之組成物。
實施例1~17及19~35係為本發明之實施例，而實施例38~46係為比較實施例。實施例18、36及37係為實施例，而實施例48~57係為比較實施例，在其中此一熔化並未施行。實施例47係為一比較實施例，其中一分開製備之鹼石灰矽石玻璃係被使用。
此等玻璃係如下文所提及般化學地回火。亦即是，化學性回火處理係藉由於450℃以一KNO3 熔鹽浸沒此等玻璃計6小時而施行。個別玻璃之壓縮應力層之表面壓縮應力S(單位：MPa)及厚度t(單位：μm)係藉由Orihara Seisakusho公司所製造之表面應力計FSM-600而測量。表2~7在欄中顯示出結果。從表中顯然的是，在本發明玻璃被使用之事例中，S係為300 MPa~1,024 MPa，且t至少係為45μm。所以，所欲之壓縮應力層係被形成。
進一步，在實施例18、36、37及48~57中的S及t係從該組成物計算出。
進一步，在實施例5、40及47中，Tg(單位：℃)、T2 (單位：℃)、T4 (單位：℃)及比重ρ及α(單位：10-7 /℃)係被測量。進一步，在實施例19及20中，Tg、T2 、T4 及α係被測量，且在實施例24~26中，Tg及α係被測量。表係於個別之欄中顯示結果。進一步，在其他實施例中，藉由從組成物計算而獲得之這些值等係顯示於表中。
進一步，在實施例1、4~10、15~17、19~35、40及43~47中，下列之失透測試係被施行。亦即是，玻璃係被測試當該玻璃保持在上述T4 之溫度下計15小時時，失透作用是否形成。在表中之『D』列中，○意指失透作用沒有藉由上述測試形成，而×意指失透作用形成。進一步，即使失透作用係於T4 時形成，失透作用於T4 +40℃下未形成者係表示為△。
在實施例19~35中，關於硫酸鹽分解作用之一測試係被施行。亦即是，在該玻璃中殘留之SO3 之數量係於1,350℃及1,500℃下測量，且這些差異△係被計算(單位：質量%)。為了降低玻璃中之泡沫，△較佳地至少係為0.08質量%。在實施例36及48~57中，△係從該等組成物估計。在此，具有0.4~0.9質量%之一估計△者係在表中表示為『0.08』。
產業應用性
本發明之玻璃可以被使用作為一覆蓋玻璃以供用於顯示裝置或其相似者。
於2008年5月30日提申之日本專利申請案第2008-142579號及2009年4月28日提申之日本專利申請案第2009-109236號之整體揭露內容，包括說明書、申請專利範圍、圖式及摘要，係以其整體併入於此以作為參考。
第1圖顯示在一熔鹽(KNO3 )中之Li含量與一以該熔鹽化學地回火的玻璃之表面壓縮應力CS之關係。
第2圖顯示在一玻璃中之ZrO2 含量與該玻璃在化學性回火處理之後之維氏硬度之關係(相對於實施例5、9及10之玻璃，一玻璃所具有之組成以莫耳%表示係為SiO2 ：64.0%、Al2 O3 ：5.4%、Na2 O：9.6%、K2 O：9.1%、MgO：5.4%、CaO：4%及ZrO2 ：2.5%；一玻璃所具有之組成係為SiO2 ：64.0%、Al2 O3 ：5.3%、Na2 O：9.6%、K2 O：9.1%、MgO：5.2%、CaO：4%及ZrO2 ：2.7%；及一玻璃所具有之組成係為SiO2 ：66.8%、Al2 O3 ：11.0%、Na2 O：13.1%、K2 O：2.5%、MgO：6.1%及CaO：0.6%)。

Claims (21)

  1. 一種用於顯示裝置之玻璃板，其係藉由化學地回火一玻璃板而獲得，該要被化學地回火的玻璃板包含以下列氧化物為基準計而以莫耳%表示的50~74%之SiO2 、1~10%之Al2 O3 、6~14%之Na2 O、3~15%之K2 O、2~15%之MgO、0~6%之CaO、0~小於1%之SrO及0~5%之ZrO2 ，其中SiO2 與Al2 O3 之總含量至多係為75%，Na2 O與K2 O之總含量，也就是Na2 O+K2 O，係為12~25%，且MgO與CaO之總含量，也就是MgO+CaO，係為7~15%。
  2. 如申請專利範圍第1項之用於顯示裝置之玻璃板，其中，在該玻璃板中，Na2 O至多係為12%，K2 O至少係為4%，Na2 O+K2 O至少係為14%，由Na2 O+K2 O扣除Al2 O3 之含量所獲得之差至少係為10%，MgO+CaO至少係為8%，且在該玻璃板含有BaO時，該BaO之含量係小於1%。
  3. 如申請專利範圍第2項之用於顯示裝置之玻璃板，其中，在該玻璃板中，SiO2 係為60~70%，Al2 O3 係為2~8%，Na2 O至多係為11%，K2 O係為6~12%，MgO係為4~14%，CaO係為0~6%，ZrO2 係為0~4%，且Na2 O+K2 O係為16~20%。
  4. 如申請專利範圍第1項之用於顯示裝置之玻璃板，其中，在該玻璃板中，SiO2 係為60~70%、Al2 O3 係為2~8%、K2 O至多係為8%、MgO至少係為6%、Na2 O+K2 O至多係為18%，且K2 O之含量乘以1.7與Na2 O之含量的總和，也就是Na2 O+1.7K2 O，係小於19%。
  5. 如申請專利範圍第2項之用於顯示裝置之玻璃板，其中， 在該玻璃板中，SiO2 至少係為63%、Al2 O3 至少係為3%、Na2 O至少係為8%、K2 O至多係為8%、MgO係為6~14%、CaO係為0~1%、ZrO2 係為1~4%，且Na2 O+K2 O係為14~17%。
  6. 如申請專利範圍第5項之用於顯示裝置之玻璃板，其中，K2 O之含量乘以1.7與Na2 O之含量的總和，也就是Na2 O+1.7K2 O，係小於19%。
  7. 如申請專利範圍第1-6項中任一項之用於顯示裝置之玻璃板，其中，在該玻璃板中，MgO至少係為6.5%。
  8. 如申請專利範圍第1-6項中任一項之用於顯示裝置之玻璃板，其中，該玻璃板含有SrO或BaO，且鹼土金屬氧化物之總含量至多係為15%。
  9. 如申請專利範圍第7項之用於顯示裝置之玻璃板，其中，該玻璃板含有SrO或BaO，且鹼土金屬氧化物之總含量至多係為15%。
  10. 如申請專利範圍第1-6項中任一項之用於顯示裝置之玻璃板，其不含Li2 O或含有至多為2%之Li2 O。
  11. 如申請專利範圍第7項之用於顯示裝置之玻璃板，其不含Li2 O或含有至多為2%之Li2 O。
  12. 如申請專利範圍第8項之用於顯示裝置之玻璃板，其不含Li2 O或含有至多為2%之Li2 O。
  13. 如申請專利範圍第9項之用於顯示裝置之玻璃板，其不含Li2 O或含有至多為2%之Li2 O。
  14. 如申請專利範圍第1-6項中任一項之用於顯示裝置之玻 璃板，其中，該要被化學地回火之玻璃板係藉由一浮式法製造。
  15. 如申請專利範圍第7項之用於顯示裝置之玻璃板，其中，該要被化學地回火之玻璃板係藉由一浮式法製造。
  16. 如申請專利範圍第8項之用於顯示裝置之玻璃板，其中，該要被化學地回火之玻璃板係藉由一浮式法製造。
  17. 如申請專利範圍第9項之用於顯示裝置之玻璃板，其中，該要被化學地回火之玻璃板係藉由一浮式法製造。
  18. 如申請專利範圍第10項之用於顯示裝置之玻璃板，其中，該要被化學地回火之玻璃板係藉由一浮式法製造。
  19. 如申請專利範圍第11項之用於顯示裝置之玻璃板，其中，該要被化學地回火之玻璃板係藉由一浮式法製造。
  20. 如申請專利範圍第12項之用於顯示裝置之玻璃板，其中，該要被化學地回火之玻璃板係藉由一浮式法製造。
  21. 如申請專利範圍第13項之用於顯示裝置之玻璃板，其中，該要被化學地回火之玻璃板係藉由一浮式法製造。
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