TWI437281B - 硬化性組成物、彩色濾光片及其製法 - Google Patents

硬化性組成物、彩色濾光片及其製法 Download PDF

Info

Publication number
TWI437281B
TWI437281B TW096150499A TW96150499A TWI437281B TW I437281 B TWI437281 B TW I437281B TW 096150499 A TW096150499 A TW 096150499A TW 96150499 A TW96150499 A TW 96150499A TW I437281 B TWI437281 B TW I437281B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
curable composition
color filter
compound
acid
Prior art date
Application number
TW096150499A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200844491A (en
Inventor
Taeko Nakashima
Kazuto Shimada
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of TW200844491A publication Critical patent/TW200844491A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI437281B publication Critical patent/TWI437281B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

硬化性組成物、彩色濾光片及其製法
本發明關於一種理想地用於製備用於液晶顯示裝置(LCD)、固態影像攝影裝置(如CCD與CMOS)等之彩色濾光片的硬化性組成物,一種由此硬化性組成物形成之彩色濾光片,及一種製造彩色濾光片之方法。
彩色濾光片為液晶顯示器與固態影像攝影裝置之重要組成單元。
由於液晶顯示器相較於廣泛地作為顯示裝置之CRT為輕巧且提供相等或更佳之性能,液晶顯示器已逐漸取代CRT作為TV螢幕、個人電腦螢幕等之顯示裝置。此外近年來,液晶顯示器之發展趨勢已由過去要求之相當小螢冪之監視器用途朝向大型螢幕及高影像品質之TV用途。
對於液晶顯示器(LCD)用彩色濾光片,基板因製造大型TV而增加其大小。對於用於製備使用此大基板之彩色濾光片的硬化性組成物,為了改良生產力而需要低能量硬化力。
此外對於TV用途之液晶顯示器,現已要求較過去用於監視器為佳之影像品質。即已要求改良之對比及顏色純度。
現已要求用於製備彩色濾光片之硬化性組成物需要具有更精細粒度之著色劑(有機顏料等),以用於改良對比(例如參見JP-A第2006-30541號專利)。
然而在硬化性組成物中包括粒度小之顏料以促進分散劑之顏料吸收而改良分散液安定性時,分散劑橋接顏料之間因而促進顏料凝集,因此在使用硬化性組成物形成圖案時,儲存安定性(如分散液安定性)或顯影力趨於退化。
此外由於使顏料更精細則增加表面積,使用精細地製造之顏料趨於在硬化性組成物中增加顏料分散液用分散劑之量。
此外在提供分散液時加入之樹脂用於得到顯影力之較佳酸值時,由於酸基等之間氫鍵之交互作用而趨於促進顏料凝集。
在顏料分散液後將樹脂加入硬化性組成物以得到顯影力時,其需要加入大量樹脂。
對於用於製備彩色濾光片之硬化性組成物,其已要求固體內容物中更高含量之著色劑(有機顏料)以改良顏色純度。然而在硬化性組成物包括高濃度著色劑時,由於硬化性組成物中光聚合引發劑與光聚合性單體之含量降低,其因曝光部分難以得到硬化力而引起問題,(即使)硬化性組成物需要低能量之硬化力。
此外對於用於製備固態影像攝影裝置用彩色濾光片之硬化性組成物,其亦需要以低能量硬化。關於固態影像攝影裝置用彩色濾光片,其使著色圖案更精細且因而改良組成物中之顏料密度。
此外在顏料為主彩色濾光片中,由於顏料精製以降低相當粗顏料顆粒造成之顏色不規則性,硬化性組成物中之 顏料分散劑含量更易增加。對於用於製造LCD之硬化性組成物,硬化性組成物中之顏料分散劑含量增加趨於使儲存安定性(如分散液安定性)、或在使用硬化性組成物形成圖案時之顯影力退化,而且亦導致問題使得難以得到硬化力。
為了處理如所形成著色圖案中顏色不規則性之問題,其已提議一種使用有機溶劑可溶性染料代替顏料作為著色劑之技術(例如參見JP-A第2-127602號專利)。然而在染料為主彩色濾光片中,如源自染料之聚合抑制效應或退化之儲存安定性(如染料沉澱)的問題由於染料濃度增加而變顯著。
如上所述,在用於液晶顯示裝置及用於固態影像攝影裝置之情形,用於製備彩色濾光片之硬化性組成物發生敏感度低且無法得到充分之硬化力,因為著色劑之濃度增加而光聚合抑制劑與光聚合性單體(其均為用於將硬化性組成物硬化之重要組分)之含量有限;對基板之黏著性不足;在未曝光部分觀察到降低之顯影速率或殘渣形成;非常難形成所需圖案;在使用之著色劑為顏料時分散液安定性及顯影力退化;在使用之著色劑為染料時儲存安定性退化,如染料沉澱等各種問題。
關於這些問題,過去已進行對樹脂(主要引入以提供薄膜形成力及顯影力,因而改良敏感度)提供聚合力之調查(例如參見JP-A第2000-321763號、JP-A第2003-029018號專利、"Color Filter new technology Trend (Color Filter Saishin Gizyutsu Doukou)"(JOHOKIKO Co., Ltd.出版)第85-87頁、及"Advanced Technologies for LCD Color Filters (Saisentan Color Filter no Process Gizyutsu to Chemicals)"(CMC Publishing Co., Ltd.出版)第129-150頁)。此外亦可提及其中揭示之技術。然而其有如樹脂合成方法複雜、可合成結構有限之問題。雖然使用此樹脂,其仍無法得到令人滿意之曝光敏感度。由於曝光敏感度不足,深入區域(如基板界面附近)之硬化不足,因而造成如(退化之)基板黏附性退化之問題。
本發明係關於以上考量而完成,而且其目的為提供一種用硬化性組成物,其呈現高敏感性硬化力、優良之儲存安定性、及高敏感度,即使是在以高濃度包括著色劑(其吸收活性能量射線)之情形;一種彩色濾光片,其具有較少之未曝光部分顯影殘渣、對曝光部分基板之優良黏著性、及所需之圖案橫切面形狀與高精確著色圖案;及一種彩色濾光片生產力優良之製法。本作業即為達成這些目的。
本發明之第一態樣提供一種彩色濾光片用硬化性組成物,其包括聚合性化合物(A)、光聚合引發劑(B)、著色劑(C)、及具有酸基與不飽和雙鍵之黏合劑樹脂(D),其中著色劑(C)之含量為30至85質量%之範圍,及具有酸基與不飽和雙鍵之黏合劑樹脂(D)使其酸基經主幹為二或更多個原子之鍵聯基鍵聯主鏈,及使不飽和雙鍵鍵聯側鏈。
本發明之第二態樣提供一種具有著色圖案之彩色濾光片,其係由依照第一態樣之硬化性組成物形成。
本發明之第三態樣提供一種製造彩色濾光片之方法,其包括:藉由將第一態樣之彩色濾光片用硬化性組成物塗布於撐體上,而由硬化性組成物形成著色薄膜;將著色薄膜經光罩曝光;及將曝光之著色薄膜顯影形成著色圖案。
本發明之彩色濾光片用硬化性組成物具有極高之敏感度及優良之基板黏著性。此組成物亦呈現高敏感度,即使是在包括高濃度之著色材料(其吸收活性能量射線)的情形。此外在將所使用著色材料為顏料之情形,除了對未曝光區域之優良顯影力,此組成物呈現優良之儲存安定性及優良之精確分散液安定性。因而可形成一種特別是用於固態影像攝影裝置或LCD之彩色濾光片,其具有優良之曝光敏感度、優良之未曝光部分基板黏著性、及所需之圖案橫切面形狀與高精確圖案。此外在使用之著色材料為顏料之情形,由於優良之儲存安定性及精確之分散液安定性,其可得到無顏色不規則性之彩色濾光片或具高對比之彩色濾光片。
以下詳細解釋本發明之彩色濾光片用硬化性組成物、由此硬化組成物形成之彩色濾光片、及此彩色濾光片之製法。
[彩色濾光片用硬化性組成物]
本發明之硬化性組成物特徵為包括一種聚合性化合物 (A)、一種光聚合引發劑(B)、一種著色劑(C)、及一種具有酸基與不飽和雙鍵之黏合劑樹脂(D),其中黏合劑樹脂(D)具有指定結構。
以下依序解釋包括於本發明硬化性組成物之各成分。<具有酸基與不飽和雙鍵之黏合劑樹脂(D),其使酸基經主幹為二或更多個原子之鍵聯基鍵聯主鏈,及使不飽和雙鍵鍵聯側鏈> 本發明之硬化性組成物包括一種具有不飽和雙鍵與酸基之黏合劑樹脂(以下簡稱為指定聚合性黏合劑)。
此指定聚合性黏合劑較佳為一種包括具有酸基之結構單元(D-1)與具有雙鍵之結構單元(D-2)的共聚物。
首先解釋具有酸基之結構單元(D-1)。
本發明中之「酸基」可特定地敘述為-COOH、-SO3 H、-PO3 H2 、-OSO3 H、-OPO2 H2 等。其中較佳為-COOH、-SO3 H與-PO3 H2 ,而且最佳為-COOH。
在本發明中,酸基本質上經主幹為二或更多個原子之鍵聯基鍵聯主鏈。
在此,本發明中之「鍵聯基主幹」指僅用於鍵聯主鏈與酸基之原子或原子基,而且特別是在有許多鍵聯路徑時,其指組成使用最少原子數量之路徑的原子或原子基。
以下敘述本發明中組成鍵聯基主幹之原子數量及其計算方法。如下式所示,組成鍵聯基之原子附帶之數值指組成鍵聯基之原子數量。
鍵聯主鏈與酸基之鍵聯基為n價有機基,其中n表示偏相側接之酸基數量。
鍵聯主鏈與酸基之鍵聯基並未特別地限制,只要其為n價有機基,但是較佳為具有2至60個碳原子之芳基或烷基,其視情況地在其結構中具有選自氫原子、氮原子、硫原子、具有3至20個碳原子之烴環結構、雜環、酯鍵、磺酸酯鍵、磷酸酯鍵、胺基甲酸酯鍵、硫胺基甲酸酯鍵、醯胺鍵、尿鍵、與硫尿鍵的部分結構;更佳為具有1至40個碳原子之線形或分支烷基,其視情況地在其結構中具有選自氫原子、氮原子、硫原子、具有3至20個碳原子之烴環結構、酯鍵、胺基甲酸酯鍵、硫胺基甲酸酯鍵、醯胺鍵、尿鍵、與硫尿鍵的部分結構;而且進一步較佳為具有1至40個碳原子之線形或分支烷基,其視情況地在其結構中具有選自氫原子、氮原子、具有3至12個碳原子之烴環結構、酯鍵、胺基甲酸酯鍵、與醯胺鍵的部分結構。
如果可行,則鍵聯基可進一步具有取代基。至於可引入之取代基,其為具有1至20個碳原子之線形、分支或環形烷基、具有2至20個碳原子之鏈形、分支或環形烯基、具有2至20個碳原子之炔基、具有6至20個碳原子之芳基、具有1至20個碳原子之醯氧基、具有2至20個碳原 子之烷氧基羰氧基、具有7至20個碳原子之芳氧基羰氧基、具有1至20個碳原子之胺甲醯氧基、具有1至20個碳原子之羰醯胺基、具有1至20個碳原子之磺醯胺基、具有1至20個碳原子之胺甲醯基、具有1至20個碳原子之胺磺醯基、具有1至20個碳原子之烷氧基、具有6至20個碳原子之芳氧基、具有7至20個碳原子之芳氧基羰基、具有2至20個碳原子之烷氧基羰基、具有1至20個碳原子之N-醯基胺磺醯基、具有1至20個碳原子之N-胺磺醯基胺甲醯基、具有1至20個碳原子之烷基磺醯基、具有6至20個碳原子之芳基磺醯基、具有2至20個碳原子之烷氧基羰基胺基、具有7至20個碳原子之芳氧基羰基胺基、具有0至20個碳原子之胺基、具有1至20個碳原子之亞胺基、具有3至20個碳原子之銨基、羥基、巰基、具有1至20個碳原子之烷基亞磺醯基、具有6至20個碳原子之芳基亞磺醯基、具有1至20個碳原子之烷硫基、具有6至20個碳原子之芳硫基、具有1至20個碳原子之脲基、具有2至20個碳原子之雜環基、具有1至20個碳原子之醯基、具有0至2個碳原子之胺磺醯基胺基、具有2至20個碳原子之矽烷基、異氰酸基、異氰基、鹵素原子(例如氟原子、氯原子、溴原子等)、氰基、硝基、鎓基、具有乙烯不飽和雙鍵之基等。由材料易得性之觀點,這些基中較佳為具有1至10個碳原子之鏈形、分支或環形烷基。此外由敏感度及顯影力之觀點,其較佳為羥基、巰基、及具有乙烯不飽和雙鍵之基。由敏感度及顯影力均衡之觀點,其最佳為羥基。
在n價鍵聯基中,n較佳為1至5,但是由欲形成塗覆薄膜之強度的觀點,n較佳為1。
以下提出包括於本發明指定聚合性黏合劑之包括酸基之重複單元的指定實例,但是本發明不受其限制。以下僅例示具有-COOH作為酸基者,但是包括以作為酸基之-COOH可以其他酸基取代,如-SO3 H、-PO3 H2 、-OSO3 H、-OPO2 H2 等。酸基較佳為-COOH、-SO3 H或-PO3 H2 ,而且最佳為-COOH。
包括酸基之重複單元(D-1)可單獨地或以二或更多種之組合包括於指定聚合性黏合劑(D)中。本發明之指定聚合性黏合劑為一種包括至少一個包括酸基之重複單元與一個 具有不飽和雙鍵之結構單元(敘述於下)的共聚物。包括酸基之重複單元的總量係依照其結構、由硬化性組成物形成之著色薄膜的設計等而適當地決定,但是其相對聚合物成分之總莫耳量較佳為1至80莫耳%,更佳為5至60莫耳%,而且進一步較佳為10至40莫耳%之範圍。
本發明之指定聚合性黏合劑(D)本質上在側鏈上具有不飽和雙鍵。在此不飽和雙鍵可例示為藉不飽和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、伊康酸、巴豆酸、異巴豆酸、順丁烯二酸等)之醯化反應或酯化反應引入之乙烯不飽和雙鍵。
亦可例示藉單官能基或多官能基羧酸之脫水/縮合反應、或單官能基或多官能基異氰酸酯或環氧基與醯胺或具有親核性取代基(如羥基、胺基或巰基)之不飽和羧酸酯的加成反應之產物引入之乙烯不飽和雙鍵。此外亦可例示藉醯胺或具有親核性取代基(如異氰酸基或環氧基)之不飽和羧酸酯與單官能基或多官能基醇、胺或硫醇的加成反應、又及醯胺或具有釋放基作為取代基(如鹵素基或甲苯磺醯氧基)之羧酸酯與單官能基或多官能基醇、胺或硫醇的取代反應之產物引入之乙烯不飽和雙鍵。此外以上之不飽和羧酸可以不飽和膦酸、苯乙烯、乙烯醚等代替。由敏感度及容易合成之觀點,乙烯不飽和雙鍵較佳地例示為藉(甲基)丙烯酸基或乙烯醚基引入之乙烯不飽和雙鍵。
如上所述,其較佳為包括此不飽和雙鍵作為側鏈上具有不飽和雙鍵之結構單元(D-2)。
包括此不飽和雙鍵之樹脂更佳為一種藉含羧基作為酸基之樹脂與含環氧丙基不飽合化合物(如(甲基)丙烯酸環氧丙酯或烯丙基環氧丙基醚)間之反應而得之樹脂;一種藉其中聚合含羥基(甲基)丙烯酸為主化合物之樹脂與具有自由異氰酸基之(甲基)丙烯酸酯(如(甲基)丙烯酸乙酯-2-異氰酸酯)間之反應而得之樹脂;一種包括由後述式(1)至(3)任一表示之結構單元的樹脂;一種藉由合成具有依照鹼處理之釋放反應提供不飽和基之指定官能基的樹脂,然後使樹脂接受鹼處理以製造不飽和基而得之樹脂等。
本發明之指定聚合性黏合劑較佳為具有至少一種選自由下式(1)至(3)表示之結構單元作為不飽和雙鍵部分之結構單元(D-2)。
在式(1)至(3)中,A1 、A2 與A3 各獨立地為氧原子、硫原子或-N(R21 )-,而R21 為視情況地經取代烷基;G1 、G2 與G3 各獨立地為二價有機基;X與Z各獨立地為氧原子、硫原子或-N(R22 )-,而R22 為視情況地經取代烷基;Y為氧原子、硫原子、視情況地經取代伸苯基、或-N(R23 )-,而R23 為視情況地經取代烷基;及R1 至R20 各獨立地為單價有機基。
具有不飽和雙鍵之結構單元(D-2)詳述於例如JP-A第 2003-262958號、JP-A第2003-335814號專利等,作為負相作業影像形成材料用黏合劑之結構組分,而且此結構單元亦可應用於本發明。
使用用於合成本發明之指定聚合性黏合劑(D)的結構單元之巨分子可藉以下提出之合成方法(a)製造。
合成方法(a): 一種包括藉一般自由基聚合法共聚合至少一種由下式(4-1)表示之自由基聚合性化合物、與至少一種其他自由基聚合性化合物,而合成所需聚合物先質,然後使用鹼處理去除質子因而脫去L以得到具有由式(1)表示之結構的所需聚合物之方法。
在此對於聚合物先質之製造,其可應用如懸浮液聚合法或溶液聚合法之常用方法。其共聚物之組成可為任何嵌段共聚物、無規共聚物、接枝共聚物等。
在式(4-1)中,L為陰離子性釋放基,較佳為鹵素原子、磺酸酯等;而至於R3 至R6 、A1 、G1 、與X,其可使用如式(1)所述之相同實例。
用於造成釋放反應之鹼基可為任何無機化合物與有機化合物。無機化合物鹼可較佳地例示為氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、碳酸鉀、碳酸氫鉀等,而且有機化合物鹼可較佳地例示為金屬烷氧化物,如甲氧鈉、乙氧 鈉、或第三丁氧鉀,有機胺化合物,如三乙胺、吡啶、二異丙基乙胺等。
由式(4-1)表示之自由基聚合性化合物可例示為以下化合物(M-1)至(M-12),但是不受其限制。
這些自由基聚合性化合物容易在市場上或藉JP-A第2002-062648號專利之說明書揭示之合成方法得到。
至於得到組成本發明相關之指定聚合性黏合劑的具有不飽和雙鍵之結構單元的其他合成方法,其可提及(b)一種包括使含由下式(4-2)表示之化合物作為共聚物組分之聚合物接受鹼處理以在指定官能基發生釋放反應,去除式中之X1 與H,及形成可自由基反應基以得到具有由式(1)表示之結構的聚合物之方法。
在式(4-2)中,R1 、R2 與R3 各獨立地為氫或單價有機基;A2 為氧原子、硫原子或-NR8 -;G1 為有機鍵聯基;R8 為氫或單價有機基;n為1至10之整數;R4 至R6 、A1 、與G1 具有如式(1)定義之相同意義;及X1 為可藉釋放反應去除之釋放基。
在此X1 為可藉釋放反應去除之釋放基,及X1 較佳為陰離子地帶電以去除(可陰離子地去除)之基。
X1 之指定實例包括鹵素原子、磺酸基、亞磺酸基、羧酸基、氰基、銨基、疊氮基、鋶基、硝基、羥基、烷氧基、苯氧基、硫烷氧基、與鋞基,而且較佳為包括鹵素原子、磺酸基、銨基、與鋶基。其中特佳為氯原子、溴原子、碘原子、烷基磺酸基、與芳基磺酸基。烷基磺酸基之較佳實例包括甲磺酸基、乙磺酸基、1-丙磺酸基、異丙磺酸基、1-丁磺酸基、1-辛磺酸基、1-十六碳磺酸基、三氟甲磺酸基、三氯甲磺酸基、2-氯-1-乙磺酸基、2,2,2-三氟乙磺酸 基、3-氯丙磺酸基、全氟-1-丁磺酸基、全氟-1-辛磺酸基、10-莰磺酸基、與苄磺酸基。芳基磺酸基之較佳實例包括苯磺酸基、反-β-苯乙烯磺酸基、2-硝基苯磺酸基、2-乙醯基苯磺酸基、3-(三氟甲基)苯磺酸基、3-硝基苯磺酸基、4-硝基苯磺酸基、對甲苯磺酸基、4-第三丁基苯磺酸基、4-氟苯磺酸基、4-氯苯磺酸基、4-溴苯磺酸基、4-碘苯磺酸基、4-甲氧基苯磺酸基、4-(三氟甲氧基)苯磺酸基、2,5-二氯苯磺酸基、2-硝基-4-(三氟甲基)苯磺酸基、4-氯-3-硝基苯磺酸基、2,4-二硝基苯磺酸基、2-磺酸基、2,4,6-三異丙基苯磺酸基、五氟苯磺酸基、1-萘磺酸基、與2-萘磺酸基。
由以上式(4-2)表示之化合物的實例可較佳地提及下示化合物(i-1至i-52)。
側鏈上具有雙鍵之結構單元依用途而不同,但是例如在將本發明相關之指定聚合性黏合劑用於形成含高濃度著色劑之彩色濾光片的著色圖案時,含量至少較佳為5莫耳%或更大,而且更佳為30至80莫耳%。
在藉上述合成方法(a)或(b)合成本發明之指定聚合性黏合劑的情形,具有酸基之結構單元及具有雙鍵之結構單元可與其他常用自由基聚合性化合物共聚合,其亦為一個較佳具體實施例。
欲共聚合之常用自由基聚合性化合物可例示為下示化合物(1)至(12)。
(1)具有脂族羥基之丙烯酸酯與甲基丙烯酸酯,如丙 烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯酸3-羥基丙酯、丙烯酸4-羥基丁酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基丙酯、甲基丙烯酸3-羥基丙酯、與甲基丙烯酸4-羥基丁酯。
(2)丙烯酸烷酯,如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸己酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸2-氯乙酯、丙烯酸環氧丙酯、甲基丙烯酸3,4-環氧基環己酯、丙烯酸乙烯酯、丙烯酸2-苯基乙烯酯、丙烯酸1-丙烯酯、丙烯酸烯丙酯、丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、與丙烯酸炔丙酯。
(3)甲基丙烯酸烷酯,如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸2-氯乙酯、甲基丙烯酸環氧丙酯、甲基甲基丙烯酸3,4-環氧基環己酯、甲基丙烯酸乙烯酯、甲基丙烯酸2-苯基乙烯酯、甲基丙烯酸1-丙烯酯、甲基丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、與甲基丙烯酸炔丙酯。
(4)丙烯醯胺或甲基丙烯醯胺,如丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、N-乙基丙烯醯胺、N-己基甲基丙烯醯胺、N-環己基丙烯醯胺、N-羥基乙基丙烯醯胺、N-苯基丙烯醯胺、N-硝基苯基丙烯醯胺、N-乙基-N-苯基丙烯醯胺、乙烯基丙烯醯胺、乙烯基甲基丙烯醯胺、N,N-二 烯丙基丙烯醯胺、N,N-二烯丙基甲基丙烯醯胺、烯丙基丙 烯醯胺、與烯丙基甲基丙烯醯胺。
(5)乙烯基醚,如乙基乙烯基醚、2-氯乙基乙烯基醚、羥基乙基乙烯基醚、丙基乙烯基醚、丁基乙烯基醚、辛基乙烯基醚、與苯基乙烯基醚。
(6)乙烯酯,如乙酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、與苯甲酸乙烯酯。
(7)苯乙烯,如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、甲基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、與對乙醯氧基苯乙烯。
(8)乙烯基酮,如甲基乙烯基酮、乙基乙烯基酮、丙基乙烯基酮、與苯基乙烯基酮。
(9)烯烴,如乙烯、丙烯、異丁烯、丁二烯、與異戊二烯。
(10)N-乙烯基吡咯啶酮、丙烯腈、甲基丙烯腈等。
(11)不飽和醯亞胺,如順丁烯二醯亞胺、N-丙烯醯基丙烯醯胺、N-乙醯基甲基丙烯醯胺、N-丙醯基甲基丙烯醯胺、與N-(對氯苯甲醯基)甲基丙烯醯胺。
(12)其中雜原子係鍵結至其α-位置之甲基丙烯酸酯為主單體。例如JP-A第2002-309057號、JP-A第2002-311569號專利等所述之化合物。
至於本發明之較佳指定聚合性黏合劑,特別地,其可提及藉由共聚合1至70質量%之至少一種選自下示結構的結構單元作為具有酸基之結構單元(D-1)、5至80質量%之上示例示結構單元(M-1)或(i-1)作為在側鏈上具有不飽和 雙鍵之結構單元(D-2)、及1至60莫耳%之(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸苄酯或苯乙烯作為組合使用之其他自由基聚合基(如果必要)而得之聚合物。
本發明相關之指定聚合性黏合劑的重量平均分子量較佳為1,000至200,000,更佳為2,000至100,000,甚至更佳為3,000至50,000,而且最佳為5,000至30,000之範圍 。在此本發明之重量平均分子量係使用以苯乙烯作為標準品之藉凝膠滲透層析術(GPC)測量之值。
以下提出本發明之指定聚合性黏合劑(包括具有酸基之結構單元(D-1)與具有雙鍵之結構單元(D-2))的指定實例,如[例示化合物(1)至(17)],及各重量平均分子量(Mw),但是本發明不受其限制。
指定聚合性黏合劑的含量相對本發明之彩色濾光片用硬化性組成物的總固體含量較佳為0.01至80質量%,更佳 為0.05至60質量%,甚至更佳為0.1至40質量%,而且最佳為0.3至20質量%之範圍。
<聚合性化合物(A)> 對於本發明之硬化性組成物,由於包括指定聚合性黏合劑(D),其可作為聚合性化合物而產生硬化力。然而由改良硬化塗膜之薄膜性質或無溶劑形成組成物之觀點,其較佳為除了指定聚合性黏合劑,亦包括含乙烯不飽和雙鍵之聚合性化合物(A)。
可用於本發明之聚合性化合物為一種具有至少一個乙烯不飽和雙鍵之加成聚合性化合物,其可選自具有至少一個終端乙烯不飽和雙鍵,較佳為具有二或更多個終端乙烯不飽和雙鍵之化合物。此化合物在此技藝廣為熟知,而且其可用於本發明而無特殊限制。這些化合物具有例如單體、預聚物(即二聚物、三聚物與寡聚物)、或其混合物、其共聚物等之化學形式。單體與其共聚物之實例包括不飽和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、伊康酸、巴豆酸、異巴豆酸、順丁烯二酸等)、其酯及其醯胺,而且較佳為包括不飽和羧酸與多價脂族醇化合物之酯、及不飽和羧酸之醯胺與多價脂族胺化合物。此外亦可較佳地使用單官能基或多官能基異氰酸酯或環氧基之加成反應、或單官能基或多官能基羧酸與具有親核性取代基(如羥基、胺基或巰基)之不飽和羧酸酯的脫水/縮合反應之產物。此外亦較佳為醯胺或具有親電子性取代基(如異氰酸基或環氧基)之不飽和羧酸酯與單官能基或多官能基醇、胺或硫醇的加成反應、 及具有釋放基作為取代基(如鹵素或甲苯磺醯氧基)之醯胺或不飽和羧酸酯與單官能基或多官能基醇、胺或硫醇的進一步取代反應之產物。除了例示化合物,亦可使用具有不飽和膦酸、苯乙烯、乙烯基醚等之化合物代替以上實例之不飽和羧酸。
至於脂族多羥基醇化合物與不飽和羧酸之酯的單體之指定實例,其為丙烯酸酯,如乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、伸丁二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯醯氧基丙基)醚、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、1,4-環己二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、異戊四醇二丙烯酸酯、異戊四醇三丙烯酸酯、異戊四醇四丙烯酸酯、二異戊四醇二丙烯酸酯、二異戊四醇六丙烯酸酯、山梨醇三丙烯酸酯、山梨醇四丙烯酸酯、山梨醇五丙烯酸酯、山梨醇六丙烯酸酯、異三聚氰酸三(丙烯醯氧基乙酯)、聚酯丙烯酸酯寡聚物、與異三聚氰酸經EO修改三丙烯酸酯。
其有甲基丙烯酸酯,如伸丁二醇二甲基丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、己二醇二甲基丙烯酸酯、異戊四醇二甲基丙烯酸酯、異戊四醇三甲基丙烯酸酯、異戊四醇四甲基丙烯酸酯、二異戊四醇二甲基丙烯酸酯、二異戊四醇六甲基丙烯酸酯、山梨 醇三甲基丙烯酸酯、山梨醇四甲基丙烯酸酯、貳[對-(3-甲基丙烯氧基-2-羥基丙氧基)苯基]二甲基甲烷、與貳[對(甲基丙烯氧基乙氧基)苯基]二甲基甲烷。
至於伊康酸酯,其為乙二醇二伊康酸酯、丙二醇二伊康酸酯、1,3-丁二醇二伊康酸酯、1,4-丁二醇二伊康酸酯、伸丁二醇二伊康酸酯、異戊四醇二伊康酸酯、山梨醇四伊康酸酯等。至於巴豆酸酯,其為乙二醇二巴豆酸酯、伸丁二醇二巴豆酸酯、異戊四醇二巴豆酸酯、山梨醇四-二巴豆酸酯等。至於異巴豆酸酯,其為乙二醇二異巴豆酸酯、異戊四醇二異巴豆酸酯、山梨醇二巴豆酸酯等。至於順丁烯二酸酯,其為乙二醇二順丁烯二酸酯、三乙二醇二順丁烯二酸酯、異戊四醇二順丁烯二酸酯、山梨醇四順丁烯二酸酯等。
至於其他酯之實例,亦較佳為使用例如JP-B第51-47334號及JP-A第57-196231號專利所述之脂族醇為主酯、JP-A第59-5240號、JP-A第59-5241號及JP-A第2-226149號專利所述具有芳族骨架之酯、及JP-A第1-165613號專利所述之含胺基之酯。此外上述酯單體亦可如混合物而使用。
此外至於脂族多羥基胺化合物之醯胺與不飽和羧酸的單體之指定實例,其為亞甲基貳丙烯醯胺、亞甲基貳甲基丙烯醯胺、1,6-伸己基貳丙烯醯胺、1,6-伸己基貳甲基丙烯醯胺、二伸乙三胺參丙烯醯胺、二甲苯貳丙烯醯胺、與二甲苯貳甲基丙烯醯胺。其他較佳醯胺為主單體之實例包括 JP-B第54-21726號專利所述具有環伸己基結構之單體。
此外亦較佳為胺基甲酸酯為主加成聚合性化合物,其可藉異氰酸酯與羥基之加成反應製造,及其指定實例包括一種每個分子具有二或更多個聚合性乙烯基之乙烯基胺基甲酸酯化合物,其係將由下式(A)表示之化合物中具有羥基的乙烯基單體加入JP-B第48-41708號專利等揭示之每個分子中具有二或更多個異氰酸基之多異氰酸化合物而得。
CH2 =C(R10 )COOCH2 CH(R11 )OH   式(A)(其條件為R10 與R11 各為H或CH3 )
此外亦較佳為JP-A第51-37193號、JP-B第2-32293號及JP-B第2-16765號專利所述之胺基甲酸酯丙烯酸酯,及JP-B第58-49860號、JP-B第56-17654號、JP-B第62-39417號、及JP-B第62-39418號專利所述之具有環氧乙烷為主骨架之胺基甲酸酯化合物。此外使用JP-A第63-277653號、JP-A第63-260909號及JP-A第1-105238號專利所述,分子中具有胺基結構或硫化物結構之加成聚合化合物,可得到感光速度非常優良之光聚合性組成物。
其他實例包括JP-A第48-64183號、JP-B第49-43191號及JP-B第52-30490號專利之各公報所述之多官能基丙烯酸酯與甲基丙烯酸酯,如聚酯丙烯酸酯,及藉環氧樹脂與(甲基)丙烯酸酯之反應得到之環氧基丙烯酸酯。此外實例包括JP-B第46-43946號、JP-B第1-40337號及JP-B第1-40336號專利所述之指定不飽和化合物,及JP-A第2-25493號專利所述之乙烯基膦酸為主化合物。在某些情形 ,其較佳為使用JP-A第61-22048號專利所述之含全氟烷基結構。此外亦可使用Journal of Adhesion Society of Japan,第20卷,第7期,第300-308頁(1984)之引入作為光硬化性單體與寡聚物的化合物。
關於這些加成聚合性化合物,使用細節(如其結構,不論其係單獨或組合使用)或加入量可考量硬化性組成物之性能設計而任意地設定。例如可考量以下之觀點。
由敏感度之觀點,其較佳為一種每個分子包括大量不飽和基之結構,而且在許多情形,其較佳為具有2或更多個官能基者。為了改良影像區域(即硬化薄膜)之強度,其較佳為具有3或更多個官能基者,而且一種組合使用不同數量之官能基、不同聚合性基(例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯為主化合物、乙烯醚為主化合物)調節敏感度與強度之方法亦有效。由硬化敏感度之觀點,其較佳為使用一種具有2或更多個(甲基)丙烯酸酯組成之化合物,更佳為使用一種具有3或更多個(甲基)丙烯酸酯組成之化合物,而且最佳為使用一種具有4或更多個(甲基)丙烯酸酯組成之化合物。由硬化敏感度及未曝光區域之顯影力的觀點,其較佳為包括經EO修改物質。此外由未曝光部分之硬化敏感度及強度的觀點,其較佳為包括胺基甲酸酯鍵。
加成聚合性化合物之選擇及使用方法對於與硬化性組成物中其他成分(例如樹脂、光聚合引發劑、顏料)之相容性及分散力亦非常重要,而且例如相容性可使用低純度 化合物或二或更多種之組合而改良。亦為了改良基板黏著性等,其可選擇指定結構。
由以上觀點,其較佳為聯酚A二丙烯酸酯、經EO修改聯酚A二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯醯氧基丙基)醚、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、異戊四醇二丙烯酸酯、異戊四醇三丙烯酸酯、異戊四醇四丙烯酸酯、二異戊四醇四丙烯酸酯、二異戊四醇五丙烯酸酯、二異戊四醇六丙烯酸酯、山梨醇三丙烯酸酯、山梨醇四丙烯酸酯、山梨醇五丙烯酸酯、山梨醇六丙烯酸酯、異三聚氰酸三(丙烯醯氧基乙酯)、經EO修改異戊四醇四丙烯酸酯、經EO修改二異戊四醇六丙烯酸酯等,而且較佳為市售產品,如胺基甲酸酯寡聚物UAS-10、UAB-140(Sanyo-Kokusaku Pulp製造)、DPHA-40H(Nippon Kayaku Co., Ltd.製造)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(Kyoeisha Chemical Co., Ltd.製造)、及UA-7200(Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.製造)。
其中更佳為經EO修改聯酚A二丙烯酸酯、異戊四醇三丙烯酸酯、異戊四醇四丙烯酸酯、二異戊四醇五丙烯酸酯、二異戊四醇六丙烯酸酯、異三聚氰酸三(丙烯醯氧基乙酯)、經EO修改異戊四醇四丙烯酸酯、與經EO修改二異戊四醇六丙烯酸酯。至於市售產品,其更佳為DPHA-40H(Nippon Kayaku Co., Ltd.製造)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、與AI-600(Kyoeisha Chemical Co., Ltd.製造)。
聚合性化合物(A)在本發明之彩色濾光片用硬化性組成物之固體內容物中的含量較佳為1至50質量%,更佳為5至40質量%,而且甚至更佳為10至35質量%之範圍。
由未曝光區域之敏感度及去除力(顯影力)的觀點,指定聚合性黏合劑(D)對聚合性化合物(A)之含量比例(質量比例),以(D)/(A)表示,較佳為0.001至100,更佳為0.005至50,而且甚至更佳為0.01至10之範圍。
<光聚合引發劑(B)> 本發明之硬化性組成物包括光聚合引發劑(B)。
本發明之光聚合引發劑為一種見光分解,而且引發及促進本發明之成分(A)與成分(D)之聚合的化合物,其敘述於下。光聚合引發劑較佳為在波長300至500奈米之區域具有吸收帶者。光聚合引發劑可單獨使用或以二或更多種之組合使用。
光聚合引發劑之實例包括有機鹵化化合物、氧二唑化合物、羰基化合物、縮酮化合物、安息香化合物、吖啶化合物、有機過氧化物化合物、偶氮化合物、薰草素化合物、疊氮化合物、金屬芳香類化合物、六芳基二咪唑化合物、有機硼酸化合物、二磺酸酯化合物、肟酯化合物、鎓鹽化合物、與醯基膦(氧化物)化合物、烷基胺化合物等。
以下詳述這些化合物。
有機鹵化化合物之指定實例包括Wakabayashi等人之"Bull Chem. Soc Japan", 42, 2924 (1969)、美國專利第 3,905,815號、JP-B第46-4605號、JP-A第48-36281號、JP-A第55-32070號、JP-A第60-239736號、JP-A第61-169835號、JP-A第61-169837號、JP-A第62-58241號、JP-A第62-212401號、JP-A第63-70243號、JP-A第63-298339號專利、及M.P. Hutt之"Journal of Heterocyclic Chemistry" 1 (No 3), (1970)",而且特別是包括經三鹵甲基取代噁唑化合物及s-三化合物。
至於s-三化合物,其更佳為其中將至少一個經單、二或三鹵素取代甲基鍵結s-三環之s-三衍生物,特別是例如2,4,6-參(單氯甲基)-s-三、2,4,6-參(二氯甲基)-s-三、2,4,6-參(三氯甲基)-s-三、2-甲基-4,6-貳(三氯甲基)-s-三、2-正丙基-4,6-貳(三氯甲基)-s-三、2-(α,α,β-三氯乙基)-4,6-貳(三氯甲基)-s-三、2-苯基-4,6-貳(三氯甲基)-s-三、2-(對甲氧基苯基)-4,6-貳(三氯甲基)-s-三、2-(3,4-環氧基苯基)-4,6-貳(三氯甲基)-s-三、2-(對氯苯基)-4,6-貳(三氯甲基)-s-三、2-[1-(對甲氧基苯基)-2,4-丁二烯基]-4,6-貳(三氯甲基)-s-三、2-苯乙烯基-4,6-貳(三氯甲基)-s-三、2-(對甲氧基苯乙烯基)-4,6-貳(三氯甲基)-s-三、2-(對異丙氧基苯乙烯基)-4,6-貳(三氯甲基)-s-三、2-(對甲苯基)-4,6-貳(三氯甲基)-s-三、2-(4-萘氧基萘基)-4,6-貳(三氯甲基)-s-三、2-苯硫基-4,6-貳(三氯甲基)-s-三、2-苄硫基-4,6-貳(三氯甲基)-s-三、2,4,6-參(二溴甲基)-s-三、2,4,6-參(三溴甲基 )-s-三、2-甲基-4,6-貳(三溴甲基)-s-三、2-甲氧基-4,6-貳(三溴甲基)-s-三等。
至於氧二唑化合物,其為2-三氯甲基-5-苯乙烯基-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(氰基苯乙烯基)-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(萘-1-基)-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(4-苯乙烯基)苯乙烯基-1,3,4-噁二唑等。
至於羰基化合物,其為二苯基酮衍生物,如二苯基酮、米其勒酮、2-甲基二苯基酮、3-甲基二苯基酮、4-甲基二苯基酮、2-氯二苯基酮、4-溴二苯基酮、與2-羧基二苯基酮;苯乙酮衍生物,如2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、1-羥基環己基苯基酮、α-羥基-2-甲基苯基丙酮、1-羥基-1-甲基乙基-(對異丙基苯基)酮、1-羥基-1-(對十二碳基苯基)酮、2-甲基-(4'-(甲硫基)苯基)-2-嗎啉-1-丙酮、1,1,1-三氯甲基-(對丁基苯基)酮、與2-苄基-2-二甲胺基-4-嗎啉苯丁酮;硫 衍生物,如硫 、2-乙基硫 、2-異丙基硫 、2-氯硫 、2,4-二甲基硫 、2,4-二乙基硫 、與2,4-二異丙基硫 ;苯甲酸酯衍生物,如對二甲胺基苯甲酸乙酯與對二乙胺基苯甲酸乙酯等。
至於縮酮化合物,其為苄基甲基縮酮、苄基-β-甲氧基乙基乙基乙縮酮等。
至於安息香化合物,其為安息香異丙基醚、安息香異丁基醚、安息香甲基醚、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯等。
至於吖啶化合物,其為9-苯基吖啶、1,7-貳(9-吖啶 基)庚烷等。
至於有機過氧化物化合物,其為例如三甲基環己烷過氧化物、乙醯基丙酮過氧化物、1,1-貳(第三丁基過氧基)-3,3,5-三甲基環己烷、1,1-貳(第三丁基過氧基)環己烷、2,2-貳(第三丁基過氧基)丁烷、氫過氧化第三丁基、氫過氧化異丙苯、氫過氧化二異丙基苯、2,5-二甲基己烷-2,5-二氫過氧化物、氫過氧化1,1,3,3-四甲基丁基、過氧化第三丁基異丙苯基、過氧化二異丙苯基、2,5-二甲基-2,5-二(第三丁基過氧基)己烷、過氧化2,5-氧雜菁基(oxanoyl)、過氧化琥珀醯基、過氧化苯甲醯基、過氧化2,4-二氯苯甲醯基、過氧基二碳酸二異丙酯、過氧基二碳酸二-2-乙基己酯、過氧基二碳酸二-2-乙氧基乙酯、過氧基碳酸二甲氧基異丙酯、過氧基二碳酸二(3-甲基-3-甲氧基丁酯)、過氧基乙酸第三丁酯、過氧基三甲基乙酸第三丁酯、過氧基新癸酸第三丁酯、過氧基新酸第三丁酯、過氧基月桂酸第三丁酯、聯三基(tercyl)碳酸酯、3,3',4,4'-四(第三丁基過氧基羰基)二苯基酮、3,3',4,4'-四(第三己基過氧基羰基)二苯基酮、3,3',4,4'-四(對異丙基異丙苯基過氧基羰基)二苯基酮、羰基二(第三丁基過氧基二氫二酞酸酯)、羰基二(第三己基過氧基二氫二酞酸酯)等。
至於偶氮化合物,其為例如偶氮化合物。JP-A第8-108621號專利所述之偶氮化合物。
至於薰草素化合物,其為例如3-甲基-5-胺基((s-三-2-基)胺基)-3-苯基異丙苯、3-氯-5-二乙胺基((s-三-2-基)胺基)-3-苯基異丙苯、3-丁基-5-二乙胺基((s-三-2-基)胺基)-3-苯基異丙苯等。
至於疊氮化合物,其為美國專利第2848328、2852379及2940853號之說明書敘述之有機疊氮化合物、2,6-貳(4-疊氮亞苄基)-4-乙基環己酮(BAC-E)等。
至於金屬芳香類化合物,其為JP-A第59-152396號、JP-A第61-151197號、JP-A第63-41484號、JP-A第2-249號、JP-A第2-4705號、及JP-A第5-83588號專利敘述之各種二茂鈦化合物,例如二環戊二烯基-Ti-貳苯基、二環戊二烯基-Ti-貳-2,6-二氟苯-1-基、二環戊二烯基-Ti-貳-2,4-二氟苯-1-基、二環戊二烯基-Ti-貳-2,4,6-三氟苯-1-基、二環戊二烯基-Ti-貳-2,3,5,6-四氟苯-1-基、二環戊二烯基-Ti-貳-2,3,4,5,6-五氟苯-1-基、二甲基環戊二烯基-Ti-貳-2,6-二氟苯-1-基、二甲基環戊二烯基-Ti-貳-2,4,6-三氟苯-1-基、二甲基環戊二烯基-Ti-貳-2,3,5,6-四氟苯-1-基、二甲基環戊二烯基-Ti-貳-2,3,4,5,6-五氟苯-1-基、JP-A第1-304453號及JP-A第1-152109號專利所述之鐵-芳烴錯合物等。
至於六芳基二咪唑化合物,其為例如JP-B-6-29285號專利、美國專利第3,479,185、4,311,783、4,622,286號等之說明書所述之各種化合物,特別是2,2'-貳(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基二咪唑、2,2'-貳(鄰溴苯基)-4,4',5,5'-四苯基二咪唑、2,2'-貳(鄰,對-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基二咪唑、2,2'-貳(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四(間甲氧基 苯基)二咪唑、2,2'-貳(鄰,鄰'-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基二咪唑、2,2'-貳(鄰硝基苯基)-4,4',5,5'-四苯基二咪唑、2,2'-貳(鄰甲基苯基)-4,4',5,5'-四苯基二咪唑、2,2'-貳(鄰三氟甲基苯基)-4,4',5,5'-四苯基二咪唑等。
至於有機硼酸化合物,其特別是例如JP-A第62-143044號、JP-A第62-150242號、JP-A第9-188685號、JP-A第9-188686號、JP-A第9-188710號、JP-A第2000-131837號、JP-A第2002-107916號專利、日本專利第2764769號、JP-A第2002-116539號專利等、及Kunz, Martin之"Rad Tech '98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago"所述之有機硼酸酯,JP-A第6-157623號、JP-A第6-175564號及JP-A第6-175561號專利所述之有機硼鋶錯合物或有機氧鋶錯合物,JP-A第6-175554號及JP-A第6-175553號專利所述之有機硼錪錯合物,JP-A第9-188710號專利所述之有機硼鏻錯合物,JP-A第6-348011號、JP-A第7-128785號、JP-A第7-140589號、JP-A第7-306527號、及JP-A第7-292014號專利等所述之有機硼過渡金屬配位錯合物。
至於二碸化合物,其為JP-A第61-166544號及JP-A第2002-328465號專利等所述之化合物。
至於肟酯化合物,其為J.C.S. Perkin II (1979)1653-1660、J.C.S. Perkin II (1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology (1995)202-232、JP-A第2000-66385號、JP-A第2000-80068號專利、PCT 公告第2004-534797號等敘述之化合物。
至於鎓鹽化合物,例如其為S.I. Schlesinger之Photogr. Sci. Eng., 18, 387 (1974)、及T.S. Bal等人之Polymer, 21, 423 (1980)敘述之重氮鹽;美國專利第4,069,055號之說明書及JP-A第4-365049號專利敘述之銨鹽;美國專利第4,069,055及4,069,056號專利之說明書敘述之鏻鹽;歐洲專利第104,143號、及美國專利第339,049及410,201號之說明書、JP-A第2-150848號及JP-A第2-296514號專利敘述之錪鹽等。
可較佳地用於本發明之錪鹽為二芳基錪鹽,由安定性之觀點,其較佳為經2或更多個給電子基取代,如烷基、烷氧基與芳氧基。此外較佳為具有三芳基鋶鹽(其取代基之一具有闊馬靈、蒽醌結構)作為較佳鋶鹽形式,而且在300奈米或更高區域具有吸收帶之錪鹽。
至於可較佳地使用之鋶鹽,其為歐洲專利第370,693、390,214、233,567、297,443、及297,442號、美國專利第4,933,377、161,811、410,201、339,049、4,760,013, 4,734,444、及2,833,827號、及德國專利第2,904,626、3,604,580及3,604,581號之說明書所述之鋶,由敏感度對安定性之觀點,其可較佳地經吸電子基取代。吸電子基較佳為具有大於0之Hammett值。吸電子基較佳為鹵素原子、羧酸等。
至於除上述的較佳鋶鹽,其為具有三芳基鋶鹽(其取代基之一具有闊馬靈、蒽醌結構)且在300奈米或更高區 域具有吸收帶之鋶鹽至於其他較佳鋶鹽,該鋶鹽為具有烯丙基或芳硫基做為其取代基之三芳基鋶鹽且在300奈米或更高區域具有吸收帶之鋶鹽。
此外至於鎓鹽化合物,其為J.V. Crivello等人之Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977)、及J.V. Crivello等人之J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979)所述之硒鎓鹽;C.S. Wen等人之Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p 478 Tokyo, Oct (1988)所述之胂鹽等。
至於醯基膦(氧化物)化合物,其為CIBA Speciality Chemicals製造之Irgacure 819、Darocure 4265與Darocure TPO等。
至於烷基胺化合物,例如其為JP-A第9-281698號專利之第[0047]段、JP-A第6-19240號及JP-A第6-19249號等專利所述之具有二烷基胺基苯基的化合物及烷基胺化合物。特別地,至於具有二烷基胺基苯基之化合物,其為如對二甲胺基苯甲酸乙酯之化合物,及二烷基胺基苯基羰甲醛,如對二乙胺基苯并羰甲醛與9-咯啶基(julolidyl)羰甲醛;而且至於烷基胺化合物,其為三乙醇胺、二乙醇胺、三乙胺等。
由曝光敏感度之觀點,用於本發明之光聚合抑制劑(B)為一種選自三為主化合物、烷基胺基化合物、二甲苄基縮酮化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦為主化合物、氧化膦為主化合物、金屬芳香類化合物、肟為主化合物、二咪唑為主化合物、鎓為主化合物、苯井 噻唑為主化合物、苯乙酮為主化合物、苯乙酮為主化合物及其衍生物、環戊二烯-苯-鐵錯合物與其鹽、鹵甲基噁二唑化合物、及經3-芳基取代薰草素化合物之化合物。
引發劑(B)更佳為一種選自三為主化合物、烷基胺基化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦為主化合物、氧化膦為主化合物、肟為主化合物、二咪唑為主化合物、鎓為主化合物、苯并噻唑為主化合物、與苯乙酮為主化合物之化合物,而且甚至更佳為至少一種選自三為主化合物、烷基胺基化合物、肟為主化合物、與二咪唑為主化合物之化合物。
光聚合引發劑(B)之含量相對本發明硬化性組成物之總固體含量較佳為0.1至50質量%,更佳為0.5至30質量%,而且特佳為1至20質量%之範圍。在此範圍內可得優良之敏感度及圖案形成力。
<著色劑(C)> 本發明之硬化性組成物包括著色劑(C)。
包括於本發明硬化性組成物之著色劑並未特別地限制,而且傳統上已知之各種染料及顏料可單獨或以二或更多種之組合使用。由耐熱性、光安定性及耐久性之觀點,著色劑較佳為顏料。
至於包括於本發明硬化性組成物之顏料,其可使用任何傳統上已知之各種無機顏料及有機顏料,其較佳為具有高穿透率。
至於無機顏料,其為金屬化合物,如金屬氧化物、金 屬芳香類鹽等,而且指定實例包括如鐵、鈷、鋁、鎘、鉛、銅、鈦、鎂、鉻、鋅、與銻之金屬氧化物,及所述金屬之複合氧化物。
有機顏料之實例包括:C.I.顏料黃11、24、31、53、83、93、99、108、109、110、138、139、147、150、151、154、155、167、180、185、199; C.I.顏料橙36、38、43、71; C.I.顏料紅81、105、122、149、150、155、171、175、176、177、209、220、224、242、254、255、264、270; C.I.顏料紫19、23、32、39; C.I.顏料藍1、2、15、15:1、15:3、15:6、16、22、60、66; C.I.顏料綠7、36、37; C.I.顏料棕25、28; C.I.顏料黑1、7;碳黑等。
對於本發明,其特別是較佳地使用其結構式中具有鹼性N原子之顏料。具有鹼性N原子之顏料在本發明之組成物中呈現優良之分散性。其原因尚未完全清楚,但是推論受感光性組成物成分與顏料間之良好相容性影響。
至於可較佳地用於本發明之顏料,其可例示以下顏料,但是本發明不受其限制:C.I.顏料黃11、24、108、109、110、138、139、150、151 、154、167、180、185; C.I.顏料橙36、71; C.I.顏料紅122、150、171、175、177、209、224、242、254、255、264; C.I.顏料紫19、23、32; C.I.顏料藍15:1、15:3、15:6、16、22、60、66;及C.I.顏料碳黑1。
這些有機顏料可單獨使用,或者藉由將其不同地組合以增強顏色純度。以下顯示組合之實例。例如蒽醌為主顏料、苝為主顏料或二酮吡咯基吡咯為主顏料單獨作為紅色顏料,或者可使用其至少一種與重氮為主黃色顏料、異吲哚啉為主黃色顏料、喹酞酮為主黃色顏料、或苝為主紅色顏料之混合物。例如蒽醌為主顏料包括C.I.顏料紅177,苝為主顏料包括C.I.顏料紅155與C.I.顏料紅224,及二酮吡咯基吡咯為主顏料包括C.I.顏料紅254。由顏色再現力之觀點,其較佳為具C.I.顏料黃139之混合物。紅色顏料與黃色顏料間之質量比例較佳為100:5至100:50。在此比例為100:4或更小時,其難以抑制400奈米至500奈米之透光率,而且在某些情形無法增強顏色純度。此外在此比例為100:51或更大時,主波長朝向短波長,而且在某些情形對NTSC目標色調之偏差變大。特別地,此質量比例最適為100:10至100:30之範圍。在組合紅色顏料之情形,此比例可順應色度而調整。
至於綠色顏料,鹵化酞青為主顏料可單獨使用,或者 組合重氮為主黃色顏料、喹酞酮為主黃色顏料、偶氮次甲基為主黃色顏料、或異吲哚啉為主黃色顏料。其實例可較佳地包括C.I.顏料綠7、36、37,及具C.I.顏料黃83、C.I.顏料黃138、C.I.顏料黃139、C.I.顏料黃150、C.I.顏料黃180、或C.I.顏料黃185之混合物。綠色顏料與黃色顏料之質量比例較佳為100:5至100:150。特別地,此質量比例最適為100:30至100:120之範圍。
至於藍色顏料,酞青為主顏料可單獨使用,或者可使用其與二噁為主紫色顏料之混合物。其較佳為例如C.I.顏料藍15:6與C.I.顏料紫23之混合物。藍色顏料與黃色顏料之質量比例較佳為100:0至100:30,更佳為100:10或更小。
此外至於黑矩陣用顏料,其單獨使用碳、鈦碳、氧化鐵、與氧化鈦,或使用其混合物。其較佳為碳與鈦碳之組合。碳與鈦之質量比例較佳為100:0至100:60之範圍。
在用於彩色濾光片之情形,由顏色不規則性及對比之觀點,顏料之一級粒徑較佳為100奈米或更小,而且由分散液安定性之觀點,更佳為5奈米或更小。顏料之一級粒徑更佳為5至75奈米,甚至更佳為5至55奈米,而且特佳為5至35奈米。
顏料之一級粒徑可藉已知方法測定,如電子顯微鏡。
其中至於較佳顏料,其可使用蒽醌系列、偶氮次甲基系列、亞苄基系列、花青系列、二酮吡咯基吡咯系列、與酞青系列之顏料。
本發明係關於彩色濾光片用硬化性組成物,但是由改良著色圖案之顏色不規則性及對比的觀點,其較佳為包括一種可均勻地溶於組成物之染料作為著色劑(C)。
可作為包括於本發明硬化性組成物之著色劑的染料並未特別地限制,而且其可使用過去用於彩色濾光片之已知染料。例如其可使用JP-A第64-90403號、JP-A第64-91102號、JP-A第1-94301號、JP-A第6-11614號、日本專利第2,592,207號、美國專利第4,808,501號之說明書、美國專利第5,667,920號之說明書、美國專利第5,059,500號之說明書、JP-A第5-333207號、JP-A第6-35183號、JP-A第6-51115號、JP-A第6-194828號、JP-A第8-211599號、JP-A第4-249549號、JP-A第10-123316號、JP-A第11-302283號、JP-A第7-286107號、JP-A第2001-4823號、JP-A第8-15522號、JP-A第8-29771號、JP-A第8-146215號、JP-A第11-343437號、JP-A第8-62416號、JP-A第2002-14220號、JP-A第2002-14221號、JP-A第2002-14222號、JP-A第2002-14223號、JP-A第8-302224號、JP-A第8-73758號、JP-A第8-179120號、及JP-A第8-151531號專利等揭示之染料。
至於化學結構,其可使用吡唑基偶氮系列、苯胺基偶氮系列、三苯基甲烷系列、蒽醌系列、蒽吡啶酮系列、亞苄基系列、氧雜菁(oxonol)系列、吡唑基三唑系列、吡啶酮偶氮系列、花青系列、酚噻系列、吡咯基吡唑偶氮次甲基系列、 系列、酞青系列、苯并哌喃系列、與靛系列 。
此外在硬化性組成物之圖案曝光及曝光部分硬化後,將未曝光部分以水或鹼顯影去除而形成圖案,例如在形成光阻或彩色濾光片之著色圖案時,由完全地去除顯影造成之光未照射部分處的黏合劑與染料的觀點,在某些情形可適當地使用酸染料及/或其衍生物。
此外亦可有用地使用直接染料、鹼性染料、媒染劑染料、酸性染料、偶氮染料、分散染料、油溶性染料、食品染料及/或其衍生物。
酸性染料並未特別地限制,只要其為具有酸性基之染料,如磺酸或羧酸,但是其係考量所有必要特性而選擇,如在有機溶劑與顯影劑中之溶解度、與鹼性化合物形成鹽之能力、吸收度、與組成物中其他成分之共反應、光安定性、及耐熱性。
以下為酸性染料之實例,然而本發明不受其限制。實例包括:酸茜素紫N;酸黑1、2、24、48;酸藍1、7、9、15、18、23、25、27、29、40、42、45、51、62、70、74、80、83、86、87、90、92、96、103、112、113、120、129、138、147、150、158、171、182、192、210、242、243、256、259、267、278、280、285、290、296、315、324:1、335、340;酸鉻紫K; 酸品紅;酸綠1、3、5、9、16、25、27、50、58、63、65、80、104、105、106、109;酸橙6、7、8、10、12、26、50、51、52、56、62、63、64、74、75、94、95、107、108、169、173;酸紅1、4、8、14、17、18、26、27、29、31、34、35、37、42、44、50、51、52、57、66、73、80、87、88、91、92、94、97、103、111、114、129、133、134、138、143、145、150、151、158、176、182、183、198、206、211、215、216、217、227、228、249、252、257、258、260、261、266、268、270、274、277、280、281、195、308、312、315、316、339、341、345、346、349、382、383、394、401、412、417、418、422、426;酸紫6B、7、9、17、19;酸黃1、3、7、9、11、17、23、25、29、34、36、38、40、42、54、65、72、73、76、79、98、99、111、112、113、114、116、119、123、128、134、135、138、139、140、144、150、155、157、160、161、163、168、169、172、177、178、179、184、190、193、196、197、199、202、203、204、205、207、212、214、220、221、228、230、232、235、238、240、242、243、251;直接黃2、33、34、35、38、39、43、47、50、54、58、68、69、70、71、86、93、94、95、98、102、108、109、129、136、138、141; 直接橙34、39、41、46、50、52、56、57、61、64、65、68、70、96、97、106、107;直接紅79、82、83、84、91、92、96、97、98、99、105、106、107、172、173、176、177、179、181、182、184、204、207、211、213、218、220、221、222、232、233、234、241、243、246、250;直接紫47、52、54、59、60、65、66、79、80、81、82、84、89、90、93、95、96、103、104;直接藍57、77、80、81、84、85、86、90、93、94、95、97、98、99、100、101、106、107、108、109、113、114、115、117、119、137、149、150、153、155、156、158、159、160、161、162、163、164、166、167、170、171、172、173、188、189、190、192、193、194、196、198、199、200、207、209、210、212、213、214、222、228、229、237、238、242、243、244、245、247、248、250、251、252、256、257、259、260、268、274、275、293;直接綠25、27、31、32、34、37、63、65、66、67、68、69、72、77、79、82;媒染劑黃5、8、10、16、20、26、30、31、33、42、43、45、56、50、61、62、65;媒染劑橙3、4、5、8、12、13、14、20、21、23、24、28、29、32、34、35、36、37、42、43、47、48;媒染劑紅1、2、3、4、9、11、12、14、17、18、19、22 、23、24、25、26、30、32、33、36、37、38、39、41、43、45、46、48、53、56、63、71、74、85、86、88、90、94、95;媒染劑紫2、4、5、7、14、22、24、30、31、32、37、40、41、44、45、47、48、53、58;媒染劑藍2、3、7、8、9、12、13、15、16、19、20、21、22、23、24、26、30、31、32、39、40、41、43、44、48、49、53、61、74、77、83、84;媒染劑綠1、3、4、5、10、15、19、26、29、33、34、35、41、43、53;食品黃3;及這些染料之衍生物。
以上酸染料中較佳為如酸黑24;酸藍23、25、29、62、80、86、87、92、138、158、182、243、324:1;酸橙8、51、56、74、63;酸紅1、4、8、34、37、42、52、57、80、97、114、143、145、151、183、217、249;酸紫7;酸黃17、25、29、34、42、72、76、99、111、112、114、116、134、155、169、172、184、220、228、230、232、243;酸綠25之染料,及這些染料之衍生物。
除了以上染料,亦較佳為偶氮系列、 系列與酞青 系列之酸染料,而且亦較佳為使用如C.I.溶劑藍44、38; C.I.溶劑橙45;玫瑰紅B與玫瑰紅110之酸染料,及這些染料之衍生物。
其中著色劑(C)較佳為一種選自三烯丙基甲烷系列、蒽醌系列、偶氮次甲基系列、亞苄基系列、氧雜菁系列、花青系列、酚噻系列、吡咯基吡唑偶氮次甲基系列、 系列、酞青系列、苯并哌喃系列、靛系列、吡唑基偶氮系列、苯胺基偶氮系列、吡唑基三唑偶氮系列、吡啶酮偶氮系列、與蒽吡啶酮系列之著色劑。
在考量將其用於形成彩色濾光片之著色圖案時,著色劑在本發明硬化性組成物中之含量較佳為30至85質量%,更佳為40至80質量%,而且最佳為50至75質量%之範圍。
<其他成分>
[其他黏合劑樹脂] 除了用於改良塗膜特性之指定聚合性黏合劑(D),本發明之硬化性組成物可包括無聚合力之其他黏合劑樹脂(以下簡稱為「黏合劑聚合物」)。
至於(D)以外之已知黏合劑聚合物,其可較佳地使用線形有機聚合物。其可任意地使用已知之「線形有機聚合物」。其較佳為選擇在水或弱鹼水中可溶解或可膨脹之線形有機聚合物而可水顯影或弱鹼水顯影。線形有機聚合物係依照作為薄膜形成劑及可以水、弱鹼水或有機溶劑顯影之試劑的用途而選擇性。例如在使用水溶性有機聚合物時,其 可進行水顯影。此線形有機聚合物之實例包括各在側鏈上具有羧酸基之自由基聚合物,如藉由同元聚合或共聚合具有羧基之單體而得之樹脂;藉由同元聚合或共聚合具有酸酐之單體,然後將酸酐單元水解或半酯化或半醯胺化而得之樹脂;及藉由以不飽和單羧酸與酸酐修改環氧樹脂而得之環氧基丙烯酸酯,如JP-A第59-44615號、JP-B第54-34327號、JP-B第58-12577號、JP-B第54-25957號、JP-A第54-92723號、JP-A第59-53836號、及JP-A第59-71048號專利所述。至於具有羧基之單體,其為丙烯酸、甲基丙烯酸、伊康酸、巴豆酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、4-羧基苯乙烯等。至於具有酸酐之單體,其為順丁烯二酸酐等。
此外有在側鏈上具有羧酸基之酸性纖維素衍生物。此外亦可使用將環形酸酐加入具有羥基之聚合物而得之加成物。
在使用鹼溶性樹脂作為共聚物之情形,欲共聚合之化合物可為上述以外之任何單體。其他單體之實例包括以下化合物(1)至(12)。
(1)具有脂族羥基之丙烯酸酯與甲基丁烯二酸,如丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯酸3-羥基丙酯、丙烯酸4-羥基丁酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基丙酯、甲基丙烯酸3-羥基丙酯、與甲基丙烯酸4-羥基丁酯。
(2)丙烯酸烷酯,如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙 酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸己酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸2-氯乙酯、丙烯酸環氧丙酯、丙烯酸3,4-環氧基環己基甲酯、丙烯酸乙烯酯、丙烯酸2-苯基乙烯酯、丙烯酸1-丙烯酯、丙烯酸烯丙酯、丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、與丙烯酸炔丙酯。
(3)甲基丙烯酸烷酯,如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸2-氯乙酯、甲基丙烯酸環氧丙酯、甲基丙烯酸3,4-環氧基環己基甲酯、甲基丙烯酸乙烯酯、甲基丙烯酸2-苯基乙烯酯、甲基丙烯酸1-丙烯酯、甲基丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、與甲基丙烯酸炔丙酯。
(4)丙烯醯胺或甲基丙烯醯胺,如丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、N-乙基丙烯醯胺、N-己基甲基丙烯醯胺、N-環己基丙烯醯胺、N-羥基乙基丙烯醯胺、N-苯基丙烯醯胺、N-硝基苯基丙烯醯胺、N-乙基-N-苯基丙烯醯胺、乙烯基丙烯醯胺、乙烯基甲基丙烯醯胺、N,N-二烯丙基丙烯醯胺、N,N-二烯丙基甲基丙烯醯胺、烯丙基丙烯醯胺、與烯丙基甲基丙烯醯胺。
(5)乙烯基醚,如乙基乙烯基醚、2-氯乙基乙烯基醚、羥基乙基乙烯基醚、丙基乙烯基醚、丁基乙烯基醚、辛 基乙烯基醚、與苯基乙烯基醚。
(6)乙烯酯,如乙酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、與苯甲酸乙烯酯。
(7)苯乙烯,如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、甲基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、與對乙醯氧基苯乙烯。
(8)乙烯基酮,如甲基乙烯基酮、乙基乙烯基酮、丙基乙烯基酮、與苯基乙烯基酮。
(9)烯烴,如乙烯、丙烯、異丁烯、丁二烯、與異戊二烯。
(10)N-乙烯基吡咯啶酮、丙烯腈、甲基丙烯腈等。
(11)不飽和醯亞胺,如順丁烯二醯亞胺、N-丙烯醯基丙烯醯胺、N-乙醯基甲基丙烯醯胺、N-丙醯基甲基丙烯醯胺、N-(對氯苯甲醯基)甲基丙烯醯胺。
(12)其中將雜原子鍵結其α-位置之甲基丙烯酸為主單體,例如JP-A第2002-309057號專利之說明書、日本專利第2002-311569號專利之說明書所述之化合物。
其中在側鏈上具有烯丙基或乙烯酯基與羧基之(甲基)丙烯酸樹脂、JP-A第2000-187322號及JP-A第2002-62698號專利所述在側鏈上具有雙鍵之鹼溶性樹脂、及JP-A第2001-242612號專利所述在側鏈上具有醯胺基之鹼溶性樹脂的薄膜強度、敏感度與顯影力間平衡優良而較佳。
此外JP-B第7-12004號、JP-B第7-120041號、JP-B第7-120042號、JP-B第8-12424號、JP-A第63-287944號、JP-A第63-287947號、JP-A第1-271741號專利、及 日本專利申請案第10-116232號所述具有酸基之胺基甲酸酯為主黏合劑聚合物、及JP-A第2002-107918號專利所述在側鏈上具有酸基與雙鍵之胺基甲酸酯為主黏合劑聚合物的強度非常優良,因此因低曝光適用性而有利。
歐洲專利第993966號、歐洲專利第1204000號及JP-A第2001-318463號專利所述具有酸基之經縮醛修改聚乙烯醇為主黏合劑聚合物的薄膜強度與顯影力間平衡優良而適合。
此外至於水溶性線形有機聚合物,其可使用聚乙烯基吡咯啶酮與聚環氧乙烷。此外為了增強硬化薄膜之強度,亦可使用醇溶性耐綸、及2,2-貳(4-羥基苯基)丙烷與表氯醇之多醚。
其他黏合劑聚合物之重量平均分子量較佳為5,000或更大,而且更佳為10,000至300,000之範圍,及數量平均分子量較佳為1,000或更大,而且更佳為2,000至250,000之範圍。多分散性(重量平均分子量/數量平均分子量)較佳為1或更大,而且更佳為1.1至10之範圍。
這些樹脂可為任何無規聚合物、嵌段聚合物與接枝聚合物。
黏合劑聚合物可依照傳統上已知方法合成。用於合成之溶劑可例示為四氫呋喃、二氯乙烷、環己酮、甲乙酮、丙酮、甲醇、乙醇、乙二醇一甲醚、乙二醇一乙醚、乙酸2-甲氧基乙酯、二乙二醇二甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、乙酸1-甲氧基-2-丙酯、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺 、甲苯、乙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、二甲基亞碸、水等。這些溶劑可單獨或以二或更多種之組合使用。
依照本發明用於黏合劑聚合物合成之自由基聚合抑制劑可例示為已知化合物,如偶氮為主抑制劑或過氧化物抑制劑。
由顏料分散液隨時間經過之安定性與顯影力間平衡之觀點,其他黏合劑聚合物之含量相對本發明硬化性組成物之總共體含量較佳為5至60質量%,更佳為7至50質量%,而且最佳為10至40質量%之範圍。
如果需要,則本發明之硬化性組成物可進一步包括下述選用組分。
[分散劑] 在本發明之硬化性組成物包括顏料作為著色劑(C)之情形,由改良顏料之分散力的觀點,其較佳為加入分散劑。
至於可用於本發明之分散劑(顏料分散劑),其為巨分子分散劑[例如多醯胺胺與其鹽、多羧酸與其鹽、高分子量不飽和酸酯、經修改聚胺基甲酸酯、經修改聚酯、經修改聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸酯為主共聚物、及萘磺酸-甲醛縮合產物]、聚氧伸乙基烷基磷酸酯、聚氧伸乙基烷基胺、烷醇胺、顏料衍生物等。
巨分子分散劑按其結構可進一步分類成線形聚合物、終端經修改聚合物、接枝型聚合物、及嵌段型聚合物。
巨分子分散劑吸附於顏料表面上以防止再凝集。因此 可例示具有顏料表面用固定位置者,如終端經修改聚合物、接枝型聚合物及嵌段型聚合物作為具有較佳結構者。顏料衍生物修改顏料表面,因而有效地增強巨分子分散劑之吸附。
可用於本發明之顏料分散劑的指定實例包括BYK Chemie製造之「Disperbyk-101(聚醯胺基胺磷酸酯)、107(羧酸酯)、110(含酸基之共聚產物)、130(多醯胺)、161、162、163、164、165、166、170(高分子量共聚物)」及「BYK-P104、P105(高分子量不飽和聚羧酸)」;EFKA製造之「EFKA4047、4050、4010、4165(聚胺基甲酸酯系統)、EFKA4330與4340(嵌段共聚物)、4400、4402(經修改聚丙烯酸酯)、5010(聚酯醯胺)、5765(高分子量聚羧酸)、6220(脂族聚酯)、6745(酞青衍生物)、與6750(偶氮顏料衍生物)」;Ajinomoto-Fine-Techno Co., Inc.製造之「AJISPER PB-821與PB-822」;KYOEISHA CHEMICAL Co., LTD.製造之「FLOWLEN TG-710(胺基甲酸酯寡聚物)與POLYFLOW No. 50E、No. 300(丙烯酸型共聚物)」;Kusumoto Chemicals, Ltd.製造之「DISPARLON KS-860、873SN、874、#2150(脂族多羧酸)、#7004(多醚酯)、DA-703-50、DA-705、DA-725」;Kao Corporation製造之「DEMOL RN、N(萘磺酸甲醛多縮合物)、MS、C、與SN-B(芳族磺酸酯甲醛多縮合物)」、「HOMOGENOL L-18(聚合物多羧酸)」、「EMULGEN 920、930、935、與985(聚氧伸乙基壬基苯基醚)」、及「ACETAMINE 86 (硬脂胺乙酸酯);Lubrizol Corporation製造之「Solsperse 5000(酞青衍生物)、22000(偶氮顏料衍生物)、13240(聚酯胺)、3000、17000、27000(末端具有官能基部分之聚合物)、24000、28000、32000、與38500(接枝型聚合物)」;Nikko Chemicals製造之「NIKKOL T106(聚氧伸乙基山梨醇酐單油酸酯)、MYS-IEX(聚氧伸乙基單硬脂酸酯)」等。
這些分散劑可單獨或以二或更多種之組合使用。本發明特佳為組合使用顏料衍生物與巨分子分散劑。
分散劑在本發明中之含量相對顏料較佳為1至100質量%,更佳為3至100質量%,而且甚至更佳為5至80質量%之範圍。
特別是在使用巨分子分散劑之情形,其使用量相對顏料較佳為5至100質量%之範圍,而且更佳為10至80質量%之範圍。同時在使用顏料衍生物之情形,其使用量相對顏料較佳為1至30質量%,更佳為3至20質量%,而且特佳為5至15質量%之範圍。
在本發明中使用顏料與分散劑之情形,由硬化敏感度及顏色密度之觀點,顏料與分散劑之總含量相對組成硬化性組成物之總固體含量較佳為35至90質量%,更佳為45至85質量%,而且甚至更佳為50至80質量%之範圍。
[敏化劑] 為了改良聚合引發劑(B)之自由基產生效率及加寬曝光波長,在本發明之彩色濾光片用硬化性組成物較佳為包 括一種敏化劑。可用於本發明之敏化劑較佳為一種藉電子轉移機構或能量轉移機構敏化光聚合引發劑之敏化劑。
可用於本發明之敏化劑可提及屬於以下例示化合物且在300至450奈米之區域具有吸收帶者。
敏化劑之較佳實例包括屬於以下化合物且在330至450奈米之區域具有吸收帶者。
實例包括多核芳族化合物(例如菲、蒽、芘、苝、三苯烯、9,10-二烷氧基蒽)、 (例如螢光黃、曙紅、赤藻辛、玫瑰紅B、孟加拉紅)、硫 (異丙基硫 、二乙基硫 、氯硫 )、花青(例如噻羰花青、噁羰花青)、品花青(例如品花青、羰品花青)、酞青、噻(例如噻嚀、甲基藍、甲苯胺藍)、吖啶(例如吖啶橙、氯黃素、吖啶黃素)、蒽醌(例如蒽醌)、三十碳六唑(squalium)(例如三十碳六唑)、吖啶橙、闊馬靈(例如7-二乙胺基-4-甲基闊馬靈)、酮闊馬靈、啡噻、啡、苯乙烯基苯、偶氮化合物、二苯基甲烷、三苯基甲烷、二苯乙烯基苯、咔唑、卟啉、螺化合物、喹吖啶、靛、苯乙烯基、吡喃鎓(pyrylium)化合物、吡咯甲川化合物、吡唑基三唑化合物、苯并噻唑化合物、巴比妥酸衍生物、硫巴比妥酸衍生物、芳族酮化合物(如苯乙酮、二苯基酮、9-氧硫 、與米其勒酮)、雜環化合物(如N-芳氧噁唑啶二酮)等。其他實例包括歐洲專利第568,993號之說明書、美國專利第4,508,811及5,227,227號之說明書、JP-A第2001-125255號、JP-A第11-271969號專利等所述之化合物。
至於敏化劑之更佳實例,其可提及由下式(i)至(iv)表示之化合物。
在式(i)中,A1 為硫原子或NR50 ,而R50 為烷基或芳基;L2 為結合相鄰A1 及相鄰碳原子形成染料之鹼性核的非金屬原子基;R51 與R52 各獨立地為氫原子或單價非金屬原子基,其中R51 與R52 可彼此鍵結形成染料之酸性核;及W為氧原子或硫原子。
在式(ii)中,Ar1 與Ar2 各獨立地為芳基,其經-L3 -鍵鍵聯,其中L3 為-O-或-S-;及W具有如式(i)之相同意義。
在式(iii)中,A2 為硫原子或NR59 ; L4 為結合相鄰A2 及碳原子形成染料之鹼性核的非金屬原子基;及R53 、R54 、R55 、R56 、R57 、與R58 各獨立地為單價非金屬原子基;其中R59 為烷基或芳基。
在式(iv)中,A3 與A4 各獨立地為-S-、-NR62 -或-NR63 -,而R62 與R63 各獨立地為經取代或未取代烷基、或經取代或未取代芳基;L5 及L6 各獨立地為各結合相鄰A3 與A4 及相鄰碳原子形成染料之鹼性核的非金屬原子基;R60 與R61 各獨立地為單價非金屬原子基,或者其可彼此鍵結形成脂環或芳環。
此外至於較佳地包括於本發明硬化性組成物之敏化劑,除了上述,其可提及至少一種選自由下式(IV)至(VI)表示之化合物。其可單獨或以二或更多種之組合使用。
在式(IV)及(V)中,R1 與R2 各獨立地為單價取代基; R3 、R4 、R5 、與R6 各獨立地為氫原子或單價取代基;及n為0至5之整數,及n'為0至5之整數,其中n與n'不同時為0。在n為2或更大時,多個R1 可為彼此相同或不同,及在n'為2或更大時,多個R2 可為彼此相同或不同。
由敏感度及在包括顏料之情形的著色力之觀點,由式(IV)表示之化合物較佳為由下式(IV-1)表示之化合物。
在式(IV-1)中,R1 與R2 各獨立地為單價取代基;及n為0至5之整數,及n'為1至5之整數。在n為2或更大時,多個R1 可為彼此相同或不同。在n'為2或更大時,多個R2 可為彼此相同或不同。
在式(IV-1)中,由R1 與R2 表示之單價取代基具有如式(IV)中單價取代基之相同意義,而且較佳範圍亦相同。
對於由式(IV)及(V)表示之化合物,在波長365奈米之莫耳消光系數ε較佳為500莫耳-1 .L.公分-1 或更大,更佳為3,000莫耳-1 .L.公分-1 或更大,而且最佳為20,000莫耳-1 .L.公分-1 或更大。在各波長之莫耳消光系數ε為以上範圍時,由吸光效率之觀點,敏感度高度地改良,因此較佳。
在此莫耳消光系數ε係藉由在1-甲氧基-2-丙醇中製備濃度為0.01克/公升之染料溶液作為樣品,測量樣品在365奈米之穿透光譜,然後由樣品之UV-可見光吸收光譜測定吸收度而得。使用之測量裝置為Varian Corp.製造之Cary 5G UV-Vis-MR光譜光度計光譜測高計。
以下顯示由式(IV)或(V)表示之較佳化合物的指定實例,但是本發明不受其限制。
在本說明書中有化學式係以簡化結構式顯示之情形,而且特別是以無元素或取代基之實線等表示烴基。在以下指定實例中,Me表示甲基,Et表示乙基,Bu表示丁基,n-Bu表示正丁基,及Ph表示苯基。
在式(VI)中,A為視情況地經取代芳環或雜環;X為氧原子、硫原子或-N(R3 )-; Y為氧原子、硫原子或-N(R3 )-;及R1 、R2 與R3 各獨立地為氫原子或單價非金屬原子基,而A、R1 、R2 、與R3 可彼此鍵結形成脂環或芳環。
在式(VI)中,R1 、R2 與R3 各獨立地為氫原子或單價非金屬原子基。在R1 、R2 與R3 各為單價非金屬原子時,其較佳為經取代或未取代烷基、經取代或未取代芳基、經取代或未取代烯基、或經取代或未取代芳族雜環殘基、經取代或未取代烷氧基、經取代或未取代烷硫基、羥基、或鹵素原子。
由改良光聚合引發劑之解析度效率的觀點,在由式(VI)表示之化合物中,Y較佳為氧原子或-N(R3 )-。R3 為氫原子或單價非金屬原子基。此外Y最佳為-N(R3 )-。
以下顯示由式(VI)表示之較佳化合物的指定實例(VI1)至(VI124),但是本發明不受其限制。由於鍵聯酸性核與鹼性核之雙鍵造成之異構物不明確,而且本發明不限於任何異構物。
關於本發明相關之由式(VI)表示之化合物,為了改良硬化性組成物之特性,其可接受各種化學修改。
例如敏化染料與加成聚合性化合物結構(例如丙烯醯基或甲基丙烯醯基)可藉共價鍵、離子鍵、氫鍵等鍵聯,因而強化經曝光薄膜且敏化染料在防止曝光後自薄膜之不必要沉澱。
此外藉由鍵聯敏化染料與一部分在上述光聚合引發劑中可產生自由基之結構(例如可還原降解部分,如鹵化烷基、鎓鹽、過氧化物、或二咪唑,或可氧化分離部分,如硼酸基、胺、三甲基矽烷基甲基、羧基甲基、羰基、或亞胺),其可顯著地增加特別是低密度引發系統之敏感度。
在本發明之硬化性組成物中,任何由式(IV)至(VI)表示之化合物可單獨或以二或更多種之組合使用。
在硬化性組成物中之顏料密度極高且欲形成著色圖案(感光層)之透光率極低之情形,特別是在未加入敏化染料而形成之感光層在365奈米之透光率為10%或更低之情形,加入任何由以上式(IV)至(VI)表示之化合物則顯示顯著之效果。由以上式(IV)至(VI)表示之化合物中最佳為由式(VI)表示之化合物,而且特別地最佳為化合物(VI56)至 (VI122)。
敏化劑可單獨或以二或更多種組合使用。
由深入區域之吸光效率及引發分解效率的觀點,敏化劑在本發明硬化性組成物中之含量相對硬化性組成物之總固體含量較佳為0.1至20質量%,更佳為0.5至15質量%之範圍。
[共敏化劑] 亦較佳為本發明之硬化性組成物包括一種共敏化劑。在本發明中,共敏化劑具有進一步改良敏化劑或引發劑對活性輻射之敏感度,或防止聚合性化合物因氧抑制聚合的效果。
此共敏化劑之實例包括胺,例如M. R. Sander等人之"Journal of Polymer Society",第10卷,第3173頁(1972)、JP-B第44-20189號、JP-A第51-82102號、JP-A第52-134692號、JP-A第59-138205號、JP-A第60-84305號、JP-A第62-18537號、JP-A第64-33104號專利、及Research Disclosure No. 33825所述之化合物,特別是三乙醇胺、對二甲胺基苯甲酸乙酯、對甲醯基二甲基苯胺、對甲基硫二甲基苯胺等。
共敏化劑之其他實例包括硫醇與硫化物,例如JP-A第53-702號、JP-B第55-500806號及JP-A第5-142772號專利所述之硫醇化合物、及JP-A第56-75643號專利所述之二硫化物化合物,特別是2-巰基苯并噻唑、2-巰基苯并噁唑、2-巰基苯并咪唑、2-巰基-4(3H)-喹唑啉、與β-巰基萘 。
此外共敏化劑之其他實例包括胺基酸化合物(例如N-苯基甘胺酸等)、JP-B第48-42965號專利所述之有機金屬化合物(例如乙酸三丁錫等)、JP-B第55-34414號專利所述之予氫化合物、及JP-A第6-308727號專利所述之硫化合物(例如三噻唍等)。
由因聚合生長速率與鏈轉移間平衡改良硬化速率之觀點,共敏化劑之含量相對硬化性組成物之總固體含量的質量較佳為0.1至30質量%,更佳為0.5至25質量%,而且甚至更佳為1.0至20質量%之範圍。
[聚合抑制劑] 在本發明中希望加入少量之熱聚合抑制劑,以在製造或保存硬化性組成物時抑制具有聚合性乙烯不飽和雙鍵之化合物的不欲熱聚合。
至於可用於本發明之熱聚合抑制劑,其為氫醌、對甲氧基酚、二第三丁基-對甲酚、五倍子酚、第三丁基兒茶酚、苯醌、4,4'-硫貳(3-甲基-6-第三丁基酚)、2,2'-亞甲基貳(4-甲基-6-第三丁基酚)、N-亞硝基苯基羥基胺鈰鹽等。
熱聚合抑制劑之加入量相對全部組成物之質量較佳為約0.01質量%至約5質量%。如果需要,為了防止因氧抑制聚合,其可加入高碳脂肪酸衍生物,如蘿酸與蘿酸醯胺,而在塗覆後之乾燥程序期間不均勻地分布在感光層表面上。高碳脂肪酸衍生物之加入量較佳為全部組成物之約0.5 質量%至約10質量%。
[其他添加劑] 此外在本發明中,為了改良硬化塗膜之性質,亦可包括已知添加劑,如塑性劑或無機填料,如用於改良感光層表面之墨水接受力的敏化劑、或用於改良基板黏附性之基板黏著劑。
塑性劑之實例包括酞酸二辛酯、酞酸二-十二碳酯、三乙二醇二辛酸酯、二甲二醇酞酸酯、三甲苯酚磷酸酯、己二酸二辛酯、癸二酸二丁酯、三乙醯基甘油等。在使用黏合劑之情形,塑性劑可加入相對具有乙烯不飽和雙鍵之化合物與黏合劑的總質量為10質量%。
在將本發明之硬化性組成物塗布在硬材料表面(如基板)時,亦可加入一種用於改良對硬材料表面之黏著性的添加劑(以下稱為「基板黏著劑」)。
至於基板黏著劑,其可使用已知材料,特別是較佳地使用矽烷為主偶合劑、鈦酸酯為主偶合劑或鋁為主偶合劑。
至於矽烷偶合劑,其為例如γ-(2-胺基乙基)胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基二甲氧基矽烷、β-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-丙烯氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-異氰酸基丙基三甲氧基矽烷、γ-異氰酸基 丙基三乙氧基矽烷、N-β-(N-乙烯基苄基胺基乙基)-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷.鹽酸鹽、γ-環氧丙基丙基三甲氧基矽烷、γ-環氧丙基丙基三乙氧基矽烷、胺基矽烷、γ-巰基丙基三甲氧基矽烷、γ-巰基丙基三乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、γ-氯丙基三甲氧基矽烷、伸己基二矽氮烷、γ-苯胺基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基參(β-甲氧基乙氧基)矽烷、氯化十八碳基二甲基[3-(三甲氧基矽烷基)丙基]銨、γ-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-巰基丙基甲基二甲氧基矽烷、甲基三氯矽烷、二甲基二氯矽烷、三甲基氯矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、貳烯丙基三甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、貳(三甲氧基矽烷基)己烷、苯基三甲氧基矽烷、N-(3-丙烯氧基-2-羥基丙基)-3-胺基丙基三乙氧基矽烷、N-(3-甲基丙烯氧基-2-羥基丙基)-3-胺基丙基三乙氧基矽烷、(甲基丙烯氧基甲基)甲基二乙氧基矽烷、(丙烯氧基甲基)甲基二甲氧基矽烷等。
其中較佳為γ-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-丙烯氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-巰基丙基三甲氧基矽烷、γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、與苯基三甲氧基矽烷,而且最佳為γ-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷。
至於鈦酸酯為主偶合劑,其為例如異丙基三異硬脂醯基鈦酸酯、異丙基十三碳基苯磺醯基鈦酸酯、異丙基參( 二辛基焦磷酸酯)鈦酸酯、四異丙基貳(二辛基亞磷酸酯)鈦酸酯、四辛基貳(二-十三碳基亞磷酸酯)鈦酸酯、四(2,2-二烯丙氧基甲基)貳(二-十三碳基)磷酸酯鈦酸酯、貳(二辛基焦磷酸酯)氧乙酸酯鈦酸酯、貳(二辛基焦磷酸酯)伸乙基鈦酸酯、異丙基三辛醯基鈦酸酯、異丙基二甲基丙烯基異硬脂醯基鈦酸酯、異丙基異硬脂醯基二丙烯基鈦酸酯、三異丙基三(二辛基磷酸酯)鈦酸酯、異丙基三異丙苯基苯基鈦酸酯、異丙基三(N-醯胺基乙基.胺基乙基)鈦酸酯、二異丙苯基苯基氧乙酸酯鈦酸酯、二異硬脂醯基伸乙基鈦酸酯等。
至於鋁為主偶合劑,其為例如二異丙化乙醯烷氧基鋁等。
由防止殘渣殘留在硬化性組成物之未曝光區域上的觀點,基板黏著劑之含量相對本發明硬化性組成物之總固含量較佳為0.1至30質量%,更佳為0.5至20質量%,而且特佳為1至10質量%之範圍。
本發明之硬化性組成物係以高敏感度硬化,而且儲存安定性優良。此外硬化性組成物對於形成彩色濾光片之著色圖案特別有用,因為其對塗布硬化性組成物之硬材料表面(如基板)呈現高黏著性。
<彩色濾光片及其製法>
以下解釋本發明之彩色濾光片及其製法。
本發明之彩色濾光片特徵為其具有在撐體上使用本發明硬化性組成物之著色圖案。
以下參考其製法(用於製造本發明彩色濾光片之方法)詳述本發明之彩色濾光片。
本發明特徵為包括藉由將本發明之硬化性組成物塗布在撐體上而由硬化性組成物形成著色薄膜;使著色薄膜經光罩曝光;及將曝光之著色薄膜顯影形成著色圖案之步驟。
以下解釋本發明製法之各步驟。
<著色薄膜形成步驟>
在形成著色薄膜之步驟中,其將本發明之硬化性組成物塗布在撐體上而由硬化性組成物形成著色薄膜。
可用於本步驟之撐體的實例包括鈉玻璃、Pyrex(註冊商標)玻璃、石英玻璃、用於液晶顯示器元件、用於影像攝影元件之光電轉換元件基板(例如矽基板、與互補金屬氧化物薄膜半導體(CMOS))的附有透明感應膜之玻璃。在某些情形,其在這些基板上形成隔離各像素之黑條。
如果必要,則在這些撐體上可設定底塗層以改良對上層之黏附性,防止物質擴散,及使基板表面平坦。
至於將本發明之硬化性組成物塗布在撐體上之方法,其可使用各種塗布方法,如縫塗、噴墨法、旋塗、流動流延塗覆、輥塗、網版印刷等。
由使塗膜產生均勻薄膜厚度及易於乾燥塗料溶劑之觀點,本發明之硬化性組成物恰在塗布後之薄膜厚度較佳為0.1至10微米,更佳為0.2至5微米,而且甚至更佳為0.2至3微米之範圍。
塗覆在基板上之著色薄膜(硬化性組成物薄膜)之乾燥(前烘烤)可在溫度為50至140℃間之加熱板或烤箱實行10至300秒。
由形成平坦LCD之能力及確保顏色密度的觀點,在用於LCD用彩色濾光片之情形,乾燥後之硬化性組成物的塗膜厚度(以下稱為乾膜厚度)較佳為0.1至小於2.0微米,更佳為0.2至1.8微米,而且特佳為0.3至1.75微米之範圍。
由得到顏色密度,及減少如對角光未到達光接收區域或裝置之末端與中心間光濃度差變顯著的問題之觀點,在用於IS用彩色濾光片之情形,厚度較佳為0.05至小於1.0微米,更佳為0.1至0.8微米,而且特佳為0.2至0.7微米之範圍。
<曝光步驟>
在曝光步驟中,在上述著色薄膜形成步驟中形成之著色薄膜(硬化性組成物薄膜)係經具有預定光罩圖案之光罩曝光。
對於本步驟之曝光,塗膜之圖案曝光可藉由經預定光罩圖案曝光,僅硬化,塗膜之經照射區域,以顯影劑顯影,因而形成包括各色(3或4色)之像素的圖案塗膜而進行。至於可用於曝光之輻射,其特別地較佳為UV射線輻射,如g-線、i-線等。照射劑量較佳為5至1,500毫焦耳/平方公分,更佳為10至1,000毫焦耳/平方公分,而且最佳為10至500毫焦耳/平方公分。
在本發明之彩色濾光片係用於液晶顯示器裝置時,照射劑量較佳為5至200毫焦耳/平方公分,更佳為10至150毫焦耳/平方公分,而且最佳為10至100毫焦耳/平方公分之範圍。在本發明之彩色濾光片係用於固態影像攝影裝置時,照射劑量較佳為30至1,500毫焦耳/平方公分,更佳為50至1,000毫焦耳/平方公分,而且最佳為80至500毫焦耳/平方公分之範圍。
<顯影步驟>
在繼而進行鹼顯影處理(顯影步驟)時,其將曝光之光未照射部分以鹼水溶液溶離而僅留下光硬化部分。顯影劑希望為一種不造成基板電路損壞等之有機鹼顯影劑。顯影溫度通常為20至30℃,及顯影時間通常為20至90秒。
可用於顯影劑之鹼劑的實例包括有機鹼化合物,如氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、氫氧化四甲銨、氫氧化四乙銨、膽鹼、吡咯、哌啶、與1,8-二氮二環-[5,4,0]-7-十一烯,而且將這些鹼劑以純水稀釋使得鹼劑濃度為0.001至10質量%,較佳為0.01至1質量%,因而得產生可較佳地作為顯影劑之鹼水溶液。在使用此鹼水溶液作為顯影劑時,其通常以水清洗(沖洗)著色圖案。
繼而清除額外顯影劑,及將經清洗薄膜乾燥。
在本發明之製法中,在進行上述著色層形成步驟、曝光步驟及顯影步驟後,如果必要,則亦可進行包括藉加熱硬化(後烘烤)及/或使所形成著色圖案曝光之硬化步驟。 後烘烤為顯影後完成硬化之熱處理,而且其通常在100℃至240℃實行熱硬化處理。在基板為玻璃基板或矽基板時,其較佳為以上溫度範圍之200℃至240℃。
此後烘烤處理可使用如加熱板、對流烤箱(熱空氣循環乾燥器)、及高頻加熱機之加熱器,連續地或以分批方式實行,使得顯影後之塗膜處於以上條件下。
具有所需色調組成之彩色濾光片可藉由對應所需色調之數量重複上述之著色薄膜形成步驟、曝光步驟及顯影程序(又必要時則硬化步驟)而製備。
對於本發明硬化性組成物之應用,其主要僅提及對彩色濾光片用像素之應用,但是此硬化性組成物亦可應用於提供於彩色濾光片之像素間的黑矩陣。黑矩陣可以如製備像素之方法的相同方式形成,如使圖案曝光,鹼顯影,然後後烘烤,除了在本發明之硬化性組成物中使用黑色顏劑(如添加碳黑與鈦黑之試劑)作為著色劑。
由於本發明之彩色濾光片使用本發明之硬化性組成物,所形成著色圖案對撐體基板呈現高黏著性,而且由於經硬化組成物之顯影力優良,其呈現優良之曝光敏感度及基板曝光部分黏著性,因而形成提供所需橫切面形狀之高解析度圖案。因而本發明適合液晶顯示器與固態影像攝影裝置,如CCD,特別是適合具有1,000,000個像素或更多之高解析度CCD裝置、CMOS等。本發明之彩色濾光片可作為例如配置於組成CCD之像素的光接收部分及用於匯集光之微透鏡間的彩色濾光片。
實例
以下參考實例詳述本發明,但是本發明不受其限制。[具有指定官能基之化合物的合成例]
<化合物(i-1)之合成> 對裝有58.6克之丙烯酸2-羥基乙酯的500毫升三頸燒瓶加入250毫升之丙酮,而且攪拌混合物。對其加入39.2克之吡啶與0.1克之對甲氧基酚,然後在充填冰水之冰浴中冷卻。在混合溶液達到5℃或更低時,將114.9克之溴化物2-溴異丁烷經滴液漏斗經3小時逐滴加入。在逐滴加入後去除冰浴,及將混合溶液進一步攪拌3小時。將反應混合物倒入750毫升之水中且攪拌1小時。使用分液漏斗將混水溶液以500毫升之乙酸乙酯萃取3次。將有機層依序以500毫升之1M氫氯酸、500毫升之碳酸氫鈉飽和水溶液、與500毫升之飽和鹽水清洗。對有機層加入100克之硫酸鎂以脫水,然後過濾經乾燥所得物。將溶劑在低壓下蒸餾而得120.3克之殘渣。所得殘渣為化合物(i-1),其經1 H-NMR、IR及質譜證實。藉HPLC得到之純度為95%。
<化合物(i-6)之合成> 對1,000毫升三頸燒瓶裝以174.2克之二乙二醇甲基丙烯酸酯、138.0克之碳酸鉀、0.1克之對甲氧基酚、與400毫升之丙酮,而且將混合物在充填冰水之冰浴中冷卻。在混合溶液達到5℃或更低時,將229.9克之溴化物2-溴異丁烷經滴液漏斗經1.5小時逐滴加入。在逐滴加入後去除冰浴,及將混合溶液進一步攪拌3小時。將反應混合物倒 入800毫升之水中且攪拌1小時。使用分液漏斗將混水溶液以500毫升之乙酸乙酯萃取3次。將有機層依序以500毫升之1M氫氯酸、500毫升之碳酸氫鈉飽和水溶液、與500毫升之飽和鹽水清洗。對有機層加入100克之硫酸鎂以脫水,然後過濾經乾燥所得物。將溶劑在低壓下蒸餾而得300.1克之殘渣。所得殘渣為化合物(i-6),其經1 H-NMR、IR及質譜證實。
[合成例1]
(1)樹脂(I)[指定聚合性黏合劑]之合成 對1,000毫升三頸燒瓶裝以86克之1-甲基-2-吡咯啶酮,而且在氮流動下加熱至90℃。將86克之1-甲基-2-吡咯啶酮溶液,其含50克之化合物(i-1)、35克之Light Ester HO-MS(Kyoeisha Chemical Co., Ltd.製造)、31克之甲基丙烯酸苄酯、與3.2克之V-601(Wako Pure Chemical Industries, Ltd.製造)經2小時逐滴加入。在逐滴加入後將混合溶液進一步攪拌2小時。將反應溶液冷卻至室溫,然後倒入7公升之水中以沉澱聚合物。將沉澱聚合物過濾,以水清洗,及乾燥而得110克之聚合物。所得聚合物之重量平均分子量係藉凝膠滲透層析術(GPC)使用聚苯乙烯作為標準品材料而測量,及所得結果為14,000。滴定而得之酸值為1.25meq/克(計算值:1.31meq/克),其證實聚合係正常地實行。對1,000毫升三頸燒瓶裝以110克之所得聚合物與0.1克之對甲氧基酚,而且將170克之1-甲基-2-吡咯啶酮在充填冰水之冰浴中冷卻。在混合溶液達到5 ℃或更低時,將90克之1,8-二氮雙環[5.4.0]-7-十一烯(DBU)經滴液漏斗經1小時逐滴加入。在逐滴加入後去除冰浴,及將混合溶液進一步攪拌8小時。對反應溶液加入濃氫氯酸以將pH調整至7,然後將溶液倒入7公升之水中,而且沉澱聚合物:樹脂(I),其為本發明相關之指定聚合性黏合劑。將沉澱聚合物過濾,以水清洗,及乾燥而得95克之聚合物。在使所得聚合物接受1 H-NMR測量時,其證實100%之衍生自化合物(i-1)的側鏈基變成甲基丙烯酸伸乙酯基。 重量平均分子量係藉凝膠滲透層析術(GPC)使用聚苯乙烯作為標準品材料而測量,及所得結果為12,500。滴定而得之酸值為1.44meq/克(計算值:1.50meq/克)。
[合成例2]
(2)樹脂(II)[對照黏合劑]之合成 對1,000毫升三頸燒瓶裝以120克之丙二醇一甲醚,而且在氮流動下加熱至90℃。將120克之丙二醇一甲醚溶液,其含74克之甲基丙烯酸苄酯、84克之甲基丙烯酸、與V-601(Wako Pure Chemical Industries, Ltd.製造)經2小時逐滴加入。在逐滴加入後將混合溶液進一步攪拌2小時。然後將反應溶液冷卻至室溫,然後倒入8公升之水中以沉澱聚合物。將沉澱聚合物過濾,以水清洗,及乾燥而得150克之聚合物。
所得聚合物之重量平均分子量係藉凝膠滲透層析術(GPC)使用聚苯乙烯作為標準品材料而測量,及所得結果為12,000。滴定而得之此聚合物的酸值為202毫克KOH/克( 計算值:204毫克KOH/克),其證實聚合係正常地實行。
如上對1,000毫升三頸燒瓶裝以40克之所得聚合物、110毫克之對甲氧基酚,而且進一步加入60克之丙二醇一甲醚以溶解。對其進一步加入820毫克之溴化四丁銨且加熱至80℃。加入10克之甲基丙烯酸環氧丙酯且將混合溶液攪拌6小時。然後其藉氣相層析術證實,衍生自甲基丙烯酸環氧丙酯之峰消失。將此反應溶液倒入7公升之水中以沉澱聚合物(分散液樹脂(I)-1)。將沉澱聚合物過濾,以水清洗,及乾燥而得54克之目標分散液樹脂(II)。
所得聚合物(分散液樹脂(II))之重量平均分子量係藉凝膠滲透層析術(GPC)使用聚苯乙烯作為標準品材料而測量,及所得結果為17,800。滴定而得之此聚合物的酸值為120毫克KOH/克。
[實例1] [A1.硬化性組成物之製備]
在此敘述及解釋製備含顏料之硬化性組成物的實例,其係用於形成可應用於液晶顯示裝置之彩色濾光片。
(A1-1.顏料分散溶液之製備)顏料分散溶液之製備 使用球磨機將40質量份作為顏料之C.I.顏料綠36與C.I.顏料黃219的30/70(質量比例)混合物(一級粒徑為32奈米)、50質量份(按固體含量換算為約22.6質量份)作為分散劑之BYK2001(Disperbyk: BYK Chemie製造,固體含量濃度為45.1質量%)、5質量份之本發明相關的指 定聚合性黏合劑[樹脂(I)]、及110質量份作為溶劑之3-乙氧基丙酸乙酯的混合物摻合/分散15小時而製備顏料分散溶液(P1)。
關於顏料分散溶液(P1),顏料之平均粒徑藉動態光掃射(使用Microtrac Nanotrac UPA-EX 150(Nikkiso Co., Ltd.製造)但未進一步稀釋)測量為61奈米。
(A1-2.硬化性組成物(塗料液體)之製備)
化合物α
[A2.彩色濾光片之製備]
(A2-1.硬化性組成物薄膜之形成) 使用含以上顏料之硬化性組成物作為光阻溶液而在以下條件下縫塗在550毫米×650毫米之玻璃基板上,然後將其保持在此狀態經10分鐘,而且真空乾燥及預烘烤(100℃經80秒)而形成硬化性組成物塗膜(硬化性組成物薄膜)。
(縫塗條件)
(A2-2.曝光,顯影) 然後使用具線寬為20微米之測試用光罩的2.5仟瓦超高壓汞燈,將經光硬化塗膜圖案化,及在曝光後將塗膜之全部區域浸於有機為主顯影劑(商標名:CD,Fuji film electronics material Co., Ltd.製造)之10%水溶液且靜置60秒。
(A2-3.熱處理) 在靜置後噴淋純水而清洗顯影劑,及使接受光硬化處理與顯影處理之塗膜在220℃烤箱中加熱1小時(後烘烤)。因而得到在玻璃基板上由硬化性組成物之塗膜(著色薄膜)形成之彩色濾光片。
[A3.性能評估]
以如下方式評估包括按以上方式製備之硬化性組成物的塗料溶液之儲存安定性,藉由塗布硬化性組成物而在玻璃基板上形成之硬化性組成物塗膜(著色薄膜)的曝光敏感度、基板黏附性、顯影力、及圖案橫切面形狀。結果示於表1。
(A3-1.硬化性組成物之儲存安定性) 將按以上方式製備之硬化性組成物(塗料液體)在室溫儲存1個月,然後測量溶液之黏度。依照以下標準完成評估。
-測估標準- A:認定黏度未增加 B:認定黏度增加5%至小於10% C:認定黏度增加10%或更多
(A3-2.硬化性組成物塗膜(著色薄膜)之曝光敏感度) 使硬化性組成物塗膜在10至100毫焦耳/平方公分之範圍內改變照射劑量而曝光,及評估在後烘烤後產生20微米之圖案線寬的曝光劑量作為曝光敏感度。曝光敏感度越小則敏感度越高。
(A3-3.顯影力、圖案橫切面形狀、基板黏附性) 後烘烤後之基板表面及橫切面係藉光顯微鏡及SEM照相觀察證實,因而評估顯影力、圖案橫切面形狀及基板黏附性。評估方法之細節及/或評估標準示於以下。
<顯影力> 在曝光步驟中,觀察光未照射部分(未曝光部分)上 之殘渣存在,及評估顯影力。
-評估標準- A:證實在未曝光部分完全無殘渣 B:證實在未曝光部分僅有不造成實務問題之程度的些微殘渣 C:證實在未曝光部分有明顯之殘渣
<圖案橫切面形狀> 觀察所形成圖案之橫切面形狀。圖案橫切面形狀最佳為前傾尖錐形,次佳為長方形。倒尖錐形不佳。
<基板黏附性> 基板黏附性之評估係藉由觀察是否產生圖案失敗而進行。評估標準示於以下。
-評估標準- A:完全未觀察到圖案失敗 B:幾乎未觀察到圖案失敗,但是在某些部分觀察到 C:明顯地觀察到圖案失敗
[實例2至7]
以如實例1之相同方式製備彩色濾光片,除了將在實例1製備之硬化性組成物用樹脂(I)以以下表1所述之指定聚合性黏合劑取代。進行如實例1之相同評估,及結果示於表1。
[比較例1]
以如實例1之相同方式製備彩色濾光片,除了不使用在實例1製備之硬化性組成物用樹脂(I)。進行如實例1之 相同評估,及結果示於表1。
[比較例2]
以如實例1之相同方式製備彩色濾光片,除了將在實例1製備之硬化性組成物用樹脂(I)以在合成例2得到之樹脂(II)取代作為比較性黏合劑聚合物。進行如實例1之相同評估,及結果示於表1。
由表1之結果明確可知,各含指定聚合性黏合劑之實例1至7的硬化性組成物在其溶液狀態呈現優良之儲存安定性。此外相較於未使用指定聚合性黏合劑之比較例1及其中使用樹脂(II)作為比較性黏合劑之比較例2的情形,在使用此硬化性組成物在撐體上形成著色圖案時,其可得到呈現高曝光敏感度、優良之顯影力、及優良之基板黏附性與圖案橫切面形狀的彩色濾光片。
[實例8]
以下敘述及解釋製備含著色劑(顏料)之硬化性組成物的實例,其係用於形成可應用於固態影像攝影裝置之彩色濾光片。
[B1.光阻溶液之製備]
混合及溶解以下調配物之化合物而製備光阻溶液。
<光阻溶液之調配物>
[B2.具底塗層之矽基板的製備]
將6吋矽晶圓在200℃烤箱中加熱30分鐘。其次將光阻溶液塗覆在此矽晶圓上而得1.5微米之乾膜厚度,其然後在220℃烤箱中進一步加熱而乾燥1小時形成底塗層,因而得到具底塗層之矽晶圓基板。
[B3.顏料分散溶液之製備]
使用球磨機將40質量份作為顏料之C.I.顏料綠36與C.I.顏料黃219的30/70(質量比例)混合物(一級粒徑為32奈米)、50質量份(按固體含量換算為約22.6質量份)作為分散劑之BYK2001(Disperbyk: BYK Chemie製造,固體含量濃度為45.1質量%)、5質量份之樹脂(I)(其為本發明相關之指定聚合性黏合劑)、及110質量份作為溶劑之3-乙氧基丙酸乙酯的混合物摻合/分散15小時而製備顏料分散溶液(P1)。
關於顏料分散溶液(P1),顏料之平均粒徑藉動態光掃射測量為200奈米。
[B4.硬化性組成物(塗料液體)之製備]
使用經分散液處理顏料分散溶液P1,藉由攪拌混合以下調配物而得硬化性組成物液體。
(硬化性組成物溶液)
[B5.由硬化性組成物製備彩色濾光片及評估]
<圖案形成及敏感度評估> 將按以上方式製備之硬化性組成物塗布在B2所得具底塗層之矽晶圓的底塗層上形成著色薄膜(塗膜)。使用加熱板將著色薄膜在100℃加熱120秒(前烘烤)而得0.7微米之塗膜的乾膜厚度。
然後藉i-線步進器曝光設備FPA-3000i5+(Canon Inc.製造),使著色薄膜經具2微米平方島型圖案之光罩對365奈米光以50至1,200毫焦耳/平方公分之各曝光劑量曝光。
然後將具經照射塗膜之矽晶圓基板置於旋轉噴淋顯影機(DW-30,Chemitronics Co., Ltd.製造)之水平轉動台上,及使用CD-2000(Fuji film electronics material Co., Ltd.製造)在23℃槳式顯影經60秒而在矽晶圓基板上形成著色圖案。
藉真空夾將其上已形成著色圖案之矽晶圓固定在水平轉動台上。在藉轉動設備將矽晶圓基板以50 r.p.m.轉動時,藉噴淋以來自位於轉動中心正上方之噴水噴嘴的純水沖 洗基板。然後將矽晶圓基板噴灑乾燥。
著色圖案之大小係使用長度測量SEM 'S-9260A'(Hitachi High-Technologies Corporation製造)測量。評估產生2微米之圖案線寬的照射劑量作為曝光敏感度。曝光敏感度值越小則敏感度越高。測量結果示於以下表2。
此外在形成著色圖案時,以如實例1之相同方式評估硬化性組成物之顯影力、圖案形成力、基板黏附性、及儲存安定性。亦依照以下標準評估所形成著色圖案之顏色不規則性。結果示於以下表2。
<硬化性組成物之儲存安定性> 將以上B4製備之硬化性組成物(塗料液體)在室溫儲存1個月,然後測量溶液之黏度。依照以下標準完成評估。
-測估標準- A:認定黏度未增加 B:認定黏度增加5%至小於10% C:認定黏度增加10%或更多
<顏色不規則性> 為了評估顏色不規則性,測量圖案形成後之亮度分布,而且測定顯示與其全部像素之平均值相差小於±5%之像素的比例。評估標準示於以下。
-測估標準- A:顯示與其平均值相差小於±5%之像素為像素數量之99%或更大 B:顯示與其平均值相差小於±5%之像素為像素數量之95%至小於99% C:顯示與其平均值相差小於±5%之像素小於像素數量之95%
[實例9至14]
以如實例1之相同方式製備全部彩色濾光片,除了將在實例8製備之硬化性組成物用樹脂(I)以以下表2所述之指定聚合性黏合劑取代。進行如實例1之相同評估,及結果示於表2。
[比較例3]
以如實例7之相同方式製備彩色濾光片,除了對在實例8製備之硬化性組成物不使用指定聚合性黏合劑。進行如實例1之相同評估,及結果示於表2。
[比較例4]
以如實例7之相同方式製備彩色濾光片,除了將在實例8製備之硬化性組成物用樹脂(I)以在合成例2得到之樹脂(II)取代作為比較性黏合劑聚合物。進行如實例1之相同評估,及結果示於表2。
由表2之結果明確可知,各含指定聚合性黏合劑(用於形成可應用於固態影像攝影裝置之彩色濾光片)之實例8至14的硬化性組成物(顏料為主)在其溶液狀態呈現優良之儲存安定性。此外相較於未使用指定聚合性黏合劑之比較例3及其中使用樹脂(II)作為比較性黏合劑之比較例4的情形,在使用此硬化性組成物在撐體上形成著色圖案時,其可得到呈現高曝光敏感度、優良之顯影力、及優良之基板黏附性與圖案橫切面形狀,但無顏色不規則性問題的彩色濾光片。
由這些結果明確地了解,藉本發明之硬化性組成物,在製備可應用於固態影像攝影裝置之彩色濾光片的情形亦可如製備可應用於液晶顯示裝置之彩色濾光片的情形實現優良之圖案形成力。
[實例15]
以下敘述及解釋製備含染料之硬化性組成物的實例,其係用於形成可應用於固態影像攝影裝置之彩色濾光片。
[C1.光阻溶液之製備及具底塗層之矽基板的製造]
依照如實例11之[B1.光阻溶液之製備]及[B2.具底塗層之矽基板的製造]部分的相同方式製備具底塗層之矽基板。
[C2.硬化性組成物(塗料液體)之製備]
混合及溶解以下調配物之化合物而製備彩色敏感性樹脂組成物。
[C3.由硬化性組成物製備彩色濾光片及評估]
依照如以上[B5.由硬化性組成物製備彩色濾光片及評估]部分之相同方式進行彩色濾光片之製備及評估。結果示於表3。
[實例16至21]
以如實例8之相同方式製備全部彩色濾光片,除了將在實例15製備之硬化性組成物用樹脂(I)以以下表2所述之指定聚合性黏合劑取代。進行如實例1之相同評估,及結果示於表3。
[比較例5]
以如實例15之相同方式製備全部彩色濾光片,除了將在實例15製備之硬化性組成物用樹脂(I)以異戊四醇三丙烯酸酯取代。進行如實例8之相同評估,及結果示於表3。
[比較例6]
以如實例15之相同方式製備彩色濾光片,除了將在實例15製備之硬化性組成物用樹脂(I)以在合成例2得到之樹脂(II)取代作為比較性黏合劑聚合物。進行如實例8之相同評估,及結果示於表3。
由表3之結果明確可知,各含指定聚合性黏合劑(用於形成可應用於固態影像攝影裝置之彩色濾光片)之實例15至21的硬化性組成物(染料為主)在其溶液狀態呈現優良之儲存安定性。此外相較於其中使用異戊四醇三丙烯酸酯作為比較性黏合劑代替指定聚合性黏合劑之比較例5及其中使用比較性樹脂(II)之比較例6的情形,在使用此硬化性組成物在撐體上形成著色圖案時,其可得到呈現高曝光敏感度、優良之顯影力、及優良之基板黏附性與圖案橫切面形狀。
由這些結果明確地了解,藉實例15至21之任何硬化性組成物,在製備可應用於固態影像攝影裝置之彩色濾光片的情形亦可如製備可應用於液晶顯示裝置之彩色濾光片的情形實現優良之圖案形成力。
以下顯示本發明之某些較佳具體實施例。
<1>一種彩色濾光片用硬化性組成物,其包括聚合性化合物(A)、光聚合引發劑(B)、著色劑(C)、及具有酸基與不飽和雙鍵之黏合劑樹脂(D);其中著色劑(C)在硬化性組成物中之量為30至85質量%之範圍,及具有酸基與不飽和雙鍵之黏合劑樹脂(D)的酸基係經主幹為二或更多個原子之鍵聯基鍵聯主鏈,及黏合劑樹脂之不飽和雙鍵係在側鏈上。
<2>如<1>所述之彩色濾光片用硬化性組成物,其中具有酸基與不飽和雙鍵之黏合劑樹脂(D)為一種包括含酸基 單體與含不飽和雙鍵單體之共聚物,及其中含雙鍵之單體
係由下式(1)、(2)或(3)表示:
其中在式(1)至(3)中,A1 、A2 與A3 各獨立地為氧原子、硫原子或-N(R21 )-,而R21 為視情況地經取代烷基;G1 、G2 與G3 各獨立地為二價有機基;X與Z各獨立地為氧原子、硫原子或-N(R22 )-,而R22 為視情況地經取代烷基;Y為氧原子、硫原子、視情況地經取代伸苯基、或-N(R23 )-,而R23 為視情況地經取代烷基;及R1 至R20 各獨立地為單價有機基。
<3>如<1>所述之彩色濾光片用硬化性組成物,其中具有酸基與不飽和雙鍵之黏合劑樹脂(D)可藉以下合成方法(a)或(b)之一得到:(a)一種包括使用鹼基自包括由下式(4-1)表示之化合物作為共聚物組分之聚合物去除質子,因而脫去L以得到具有由式(1)表示之結構的聚合物之方法,其中式(4-1)中之L為陰離子性釋放基;(b)一種包括使含由式(4-2)表示之化合物作為共聚物組分之聚合物接受鹼處理以在指定官能基造成釋放反應,去除式中之X1 與H,及形成可自由基反應基以得到具有由式(1)表示之結構的聚合物之方法,
其中在式(4-1)中,L為陰離子性釋放基;及R3 至R6 、A1 、G1 、與X具有如式(1)定義之相同意義,及 其中在式(4-2)中,R1 、R2 與R3 各為氫或單價有機基;A2 為氧原子、硫原子或-NR8 -; G1 為有機鍵聯基;R8 為氫或單價有機基;n為1至10之整數;R4 至R6 、A1 、與G1 具有如式(1)定義之相同意義;及X1 為可藉釋放反應去除之釋放基。
<4>如<1>所述之彩色濾光片用硬化性組成物,其進一步包括一種敏化劑。
<5>如<1>所述之彩色濾光片用硬化性組成物,其中著色材料在硬化性組成物中之量為40質量%或更大。
<6>一種具有著色圖案之彩色濾光片,其係由如<1>所述之彩色濾光片用硬化性組成物形成。
<7>依照<6>之彩色濾光片,其係用於影像感應器。
<8>一種製造彩色濾光片之方法,其包括:藉由將硬化性組成物塗布於撐體上而由依照<1>之彩色濾光片用硬化性組成物形成著色薄膜;將著色薄膜經光罩曝光;及將曝光之著色薄膜顯影形成著色圖案。
日本專利申請案第2006-356376號之揭示在此全部併入作為參考。

Claims (8)

  1. 一種彩色濾光片用硬化性組成物,其係包括:具有至少一個乙烯不飽和雙鍵之加成聚合性化合物(A)、光聚合引發劑(B)、著色劑(C)、及具有酸基與不飽和雙鍵之黏合劑樹脂(D);其中該著色劑(C)在硬化性組成物中之量為30至85質量%之範圍;該具有酸基與不飽和雙鍵之黏合劑樹脂(D)的酸基係經主幹為二個原子之鍵聯基鍵聯主鏈,該酸基為-COOH、-SO3 H、-PO3 H2 、-OSO3 H或-OPO2 H2 ,及該不飽和雙鍵為在側鏈上的乙烯不飽和雙鍵;及該具有酸基與不飽和雙鍵之黏合劑樹脂(D)為一種包括含酸基單體與含不飽和雙鍵單體之共聚物,及其中含雙鍵之單體係由下式(1)、(2)或(3)表示: 其中在式(1)至(3)中,A1 、A2 與A3 各獨立地為氧原子、硫原子或-N(R21 )-,而R21 為經取代或未經取代的烷基;G1 、G2 與G3 各獨立地為二價有機基;X與Z各獨立地為氧原子、硫原子或-N(R22 )-,而R22 為經取代或未經取代的烷基;Y為氧原子、硫原子、經取代或未經取代的伸苯基、或-N(R23 )-,而R23 為經取代或未經取代的烷基;及R1 至R20 各獨立地為單價有機基。
  2. 如申請專利範圍第1項之彩色濾光片用硬化性組成物, 其中該黏合劑樹脂(D)之酸基為-COOH。
  3. 如申請專利範圍第1項之彩色濾光片用硬化性組成物,其中該具有酸基與不飽和雙鍵之黏合劑樹脂(D)可藉以下合成方法(a)或(b)之一得到:(a)方法,其包括使用鹼基自包括由下式(4-1)表示之化合物作為共聚物組分之聚合物去除質子,因而脫去L以得到具有由式(1)表示之結構的聚合物;其中式(4-1)中之L為陰離子性釋放基;(b)方法,其包括使含由式(4-2)表示之化合物作為共聚物組分之聚合物接受鹼處理以在指定官能基造成釋放反應,去除式中之X1 與H,及形成可自由基反應基以得到具有由式(1)表示之結構的聚合物, 其中在式(4-1)中,L為陰離子性釋放基;及R3 至R6 、A1 、G1 、與X具有如式(1)定義之相同意義,及其中在式(4-2)中,R1 、R2 與R3 各為氫或單價有機基;A2 為氧原子、硫原子或-NR8 -;G1 為有機鍵聯基;R8 為氫或單價有機基;n為1至10之整數;R4 至R6 、A1 、與G1 具有如式(1)定義之相同意義;及X1 為可藉釋放反應去除之釋放基。
  4. 如申請專利範圍第1項之彩色濾光片用硬化性組成物,其進一步包括一種敏化劑。
  5. 如申請專利範圍第1項之彩色濾光片用硬化性組成物,其中該著色劑在硬化性組成物中之量為40至80質量%。
  6. 一種具有著色圖案之彩色濾光片,其係由如申請專利範圍第1項之彩色濾光片用硬化性組成物形成。
  7. 如申請專利範圍第6項之彩色濾光片,其係用於影像感應器。
  8. 一種製造彩色濾光片之方法,其係包括:藉由將硬化性組成物塗布於撐體上而由如申請專利範圍第1項之彩色濾光片用硬化性組成物形成著色薄膜;將該著色薄膜經光罩曝光;及將曝光之著色薄膜顯影而形成著色圖案。
TW096150499A 2006-12-28 2007-12-27 硬化性組成物、彩色濾光片及其製法 TWI437281B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006356376A JP5344790B2 (ja) 2006-12-28 2006-12-28 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200844491A TW200844491A (en) 2008-11-16
TWI437281B true TWI437281B (zh) 2014-05-11

Family

ID=39295030

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW096150499A TWI437281B (zh) 2006-12-28 2007-12-27 硬化性組成物、彩色濾光片及其製法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8268519B2 (zh)
EP (1) EP2102708B1 (zh)
JP (1) JP5344790B2 (zh)
KR (1) KR101460577B1 (zh)
TW (1) TWI437281B (zh)
WO (1) WO2008081988A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE202017100571U1 (de) 2017-02-02 2017-02-17 E-Lead Electronic Co., Ltd. Anti-Geisterbild-Reflektor bzw. Anzeigesystem

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1975702B1 (en) * 2007-03-29 2013-07-24 FUJIFILM Corporation Colored photocurable composition for solid state image pick-up device, color filter and method for production thereof, and solid state image pick-up device
JP4890388B2 (ja) 2007-08-22 2012-03-07 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP5340102B2 (ja) 2008-10-03 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット
JP5340198B2 (ja) * 2009-02-26 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物
JP2011002775A (ja) * 2009-06-22 2011-01-06 Hitachi Displays Ltd 液晶表示装置
TWI516507B (zh) * 2010-06-01 2016-01-11 新日鐵住金化學股份有限公司 含有(甲基)丙烯酸酯樹脂的熱硬化性樹脂組成物及使用該熱硬化性樹脂組成物之硬化物
JP2012078541A (ja) * 2010-09-30 2012-04-19 Fujifilm Corp 光学フィルム、偏光板、画像表示装置、及び光学フィルムの製造方法
JP6390125B2 (ja) * 2014-03-13 2018-09-19 Jsr株式会社 硬化性樹脂組成物、表示素子用硬化膜、その形成方法及び表示素子
EP3147708B1 (en) * 2015-08-21 2018-11-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Photosensitive compositions, preparation methods thereof and quantum dot polymer composite prepared therefrom
US10983433B2 (en) 2015-08-21 2021-04-20 Samsung Electronics Co., Ltd. Photosensitive compositions, preparation methods thereof, and quantum dot polymer composite prepared therefrom
US10983432B2 (en) * 2015-08-24 2021-04-20 Samsung Electronics Co., Ltd. Photosensitive compositions, preparation methods thereof, quantum dot polymer composite prepared therefrom
KR102601102B1 (ko) 2016-08-09 2023-11-10 삼성전자주식회사 조성물, 이로부터 제조된 양자점-폴리머 복합체 및 이를 포함하는 소자
WO2019163505A1 (ja) * 2018-02-21 2019-08-29 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、硬化物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子及び画像表示装置
TWI835977B (zh) * 2019-02-01 2024-03-21 日商富士軟片股份有限公司 硬化性組成物、膜、結構體、濾色器、固體攝像元件及圖像顯示裝置
CN109956704A (zh) * 2019-04-12 2019-07-02 广东中旗新材料股份有限公司 一种分层产生负离子的石英石及制备方法
CN110002795A (zh) * 2019-04-12 2019-07-12 广东中旗新材料股份有限公司 一种分层产生负离子的抗菌石英石及制备方法
CN109942230A (zh) * 2019-04-12 2019-06-28 广东中旗新材料股份有限公司 一种负离子石英石及制备方法
CN110002794A (zh) * 2019-04-12 2019-07-12 广东中旗新材料股份有限公司 一种具有抗菌效果的负离子石英石及制备方法
CN109956705A (zh) * 2019-04-12 2019-07-02 广东中旗新材料股份有限公司 一种具有抗菌及负离子涂层的石英石及制备方法
CN110002791A (zh) * 2019-04-12 2019-07-12 广东中旗新材料股份有限公司 一种设有负离子涂层的石英石及制备方法

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3823579A (en) * 1969-08-16 1974-07-16 A Schindele Pattern control mechanism for circular knitting machines
JPH07111485B2 (ja) 1988-10-24 1995-11-29 ポラロイド コーポレーシヨン カラーフィルターの製造方法
JPH09179296A (ja) * 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
EP0780731B1 (en) * 1995-12-22 2002-04-17 Mitsubishi Chemical Corporation Photopolymerizable composition for a color filter, color filter and liquid crystal display device
JP2000321763A (ja) 1999-03-10 2000-11-24 Hitachi Chem Co Ltd 着色樹脂組成物、感光性着色樹脂組成物、着色画像形成用感光液、感光性エレメント、着色画像の製造法及びカラーフィルターの製造法
CN1238855C (zh) * 2000-03-28 2006-01-25 松下电器产业株式会社 数据重放装置
ATE391601T1 (de) * 2000-04-20 2008-04-15 Fujifilm Corp Lithographische druckplattenvorläufer
JP4196548B2 (ja) 2001-07-17 2008-12-17 Jsr株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物、カラーフィルタ、および液晶表示素子、
JP3878451B2 (ja) * 2001-10-22 2007-02-07 富士フイルムホールディングス株式会社 感光性樹脂転写材料、画像形成方法、カラーフィルターとその製造方法、フォトマスクとその製造方法
US6919411B2 (en) * 2002-03-11 2005-07-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Process for producing polymer compound
US20060257759A1 (en) * 2002-11-29 2006-11-16 Daicel Chemical Industries, Ltd. Colored photosensitive composition for color filter, color filter, and process for the production thereof
JP4458778B2 (ja) * 2003-02-20 2010-04-28 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
US7537810B2 (en) * 2003-03-24 2009-05-26 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Curable resin composition, photosensitive pattern-forming curable resin composition, color filter, substrate for liquid crystalline panel, and liquid crystalline panel
JP4544957B2 (ja) * 2003-10-07 2010-09-15 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4351519B2 (ja) * 2003-11-26 2009-10-28 東洋インキ製造株式会社 感光性組成物およびカラーフィルタ
JP2005283679A (ja) * 2004-03-26 2005-10-13 Fuji Photo Film Co Ltd 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルターおよびその製造方法
JP4720318B2 (ja) * 2004-06-28 2011-07-13 住友化学株式会社 着色感光性樹脂組成物
JP5140903B2 (ja) * 2004-07-02 2013-02-13 三菱化学株式会社 着色樹脂組成物、カラーフィルタ及び液晶表示装置
JP4407410B2 (ja) 2004-07-15 2010-02-03 Jsr株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物およびその調製法
TWI407250B (zh) * 2005-11-01 2013-09-01 Fujifilm Corp 負型含染料之硬化性組成物、彩色濾光片及其製法
KR100796517B1 (ko) * 2006-07-18 2008-01-21 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 이미지센서컬러필터
JP2006338043A (ja) * 2006-07-21 2006-12-14 Mitsubishi Chemicals Corp カラーフィルタ用組成物およびカラーフィルタ
TWI428691B (zh) * 2006-09-25 2014-03-01 Fujifilm Corp 硬化組成物、彩色濾光片及其製法
US8778575B2 (en) * 2007-01-15 2014-07-15 Fujifilm Corporation Curable composition, color filter using the same and manufacturing method therefor, and solid image pickup element
JP4890388B2 (ja) * 2007-08-22 2012-03-07 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE202017100571U1 (de) 2017-02-02 2017-02-17 E-Lead Electronic Co., Ltd. Anti-Geisterbild-Reflektor bzw. Anzeigesystem

Also Published As

Publication number Publication date
US8268519B2 (en) 2012-09-18
US20100045905A1 (en) 2010-02-25
WO2008081988A1 (en) 2008-07-10
EP2102708B1 (en) 2018-05-16
JP5344790B2 (ja) 2013-11-20
TW200844491A (en) 2008-11-16
KR101460577B1 (ko) 2014-11-13
KR20090106518A (ko) 2009-10-09
EP2102708A1 (en) 2009-09-23
JP2008165059A (ja) 2008-07-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI437281B (zh) 硬化性組成物、彩色濾光片及其製法
TWI442178B (zh) 硬化性組成物、使用該硬化性組成物之彩色濾光片及其製造方法、及固態攝影元件
TWI434897B (zh) 顏料分散組成物、硬化性組成物、及彩色濾光片及其製法
TWI438568B (zh) 硬化性組成物、彩色濾光片及其製法
TWI465524B (zh) 硬化型組成物、以此製造的彩色濾光器及其製造方法以及固態成像裝置
TWI459130B (zh) 用於固態影像擷取裝置之光硬化性組成物、彩色濾光片及其製造方法、以及固態影像擷取裝置
TWI435917B (zh) 顏料分散組成物、硬化性組成物、彩色濾光片及其製造方法
CN102171287B (zh) 分散组合物、聚合性组合物、遮光性滤色片、固体摄像元件、液晶显示装置、晶片级镜片以及摄像单元
US8778575B2 (en) Curable composition, color filter using the same and manufacturing method therefor, and solid image pickup element
KR20090124938A (ko) 착색 경화성 조성물, 컬러 필터 및 고체촬상소자
TWI406090B (zh) 著色硬化性組合物、彩色濾光片及其製造方法、與固體攝像元件
TWI526504B (zh) 綠色硬化性組成物、彩色濾光片及其製法
TWI476512B (zh) 著色可硬化性組成物、彩色濾光器之彩色區域、彩色濾光器與彩色濾光器之製造方法以及固態影像拾取元件
CN101093355B (zh) 化合物、感光性组合物、固化性组合物、滤色器用固化性组合物、滤色器、及其制造方法
KR20080037583A (ko) 컬러필터용 착색 경화성 조성물, 컬러필터 및 그 제조방법