TWI425310B - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

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Ui Cheol Jeong
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Hong Dae Shin
Dong Hyuk Lee
Byung Uk Kim
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Su Youn Choi
Dong Ho Cho
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Description

感光性樹脂組成物 發明領域
本發明和感光性樹脂組成物相關，更詳細地說，係和一種感度、絕緣性等之各種性能優良，特別是因其優良的耐熱性而不僅可以使得在後續製程的信賴度及壽命增加，而且用一種感光性樹脂組成物就可以同時形成絕緣膜(insulator)與隔離膜(separator)2種形態的圖案，可以縮短製程時間，同時可以使面板上的開口率顯著提高並且適合於應用在PM-OLED、AM-OLED、AM-LCD、PDP基板的製造程序中之感光性樹脂組成物有關。
 發明背景
最近，在PM-OLED製造程序的情形中，因為面板尺寸(panel size)擴大而要求要有高解像度，為此所需要之更多的線(line)電極數，伴隨之的開口率減少都成為問題。因此，要求要做材料上的解決以改善這個問題。
另外，在AM-OLED、AM-LCD、PDP基板等之其他的顯示器製造程序中也持續需求可以縮短製程時間，而且有良好的開口率之光阻(photoresist)及製程的開發。
習知之PM-OLED製造程序中所使用的絕緣膜是由PAC、黏接劑、溶劑等成分所形成，前述黏接劑主要是使用丙烯酸系樹脂，而隔離膜(separator)則是使用由PAG、酚醛型(novolac)樹脂、交聯劑、溶劑等成分所形成的負性光阻。
但是，過去在形成絕緣膜和隔離膜時，由於2種物質彼此相異的特性而必須以2步驟(2-step)來實施製程。因此，其所導致之長製程時間乃成為問題。另外，在絕緣膜上排列隔離膜(separator Align)時，因排列邊界(Align Margin)的確保而有招致開口率減少的疑慮之問題點。
因此，最近有關同時形成絕緣膜和隔離膜並且可以使開口率增大的研究正在進行中，雖然已經開發了使用酚醛型樹脂的光阻，但是這種情形中有耐熱性降低的問題點。像這樣，當材料的耐熱性降低時，要應用到OLED製程中的高溫程序就有困難，因而有在後續製程的信賴度確保及壽命上出現問題的疑慮之問題點。
因此，為了能夠縮短應用在PM-OLED製程之絕緣膜和隔膜形成程序的製程時間，同時確保優良的開口率，並確保在後續製程的信賴度及壽命等，實際上有必要進一步加以研究。
為解決習知技術之這類問題，本發明之目的乃在於提供一種感度、絕緣性等各種性能優良，特別是可以利用優良的耐熱性而使得在後續製程的信賴度及壽命增加的感光性樹脂組物、含有前述感光性樹脂組成物之硬化體的顯示屏，以及應用前述感光性樹脂組成物之顯示屏的圖案形成方法。
本發明之另一目的係為提供一種不僅可以用一種感光 性樹脂組成物同時形成絕緣膜與隔離膜2種形態的圖案以縮短製程時間，同時可以使面板(panel)上的開口率顯著提高而適合於應用在PM-OLED、AM-OLED、AM-LCD、PDP基板之製造程序的感光性樹脂組成物、含有前述感光性組成物之硬化體的顯示屏，以及利用前述感光性樹脂組成物之顯示屏的圖案形成方法。
為達成前述目的，本發明所提供之感光性樹脂組成物的特徵係在感光性樹脂組成物中含有：a)以下述化學式1表示之聚羥基苯乙烯系樹脂；b)1,2-重氮醌(quinone diazide)化合物；c)光酸產生劑(photoacid generator)；d)以下述化學式2表示之三聚氰胺交聯劑；及e)溶劑。
前述化學式1中，a、b表示各單體間之莫耳比(mole ratio)，a為1~10，b為0~9，a+b=10。
前述化學式2中，R1 至R3 各自獨立，為碳數1~4的烷基，R4 至R6 各自獨立，為氫基，或為碳數1~4的烷基。
本發明以含有，a)以前述化學式1表示之聚羥基苯乙烯系樹脂100重量份；b)1,2-重氮醌化合物5~50重量份；c)光酸產生劑1~20重量份；d)以前述化學式2表示之三聚氰胺交聯劑1~30重量份；以及e)溶劑，使得感光性樹脂組成物內之全體固形分含量成為10~50重量%為佳。
另外，本發明提供一種特徵在於包含前述感光性樹脂組成之硬化體的顯示屏。
此外，本發明提供一種應用前述感光性樹脂組成之顯 示屏的圖案形成方法。
依據本發明之感光性樹脂組成，具有優良之感度、絕緣性等各種性能，特別是可以利用優良的耐熱性而使得在後續製程的信賴度及壽命增加。另外，具有可以用一種感光性樹脂組成同時形成絕緣膜與隔離膜2種形態的圖案，可以縮短製程時間，同時可以使面板上的開口率顯著提高，具有可以適用於PM-OLED、AM-OLED、AM-LCD、PDP基板之製造程序的效果。
 較佳實施例之詳細說明
以下將詳細說明本發明。
本發明之感光性樹脂組成物的特徵在於含有a)以前述化學式1表示之聚羥基苯乙烯系樹脂；b)1,2-重氮醌化合物；c)光酸產生劑；d)以前述化學式2表示之三聚氰胺交聯劑；及e)溶劑。
本發明中所使用之前述a)以前述化學式1表示之聚羥基苯乙烯系樹脂是負型(negative type)時，在交聯鍵結物的存在下會形成交聯鍵結而對鹼性顯像液為不溶性，發生交聯鍵結之前對於鹼性顯像液則是可溶性的，故可形成圖案。另外，如果是正型(positive type)的，那麼因為1,2-重氮醌化合物的存在，對於鹼性顯像液是不溶性，曝光後對於鹼性顯像液則是會變成可溶性，所以可以形成圖案。
以前述化學式1表示之聚羥基苯乙烯系樹脂以利用自 由基聚合法來製造為宜，另外也可以利用陰離子聚合等之一般方法來製造共聚物。
具體而言，利用自由基聚合法製造以前述化學式1表示之聚羥基苯乙烯系樹脂時，是在溶劑及聚合起始劑存在下，使乙醯氧基苯乙烯(acetoxystyrene)與苯乙烯聚合，經過沈澱及過濾，再藉真空乾燥(vacuum drying)程序除去未反應單體，然後使之溶解於甲醇作成樹脂溶液，在氨水及醋酸的存在下使之進行水解，再度使其沈澱並經過濾，再藉真空乾燥程序製造最終的聚羥基苯乙烯系樹脂。
以前述化學式1表示之聚羥基苯乙烯系樹脂以聚苯乙烯換算重量平均分子量(Mw)為3,000~30,000者為佳，更佳為5,000~20,000。當前述聚苯乙烯換算重量平均分子量不滿3,000時，在正型的殘膜率有下降的問題，而在負型的感光速度(photospeed)則有降低的問題；超過30,000時，如果在正型感光速度有下降的問題，在負型則有引發膜渣產生之虞。
本發明中所使用之前述b)的1,2-重氮醌化合物在感光性樹脂組成物內是被當做感光化合物來使用。
前述1,2-重氮醌化合物可以使用1,2-重氮醌4-磺酸酯(1,2-quinone diazide sulfonate)、1,2-重氮醌5-磺酸酯，或1,2-重氮醌6-磺酸酯等。
如前所述之重氮醌化合物可以使重氮萘醌鹵代磺酸化合物(naphtoquinone diazide haloid sulfonate)與酚化合物在弱鹼下進行反應而製成。
前述酚化合物可以使用2,3,4-三羥基二苯甲酮(2,3,4-trihydroxybenzophenone)、2,4,6-三羥基二苯甲酮、2,2’-四羥基二苯甲酮、4,4’-四羥基二苯甲酮、2,3,4,3’-四羥基二苯甲酮、2,3,4,4’-四羥基二苯甲酮、2,3,4,2’-四羥基-4’-甲基二苯甲酮、2,3,4,4’-四羥基-3’-甲氧基二苯甲酮、2,3,4,2’-五羥基二苯甲酮、2,3,4,6’-五羥基二苯甲酮、2,4,6,3’-六羥基二苯甲酮、2,4,6,4’-六羥基二苯甲酮、2,4,6,5’-六羥基二苯甲酮、3,4,5,3’-六羥基二苯甲酮、3,4,5,4’-六羥基二苯甲酮、3,4,5,5’-六羥基二苯甲酮、雙(2,4-二羥苯基)甲烷(bis(2,4-dihydroxyphenyl)methane)、雙(p-羥苯基)甲烷、三(p-羥苯基)甲烷、1,1,1-三(p-羥苯基)乙烷、雙(2,3,4-三羥苯基)甲烷、2,2-雙(2,3,4-三羥苯基)丙烷、1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羥苯基)-3-苯基丙烷、4,4’-[1-[4-[1-[4-羥苯基]-1-甲乙基]苯基]亞乙基]雙酚(4,4’-[1-[4-[1-[4-hydroxyphenyl]-1-methylethyl]phenyl]ethylidene]bisphenol)，或((2,5-二甲基-4-羥苯基)-2-羥苯基甲烷)等，前述化合物可以單獨使用或混合2種以上來使用。
用如前所述之酚化合物和重氮萘醌鹵代磺酸化合物來合成重氮醌化合物時，酯化度以50~90%為佳，前述酯化度不滿50%時會有殘膜率惡化的情形，超過90%時則有在圖案上產生膜渣的問題。
前述1,2-重氮醌化合物相對於a)之聚羥基苯乙烯系樹脂100重量份以含有5~50重量份為佳，更佳為含有10~40重量份。當其含量不滿5重量份時，曝光部與非光曝部的溶解 度差縮小，難以形成圖案，超過50重量份時若短時間照射光線將會殘留多量的未反應1,2-重氮醌化合物，對顯像液之鹼性水溶液的溶解度變得太低，有難以顯像的問題。
本發明中所使用之前述c)的光酸產生劑通過曝光或曝光後烘烤而形成酸並使之擴散，引發a)之聚基苯乙烯樹脂與d)之三聚氰胺系交劑的交聯反應而發揮形成圖案的作用。
前述光酸產生劑只要是可以利用光而產生的化合物，使用何者當然都可以，合適的是，鋶鹽(Sulfonium Salt)、錪鹽(iodonium salt)之類的離子性光酸產生劑，磺醯重氮甲烷(sulfonyl diazomethane)系、N-磺醯氧醯亞胺(N-sulfonyl-oxy imide)系、安息香磺酸酯(benzoin sulfonate)系、硝基苄基磺酸酯(nitrobenzyl sulfonate)系、碸系、乙二肟(glyoxime)系，或三嗪系等。
具體而言，前述鋶鹽為鋶陽離子與磺酸根陰離子的鹽類，關於前述鋶陽離子有，三酚鋶(triphenol sulfonium)、(4-tert-丁氧苯基)二苯基鋶((4-tert-butoxyphenyl)diphenyl sulfonium)、雙(4-tert-丁氧苯基)苯基鋶、4-甲苯基二苯基鋶(4-methylphenyl diphenyl sulfonium)、三(4-甲基苯基鋶)(tris(4-methylphenyl sulfonium))、4-tert-丁基苯基二苯基鋶(4-tert-butylphenyl diphenyl sulfonium)、三(4-tert-丁基苯基)鋶(tris(4-tert-butylphenyl)sulfonium)、三(4-tert-丁氧基苯基)鋶、(3-tert-丁氧基苯基)二苯基鋶、雙(3-tert-丁氧基苯基)苯基鋶、三(3-tert-丁氧基苯基)鋶、(3,4-二tert-丁氧基苯基) 二苯基鋶、雙(3,4-二tert-丁氧基苯基)苯基鋶、三(3,4-二tert-丁氧基苯基)鋶、二苯基(4-硫代苯氧基苯基)鋶(diphenyl(4-thiophenoxyphenyl)sulfonium)、(4-tert-丁氧羰基甲基氧苯基)二苯基鋶((4-tert-butoxycarbonylmethyloxyphenyl)diphenyl sulfonium)、三(4-tert-丁氧羰基甲基氧苯基)鋶、(4-tert-丁氧苯基)雙(4-二甲胺基苯基)鋶、三(4-二甲胺基苯基)鋶、2-萘基二苯基鋶、二甲基-2-萘基鋶、4-羥苯基二甲基鋶、4-甲氧苯基二甲基鋶、三甲基鋶、二苯基甲基鋶、甲基-2-氧丙基苯基鋶(methyl-2-oxopropylphenyl sulfonium)、2-氧環己基甲基鋶、三萘基鋶，或三苯基鋶等；前述磺酸根中有，三氟甲烷磺酸根(trifluoromethane sulfonate)、九氟丁烷磺酸根(nonafluorobutane sulfonate)、十七氟辛烷磺酸根(heptadeca-fluoroocthane sulfonate)、2,2,2-三氟乙烷磺酸根、五氟苯磺酸根、4-三氟甲基苯磺酸根、4-氟苯磺酸根、甲苯磺酸根、苯磺酸根、萘磺酸根、樟腦磺酸根、壬烷磺酸根、十二烷基苯磺酸根、丁烷磺酸根或甲烷磺酸根等。
前述錪鹽為錪陽離子和磺酸根(磺酸陰離子)的鹽，前述錪陽離子當中有，二苯基錪(diphenyl iodonium)、雙(4-tert-丁基苯基)錪、4-tert-丁氧基苯基錪，或4-甲氧苯基苯基錪等；前述磺酸根當中有，三氟甲烷磺酸根、九氟丁烷磺酸根、十七氟辛烷磺酸根、2,2,2-三氟乙烷磺酸根、五氟苯磺酸根、4-三氟甲基苯磺酸根、4-氟苯磺酸根、甲苯磺酸根、苯磺酸根、萘磺酸根、樟腦磺酸根、壬烷磺酸根、十二烷 基苯磺酸根、丁烷磺酸根或甲烷磺酸根等。
前述磺醯重氮甲烷系光酸產生劑當中有，雙(乙磺醯基)重氮甲烷、雙(1-甲丙磺醯基)重氮甲烷(bis(1-methylpropyl-sulfonyl)diazomethane)、雙(2-甲丙磺醯基)重氮甲烷、雙(1,1-二甲乙磺醯基)重氮甲烷、雙(環己基磺醯基)重氮甲烷、雙(全氟異丙基磺醯基)重氮甲烷(bis(perfluoro-isopropylsulfonyl)diazomethane)、雙(苯磺醯基)重氮甲烷、雙(4-甲基苯磺醯基)重氮甲烷、雙(2,4-二甲基苯磺醯基)重氮甲烷、雙(2-萘磺醯基)重氮甲烷、4-甲基苯磺醯基苯甲醯重氮甲烷(4-methylphenylsulfonylbenzoyl diazomethane)、tert-羰丁基-4-甲基苯磺醯重氮甲烷(tert-butylcarbonyl-4-methylphenylsulfonyl diazomethane)、2-萘磺醯基苯甲醯重氮甲烷、4-甲基苯磺醯基-2-萘甲醯重氮甲烷(4-methyl-phenylsulfonyl-2-naphthoyl diazomethane)、甲磺醯苯甲醯重氮甲烷(methylsulfonylbenzoyl diazomethane)，或tert-丁氧羰基-4-甲基苯磺醯重氮甲烷等之雙磺醯重氮甲烷和磺醯羰基重氮甲烷。
前述N-磺醯氧醯亞胺系光酸產生劑中有，琥珀醯亞胺(succinimide)、萘二甲醯亞胺(naphthalimide)、苯二醯亞胺(phthalimide)、環己二碳醯亞胺(cyclohexyl dicarboimide)、5-冰片烯-2,3-二碳醯亞胺(5-norbornene-2,3-dicarbo-imide)，或7-氧雜雙環[2,2,1]-5-庚烯-2,3-二碳醯亞胺(7-oxa-bicyclo 2,2,1)-5-heptene-2,3-dicarboimide)等之醯亞胺骨架與三氟甲烷磺酸根、九氟丁烷磺酸十七氟辛烷磺酸根、 2,2,2-三氟乙烷磺酸根、五氟苯磺酸根、4-三氟甲基苯磺酸根、4-氟苯磺酸根、甲苯磺酸根、苯磺酸根、萘磺酸根、樟腦磺酸根、壬烷磺酸根、十二烷基苯磺酸根、丁烷磺酸根或甲烷磺酸根等的組合之化合物。
前述安息香磺酸酯系光酸產生劑當中有，安息香甲苯磺酸酯(benzoin tosylate)、安息香甲磺酸酯(benzoin mesylate)，或安息香丁基磺酸酯(benzoin butanesulfonate)等。
前述硝基苄基磺酸酯系光酸產生劑當中有，2,4-二硝基苄基磺酸酯(2,4-dinitrobenzyl sulfonate)、2-硝基苄基磺酸酯或2，6-二硝基苄基磺酸酯等；前述磺酸根當中有，三氟甲烷磺酸根、九氟丁烷磺酸根、十七氟辛烷磺酸根、2,2,2-三氟乙烷磺酸根、五氟苯磺酸根、4-三氟甲基苯磺酸根、4-氟苯磺酸根、甲苯磺酸根、苯磺酸根、萘磺酸根、樟腦磺酸根、壬烷磺酸根、十二烷基苯磺酸根、丁烷磺酸根或甲烷磺酸根等。另外，也可以使用將苄基側的硝基取代成三氟甲基的化合物。
前述碸系光酸產生劑當中有，雙(苯磺醯基)甲烷、雙(4-甲基苯磺醯基)甲烷、雙(2-萘磺醯基)甲烷、2,2-雙(苯磺醯基)丙烷、2,2-雙(4-甲基苯磺醯基)丙烷、2,2-雙(2-萘磺醯基)丙烷、2-甲基-2-(p-甲苯磺醯基)丙醯酮、2-(環己羰基)-2-(p-甲苯磺醯基)丙烷、或2,4-二甲基-2-(p-甲苯磺醯基)戊-3-酮等。
前述乙二肟系光酸產生劑當中有，雙-o-(p-甲苯磺醯 基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(p-甲苯磺醯基)-α-二環己基乙二肟、雙-o-(p-甲苯磺醯基)-2,3-戊二酮乙二肟(bis-o-(p-toluenesulfonyl)-2,3-pentadioneglyoxime)、雙-o-(p-甲苯磺醯基)-2-甲基-3,4-戊二酮乙二肟、雙-o-(n-丁基磺醯基)-α-二甲基乙二肟(bis-o-(n-butanesulfonyl)-α-dimethyl-glyoxime)、雙-o-(n-丁基磺醯基)-α-二環己基乙二肟、雙-o-(n-丁基磺醯基)-2,3-戊二酮乙二肟、雙-o-(n-丁基磺醯基)-2-甲基-3,4-戊二酮乙二肟、雙-o-(甲基磺醯基)-α-二甲基乙二肟(bis-o-(methanesulfonyl)-α-dimethylglyoxime)、雙-o-(三氟甲基磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(1,1,1-三氟乙基磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(tert-丁基磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(全氟辛基磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(環己基磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(苯磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(p-氟苯基磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(p-tert-丁基苯磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(二甲苯磺醯基)-α-二甲基乙二肟、或雙-o-(樟腦磺醯基)-α-二甲基乙二肟(bis-0-(camphorsulfonyl)-α-dimethylglyoxime)等。
前述三嗪系光酸產生劑當中有PDM-三嗪(PDM-Triazine)、WS-三嗪(WS-Triazine)、二甲氧基三嗪(Dimethyl-Triazine)、MP-三嗪(MP-Triazine)、TFE-三嗪(TFE-Triazine)、或TME-三嗪(TME-Triazine)( )等。
如前所述之光酸產生劑相對於a)之聚羥基苯乙烯系樹脂100重量份以含有1~20重量份為宜，更佳為含有1~10重量 份。當其含量不滿1重量份時，會有感光速度(photospeed)降低的問題，超過20重量份時則有滲氣(outgassing)和保存安定性降低的問題。
本發明中所使用的前述d)之以前述化學式2表示的三聚氰胺交聯劑會與a)之聚羥基苯乙烯系樹脂形成交聯構造。
前述三聚氰胺交聯劑相對於a)之聚羥基苯乙烯系樹脂100重量份以含有1~30重量份為宜，更好的是含有1~20重量份。當其含量不滿1重量份時，在負型的情況下會有感光速度降低的問題，超過30重量份時則有保存安定性降低的問題。
本發明所使用之前述e)的溶劑要發揮使絕緣膜與隔離膜具有平坦性和，不會發生塗層沾染而形成均一的圖案輪廓(pattern profile)的作用。
前述溶劑可以使用，甲醇、乙醇、苯甲醇、己醇等之醇類；乙二醇甲醚醋酸酯(ethyleneglycol methylether acetate)、乙二醇乙醚醋酸酯等之乙二醇烷基醚醋酸酯類；乙二醇甲醚丙酸酯、乙二醇乙醚丙酸酯等之乙二醇烷基醚丙酸酯類；乙二醇甲醚、乙二醇乙醚等之乙二醇單烷基醚類；二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚等之二乙二醇烷基醚類；丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚醋酸酯、丙二醇丙醚醋酸酯等之丙二醇烷基醚醋酸酯類；丙二醇甲醚丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯等之丙二醇烷基醚丙酸酯類；丙二醇甲 醚、丙二醇乙醚、丙二醇丙醚、丙二醇丁醚等之丙二醇單烷基醚類；二丙二醇二甲醚、二丙二醇二乙醚等之二丙二醇烷基醚類；丁二醇單甲醚、丁二醇單乙醚等之丁二醇單烷基醚類；或者二丁二醇二甲醚、二丁二醇二乙醚等之二丁二醇烷基醚類。
前述溶劑之含量以使全體感光性樹脂組成物的固形分含量變成10~50重量%為佳，更佳為變成10~40重量%。當前述全體組成物之固形分含量不滿10重量%時，塗層厚度會變薄，有塗層平坦性降低的問題；超過50重量%時，塗層厚度變厚，有塗布時會對塗布設備造成過度負擔的問題。
由如前所述的成分組成之本發明的感光性樹脂組成物可以依需要而追加含有f)界面活性劑。
前述界面活性劑的作用是要提高感光性組成物的塗布性和顯像性。
前述界面活性劑可以使用聚氧乙烯辛基苯基醚(poly-oxyethylene octylphenylether)、聚氧乙烯壬基苯基醚、F171、F172、F173(商品名：大日本化學工業株式会社)、FC430、FC431(商品名：住友株式会社)，或KP341(商品名：信越化學工業株式会社)等。
前述界面活性劑相對於前述a)之聚羥基苯乙烯系樹脂100重量份以含有0.0001~2重量份為宜，當其含量在前述範圍內時，在提高感光性組成物的塗布性和顯像性上會更好。
由如前所述的成分所組成之本發明的感光性樹脂組成物用0.1~0.2μm的微孔濾器(minipore filter)過濾後再使用為 佳。
另外，本發明在提供包含前述感光性樹脂組成物的硬化體之顯像板(display)以及利用前述感光性樹脂組成物來形成顯像板的圖案的方法時，本發明之感光性樹脂組成物不僅在PM-OLED，在AM-OLED、AM-LCD以及PDP基板上，都可以單獨地應用為絕緣膜和柱狀間隔物(column spacer)。
具體而言，PM-OLED基板上的圖案形成方法之特徵係在同時形成絕緣膜和隔離膜以形成PM-OLED基板的圖案的方法中，使用前述感光性樹脂組成物。
利用前述感光性樹脂組成物形成PM-OLED基板的圖案的方法之更具體的例子係如下所載。
首先，以噴霧法、輥塗法、旋轉塗布法等將本發明之感光性樹脂組成物塗布於基板表面，藉預烤除去溶劑，形成塗膜。此時，前述預烤以在80~120℃的溫度實施1~15分鐘為佳。
其後，經由預先準備的圖案將可見光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X射線等照射在前述已形成的塗膜上，依需要實施曝後烤(PEB,Post Exposure Bake)和整片曝光(Flood Exposure)之後，用顯像液顯像而除去不需要的部分，藉以形成預定的圖案。
前述顯像液以使用鹼性水溶液者為佳，具體而言可以使用氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉等之無機鹼類；乙胺、n-丙胺等之1級胺類；二乙胺等之2級胺類；三甲胺、甲基 二乙胺(methyl diethyl amine)、二甲基乙胺(dimethyl ethyl amine)、三乙胺等之3級胺類；二甲基乙醇胺、甲基二乙醇胺、三乙醇胺等之醇胺類；氫氧化四甲銨(Tetra-methylammonium Hydroxide)、氫氧化四乙銨等之4級銨鹽的水溶液等。此時，前述顯像液係將鹼性化合物以0.1~10重量%的濃度溶解供使用，也可以添加適量之如甲醇、乙醇等的水溶性有機溶劑及界面活性劑。
另外，用如前所述之顯像液顯像後，再用超純水洗淨30~90秒鐘除去不必要的成分並加以乾燥而形成圖案，利用烤箱等之加熱裝置在130~250℃的溫度加熱處理30~90分鐘可以獲得最終圖案。
依據本發明之感光性樹脂組成物在感度、絕緣性等各種性能上都很優異，特別是因其優異的耐熱信而可以增加在後續製程的信賴度及壽命。另外，以一種感光性樹脂組成物就可以同時形成絕緣膜和隔離膜這2種形態的圖案，可以縮短製程時間，同時可以使面板上的開口率顯著提昇，具有可以適用於PM-OLED、AM-OLED、AM-LCD、PDP基板的製造程序之優點。
以下雖將提示實施例以助於理解本發明，惟以下實施例僅是例示本發明而非用以將本發明之範圍限定在以下實施例。
[實施例] 實施例1 (聚羥基苯乙烯系樹脂之製造)
將AIBN6重量份、四羥基矽烷(tetrahydroxy silane)400重量份、乙醯氧基苯乙烯(acetoxystyrene)80重量份，以及苯乙烯20重量份置入配備有冷卻管與懸臂式攪拌器(overhead stirrer)的燒瓶中，以氮取代後緩慢地加以攪拌。使前述反應溶液昇溫到65℃，一邊維持該溫度28小時，一邊製造含有乙醯氧基苯乙烯及苯乙烯共聚物的聚合物溶液。
其後，為除去前述所製成之含有乙醯氧基苯乙烯及苯乙烯共聚物溶液的未反應單體，使前述聚合物溶液500重量份相對於5,000重量份之作為不良溶劑(poor solvent)使用的n-己烷(hexane)產生沈澱，然後經由利用篩網(mesh)的過濾(filtering)程序將溶解有未反應物的不良溶劑除去。之後，在40℃進行真空乾燥將含有過濾程序後所殘留之含有未反應單體的溶劑除去，製成乙醯氧基苯乙烯及苯乙烯共聚物。
然後，使前述乙醯氧基苯乙烯及苯乙烯共聚物溶解於甲醇中形成20重量%的聚合物溶液，相對於100重量份之前述20重量%的聚合物溶液加入28重量%的NH3 OH溶液4.8重量份，以及醋酸4.7重量份，在40℃攪拌8小時進行水解(hydrolysis)。之後，利用超純水作為不良溶劑，在40℃進行真空乾燥，製造重量平均分子量為7,000之聚羥基苯乙烯系樹脂。此時，重量平均分子量是利用GPC測定之聚乙烯換算平均分子量。
(1,2-重氮醌化合物之製造)
使1莫耳之4,4’-[1-[4-[1-[4-羥苯基]-1-甲乙基]苯基]亞 乙基]雙酚(4,4’-[1-[4-[1-[4-hydroxyphenyl]-1-methylethyl]phenyl]ethylidene]bisphenol)與2莫耳之1,2-重氮萘醌-5-磺酸[氯化物](1,2-naphthoquinone diazide-5-sufonic acid[chloride])進行縮合反應，製造4,4’-[1-[4-[1-[4-羥苯基]-1-甲乙基]苯基]亞乙基]雙酚1,2-重氮萘醌-5-磺酸酯。
(感光性樹脂組成物之製造)
將前述所製成之聚羥基苯乙烯系樹脂100重量份和前述所製成之4,4’-[1-[4-[1-[4-羥苯基]-1-甲乙基]苯基]亞乙基]雙酚1,2-重氮萘醌-5-磺酸酯30重量份、作為光酸產生劑之三嗪系TME-三嗪(TME-Triazine)3重量份，以及以下述化學式3所表示之三聚氰胺交聯劑10重量份加以混合。然後，使之溶解於丙二醇甲醚醋酸酯中形成前述混合物之固形分含量為30重量%的狀態，之後再用0.2μm的微孔濾器過濾以製成感光性樹脂組成物。
實施例2
將在前述實施例1製造聚羥基苯乙烯系樹脂時作為單體使用之乙醯氧基苯乙烯80重量份及苯乙烯20重量份，用乙醯氧基苯乙烯90重量份及苯乙烯10重量份取代，除了水解時是使用28重量%的NH3 OH溶液5.4重量份及醋酸5.3重量份以外，以和前述實施例1相同的方法實施以製造感光性樹脂組成物。
實施例3
將在前述實施例1製造聚羥基苯乙烯系樹脂時作為單體使用之乙醯氧基苯乙烯80重量份及苯乙烯20重量份，用乙醯氧基苯乙烯70重量份及苯乙烯30重量份取代，除了水解時是使用28重量%的NH3 OH溶液4.2重量份及醋酸4.1重量份以外，以和前述實施例1相同的方法實施以製造感光性樹脂組成物。
實施例4
將在前述實施例1製造聚羥基苯乙烯系樹脂時作為單體使用之乙醯氧基苯乙烯80重量份及苯乙烯20重量份，用乙醯氧基苯乙烯100重量份取代，除了水解時是使用28重量%的NH3 OH溶液6.0重量份及醋酸5.9重量份以外，以和前述實施例1相同的方法實施以製造感光性樹脂組成物。
實施例5
除了在前述實施例1製造聚羥基苯乙烯系樹脂時使用5重量份的AIBN以外，以和前述實施例1相同的方法實施以製造感光性樹脂組成物。
實施例6
除了在前述實施例1製造聚羥基苯乙烯系樹脂時使用4重量份的AIBN以外，以和前述實施例1相同的方法實施以製造感光性樹脂組成物。
實施例7
除了在前述實施例1製造感光性樹脂組成物時當作光酸產生劑使用的三嗪系TME-三嗪(TME-Triazine)用雙(乙磺醯基)重氮來取代以外，以和前述實施例1相同的方法實施以製造感光性樹脂組成物。
實施例7
除了在前述實施例1製造感光性樹脂組成物時當作光酸產生劑使用的三嗪系TME-三嗪(TME-Triazine)用硝基苄基磺酸酯系的2,4-二硝基苄基磺酸酯來取代以外，以和前述實施例1相同的方法實施以製造感光性樹脂組成物。
比較例1 (酚醛樹脂之製造)
將45g的間甲酚(meta-cresol)、55g的對甲酚(para-cresol)、65g的甲醛及0.5g的草酸(oxalic acid)置入懸臂式攪拌機，攪拌均勻以製造均質混合物。在95℃加熱前述均質混合物，維持該溫度4小時。將回流冷凝器置換成蒸餾裝置，使均質混合物的溫度達到110℃，蒸餾2小時。在180℃施行真空蒸餾2小時以除去殘餘的單體，在室溫冷卻被熔融的酚醛樹脂。之後，以GPC測定重量平均分子量，收得重量平均分子量為3500的酚醛樹脂。此時，重量平均分子量是用GPC測定之聚苯乙烯換算平均分子量。
(感光性樹脂組成物之製造)
除了使用前述所製造之酚醛樹脂取代在前述實施例1的聚基苯乙烯系樹脂外，以和前述實施例1相同的方法實施以製造感光性樹脂組成物。
比較例2 (酚醛樹脂之製造)
除了在前述比較例1中使用100g的甲醛，而且在95℃加熱反應混合物，並維持該溫度6小時以外，以和前述比較例1同樣的方法實施以製造重量平均分子量為7,000的酚醛樹脂。
(感光性樹脂組成物之製造)
除了使用前述所製造之酚醛樹脂取代在前述實施例1的聚基苯乙烯系樹脂外，以和前述實施例1相同的方法實施以製造感光性樹脂組成物。
比較例3
除了使用以下述化學式4表示之聚醯亞胺系樹脂取代在前述實施例1製造感光性樹脂組成物時所使用的聚基苯乙烯系樹脂外，以和前述實施例1相同的方法實施以製造重感光性樹脂組成物。
比較例4-1(正型)
除了使用以前述化學式4所表示之聚醯亞胺系樹脂取代在前述實施例1製造感光性樹脂組成物時所使用的聚羥基苯乙烯系樹脂，而且不使用光酸產生劑和三聚氰胺交聯劑之外，以和前述實施例1相同的方法實施以製造正型感光性樹脂組成物。
比較例4-2(負型)
除了使用在前述比較例2所製造之酚醛樹脂取代在前述實施例1製造感光性樹脂組成物時所使用的聚羥基苯乙烯系樹脂，而且不使用4,4’-[1-[4-[1-[4-羥苯基]-1-甲乙基]苯基]亞乙基]雙酚1,2-重氮萘醌-5-磺酸酯之外，以和前述實施例1相同的方法實施以製造負型感光性樹脂組成物。
採用在前述實施例1至8以及比較例1至3所製造之感光性樹脂組成物，以下述1步驟(step)製程一般的方法形成膜；採用在比較例4所製造之感光性樹脂組成物，以下述2步驟(step)製程一般的方法形成膜，再以如下所述的方法用其測定耐熱性、開口率及絕緣性，其結果示於下列表1。
A)1步驟(step)製程
(1)正型感度-在蒸鍍有ITO之370mm×470mm的玻璃基板上，用旋轉塗布機塗布在前述實施例1至8以及比較例1至3所製造之感光性樹脂組成物後，在熱板上以110℃預烤2分鐘，形成厚度為6.0μm的膜。在前述所形成的膜上，用預定的圖案遮罩(pattern mask)，將在435nm的強度為20mW/cm2 的紫外線，照射以50μm孤立圖案(isolate pattern)CD基準dose-to-clear量之後，用2.38重量%的氫 氧化四甲銨水溶液在23℃顯像90秒鐘後，以超純水洗淨1分鐘，獲得厚度5.0μm的圖案膜(第1圖)。在第1圖中，以黑色表示的部分代表遮罩，梯形的形狀則表示顯像後的感光性樹脂。
(2)負型感度-在前述(1)所形成的膜上用預定的圖案遮罩(pattern mask)將在435nm的強度為20mW/cm2 的紫外線，照射以25μm孤立圖案(isolated pattern)CD基準dose-to-clear量之後，在熱板上以110℃施行曝後烤(PEB)90秒(第2圖)。在第2圖中，以黑色表示的部分代表2個遮罩，梯形內之斜線表示的黑色部分代表PEB步驟後發生交聯的部分，白色部分代表即使在PEB步驟後也沒有發生交聯的部分。
(3)整片曝光感度-如第3圖所示，在沒有遮罩(Mask Free)的狀態下全面地照射會殘留絕緣膜部1.0μm的曝光量，然後用2.38重量%之氫氧化四甲銨水溶液在23℃顯像100秒之後，再用超純水洗淨1分鐘。
如前所述，經由(1)~(3)的步驟，獲得隔壁部厚度4.0μm，絕緣膜部厚度1.0μm，正型的角度(Angle)θ 1為40~50度，負型圖案的角度(Angle)θ 2為60~70度之圖案膜(第4圖)。
依據如前所述的方法用1種感光性樹脂形成絕緣膜及隔離膜的方式，比如下所述之2步驟(step)製程用2種感光性樹脂形成絕緣膜及隔離膜的方式邊界較好。
B)2步驟(step)製程
2步驟製程的情形因為不是同時形成絕緣膜及隔離膜，所以必須經由2次的製程來形成這些膜。另外，形成絕緣膜後，因為隔離板之整列(Align)邊界，必須將絕緣膜CD做得比1步驟製程大。
(1)絕緣膜製程-首先，用旋轉塗布機將在前述比較例4-1所製成的正型醯亞胺系感光性樹脂組成物塗布在蒸鍍了ITO之370mm×470mm的玻璃基板上，然後在熱板上以110℃預烤2分鐘，形成厚度1.5μm的膜。在前述所形成的膜上，用預定的圖案遮罩(pattern mask)，將在435nm的強度為20mW/cm2 的紫外線，照射以60μm孤立圖案(isolate pattern)CD基準dose-to-clear量之後，用2.38重量%的氫氧化四甲銨水溶液在23℃顯像90秒鐘後，以超純水洗淨1分鐘。然後在烘箱中以230℃加熱60分鐘使之硬化，獲得60μmCD與1.0μm厚度的最終圖案膜。
(2)隔離膜製程一用旋轉塗布機將在前述比較例4-2所製成的負型酚醛系感光性樹脂組成物塗布於前述(1)之絕緣膜形成製程中所形成的膜上，然後在熱板上以110℃預烤2分鐘，形成厚度5.0μm的膜。
將預定的圖案遮罩整列(Align)在前述(1)所形成之60μmCD與1.0μm厚度的絕緣膜上，然後將在435nm的強度為20mW/cm2 的紫外線，照射以孤立圖案(isolate pattern)30μmCD基準dose-to-clear量之後，在熱板上以110℃施行曝後烤90秒。之後，以2.38重量%的氫氧化四甲銨水溶液在23℃顯像60秒，用超純水洗淨1分鐘，獲得4.0μm的圖案膜。
C)耐熱性
在烘箱中以230℃加熱依據前述1步驟(step)製程及2步驟製程所分別製得之圖案膜使之硬化而獲得最終圖案膜。
通常，當正型的角度(Angle)θ 1低時，會有發生漏電流(Leakage Current)的情形，而當負型的角度(Angle)θ 2高時，則有在有機膜及金屬膜的蒸鍍時造成問題的情形。因此，正型的角度(Angle)θ 1為30~50度，負型的角度(Angle)θ 2為60~75度時以○表示，而正型的角度(Angle)θ 1未達30度，負型的角度(Angle)θ 2在75度以上時則表示為×。
D)開口率
製造OLED面板時，將排除了在蒸鍍有ITO之370mm×470mm的玻璃基板上形成絕緣膜和隔離膜時之絕緣膜和隔離膜的ITO面積當作開口率(%)進行評估。
E)絕緣性
製作具有經由前述A)至D)的製程所形成之厚度1.0μm且相當於1mm2 的面積之絕緣膜的TFT元件，利用1-V Curve測定絕緣性。
通常，在PM-OLED中因為將面板尺寸放大，所以需要有高電壓驅動，此時的絕緣性就很重要。因此，測定絕緣破壞電壓(Breakdown Voltage)如果在2MV/cm以上和，測定漏電流密度(Leakage Current Density)如果不滿10-9 A/cm2 時，就以○表示，測定絕緣破壞電壓(Breakdown Voltage)如果不滿2MV/cm和，測定漏電流密度(Leakage Current Density)如果在10-9 A/cm2 以上時，就以×表示，
如前述表1所示，依據本發明以實施例1至8製成之感光性樹脂組成物和比較1至4相比，無論耐熱性、開口率及絕緣性的任一者都較優，特別是耐熱性的情形和比較例1至4相比，可以確認顯著地較優，由此可知，應用到OLED製造程序時，依據本發明之感光性樹脂組成物可以得到較優良的結果。
反之，在比較例1至2的情形中有耐熱性降低而發生剝離(separation)的問題，絕緣性變差而有所謂顯示器壽命下降的短處。另外，雖然比較例3的情形未形成反向角(Reverse Angle)，而比較例4的情形則沒有絕緣性的問題，但是造成開口率顯著下降而可知在顯示器的大型化上會有困難。
以上雖僅就本發明所記載之具體例做詳細說明，惟對於熟習此項技藝者而言當然明白可以在本發明之技術思想 範圍做多樣的變形及修正，而這樣的變形及修正當然都屬於本發明之申請專利範圍。
第1圖係本發明之實施例及比較例，針對以1步驟製程形成絕緣膜及隔離膜時之正型感應測定方法的概略示意圖。
第2圖係本發明之實施例及比較例，針對以1步驟製程形成絕緣膜及隔離膜時之負型感應測定方法的概略示意圖。
第3圖係本發明之實施例及比較例，針對以1步驟製程形成絕緣膜及隔離膜時之前面曝光感應測定方法的概略示意圖。
第4圖係本發明之實施例及比較例，以1步驟製程形成絕緣膜及隔離膜之正型與負型圖案的最終斷面圖。

Claims (11)

  1. 一種感光性樹脂組成物，且可藉由該一種感光性樹脂組成物來形成絕緣膜(insulator)及隔離膜(separator)之兩種型態的圖案，其特徵在於，該感光性樹脂組成物中含有：a)以下述化學式1表示且聚苯乙烯換算重量平均分子量(Mw)為3,000至30,000之聚羥基苯乙烯系樹脂100重量份；b)1,2-重氮醌化合物5至50重量份；c)光酸產生劑1至20重量份；d)以下述化學式2表示之三聚氰胺交聯劑1至30重量份；及e)溶劑，其使得感光性樹脂組成物內之全體固形分含量成為10至50重量%： 前述化學式1之式中，a、b表示各單體間之莫耳比，a為1~10，b為0~9，a+b=10；[化學式2] 前述化學式2之式中，R1 至R3 各自獨立，為碳數1~4的烷基，R4 至R6 各自獨立，為氫基，或為碳數1~4的烷基。
  2. 如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其中前述a)之以化學式1表示的聚羥基苯乙烯系樹脂係以自由基聚合法製成。
  3. 如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其中前述a)之以化學式1表示的聚羥基苯乙烯系樹脂是在溶劑及聚合起始劑存在下，使乙醯氧基苯乙烯與苯乙烯自由基聚合，經過沈澱及過濾，再藉真空乾燥程序除去未反應單體，然後使之溶解於甲醇作成樹脂溶液，在氨水及醋酸的存在下使之進行水解，再度使其沈澱並經過濾，再藉真空乾燥程序製成。
  4. 如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其中前述b)之1,2-重氮醌化合物是從1,2-重氮醌4-磺酸酯、1,2-重氮醌5-磺酸酯及1,2-重氮醌6-磺酸酯所組成的族群中選出1種以上。
  5. 如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其中前述c)之光酸產生劑是從鋶鹽、錪鹽、磺醯重氮甲烷系光酸產生劑、N-磺醯氧醯亞胺系光酸產生劑、安息香磺酸酯系光酸產生劑、硝基苄基磺酸酯系光酸產生劑、碸系光酸產生劑、乙二肟系光酸產生劑、及三嗪系光酸產生劑所組成的族群中選出1種以上。
  6. 如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其中前述c)之光酸產生劑係從下述所組成的族群中選出1種以上：從三酚鋶、(4-tert-丁氧苯基)二苯基鋶、雙(4-tert-丁氧苯基)苯基鋶、4-甲苯基二苯基鋶、三(4-甲基苯基鋶)、4-tert-丁基苯基二苯基鋶、三(4-tert-丁基苯基)鋶、三(4-tert-丁氧基苯基)鋶、(3-tert-丁氧基苯基)二苯基鋶、雙(3-tert-丁氧基苯基)苯基鋶、三(3-tert-丁氧基苯基)鋶、(3,4-二tert-丁氧基苯基)二苯基鋶、雙(3,4-二tert-丁氧基苯基)苯基鋶、三(3,4-二tert-丁氧基苯基)鋶、二苯基(4-硫代苯氧基苯基)鋶、(4-tert-丁氧羰基甲基氧苯基)二苯基鋶、三(4-tert-丁氧羰基甲基氧苯基)鋶、(4-tert-丁氧苯基)雙(4-二甲胺基苯基)鋶、三(4-二甲胺基苯基)鋶、2-萘基二苯基鋶、二甲基-2-萘基鋶、4-羥苯基二甲基鋶、4-甲氧苯基二甲基鋶、三甲基鋶、二苯基甲基鋶、甲基-2-氧丙基苯基鋶、2-氧環己基甲基鋶、三萘基鋶、及三苯基鋶所組成的族群中選出之鋶陽離子；從三氟甲烷磺酸根、九氟丁烷磺酸根、十七氟辛烷磺酸根、2,2,2- 三氟乙烷磺酸根、五氟苯磺酸根、4-三氟甲基苯磺酸根、4-氟苯磺酸根、甲苯磺酸根、苯磺酸根、萘磺酸根、樟腦磺酸根、壬烷磺酸根、十二烷基苯磺酸根、丁烷磺酸根以及甲烷磺酸根所組成的族群中選出之磺酸根(磺酸陰離子)的鹽類；從二苯基錪、雙(4-tert-丁基苯基)錪、4-tert-丁氧基苯基錪、及4-甲氧苯基苯基錪所組成的族群中選出之錪陽離子與，從三氟甲烷磺酸根、九氟丁烷磺酸根、十七氟辛烷磺酸根、2,2,2-三氟乙烷磺酸根、五氟苯磺酸根、4-三氟甲基苯磺酸根、4-氟苯磺酸根、甲苯磺酸根、苯磺酸根、萘磺酸根、樟腦磺酸根、壬烷磺酸根、十二烷基苯磺酸根、丁烷磺酸根及甲烷磺酸根所組成的族群中選出之磺酸根(磺酸陰離子)的鹽類之錪鹽；從雙(乙磺醯基)重氮甲烷、雙(1-甲丙磺醯基)重氮甲烷、雙(2-甲丙磺醯基)重氮甲烷、雙(1,1-二甲乙磺醯基)重氮甲烷、雙(環己基磺醯基)重氮甲烷、雙(全氟異丙基磺醯基)重氮甲烷、雙(苯磺醯基)重氮甲烷、雙(4-甲基苯磺醯基)重氮甲烷、雙(2,4-二甲基苯磺醯基)重氮甲烷、雙(2-萘磺醯基)重氮甲烷、4-甲基苯磺醯基苯甲醯重氮甲烷、tert-羰丁基-4-甲基苯磺醯重氮甲烷、2-萘磺醯基苯甲醯重氮甲烷、4-甲基苯磺醯基-2-萘甲醯重氮甲烷、甲磺醯苯甲醯重氮甲烷、及tert-丁氧羰基-4-甲基苯磺醯重氮甲烷所組成的族群中選出之磺醯重氮甲烷系光酸產生劑； 從琥珀醯亞胺、萘二甲醯亞胺、苯二醯亞胺、環己二碳醯亞胺、5-冰片烯-2,3-二碳醯亞胺，及7-氧雜雙環[2,2,1]-5-庚烯-2,3-二碳醯亞胺，三氟甲烷磺酸根、九氟丁烷磺酸十七氟辛烷磺酸根、2,2,2-三氟乙烷磺酸根、五氟苯磺酸根、4-三氟甲基苯磺酸根、4-氟苯磺酸根、甲苯磺酸根、苯磺酸根、萘磺酸根、樟腦磺酸根、壬烷磺酸根、十二烷基苯磺酸根、丁烷磺酸根及甲烷磺酸根所組成的族群中選出之N-磺醯氧醯亞胺系光酸產生劑；從安息香甲苯磺酸酯、安息香甲磺酸酯、及安息香丁基磺酸酯所組成的族群中選出之安息香磺酸酯系光酸產生劑；從2,4-二硝基苄基磺酸酯、2-硝基苄基磺酸酯、2,6-二硝基苄基磺酸酯(此處，磺酸根是，三氟甲烷磺酸根、九氟丁烷磺酸根、十七氟辛烷磺酸根、2,2,2-三氟乙烷磺酸根、五氟苯磺酸根、4-三氟甲基苯磺酸根、4-氟苯磺酸根、甲苯磺酸根、苯磺酸根、萘磺酸根、樟腦磺酸根、壬烷磺酸根、十二烷基苯磺酸根、丁烷磺酸根、或甲烷磺酸根)，以及將其等之苄基側的硝基取代成三氟甲基的化合物所組成之族群中選出的硝基苄基磺酸酯系光酸產生劑；從雙(苯磺醯基)甲烷、雙(4-甲基苯磺醯基)甲烷、雙(2-萘磺醯基)甲烷、2,2-雙(苯磺醯基)丙烷、2,2-雙(4-甲基苯磺醯基)丙烷、2,2-雙(2-萘磺醯基)丙烷、2-甲基-2-(p-甲苯磺醯基)丙醯酮、2-(環己羰基)-2-(p-甲苯磺醯基)丙 烷、及2,4-二甲基-2-(p-甲苯磺醯基)戊烷-3-酮所組成之族群中選出之1種以上的碸系光酸產生劑；從雙-o-(p-甲苯磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(p-甲苯磺醯基)-α-二環己基乙二肟、雙-o-(p-甲苯磺醯基)-2,3-戊二酮乙二肟、雙-o-(p-甲苯磺醯基)-2-甲基-3,4-戊二酮乙二肟、雙-o-(n-丁基磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(n-丁基磺醯基)-α-二環己基乙二肟、雙-o-(n-丁基磺醯基)-2,3-戊二酮乙二肟、雙-o-(n-丁基磺醯基)-2-甲基-3,4-戊二酮乙二肟、雙-o-(甲基磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(三氟甲基磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(1,1,1-三氟乙基磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(tert-丁基磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(全氟辛基磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(環己基磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(苯磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(p-氟苯基磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(p-tert-丁基苯磺醯基)-α-二甲基乙二肟、雙-o-(二甲苯磺醯基)-α-二甲基乙二肟，及雙-o-(樟腦磺醯基)-α-二甲基乙二肟所組成的族群中選出之1種以上的乙二肟系光酸產生劑；以及從PDM-三嗪、WS-三嗪、二甲氧基三嗪、MP-三嗪、TFE-三嗪、及TME-三嗪所組成的族群中選出之1種以上的三嗪系光酸產生劑。
  7. 如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其中前述e)之溶劑係從甲醇、乙醇、苯甲醇、己醇、乙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇乙醚醋酸酯、乙二醇甲醚丙酸酯、乙二 醇乙醚丙酸酯、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚醋酸酯、丙二醇丙醚醋酸酯、丙二醇甲醚丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯等、丙二醇甲醚、丙二醇乙醚、丙二醇丙醚、丙二醇丁醚、二丙二醇二甲醚、二丙二醇二乙醚、丁二醇單甲醚、丁二醇單乙醚、二丁二醇二甲醚、及二丁二醇二乙醚所組成的族群中選出之1種以上。
  8. 一種顯示屏，其特徵在於包含如申請專利範圍第1至第7項中之任一項的感光性樹脂組成物之硬化體。
  9. 如申請專利範圍第8項之顯示屏，其中前述顯示屏為PM-OLED、AM-OLED、AM-LCD、或PDP基板。
  10. 一種顯示屏之圖案形成方法，係利用如申請專利範圍第1項至第7項中之任一項的感光性樹脂組成物之顯示屏的圖案形成方法。
  11. 如申請專利範圍第10項之顯示屏的圖案形成方法，其中前述顯示屏為PM-OLED、AM-OLED、AM-LCD、或PDP基板。
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