JP2003116149A - 表示装置及びビームランディングパターンの補正方法 - Google Patents
表示装置及びビームランディングパターンの補正方法Info
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/70—Arrangements for deflecting ray or beam
- H01J29/72—Arrangements for deflecting ray or beam along one straight line or along two perpendicular straight lines
- H01J29/76—Deflecting by magnetic fields only
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- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 表示装置におけるビームランディングのずれ
を画面全面の細部にわたって補正可能にする。 【解決手段】 陰極線管1に設けられた偏向ヨーク8の
後部側にランディング補正用コイル11が配置され、ラ
ンディング補正用コイル11にビームランディングパタ
ーンに応じた補正電流が供給される。補正電流は、複数
の基本となるビームランディングパターン成分を夫々補
正するための複数の基本となる波形電流成分を基に之ら
波形電流成分を選択的に組み合わさた補正電流とする。
を画面全面の細部にわたって補正可能にする。 【解決手段】 陰極線管1に設けられた偏向ヨーク8の
後部側にランディング補正用コイル11が配置され、ラ
ンディング補正用コイル11にビームランディングパタ
ーンに応じた補正電流が供給される。補正電流は、複数
の基本となるビームランディングパターン成分を夫々補
正するための複数の基本となる波形電流成分を基に之ら
波形電流成分を選択的に組み合わさた補正電流とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高品質の画像が得
られる表示装置に関するもので、特にその陰極線管にお
けるビームランディングパターンの補正に関する。本発
明は、表示装置のビームランディングパターンの補正方
法に関する。
られる表示装置に関するもので、特にその陰極線管にお
けるビームランディングパターンの補正に関する。本発
明は、表示装置のビームランディングパターンの補正方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】コンピュータディスプレイ等の表示装置
に用いられるカラー陰極線管においては、蛍光面におけ
る蛍光体層の位置と電子ビームの蛍光面に当たる位置と
の間で、ある程度のずれが生じる。このずれは、ビーム
ランディングのずれと呼んでいる。ビームランディング
のずれは、一般的には、蛍光面を作成するときの蛍光面
露光工程での光学設計、即ちレンズ形状や光源の位置、
等の最適化で許容範囲まで小さくすることができる。或
いは小さなマグネットを貼り付ける等して補正すること
ができる。しかし、カラー陰極線管の製造での色選別機
構の組立精度、熱プロセスによる金属部品の変形、排気
プロセスによるガラスの変形、偏向ヨークの設計、等々
の要因により、ビームランディングのずれにバラツキが
発生してしまう。
に用いられるカラー陰極線管においては、蛍光面におけ
る蛍光体層の位置と電子ビームの蛍光面に当たる位置と
の間で、ある程度のずれが生じる。このずれは、ビーム
ランディングのずれと呼んでいる。ビームランディング
のずれは、一般的には、蛍光面を作成するときの蛍光面
露光工程での光学設計、即ちレンズ形状や光源の位置、
等の最適化で許容範囲まで小さくすることができる。或
いは小さなマグネットを貼り付ける等して補正すること
ができる。しかし、カラー陰極線管の製造での色選別機
構の組立精度、熱プロセスによる金属部品の変形、排気
プロセスによるガラスの変形、偏向ヨークの設計、等々
の要因により、ビームランディングのずれにバラツキが
発生してしまう。
【0003】さらに、陰極線管の動作時には、内外の温
度変化により、色選別機構等が熱変形することでビーム
ランディングが変化したり、地磁気の向きの影響で電子
ビームが曲げられ、ビームランディングが変化したりす
る。熱的影響によるビームランディングの変化は温度ド
リフトと呼び、地磁気の影響によるビームランディング
は地磁気ドリフトと呼ぶ。
度変化により、色選別機構等が熱変形することでビーム
ランディングが変化したり、地磁気の向きの影響で電子
ビームが曲げられ、ビームランディングが変化したりす
る。熱的影響によるビームランディングの変化は温度ド
リフトと呼び、地磁気の影響によるビームランディング
は地磁気ドリフトと呼ぶ。
【0004】従来、蛍光面の作成段階で補正できない、
これら温度ドリフト、地磁気ドリフト等によるビームラ
ンディングのずれは、陰極線管の完成後に、例えば管体
にランディング補正用コイルを配置して補正していた。
これら温度ドリフト、地磁気ドリフト等によるビームラ
ンディングのずれは、陰極線管の完成後に、例えば管体
にランディング補正用コイルを配置して補正していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし乍ら、上述の補
正用コイル、マグネット等の補正手段では、補正場所が
限定されてしまい、画面上の各座標に対応した補正量を
細かく設定することは不可能であった。
正用コイル、マグネット等の補正手段では、補正場所が
限定されてしまい、画面上の各座標に対応した補正量を
細かく設定することは不可能であった。
【0006】本発明は、上述の点に鑑み、ビームランデ
ィングのずれを画面全面の細部にわたって補正できるよ
うにした表示装置、及びビームランディングパターンの
補正方法を提供するものである。
ィングのずれを画面全面の細部にわたって補正できるよ
うにした表示装置、及びビームランディングパターンの
補正方法を提供するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明に係る表示装置
は、陰極線管に設けられた偏向ヨークの後部側にランデ
ィング補正用コイルを配置し、このランディング補正用
コイルにビームランディングパターンに応じた補正電流
を供給して成る。この補正電流は、複数の基本となるビ
ームランディングパターン成分を夫々補正するための複
数の基本となる波形電流成分を基に之ら波形成分を選択
的に組み合わした補正電流とする。
は、陰極線管に設けられた偏向ヨークの後部側にランデ
ィング補正用コイルを配置し、このランディング補正用
コイルにビームランディングパターンに応じた補正電流
を供給して成る。この補正電流は、複数の基本となるビ
ームランディングパターン成分を夫々補正するための複
数の基本となる波形電流成分を基に之ら波形成分を選択
的に組み合わした補正電流とする。
【0008】本発明の表示装置においては、ビームラン
ディングパターンに応じて、偏向ヨークの後部側に配置
したランディング補正用コイルに、複数の基本となるビ
ームランディングパターン成分を夫々補正するための複
数の基本となる波形電流成分を基に之ら波形電流成分を
選択的に組み合わして成る補正電流を供給することによ
り、完成後の表示装置に対してビームランディングのず
れを画面全面の細部にわたって補正することができる。
ディングパターンに応じて、偏向ヨークの後部側に配置
したランディング補正用コイルに、複数の基本となるビ
ームランディングパターン成分を夫々補正するための複
数の基本となる波形電流成分を基に之ら波形電流成分を
選択的に組み合わして成る補正電流を供給することによ
り、完成後の表示装置に対してビームランディングのず
れを画面全面の細部にわたって補正することができる。
【0009】本発明に係るビームランディングパターン
の補正方法は、陰極線管に設けられた偏向ヨークの後部
側に配置したランディング補正用コイルに、ビームラン
ディングに応じて、複数の基本となるビームランディン
グパターン成分を夫々補正するための複数の基本となる
波形電流成分を基に之ら波形電流成分を選択的に組み合
わせた補正電流を供給する。
の補正方法は、陰極線管に設けられた偏向ヨークの後部
側に配置したランディング補正用コイルに、ビームラン
ディングに応じて、複数の基本となるビームランディン
グパターン成分を夫々補正するための複数の基本となる
波形電流成分を基に之ら波形電流成分を選択的に組み合
わせた補正電流を供給する。
【0010】本発明のビームランディングパターンの補
正方法においては、偏向ヨークの後部側に配置したラン
ディング補正用コイルに、ビームランディングに応じ
て、複数の基本となるビームランディングパターン成分
を夫々補正するための複数の基本となる波形電流成分を
基に之ら波形電流成分を選択的に組み合わせた補正電流
を供給することにより、ビームランディングのずれを画
面全面の細部にわたって補正することができる。
正方法においては、偏向ヨークの後部側に配置したラン
ディング補正用コイルに、ビームランディングに応じ
て、複数の基本となるビームランディングパターン成分
を夫々補正するための複数の基本となる波形電流成分を
基に之ら波形電流成分を選択的に組み合わせた補正電流
を供給することにより、ビームランディングのずれを画
面全面の細部にわたって補正することができる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。
施の形態を説明する。
【0012】図1は、本発明に係る表示装置に用いられ
るカラー陰極線管の一実施の形態を示す。表示装置とし
ては、例えばコンピュータディスプレイ、テレビジョン
受像機等に適用される。本実施の形態に係るカラー陰極
線管1は、管体2のパネル3内面に複数色、本例では赤
(R)、緑(G)、青(B)の蛍光体層からなるカラー
蛍光面4が形成され、このカラー蛍光面4に近接対向し
て色選別機構5が配置され、ネック部6内に電子銃7が
配置され、管体2の外側に偏向ヨーク(DY)8が配置
されて成る。本実施の形態では、特に、ネック部6の外
側において偏向ヨーク8の後部側に配置したランディン
グ補正用コイル(いわゆる電磁コイル)11を配置し、
このランディング補正用コイル11に、偏向ヨーク8に
よる電子ビームの偏向に同期した周期を持つ補正電流
(いわゆる波形電流)を発生する補正電流発生装置12
を接続して構成される。
るカラー陰極線管の一実施の形態を示す。表示装置とし
ては、例えばコンピュータディスプレイ、テレビジョン
受像機等に適用される。本実施の形態に係るカラー陰極
線管1は、管体2のパネル3内面に複数色、本例では赤
(R)、緑(G)、青(B)の蛍光体層からなるカラー
蛍光面4が形成され、このカラー蛍光面4に近接対向し
て色選別機構5が配置され、ネック部6内に電子銃7が
配置され、管体2の外側に偏向ヨーク(DY)8が配置
されて成る。本実施の形態では、特に、ネック部6の外
側において偏向ヨーク8の後部側に配置したランディン
グ補正用コイル(いわゆる電磁コイル)11を配置し、
このランディング補正用コイル11に、偏向ヨーク8に
よる電子ビームの偏向に同期した周期を持つ補正電流
(いわゆる波形電流)を発生する補正電流発生装置12
を接続して構成される。
【0013】偏向ヨーク8及び補正電流発生装置12に
は、電子ビームのライン方向の偏向周期の信号波形と、
電子ビームのフィールド方向の偏向周期の信号波形とが
供給される。ランディング補正用コイル11は、ネック
部6の中心軸付近に、ビームランディングを変化させた
い方向に対して概ね画面垂直方向に磁界を発生させ得る
コイルであれば、特に形状を選ばない。本例では、図1
Bに示すように、ネック部6を挟んで垂直方向に相対向
する一対の電磁コイル11A,11Bを配置してランデ
ィング補正コイル11が構成される。
は、電子ビームのライン方向の偏向周期の信号波形と、
電子ビームのフィールド方向の偏向周期の信号波形とが
供給される。ランディング補正用コイル11は、ネック
部6の中心軸付近に、ビームランディングを変化させた
い方向に対して概ね画面垂直方向に磁界を発生させ得る
コイルであれば、特に形状を選ばない。本例では、図1
Bに示すように、ネック部6を挟んで垂直方向に相対向
する一対の電磁コイル11A,11Bを配置してランデ
ィング補正コイル11が構成される。
【0014】ランディング補正用コイル11には、発生
するビームランディングパターンに応じて、補正電流発
生装置12から後述するように、複数の基本のビームラ
ンディングパターン成分を夫々補正するための複数の基
本の波形電流成分を基に之ら波形電流成分を選択的に組
み合わせた補正電流が供給される。
するビームランディングパターンに応じて、補正電流発
生装置12から後述するように、複数の基本のビームラ
ンディングパターン成分を夫々補正するための複数の基
本の波形電流成分を基に之ら波形電流成分を選択的に組
み合わせた補正電流が供給される。
【0015】本実施の形態は、上述のカラー陰極線管1
をセットに組み込み、コンピュータディスプレイ、テレ
ビジョン受像機等の表示装置を構成する。
をセットに組み込み、コンピュータディスプレイ、テレ
ビジョン受像機等の表示装置を構成する。
【0016】ところで、上記のランディング補正コイル
11〔11A,11B〕に電流を流すと、図2A,Bに
示すように、コイル11には磁界13が発生する。図2
A,Bは、電流の向きの違いによる逆向きの磁界13を
示している。磁界13の大きさは、補正コイル11〔1
1A,11B〕に流す電流の大きさに比例する。ネック
部6の中心軸付近では、磁界13は略均一であり、この
中心軸付近を通過する電子ビーム14は磁界13の大き
さに比例した力Fを受けてその軌道を曲げる。電子ビー
ム14が曲げられる量は、上記力Fに比例する。従っ
て、電子ビームは、補正コイル11に流す電流の量に比
例して、ビーム軌道が曲げられる。
11〔11A,11B〕に電流を流すと、図2A,Bに
示すように、コイル11には磁界13が発生する。図2
A,Bは、電流の向きの違いによる逆向きの磁界13を
示している。磁界13の大きさは、補正コイル11〔1
1A,11B〕に流す電流の大きさに比例する。ネック
部6の中心軸付近では、磁界13は略均一であり、この
中心軸付近を通過する電子ビーム14は磁界13の大き
さに比例した力Fを受けてその軌道を曲げる。電子ビー
ム14が曲げられる量は、上記力Fに比例する。従っ
て、電子ビームは、補正コイル11に流す電流の量に比
例して、ビーム軌道が曲げられる。
【0017】図4、図5は、本実施の形態の陰極線管1
において、そのランディング補正用コイル11に任意の
電流を流したときに、ビームランディングがどれだけ変
化したかの実測値データである。本例では36インチ型
陰極線管を使用し、図3に示すように、画面16上の第
二象限に於ける12ポイントP1 〜P12を測定点とし
た。この図4、図5の実測値データから、全ての測定点
P1 〜P12において、電流の大きさとビームランディン
グの変化量との関係が、極めて高い1次の相関関係にあ
ることが確認できる。図4、図5において、R2 は相関
係数を表し、1に近い程良い。
において、そのランディング補正用コイル11に任意の
電流を流したときに、ビームランディングがどれだけ変
化したかの実測値データである。本例では36インチ型
陰極線管を使用し、図3に示すように、画面16上の第
二象限に於ける12ポイントP1 〜P12を測定点とし
た。この図4、図5の実測値データから、全ての測定点
P1 〜P12において、電流の大きさとビームランディン
グの変化量との関係が、極めて高い1次の相関関係にあ
ることが確認できる。図4、図5において、R2 は相関
係数を表し、1に近い程良い。
【0018】本実施の形態においては、ビームランディ
ング補正機能を用いないときの画面上の任意の点でのビ
ームランディング値が分かれば、図4、図5の相関関係
を用いて、適切な電流を流すことにより画面上の全ての
点でビームランディングを適正にすることができる。即
ち、電子ビームが上記の任意の点を表示している時に、
その場所場所に応じた適切な電流をビームランディング
補正用コイル11に流せば、画面上の全ての点でビーム
ランディングの適正化が図れる。
ング補正機能を用いないときの画面上の任意の点でのビ
ームランディング値が分かれば、図4、図5の相関関係
を用いて、適切な電流を流すことにより画面上の全ての
点でビームランディングを適正にすることができる。即
ち、電子ビームが上記の任意の点を表示している時に、
その場所場所に応じた適切な電流をビームランディング
補正用コイル11に流せば、画面上の全ての点でビーム
ランディングの適正化が図れる。
【0019】任意の場所で任意の量のビームランディン
グを補正する電流を発生させる装置は、高価で複雑な回
路になってしまうが、現実の陰極線管で補正したいビー
ムランディングは、ある一定のパターンである場合が多
い。その場合は、必要とする電流もある一定のパターン
であればよいので、比較的容易に作成できる。
グを補正する電流を発生させる装置は、高価で複雑な回
路になってしまうが、現実の陰極線管で補正したいビー
ムランディングは、ある一定のパターンである場合が多
い。その場合は、必要とする電流もある一定のパターン
であればよいので、比較的容易に作成できる。
【0020】本実施の形態に係る補正電流発生装置12
は、電子ビームのライン方向及びフィールド方向の偏向
に同期した直流電流(時間軸に対して0次)、鋸波形
(時間軸に対して1次)、パラボラ波形(時間軸に対し
て2次)、正弦波形を、発生し組み合わせて出力する。
本実施の形態では、この補正電流発生装置12からの出
力電流をランディング補正用コイル11に供給すること
で、一定のパターンのビームランディングを補正する。
は、電子ビームのライン方向及びフィールド方向の偏向
に同期した直流電流(時間軸に対して0次)、鋸波形
(時間軸に対して1次)、パラボラ波形(時間軸に対し
て2次)、正弦波形を、発生し組み合わせて出力する。
本実施の形態では、この補正電流発生装置12からの出
力電流をランディング補正用コイル11に供給すること
で、一定のパターンのビームランディングを補正する。
【0021】ここで、ライン方向とは、電子ビームを1
ライン走査する方向であると定義し、フィールド方向と
は、ライン走査した電子ビームを面として走査する方
向、即ちライン方向と直交する方向であると定義する。
従って、例えば図1に示す陰極線管1の場合は、ライン
方向が画面水平(H)方向を指し、フィールド方向が画
面垂直(V)方向を指す。また、後述するマルチネック
型陰極線管21の場合は、電子ビームが画面垂直方向に
走査しながら、画面水平方向に走査するので、ライン方
向が画面垂直方向を指し、フィールド方向が画面水平方
向を指す。
ライン走査する方向であると定義し、フィールド方向と
は、ライン走査した電子ビームを面として走査する方
向、即ちライン方向と直交する方向であると定義する。
従って、例えば図1に示す陰極線管1の場合は、ライン
方向が画面水平(H)方向を指し、フィールド方向が画
面垂直(V)方向を指す。また、後述するマルチネック
型陰極線管21の場合は、電子ビームが画面垂直方向に
走査しながら、画面水平方向に走査するので、ライン方
向が画面垂直方向を指し、フィールド方向が画面水平方
向を指す。
【0022】図6〜図15は、ランディング補正コイル
11に偏向周期に同期した一定のパターンの電流を流し
たとき、画面全体でビームランディングがどのように変
化するかを一覧にして示したものである。本例では、こ
の10組のパターンを基本の補正パターン成分として扱
う。なお、同図の補正パターンは、図1の陰極線管1を
適用した場合である。Hは画面水平、Vは画面垂直を表
す。図6は、補正コイル11に流す電流波形が、H:0
次、V:0次(直流)のときの(同図A参照)、補正コ
イル11の磁界によるビームランディングの変化を示し
ている(同図B参照)。同図Bに示すように、ビームラ
ンディングは画面上で実線位置から破線位置に変化し、
いわゆるピュリティ補正が行われる。図7は、補正コイ
ル11に流す電流波形が、H:0次、V:1次のときの
(同図A参照)、補正コイル11の磁界によるビームラ
ンディングの変化を示している(同図B参照)。同図B
に示すように、ビームランディングは画面上で実線位置
から破線位置に変化し、いわゆる回転補正が行われる。
図8は、補正コイル11に流す電流波形が、H:0次、
V:2次のときの(同図A参照)、補正コイル11の磁
界によるビームランディングの変化を示している(同図
B参照)。同図Bに示すように、ビームランディングは
画面上で実線位置から破線位置に変化し、いわゆるくの
字補正が行われる。
11に偏向周期に同期した一定のパターンの電流を流し
たとき、画面全体でビームランディングがどのように変
化するかを一覧にして示したものである。本例では、こ
の10組のパターンを基本の補正パターン成分として扱
う。なお、同図の補正パターンは、図1の陰極線管1を
適用した場合である。Hは画面水平、Vは画面垂直を表
す。図6は、補正コイル11に流す電流波形が、H:0
次、V:0次(直流)のときの(同図A参照)、補正コ
イル11の磁界によるビームランディングの変化を示し
ている(同図B参照)。同図Bに示すように、ビームラ
ンディングは画面上で実線位置から破線位置に変化し、
いわゆるピュリティ補正が行われる。図7は、補正コイ
ル11に流す電流波形が、H:0次、V:1次のときの
(同図A参照)、補正コイル11の磁界によるビームラ
ンディングの変化を示している(同図B参照)。同図B
に示すように、ビームランディングは画面上で実線位置
から破線位置に変化し、いわゆる回転補正が行われる。
図8は、補正コイル11に流す電流波形が、H:0次、
V:2次のときの(同図A参照)、補正コイル11の磁
界によるビームランディングの変化を示している(同図
B参照)。同図Bに示すように、ビームランディングは
画面上で実線位置から破線位置に変化し、いわゆるくの
字補正が行われる。
【0023】図9は、補正コイル11に流す電流波形
が、H:1次、V:0次のときの(同図A参照)、補正
コイル11の磁界によるビームランディングの変化を示
している(同図B参照)。同図Bに示すように、ビーム
ランディングは画面上で実線位置から破線位置に変化
し、いわゆるDY位置補正が行われる。図10は、補正
コイル11に流す電流波形が、H:1次、V:1次のと
きの(同図A参照)、補正コイル11の磁界によるビー
ムランディングの変化を示している(同図B参照)。同
図Bに示すように、ビームランディングは画面上で実線
位置から破線位置に変化し、いわゆるハの字補正が行わ
れる。図11は、補正コイル11に流す電流波形が、
H:1次、V:2次のときの(同図A参照)、補正コイ
ル11の磁界によるビームランディングの変化を示して
いる(同図B参照)。同図Bに示すように、ビームラン
ディングは画面上で実線位置から破線位置に変化し、い
わゆるバレル補正が行われる。
が、H:1次、V:0次のときの(同図A参照)、補正
コイル11の磁界によるビームランディングの変化を示
している(同図B参照)。同図Bに示すように、ビーム
ランディングは画面上で実線位置から破線位置に変化
し、いわゆるDY位置補正が行われる。図10は、補正
コイル11に流す電流波形が、H:1次、V:1次のと
きの(同図A参照)、補正コイル11の磁界によるビー
ムランディングの変化を示している(同図B参照)。同
図Bに示すように、ビームランディングは画面上で実線
位置から破線位置に変化し、いわゆるハの字補正が行わ
れる。図11は、補正コイル11に流す電流波形が、
H:1次、V:2次のときの(同図A参照)、補正コイ
ル11の磁界によるビームランディングの変化を示して
いる(同図B参照)。同図Bに示すように、ビームラン
ディングは画面上で実線位置から破線位置に変化し、い
わゆるバレル補正が行われる。
【0024】図12は、補正コイル11に流す電流波形
が、H:2次、V:0次のときの(同図A参照)、補正
コイル11の磁界によるビームランディングの変化を示
している(同図B参照)。同図Bに示すように、ビーム
ランディングは画面上で実線位置から破線位置に変化
し、いわゆる軸端シフト補正が行われる。図13は、補
正コイル11に流す電流波形が、H:2次、V:1次の
ときの(同図A参照)、補正コイル11の磁界によるビ
ームランディングの変化を示している(同図B参照)。
同図Bに示すように、ビームランディングは画面上で実
線位置から破線位置に変化し、いわゆるツイスト補正が
行われる。図14は、補正コイル11に流す電流波形
が、H:2次、V:2次のときの(同図A参照)、補正
コイル11の磁界によるビームランディングの変化を示
している(同図B参照)。同図Bに示すように、ビーム
ランディングは画面上で実線位置から破線位置に変化
し、いわゆるコーナシフト補正が行われる。図15は、
補正コイル11に流す電流波形が、H:正弦波、V:0
次+2次のときの(同図A参照)、補正コイル11の磁
界によるビームランディングの変化を示している(同図
B参照)。同図Bに示すように、ビームランディングは
画面上で実線位置から破線位置に変化し、いわゆるS字
補正が行われる。
が、H:2次、V:0次のときの(同図A参照)、補正
コイル11の磁界によるビームランディングの変化を示
している(同図B参照)。同図Bに示すように、ビーム
ランディングは画面上で実線位置から破線位置に変化
し、いわゆる軸端シフト補正が行われる。図13は、補
正コイル11に流す電流波形が、H:2次、V:1次の
ときの(同図A参照)、補正コイル11の磁界によるビ
ームランディングの変化を示している(同図B参照)。
同図Bに示すように、ビームランディングは画面上で実
線位置から破線位置に変化し、いわゆるツイスト補正が
行われる。図14は、補正コイル11に流す電流波形
が、H:2次、V:2次のときの(同図A参照)、補正
コイル11の磁界によるビームランディングの変化を示
している(同図B参照)。同図Bに示すように、ビーム
ランディングは画面上で実線位置から破線位置に変化
し、いわゆるコーナシフト補正が行われる。図15は、
補正コイル11に流す電流波形が、H:正弦波、V:0
次+2次のときの(同図A参照)、補正コイル11の磁
界によるビームランディングの変化を示している(同図
B参照)。同図Bに示すように、ビームランディングは
画面上で実線位置から破線位置に変化し、いわゆるS字
補正が行われる。
【0025】本実施の形態によれば、所要のミスランデ
ィングパターンに対して、これを図6B〜図15Bに示
すパターン成分の合成として取り扱い、ランディング補
正用コイル11に、これら図6A〜図15Aのパターン
の波形電流成分を組み合わせて供給することにより、い
ろいろなパターンのビームランディングを同時に補正で
きる。電流の大きさは、ボリューム調整ができるので、
ビームランディングの絶対量は任意である。
ィングパターンに対して、これを図6B〜図15Bに示
すパターン成分の合成として取り扱い、ランディング補
正用コイル11に、これら図6A〜図15Aのパターン
の波形電流成分を組み合わせて供給することにより、い
ろいろなパターンのビームランディングを同時に補正で
きる。電流の大きさは、ボリューム調整ができるので、
ビームランディングの絶対量は任意である。
【0026】本実施の形態は、ビームランディングの熱
による経時変化、いわゆる温度ドリフトにも対応でき
る。この場合は、画面上の任意の点での温度ドリフトを
予め調べて置き、陰極線管の実働時にカソード電流の積
算値を観察する。本実施の形態では、ランディング補正
用コイル11に流す電流を使用時間とカソード電流の積
算値に応じて適切に変化させることで、画面の全てにお
いて補正電流の適正値を維持することができる。温度ド
リフトは、図6、図7、図10、図11、図13で示す
ところのピュリティー、回転、ハの字、バレル、ツイス
ト等の成分に分解できる場合が多い。これら各成分を補
正する波形電流成分を選択的に組み合わせた補正電流を
ランディング補正用コイル11に供給すれば、温度ドリ
フト補正ができる。
による経時変化、いわゆる温度ドリフトにも対応でき
る。この場合は、画面上の任意の点での温度ドリフトを
予め調べて置き、陰極線管の実働時にカソード電流の積
算値を観察する。本実施の形態では、ランディング補正
用コイル11に流す電流を使用時間とカソード電流の積
算値に応じて適切に変化させることで、画面の全てにお
いて補正電流の適正値を維持することができる。温度ド
リフトは、図6、図7、図10、図11、図13で示す
ところのピュリティー、回転、ハの字、バレル、ツイス
ト等の成分に分解できる場合が多い。これら各成分を補
正する波形電流成分を選択的に組み合わせた補正電流を
ランディング補正用コイル11に供給すれば、温度ドリ
フト補正ができる。
【0027】本実施の形態は、ビームランディングの地
磁気による変化、いわゆる地磁気ドリフトにも対応でき
る。この場合は、画面上の任意の点での地磁気ドリフト
を予め調べて置き、陰極線管の方位を地磁気センサ等で
検知する。本実施の形態では、ランディング補正用コイ
ル11に流す電流を陰極線管の方位に応じて適切に変化
させることで、画面の全てにおいて補正電流の適正値を
維持することができる。地磁気ドリフトは、図6、図7
で示すところのピュリティー、回転等の成分に分解でき
る場合が多い。これら各成分を補正する波形電流成分を
選択的に組み合わせた補正電流をランディング補正用コ
イル11に供給すれば、地磁気ドリフト補正ができる。
磁気による変化、いわゆる地磁気ドリフトにも対応でき
る。この場合は、画面上の任意の点での地磁気ドリフト
を予め調べて置き、陰極線管の方位を地磁気センサ等で
検知する。本実施の形態では、ランディング補正用コイ
ル11に流す電流を陰極線管の方位に応じて適切に変化
させることで、画面の全てにおいて補正電流の適正値を
維持することができる。地磁気ドリフトは、図6、図7
で示すところのピュリティー、回転等の成分に分解でき
る場合が多い。これら各成分を補正する波形電流成分を
選択的に組み合わせた補正電流をランディング補正用コ
イル11に供給すれば、地磁気ドリフト補正ができる。
【0028】なお、注意点として、本実施の形態を使用
したときには、ビームランディングが補正されると共
に、電子ビームが表示する場所が変化する(いわゆる画
歪みが変化する)。従って、画歪みの調整は、本実施の
形態の陰極線管を動作させた状態で実施する必要があ
る。また、ランディング補正用コイル11に流す電流
は、表示位置がずれることを予め考慮して決める必要が
ある。
したときには、ビームランディングが補正されると共
に、電子ビームが表示する場所が変化する(いわゆる画
歪みが変化する)。従って、画歪みの調整は、本実施の
形態の陰極線管を動作させた状態で実施する必要があ
る。また、ランディング補正用コイル11に流す電流
は、表示位置がずれることを予め考慮して決める必要が
ある。
【0029】次に、補正電流発生装置12の実施の形態
について説明する。図16は、本発明の補正電流発生装
置の一実施の形態を示す。同図は、比較的単純な基本的
な補正の場合として、4つの基本となる補正波形成分
(いわゆる波形電流パターン)を発生させて補正電流を
発生する回路を示す。本実施の形態に係る補正電流発生
装置121は、偏向周波数に同期した基本補正波形成分
を発生させるための波形発生回路41と、各補正波形成
分の割合を調整する割合調整回路42と、振幅変調器4
3と、加算器44と、電力増幅器45とから成る。波形
成形回路41は、フィールド周期波形発生回路〔図1の
例では垂直(V)周期波形発生回路〕46と、ライン周
期波形発生回路〔図1の例では水平(H)周期波形発生
回路〕47とを有する。垂直周期波形発生回路46は、
垂直ドライブ信号VDを入力して基本波形成分となる垂
直周期の鋸波(V.SAW)と垂直周期のパラボラ波
(V.PARA)を発生する。水平周期波形発生回路4
7は、水平ドライブ信号HDを入力して基本波形成分と
なる水平周期の鋸波(H.SAW)を発生する。割合調
整回路42は、4つの可変抵抗器RV〔RVー1,RV
ー2,RVー6,RVー9〕から構成される。第1の可
変抵抗器RVー1の一端が直流電源DCに接続され、第
2の可変抵抗器RVー2の一端が垂直周期の鋸波(V.
SAW)の出力端に接続され、第3の可変抵抗器RVー
6の一端が垂直周期のパラボラ波(V.PARA)の出
力端に接続され、第4の可変抵抗器RV4の一端が水平
周期の鋸波(H.SAW)の出力端に接続される。第3
の可変抵抗器RVー6の他端と水平周期の鋸波(H.S
AW)の出力端とが振幅変調器43に接続される。さら
に、第1の可変抵抗器RVー1の他端と、第2の可変抵
抗器RVー2の他端と、第4の可変抵抗器RVー9の他
端と、振幅変調器43の出力端とが、加算器44の入力
部に接続される。加算器44の出力は、電力増幅器45
を介して電力増幅されてランディング補正用コイル11
に供給される。
について説明する。図16は、本発明の補正電流発生装
置の一実施の形態を示す。同図は、比較的単純な基本的
な補正の場合として、4つの基本となる補正波形成分
(いわゆる波形電流パターン)を発生させて補正電流を
発生する回路を示す。本実施の形態に係る補正電流発生
装置121は、偏向周波数に同期した基本補正波形成分
を発生させるための波形発生回路41と、各補正波形成
分の割合を調整する割合調整回路42と、振幅変調器4
3と、加算器44と、電力増幅器45とから成る。波形
成形回路41は、フィールド周期波形発生回路〔図1の
例では垂直(V)周期波形発生回路〕46と、ライン周
期波形発生回路〔図1の例では水平(H)周期波形発生
回路〕47とを有する。垂直周期波形発生回路46は、
垂直ドライブ信号VDを入力して基本波形成分となる垂
直周期の鋸波(V.SAW)と垂直周期のパラボラ波
(V.PARA)を発生する。水平周期波形発生回路4
7は、水平ドライブ信号HDを入力して基本波形成分と
なる水平周期の鋸波(H.SAW)を発生する。割合調
整回路42は、4つの可変抵抗器RV〔RVー1,RV
ー2,RVー6,RVー9〕から構成される。第1の可
変抵抗器RVー1の一端が直流電源DCに接続され、第
2の可変抵抗器RVー2の一端が垂直周期の鋸波(V.
SAW)の出力端に接続され、第3の可変抵抗器RVー
6の一端が垂直周期のパラボラ波(V.PARA)の出
力端に接続され、第4の可変抵抗器RV4の一端が水平
周期の鋸波(H.SAW)の出力端に接続される。第3
の可変抵抗器RVー6の他端と水平周期の鋸波(H.S
AW)の出力端とが振幅変調器43に接続される。さら
に、第1の可変抵抗器RVー1の他端と、第2の可変抵
抗器RVー2の他端と、第4の可変抵抗器RVー9の他
端と、振幅変調器43の出力端とが、加算器44の入力
部に接続される。加算器44の出力は、電力増幅器45
を介して電力増幅されてランディング補正用コイル11
に供給される。
【0030】この補正電流波形発生装置121におい
て、ピュリティー成分を補正する電流波形は直流電源D
Cからの直流分で得られる。回転成分を補正する電流波
形は垂直周期の鋸波(V.SAW)で得られる。DY位
置成分を補正する電流波形は垂直周期のパラボラ波
(V.PARA)で得られる。バレル成分を補正する電
流波形は水平周期の鋸波(H.SAW)を垂直周期のパ
ラボラ波(V.PARA)で振幅変調した波形で得られ
る。
て、ピュリティー成分を補正する電流波形は直流電源D
Cからの直流分で得られる。回転成分を補正する電流波
形は垂直周期の鋸波(V.SAW)で得られる。DY位
置成分を補正する電流波形は垂直周期のパラボラ波
(V.PARA)で得られる。バレル成分を補正する電
流波形は水平周期の鋸波(H.SAW)を垂直周期のパ
ラボラ波(V.PARA)で振幅変調した波形で得られ
る。
【0031】本実施の形態においては、陰極線管1で発
生する所定のビームランディングパターンに応じて、上
記の各基本の補正波形成分(電流波形成分)(1),
(2),(4),(6)に分解し、各基本の補正波形成
分を夫々の可変抵抗器RV〔RVー1,RVー2,RV
ー6,RVー9〕で電流量の割合を調整して得られた各
補正成分を選択的に加算器44で合成することにより、
上記所定のビームランディングパターンに対応した補正
電流波形が得られる。この補正電流波形を電力増幅器4
5で電力増幅してランディング補正用コイル11に供給
することにより、ダイナミックにランディング補正する
ことができる。即ち、画面上の全ての座標でビームラン
ディングを適正にすることができる。電力増幅器45
は、リニアアンプ方式、或いはスイッチングアンプ方式
を用いることができる。
生する所定のビームランディングパターンに応じて、上
記の各基本の補正波形成分(電流波形成分)(1),
(2),(4),(6)に分解し、各基本の補正波形成
分を夫々の可変抵抗器RV〔RVー1,RVー2,RV
ー6,RVー9〕で電流量の割合を調整して得られた各
補正成分を選択的に加算器44で合成することにより、
上記所定のビームランディングパターンに対応した補正
電流波形が得られる。この補正電流波形を電力増幅器4
5で電力増幅してランディング補正用コイル11に供給
することにより、ダイナミックにランディング補正する
ことができる。即ち、画面上の全ての座標でビームラン
ディングを適正にすることができる。電力増幅器45
は、リニアアンプ方式、或いはスイッチングアンプ方式
を用いることができる。
【0032】図17は、本発明の補正電流波形発生装置
12の他の実施の形態を示す。同図は、基本となる補正
波形成分を10種類まで拡張した例である。本実施の形
態に係る補正電流波形発生装置122は、偏向周波数に
同期した基本補正波形成分を発生させるための波形発生
回路41と、各補正波形成分の割合を調整する割合調整
回路42と、複数(本例では5つ)の振幅変調器43
〔43 1 、432 、433 、434 、435 〕と、加算
器44と、電力増幅器45とから成る。波形発生回路4
1は、フィールド周期波形発生回路〔図1の例では垂直
(V)周期波形発生回路〕46と、ライン周期波形発生
回路〔図1では水平(H)周期波形発生回路〕47とを
有する。垂直周期波形発生回路46は、垂直ドライブ信
号VDを入力して基本の補正波形成分となる垂直周期の
鋸波(V.SAW)と垂直周期のパラボラ波(V.PA
RA)と垂直周期の正弦波(V.SIN)を発生する。
水平周期波形発生回路47は、水平ドライブ信号HDを
入力して基本の補正波形成分となる水平周期の鋸波
(H.SAW)と水平周期のパラボラ波(H.PAR
A)と水平周期の正弦波(H.SIN)を発生する。割
合調整回路42は、10個の可変抵抗器RV〔RVー
1,RVー2,RVー3,RVー4,RVー5,RVー
6,RVー7,RVー8,RVー9,RVー10〕から
構成される。第1の可変抵抗器RVー1の一端が直流電
源DCに接続され、第2、第3及び第4の各可変抵抗器
RVー2,RVー3及びRVー4の各一端が垂直周期の
パラボラ波(V.SAW)の出力端に接続される。第
5、第6及び第7の各可変抵抗器RVー5,RVー6及
びRVー7の各一端が垂直周期の正弦波(V.SIN)
の出力端に接続される。第8の可変抵抗器RVー8の一
端が垂直周期の正弦波(V.SIN)の出力端に接続さ
れる。第9の可変抵抗器RVー9の一端が水平周期の鋸
波(H.SAW)の出力端に接続される。第10の可変
抵抗器RVー10の一端が水平周期のパラボラ波(H.
PARA)の出力端に接続される。
12の他の実施の形態を示す。同図は、基本となる補正
波形成分を10種類まで拡張した例である。本実施の形
態に係る補正電流波形発生装置122は、偏向周波数に
同期した基本補正波形成分を発生させるための波形発生
回路41と、各補正波形成分の割合を調整する割合調整
回路42と、複数(本例では5つ)の振幅変調器43
〔43 1 、432 、433 、434 、435 〕と、加算
器44と、電力増幅器45とから成る。波形発生回路4
1は、フィールド周期波形発生回路〔図1の例では垂直
(V)周期波形発生回路〕46と、ライン周期波形発生
回路〔図1では水平(H)周期波形発生回路〕47とを
有する。垂直周期波形発生回路46は、垂直ドライブ信
号VDを入力して基本の補正波形成分となる垂直周期の
鋸波(V.SAW)と垂直周期のパラボラ波(V.PA
RA)と垂直周期の正弦波(V.SIN)を発生する。
水平周期波形発生回路47は、水平ドライブ信号HDを
入力して基本の補正波形成分となる水平周期の鋸波
(H.SAW)と水平周期のパラボラ波(H.PAR
A)と水平周期の正弦波(H.SIN)を発生する。割
合調整回路42は、10個の可変抵抗器RV〔RVー
1,RVー2,RVー3,RVー4,RVー5,RVー
6,RVー7,RVー8,RVー9,RVー10〕から
構成される。第1の可変抵抗器RVー1の一端が直流電
源DCに接続され、第2、第3及び第4の各可変抵抗器
RVー2,RVー3及びRVー4の各一端が垂直周期の
パラボラ波(V.SAW)の出力端に接続される。第
5、第6及び第7の各可変抵抗器RVー5,RVー6及
びRVー7の各一端が垂直周期の正弦波(V.SIN)
の出力端に接続される。第8の可変抵抗器RVー8の一
端が垂直周期の正弦波(V.SIN)の出力端に接続さ
れる。第9の可変抵抗器RVー9の一端が水平周期の鋸
波(H.SAW)の出力端に接続される。第10の可変
抵抗器RVー10の一端が水平周期のパラボラ波(H.
PARA)の出力端に接続される。
【0033】また、第1の振幅変調器431 の入力部に
第3の可変抵抗器RVー3の他端と水平周期の鋸波
(H.SAW)の出力端が接続される。第2の振幅変調
器43 2 の入力部に第6の可変抵抗器RVー6の他端と
水平周期の鋸波(H.SAW)の出力端が接続される。
第3の振幅変調器433 の入力部に第4の可変抵抗器R
Vー4の他端と水平周期のパラボラ波(H.PARA)
の出力端が接続される。第4の振幅変調器434 の入力
部に第7の可変抵抗器RVー7の他端と水平周期のパラ
ボラ波(H.PARA)の出力端が接続される。第5の
振幅変調器435の入力部に第8の可変抵抗器RVー8
の他端と水平周期の正弦波(H.SIN)の出力端が接
続される。さらに、第1の可変抵抗器RVー1の他端
と、第2の可変抵抗器RVー2の他端と、第6の可変抵
抗器RV6の他端と、第9の可変抵抗器RV9の他端
と、第1、第2、第3、第4及び第5の各振幅変調器4
31 、432 、433 、434 及び435 の各出力端と
が夫々加算器44の入力部に接続される。加算器44の
出力は電力増幅器45を介して電力増幅されてランディ
ング補正用コイル11に供給される。
第3の可変抵抗器RVー3の他端と水平周期の鋸波
(H.SAW)の出力端が接続される。第2の振幅変調
器43 2 の入力部に第6の可変抵抗器RVー6の他端と
水平周期の鋸波(H.SAW)の出力端が接続される。
第3の振幅変調器433 の入力部に第4の可変抵抗器R
Vー4の他端と水平周期のパラボラ波(H.PARA)
の出力端が接続される。第4の振幅変調器434 の入力
部に第7の可変抵抗器RVー7の他端と水平周期のパラ
ボラ波(H.PARA)の出力端が接続される。第5の
振幅変調器435の入力部に第8の可変抵抗器RVー8
の他端と水平周期の正弦波(H.SIN)の出力端が接
続される。さらに、第1の可変抵抗器RVー1の他端
と、第2の可変抵抗器RVー2の他端と、第6の可変抵
抗器RV6の他端と、第9の可変抵抗器RV9の他端
と、第1、第2、第3、第4及び第5の各振幅変調器4
31 、432 、433 、434 及び435 の各出力端と
が夫々加算器44の入力部に接続される。加算器44の
出力は電力増幅器45を介して電力増幅されてランディ
ング補正用コイル11に供給される。
【0034】この補正電流波形発生装置122におい
て、ピュリティー成分を補正する電流波形は直流電源D
Cからの直流分で得られる。回転成分を補正する電流波
形は垂直周期の鋸波(V.SAW)で得られる。くの字
成分を補正する電流波形は垂直周期のパラボラ波’V.
PARA)で得られる。DY位置成分を補正する電流波
形は水平周期の鋸波(H.SAW)で得られる。ハの字
成分を補正する電流波形は水平周期の鋸波(H.SA
W)を垂直周期の鋸波(V.SAW)で振幅変調して得
られる。バレル成分を補正する電流波形は水平周期の鋸
波(H.SAW)を垂直周期のパラボラ波(V.PAR
A)で振幅変調して得られる。軸端シフト成分を補正す
る電流波形は水平周期のパラボラ波(H.PARA)で
得られる。ツイスト成分を補正する電流波形は水平周期
のパラボラ波(H.PARA)を垂直周期の鋸波(V.
SAW)で振幅変調して得られる。コーナシフト成分を
補正する電流波形は水平周期のパラボラ波(H.PAR
A)を垂直周期のパラボラ波(V.PARA)で振幅変
調して得られる。S字成分を補正する電流波形は水平周
期の正弦波(H.SIN)を垂直周期の正弦波(V.S
IN)で振幅変調して得られる。
て、ピュリティー成分を補正する電流波形は直流電源D
Cからの直流分で得られる。回転成分を補正する電流波
形は垂直周期の鋸波(V.SAW)で得られる。くの字
成分を補正する電流波形は垂直周期のパラボラ波’V.
PARA)で得られる。DY位置成分を補正する電流波
形は水平周期の鋸波(H.SAW)で得られる。ハの字
成分を補正する電流波形は水平周期の鋸波(H.SA
W)を垂直周期の鋸波(V.SAW)で振幅変調して得
られる。バレル成分を補正する電流波形は水平周期の鋸
波(H.SAW)を垂直周期のパラボラ波(V.PAR
A)で振幅変調して得られる。軸端シフト成分を補正す
る電流波形は水平周期のパラボラ波(H.PARA)で
得られる。ツイスト成分を補正する電流波形は水平周期
のパラボラ波(H.PARA)を垂直周期の鋸波(V.
SAW)で振幅変調して得られる。コーナシフト成分を
補正する電流波形は水平周期のパラボラ波(H.PAR
A)を垂直周期のパラボラ波(V.PARA)で振幅変
調して得られる。S字成分を補正する電流波形は水平周
期の正弦波(H.SIN)を垂直周期の正弦波(V.S
IN)で振幅変調して得られる。
【0035】本実施の形態においては、陰極線管1でで
発生する所定のビームランディングパターンに応じて、
上記の各基本の補正波形成分(電流波形成分)(1)〜
(10)に分解し、各基本の補正波形成分を夫々の可変
抵抗器RVー1〜RVー10で電流量の割合を調整して
得られた各補正成分を選択的に加算器44で合成するこ
とにより、上記ビームランディングパターンに対応した
補正電流波形が得られる。この補正電流波形を電力増幅
器45を介してランディング補正用コイル11に供給す
ることにより、ダイナミックにランディング補正するこ
とができる。即ち、画面上の全ての座標でビームランデ
ィングを適正にすることができる。
発生する所定のビームランディングパターンに応じて、
上記の各基本の補正波形成分(電流波形成分)(1)〜
(10)に分解し、各基本の補正波形成分を夫々の可変
抵抗器RVー1〜RVー10で電流量の割合を調整して
得られた各補正成分を選択的に加算器44で合成するこ
とにより、上記ビームランディングパターンに対応した
補正電流波形が得られる。この補正電流波形を電力増幅
器45を介してランディング補正用コイル11に供給す
ることにより、ダイナミックにランディング補正するこ
とができる。即ち、画面上の全ての座標でビームランデ
ィングを適正にすることができる。
【0036】図16、図17の実施の形態では可変抵抗
器の抵抗値の設定が自動化されていないので、このまま
では例えばテレビ受像機、コンピュータディスプレイ等
の表示装置にした場合に、環境条件(例えば陰極線管の
向きや、陰極線管内外の温度)が変化したとき、ビーム
ランディングが劣化する。
器の抵抗値の設定が自動化されていないので、このまま
では例えばテレビ受像機、コンピュータディスプレイ等
の表示装置にした場合に、環境条件(例えば陰極線管の
向きや、陰極線管内外の温度)が変化したとき、ビーム
ランディングが劣化する。
【0037】図18は、この点を改善した本発明の補正
電流波形発生装置12の他の実施の形態を示す。この補
正電流波形発生装置は、いわゆるデジタル制御された補
正電流波形発生装置である。本実施の形態に係る補正電
流波形発生装置123は、図17に示す補正電流波形発
生回路122に加えて、地磁気センサ51と、カソード
電流(Ik)検出回路52と、マイクロコンピュータ5
3とを有して成る。地磁気センサ51は、表示装置に内
蔵される。陰極線管の向きはの地磁気センサ51で容易
に検出できる。陰極線管の温度ドリフトは、カソード電
流検出回路52によりカソード電流(Ik)を検出して
その時間積算値から類推できる。地磁気センサ51から
の検出情報、及び検出回路52からの検出情報はマイク
ロコンピュータ53に入力される。マイクロコンピュー
タ53内では例えば環境条件の検出、補正量計算、各可
変抵抗器RVの抵抗値の設定がなされる。このマイクロ
コンピュータ53からの可変抵抗器RVの可変量制御信
号(VR制御信号)により割合調整回路42の各可変抵
抗器RVの可変量が制御される。
電流波形発生装置12の他の実施の形態を示す。この補
正電流波形発生装置は、いわゆるデジタル制御された補
正電流波形発生装置である。本実施の形態に係る補正電
流波形発生装置123は、図17に示す補正電流波形発
生回路122に加えて、地磁気センサ51と、カソード
電流(Ik)検出回路52と、マイクロコンピュータ5
3とを有して成る。地磁気センサ51は、表示装置に内
蔵される。陰極線管の向きはの地磁気センサ51で容易
に検出できる。陰極線管の温度ドリフトは、カソード電
流検出回路52によりカソード電流(Ik)を検出して
その時間積算値から類推できる。地磁気センサ51から
の検出情報、及び検出回路52からの検出情報はマイク
ロコンピュータ53に入力される。マイクロコンピュー
タ53内では例えば環境条件の検出、補正量計算、各可
変抵抗器RVの抵抗値の設定がなされる。このマイクロ
コンピュータ53からの可変抵抗器RVの可変量制御信
号(VR制御信号)により割合調整回路42の各可変抵
抗器RVの可変量が制御される。
【0038】本実施の形態に係る補正電流波形発生装置
123を備えた表示装置によれば、環境条件の情報をマ
イクロコンピュータ53に入力し、補正量を計算し、各
可変抵抗器RVの抵抗値を自動的に設定させることが可
能になる。そして、これらを繰り返し動作にすることに
より、表示装置の動作中は、常にビームランディングを
最適に補正することが可能になる。
123を備えた表示装置によれば、環境条件の情報をマ
イクロコンピュータ53に入力し、補正量を計算し、各
可変抵抗器RVの抵抗値を自動的に設定させることが可
能になる。そして、これらを繰り返し動作にすることに
より、表示装置の動作中は、常にビームランディングを
最適に補正することが可能になる。
【0039】上述したように本実施の形態によれば、カ
ラー陰極線管1を備えた表示装置で発生する一定のパタ
ーンのビームランディングのずれを、画面上の全ての座
標において任意の量、補正することができる。蛍光面を
作成するときの光学設計では、完成してしまった表示装
置のビームランディングを補正することができない。し
かし、本実施の形態では、表示装置を完成した後からで
も、ビームランディングを補正することができる。ま
た、完成後の陰極線管の1本1本に合わせて補正量を調
整すれば、陰極線管の製造プロセス等におけるバラツキ
を吸収することができる。本実施の形態のビームランデ
ィング補正方法を用いることにより、蛍光面作成におけ
る光学設計を簡便化することができる。即ち、露光用レ
ンズの曲率を簡便にしたり、露光用レンズ系の枚数を低
減できるので、露光用レンズの精度が向上する。偏向ヨ
ークの設計を簡便化することができる。
ラー陰極線管1を備えた表示装置で発生する一定のパタ
ーンのビームランディングのずれを、画面上の全ての座
標において任意の量、補正することができる。蛍光面を
作成するときの光学設計では、完成してしまった表示装
置のビームランディングを補正することができない。し
かし、本実施の形態では、表示装置を完成した後からで
も、ビームランディングを補正することができる。ま
た、完成後の陰極線管の1本1本に合わせて補正量を調
整すれば、陰極線管の製造プロセス等におけるバラツキ
を吸収することができる。本実施の形態のビームランデ
ィング補正方法を用いることにより、蛍光面作成におけ
る光学設計を簡便化することができる。即ち、露光用レ
ンズの曲率を簡便にしたり、露光用レンズ系の枚数を低
減できるので、露光用レンズの精度が向上する。偏向ヨ
ークの設計を簡便化することができる。
【0040】図19は、本発明に係る表示装置に用いら
れるカラー陰極線管の他の実施の形態を示す。本例はマ
ルチネック型カラー陰極線管に適用した場合である。本
実施の形態に係るカラー陰極線管21は、複数、本例で
は2つのネック部24〔241 、242 〕を有して夫々
に電子銃26〔261 、262 〕を備えて成る。即ち、
大画面領域を形成するパネル部22と、このパネル部2
2に接合されたファンネル部23と、このファンネル部
23に接合された2つのネック部24〔241 、2
42 〕とからなる管体25が設けられる。各ネック部2
41 及び242 内に夫々電子銃261 及び262 が配置
されると共に、パネル部22内面のカラー蛍光面27に
対向して色選別機構28、例えばアパーチャグリル、シ
ャドーマスク等が配置される。この陰極線管21は、複
数、本例では2つの小画像領域を合成した大画像領域に
全体画像を表示できるように構成される。管体25の外
側には、各ネック部241 、242 からファンネル部2
3にかけて夫々偏向ヨーク30〔301 、302 〕が配
置される。
れるカラー陰極線管の他の実施の形態を示す。本例はマ
ルチネック型カラー陰極線管に適用した場合である。本
実施の形態に係るカラー陰極線管21は、複数、本例で
は2つのネック部24〔241 、242 〕を有して夫々
に電子銃26〔261 、262 〕を備えて成る。即ち、
大画面領域を形成するパネル部22と、このパネル部2
2に接合されたファンネル部23と、このファンネル部
23に接合された2つのネック部24〔241 、2
42 〕とからなる管体25が設けられる。各ネック部2
41 及び242 内に夫々電子銃261 及び262 が配置
されると共に、パネル部22内面のカラー蛍光面27に
対向して色選別機構28、例えばアパーチャグリル、シ
ャドーマスク等が配置される。この陰極線管21は、複
数、本例では2つの小画像領域を合成した大画像領域に
全体画像を表示できるように構成される。管体25の外
側には、各ネック部241 、242 からファンネル部2
3にかけて夫々偏向ヨーク30〔301 、302 〕が配
置される。
【0041】パネル部22は、図20に示すように、一
体成形され画面水平方向を長軸とし、画面垂直方向を短
軸とする横長形状に形成される。パネル部22内面で
は、各電子銃26から出射した電子ビームによって走査
される小画像領域31が電子銃26の数に対応して複数
形成される。本例では、2つの小画像領域311 、31
2 が形成され、この2つの小画像領域311 及び312
の合成で大画像領域32が形成される。本例では、各電
子銃261 、262 からの電子ビーム291 、292 が
隣り合う小画像領域との近傍、即ち2つの小画像領域3
11 、312 との境界付近で夫々となりの小画像領域3
11 、312 に一部重複して走査するように構成され
る。色選別機構28は、パネル部22の大画像領域32
に対して共通に形成される。
体成形され画面水平方向を長軸とし、画面垂直方向を短
軸とする横長形状に形成される。パネル部22内面で
は、各電子銃26から出射した電子ビームによって走査
される小画像領域31が電子銃26の数に対応して複数
形成される。本例では、2つの小画像領域311 、31
2 が形成され、この2つの小画像領域311 及び312
の合成で大画像領域32が形成される。本例では、各電
子銃261 、262 からの電子ビーム291 、292 が
隣り合う小画像領域との近傍、即ち2つの小画像領域3
11 、312 との境界付近で夫々となりの小画像領域3
11 、312 に一部重複して走査するように構成され
る。色選別機構28は、パネル部22の大画像領域32
に対して共通に形成される。
【0042】このようなダブルネック型カラー陰極線管
21では、夫々の電子銃261 、262 の夫々から電子
ビーム291 、292 が概ね画面の半分の画像を表示す
るように出射される。電子ビーム291 、292 は、夫
々画面垂直方向にライン走査されながら、画面水平方向
に夫々画面の端部から中央に向かってフィールド走査さ
れ、中央付近で互いに重複するようになされる。この陰
極線管21では、電子ビーム291 、292 の垂直偏向
がいわゆるライン偏向に相当し、水平偏向がいわゆるフ
ィールド偏向に相当する。
21では、夫々の電子銃261 、262 の夫々から電子
ビーム291 、292 が概ね画面の半分の画像を表示す
るように出射される。電子ビーム291 、292 は、夫
々画面垂直方向にライン走査されながら、画面水平方向
に夫々画面の端部から中央に向かってフィールド走査さ
れ、中央付近で互いに重複するようになされる。この陰
極線管21では、電子ビーム291 、292 の垂直偏向
がいわゆるライン偏向に相当し、水平偏向がいわゆるフ
ィールド偏向に相当する。
【0043】ダブルネク型カラー陰極線管21において
は、大画像領域の中央部で2つの電子ビーム291 、2
92 が同じ1つの蛍光体層に照射させる必要がある。そ
のためには、2つの電子ビームを夫々独立に制御してビ
ームランディング補正しなければならない。
は、大画像領域の中央部で2つの電子ビーム291 、2
92 が同じ1つの蛍光体層に照射させる必要がある。そ
のためには、2つの電子ビームを夫々独立に制御してビ
ームランディング補正しなければならない。
【0044】本実施の形態においては、図19に示すよ
うに、各ネック部241 、242 の外側において偏向ヨ
ーク301 、302 の後部側に配置したランディング補
正用コイル(いわゆる電磁コイル)111 、112 と、
このランディング補正用コイル111 、112 に偏向ヨ
ーク301 、302 による電子ビームの偏向に同期した
周期をもつ補正電流(いわゆる波形電流)を発生する補
正電流発生装置121、122 とを有して構成される。
偏向ヨーク30〔301 、302 〕及び補正電流発生装
置12〔121 、122 〕には、電子ビームのライン方
向の偏向周期の信号波形と、電子ビームのフィールド方
向の偏向周期の信号波形とが供給される。各ネック部2
4〔241 、242 〕に配置されるランディング補正用
コイル1〔111 、112 〕は、夫々前述の図1と同様
に、それぞれのネック部24〔241 、242 〕を挟ん
で画面水平方向に対向する一対の電磁コイル11A、1
Bを配置して構成される。補正電流発生装置121 、1
22 においても、共に図16、図17及び図18に示す
補正電流発生装置121、122又は123を適用でき
る。本実施の形態は、上述のマルチネック型のカラー陰
極線管21をセットに組み込んでコンピュータディスプ
レイ、テレビジョン受像機等の表示装置を構成する。
うに、各ネック部241 、242 の外側において偏向ヨ
ーク301 、302 の後部側に配置したランディング補
正用コイル(いわゆる電磁コイル)111 、112 と、
このランディング補正用コイル111 、112 に偏向ヨ
ーク301 、302 による電子ビームの偏向に同期した
周期をもつ補正電流(いわゆる波形電流)を発生する補
正電流発生装置121、122 とを有して構成される。
偏向ヨーク30〔301 、302 〕及び補正電流発生装
置12〔121 、122 〕には、電子ビームのライン方
向の偏向周期の信号波形と、電子ビームのフィールド方
向の偏向周期の信号波形とが供給される。各ネック部2
4〔241 、242 〕に配置されるランディング補正用
コイル1〔111 、112 〕は、夫々前述の図1と同様
に、それぞれのネック部24〔241 、242 〕を挟ん
で画面水平方向に対向する一対の電磁コイル11A、1
Bを配置して構成される。補正電流発生装置121 、1
22 においても、共に図16、図17及び図18に示す
補正電流発生装置121、122又は123を適用でき
る。本実施の形態は、上述のマルチネック型のカラー陰
極線管21をセットに組み込んでコンピュータディスプ
レイ、テレビジョン受像機等の表示装置を構成する。
【0045】本実施の形態に係るマルチネック型カラー
陰極線管21を備えた表示装置によれば、夫々の電子銃
261 、262 からの電子ビーム291 、292 のラン
ディングパターンを各独立に補正することができる。従
って、夫々の電子ビーム29 1 、292 が大画像領域3
2の中央部の同じ蛍光体層を照射できるようにランディ
ング補正することができる。その他、カラー陰極線管1
を備えた表示装置と同様の効果が得られる。
陰極線管21を備えた表示装置によれば、夫々の電子銃
261 、262 からの電子ビーム291 、292 のラン
ディングパターンを各独立に補正することができる。従
って、夫々の電子ビーム29 1 、292 が大画像領域3
2の中央部の同じ蛍光体層を照射できるようにランディ
ング補正することができる。その他、カラー陰極線管1
を備えた表示装置と同様の効果が得られる。
【0046】
【発明の効果】本発明によれば、ビームランディングの
ずれに対して、画面上の各座標に対応した補正量を細か
く設定してランディング補正することができる。また、
表示装置を完成した後でもビームランディング補正する
ことができる。温度ドリフトや地磁気ドリフトを補正す
ることができる。陰極線管の蛍光面作成において、露光
用レンズの曲面の簡便化、レンズ系の枚数の削減を可能
し、レンズ精度の向上を図ることができる等、光学設計
を簡便化することができる。偏向ヨークの設計を簡便化
することができる。本発明は、複数の電子銃を有するマ
ルチネック型のカラー陰極線管を備えた表示装置に適用
して好適である。即ち、各電子銃からの電子ビームが画
面中央部の同じ場所の蛍光体層を照射するとき、夫々の
電子ビームが同じランディングであるように補正するこ
とが可能になる。従って、品質の良い画像を表示するこ
とができる。
ずれに対して、画面上の各座標に対応した補正量を細か
く設定してランディング補正することができる。また、
表示装置を完成した後でもビームランディング補正する
ことができる。温度ドリフトや地磁気ドリフトを補正す
ることができる。陰極線管の蛍光面作成において、露光
用レンズの曲面の簡便化、レンズ系の枚数の削減を可能
し、レンズ精度の向上を図ることができる等、光学設計
を簡便化することができる。偏向ヨークの設計を簡便化
することができる。本発明は、複数の電子銃を有するマ
ルチネック型のカラー陰極線管を備えた表示装置に適用
して好適である。即ち、各電子銃からの電子ビームが画
面中央部の同じ場所の蛍光体層を照射するとき、夫々の
電子ビームが同じランディングであるように補正するこ
とが可能になる。従って、品質の良い画像を表示するこ
とができる。
【図1】A 本発明に係る表示装置に用いられるカラー
陰極線管に一実施の形態を示す構成図である。 B 図1Aの要部の概略斜視図である。
陰極線管に一実施の形態を示す構成図である。 B 図1Aの要部の概略斜視図である。
【図2】A,B 図1AのAーA断面において磁界によ
り電子ビームが受ける力の説明に供する断面図である。
り電子ビームが受ける力の説明に供する断面図である。
【図3】本発明の説明に供する測定点を示す画面の平面
図である。
図である。
【図4】図3の測定点において、ランディング補正用コ
イルに流す電流とビームランディングの変化を示すグラ
フ(その1)である。
イルに流す電流とビームランディングの変化を示すグラ
フ(その1)である。
【図5】図3の測定点において、ランディング補正用コ
イルに流す電流とビームランディングの変化を示すグラ
フ(その2)である。
イルに流す電流とビームランディングの変化を示すグラ
フ(その2)である。
【図6】A ピュリティー補正を可能にするランディン
グ補正用コイルに流す電流波形図である。 B 図6Aの電流によりビームランディングが変化する
説明図である。
グ補正用コイルに流す電流波形図である。 B 図6Aの電流によりビームランディングが変化する
説明図である。
【図7】A 回転補正を可能にするランディング補正用
コイルに流す電流波形図である。 B 図7Aの電流によりビームランディングが変化する
説明図である。
コイルに流す電流波形図である。 B 図7Aの電流によりビームランディングが変化する
説明図である。
【図8】A くの字補正を可能にするランディング補正
用コイルに流す電流波形図である。 B 図8Aの電流によりビームランディングが変化する
説明図である。
用コイルに流す電流波形図である。 B 図8Aの電流によりビームランディングが変化する
説明図である。
【図9】A DY位置補正を可能にするランディング補
正用コイルに流す電流波形図である。 B 図9Aの電流によりビームランディングが変化する
説明図である。
正用コイルに流す電流波形図である。 B 図9Aの電流によりビームランディングが変化する
説明図である。
【図10】A ハの字補正を可能にするランディング補
正用コイルに流す電流波形図である。 B 図10Aの電流によりビームランディングが変化す
る説明図である。
正用コイルに流す電流波形図である。 B 図10Aの電流によりビームランディングが変化す
る説明図である。
【図11】A バレル補正を可能にするランディング補
正用コイルに流す電流波形図である。 B 図11Aの電流によりビームランディングが変化す
る説明図である。
正用コイルに流す電流波形図である。 B 図11Aの電流によりビームランディングが変化す
る説明図である。
【図12】A 軸端シフト補正を可能にするランディン
グ補正用コイルに流す電流波形図である。 B 図12Aの電流によりビームランディングが変化す
る説明図である。
グ補正用コイルに流す電流波形図である。 B 図12Aの電流によりビームランディングが変化す
る説明図である。
【図13】A ツイスト補正を可能にするランディング
補正用コイルに流す電流波形図である。 B 図13Aの電流によりビームランディングが変化す
る説明図である。
補正用コイルに流す電流波形図である。 B 図13Aの電流によりビームランディングが変化す
る説明図である。
【図14】A コーナシフト補正を可能にするランディ
ング補正用コイルに流す電流波形図である。 B 図14Aの電流によりビームランディングが変化す
る説明図である。
ング補正用コイルに流す電流波形図である。 B 図14Aの電流によりビームランディングが変化す
る説明図である。
【図15】A S字補正を可能にするランディング補正
用コイルに流す電流波形図である。 B 図15Aの電流によりビームランディングが変化す
る説明図である。
用コイルに流す電流波形図である。 B 図15Aの電流によりビームランディングが変化す
る説明図である。
【図16】本発明に係る補正電流波形発生装置の一実施
の形態を示すブロックダイアグラ1である。
の形態を示すブロックダイアグラ1である。
【図17】本発明に係る補正電流波形発生装置の他の実
施の形態を示すブロックダイアグラムである。
施の形態を示すブロックダイアグラムである。
【図18】本発明に係る補正電流波形発生装置の他の実
施の形態を示すブロックダイアグラムである。
施の形態を示すブロックダイアグラムである。
【図19】本発明に係る表示装置に用いられるマルチネ
ック型カラー陰極線管の一実施の形態を示す構成図であ
る。
ック型カラー陰極線管の一実施の形態を示す構成図であ
る。
【図20】図19の陰極線管の画面上の電子ビームの走
査形態を示す正面図である。
査形態を示す正面図である。
1・・・カラー陰極線管、2・・・管体、3・・・パネ
ル部、4・・・蛍光面、5・・・色選別機構、6・・・
ネック部、7・・・電子銃、8・・・偏向ヨーク、11
〔11A、11〕・・・ランディング補正用コイル、1
2・・・補正電流発生装置、21・・・マルチネック型
のカラー陰極線管、22・・・ネック部、23・・・フ
ァンネル部、24〔241 、242 〕・・・ネック部、
25・・・管体、26〔261 、262 〕・・・電子
銃、27・・・カラー蛍光面、28・・・色選別機構、
29〔291 、292 〕・・・電子ビーム、111 、1
12・・・ランディング補正用コイル、121 、122
・・・補正電流発生装置、30〔301 、302 〕・・
・偏向ヨーク、31〔311 、312 〕・・・小画像領
域、32・・・大画像領域、121、122、123・
・・補正電流発生装置、41・・・波形発生回路、42
・・・割合調整回路、43、431 〜435 ・・・振幅
変調器、44・・・加算器、45・・・電力増幅器、4
6・・・垂直周期波形発生回路、47・・・垂直周期波
形発生回路、RV〔RVー1〜RVー9〕・・・可変抵
抗器、DC・・・直流電源、VD・・垂直ドライブ信
号、HD・・・水平ドライブ信号
ル部、4・・・蛍光面、5・・・色選別機構、6・・・
ネック部、7・・・電子銃、8・・・偏向ヨーク、11
〔11A、11〕・・・ランディング補正用コイル、1
2・・・補正電流発生装置、21・・・マルチネック型
のカラー陰極線管、22・・・ネック部、23・・・フ
ァンネル部、24〔241 、242 〕・・・ネック部、
25・・・管体、26〔261 、262 〕・・・電子
銃、27・・・カラー蛍光面、28・・・色選別機構、
29〔291 、292 〕・・・電子ビーム、111 、1
12・・・ランディング補正用コイル、121 、122
・・・補正電流発生装置、30〔301 、302 〕・・
・偏向ヨーク、31〔311 、312 〕・・・小画像領
域、32・・・大画像領域、121、122、123・
・・補正電流発生装置、41・・・波形発生回路、42
・・・割合調整回路、43、431 〜435 ・・・振幅
変調器、44・・・加算器、45・・・電力増幅器、4
6・・・垂直周期波形発生回路、47・・・垂直周期波
形発生回路、RV〔RVー1〜RVー9〕・・・可変抵
抗器、DC・・・直流電源、VD・・垂直ドライブ信
号、HD・・・水平ドライブ信号
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
H01J 31/00 H01J 31/00 B
H04N 3/23 H04N 3/23 Z
Fターム(参考) 5C012 CC06
5C042 AA07 HH02 HH12
5C060 BC01 CA03 CD03 CG01 HA08
JA00
5C068 AA17 JA20 JB10 KA20
Claims (4)
- 【請求項1】 陰極線管に設けられた偏向ヨークの後部
側にランディング補正用コイルが配置され、 前記ランディング補正用コイルにビームランディングパ
ターンに応じた補正電流が供給され、 前記補正電流は、複数の基本となるビームランディング
パターン成分を夫々補正するための複数の基本となる波
形電流成分を基に之ら波形電流成分が選択的に組み合わ
されて成ることを特徴とする表示装置。 - 【請求項2】 前記補正電流は、電子ビームのライン方
向及びフィールド方向の偏向周期に同期して供給される
ことを特徴とする請求項1記載の表示装置。 - 【請求項3】 陰極線管に設けられた偏向ヨークの後部
側に配置したランディング補正用コイルに、ビームラン
ディングパターンに応じて、複数の基本となるビームラ
ンディングパターン成分を夫々補正するための複数の基
本となる波形電流成分を基に之ら波形電流成分を選択的
に組み合わせた補正電流を供給することを特徴とするビ
ームランディングパターンの補正方法。 - 【請求項4】 前記補正電流を、電子ビームのライン方
向及びフィールド方向の偏向周期に同期して供給するこ
とを特徴とする請求項3記載のビームランディングパタ
ーンの補正方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001310304A JP2003116149A (ja) | 2001-07-31 | 2001-10-05 | 表示装置及びビームランディングパターンの補正方法 |
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